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JP6119128B2 - Living implanter - Google Patents

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JP6119128B2
JP6119128B2 JP2012147746A JP2012147746A JP6119128B2 JP 6119128 B2 JP6119128 B2 JP 6119128B2 JP 2012147746 A JP2012147746 A JP 2012147746A JP 2012147746 A JP2012147746 A JP 2012147746A JP 6119128 B2 JP6119128 B2 JP 6119128B2
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博 中西
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孝治 大澤
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Description

本発明は生体組織に埋植される電極を備える生体埋植装置に関する。 The present invention relates to biological implantation UeSo location comprising an electrode which is implanted in living tissue.

生体内に埋植される装置として、視覚再生補助装置が知られている。視覚再生補助装置は、患者の視覚を再生するために、外界の映像を撮影する体外装置と、生体内に埋植されて患者の網膜を構成する細胞を電気刺激する体内装置から構成される。体内装置は金属等の導電材料で形成された電極が組み込まれた基板を持ち、基板は、患者眼の網膜上、網膜下または強膜に形成された切開創を介して眼球に取り付けられる。眼球に電極が取り付けられた状態で、各電極から電気刺激パルス信号(電荷)が出力されると、網膜を構成する細胞が電気刺激され、視覚の再生が促される。(例えば、特許文献1、2、3参照)また、生体埋植装置として、脳刺激装置が知られている。脳刺激装置は、脳の所定位置に電極が埋植され、患者の脳に向けて光等の所定の刺激信号が与えられる(例えば、特許文献4参照)。また脳刺激による応答信号を、検出して脳刺激に対する刺激反応の調査、研究が行われている。   A visual reproduction assisting device is known as a device implanted in a living body. The visual reproduction assisting device is composed of an extracorporeal device that captures an image of the outside world and an in-vivo device that is electrically implanted in a living body and electrically stimulates cells constituting the retina of the patient in order to reproduce the vision of the patient. The intracorporeal device has a substrate in which an electrode formed of a conductive material such as metal is incorporated, and the substrate is attached to the eyeball through an incision formed on the retina, subretinal or sclera of the patient's eye. When an electrical stimulation pulse signal (charge) is output from each electrode in a state where the electrodes are attached to the eyeball, cells constituting the retina are electrically stimulated to promote visual reproduction. (For example, refer patent documents 1, 2, and 3) Moreover, the brain stimulation apparatus is known as a living body implantation apparatus. In the brain stimulating device, an electrode is implanted at a predetermined position of the brain, and a predetermined stimulation signal such as light is given to the patient's brain (for example, see Patent Document 4). In addition, investigation and research of response to brain stimulation by detecting response signals due to brain stimulation are being conducted.

特開2002‐325851号公報JP 2002-325851 A 特開2006‐068404号公報JP 2006-068404 A 特開2009‐501030号公報JP 2009-501030 A 特表2011‐518629号公報Special table 2011-518629

従来技術の生体埋植装置では、基板や電極が不透明な材料で形成される為、生体内に入射する光束が基板や電極で遮られてしまい、正常に機能している神経細胞に光束が到達されない課題があった。   In the conventional biological implanting device, the substrate and the electrode are made of an opaque material, so that the light beam entering the living body is blocked by the substrate and the electrode, and the light beam reaches a normally functioning nerve cell. There was a problem that was not done.

本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み、より精度の良い生体埋植装置を提供することを技術課題とする。 In view of the problems of the prior art, and an object to provide a more accurate biological implantation UeSo location.

上記課題を解決するために、本発明は以下のような構成を備えることを特徴とする。   In order to solve the above problems, the present invention is characterized by having the following configuration.

生体埋植装置は、例えば、透明性の絶縁材料で形成されており、少なくとも一部が網膜の表面上に配置される基板と、前記基板の前記一部において多数配列される電極であって、透明性の導電材料で形成されており、前記基板の前記一部と共に前記網膜の表面上に配置された状態で網膜を構成する細胞に電気刺激を与える電極、からなる電極群と、電気刺激が出力される電極を各々の前記電極の中から指定するための刺激制御部と、を備え、前記刺激制御部は、前記電極群から間隔を空けて前記基板上に配置される。 The biological implant device is formed of, for example, a transparent insulating material, a substrate at least a part of which is arranged on the surface of the retina, and a plurality of electrodes arranged in the part of the substrate, An electrode group comprising an electrode that is formed of a transparent conductive material, and that is provided on the surface of the retina together with the part of the substrate to apply electrical stimulation to cells constituting the retina; and A stimulation control unit for designating an electrode to be output from each of the electrodes, and the stimulation control unit is disposed on the substrate at a distance from the electrode group.

本発明によれば、より精度の良い生体埋植装置を提供できる。 The present invention can provide a more accurate biological implantation UeSo location.

本発明に掛かる実施形態を図面に基づき説明する。以下では、生体組織刺激装置として視覚再生補助装置を例に挙げて説明する。図1は視覚再生補助装置の外観図である。図2は視覚再生補助装置の体内装置の説明図であり、図2(a)は体内装置20の正面図、図2(b)は刺激部40の側面断面図である。   An embodiment according to the present invention will be described with reference to the drawings. Hereinafter, a visual reproduction assisting device will be described as an example of the biological tissue stimulating device. FIG. 1 is an external view of a visual reproduction assisting device. 2A and 2B are explanatory views of the internal device of the visual reproduction assisting device. FIG. 2A is a front view of the internal device 20, and FIG.

