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JP6118284B2 - Method for producing polymer functional membrane - Google Patents

Method for producing polymer functional membrane Download PDF

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JP6118284B2
JP6118284B2 JP2014045736A JP2014045736A JP6118284B2 JP 6118284 B2 JP6118284 B2 JP 6118284B2 JP 2014045736 A JP2014045736 A JP 2014045736A JP 2014045736 A JP2014045736 A JP 2014045736A JP 6118284 B2 JP6118284 B2 JP 6118284B2
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Description

本発明は、高分子機能性膜の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a polymer functional film.

高分子機能性膜としての各種の機能を有する膜として、イオン交換膜、逆浸透膜、正浸透膜またはガス分離膜等が知られている。
例えば、イオン交換膜は、電気脱塩(EDI:Electrodeionization)、連続的な電気脱塩(CEDI:Continuous Electrodeionization)、電気透析(ED:Electrodialysis)、逆電気透析(EDR:Electrodialysis reversal)等に用いられる。
As membranes having various functions as polymer functional membranes, ion exchange membranes, reverse osmosis membranes, forward osmosis membranes, gas separation membranes, and the like are known.
For example, ion exchange membranes are used for electrodeionization (EDI), continuous electrodeionization (CEDI), electrodialysis (ED), reverse electrodialysis (EDR), and the like. .

電気脱塩(EDI)は、イオン輸送を達成するために薄膜と電位を使用して、水性液体からイオンが取り除かれる水処理プロセスである。従来のイオン交換のような他の浄水技術と異なり、酸または苛性ソーダのような化学薬品の使用を要求せず、超純水を生産するために使用することができる。電気透析(ED)および逆電気透析(EDR)は、水および他の流体からイオン等を取り除く電気化学の分離プロセスである。   Electrodesalting (EDI) is a water treatment process in which ions are removed from an aqueous liquid using thin films and electrical potentials to achieve ionic transport. Unlike other water purification techniques such as conventional ion exchange, it does not require the use of chemicals such as acid or caustic soda and can be used to produce ultrapure water. Electrodialysis (ED) and reverse electrodialysis (EDR) are electrochemical separation processes that remove ions and the like from water and other fluids.

イオン交換膜は、通常、膜厚は約30μm〜約150μmの高分子機能性膜が主流である。イオン交換膜には、主にポリマー中に、第四級アンモニウムのようなカチオン性基を有するアニオン交換膜とスルホン塩のようなアニオン性基を有するカチオン交換膜があり、いずれに対しても改良研究が盛んに行われている(例えば、特許文献1〜3参照)。   As the ion exchange membrane, a polymer functional membrane having a film thickness of about 30 μm to about 150 μm is usually the mainstream. There are two types of ion exchange membranes, mainly anion exchange membranes with cationic groups such as quaternary ammonium in the polymer and cation exchange membranes with anionic groups such as sulfonates. Research is actively conducted (see, for example, Patent Documents 1 to 3).

国際公開第2013/011273号パンフレットInternational Publication No. 2013/011273 Pamphlet 国際公開第2010/110333号パンフレットInternational Publication No. 2010/110333 Pamphlet 特表2013−514419号公報Special table 2013-514419 gazette

イオン交換膜などの高分子機能性膜は、イオン交換膜が薄いと、アルカリによる劣化や洗浄等の摩耗による性能が低下する。このため、膜厚が厚いイオン交換膜が望まれる。
しかしながら、本発明者らの検討によれば、膜を構成するポリマーの種類によっては、膜を厚くしても、アルカリによる劣化や洗浄等の摩耗による性能の低下が必ずしも十分改善されないことがわかった。
従って、本発明は、高分子機能性膜の膜厚が厚く、耐久性に優れた高分子機能性膜の製造方法を提供することを課題とする。
In the case of a polymer functional membrane such as an ion exchange membrane, when the ion exchange membrane is thin, performance due to wear such as deterioration due to alkali or cleaning is lowered. For this reason, an ion exchange membrane with a large film thickness is desired.
However, according to the study by the present inventors, it has been found that, depending on the type of polymer constituting the film, even if the film is thickened, deterioration due to alkali and deterioration in performance due to wear such as washing are not necessarily improved sufficiently. .
Therefore, an object of the present invention is to provide a method for producing a polymer functional film having a thick polymer functional film and excellent durability.

本発明者らは、イオン交換膜の膜厚における上記原因を解析した結果、特に、紫外線で重合硬化する場合、イオン交換膜の厚み方向で、架橋の程度が異なり、しかも紫外線が照射される側から遠い部分ほど架橋が不十分であることがわかった。
この解析結果に基づき、照射光量を多くしないで、膜全体が均一に重合硬化できる方法を種々検討した結果、高分子機能性膜を形成するための組成物に、異なる波長領域に極大吸収波長を有する2種類の光重合開始剤を用いて重合硬化反応を行なうと、膜厚を厚くしても膜全体を均一に硬化することができることを見出した。本発明はこの知見に基づき完成された。
As a result of analyzing the above-mentioned causes in the film thickness of the ion exchange membrane, the present inventors have found that the degree of cross-linking differs in the thickness direction of the ion exchange membrane and is irradiated with ultraviolet rays, particularly when polymerized and cured with ultraviolet rays. It turned out that the cross-linking is insufficient in the part far from.
Based on the results of this analysis, as a result of various studies on methods for uniformly polymerizing and curing the entire film without increasing the amount of irradiation light, the composition for forming a polymer functional film has a maximum absorption wavelength in different wavelength regions. It has been found that when the polymerization and curing reaction is performed using the two types of photopolymerization initiators, the entire film can be uniformly cured even if the film thickness is increased. The present invention has been completed based on this finding.

<1>少なくともモノマーと光重合開始剤を含む組成物を重合硬化させる高分子機能性膜の製造方法であって、
高分子機能性膜の膜厚が、500μmより大きく1,000μm以下であり、
モノマーの少なくとも1種が、四級アンモニウム基またはスルホ基もしくはその塩を有する、スチレン系モノマーまたはアクリルアミド系モノマーであり、
光重合開始剤として、少なくとも1種の(I−1)極大吸収波長が300nm以上350nm未満である光重合開始剤と少なくとも1種の(I−2)極大吸収波長が350nm以上420nm以下である光重合開始剤を組み合わせて使用し、
光重合開始剤(I−1)が、下記一般式(PI−1)で表される光重合開始剤であり、光重合開始剤(I−2)が、下記一般式(PI−2)で表される光重合開始剤である高分子機能性膜の製造方法。
<1> A method for producing a functional polymer film by polymerizing and curing a composition containing at least a monomer and a photopolymerization initiator,
The film thickness of the polymer functional film is greater than 500 μm and 1,000 μm or less,
At least one of the monomers is a styrene monomer or an acrylamide monomer having a quaternary ammonium group or a sulfo group or a salt thereof,
As the photopolymerization initiator, at least one photopolymerization initiator having (I-1) maximum absorption wavelength of 300 nm to less than 350 nm and at least one (I-2) maximum absorption wavelength of 350 nm to 420 nm. Use a combination of polymerization initiators ,
The photopolymerization initiator (I-1) is a photopolymerization initiator represented by the following general formula (PI-1), and the photopolymerization initiator (I-2) is represented by the following general formula (PI-2). producing how the polymer functional film is a photopolymerization initiator represented.

Figure 0006118284
Figure 0006118284

一般式(PI−1)において、RP1は水素原子、ヒドロキシ基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ピロリジノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、チオモルホリノ基またはジアルキルアミノ基を表し、RP2およびRP3は各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基またはアリールチオ基を表す。ここで、RP2とRP3が互いに結合して環を形成してもよい。xは1以上の整数を表す。RP4は水素原子またはx価の置換基もしくは連結基を表す。 In the general formula (PI-1), R P1 represents a hydrogen atom, a hydroxy group, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a pyrrolidino group, a piperidino group, a morpholino group, a thiomorpholino group or a dialkylamino group, R P2 and R P3 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group or an arylthio group. Here, R P2 and R P3 may be bonded to each other to form a ring. x represents an integer of 1 or more. R P4 represents a hydrogen atom or an x-valent substituent or linking group.

