JP6155492B2 - 新規組成物 - Google Patents
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Description
a.)熱を加えることにより、レスベラトロールをホスフェートエステル界面活性剤に溶解させる工程と、その後の
b1.)固体共乳化剤を含む加熱した油相にレスベラトロール/界面活性剤溶液を加え、次いで、加熱した水相を加える工程、または
b2.)加熱した水相にレスベラトロール/界面活性剤溶液を加え、次いで、得られた混合物を、固体共乳化剤を含む加熱した油相に加える工程と、その後の
c.)得られた混合物を均質化する工程と
を含む方法に関する。
R1およびR2が水素であり、Rは炭素数10〜18のアルキル、および炭素数10〜18、エチレンオキサイド2〜12モルのアルコキシル化脂肪族アルコールから選択されるモノエステルが好ましい。好ましいホスフェートエステル界面活性剤の中でも、C8〜10アルキルエチルホスフェート、C9〜15アルキルホスフェート、セテアレス−2ホスフェート、セテアレス−5ホスフェート、セテス−8ホスフェート、セテス−10ホスフェート、セチルホスフェート、C6〜10パレス−4ホスフェート、C12〜15パレス−2ホスフェート、C12〜15パレス−3ホスフェート、DEA−セテアレス−2ホスフェート、DEA−セチルホスフェート、DEA−オレス−3ホスフェート、セチルホスフェートカリウム、デセス−4ホスフェート、デセス−6ホスフェート、およびトリラウレス−4ホスフェートを挙げ得る。
適切なUVフィルター物質は、有機または無機の化合物であり得る。有機UVフィルター物質の例には、例えば、アクリレート、例えば2−エチルヘキシル2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレート(オクトクリレン、PARSOL(登録商標)340)、エチル2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレートなど;ショウノウ誘導体、例えば4−メチルベンジリデンショウノウ(PARSOL(登録商標)5000)、3−ベンジリデンショウノウ、メト硫酸ショウノウベンザルコニウム、ポリアクリルアミドメチルベンジリデンショウノウ、スルホベンジリデンショウノウ、スルホメチルベンジリデンショウノウ、テレフタリリデンジショウノウスルホン酸(Mexoryl(登録商標)SX)など;シンナメート誘導体、例えばエチルヘキシルメトキシシンナメート(PARSOL(登録商標)MCX)、エトキシエチルメトキシシンナメート、イソアミルメトキシシンナメートなど、およびシロキサンに結合した桂皮酸誘導体;p−アミノ安息香酸誘導体、例えばp−アミノ安息香酸、2−エチルヘキシルp−ジメチルアミノベンゾエート、N−オキシプロピレン化エチルp−アミノベンゾエート、グリセリルp−アミノベンゾエートなど;ベンゾフェノン、例えばベンゾフェノン−3、ベンゾフェノン−4、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシ−ベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノンなど;ベンザルマロン酸のエステル、例えばジ−(2−エチルヘキシル)−4−メトキシベンザルマロネートなど;発色基を有するオルガノシロキサン化合物、例えばポリシリコーン−15(PARSOL(登録商標)SLX)、ドロメトリゾールトリシロキサン(Mexoryl(登録商標)XL)など;イミダゾール誘導体、例えば2−フェニルベンズイミダゾールスルホン酸(PARSOL(登録商標)HS)など、およびその塩、例えばナトリウムまたはカリウム塩、アンモニウム塩、モルホリン塩、第一、第二、および第三アミンの塩、例えばモノエタノールアミン塩、ジエタノールアミン塩など;サリチレート誘導体、例えばイソプロピルベンジルサリチレート、ベンジルサリチレート、ブチルサリチレート、エチルヘキシルサリチレート(PARSOL(登録商標)EHS、Neo Heliopan(登録商標)OS)、イソオクチルサリチレートまたはホモメンチルサリチレート(ホモサレート、PARSOL(登録商標)HMS、Neo Heliopan(登録商標)HMS)など;トリアジン誘導体、例えばエチルヘキシルトリアゾン(Uvinul(登録商標)T−150)、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン(Uvasorb(登録商標)HEB)、ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン(Tinosorb(登録商標)S)など;ベンゾトリアゾール誘導体、例えば2,2’−メチレン−ビス−(6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(1,1,3,3,−テトラメチルブチル)−フェノール(Tinosorb(登録商標)M)など;カプセル化UVフィルター、例えばカプセル化エチルヘキシルメトキシシンナメート(Eusolex(登録商標)UV−pearls)、または例えば欧州特許第1471995号明細書で開示されているようなUVフィルター充填マイクロカプセルなど;ジベンゾイルメタン誘導体、例えば4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイル−メタン(PARSOL(登録商標)1789)、ジメトキシジベンゾイルメタン、イソプロピルジベンゾイルメタンなど;フェニレン−1,4−ビス−ベンズイミダゾールスルホン酸または塩、例えば2,2−(1,4−フェニレン)ビス−(1H−ベンズイミダゾール−4,6−ジスルホン酸)(Neoheliopan AP)など;アミノ置換ヒドロキシベンゾフェノン、例えば2−(4−ジエチルアミノ−2−ヒドロキシ−ベンゾイル)−安息香酸ヘキシルエステル(アミノベンゾフェノン、Uvinul(登録商標)A Plus)など;ベンゾキサゾール誘導体、例えば2,4−ビス−[5−1(ジメチルプロピル)ベンゾキサゾール−2−イル−(4−フェニル)−イミノ]−6−(2−エチルヘキシル)−イミノ−1,3,5−トリアジン[Uvasorb(登録商標)K2A)などが包含される。無機UVフィルター物質には、顔料、例えば微粒子化酸化亜鉛または二酸化チタン(例えば、PARSOL(登録商標)TXの商品名で商業的に入手可能)などが包含される。用語「微粒子化」とは、約5nm〜約200nm、特に約15nm〜約100nmの粒子径をいう。粒子はまた、他の金属酸化物、例えばアルミニウム酸化物もしくはジルコニウム酸化物などにより、または有機被膜、例えばポリオール、メチコン、ステアリン酸アルミニウム、アルキルシランなどによりコーティングされていてもよい。そのような被膜はこの技術分野ではよく知られている。
