JP6177354B2 - 使い捨て型ガスライターのリザーバを充填してシールするためのシールアセンブリ - Google Patents
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Description
−リザーバボディ内に設けられた実質的に円筒形状の井戸であるとともに、内壁を有した井戸と、
−井戸内に受領されることを意図したプラグであるとともに、前方部分と後方部分とを備えたプラグであり、前方部分が、径方向突起と、流体通路を提供するための少なくとも1つの凹所と、を有し、後方部分が、円形膨出部分と、溶接によって溶融し得るよう構成された溶接部分と、を有している、プラグと、
を具備してなり、
プラグが、リザーバの内部と外部との間に通路が提供される第1軸線方向位置(P1)から、プラグの円形膨出部分と井戸の内壁との間に気密コンタクトが形成された一時的シール位置が提供される第2軸線方向位置(P2)へと、移動し得るよう構成され、さらには、第2軸線方向位置から、プラグの溶接部分が気密的な態様でリザーバに対して溶接される最終的シール位置が提供される第3軸線方向位置(P3)へと、移動し得るよう構成されている。
−溶接部分を、井戸のエッジ部分に対して溶融されることを意図した円錐台形状部分として形成することができ、これにより、溶接操作を容易とする構成、
−プラグを、個別部材として供給することができ、これにより、井戸を構成する材料とプラグを構成する材料とを、互いに異なるものとして、それぞれの用途に適したものとし得る構成、
−前方部分と、膨出部分と、溶接部分とを、軸線方向において互いに隣接して配置することができ、これにより、軸線方向においてコンパクトなこ解決手段を提供し得る構成、
−シールアセンブリが、有利には、プラグと井戸との間の中間部材が不要とされ、弾性部材および付勢部材が不要とされ、これにより、特に単純な構成とし得るとともに、コストを特に安価なものとし得る構成、
−膨出部分の休止時の直径を、好ましくは井戸の内径の101%〜105%とし、これにより、第2軸線方向位置(P2)における十分な圧縮によって、暫定的なシールを確保し得る構成、
−ボディおよび井戸を、スチレンアクリロニトリルあるいはABSあるいはポリカーボネートを含む非結晶樹脂から形成することができ、これにより、安価な透明材料を使用し得る構成、
−溶接を超音波溶接とすることができ、信頼性の高い産業的解決手段を提供し得る構成、
−プラグを、リザーバに対して一体的に成型することができ、これにより、部材供給のコストを低減し得る構成。
ステップA)プラグを、井戸内において、第1軸線方向位置に配置し、ここで、プラグを、前方部分と後方部分とを備えたものとし、前方部分を、流体通路を提供するための少なくとも1つの凹所を有したものとし、後方部分を、少なくとも、円形膨出部分と、溶接によって溶融し得るよう構成された溶接部分と、を有したものとし、
ステップB)流体通路を通してリザーバ内へと流入する燃料によって、リザーバを充填し、
ステップC)プラグを第2軸線方向位置へと押し込み、この第2軸線方向位置においては、円形膨出部分を、井戸の内壁に対して当接させ、これにより、暫定的な気密コンタクトを提供し、
ステップD)プラグを井戸内に溶接し、これにより、プラグを第3軸線方向位置とし、これにより、最終的な気密シールを形成する。
−ステップDにおいては、押込操作と、超音波振動の印加操作と、を同時に行うことができ、これにより、信頼性の高い産業的解決手段を提供し得る構成、
−ステップBおよびステップCを、注入ノズルを使用して行い、注入ノズルを、移動可能な中央ロッドを有したものとし、第1軸線方向位置から第2軸線方向位置への移動を、充填操作の終了直後において、注入ノズルを除去することなく、行うことができ、これにより、燃料供給の溢れを最小化し得るよう、最適化された解決手段を提供し得る構成。
A)プラグ2を、井戸内において、第1軸線方向位置(P1、充填位置)に配置し、
B)流体通路4を通してリザーバ内へと流入する燃料によって、リザーバを充填し、
C)プラグを第2軸線方向位置(P2、一時的なシール位置)へと押し込み、この第2軸線方向位置においては、円形膨出部分5を、井戸の内壁に対して当接させ、これにより、暫定的な気密コンタクトを提供し、
D)プラグを井戸3内に溶接し、これにより、プラグを第3軸線方向位置(P3、最終的シール位置)とし、これにより、好ましくは超音波溶接技術を使用して、気密シールを形成する。
2 プラグ
3 井戸
4 凹所
5 円形膨出部分
6 溶接部分
7 注入ノズル
8 押込ロッド、中央ロッド
11 凹所
21 前方部分
22 後方部分
30 内壁
31 エッジ部分
41 径方向突起
F 流体通路
X 長手方向軸線
Claims (12)
- 使い捨て型ガスライターのあるいはすべてのタイプのライターのリザーバを充填してシールすることを可能とするシールアセンブリにおいて、