Figure 0006118284
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一般式(PI−2)において、RP5、RP6およびRP7は各々独立に、アルキル基またはアリール基を表し、lおよびmは各々独立に0または1を表す。
>組成物の全固形分100質量%のうち、光重合開始剤の全量が0.01〜10質量%であり、かつ光重合開始剤(I−1)に対する光重合開始剤(I−2)の質量割合が5〜50質量%である<1>に記載の高分子機能性膜の製造方法。
>高分子機能性膜の膜厚が、500μmより大きく800μm以下である<1>または2>に記載の高分子機能性膜の製造方法。
>高分子機能性膜の膜厚が、500μmより大きく700μm以下である<1>〜<>のいずれかに記載の高分子機能性膜の製造方法。
>四級アンモニウム基を有するスチレン系モノマーが、下記一般式(SM)または(SXL)で表される化合物であり、四級アンモニウム基を有するアクリルアミド系モノマーが、下記一般式(AM−1)または(AXL−1)で表される化合物である<1>〜<>のいずれかに記載の高分子機能性膜の製造方法。
In general formula (PI-2), R P5 , R P6 and R P7 each independently represents an alkyl group or an aryl group, and l and m each independently represents 0 or 1.
< 2 > Of the total solid content of the composition of 100% by mass, the total amount of the photopolymerization initiator is 0.01 to 10% by mass, and the photopolymerization initiator (I-) with respect to the photopolymerization initiator (I-1). The method for producing a functional polymer film according to <1 >, wherein the mass ratio of 2) is 5 to 50 mass%.
< 3 > The method for producing a polymer functional film according to <1> or < 2>, wherein the film thickness of the polymer functional film is greater than 500 μm and 800 μm or less.
< 4 > The method for producing a polymer functional film according to any one of <1> to < 3 >, wherein the film thickness of the polymer functional film is greater than 500 μm and 700 μm or less.
< 5 > The styrene monomer having a quaternary ammonium group is a compound represented by the following general formula (SM) or (SXL), and the acrylamide monomer having a quaternary ammonium group is represented by the following general formula (AM-1). ) Or (AXL-1) is a compound represented by any one of <1> to < 4 >.

Figure 0006118284
Figure 0006118284

一般式(SM)において、R〜Rは各々独立に、アルキル基またはアリール基を表す。RとR、またはR、RおよびRが互いに結合して脂肪族ヘテロ環を形成してもよい。n1は1〜3の整数を表す。X は有機または無機のアニオンを表す。 In the general formula (SM), R 1 to R 3 each independently represents an alkyl group or an aryl group. R 1 and R 2 , or R 1 , R 2 and R 3 may be bonded to each other to form an aliphatic heterocycle. n1 represents an integer of 1 to 3. X 1 represents an organic or inorganic anion.

Figure 0006118284
Figure 0006118284

一般式(SXL)において、LおよびLは各々独立にアルキレン基またはアルケニレン基を表す。RおよびRは各々独立にアルキル基またはアリール基を表し、RとRが互いに結合して環を形成してもよい。n2は1〜3の整数を表す。X およびX は各々独立に、有機または無機のアニオンを表す。 In General Formula (SXL), L 1 and L 2 each independently represent an alkylene group or an alkenylene group. R d and R e each independently represents an alkyl group or an aryl group, and R d and R e may be bonded to each other to form a ring. n2 represents an integer of 1 to 3. X 2 - and X 3 - each independently represents an organic or inorganic anion.

Figure 0006118284
Figure 0006118284

一般式(AM−1)において、Rは水素原子またはアルキル基を表し、R〜Rは各々独立に、アルキル基またはアリール基を表す。Zは−NRa−を表す。ここで、Raは水素原子またはアルキル基を表す。Lはアルキレン基を表し、X はハロゲンイオンまたは脂肪族もしくは芳香族カルボン酸イオンを表す。 In General Formula (AM-1), R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 5 to R 7 each independently represents an alkyl group or an aryl group. Z 1 represents -NRa-. Here, Ra represents a hydrogen atom or an alkyl group. L 3 represents an alkylene group, and X 4 represents a halogen ion or an aliphatic or aromatic carboxylate ion.

Figure 0006118284
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一般式(AXL−1)において、RおよびRは各々独立に、水素原子またはアルキル基を表し、R10〜R13は各々独立に、アルキル基またはアリール基を表す。ZおよびZは各々独立に−NRb−を表す。ここで、Rbは水素原子またはアルキル基を表す。LおよびLは各々独立にアルキレン基を表し、Rはアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、−O−またはこれらが組み合わされた2価の連結基を表す。X およびX は各々独立にハロゲンイオンまたは脂肪族もしくは芳香族カルボン酸イオンを表す。
>スルホ基もしくはその塩を有するアクリルアミド系モノマーが、下記一般式(AM−2)または(AXL−2)のいずれかで表される化合物である<1>〜<>のいずれかに記載の高分子機能性膜の製造方法。
In General Formula (AXL-1), R 8 and R 9 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, and R 10 to R 13 each independently represent an alkyl group or an aryl group. Z 2 and Z 3 each independently represent —NRb—. Here, Rb represents a hydrogen atom or an alkyl group. L 4 and L 5 each independently represent an alkylene group, and R X represents an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, an arylene group, —O— or a divalent linking group in which these are combined. X 5 - and X 6 - represents a halogen ion or an aliphatic or aromatic carboxylate ion independently.
< 6 > The acrylamide monomer having a sulfo group or a salt thereof is a compound represented by any one of the following general formulas (AM-2) or (AXL-2), and any one of <1> to < 5 > The manufacturing method of the polymeric functional film of description.

Figure 0006118284
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一般式(AM−2)中、R14は水素原子またはアルキル基を表す。M は、水素イオンまたはアルカリ金属イオンを表す。

Figure 0006118284
In General Formula (AM-2), R 14 represents a hydrogen atom or an alkyl group. M 1 + represents a hydrogen ion or an alkali metal ion.
Figure 0006118284

一般式(AXL−2)中、R15は水素原子またはアルキル基を表し、Zは−NRf−を表す。ここで、Rfは水素原子またはアルキル基を表す。M は水素イオンまたはアルカリ金属イオンを表す。
>組成物が、一般式(AM−1)で表される化合物と、一般式(AXL−1)または下記一般式(CL)で表される化合物を組み合わせて含むか、または一般式(SM)で表される化合物と、一般式(SXL)で表される化合物を組み合わせて含む<>に記載の高分子機能性膜の製造方法。
In General Formula (AXL-2), R 15 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and Z 4 represents —NRf—. Here, Rf represents a hydrogen atom or an alkyl group. M 2 + represents a hydrogen ion or an alkali metal ion.
< 7 > The composition contains a compound represented by the general formula (AM-1) and a compound represented by the general formula (AXL-1) or the following general formula (CL) in combination, or the general formula ( < 5 > The manufacturing method of the polymeric functional film as described in < 5 > which contains combining the compound represented by SM), and the compound represented by general formula (SXL).

Figure 0006118284
Figure 0006118284

一般式(CL)において、R16およびR17は各々独立に、水素原子またはアルキル基を表す。YおよびYは各々独立に、−O−または−N(Rc)−を表す。ここでRcは水素原子またはアルキル基を表す。Lは、p1+1価の炭素数1以上の連結基を表す。p1は1以上の整数を表す。
>組成物が、一般式(AM−2)で表される化合物と、一般式(AXL−2)または下記一般式(CL)で表される化合物を組み合わせて含む<>に記載の高分子機能性膜の製造方法。
In General Formula (CL), R 16 and R 17 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group. Y 1 and Y 2 each independently represent —O— or —N (Rc) —. Here, Rc represents a hydrogen atom or an alkyl group. L 6 represents a p1 + 1-valent linking group having 1 or more carbon atoms. p1 represents an integer of 1 or more.
<8> composition comprises a compound represented by the general formula (AM-2), the general formula in combination with (AXL-2) or a compound represented by the following general formula (CL) according to <6> A method for producing a polymer functional membrane.

Figure 0006118284
Figure 0006118284

一般式(CL)において、R16およびR17は各々独立に、水素原子またはアルキル基を表す。YおよびYは各々独立に、−O−または−N(Rc)−を表す。ここでRcは水素原子またはアルキル基を表す。Lは、p1+1価の炭素数1以上の連結基を表す。p1は1以上の整数を表す。 In General Formula (CL), R 16 and R 17 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group. Y 1 and Y 2 each independently represent —O— or —N (Rc) —. Here, Rc represents a hydrogen atom or an alkyl group. L 6 represents a p1 + 1-valent linking group having 1 or more carbon atoms. p1 represents an integer of 1 or more.

本明細書において「高分子機能性膜の膜厚」とは、温度25℃の0.01M NaCl水溶液に12時間浸漬させた後の厚さをいう。   In the present specification, the “film thickness of the polymer functional film” refers to the thickness after being immersed in a 0.01 M NaCl aqueous solution at a temperature of 25 ° C. for 12 hours.