[実施例1:ホスフェートエステルにおけるレスベラトロールの溶解度]
トリラウレス−4ホスフェートにおけるレスベラトロールの溶解度を評価するために、以下の手順を採用した:容量250mlの実験用ガラスビーカーに、表1に示す範囲のホスフェートエステル界面活性剤を入れた。それらを40℃に加熱し、直ちに、表1の示した値と同じ割合でレスベラトロールを添加した。最終体積は50mlであった。溶解はほぼ瞬時に起こったが、約1分間、6000rpmでビーカーを激しく振盪した。透明度を目視で観察することにより、溶解の程度を判断した。
次の操作条件を適用した:
・乳化混合物→10重量%
・ホスフェート−エステル/セテアリルアルコール比の範囲→0.5/9.5〜6/4
性能指数をゲル構造の粘度と定義する一方、最適化の基準を、最高粘度を与える最適の比を見出すこととした。レオロジー的手法および顕微鏡的手法によりこれを監視した。
第2工程 レスベラトロールをホスフェートエステル界面活性剤に溶解し、それらを混合し、40℃に加熱する。溶液は完全に透明でなければならない(相B)。
第3工程 相Cの全ての成分を混合し、75℃に加熱する。
第3工程 相Bを油相Cに加え、優しく混合する。その後直ちに、この混合物を水相Aに加える。十分に均質化する(13000min−1)。
第4工程 最後に、連続的に優しく混合しながら相Dを加える。1時間、優しく撹拌し、その後、少し遅い速度(9000min−1)で1分間、再度均質化する。
粘度:6000mPas
第1工程 水相Aの全ての成分を混合し、40℃に加熱する。
第2工程 レスベラトロールをホスフェートエステル界面活性剤に溶解し、それらを混合し、40℃に加熱する。溶液は完全に透明でなければならない(相B)。
第3工程 相Cの全ての成分を混合し、75℃に加熱する。
第3工程 相Bを油相Cに加え、優しく混合する。その後直ちに、この混合物を水相Aに加える。十分に均質化する(13000min−1)。
第4工程 最後に、連続的に優しく混合しながら相Dを加える。1時間、優しく撹拌し、その後、少し遅い速度(9000min−1)で1分間、再度均質化する。
粘度:12060mPas
Claims (9)
- レスベラトロールを含む局所組成物であって、
前記レスベラトロールが、トリラウレス−4ホスフェートであるホスフェートエステル界面活性剤と、12〜22個の炭素原子を有する非イオン性固体脂肪族アルコール、およびこれらの混合物から選ばれる固体共乳化剤とで形成された液晶ゲルネットワーク中に包含され、
トリラウレス−4ホスフェートのレスベラトロールに対する比(w/w)は、20:1〜9:1の範囲であり、共乳化剤のトリラウレス−4ホスフェートに対する比(w/w)は、10:1〜1.5:1の範囲であることを特徴とする局所組成物。 - 前記局所組成物が水相と油相を含むエマルションであることを特徴とする請求項1に記載の局所組成物。
- 前記局所組成物がO/Wエマルションであることを特徴とする請求項2に記載の局所組成物。
- 前記ホスフェートエステル界面活性剤が、前記組成物の全重量に対して0.1〜5重量%の範囲の割合で含まれていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の局所組成物。
- 前記共乳化剤がセテアリルアルコールであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の局所組成物。
- 共乳化剤の量が、組成物の全重量に対して、0.1〜20重量%の範囲で選択されることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の局所組成物。
- 前記レスベラトロールが、前記組成物の全重量に対して0.01〜2重量%の範囲の割合で含まれていることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の局所組成物。
- 前記水相が前記組成物の全重量の少なくとも50%を構成し、かつ油相が少なくとも15%を構成することを特徴とする請求項2〜7のいずれか一項に記載の局所組成物。
- トリラウレス−4ホスフェートであるホスフェートエステル界面活性剤と、12〜22個の炭素原子を有する非イオン性固体脂肪族アルコール、およびこれらの混合物から選ばれる固体共乳化剤とで形成された液晶ゲルネットワーク中に包含されたレスベラトロールを含むことを特徴とする水相と油相を含む局所組成物の製造方法であって、
a.)熱を加えることにより、レスベラトロールをホスフェートエステル界面活性剤に溶解させる工程と、その後の
b1.)前記固体共乳化剤を含む加熱した油相に前記レスベラトロール/界面活性剤溶液を加え、次いで、前記加熱した水相を加える工程、または
b2.)前記加熱した水相に前記レスベラトロール/界面活性剤溶液を加え、次いで、得られた混合物を、前記固体共乳化剤を含む前記加熱した油相に加える工程と、その後の
c.)得られた混合物を均質化する工程と
を含み、
トリラウレス−4ホスフェートのレスベラトロールに対する比(w/w)は、20:1〜9:1の範囲であり、共乳化剤のトリラウレス−4ホスフェートに対する比(w/w)は、10:1〜1.5:1の範囲である方法。
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