JP6196858B2 - 研磨方法および研磨装置 - Google Patents
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Description
本発明の好ましい態様は、前記弾性率の測定値と、前記弾性率と前記リテーナリングの圧力との関係を示す研磨条件データに従って、前記リテーナリングの圧力を調整することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記研磨条件データは、前記弾性率および前記リテーナリングの圧力の値の組み合わせを変えながら複数のサンプル基板を研磨し、研磨された前記複数のサンプル基板の縁だれ量を測定し、弾性率ごとに前記リテーナリング圧力と前記縁だれ量とを関連付け、前記縁だれ量を最少とするリテーナリング圧力を弾性率ごとに決定することにより予め取得されることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記弾性率が所定の目標値となるように前記研磨パッドの温度を調整することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記研磨パッドの温度は、温度調整用の媒体を前記研磨パッドに接触させることにより調整することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記温度調整用の媒体は、前記研磨パッド上の複数の領域に別々に接触することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記複数の領域のうちの少なくとも1つは、前記基板の周縁部に接触する領域であることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記研磨パッドの弾性率は、さらに前記基板の研磨前にも測定することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記研磨パッドの表面に力を加えて該研磨パッドを変形させ、前記研磨パッドの変形量を測定し、前記力を前記研磨パッドの変形量で割り算することにより前記研磨パッドの弾性率を決定することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記研磨条件調整部は、前記弾性率の測定値と、前記弾性率と前記リテーナリングの圧力との関係を示す研磨条件データに従って、前記リテーナリングの圧力を調整することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記研磨条件データは、前記弾性率および前記リテーナリングの圧力の値の組み合わせを変えながら複数のサンプル基板を研磨し、研磨された前記複数のサンプル基板の縁だれ量を測定し、弾性率ごとに前記リテーナリング圧力と前記縁だれ量とを関連付け、前記縁だれ量を最少とするリテーナリング圧力を弾性率ごとに決定することにより予め取得されることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記研磨条件調整部は、前記弾性率が所定の目標値となるように前記研磨パッドの温度を調整することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、温度調整用の媒体を前記研磨パッドに接触させる媒体接触機構をさらに備え、前記研磨条件調整部は、前記媒体接触機構を介して前記研磨パッドの温度を調整することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記媒体接触機構は、前記温度調整用の媒体を前記研磨パッド上の複数の領域に別々に接触させることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記複数の領域のうちの少なくとも1つは、前記基板の周縁部に接触する領域であることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記弾性率測定器は、前記研磨パッドの進行方向において前記基板の上流側の領域で前記研磨パッドの弾性率を測定することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記弾性率測定器は、前記研磨パッドの弾性率を前記基板の研磨前に測定することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記弾性率測定器は、前記研磨パッドの表面に力を加えて該研磨パッドを変形させ、前記研磨パッドの変形量を測定し、前記力を前記研磨パッドの変形量で割り算することにより前記研磨パッドの弾性率を決定することを特徴とする。
図1は、本発明の一実施形態における研磨装置を示す模式図である。図1に示すように、研磨装置は、研磨テーブル12と、支軸14の上端に連結されたトップリングアーム16と、トップリングアーム16の自由端に取り付けられたトップリングシャフト18と、トップリングシャフト18の下端に連結されたトップリング20と、ウェハなどの基板の研磨条件を調整する研磨条件調整部47とを備えている。トップリングシャフト18は、トップリングアーム16内に配置されたトップリングモータ(図示せず)に連結されて回転駆動されるようになっている。このトップリングシャフト18の回転により、トップリング20が矢印で示す方向に回転するようになっている。
12a テーブル軸
14,58 支軸
16 トップリングアーム
18 トップリングシャフト
20 トップリング
22 研磨パッド