また、本明細書において「〜」とは、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
また、各一般式において、特に断りがない限り、複数存在する同一符号の基がある場合、これらは互いに同一であっても異なってもよく、同じく、複数の部分構造の繰り返しがある場合は、これらの繰り返しが同一の繰り返しでも、また規定する範囲で異なった繰り返しの混合の両方を意味するものである。
さらに、各一般式における二重結合の置換様式である幾何異性体は、表示の都合上、異性体の一方を記載したとしても、特段の断りがない限り、E体であってもZ体であっても、これらの混合物であっても構わない。
In the present specification, “to” is used in the sense of including the numerical values described before and after the lower limit value and the upper limit value.
In each general formula, unless otherwise specified, when there are a plurality of groups having the same sign, these may be the same or different from each other, and similarly, when there are repetitions of a plurality of partial structures, These repetitions mean both the same repetition and a mixture of different repetitions within the specified range.
Furthermore, the geometrical isomer which is the substitution mode of the double bond in each general formula is not limited to the E-form or the Z-form unless otherwise specified, even if one of the isomers is described for convenience of display. Or a mixture thereof.

また、本明細書において「化合物」という語を末尾に付して呼ぶとき、あるいは特定の化合物をその名称や式で示すときには、当該化合物そのものに加え、その化学構造式中に解離性の部分構造有するのであれば、その塩、そのイオンを含む意味に用いる。また、本明細書において置換基に関して「基」という語を末尾に付して呼ぶとき、あるいは特定の化合物をその名称で呼ぶときには、その基もしくは化合物に任意の置換基を有していてもよい意味である。   In addition, when the term “compound” is used at the end in this specification, or when a specific compound is indicated by its name or formula, in addition to the compound itself, a dissociative partial structure in the chemical structural formula If it has, it is used in the meaning including its salt and its ion. Further, in this specification, when the term “group” is added to the end of the description, or when a specific compound is referred to by its name, the group or compound may have an arbitrary substituent. Meaning.

本発明により、高分子機能性膜の膜厚が厚く、膜全体が均一にわたって硬化され、耐久性に優れた高分子機能性膜の製造方法を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a method for producing a polymer functional film having a high polymer functional film having a large thickness, the entire film being uniformly cured, and excellent durability.

膜の透水率を測定するための装置の流路を模式的に表したものである。The flow path of the apparatus for measuring the water permeability of a film | membrane is typically represented.

<<高分子機能性膜を形成するための組成物>>
本発明の高分子機能性膜(本明細書において、高分子機能性膜を単に「膜」ということもある。)の製造方法では、少なくともモノマーと光重合開始剤を含む組成物を重合硬化させる際、光重合開始剤として、少なくとも1種の(I−1)極大吸収波長が300nm以上350nm未満である光重合開始剤と少なくとも1種の(I−2)極大吸収波長が350nm以上420nm以下である光重合開始剤を組み合わせて使用する。
高分子機能性膜を形成するための組成物(以下、「膜形成用組成物」と称することもある。)に含有する素材として、最初に、光重合開始剤から説明する。
<< Composition for forming polymer functional film >>
In the method for producing a polymer functional film of the present invention (in this specification, the polymer functional film may be simply referred to as “film”), a composition containing at least a monomer and a photopolymerization initiator is polymerized and cured. At this time, as the photopolymerization initiator, at least one (I-1) maximum absorption wavelength is 300 nm or more and less than 350 nm and at least one (I-2) maximum absorption wavelength is 350 nm or more and 420 nm or less. A certain photopolymerization initiator is used in combination.
First, a photopolymerization initiator will be described as a material contained in a composition for forming a polymer functional film (hereinafter also referred to as “film forming composition”).

<光重合開始剤>
本発明で使用する(I−1)極大吸収波長が300nm以上350nm未満である光重合開始剤と、(I−2)極大吸収波長が350nm以上420nm以下である光重合開始剤は、極大吸収波長がこのような範囲に存在すれば、どのような構造の光重合開始剤でも構わないが、本発明では(I−1)極大吸収波長が300nm以上350nm未満である光重合開始剤は下記一般式(PI−1)で表される光重合開始剤を使用し、(I−2)極大吸収波長が350nm以上420nm以下である光重合開始剤は後述の一般式(PI−2)で表される光重合開始剤を使用する
<Photopolymerization initiator>
The photopolymerization initiator (I-1) having a maximum absorption wavelength of 300 nm or more and less than 350 nm and (I-2) a photopolymerization initiator having a maximum absorption wavelength of 350 nm or more and 420 nm or less used in the present invention have a maximum absorption wavelength. However, in the present invention, (I-1) a photopolymerization initiator having a maximum absorption wavelength of 300 nm or more and less than 350 nm is represented by the following general formula: A photopolymerization initiator represented by (PI-1) is used, and (I-2) a photopolymerization initiator having a maximum absorption wavelength of 350 nm or more and 420 nm or less is represented by the general formula (PI-2) described later. A photoinitiator is used .

〔(I−1)極大吸収波長が300nm以上350nm未満である光重合開始剤〕
極大吸収波長が300nm以上350nm未満である光重合開始剤(I−1)は、下記一般式(PI−1)で表される光重合開始剤が好ましい。
[(I-1) Photopolymerization initiator having maximum absorption wavelength of 300 nm or more and less than 350 nm]
The photopolymerization initiator (I-1) having a maximum absorption wavelength of 300 nm or more and less than 350 nm is preferably a photopolymerization initiator represented by the following general formula (PI-1).

Figure 0006118284
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一般式(PI−1)において、RP1は水素原子、ヒドロキシ基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ピロリジノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、チオモルホリノ基またはジアルキルアミノ基を表し、RP2およびRP3は各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基またはアリールチオ基を表す。ここで、RP2とRP3が互いに結合して環を形成してもよい。xは1以上の整数を表す。RP4は水素原子またはx価の置換基もしくは連結基を表す。 In the general formula (PI-1), R P1 represents a hydrogen atom, a hydroxy group, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a pyrrolidino group, a piperidino group, a morpholino group, a thiomorpholino group or a dialkylamino group, R P2 and R P3 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group or an arylthio group. Here, R P2 and R P3 may be bonded to each other to form a ring. x represents an integer of 1 or more. R P4 represents a hydrogen atom or an x-valent substituent or linking group.

P1、RP2およびRP3におけるアルキル基の炭素数は1〜12が好ましく、1〜8がより好ましく、1〜4がさらに好ましく、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、n−ブチル、2−エチルヘキシル、ドデシルが挙げられる。 1-12 are preferable, as for carbon number of the alkyl group in R < P1> , R <P2> and R <P3 >, 1-8 are more preferable, 1-4 are more preferable, for example, methyl, ethyl, isopropyl, n-butyl, 2-ethylhexyl , Dodecyl.

P1、RP2およびRP3におけるアルケニル基の炭素数は2〜12が好ましく、2〜8がより好ましく、2〜4がさらに好ましく、例えば、ビニル、アリル、1−プロペニル、2−ブテニル、2−ペンテニルが挙げられる。 2-12 are preferable, as for carbon number of the alkenyl group in R < P1> , R <P2> and R <P3 >, 2-8 are more preferable, and 2-4 are more preferable, for example, vinyl, allyl, 1-propenyl, 2-butenyl, 2 -Pentenyl.

P1におけるアリール基の炭素数は6〜12が好ましく、6〜10がより好ましく、例えば、フェニル、ナフチルが挙げられる。
アリール基は置換基を有してもよいフェニル基が好ましい。
R number of carbon atoms of the aryl group in P1 is preferably 6 to 12, more preferably 6 to 10, for example, phenyl, naphthyl.
The aryl group is preferably a phenyl group which may have a substituent.

P1におけるジアルキルアミノ基の炭素数は2〜12が好ましく、2〜10がより好ましく、例えば、ジメチルアミノ、メチルエチルアミノ、ジエチルアミノ、ジ(n−ブチルアミノが挙げられる。 R P1 carbon number of dialkylamino groups in preferably 2 to 12, more preferably 2 to 10, for example, dimethylamino, methylethylamino, diethylamino, and di (n- butylamino is.

P2およびRP3におけるアルコキシ基の炭素数は1〜12が好ましく、1〜8がより好ましく、1〜4がさらに好ましく、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、2−エチルヘキシルオキシ、ドデシルオキシが挙げられる。 R P2 and R number of carbon atoms of the alkoxy group in the P3 preferably 1 to 12, more preferably 1 to 8, more preferably 1 to 4, for example, methoxy, ethoxy, isopropoxy, n- butoxy, 2-ethylhexyloxy, Dodecyloxy is mentioned.

P2およびRP3におけるアリールオキシ基の炭素数は6〜12が好ましく、6〜10がより好ましく、例えば、フェノキシ、ナフトキシが挙げられる。 R P2 and the number of carbon atoms of the aryloxy group in R P3 is preferably 6 to 12, more preferably 6 to 10, e.g., phenoxy, include naphthoxy.