視覚再生補助装置1は、外界を撮影する体外装置10と、網膜を構成する細胞に電気刺激を与え視覚の再生を促す体内装置20から構成される。体外装置10は、患者が掛ける眼鏡11と、眼鏡11に取り付けられる撮影装置12と、外部デバイス13、一次コイル等を持つ送信手段14を備える。外部デバイス13は、CPU等の演算処理回路を持つデータ変調手段13a、視覚再生補助装置1全体に電力供給を行う電源13bを持つ。データ変調手段13aは、撮影装置12で撮影された被写体像を画像処理し、視覚再生のための電気刺激パルス用データを生成する。送信手段14は、データ変調手段13aで生成された電気刺激パルス用データ及び電源13bの電力を変調して、電磁波として体内装置20側に伝送する。なお送信手段14は、体外装置10と体内装置20間で電磁誘導にて信号及び電力の送受信をするための1次コイルを備える。1次コイルの中心に磁石が取り付けられており、磁力で2次コイルとの位置が固定される。   The visual reproduction assisting device 1 is composed of an extracorporeal device 10 that captures the outside world and an in-vivo device 20 that stimulates visual reproduction by applying electrical stimulation to cells constituting the retina. The extracorporeal device 10 includes spectacles 11 worn by a patient, an imaging device 12 attached to the spectacles 11, an external device 13, a transmission unit 14 having a primary coil and the like. The external device 13 has a data modulation means 13a having an arithmetic processing circuit such as a CPU, and a power source 13b for supplying power to the visual reproduction assisting apparatus 1 as a whole. The data modulation means 13a performs image processing on the subject image photographed by the photographing device 12, and generates electrical stimulation pulse data for visual reproduction. The transmission unit 14 modulates the electrical stimulation pulse data generated by the data modulation unit 13a and the power of the power source 13b, and transmits the modulated electromagnetic wave to the in-vivo device 20 side. The transmission means 14 includes a primary coil for transmitting and receiving signals and power between the extracorporeal device 10 and the intracorporeal device 20 by electromagnetic induction. A magnet is attached to the center of the primary coil, and the position with the secondary coil is fixed by magnetic force.

体内装置20は、体外装置10から送信された電磁波を受信する受信部30と、網膜を構成する細胞を電気刺激する刺激部40を持つ。受信部30は、体外装置10から送信された電磁波を受信する2次コイル31、受信制御部61と、これらが設置される基板33を持つ。刺激部40は、複数の電極44と、受信制御部61からの信号に基づき電極44から刺激信号を出力させる刺激制御部62と、電極44と刺激制御部62を電気的に接続する複数の導線41と、これらが設置される基板43を持つ。   The intracorporeal device 20 includes a receiving unit 30 that receives an electromagnetic wave transmitted from the extracorporeal device 10 and a stimulating unit 40 that electrically stimulates cells constituting the retina. The receiving unit 30 includes a secondary coil 31 that receives an electromagnetic wave transmitted from the extracorporeal device 10, a reception control unit 61, and a substrate 33 on which these are installed. The stimulation unit 40 includes a plurality of electrodes 44, a stimulation control unit 62 that outputs a stimulation signal from the electrode 44 based on a signal from the reception control unit 61, and a plurality of conductive wires that electrically connect the electrode 44 and the stimulation control unit 62. 41 and a substrate 43 on which these are installed.

受信制御部61は、2次コイル31で受信された電磁波から信号と電力を抽出する。更に受信制御部61は抽出された信号を、電極44から出力させる電気刺激パルス信号と、電気刺激パルス信号を出力する電極44を指定する電極指定信号等を含む制御信号に変換する。刺激制御部62は、受信制御部61から送信された制御信号に基づいて、対応する電気刺激パルス信号を各電極44に振り分ける。つまり刺激制御部62は、(デ)マルチプレクサ機能により、受信制御部61からの信号に基づき各電極44から電気刺激パルス信号を出力させる。
受信部30の2次コイル31と受信制御部61は、基板33上に形成される。基板33は生体適合性を有する周知の樹脂材料等で形成される。2次コイル31の中心には1コイルとの位置固定用の磁石が設けられる。
The reception control unit 61 extracts a signal and power from the electromagnetic wave received by the secondary coil 31. Further, the reception control unit 61 converts the extracted signal into a control signal including an electrical stimulation pulse signal to be output from the electrode 44, an electrode designation signal for designating the electrode 44 to output the electrical stimulation pulse signal, and the like. The stimulation control unit 62 distributes the corresponding electrical stimulation pulse signal to each electrode 44 based on the control signal transmitted from the reception control unit 61. That is, the stimulation control unit 62 outputs an electrical stimulation pulse signal from each electrode 44 based on the signal from the reception control unit 61 by the (de) multiplexer function.
The secondary coil 31 and the reception control unit 61 of the reception unit 30 are formed on the substrate 33. The substrate 33 is made of a known resin material having biocompatibility. At the center of the secondary coil 31, a magnet for fixing the position with the one coil is provided.

刺激部40の複数の電極44は、複数の各導線41の一端に形成される。各導線41の他端は、刺激制御部62に接続される。刺激制御部62は(図示を略す端子)は、ケーブル50内に配線された複数の導線51の一端にそれぞれ接続される。これにより、電極44から受信制御部61が電気的に接続され、受信制御部61の受信信号に基づき刺激制御部62が駆動制御され、刺激制御部62からの指令信号に基づき、各電極44から電気刺激パルス信号が出力される。また本実施形態では、対向電極(帰還電極)34が基板43上に取り付けられる。対向電極34は、これ以外にも電極44から出力された刺激信号を受信可能な任意の位置に設けられる。   The plurality of electrodes 44 of the stimulation unit 40 are formed at one end of each of the plurality of conductive wires 41. The other end of each conducting wire 41 is connected to the stimulation control unit 62. The stimulus control unit 62 (terminal not shown) is connected to one end of a plurality of conducting wires 51 wired in the cable 50. As a result, the reception control unit 61 is electrically connected from the electrode 44, and the stimulation control unit 62 is driven and controlled based on the reception signal of the reception control unit 61, and from each electrode 44 based on the command signal from the stimulation control unit 62. An electrical stimulation pulse signal is output. In the present embodiment, a counter electrode (return electrode) 34 is attached on the substrate 43. In addition to this, the counter electrode 34 is provided at an arbitrary position where the stimulation signal output from the electrode 44 can be received.

