JP6210069B2 - 化学強化時の反りを低減できるガラス板の製造方法及びガラス板 - Google Patents
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Description
1.ガラス原料を溶解する工程と、前記工程により溶融するガラスを溶融金属上に浮揚させながらガラスリボンに成形する工程と、前記ガラスリボンを徐冷する工程とを含むフロートガラス板の製造方法であって、
前記フロートガラス板はSiO2を63〜73%、Al2O3を0.1〜5.2%、Na2Oを10〜16%、K2Oを0〜1.5%、MgOを5〜13%及びCaOを4〜10%(モル%)含有し、
前記成形する工程において、前記ガラスリボンにおける溶融金属と接するボトム面に対向するトップ面に対して、フロートバス内で1〜30秒間脱アルカリ処理を施し、前記脱アルカリ処理時の前記ガラスリボンの表面温度を600℃以上とする、ガラス板の製造方法。
2.前記脱アルカリ処理を混合流体により行う、前記1.に記載のガラス板の製造方法。
3.前記混合流体が塩酸とフッ酸の混合流体である、前記2.に記載のガラス板の製造方法。
4.SiO2を63〜73%、Al2O3を0.1〜5.2%、Na2Oを10〜16%、K2Oを0〜1.5%、MgOを5〜13%及びCaOを4〜10%(モル%)含有するフロートガラス板であって、
前記ガラス板のトップ面の表面Na2O量(α)と前記ガラス板のボトム面の表面Na2O量(β)の差(α−β)と、前記トップ面から50μmの深さにおけるNa2O量(γ)との比[(α−β)/γ]が0.02未満であるガラス板。
5.前記トップ面の表面Na2O量(α)と前記ボトム面の表面Na2O量(β)の差(α−β)と、前記トップ面から50μmの深さにおけるNa2O量(γ)との比[(α−β)/γ]が0.01未満である、前記4.に記載のガラス板。
6.前記トップ面の表面Na2O量(α)と前記ボトム面の表面Na2O量(β)の差(α−β)と、前記トップ面から50μmの深さにおけるNa2O量(γ)との比[(α−β)/γ]が−0.07以上である、前記4.または5.に記載のガラス板。
7.厚みが1.5mm以下である、前記4.〜6.のいずれか1に記載のガラス板。
8.厚みが0.8mm以下である、前記4.〜7.のいずれか1に記載のガラス板。
9.前記4.〜8.のいずれか1に記載のガラス板を化学強化して得られる化学強化ガラス板。
10.SiO2を63〜73%、Al2O3を0.1〜5.2%、Na2Oを10〜16%、K2Oを0〜1.5%、MgOを5〜13%及びCaOを4〜10%(モル%)含有する化学強化ガラス板であって、
前記ガラス板のトップ面の表面K2O量(x)と前記ガラス板のボトム面の表面K2O量(y)の差(x−y)と、前記トップ面から50μmの深さにおけるK2O量(z)との比[(x−y)/z]が0.66未満である化学強化ガラス板。
11.前記トップ面の表面K2O量(x)と前記ボトム面の表面K2O量(y)の差と、前記トップ面から50μmの深さにおけるK2O量(z)との比[(x−y)/z]が0.65以下である、前記10.に記載の化学強化ガラス板。
12.前記トップ面の表面K2O量(x)と前記ボトム面の表面K2O量(y)の差と、前記トップ面から50μmの深さにおけるK2O量(z)との比[(x−y)/z]が−4.79以上である、前記10.または11.に記載の化学強化ガラス板。
13.厚みが1.5mm以下である、前記9.〜12.のいずれか1に記載の化学強化ガラス板。
14.厚みが0.8mm以下である、前記9.〜13.のいずれか1に記載の化学強化ガラス板。
15.カバーガラスを備えたフラットパネルディスプレイ装置であって、前記カバーガラスが前記9.〜14.のいずれか1に記載の化学強化ガラス板であるフラットパネルディスプレイ装置。