22a 研磨面
24 昇降機構
25 ロータリージョイント
28 ブリッジ
29,57 支持台
30,56 支柱
32 ボールねじ
32a ねじ軸
32b ナット
38 ACサーボモータ
40 ドレッシングユニット
47 研磨条件調整部
50 ドレッサ
50a ドレッシング面
51 ドレッサシャフト
53 エアシリンダ
55 ドレッサアーム
70 テーブルモータ
80 自由継手
81 トップリング本体
82 リテーナリング
86 メンブレン
87 チャッキングプレート
89 ローリングダイヤフラム
100 圧力調整部
110 弾性率測定器
111 接触子
112 ローラ
114 エアシリンダ
115 変位測定器
117 弾性率決定部
120 支持アーム
121 支持軸
123 圧力レギュレータ
125 圧縮気体供給源
127 距離センサ
131 鋼球
132 ガイド管
133 距離センサ
135 ブロア
136 距離センサ
140 媒体接触機構
141 媒体供給ノズル
143 媒体供給源
145 流量制御弁
C1〜C6 圧力室
F1〜F6 流体路
Claims (19)
- 基板と研磨パッドとを相対移動させることにより前記基板を研磨する研磨方法であって、
前記基板の研磨中に前記研磨パッドの弾性率を測定し、
前記弾性率の測定値に基づいて前記基板の研磨条件を調整することを特徴とする研磨方法。 - 前記研磨条件は、前記基板の周囲に配置されたリテーナリングの前記研磨パッドに対する圧力であることを特徴とする請求項1に記載の研磨方法。
- 前記弾性率の測定値と、前記弾性率と前記リテーナリングの圧力との関係を示す研磨条件データに従って、前記リテーナリングの圧力を調整することを特徴とする請求項2に記載の研磨方法。
- 前記研磨条件データは、前記弾性率および前記リテーナリングの圧力の値の組み合わせを変えながら複数のサンプル基板を研磨し、研磨された前記複数のサンプル基板の縁だれ量を測定し、弾性率ごとに前記リテーナリング圧力と前記縁だれ量とを関連付け、前記縁だれ量を最少とするリテーナリング圧力を弾性率ごとに決定することにより予め取得されることを特徴とする請求項3に記載の研磨方法。
- 前記研磨条件は、前記研磨パッドの温度であることを特徴とする請求項1に記載の研磨方法。
- 前記弾性率が所定の目標値となるように前記研磨パッドの温度を調整することを特徴とする請求項5に記載の研磨方法。
- 前記研磨パッドの温度は、温度調整用の媒体を前記研磨パッドに接触させることにより調整することを特徴とする請求項5に記載の研磨方法。
- 前記温度調整用の媒体は、前記研磨パッド上の複数の領域に別々に接触することを特徴とする請求項7に記載の研磨方法。
- 前記複数の領域のうちの少なくとも1つは、前記基板の周縁部に接触する領域であることを特徴とする請求項8に記載の研磨方法。
- 前記研磨パッドの弾性率は、前記研磨パッドの進行方向において前記基板の上流側の領域で測定することを特徴とする請求項1に記載の研磨方法。
- 前記研磨パッドの弾性率は、さらに前記基板の研磨前にも測定することを特徴とする請求項1に記載の研磨方法。
- 前記研磨パッドの表面に力を加えて該研磨パッドを変形させ、
前記研磨パッドの変形量を測定し、
前記力を前記研磨パッドの変形量で割り算することにより前記研磨パッドの弾性率を決定することを特徴とする請求項1に記載の研磨方法。 - 基板と研磨パッドとを相対移動させることにより前記基板を研磨する研磨装置であって、
前記基板の研磨中に前記研磨パッドの弾性率を測定する弾性率測定器と、
前記弾性率の測定値に基づいて前記基板の研磨条件を調整する研磨条件調整部とを備えたことを特徴とする研磨装置。 - 前記研磨条件は、前記基板の周囲に配置されたリテーナリングの前記研磨パッドに対する圧力であり、
前記研磨条件調整部は、前記弾性率の測定値に基づいて前記リテーナリングの圧力を調整するように構成されていることを特徴とする請求項13に記載の研磨装置。 - 前記研磨条件調整部は、前記弾性率の測定値と、前記弾性率と前記リテーナリングの圧力との関係を示す研磨条件データに従って、前記リテーナリングの圧力を調整することを特徴とする請求項14に記載の研磨装置。
- 前記研磨条件データは、前記弾性率および前記リテーナリングの圧力の値の組み合わせを変えながら複数のサンプル基板を研磨し、研磨された前記複数のサンプル基板の縁だれ量を測定し、弾性率ごとに前記リテーナリング圧力と前記縁だれ量とを関連付け、前記縁だれ量を最少とするリテーナリング圧力を弾性率ごとに決定することにより予め取得されることを特徴とする請求項15に記載の研磨装置。
- 前記研磨条件は、前記研磨パッドの温度であり、
前記研磨条件調整部は、前記弾性率の測定値に基づいて前記研磨パッドの温度を調整するように構成されていることを特徴とする請求項13に記載の研磨装置。 - 温度調整用の媒体を前記研磨パッドに接触させる媒体接触機構をさらに備え、
前記研磨条件調整部は、前記媒体接触機構を介して前記研磨パッドの温度を調整することを特徴とする請求項17に記載の研磨装置。 - 前記弾性率測定器は、
前記研磨パッドの表面に力を加えて該研磨パッドを変形させ、
前記研磨パッドの変形量を測定し、
前記力を前記研磨パッドの変形量で割り算することにより前記研磨パッドの弾性率を決定することを特徴とする請求項13に記載の研磨装置。
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US10618141B2 (en) | 2015-10-30 | 2020-04-14 | Applied Materials, Inc. | Apparatus for forming a polishing article that has a desired zeta potential |