なお本実施形態の電極44及び導線41は、生体適合性と導電性を持つ透明性の導電材料で形成される。透明性の導電材料には、グラフェンや、カーボンナノチューブ等が用いられる。これ以外にも、透明性の導電材料には、生体適合性を備える物質であって、眼内の埋植時に折り曲げ可能な柔軟性を持つと共に、常温での電子の移動速度が高い材料が用いられる。グラフェンのように高い導電性を持つ材料で電極44が形成されることで、電極44の表面積が少なくとも網膜を構成する細胞が好適に電気刺激されるようになり、電極44を小型に出来る。
また電極44及び導線41は、導電性と生体適合性を持つ半透明性の導電材料で形成されても良い。これ以外にも電極44及び導線41は、眼内に入射された光束の少なくとも一部を透過できる導電材料で形成されれば良い。
In addition, the electrode 44 and the conducting wire 41 of this embodiment are formed of a transparent conductive material having biocompatibility and conductivity. Graphene, carbon nanotubes, or the like are used as the transparent conductive material. In addition, transparent conductive materials are materials that have biocompatibility, have flexibility that can be bent when implanted in the eye, and have a high electron transfer rate at room temperature. It is done. By forming the electrode 44 with a material having high conductivity such as graphene, at least the surface area of the electrode 44 is suitably electrically stimulated by cells constituting the retina, and the electrode 44 can be reduced in size.
The electrode 44 and the conductive wire 41 may be formed of a translucent conductive material having conductivity and biocompatibility. In addition to this, the electrode 44 and the conductive wire 41 may be formed of a conductive material that can transmit at least a part of the light beam incident on the eye.

電極44等が設置される基板43は、生体適合性と透明性を持つ絶縁材料で形成される。例えば、透明性の絶縁材料には、ポリジメチルシリコーン(PDMS)、パリレン、エポキシ樹脂、ポリミド、ポリエチレン等の周知の絶縁材料が使用される。また基板43は、生体適合性と半透明性を持つ絶縁材料で形成されても良い。これ以外にも基板43は眼内に入射された光束の少なくとも一部を透過できる絶縁材料で形成されれば良い。
このように、刺激部40全体が透明性(半透明性)の材料(導電材料、絶縁材料)で形成されることで、眼から入射された光が、刺激部40全体を透過して網膜に到達されるようになる。
The substrate 43 on which the electrodes 44 and the like are installed is formed of an insulating material having biocompatibility and transparency. For example, a known insulating material such as polydimethyl silicone (PDMS), parylene, epoxy resin, polyimide, polyethylene, or the like is used as the transparent insulating material. The substrate 43 may be formed of an insulating material having biocompatibility and translucency. In addition to this, the substrate 43 may be formed of an insulating material capable of transmitting at least a part of the light beam incident on the eye.
In this way, the entire stimulating unit 40 is formed of a transparent (translucent) material (conductive material, insulating material), so that light incident from the eye passes through the entire stimulating unit 40 and enters the retina. To be reached.

図3に刺激部40の作成手順のフローチャートを示す。図4は刺激部40の作成手順の説明図である。図5は刺激部40の拡大図であり、図5(a)に正面図、図5(b)に側面図が示されている。
先ずベース基板143を用意する。図4(a)に示すように、ベース基板143は、シリコンウエハ(Si)143aとその上に形成された、SiO2膜(例えば、厚さ約200nm)143bと、そのSiO2膜143b上に形成された銅(Cu)膜(例えば、厚さ500nm)143cとから構成される。SiO2膜143bと銅(Cu)膜143cは、それぞれ、スパッタリングで形成されている。
FIG. 3 shows a flowchart of a procedure for creating the stimulation unit 40. FIG. 4 is an explanatory diagram of a procedure for creating the stimulation unit 40. FIG. 5 is an enlarged view of the stimulation unit 40, and FIG. 5A shows a front view and FIG. 5B shows a side view.
First, the base substrate 143 is prepared. As shown in FIG. 4A, the base substrate 143 is formed on the silicon wafer (Si) 143a, the SiO2 film (for example, about 200 nm thick) 143b formed thereon, and the SiO2 film 143b. And a copper (Cu) film (for example, having a thickness of 500 nm) 143c. The SiO2 film 143b and the copper (Cu) film 143c are each formed by sputtering.

ステップS101で、電極44と導線41を形成するため、図4(a)に示すように、ベース基板143上に所定面積を持つグラフェンシート(グラフェンシート)144を生成する。グラフェンシート144は、周知の化学気相成膜法(化学蒸着、各種CVD)で生成される。なお各種CVD法としては、熱CVD法、プラズマCVD法、表面励起マイクロ波プラズマCVD法等がある。   In step S101, in order to form the electrode 44 and the conductive wire 41, a graphene sheet (graphene sheet) 144 having a predetermined area is generated on the base substrate 143 as shown in FIG. The graphene sheet 144 is generated by a well-known chemical vapor deposition method (chemical vapor deposition, various CVD). Various CVD methods include a thermal CVD method, a plasma CVD method, a surface excitation microwave plasma CVD method, and the like.