P2およびRP3におけるアルキルチオ基の炭素数は1〜12が好ましく、1〜8がより好ましく、1〜4がさらに好ましく、例えば、メチルチオ、エチルチオ、イソプロピルチオ、n−ブチルチオ、2−エチルへキシルチオ、ドデシルチオが挙げられる。 R P2 and R P3 number of carbon atoms of the alkylthio group in preferably 1 to 12, more preferably 1 to 8, more preferably 1 to 4, for example, cyclohexylthio methylthio, ethylthio, isopropylthio, n- butylthio, 2- ethylhexyl , Dodecylthio.

P2およびRP3におけるアリールチオ基の炭素数は6〜12が好ましく、6〜10がより好ましく、例えば、フェニルチオ、ナフチルチオが挙げられる。 6-12 are preferable and, as for carbon number of the arylthio group in R < P2> and R <P3 >, 6-10 are more preferable, for example, phenylthio and naphthylthio are mentioned.

P1、RP2、RP3の上記の各基は、さらに置換基で置換されていてもよく、該置換基としては、後述の置換基群αに記載のものが挙げられる。
置換基群αのうち、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環アミノ基(なかでもピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノ、チオモルホリノが好ましい)、アミノ基(−NH)、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、スルホ基もしくはその塩、カルボキシ基もしくはその塩が好ましい。
Each group of R P1 , R P2 and R P3 may be further substituted with a substituent, and examples of the substituent include those described in the substituent group α described later.
Among the substituent group α, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic amino group (preferably pyrrolidino, piperidino, morpholino, thiomorpholino are preferred), an amino group (—NH 2 ), an alkylamino group, a dialkylamino group An arylamino group, a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an acyl group, a sulfo group or a salt thereof, or a carboxy group or a salt thereof is preferable.

例えば、置換アルキル基ではヒドロキシアルキル基、ピロリジノアルキル基、ピペリジノアルキル基、モルホリノアルキル基、チオモルホリノアルキル基、アミノアルキル基、アルキルアミノアルキル基、ジアルキルアミノアルキル基、アリールアミノアルキル基が好ましい。置換アリール基ではヒドロキシ置換アリール基、ピロリジノ置換アリール基、ピペリジノ置換アリール基、モルホリノ置換アリール基、チオモルホリノ置換アリール基、アミノ置換アリール基、アルキルアミノ置換アリール基、ジアルキルアミノ置換アリール基、アリールアミノ置換アリール基が好ましい。   For example, a substituted alkyl group is preferably a hydroxyalkyl group, a pyrrolidinoalkyl group, a piperidinoalkyl group, a morpholinoalkyl group, a thiomorpholinoalkyl group, an aminoalkyl group, an alkylaminoalkyl group, a dialkylaminoalkyl group or an arylaminoalkyl group. . For substituted aryl groups, hydroxy substituted aryl groups, pyrrolidino substituted aryl groups, piperidino substituted aryl groups, morpholino substituted aryl groups, thiomorpholino substituted aryl groups, amino substituted aryl groups, alkylamino substituted aryl groups, dialkylamino substituted aryl groups, arylamino substituted Aryl groups are preferred.

なお、置換アルケニル基、置換アルコキシ基、置換アリール基、置換アルキルチオ基、置換アリールチオ基も同様である。   The same applies to substituted alkenyl groups, substituted alkoxy groups, substituted aryl groups, substituted alkylthio groups, and substituted arylthio groups.

このうち、ヒドロキシアルキル基、ジアルキルアミノアルキル基、モルホリノアルキル基、ヒドロキシアルコキシ基、モルホリノ置換アリール基が好ましい。   Among these, a hydroxyalkyl group, a dialkylaminoalkyl group, a morpholinoalkyl group, a hydroxyalkoxy group, and a morpholino-substituted aryl group are preferable.

P1はヒドロキシ基、ピロリジノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、チオモルホリノ基またはジアルキルアミノ基が好ましく、RP2、RP3はアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基が好ましく、RP2とRP3が結合して、シクロヘキサン環を形成したものが好ましい。 R P1 is preferably a hydroxy group, a pyrrolidino group, a piperidino group, a morpholino group, a thiomorpholino group or a dialkylamino group, and R P2 and R P3 are preferably an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group and an alkylthio group, and R P2 and R P3 Are preferably bonded to form a cyclohexane ring.

xは1〜3の整数が好ましく、1または2がより好ましい。   x is preferably an integer of 1 to 3, and more preferably 1 or 2.

P4は、水素原子またはx価の置換基もしくは連結基を表すが、xが1の場合、水素原子または置換基(1価の置換基)であり、xが2の場合、アルキレン基、アリーレン基、−O−、−S−、−SO−、−N(Rx)−、−C(=O)−もしくはこれらを組み合わせた2価の連結基が好ましい。ここで、Rxは水素原子または置換基を表す。
3価以上の連結基は、後述の一般式(CL)におけるLで挙げる基が挙げられる。
R P4 represents a hydrogen atom or an x-valent substituent or linking group. When x is 1, it is a hydrogen atom or a substituent (monovalent substituent), and when x is 2, an alkylene group or an arylene A group, —O—, —S—, —SO 2 —, —N (Rx) —, —C (═O) — or a divalent linking group in combination of these is preferred. Here, Rx represents a hydrogen atom or a substituent.
Examples of the trivalent or higher valent linking group include the groups exemplified as L 6 in the general formula (CL) described later.

置換基(1価の置換基)は、後述の置換基群αに記載のものが挙げられ、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環アミノ基(なかでもピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノ、チオモルホリノが好ましい)、アミノ基(−NH)、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、スルホ基もしくはその塩、カルボキシ基もしくはその塩が好ましい。 Examples of the substituent (monovalent substituent) include those described in Substituent Group α described later, and include an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, and a heterocyclic amino group (especially pyrrolidino, piperidino, morpholino, thiomorpholino). Preferable), amino group (—NH 2 ), alkylamino group, dialkylamino group, arylamino group, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, acyl group, sulfo group or salt thereof, carboxy group Or its salt is preferable.

2価の連結基におけるアルキレン基は炭素数1〜12のアルキレン基が好ましく、メチレン、メチルメチレン、ジメチルメチレン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレンが挙げられる。アリーレン基は炭素数6〜12のアリーレン基が好ましく、例えば、フェニレン、ナフチレンが挙げられ、置換基を有してもよいフェニレン基が好ましい。
これらのアルキレン基、アリーレン基は、さらに置換基で置換されていてもよく、該置換基としては、後述の置換基群αに記載のものが挙げられる。
置換基群αのうち、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環アミノ基(なかでもピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノ、チオモルホリノが好ましい)、アミノ基(−NH)、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、スルホ基もしくはその塩、カルボキシ基もしくはその塩が好ましい。
The alkylene group in the divalent linking group is preferably an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and examples include methylene, methylmethylene, dimethylmethylene, ethylene, trimethylene, and tetramethylene. The arylene group is preferably an arylene group having 6 to 12 carbon atoms, and examples thereof include phenylene and naphthylene, and a phenylene group which may have a substituent is preferable.
These alkylene groups and arylene groups may be further substituted with a substituent, and examples of the substituent include those described in the substituent group α described later.
Among the substituent group α, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic amino group (preferably pyrrolidino, piperidino, morpholino, thiomorpholino are preferred), an amino group (—NH 2 ), an alkylamino group, a dialkylamino group An arylamino group, a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an acyl group, a sulfo group or a salt thereof, or a carboxy group or a salt thereof is preferable.

P4は、xが1の場合、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環アミノ基(なかでもピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノ、チオモルホリノが好ましい)、アミノ基(−NH)、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、スルホ基もしくはその塩、カルボキシ基もしくはその塩が好ましい。
特に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環アミノ基、アルコキシ基(ヒドロキシ基が置換したアルコキシ基も好ましい)、アルキルチオ基がなかでも好ましい。
R P4, when x is 1, a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic amino group (particularly pyrrolidino, piperidino, morpholino, thiomorpholino), amino (-NH 2), alkyl An amino group, dialkylamino group, arylamino group, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, acyl group, sulfo group or salt thereof, carboxy group or salt thereof are preferred.
In particular, a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic amino group, an alkoxy group (an alkoxy group substituted with a hydroxy group is also preferable) and an alkylthio group are particularly preferable.

P4は、xが2の場合、アルキレン基が好ましく、置換基を有してもよいメチレン基が好ましい。該置換基としてはアルキル基が好ましい。 RP4 is preferably an alkylene group when x is 2, and preferably a methylene group which may have a substituent. As the substituent, an alkyl group is preferable.

P2とRP3が互いに結合して形成する環は、5または6員環が好ましく、シクロペンタン環、シクロヘキサン環がなかでも好ましい。 The ring formed by combining R P2 and R P3 with each other is preferably a 5- or 6-membered ring, and more preferably a cyclopentane ring or a cyclohexane ring.