−リザーバボディであって、このリザーバボディ内に実質的に円筒形状の井戸(3)を備え、この井戸(3)が内壁(30)を有しているリザーバボディと、
−前記井戸(3)内に受領されることを意図したプラグ(2)であって、前方部分(21)と後方部分(22)とを備え、前記前方部分(21)が、径方向突起と、流体通路を提供するための少なくとも1つの凹所(4)と、を有し、前記後方部分(22)が、円形膨出部分(5)と、溶接によって溶融し得るよう構成された溶接部分と、を有している、プラグ(2)と、
を具備してなり、
前記プラグ(2)が、前記リザーバボディの内部と外部との間に通路が提供される第1軸線方向位置(P1)から、前記プラグ(2)の前記円形膨出部分(5)と前記井戸(3)の前記内壁(30)との間に気密コンタクトが形成された一時的シール位置が提供される第2軸線方向位置(P2)へと、移動し得るよう構成され、さらには、前記第2軸線方向位置から、前記プラグ(2)の前記溶接部分が気密的な態様で前記リザーバボディの前記内壁(30)に対して溶接される最終的シール位置が提供される第3軸線方向位置(P3)へと、移動し得るよう構成されている、ことを特徴とするシールアセンブリ。 - 請求項1記載のシールアセンブリにおいて、
前記溶接部分が、前記井戸(3)のエッジ部分(31)に対して溶融されることを意図した円錐台形状部分(6)として形成されている、ことを特徴とするシールアセンブリ。 - 請求項1または2記載のシールアセンブリにおいて、
前記プラグ(2)が、個別部材として供給されている、ことを特徴とするシールアセンブリ。 - 請求項1〜3のいずれか1項に記載のシールアセンブリにおいて、
前記前方部分(21)と、前記膨出部分(5)と、前記溶接部分(6)とが、軸線方向において互いに隣接して配置されている、ことを特徴とするシールアセンブリ。 - 請求項1〜4のいずれか1項に記載のシールアセンブリにおいて、
前記プラグ(2)と前記井戸(3)との間の中間部材が不要とされ、
弾性部材および付勢部材が不要とされている、ことを特徴とするシールアセンブリ。 - 請求項1〜5のいずれか1項に記載のシールアセンブリにおいて、
前記膨出部分(5)の休止時の直径が、前記井戸(3)の内径の101%〜105%とされている、ことを特徴とするシールアセンブリ。 - 請求項1〜6のいずれか1項に記載のシールアセンブリにおいて、
前記リザーバボディおよび前記井戸(3)が、スチレンアクリロニトリルあるいはABSあるいはポリカーボネートを含む非結晶樹脂から形成されている、ことを特徴とするシールアセンブリ。 - 請求項1〜7のいずれか1項に記載のシールアセンブリにおいて、
前記溶接が、超音波溶接である、ことを特徴とするシールアセンブリ。 - 請求項1記載のシールアセンブリにおいて、
前記プラグ(2)が、前記リザーバボディに対して一体的に成型されている、ことを特徴とするシールアセンブリ。 - 使い捨て型ガスライターのリザーバであって、軸線(X)と内壁(30)とを有した実質的に円筒形状の井戸(3)を備えたリザーバを充填してシールするための方法において、
ステップA)プラグ(2)を、前記井戸(3)内の第1軸線方向位置(P1、充填位置)に配置し、ここで、前記プラグ(2)を、前方部分(21)と後方部分(22)とを備えたものとし、前記前方部分(21)を、流体通路を提供するための少なくとも1つの凹所(4)を有したものとし、前記後方部分(22)を、少なくとも、円形膨出部分(5)と、溶接によって溶融し得るよう構成された溶接部分と、を有したものとし、
ステップB)前記流体通路(4)を通して前記リザーバ内へと流入する燃料によって、前記リザーバを充填し、
ステップC)前記プラグ(2)を第2軸線方向位置(P2、一時的なシール位置)へと押し込み、この第2軸線方向位置では、前記円形膨出部分(5)を、前記井戸(3)の前記内壁(30)に対して当接させ、これにより、暫定的な気密コンタクトを提供し、
ステップD)前記プラグ(2)を前記井戸(3)内に溶接し、これにより、前記プラグ(2)を第3軸線方向位置(P3)とし、これにより、最終的な気密シールを形成する、
各ステップを含んでなることを特徴とする方法。 - 請求項10記載の方法において、
前記ステップDでは、押込操作と、超音波振動の印加操作と、を同時に行う、ことを特徴とする方法。 - 請求項10または11記載の方法において、
前記ステップBおよび前記ステップCを、注入ノズル(7)を使用して行い、
前記注入ノズル(7)を、移動可能な中央ロッド(8)を有したものとし、
前記第1軸線方向位置(P1)から前記第2軸線方向位置(P2)への移動を、充填操作の終了直後において、前記注入ノズル(7)を除去することなく行うことができる、ことを特徴とする方法。
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