図6に、グラフェンシート144の生成装置の例を示す。グラフェンシートの生成装置100は、反応容器110と、加熱炉120を備える。反応容器110の紙面左側には、原料ガスの流入口111があり、紙面右側には排出口112がある。また反応容器110の内部には、炭素源113と、グラフェンシートを形成する触媒金属層が塗布されたベース基板143が設けられる。炭素源113には、例えば、樟脳が用いられる。これ以外にも、炭素源113には、メタンやアセチレン等の材料が用いられる。これ以外にも、歪を持つ炭素環を有する任意の有機化合物が用いられる。上述のようにベース基板143の表面(全体)には、触媒金属層である銅143cが塗布されている。これ以外にも、ニッケル、鉄、コバルト、白金、金、銀及び銅のいずれか一種の純金属、又は二種以上を含む合金が触媒金属として使用される。   In FIG. 6, the example of the production | generation apparatus of the graphene sheet 144 is shown. The graphene sheet generating apparatus 100 includes a reaction vessel 110 and a heating furnace 120. A source gas inlet 111 is provided on the left side of the reaction vessel 110 and a discharge port 112 is provided on the right side of the page. In addition, a base substrate 143 coated with a carbon source 113 and a catalytic metal layer that forms a graphene sheet is provided inside the reaction vessel 110. For example, camphor is used as the carbon source 113. In addition, materials such as methane and acetylene are used for the carbon source 113. In addition, any organic compound having a distorted carbocyclic ring is used. As described above, the surface (entire) of the base substrate 143 is coated with the copper 143c that is the catalyst metal layer. In addition to this, a pure metal of any one of nickel, iron, cobalt, platinum, gold, silver and copper, or an alloy containing two or more kinds is used as the catalyst metal.

以上のようなグラフェンシート生成装置100において、流入口111からアルゴンガス等の不活性ガスを充填させながら、加熱炉120を所定温度で加熱する。なお、加熱炉120は、炭素源113の沸点又は昇華点の温度よりも高く、ベース基板143上にグラフェンが成長可能な温度で加熱される。なお、反応容器110を通過した気体は、排出口112から排出される。   In the graphene sheet generating apparatus 100 as described above, the heating furnace 120 is heated at a predetermined temperature while being filled with an inert gas such as argon gas from the inlet 111. Note that the heating furnace 120 is heated at a temperature higher than the boiling point or sublimation point of the carbon source 113 and capable of growing graphene on the base substrate 143. The gas that has passed through the reaction vessel 110 is discharged from the discharge port 112.

炭素源113である樟脳が蒸発すると、反応容器内110に供給され、触媒金属層である銅143cで分解され生成したグラフェンが核として、ベース基板143上にグラフェンシート144が成長する。炭素源113が十分に蒸発され、触媒金属層で分解され、ベース基板143上にグラフェンシート144が十分に成長したら、加熱炉120の加熱を停止させる。これにより所定厚のグラフェンシート(積層膜)144が得られる。なお、本実施形態のグラフェンシート144は、4層以上(より好ましくは8層以上)のグラフェンの積層体(グラファイト)となるように、上記の炭素源113の量、加熱炉120の加熱温度が調節される。所定厚のグラフェンシート144を形成することで、生体に対して所定の導電性を確保できる。
なお上記では、反応容器110内に所定の不活性ガスを充填させた状態で、グラフェンシート144を成長させる例を示した。これ以外にも、反応容器内を密閉した減圧状態で、グラフェンシートを成長させても良い。
When the camphor that is the carbon source 113 evaporates, the graphene sheet 144 grows on the base substrate 143 with the graphene that is supplied into the reaction vessel 110 and decomposed and generated by the copper 143c as the catalyst metal layer as a nucleus. When the carbon source 113 is sufficiently evaporated and decomposed by the catalytic metal layer, and the graphene sheet 144 is sufficiently grown on the base substrate 143, the heating of the heating furnace 120 is stopped. Thereby, a graphene sheet (laminated film) 144 having a predetermined thickness is obtained. Note that the amount of the carbon source 113 and the heating temperature of the heating furnace 120 are such that the graphene sheet 144 of the present embodiment is a laminate (graphite) of four or more layers (more preferably eight or more layers) of graphene. Adjusted. By forming the graphene sheet 144 having a predetermined thickness, it is possible to ensure predetermined conductivity with respect to the living body.
Note that, in the above, an example in which the graphene sheet 144 is grown in a state where the reaction vessel 110 is filled with a predetermined inert gas is shown. In addition to this, the graphene sheet may be grown in a reduced pressure state in which the inside of the reaction vessel is sealed.

グラフェンシート144は、例えば、透過率が80%以上であることが好ましい。透過率が80%よりも小さいと、網膜の反応の低下に繋がることが懸念される。これ以外にも、グラフェンシート144の透過率は、患者の網膜が光を感じ取る事が出来る透過率で形成されれば良い。またグラフェンシート144は、シート抵抗が20kΩ/□程度以下に成長される。より好ましくは3kΩ/□程度以下に成長させることが好ましい。シート抵抗が20kΩ/□以上であると、不要な消費電力が増えてしまう又は所期の電流値の出力が得難くなる恐れが有る。   For example, the graphene sheet 144 preferably has a transmittance of 80% or more. If the transmittance is less than 80%, there is a concern that the reaction of the retina may be reduced. Other than this, the transmittance of the graphene sheet 144 may be formed so that the patient's retina can sense light. The graphene sheet 144 is grown to a sheet resistance of about 20 kΩ / □ or less. More preferably, it is preferably grown to about 3 kΩ / □ or less. If the sheet resistance is 20 kΩ / □ or more, unnecessary power consumption may increase or it may be difficult to obtain a desired current value.