以下に、一般式(PI−1)で表される光重合開始剤の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the photopolymerization initiator represented by the general formula (PI-1) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 0006118284
Figure 0006118284

一般式(PI−1)で表される化合物は、BASF・ジャパン株式会社等から入手することができる。   The compound represented by the general formula (PI-1) can be obtained from BASF Japan Ltd.

〔(I−2)極大吸収波長が350nm以上420nm以下である光重合開始剤〕 [(I-2) Photopolymerization initiator having a maximum absorption wavelength of 350 nm to 420 nm]

極大吸収波長が350nm以上420nm以下である光重合開始剤は、下記一般式(PI−2)で表される光重合開始剤が好ましい。   The photopolymerization initiator having a maximum absorption wavelength of 350 nm to 420 nm is preferably a photopolymerization initiator represented by the following general formula (PI-2).

Figure 0006118284
Figure 0006118284

一般式(PI−2)において、RP5、RP6およびRP7は各々独立に、アルキル基またはアリール基を表し、lおよびmは各々独立に0または1を表す。 In general formula (PI-2), R P5 , R P6 and R P7 each independently represents an alkyl group or an aryl group, and l and m each independently represents 0 or 1.

P5〜RP7におけるアルキル基は、直鎖もしくは分岐の炭素数は1〜20のアルキル基が好ましく、1〜12がより好ましく、1〜8がさらに好ましい。アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、n−ブチル、2−エチルヘキシル、2,4,4−トリメチルペンチルが挙げられる。アルキル基は置換基を有してもよく、該置換基としては、後述の置換基群αから選択される任意の置換基が挙げられる。 The alkyl group in R P5 to R P7 is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 12 and even more preferably 1 to 8. Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, isopropyl, n-butyl, 2-ethylhexyl, and 2,4,4-trimethylpentyl. The alkyl group may have a substituent, and examples of the substituent include any substituent selected from the substituent group α described below.

P5〜RP7におけるアリール基は、炭素数は6〜12が好ましく、6〜10がより好ましく、6〜8がさらに好ましい。アリール基は置換基を有してもよく、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ヒドロキシ基等が挙げられる。アリール基は、フェニル基が好ましい。
P5〜RP7におけるアリール基は、2位、2位および6位、2位、4位および6位に置換基を有するフェニル基が好ましく、該置換基としては、後述の置換基群αにおけるアルキル基、アルコキシ基が好ましい。
P5〜RP7におけるアリール基は、フェニル、2,6−ジメチルフェニル、2,4,6−トリメチルフェニル、2,6−ジメトキシフェニル、2,4,6−トリメトキシフェニルが好ましい。
6-12 are preferable, as for the aryl group in R < P5 > -R < P7 >, 6-10 are more preferable, and 6-8 are more preferable. The aryl group may have a substituent, and examples thereof include a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, and a hydroxy group. The aryl group is preferably a phenyl group.
The aryl group in R P5 to R P7 is preferably a phenyl group having substituents at the 2-position, 2-position and 6-position, 2-position, 4-position and 6-position, and the substituent is the substituent group α described later. An alkyl group and an alkoxy group are preferred.
The aryl group in R P5 to R P7 is preferably phenyl, 2,6-dimethylphenyl, 2,4,6-trimethylphenyl, 2,6-dimethoxyphenyl, or 2,4,6-trimethoxyphenyl.

以下に、一般式(PI−2)で表される光重合開始剤の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Although the specific example of a photoinitiator represented by general formula (PI-2) below is shown, this invention is not limited to these.

Figure 0006118284
Figure 0006118284

本発明において、膜形成用組成物の全固形分100質量%のうち、光重合開始剤の全量が0.01〜10質量%が好ましく、0.01〜5質量%がより好ましく、0.01〜3質量%が特に好ましい。
光重合開始剤(I−1)に対する光重合開始剤(I−2)の質量割合は、5〜50質量%が好ましく、5〜40質量%がより好ましく、5〜30質量%が特に好ましい。
In the present invention, out of 100% by mass of the total solid content of the film-forming composition, the total amount of the photopolymerization initiator is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.01 to 5% by mass, and 0.01% -3 mass% is particularly preferred.
5-50 mass% is preferable, as for the mass ratio of the photoinitiator (I-2) with respect to a photoinitiator (I-1), 5-40 mass% is more preferable, and 5-30 mass% is especially preferable.

<イオン交換基を有するモノマー>
高分子機能性膜を形成するための組成物には、イオン交換基を有するモノマーを含有するが、本発明では、イオン交換基として四級アンモニウム基またはスルホ基もしくはその塩を有するスチレン系モノマーまたはイオン交換基として四級アンモニウム基またはスルホ基もしくはその塩を有するアクリルアミド系モノマーを使用する。
<Monomer having an ion exchange group>
The composition for forming a polymer functional film contains a monomer having an ion exchange group. In the present invention, a styrene monomer having a quaternary ammonium group, a sulfo group or a salt thereof as an ion exchange group, or An acrylamide monomer having a quaternary ammonium group, a sulfo group or a salt thereof as an ion exchange group is used.

〔イオン交換基として四級アンモニウム基またはスルホ基もしくはその塩を有するスチレン系モノマー〕
本発明では、イオン交換基として四級アンモニウム基またはスルホ基もしくはその塩を有するスチレン系モノマーは、エチレン性不飽和基が1つのみである単官能性モノマーであってもエチレン性不飽和基を2つ以上有する多官能性モノマーであっても構わない。
[Styrene monomer having a quaternary ammonium group, a sulfo group or a salt thereof as an ion exchange group]
In the present invention, the styrenic monomer having a quaternary ammonium group or a sulfo group or a salt thereof as an ion exchange group may be an ethylenically unsaturated group even if it is a monofunctional monomer having only one ethylenically unsaturated group. It may be a polyfunctional monomer having two or more.

(単官能性スチレン系モノマー)
単官能性スチレン系モノマーは、イオン交換基として四級アンモニウム基またはスルホ基もしくはその塩およびスチレン構造を有する単官能性モノマーであれば特に制限されないが、四級アンモニウム基およびスチレン構造を有する単官能性モノマーが好ましく、なかでも下記一般式(SM)で表される化合物が好ましい。
(Monofunctional styrene monomer)
The monofunctional styrenic monomer is not particularly limited as long as it is a monofunctional monomer having a quaternary ammonium group or a sulfo group or a salt thereof and a styrene structure as an ion exchange group, but a monofunctional styrene monomer having a quaternary ammonium group and a styrene structure. The monomer represented by the following general formula (SM) is preferable.

Figure 0006118284
Figure 0006118284

一般式(SM)において、R〜Rは各々独立に、アルキル基またはアリール基を表す。RとR、またはR、RおよびRが互いに結合して脂肪族ヘテロ環を形成してもよい。n1は1〜3の整数を表す。X は有機または無機のアニオンを表す。 In the general formula (SM), R 1 to R 3 each independently represents an alkyl group or an aryl group. R 1 and R 2 , or R 1 , R 2 and R 3 may be bonded to each other to form an aliphatic heterocycle. n1 represents an integer of 1 to 3. X 1 represents an organic or inorganic anion.

〜Rにおけるアルキル基は、炭素数は1〜8が好ましく、1〜4がより好ましく、1または2がさらに好ましい。アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、n−ブチル、2−エチルヘキシルが挙げられる。アルキル基は置換基を有してもよく、該置換基としては、後述の置換基群αから選択される任意の置換基が挙げられる。
〜Rにおけるアリール基は、炭素数は6〜12が好ましく、6〜10がより好ましく、6〜8がさらに好ましい。アリール基は置換基を有してもよく、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ヒドロキシ基等が挙げられる。アリール基は、フェニル基が好ましい。
〜Rは、なかでもアルキル基が好ましい。
Alkyl group in R 1 to R 3 has a carbon number of 1 to 8, more preferably 1 to 4, still more preferably 1 or 2. Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, isopropyl, n-butyl, and 2-ethylhexyl. The alkyl group may have a substituent, and examples of the substituent include any substituent selected from the substituent group α described below.
Aryl group in R 1 to R 3 has a carbon number of preferably 6 to 12, more preferably 6 to 10, 6 to 8 is more preferred. The aryl group may have a substituent, and examples thereof include a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, and a hydroxy group. The aryl group is preferably a phenyl group.
Of these, R 1 to R 3 are preferably alkyl groups.