また、フロートバス内での脱アルカリ処理、すなわちオンラインでの脱アルカリ処理を短時間で行うことが可能なため、ガラスの生産性が向上するだけでなく、処理中の変形や歪みを生ずることなく、反りの改善されたガラスを得ることができる。
本発明は、ガラス原料を溶解する工程と、前記工程により溶融するガラスを溶融金属上に浮揚させながらガラスリボンに成形する工程と、前記ガラスリボンを徐冷する工程とを含むフロートガラス板の製造方法であって、前記フロートガラス板はソーダライムシリケートガラスであり、前記成形する工程において、前記ガラスリボンにおける溶融金属と接するボトム面に対向するトップ面に対して、フロートバス内で1〜30秒間脱アルカリ処理を施し、前記脱アルカリ処理時の前記ガラスリボンの表面温度を600℃以上とすることを特徴とする。
脱アルカリ処理を行う際のガラスリボンの表面温度は、フロートバス内で行うために600℃以上であり、ガラス転移温度Tgに対して(Tg+50)℃〜(Tg+460)℃であることが好ましく、(Tg+50)℃〜(Tg+300)℃であることがより好ましく、(Tg+50)℃〜(Tg+200)℃であることが脱アルカリの点からさらに好ましい。
なお、ガラスリボンの表面温度は脱アルカリ処理位置を変更したり、バス内でのヒーター出力を変更することによって制御することができる。
酸としては、塩酸、炭酸、ホウ酸および乳酸などが挙げられる。
窒化物としては、硝酸、一酸化窒素、二酸化窒素および亜酸化窒素などが挙げられる。
これらは気体または液体に限定されるものではない。
混合流体としてはHClとHFの混合物、SO3とHFの混合物、CO2とHFの混合物等が挙げられる。中でも塩酸とフッ化水素の混合流体がさらに好ましい。塩酸とフッ酸の混合比はHCl:HF=1:0.02〜1:4(モル比)が好ましく、1:0.02〜1:2(モル比)がより好ましい。
また、フロートバス内では酸化力が強すぎるので、フッ素単体を使用しないことが好ましい。
また、ビーム102の位置は、ラジエーションゲート103の上流であってもよいし、下流であってもよい。ガラスリボン101に吹きつける前記気体の量は、HClの場合は3×10−4〜6×10−3mol/ガラスリボン1cm2であることが好ましい。HCl:HFが1:1(モル比)の混合流体を用いる場合は6×10−4〜1.9×10−3mol/ガラスリボン1cm2であることが好ましい。
なお、以上にかかわらずガラス板の表面温度は、600℃超であることが好ましい。
全ガス流量または混合ガス中のHF流量をうまくコントロールできない設備でも、ガラス板の搬送速度を適宜コントロールすることによって、化学強化後の反りを改善することができる。
ただし、本発明に係るフロート法を用いた製造方法においては、ガラス板(ガラスリボン)を脱アルカリ処理する時間は生産性の点から30秒間を上限とする。
すなわち、トップ面における表面Na2O量を「α」、ボトム面における表面Na2O量を「β」、トップ面から50μmの深さにおけるNa2O量を「γ」とした場合に、[(α−β)/γ]<0.02であることが好ましく、−0.07≦[(α−β)/γ]<0.01であることがより好ましい。また、混合流体を用いて脱アルカリ処理を実施することにより、単独気体を用いて脱アルカリ処理を実施するよりも(α−β)/γが0.01未満となりやすいため好ましい。
ガラス板の化学強化後の反りは、ガラス板の一方の面ともう一方の面において化学強化の入り方が異なることにより生じる。具体的には、フロートガラスの場合、フロート成形時に溶融錫等の溶融金属と接触していないガラス面(トップ面)と溶融金属と接触しているガラス面(ボトム面)において化学強化の入り方が異なることにより化学強化後の反りが生じる。
(a)ガラス内部からガラス表面へのアルカリ分の輸送(ガラス内部でのNa+とH+の交換反応)。
(b)ガラス表面でのNa+とH+の交換反応。
(c)H+と交換したNa+のガラス表面からの除去。
出力:Rh 50kV−60mA
フィルタ:OUTアッテネータ:1/1
スリット:S4.