なお、一層のグラフェンシート144でこのような特性を得ることが難しい場合は、後述するCVD法による成長工程(上述のステップS101の処理)を複数回繰り返すことで、複数層を持つグラフェンシート144を形成しても良い。なお層厚が厚くなるとグラフェンシート144の透明度が低下し、層厚が薄くなるとグラフェンシート144の抵抗値が高くなる。以上の特性を考慮して、形状に応じて所期の透明度、抵抗値のグラフェンシート144が形成されれば良い。以上の工程によって、所定面積(例えば、5×5mm以上)をもつグラフェンシート144を得る。   In addition, when it is difficult to obtain such characteristics with a single layer of graphene sheet 144, a graphene sheet 144 having a plurality of layers can be obtained by repeating a growth process (the process of step S <b> 101 described above) by a CVD method described later a plurality of times. It may be formed. Note that the transparency of the graphene sheet 144 decreases as the layer thickness increases, and the resistance value of the graphene sheet 144 increases as the layer thickness decreases. In consideration of the above characteristics, the graphene sheet 144 having the desired transparency and resistance value may be formed according to the shape. Through the above process, a graphene sheet 144 having a predetermined area (for example, 5 × 5 mm or more) is obtained.

次に、ステップS102で、図4(b)に示すように、リソグラフィーにより所定の配線ピッチ(例えば、10〜50μm)で、導電体のパターン幅(例えば、5〜20μm)の図示を略す配線基板(導線基板)150を用意する。そして配線パターンが形成された配線基板150上を、スピンコータ等を利用して薄いポリジメチルシリコーン151で覆う。   Next, in step S102, as shown in FIG. 4B, a wiring board that omits the conductor pattern width (for example, 5 to 20 μm) at a predetermined wiring pitch (for example, 10 to 50 μm) by lithography. A (conductor substrate) 150 is prepared. Then, the wiring substrate 150 on which the wiring pattern is formed is covered with a thin polydimethylsilicone 151 using a spin coater or the like.

次に、ステップS103で、図4(c)に示すように、シリコンウエハ143aのSiO2膜143bから、銅(Cu)膜143cを剥離及びエッチング除去して、グラフェンシート144による配線をポリジメチルシリコーン薄膜に転写する。この際に必要に応じてグラフェンシート144とポリジメチルシリコーン151の間に密着促進剤を塗布する。このグラフェン転写面(導電層)144aを、図4(d)に示すように、先と同様の方法でポリジメチルシリコーンで薄くコートしてグラフェンを完全に絶縁被覆する。(この工程では、代わりにパリレンを表裏両面に気層成長させて絶縁被覆膜を形成させても良い)。これにより内部にグラフェンによる導電層を持つ基板43が形成される。   Next, in step S103, as shown in FIG. 4C, the copper (Cu) film 143c is peeled off and etched away from the SiO2 film 143b of the silicon wafer 143a, and the wiring by the graphene sheet 144 is made into a polydimethylsilicone thin film. Transcript to. At this time, an adhesion promoter is applied between the graphene sheet 144 and the polydimethylsilicone 151 as necessary. As shown in FIG. 4D, the graphene transfer surface (conductive layer) 144a is thinly coated with polydimethyl silicone by the same method as described above to completely insulate the graphene. (In this step, instead, parylene may be vapor-grown on both the front and back surfaces to form an insulating coating film). As a result, a substrate 43 having a conductive layer of graphene inside is formed.

次に、ステップS104で、図4(e)に示すように、エッチングで絶縁被覆の一部を開放してグラフェン層(導電層)を露出させる。そして露出された箇所に刺激制御部62と電極44を接続する。例えば、刺激制御部62は、図示を略すパッドに金バンプを形成し、フラットニング処理して導電性接着材等で基板43に実装する(導電層に取り付ける)。電極44は白金ボール若しくはグラフェンをコートしたパリレン樹脂を固定して電極を形成し、グラフェン層に取り付ける。これにより立体的な電極が形成される。そして、基板43上に対向電極34を取り付け、刺激制御部62の図示を略す端子と導線41の一端とが電気的に接続されて、刺激部40が完成する。また、刺激部40と受信部30とをケーブル50の導線51を介して電気的に接続し、体内装置20が完成する。   Next, in step S104, as shown in FIG. 4E, a part of the insulating coating is opened by etching to expose the graphene layer (conductive layer). Then, the stimulus control unit 62 and the electrode 44 are connected to the exposed portion. For example, the stimulus control unit 62 forms gold bumps on a pad (not shown), performs a flattening process, and mounts it on the substrate 43 with a conductive adhesive (attached to the conductive layer). The electrode 44 is formed by fixing a parylene resin coated with a platinum ball or graphene, and is attached to the graphene layer. Thereby, a three-dimensional electrode is formed. And the counter electrode 34 is attached on the board | substrate 43, the terminal which abbreviate | omits illustration of the stimulation control part 62, and the end of the conducting wire 41 are electrically connected, and the stimulation part 40 is completed. In addition, the stimulating unit 40 and the receiving unit 30 are electrically connected via the conducting wire 51 of the cable 50, whereby the in-vivo device 20 is completed.

なお上記のステップS101で、反応容器110内のベース基板143として、電極44及び導線41の形状に合わせて形成されたものを使用して、上記のステップS101の処理を行うことで、電極44と導線41を形成しても良い。この場合には、ステップS102の処理が省略される。   In step S101 described above, the base substrate 143 in the reaction vessel 110 is formed according to the shape of the electrode 44 and the conductive wire 41, and the process of step S101 is performed, whereby the electrode 44 and The conducting wire 41 may be formed. In this case, the process of step S102 is omitted.