US10593574B2 (en) | 2015-11-06 | 2020-03-17 | Applied Materials, Inc. | Techniques for combining CMP process tracking data with 3D printed CMP consumables |
US10391605B2 (en) | 2016-01-19 | 2019-08-27 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for forming porous advanced polishing pads using an additive manufacturing process |
KR20170115217A (ko) * | 2016-04-06 | 2017-10-17 | 삼성전자주식회사 | 연마 패드 측정 장치 및 이를 이용한 화학적 기계적 연마 설비 |
JP6960788B2 (ja) * | 2017-07-13 | 2021-11-05 | 株式会社ディスコ | ウエーハの加工方法 |
US11471999B2 (en) | 2017-07-26 | 2022-10-18 | Applied Materials, Inc. | Integrated abrasive polishing pads and manufacturing methods |
WO2019032286A1 (en) | 2017-08-07 | 2019-02-14 | Applied Materials, Inc. | ABRASIVE DISTRIBUTION POLISHING PADS AND METHODS OF MAKING SAME |
KR102493011B1 (ko) * | 2018-01-30 | 2023-01-31 | 주식회사 케이씨텍 | 기판 처리 장치 |
KR20200108098A (ko) * | 2018-02-05 | 2020-09-16 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 3d 프린트된 cmp 패드들을 위한 압전 엔드포인팅 |
CN108188922A (zh) * | 2018-03-20 | 2018-06-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种治具加工设备及治具的平面加工工艺 |
TWI639486B (zh) * | 2018-05-31 | 2018-11-01 | 國立清華大學 | 全向整合式調節裝置 |
CN112654655A (zh) | 2018-09-04 | 2021-04-13 | 应用材料公司 | 先进抛光垫配方 |
CN109799138B (zh) * | 2019-02-20 | 2023-09-22 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 抛光盘弹性模量和蠕变特性在位测量装置及测量方法 |
JP7517832B2 (ja) * | 2020-01-17 | 2024-07-17 | 株式会社荏原製作所 | 研磨ヘッドシステムおよび研磨装置 |
CN111409015B (zh) * | 2020-05-08 | 2020-11-13 | 苏州航菱微精密组件有限公司 | 一种磨床机构、研磨工艺及其研磨材料的制备工艺 |
USD951245S1 (en) | 2020-06-01 | 2022-05-10 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Smart watch |
US11577358B2 (en) * | 2020-06-30 | 2023-02-14 | Applied Materials, Inc. | Gas entrainment during jetting of fluid for temperature control in chemical mechanical polishing |
KR102739375B1 (ko) | 2020-10-16 | 2024-12-05 | 삼성전자주식회사 | 화학적 기계적 연마 장치, 화학적 기계적 연마 방법 및 반도체 장치의 제조 방법 |
JP7529530B2 (ja) * | 2020-10-21 | 2024-08-06 | 株式会社ディスコ | リニアゲージ |
CN112405333B (zh) * | 2020-12-04 | 2022-08-16 | 华海清科(北京)科技有限公司 | 一种化学机械抛光装置和抛光方法 |
US11878389B2 (en) | 2021-02-10 | 2024-01-23 | Applied Materials, Inc. | Structures formed using an additive manufacturing process for regenerating surface texture in situ |
CN115533733B (zh) * | 2021-06-29 | 2024-10-15 | 上海超硅半导体股份有限公司 | 一种集成电路用硅片抛光厚度的精确控制方法 |
CN115302326B (zh) * | 2022-07-28 | 2024-10-01 | 湖州创感科技有限公司 | 一种工业智能制造用给料机旋转基座修磨装置 |