とRが互いに結合して形成する環は5または6員環が好ましく、例えば、ピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環、チオモルホリン環、ピペラジン環等が挙げられる。
、RおよびRが互いに結合して形成する環としては、キヌクリジン環、トリエチレンジアミン環(1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン環)が挙げられる。
The ring formed by combining R 1 and R 2 with each other is preferably a 5- or 6-membered ring, and examples thereof include a pyrrolidine ring, a piperidine ring, a morpholine ring, a thiomorpholine ring, and a piperazine ring.
Examples of the ring formed by combining R 1 , R 2 and R 3 with each other include a quinuclidine ring and a triethylenediamine ring (1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane ring).

n1は1または2が好ましく、1が特に好ましい。
は有機または無機のアニオンを表すが、無機アニオンが好ましい。
有機アニオンとしては、アルキルスルホン酸アニオン、アリールスルホン酸アニオン、アルキルもしくはアリールカルボン酸アニオンが挙げられ、例えば、メタンスルホン酸アニオン、ベンゼンスルホン酸アニオン、トルエンスルホン酸アニオン、酢酸アニオンが挙げられる。
無機アニオンとしてはハロゲンアニオン、硫酸ジアニオン、リン酸アニオンが挙げられ、ハロゲンアニオンが好ましい。ハロゲンアニオンのなかでも塩素アニオン、臭素アニオンが好ましく、塩素アニオンが特に好ましい。
n1 is preferably 1 or 2, and 1 is particularly preferable.
X 1 represents an organic or inorganic anion, and is preferably an inorganic anion.
Examples of the organic anion include an alkyl sulfonate anion, an aryl sulfonate anion, an alkyl or aryl carboxylate anion, and examples thereof include a methane sulfonate anion, a benzene sulfonate anion, a toluene sulfonate anion, and an acetate anion.
Examples of inorganic anions include halogen anions, sulfate dianions, and phosphate anions, with halogen anions being preferred. Among the halogen anions, a chlorine anion and a bromine anion are preferable, and a chlorine anion is particularly preferable.

以下に、一般式(SM)で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the compound represented by the general formula (SM) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 0006118284
Figure 0006118284

一般式(SM)で表される化合物は、特開2000−229917号公報、特開2000−212306号公報に記載の方法もしくはこれに準じた方法で合成できる。また、シグマ−アルドリッチ社等から市販品として入手することも可能である。   The compound represented by the general formula (SM) can be synthesized by the method described in JP 2000-229917 A or JP 2000-212306 A or a method analogous thereto. Moreover, it is also possible to obtain as a commercial item from Sigma-Aldrich.

本発明における膜形成用組成物には、一般式(SM)で表される化合物を2種以上組み合わせて用いてもよい。   In the film forming composition of the present invention, two or more compounds represented by the general formula (SM) may be used in combination.

(多官能性スチレン系モノマー)
イオン交換基を有する多官能性モノマーは、イオン交換基を有する架橋剤(チャージドクロスリンカー)とも称され、本発明で使用する多官能性スチレン系モノマーは、四級アンモニウム基またはスルホ基もしくはその塩およびスチレン構造を有する多官能性モノマーであれば特に制限されないが、四級アンモニウム基およびスチレン構造を有する多官能性モノマーが好ましく、なかでも下記一般式(SXL)で表される化合物が好ましい。
(Multifunctional styrene monomer)
The polyfunctional monomer having an ion exchange group is also referred to as a cross-linking agent (charged crosslinker) having an ion exchange group, and the polyfunctional styrenic monomer used in the present invention is a quaternary ammonium group, a sulfo group or a salt thereof. The polyfunctional monomer having a styrene structure is not particularly limited, but a polyfunctional monomer having a quaternary ammonium group and a styrene structure is preferable, and a compound represented by the following general formula (SXL) is particularly preferable.

Figure 0006118284
Figure 0006118284

一般式(SXL)において、LおよびLは各々独立にアルキレン基またはアルケニレン基を表す。RおよびRは各々独立にアルキル基またはアリール基を表し、RとRが互いに結合して環を形成してもよい。n2は1〜3の整数を表す。X およびX は各々独立に、有機または無機のアニオンを表す。 In General Formula (SXL), L 1 and L 2 each independently represent an alkylene group or an alkenylene group. R d and R e each independently represents an alkyl group or an aryl group, and R d and R e may be bonded to each other to form a ring. n2 represents an integer of 1 to 3. X 2 - and X 3 - each independently represents an organic or inorganic anion.

およびLにおけるアルキレン基は、炭素数2または3が好ましく、エチレン、プロピレンが挙げられる。アルキレン基は置換基を有してもよく、該置換基としては、後述の置換基群αから選択される任意の置換基が挙げられる。
およびLにおけるアルケニレン基は炭素数2または3が好ましく、2がより好ましく、なかでもエテニレン基が好ましい。
とLで形成される環は、ピペラジン環が好ましい。
およびRにおけるアルキル基、アリール基は、前記一般式(SM)におけるR〜Rにおけるアルキル基、アリール基の好ましい範囲が好ましい。
The alkylene group for L 1 and L 2 preferably has 2 or 3 carbon atoms, and examples thereof include ethylene and propylene. The alkylene group may have a substituent, and examples of the substituent include any substituent selected from the substituent group α described below.
The alkenylene group in L 1 and L 2 preferably has 2 or 3 carbon atoms, more preferably 2, and an ethenylene group is particularly preferable.
The ring formed by L 1 and L 2 is preferably a piperazine ring.
The alkyl group and aryl group in R d and R e are preferably in the preferred range of the alkyl group and aryl group in R 1 to R 3 in the general formula (SM).

およびRはなかでもアルキル基が好ましく、メチルが特に好ましい。
とRは互いに結合して環を形成してもよく、トリエチレンジアミン環(1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン環)が特に好ましい。
Of these, R d and R e are preferably alkyl groups, and methyl is particularly preferred.
R d and R e may be bonded to each other to form a ring, and a triethylenediamine ring (1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane ring) is particularly preferable.

n2は1または2が好ましく、1が特に好ましい。
およびX は前記一般式(SM)におけるX と同義であり、好ましい範囲も同じである。
n2 is preferably 1 or 2, and 1 is particularly preferable.
X 2 - and X 3 - is X 1 in the general formula (SM) - an synonymous, and preferred ranges are also the same.

以下に、一般式(SXL)で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the compound represented by the general formula (SXL) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 0006118284
Figure 0006118284

一般式(SXL)で表される化合物は、特開2000−229917号公報に記載の方法もしくはこれに準じた方法で合成できる。   The compound represented by the general formula (SXL) can be synthesized by the method described in JP-A-2000-229917 or a method analogous thereto.

〔イオン交換基として四級アンモニウム基またはスルホ基もしくはその塩を有するアクリルアミド系モノマー〕
(単官能性アクリルアミド系モノマー)
単官能性アクリルアミド系モノマーは、イオン交換基として四級アンモニウム基またはスルホ基もしくはその塩およびアクリルアミド構造を有する単官能性モノマーであれば特に制限されないが、イオン交換基として四級アンモニウム基を有する単官能性アクリルアミド系モノマーは、下記一般式(AM−1)で表される化合物が好ましい。
一方、イオン交換基としてスルホ基もしくはその塩を有する単官能性アクリルアミド系モノマーは、後述の一般式(AM−2)で表される化合物が好ましい。
[Acrylamide monomer having a quaternary ammonium group, a sulfo group or a salt thereof as an ion exchange group]
(Monofunctional acrylamide monomer)
The monofunctional acrylamide monomer is not particularly limited as long as it is a monofunctional monomer having a quaternary ammonium group or a sulfo group or a salt thereof and an acrylamide structure as an ion exchange group, but a monofunctional acrylamide monomer having a quaternary ammonium group as an ion exchange group. The functional acrylamide monomer is preferably a compound represented by the following general formula (AM-1).
On the other hand, the monofunctional acrylamide monomer having a sulfo group or a salt thereof as an ion exchange group is preferably a compound represented by the following general formula (AM-2).

<イオン交換基として四級アンモニウム基を有する単官能性アクリルアミド系モノマー>
イオン交換基として四級アンモニウム基を有するアクリルアミド系モノマーは、四級アンモニウム基およびアクリルアミド構造を有する単官能性モノマーであれば特に制限されないが、下記一般式(AM−1)で表される化合物が好ましい。
<Monofunctional acrylamide monomer having a quaternary ammonium group as an ion exchange group>
The acrylamide monomer having a quaternary ammonium group as an ion exchange group is not particularly limited as long as it is a monofunctional monomer having a quaternary ammonium group and an acrylamide structure, but the compound represented by the following general formula (AM-1) is preferable.