なお上記では熱CVD法によるグラフェンの製造装置の例を示した。これ以外にも、例えば低温でグラフェンを作成する場合には、表面励起マイクロ波プラズマCVD法にてグラフェンを製造することが好ましい場合がある。つまり低温でグラフェンを成長させる場合には、ガス圧を下げる必要があるため、一般的なプラズマCVD法では、ガス圧の低下によりプラズマの発生が困難になる場合がある。そこで、表面励起マイクロ波プラズマCVDが用いられることで、低温度の場合であってもプラズマを利用してグラフェンが好適に生成される。例えば、表面励起マイクロ波プラズマCVD法では、内部にアンテナを入れた円筒状の石英管を並べて、そこに所定周波数(例えば、2.45GHz)の交流電圧を印加してプラズマを発生させる。これ以外にも、導波路を通過してきたマイクロ波を、石英窓等を介して反応容器内に導き、ガス(炭素源)を励起して、プラズマを生成する。   In the above, an example of an apparatus for producing graphene by a thermal CVD method is shown. In addition to this, for example, when producing graphene at a low temperature, it may be preferable to produce the graphene by a surface excitation microwave plasma CVD method. That is, when graphene is grown at a low temperature, it is necessary to lower the gas pressure. Therefore, in a general plasma CVD method, it may be difficult to generate plasma due to a decrease in gas pressure. Thus, by using surface-excited microwave plasma CVD, graphene is suitably generated using plasma even at a low temperature. For example, in the surface excitation microwave plasma CVD method, a cylindrical quartz tube with an antenna inside is arranged, and an alternating voltage with a predetermined frequency (for example, 2.45 GHz) is applied thereto to generate plasma. In addition to this, the microwave that has passed through the waveguide is guided into the reaction vessel through a quartz window or the like, and a gas (carbon source) is excited to generate plasma.

以上のような構成を備える視覚再生補助装置1を、生体内に埋植する場合を説明する。図7に体内装置20を眼内に埋植した状態の断面の説明図を示す。なお図7中において、網膜E1,脈絡膜E2,強膜E3である。
折り曲げ可能な刺激部40は、図示を略す切開創(ポート)を通して、折り曲げられながら眼内へと挿入される。刺激部40の一部が眼内へ挿入されると、基板43の材質の復元力によって刺激部40が眼内で元の形状に復元される。そして眼内で広がった刺激部40の一部(電極44及び基板34)が網膜上に取り付けられる。一方、図示するように、刺激制御部42は眼球の外側に置かれることが好ましい。このように不透明性の刺激制御部42が眼球の外側に置かれることで、眼内に入射された光束が網膜に好適に到達されるようになる。また刺激制御部62は、眼内に置かれても良い。この場合には、刺激制御部62を視神経乳頭等の盲点に取り付けるようにする。このようにすると刺激制御部62による光束の遮光の影響を抑えつつ、刺激部40を透過した光束が好適に網膜に射されるようになる。なお図示は省略するが、受信部30はケーブル50を介して眼外に設置される。このように、基板43が患者の網膜上に置かれることで、網膜下よりも手術時の患者の負担を減らすことができる。また網膜上に置かれる部材全体が透明であることで、眼から入射され43等を透過して網膜に到達される。
The case where the visual reproduction auxiliary device 1 having the above configuration is implanted in a living body will be described. FIG. 7 shows an explanatory view of a cross section in a state where the intracorporeal device 20 is implanted in the eye. In FIG. 7, a retina E1, a choroid E2, and a sclera E3.
The bendable stimulation part 40 is inserted into the eye through a notch (port) (not shown) while being bent. When a part of the stimulation unit 40 is inserted into the eye, the stimulation unit 40 is restored to the original shape in the eye by the restoring force of the material of the substrate 43. A part (electrode 44 and substrate 34) of the stimulating part 40 spreading in the eye is attached on the retina. On the other hand, as shown in the figure, the stimulus control unit 42 is preferably placed outside the eyeball. Since the opaque stimulus control unit 42 is placed outside the eyeball in this way, the light beam entering the eye can suitably reach the retina. The stimulus control unit 62 may be placed in the eye. In this case, the stimulus control unit 62 is attached to a blind spot such as an optic disc. In this way, the light beam that has passed through the stimulating unit 40 is suitably projected onto the retina while suppressing the influence of the light blocking of the light beam by the stimulus control unit 62. Although not shown, the receiving unit 30 is installed outside the eye via the cable 50. In this way, by placing the substrate 43 on the patient's retina, it is possible to reduce the burden on the patient at the time of surgery rather than below the retina. In addition, since the entire member placed on the retina is transparent, it enters from the eye and passes through 43 etc. and reaches the retina.

なお上記では、患者の網膜上に基板43を設置する例を示した。これ以外にも、網膜E3の下、強膜E1の切開創中に基板43を設置する場合にも、基板43の厚さが薄く形成されているため、手術に伴う患者の負担を減らすことができる。また術者にとっては視覚再生補助装置1を生体内に埋植する際の手術が容易になる。   In the above description, an example in which the substrate 43 is placed on the retina of the patient has been shown. In addition to this, when the substrate 43 is placed under the retina E3 and in the incision of the sclera E1, the thickness of the substrate 43 is formed so as to reduce the burden on the patient associated with the operation. it can. In addition, the surgeon can easily perform an operation when implanting the visual reproduction assisting device 1 in the living body.