CN115464552B (zh) * | 2022-10-27 | 2023-09-29 | 华海清科股份有限公司 | 一种用于化学机械抛光的承载头、抛光系统和抛光方法 |
CN116038552A (zh) * | 2023-02-10 | 2023-05-02 | 北京晶亦精微科技股份有限公司 | 一种抛光头和基板抛光装置及研磨方法 |
CN118419911B (zh) * | 2024-07-05 | 2024-09-10 | 常州佺碳新能源科技有限公司 | 一种用于钠离子电池的高循环性能的硬碳负极制造设备 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10315116A (ja) * | 1997-05-13 | 1998-12-02 | Toshiba Mach Co Ltd | 平面研磨装置 |
JP2000271854A (ja) * | 1999-03-25 | 2000-10-03 | Hitachi Ltd | 加工方法及びその装置並びに半導体基板の加工方法 |
JP2001310256A (ja) * | 2000-04-26 | 2001-11-06 | Hitachi Chem Co Ltd | 半導体用基板の研磨方法 |
DE60114183T2 (de) * | 2000-05-27 | 2006-07-13 | Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings, Inc., Newark | Polierkissen zum chemisch-mechanischen planarisieren |
US6860802B1 (en) * | 2000-05-27 | 2005-03-01 | Rohm And Haas Electric Materials Cmp Holdings, Inc. | Polishing pads for chemical mechanical planarization |
WO2003002301A1 (en) * | 2001-06-26 | 2003-01-09 | Lam Research Corporation | End point detection system for chemical mechanical polishing applications |
US7235488B2 (en) * | 2002-08-28 | 2007-06-26 | Micron Technology, Inc. | In-situ chemical-mechanical planarization pad metrology using ultrasonic imaging |
TWI275451B (en) * | 2005-01-11 | 2007-03-11 | Asia Ic Mic Process Inc | Measurement of thickness profile and elastic modulus profile of polishing pad |
TWI386989B (zh) * | 2005-02-25 | 2013-02-21 | Ebara Corp | 研磨裝置及研磨方法 |
JP4787063B2 (ja) * | 2005-12-09 | 2011-10-05 | 株式会社荏原製作所 | 研磨装置及び研磨方法 |
JP4237201B2 (ja) * | 2006-06-02 | 2009-03-11 | エルピーダメモリ株式会社 | 半導体装置の製造方法及び半導体装置の製造装置 |
DE102007056627B4 (de) * | 2007-03-19 | 2023-12-21 | Lapmaster Wolters Gmbh | Verfahren zum gleichzeitigen Schleifen mehrerer Halbleiterscheiben |
JP2008307631A (ja) * | 2007-06-13 | 2008-12-25 | Asahi Glass Co Ltd | ガラス基板研磨方法 |
US7458885B1 (en) * | 2007-08-15 | 2008-12-02 | Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holdings, Inc. | Chemical mechanical polishing pad and methods of making and using same |
US8257142B2 (en) * | 2008-04-15 | 2012-09-04 | Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holdings, Inc. | Chemical mechanical polishing method |
JP5464820B2 (ja) * | 2007-10-29 | 2014-04-09 | 株式会社荏原製作所 | 研磨装置 |
WO2011046017A1 (ja) * | 2009-10-14 | 2011-04-21 | 株式会社クラレ | 研磨パッド |
JP2012148376A (ja) | 2011-01-20 | 2012-08-09 | Ebara Corp | 研磨方法及び研磨装置 |
JP5877152B2 (ja) * | 2011-02-28 | 2016-03-02 | 東レコーテックス株式会社 | 研磨パッド |
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