分光結晶:RX25
検出器:PC
ピーク角度(2θ/deg.):46.800
ピーク測定時間(秒):30
PHA:100−500
化学強化は、ガラス転移点以下の温度でイオン交換によりガラス表面のイオン半径が小さなアルカリ金属イオン(典型的には、LiイオンまたはNaイオン)をイオン半径のより大きなアルカリイオン(典型的には、Kイオン)に交換することで、ガラス表面に圧縮応力層を形成する処理である。化学強化処理は従来公知の方法によって行うことができる。
化学強化処理後のトップ面の表面K2O量とボトム面のK2O量との差(ΔK2O)をトップ面から50μmの深さにおけるK2O量で除した値は0.66未満であることが好ましく、0.65以下であることがより好ましい。この値が小さいほど、化学強化処理による反りが小さいことを表す。また、下限は−4.79以上であることが好ましい。
すなわち、トップ面における表面K2O量を「x」、ボトム面における表面K2O量を「y」、トップ面から50μmの深さにおけるK2O量を「z」とした場合に、[(x−y)/z]<0.66であることが好ましく、[(x−y)/z]≦0.65であることがより好ましく、−4.79≦[(x−y)/z]≦0.65であることがさらに好ましい。
ここで反り変化量は、ΔX>0とする。ΔYはΔXと同方向に反る場合にΔY>0、ΔXと逆方向に反る場合はΔY<0となる。
以下、本発明のガラス板を化学強化した後、当該化学強化ガラス板をフラットパネルディスプレイ装置のカバーガラスとして用いた例について説明する。図3は、カバーガラスが配置されたディスプレイ装置の断面図である。なお、以下の説明において、前後左右は図中の矢印の向きを基準とする。
本実施例では、以下の組成の硝材Aのガラス板を用いた。
(硝材A)モル%表示で、SiO2を72.0%、Al2O3を1.1%、Na2Oを12.6%、K2Oを0.2%、MgOを5.5%及びCaOを8.6%含有するガラス(ガラス転移温度566℃)
化学強化前に株式会社ニデック(フラットネステスター FT−17)で反り量を測定した後、各ガラスを化学強化し、化学強化後の反り量も同様に測定し、下式で表されるΔ反り量を算出した。
Δ反り量=化学強化後反り量−化学強化前反り量
化学強化後の反りの改善は、ガラス中のアルカリ成分との間でイオン交換反応が起こる液体または気体により脱アルカリ処理する以外は全て同じ条件の実験において、以下に示す式により求める反り改善率により評価した。
ここで反り変化量は、ΔX>0とした。ΔYはΔXと同方向に反る場合にΔY>0、ΔXと逆方向に反る場合はΔY<0とした。
XRF(蛍光X線分析)法を用いたNa2O量の測定分析条件は以下とした。定量はNa2O標準試料を用いて検量線法にて行った。
測定装置:株式会社リガク製ZSXPrimusII
出力:Rh 50kV−60mA
フィルタ:OUT
アッテネータ:1/1
スリット:S4
分光結晶:RX25
検出器:PC
ピーク角度(2θ/deg.):46.800
ピーク測定時間(秒):30
PHA:100−500
測定装置:株式会社リガク製ZSXPrimusII
出力:Rh 50kV−60mA
フィルタ:OUT
アッテネータ:1/1
スリット:S4
分光結晶:LiF(200)
検出器:PC
ピーク角度(2θ/deg.):136.650
ピーク測定時間(秒):30
PHA:100−300
得られた化学強化後のガラス板におけるCS及びDOLは折原製作所社製表面応力計(FSM−6000LE)を用いて測定した。
硝材Aのガラスリボンが流れるフロートバスにおいて、表1に示す処理条件下、HClを含むガスを用いて脱アルカリ処理を実施した。
得られたHClで脱アルカリ処理したガラス板又は脱アルカリ処理していないガラス板のXRF分析により、トップ面(処理面)における表面Na2O量及びボトム面(非処理面)の表面Na2O量を測定し、処理表面(トップ面)を50μm研磨し、研磨面のNa2O量を測定してガラス内部のNa2O量とした。そして、処理面(トップ面)又は非処理面(ボトム面)の表面Na2O量とガラス内部のNa2O量との比をそれぞれ算出した。さらには処理面と非処理面の表面Na2O量の差(ΔNa2O量)と、ガラス内部のNa2O量との比を算出した。
また、化学強化後のトップ面及びボトム面の表面K2O量については処理表面から0〜10μm及び非処理表面から0〜10μmの深さにおける平均K2O量をそれぞれ測定した。
脱アルカリ処理の条件および得られた化学強化ガラスの各種物性を表1に示す。
硝材Aのフロート法により製造したガラスをHFとHClの混合ガスで脱アルカリ処理する以外は実施例1−1と同様にし、得られたガラス及び化学強化後のガラスの各種物性を測定した。また、比較例2−1は脱アルカリ処理を行わなかったガラスである。得られた化学強化ガラス板の厚さはいずれも0.7mmであった。
脱アルカリ処理の条件並びに得られたガラス及び化学強化ガラスの各種物性を表2に示す。
硝材Aのフロート法により製造したガラスを表3及び4に記載の酸を混合した酸を用いて647℃で3.5秒脱アルカリ処理する以外は実施例1−1と同様にし、得られたガラス及び化学強化ガラスの各種物性を測定した。また、比較例3−1は脱アルカリ処理を行わなかったガラスである。得られた化学強化ガラス板の厚さはいずれも0.7mmであった。
脱アルカリ処理の条件並びに得られたガラス及び化学強化ガラスの各種物性を表3及び4に示す。