更に、本実施形態ではグラフェンを用いて微細な電極が形成される。その為、例えば、電極の形状を細胞レベルの大きさに形成して、網膜を構成する細胞を個別に刺激することもできる。このような微細な電極を複数設けることによって、より健常者に近い見え方を体得させることができる事が期待される。
更に、厚さの薄い基板43が網膜を覆うような面積で形成すると共に、基板43上に微細な電極を多く形成することで、視覚再生の精度が向上される。なお基板43は、複数の基板43の連結で形成されても良い。
Furthermore, in this embodiment, a fine electrode is formed using graphene. Therefore, for example, it is possible to stimulate the cells constituting the retina individually by forming the electrode shape in a cell level size. By providing a plurality of such fine electrodes, it is expected that the appearance closer to that of a healthy person can be obtained.
Furthermore, the precision of visual reproduction is improved by forming the thin substrate 43 so as to cover the retina and forming many fine electrodes on the substrate 43. The substrate 43 may be formed by connecting a plurality of substrates 43.

次に、以上の構成を備える視覚再生補助装置の動作を説明する。図8に視覚再生補助装置の制御系のブロック図を示す。撮影装置12で撮影された被写体の撮影データ(画像データ)は、データ変換手段13aに送られる。データ変換手段13aは、撮影した被写体を患者が視認するために必要となる所定の帯域内の信号(電気刺激パルス用データ)に変換し、送信手段14から電磁波として体内装置20側に送信する。   Next, the operation of the visual reproduction assisting device having the above configuration will be described. FIG. 8 shows a block diagram of a control system of the visual reproduction assisting device. Shooting data (image data) of a subject photographed by the photographing device 12 is sent to the data conversion means 13a. The data conversion means 13a converts the photographed subject into a signal (electric stimulation pulse data) within a predetermined band necessary for the patient to visually recognize, and transmits the signal as electromagnetic waves from the transmission means 14 to the in-vivo device 20 side.

体内装置20側では、2次コイル31で受信された電磁波が変調されることにより、電気刺激パルス用データと電力が生成され、受信制御部61に送られる。受信制御部61は抽出された電気刺激パルス用データに基づき、各電極44に分配する電気刺激パルスと、電気刺激パルスの分配を制御するマルチプレクサ制御信号を生成し、ケーブル50を介して刺激制御部42へと送る。刺激制御部42は、各電極44から電気刺激パルスを出力させる。各電極44から出力された電気刺激パルスによって網膜を構成する細胞が電気刺激され、患者は視覚を得る。   On the intracorporeal device 20 side, the electromagnetic wave received by the secondary coil 31 is modulated, whereby electrical stimulation pulse data and power are generated and sent to the reception control unit 61. The reception control unit 61 generates an electrical stimulation pulse to be distributed to each electrode 44 and a multiplexer control signal for controlling the distribution of the electrical stimulation pulse based on the extracted electrical stimulation pulse data, and the stimulation control unit via the cable 50 Send to 42. The stimulation control unit 42 outputs an electrical stimulation pulse from each electrode 44. The cells constituting the retina are electrically stimulated by the electrical stimulation pulse output from each electrode 44, and the patient obtains vision.

なお基板43等を透過した光は、透明な神経線維、細胞神経層等を透過して網膜色素細胞(視細胞)で吸収される。視細胞は光を刺激信号に変換する。視細胞から出力された刺激信号は、網膜に存在する様々な神経細胞から複雑な処理を受けた後、網膜の表面に存在する神経節細胞から視神経を経て、脳中枢へと伝達される。
このように、網膜上に設置される基板43等の部材が全て透明性の材料で形成されることで、透過光により神経節細胞等の信号伝達に関わる細胞が正常に機能し、より健常眼に近い状態での視覚再生が行われることが期待される。
The light transmitted through the substrate 43 or the like is absorbed by retinal pigment cells (photocells) through transparent nerve fibers, cellular nerve layers, and the like. The photoreceptor cell converts light into a stimulus signal. The stimulus signal output from the photoreceptor cell is subjected to complicated processing from various nerve cells existing in the retina, and then transmitted from the ganglion cell existing on the surface of the retina to the brain center via the optic nerve.
In this way, all the members such as the substrate 43 placed on the retina are formed of a transparent material, so that cells involved in signal transmission such as ganglion cells function normally by transmitted light, and more healthy eyes. It is expected that visual reproduction will be performed in a state close to.

また本実施形態では、網膜上に直接電極44が配置されるので、電極44からの刺激信号が直接網膜に伝達される。その為電極44から出力された刺激信号が減衰されることなく、効率よく網膜を構成する細胞が電気刺激される。その為、電極44の表面積をより小さくすることも可能になる。   In this embodiment, since the electrode 44 is directly disposed on the retina, the stimulation signal from the electrode 44 is directly transmitted to the retina. For this reason, the cells constituting the retina are efficiently electrically stimulated without the stimulation signal output from the electrode 44 being attenuated. Therefore, the surface area of the electrode 44 can be further reduced.

また装置の開発段階において、上記のような視覚再生補助装置を用いて、眼(健常眼)の神経節細胞の反応を取得しても良い(刺激パルス信号対する被検体の反応を取得しても良い)。そして、検出結果に基づき、カメラ12で撮影された撮影画像に対して生成される刺激パルス信号の刺激条件を、神経節細胞の反応に基づき設定しても良い。このように、健常眼の刺激反応に合わせた刺激パルス信号の刺激条件が予め設定されることで、従来技術の視覚再生補助装置に比べて視覚再生の品質(QOV)を向上させることができる。   Further, in the development stage of the apparatus, the reaction of the ganglion cell of the eye (normal eye) may be acquired using the visual regeneration auxiliary device as described above (the reaction of the subject to the stimulation pulse signal may be acquired). good). And based on a detection result, you may set the stimulation conditions of the stimulation pulse signal produced | generated with respect to the picked-up image image | photographed with the camera 12 based on reaction of a ganglion cell. As described above, by setting the stimulation conditions of the stimulation pulse signal in accordance with the stimulation response of the healthy eye in advance, the quality of visual reproduction (QOV) can be improved as compared with the visual reproduction auxiliary device of the prior art.

例えば、体内装置20側に設けられた電極を、神経細胞からの応答信号の変化(時間的な強度変化量)を検出する検出部(例えば、電極)として用いる。そして、検出部で検出された神経細胞からの応答信号の変化量と、刺激パルス信号の情報とを関連付けて図示を略すメモリ等の記憶部に記憶させる。そして視覚再生補助装置の患者への使用時に、記憶部に記憶された情報に基づき、眼内に埋植された電極から刺激パルス信号を出力させる。   For example, an electrode provided on the intracorporeal device 20 side is used as a detection unit (for example, an electrode) that detects a change in response signal from a nerve cell (temporal intensity change amount). Then, the change amount of the response signal from the nerve cell detected by the detection unit and the information of the stimulation pulse signal are associated and stored in a storage unit such as a memory (not shown). Then, when the visual reproduction assistance device is used for a patient, a stimulation pulse signal is output from an electrode implanted in the eye based on information stored in the storage unit.

更に、上記の構成を備える生体埋植装置は、各種神経線維の応答信号の検出に用いられても良い。例えば、近年、患者の脳に電極を埋植した状態で、光等の刺激信号を外部から与え、その応答信号を検出して、生体の治療等に役立てる研究が行われている。このような研究開発において、本発明の構成が適用されると、脳の局所領域に対して照射された刺激(例えば光束)に対する応答信号の変化が好適に取得されるようになる。この場合には、脳に埋植される電極が、神経細胞からの応答信号の変化(時間的な強度変化量)を検出する検出部として用いられる。脳に対して外部から所定の刺激信号(例えば、光)が与えられ、脳の神経細胞が刺激に対して反応すると、電極を介して応答信号の変化が検出される。この時、透明性を持つ基板を介して、脳に対して好適に光等による刺激が与えられるので、電極を介して脳の神経細胞の応答信号が好適に検出されるようになることが期待される。また微細な形状の電極が多数設けられることで、細胞レベルのより詳細な情報を取得できることも期待される。   Furthermore, the biological implanting device having the above-described configuration may be used for detecting response signals of various nerve fibers. For example, in recent years, research has been conducted to apply a stimulus signal such as light from the outside with electrodes embedded in a patient's brain and detect the response signal to use for treatment of a living body. In such research and development, when the configuration of the present invention is applied, a change in the response signal to a stimulus (for example, a light beam) irradiated to a local region of the brain is suitably acquired. In this case, an electrode implanted in the brain is used as a detection unit that detects a change in response signal from a nerve cell (temporal intensity change amount). When a predetermined stimulus signal (for example, light) is applied to the brain from the outside, and a neuron in the brain responds to the stimulus, a change in the response signal is detected via the electrode. At this time, since the brain is preferably stimulated by light or the like through the transparent substrate, it is expected that the response signal of the brain nerve cells will be suitably detected through the electrodes. Is done. It is also expected that more detailed information at the cell level can be obtained by providing a large number of finely shaped electrodes.

視覚再生補助装置の外観図である。It is an external view of a visual reproduction auxiliary device. 視覚再生補助装置の体内装置の説明図である。It is explanatory drawing of the internal body apparatus of a visual reproduction assistance device. 刺激部の作成手順のフローチャートである。It is a flowchart of the preparation procedure of a stimulation part. 刺激部の作成手順の説明図である。It is explanatory drawing of the preparation procedure of a stimulation part. 刺激部の拡大図である。It is an enlarged view of a stimulation part. グラフェンシート生成装置の例である。It is an example of a graphene sheet production | generation apparatus. 体内装置を眼内に埋植した状態の断面の説明図である。It is explanatory drawing of the cross section of the state which implanted the intracorporeal apparatus in eyes. 視覚再生補助装置の制御系のブロック図である。It is a block diagram of the control system of a visual reproduction auxiliary device.

10 体外装置
20 体内装置
30 受信部
40 刺激部
41 導線
43 基板
44 電極
62 刺激制御部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Extracorporeal device 20 Intracorporeal device 30 Receiving part 40 Stimulation part 41 Conductor 43 Board | substrate 44 Electrode 62 Stimulation control part

Claims (2)

透明性の絶縁材料で形成されており、少なくとも一部が網膜の表面上に配置される基板と、
前記基板の前記一部において多数配列される電極であって、透明性の導電材料で形成されており、前記基板の前記一部と共に前記網膜の表面上に配置された状態で網膜を構成する細胞に電気刺激を与える電極、からなる電極群と、
電気刺激が出力される電極を各々の前記電極の中から指定するための刺激制御部と、を備え、
前記刺激制御部は、前記電極群から間隔を空けて前記基板上に配置される生体埋植装置。
A substrate formed of a transparent insulating material and at least partially disposed on the surface of the retina;
A plurality of electrodes arranged on the part of the substrate , formed of a transparent conductive material, and a cell constituting the retina while being arranged on the surface of the retina together with the part of the substrate An electrode group comprising electrodes for applying electrical stimulation to
A stimulation control unit for designating an electrode to which electrical stimulation is output from each of the electrodes, and
The stimulation control unit is a living body implanting device arranged on the substrate with a space from the electrode group.
前記刺激制御部は、体外に配置され外界を撮像する撮像装置で撮像された画像に基づいて前記電極を指定する請求項1記載の生体埋植装置。   The living body implanter according to claim 1, wherein the stimulation control unit designates the electrode based on an image captured by an imaging device that is arranged outside the body and images the outside world.
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