硝材Aのフロート法により製造したガラスを表5に記載の酸を用いて653℃で3.5秒脱アルカリ処理する以外は実施例1−1と同様にし、得られたガラス及び化学強化ガラスの各種物性を測定した。また、比較例4−1は脱アルカリ処理を行わなかったガラスである。得られた化学強化ガラス板の厚さはいずれも0.7mmであった。
脱アルカリ処理の条件並びに得られたガラス及び化学強化ガラスの各種物性を表5に示す。
2 外スリット
4 流路
5 排気スリット
15 筐体
20 ガラス板
30 カバーガラス
40 ディスプレイ装置
41、42 機能膜
45 表示パネル
101 ガラスリボン
102 ビーム
103 ラジエーションゲート
110 ガラスリボンの幅方向
111、112、113 ガス系統
114、115 隔壁
116 ガス吹き穴
Claims (10)
- ガラス原料を溶解する工程と、前記工程により溶融するガラスを溶融金属上に浮揚させながらガラスリボンに成形する工程と、前記ガラスリボンを徐冷する工程とを含むフロートガラス板の製造方法であって、
前記フロートガラス板はSiO2を63〜73%、Al2O3を0.1〜5.2%、Na2Oを10〜16%、K2Oを0〜1.5%、MgOを5〜13%及びCaOを4〜10%(モル%)含有し、
前記成形する工程において、前記ガラスリボンにおける溶融金属と接するボトム面に対向するトップ面に対して、フロートバス内で1〜30秒間脱アルカリ処理を施し、前記脱アルカリ処理時の前記ガラスリボンの表面温度を600℃以上とする、ガラス板の製造方法。 - 前記成形する工程において、前記脱アルカリ処理時の前記ガラスリボンの表面温度を647℃以上とし、
前記脱アルカリ処理を塩酸、フッ化水素、フロン、及びフッ化水素酸から選ばれる少なくとも1種により行う、請求項1に記載のガラス板の製造方法。 - 前記脱アルカリ処理を混合流体により行う、請求項1又は2に記載のガラス板の製造方法。
- 前記混合流体が塩酸とフッ酸の混合流体である、請求項3に記載のガラス板の製造方法。
- SiO2を63〜73%、Al2O3を0.1〜5.2%、Na2Oを10〜16%、K2Oを0〜1.5%、MgOを5〜13%及びCaOを4〜10%(モル%)含有するフロートガラス板であって、
フロートバス内で溶融金属に触れていない前記ガラス板のトップ面の表面Na2O量(α)と前記トップ面に対向する前記ガラス板のボトム面の表面Na2O量(β)の差(α−β)と、前記トップ面から50μmの深さにおけるNa2O量(γ)との比[(α−β)/γ]が−0.01以下であるガラス板。 - 前記トップ面の表面Na2O量(α)と前記ボトム面の表面Na2O量(β)の差(α−β)と、前記トップ面から50μmの深さにおけるNa2O量(γ)との比[(α−β)/γ]が−0.07以上である、請求項5に記載のガラス板。
- 厚みが1.5mm以下である、請求項5または6に記載のガラス板。
- 厚みが0.8mm以下である、請求項5〜7のいずれか1項に記載のガラス板。
- 請求項5〜8のいずれか1項に記載のガラス板を化学強化して得られる化学強化ガラス板。
- カバーガラスを備えたフラットパネルディスプレイ装置であって、前記カバーガラスが請求項9に記載の化学強化ガラス板であるフラットパネルディスプレイ装置。
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KR20180098268A (ko) * | 2015-12-28 | 2018-09-03 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 화학 강화 유리의 제조 방법 |
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JP2000268349A (ja) * | 1999-03-19 | 2000-09-29 | Asahi Techno Glass Corp | 磁気ディスク用ガラス基板およびその製造方法 |
US20040007508A1 (en) * | 1999-12-04 | 2004-01-15 | Schulte David L. | Screen assembly for vibratory separator |
JP2004131314A (ja) * | 2002-10-09 | 2004-04-30 | Asahi Glass Co Ltd | 透明導電膜付き化学強化ガラス基板、およびその製造方法 |
JP5115545B2 (ja) * | 2009-09-18 | 2013-01-09 | 旭硝子株式会社 | ガラスおよび化学強化ガラス |
WO2011068225A1 (ja) * | 2009-12-04 | 2011-06-09 | 旭硝子株式会社 | ガラス板およびその製造方法 |
JP2011201711A (ja) * | 2010-03-24 | 2011-10-13 | Hoya Corp | ディスプレイ用カバーガラスおよびディスプレイ |
CN102906814B (zh) * | 2010-05-20 | 2016-03-02 | 旭硝子株式会社 | 信息记录介质用玻璃基板的制造方法及磁盘的制造方法 |
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