Figure 0006118284
Figure 0006118284

一般式(AM−1)において、Rは水素原子またはアルキル基を表し、R〜Rは各々独立に、アルキル基またはアリール基を表す。Zは−NRa−を表す。ここで、Raは水素原子またはアルキル基を表す。Lはアルキレン基を表し、X はハロゲンイオンまたは脂肪族もしくは芳香族カルボン酸イオンを表す。 In General Formula (AM-1), R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 5 to R 7 each independently represents an alkyl group or an aryl group. Z 1 represents -NRa-. Here, Ra represents a hydrogen atom or an alkyl group. L 3 represents an alkylene group, and X 4 represents a halogen ion or an aliphatic or aromatic carboxylate ion.

、Raにおけるアルキル基は、直鎖もしくは分岐のアルキル基で、炭素数は1〜12が好ましく、1〜8がより好ましく、1〜4がさらに好ましく、1が特に好ましい。
は、なかでも水素原子またはメチルが好ましく、水素原子が最も好ましい。
Raは、水素原子及びアルキル基のうち、水素原子が好ましい。
The alkyl group in R 4 and Ra is a linear or branched alkyl group, preferably having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms, further preferably 1 to 4 carbon atoms, and particularly preferably 1.
R 4 is preferably a hydrogen atom or methyl, and most preferably a hydrogen atom.
Ra is preferably a hydrogen atom among a hydrogen atom and an alkyl group.

、Raにおけるアルキル基は、置換基を有してもよく、該置換基としては、後述の置換基群αから選択される任意の置換基が挙げられる。 The alkyl group in R 4 and Ra may have a substituent, and examples of the substituent include any substituent selected from the substituent group α described later.

〜Rにおけるアルキル基は、直鎖もしくは分岐のアルキル基で、炭素数は1〜9が好ましく、1〜8がより好ましく、1〜4がさらに好ましく、1が特に好ましい。
〜Rにおけるアリール基は、炭素数は6〜12が好ましく、6〜9がより好ましく、6が特に好ましい。
〜Rは、なかでもアルキル基が好ましい。
〜Rにおけるアルキル基、アリール基は置換基を有していてもよく、該置換基としては、後述の置換基群αから選択される任意の置換基が挙げられる。
The alkyl group in R 5 to R 7 is a linear or branched alkyl group, preferably having 1 to 9 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms, further preferably 1 to 4 carbon atoms, and particularly preferably 1.
Aryl group in R 5 to R 7 has a carbon number of 6 to 12, more preferably 6 to 9, 6 is particularly preferred.
R 5 to R 7 are preferably an alkyl group.
The alkyl group and aryl group in R 5 to R 7 may have a substituent, and examples of the substituent include any substituent selected from the substituent group α described later.

におけるアルキレン基は、直鎖もしくは分岐のアルキレン基で、炭素数は1〜9が好ましく、2〜8がより好ましく、2〜6がさらに好ましく、2または3が特に好ましい。該アルキレン基は、置換基を有していてもよく、該置換基としては、後述の置換基群αから選択される任意の置換基が挙げられる。 The alkylene group in L 3 is a linear or branched alkylene group, preferably having 1 to 9 carbon atoms, more preferably 2 to 8, more preferably 2 to 6, and particularly preferably 2 or 3. The alkylene group may have a substituent, and examples of the substituent include any substituent selected from the substituent group α described below.

におけるハロゲンイオンは、塩素イオン、臭素イオン、沃素イオンが挙げられる。
における脂肪族もしくは芳香族カルボン酸イオンは、ギ酸イオン、酢酸イオン、プロピオン酸イオン、ブタン酸イオン、安息香酸イオン等が挙げられる。
における脂肪族もしくは芳香族カルボン酸イオンは、脂肪族カルボン酸イオンが好ましく、特に酢酸イオンが好ましい。
は塩素イオン、臭素イオン、沃素イオン、酢酸イオンが好ましい。
Examples of the halogen ion in X 4 include a chlorine ion, a bromine ion, and an iodine ion.
X 4 - aliphatic or aromatic carboxylate ion in the formate ions, acetate ions, propionate ions, butanoate ion, benzoate ion and the like.
The aliphatic or aromatic carboxylate ion in X 4 is preferably an aliphatic carboxylate ion, particularly preferably an acetate ion.
X 4 is preferably a chlorine ion, a bromine ion, an iodine ion, or an acetate ion.

以下に、一般式(AM−1)で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Although the specific example of a compound represented by general formula (AM-1) below is given, this invention is not limited to these.

Figure 0006118284
Figure 0006118284

(多官能性アクリルアミド系モノマー)
イオン交換基を有する多官能性アクリルアミド系モノマーは、四級アンモニウム基またはスルホ基もしくはその塩およびアクリルアミド構造を有する多官能性モノマーであれば特に制限されないが、四級アンモニウム基およびアクリルアミド構造を有する多官能性モノマーは、下記一般式(AXL−1)で表される化合物が好ましく、スルホ基もしくはその塩およびアクリルアミド構造を有する多官能性モノマーは、後述の一般式(AXL−2)で表される化合物が好ましい。
(Multifunctional acrylamide monomer)
The polyfunctional acrylamide monomer having an ion exchange group is not particularly limited as long as it is a polyfunctional monomer having a quaternary ammonium group or a sulfo group or a salt thereof and an acrylamide structure. The functional monomer is preferably a compound represented by the following general formula (AXL-1), and the polyfunctional monomer having a sulfo group or a salt thereof and an acrylamide structure is represented by the following general formula (AXL-2). Compounds are preferred.

<イオン交換基として四級アンモニウム基を有する多官能性アクリルアミド系モノマー>
イオン交換基として四級アンモニウム基を有する多官能性アクリルアミド系モノマーは、四級アンモニウム基およびアクリルアミド構造を有する多官能性モノマーであれば特に制限されないが、記一般式(AXL−1)で表される化合物が好ましい。
<Polyfunctional acrylamide monomer having a quaternary ammonium group as an ion exchange group>
The polyfunctional acrylamide monomer having a quaternary ammonium group as an ion exchange group is not particularly limited as long as it is a polyfunctional monomer having a quaternary ammonium group and an acrylamide structure, but is represented by the general formula (AXL-1). Are preferred.

Figure 0006118284
Figure 0006118284

一般式(AXL−1)におけるRおよびRは、一般式(AM−1)におけるRと同義であり、好ましい範囲も同じである。一般式(AXL−1)におけるR10〜R13は、それぞれ一般式(AM−1)におけるRと同義であり、好ましい範囲も同じである。一般式(AXL−1)におけるZおよびZは、それぞれ一般式(AM−1)におけるZと同義であり、好ましい範囲も同じである。一般式(AXL−1)におけるLおよびLは、それぞれ一般式(AM−1)におけるLと同義であり、好ましい範囲も同じである。X およびX は、それぞれ一般式(AM−1)におけるX と同義であり、好ましい範囲も同じである。 R 8 and R 9 in General Formula (AXL-1) have the same meaning as R 4 in General Formula (AM-1), and the preferred ranges are also the same. R < 10 > -R < 13 > in general formula (AXL-1) is synonymous with R < 5 > in general formula (AM-1), respectively, and its preferable range is also the same. Z 2 and Z 3 in the general formula (AXL-1) have the same meanings as Z 1 in the general formula (AM-1), respectively, and the preferred ranges are also the same. L 4 and L 5 in General Formula (AXL-1) have the same definitions as L 3 in General Formula (AM-1), respectively, and the preferred ranges are also the same. X 5 - and X 6 - are each X 4 in the general formula (AM-1) - has the same meaning as, the preferred range is also the same.

一般式(AXL−1)において、Rはアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、−O−またはこれらが組み合わされた2価の連結基を表す。
アルキレン基は直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表し、炭素数は1〜9が好ましく、アルケニレン基、アルキニレン基は、直鎖もしくは分岐のアルケニレン基、アルキニレン基であり、炭素数は2〜9が好ましい。
アリーレン基は、炭素数が6〜12が好ましく、6〜8がより好ましく、6が特に好ましい。
In General Formula (AXL-1), R X represents an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, an arylene group, —O—, or a divalent linking group in which these are combined.
The alkylene group represents a linear or branched alkylene group, preferably having 1 to 9 carbon atoms, the alkenylene group or alkynylene group is a linear or branched alkenylene group or alkynylene group, and preferably having 2 to 9 carbon atoms. .
The arylene group preferably has 6 to 12 carbon atoms, more preferably 6 to 8 carbon atoms, and particularly preferably 6 carbon atoms.

アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、−O−が組み合わされた2価の連結基としては、これらの基の組合せ数は2〜4が好ましい。例えば、2つの組合せでは、アルキレン基と−O−の組合せ、アルキレン基とアリーレン基の組合せ、アリーレン基とアリーレン基の組みあわせ等が挙げられる。
における各基は、置換基を有していてもよく、該置換基としては、後述の置換基群αから選択される任意の置換基が挙げられる。
これらを組み合わせた基としては、−アルキレン−フェニレン−アルキレン−が好ましい。
以下に、一般式(AXL−1)で表される多官能性モノマーの具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
As the divalent linking group in which an alkylene group, alkenylene group, alkynylene group, arylene group, and -O- are combined, the number of combinations of these groups is preferably 2 to 4. For example, the two combinations include a combination of an alkylene group and —O—, a combination of an alkylene group and an arylene group, a combination of an arylene group and an arylene group, and the like.
Each group in R X may have a substituent, and examples of the substituent include any substituent selected from the substituent group α described later.
As a group in which these are combined, -alkylene-phenylene-alkylene- is preferable.
Specific examples of the polyfunctional monomer represented by the general formula (AXL-1) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 0006118284
Figure 0006118284

Figure 0006118284
Figure 0006118284

<イオン交換基としてスルホ基もしくはその塩を有する単官能性アクリルアミド系モノマー>
イオン交換基としてスルホ基もしくはその塩を有する単官能性アクリルアミド系モノマーは、スルホ基もしくはその塩およびアクリルアミド構造を有する単官能性モノマーであれば特に制限されないが、下記一般式(AM−2)で表される化合物が好ましい。
<Monofunctional acrylamide monomer having sulfo group or salt thereof as ion exchange group>
The monofunctional acrylamide monomer having a sulfo group or a salt thereof as an ion exchange group is not particularly limited as long as it is a monofunctional monomer having a sulfo group or a salt thereof and an acrylamide structure, but the following general formula (AM-2) The compounds represented are preferred.

Figure 0006118284
Figure 0006118284

一般式(AM−2)において、R14は前記一般式(AM−1)におけるRと同義であり、好ましい範囲も同じである。 In general formula (AM-2), R < 14 > is synonymous with R < 4 > in the said general formula (AM-1), and its preferable range is also the same.

一般式(AM−2)において、M は水素イオンまたはアルカリ金属イオンを表す。アルカリ金属イオンとしては、リチウムイオン、カリウムイオン、ナトリウムイオンが挙げられ、好ましい。
は、水素イオン、リチウムイオン、カリウムイオン、ナトリウムイオンが好ましく、水素イオン、ナトリウムイオンがより好ましく、ナトリウムイオンがさらに好ましい。
上記好ましい範囲内であると所望の硬化性、pH耐性、機械強度、柔軟性に優れる。
In General Formula (AM-2), M 1 + represents a hydrogen ion or an alkali metal ion. Examples of alkali metal ions include lithium ions, potassium ions, and sodium ions, which are preferable.
M 1 + is preferably a hydrogen ion, lithium ion, potassium ion, or sodium ion, more preferably a hydrogen ion or sodium ion, and even more preferably a sodium ion.
Within the above preferred ranges, the desired curability, pH resistance, mechanical strength and flexibility are excellent.

以下に、一般式(AM−2)で表される単官能性モノマーの具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Although the specific example of the monofunctional monomer represented with general formula (AM-2) below is given, this invention is not limited to these.

Figure 0006118284
Figure 0006118284

これらのモノマーは、米国特許第4,034,001号明細書に記載の方法もしくはこれに準じた方法で合成することができる。   These monomers can be synthesized by the method described in US Pat. No. 4,034,001 or a method analogous thereto.

<イオン交換基としてスルホ基もしくはその塩を有する多官能性アクリルアミド系モノマー>
イオン交換基としてスルホ基もしくはその塩を有する多官能性アクリルアミド系モノマーは、スルホ基もしくはその塩およびアクリルアミド構造を有する多官能性モノマーであれば特に制限されないが、下記一般式(AXL−2)で表される化合物が好ましい。
<Polyfunctional acrylamide monomer having sulfo group or salt thereof as ion exchange group>
The polyfunctional acrylamide monomer having a sulfo group or a salt thereof as an ion exchange group is not particularly limited as long as it is a polyfunctional monomer having a sulfo group or a salt thereof and an acrylamide structure, but the following general formula (AXL-2) The compounds represented are preferred.

Figure 0006118284
Figure 0006118284

一般式(AXL−2)におけるR15、M は、それぞれ一般式(AM―2)におけるR14、M と同義であり、好ましい範囲も同じである。Zは、一般式(AM―1)におけるZと同義であり、好ましい範囲も同じである。 R 15 and M 2 + in the general formula (AXL-2) have the same meanings as R 14 and M 1 + in the general formula (AM-2), respectively, and preferred ranges thereof are also the same. Z 4 has the same meaning as Z 1 in formula (AM-1), and the preferred range is also the same.

以下に、一般式(AXL−2)で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the compound represented by the general formula (AXL-2) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 0006118284
Figure 0006118284

これらの化合物は、後述の実施例で示す方法もしくはこれに準じた方法で合成することができる。   These compounds can be synthesized by the method shown in the examples described later or a method analogous thereto.

<イオン交換基を有さないモノマー>
高分子機能性膜を形成するための組成物には、イオン交換基を有するモノマーを含有するが、本発明では、イオン交換基として四級アンモニウム基またはスルホ基もしくはその塩を有するスチレン系モノマーまたはイオン交換基として四級アンモニウム基またはスルホ基もしくはその塩を有するアクリルアミド系モノマーを使用するが、これら以外に、イオン交換基を有さないモノマーをさらに含んでもよい。
イオン交換基を有さないモノマーは単官能性モノマーでも多官能性モノマーでも構わない。または単官能性モノマーと多官能性モノマーの両方を含んでも構わない。
本発明では、下記一般式(CL)で表される化合物が好ましい。
<Monomer not having ion exchange group>
The composition for forming a polymer functional film contains a monomer having an ion exchange group. In the present invention, a styrene monomer having a quaternary ammonium group, a sulfo group or a salt thereof as an ion exchange group, or An acrylamide monomer having a quaternary ammonium group or a sulfo group or a salt thereof is used as the ion exchange group, but in addition to these, a monomer having no ion exchange group may be further included.
The monomer having no ion exchange group may be a monofunctional monomer or a polyfunctional monomer. Alternatively, both a monofunctional monomer and a polyfunctional monomer may be included.
In the present invention, a compound represented by the following general formula (CL) is preferable.

Figure 0006118284
Figure 0006118284

一般式(CL)において、R16およびR17は各々独立に、水素原子またはアルキル基を表す。YおよびYは各々独立に、−O−または−N(Rc)−を表す。ここでRcは水素原子またはアルキル基を表す。Lは、p1+1価の炭素数1以上の連結基を表す。p1は1以上の整数を表す。 In General Formula (CL), R 16 and R 17 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group. Y 1 and Y 2 each independently represent —O— or —N (Rc) —. Here, Rc represents a hydrogen atom or an alkyl group. L 6 represents a p1 + 1-valent linking group having 1 or more carbon atoms. p1 represents an integer of 1 or more.

16、R17、Rcにおけるアルキル基は置換基を有してもよく、該置換基としては、後述の置換基群αから選択される任意の置換基が挙げられる。 The alkyl group in R 16 , R 17 and Rc may have a substituent, and examples of the substituent include any substituent selected from the substituent group α described later.

16およびR17におけるアルキル基は、炭素数1〜4のアルキル基が好ましく、メチル、エチル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、t−ブチルが挙げられる。
16およびR17は、水素原子またはメチル基が好ましく、なかでも水素原子が好ましい。
The alkyl group in R 16 and R 17 is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and examples thereof include methyl, ethyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, and t-butyl.
R 16 and R 17 are preferably a hydrogen atom or a methyl group, and more preferably a hydrogen atom.

およびYは、−O−または−N(Rc)−を表すが、−N(Rc)−が好ましく、YおよびYがともに−N(Rc)−であるものが、なかでも好ましい。
ここで、Rcにおけるアルキル基は炭素数1〜4のアルキル基が好ましい。
Rcは、水素原子が特に好ましい。
Y 1 and Y 2 represent —O— or —N (Rc) —, preferably —N (Rc) —, and those in which both Y 1 and Y 2 are —N (Rc) — preferable.
Here, the alkyl group in Rc is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
Rc is particularly preferably a hydrogen atom.

はp1+1価の炭素数1以上の連結基を表す。ここで、p1は1以上の整数を表すが、1〜5が好ましく、1〜3がより好ましく、1が特に好ましい。
における連結基は、Y、Yに結合する原子が、ともに炭素原子のものが好ましい。
L 6 represents a p1 + 1-valent linking group having 1 or more carbon atoms. Here, although p1 represents an integer greater than or equal to 1, 1-5 are preferable, 1-3 are more preferable, and 1 is especially preferable.
The linking group in L 6 is preferably such that the atoms bonded to Y 1 and Y 2 are both carbon atoms.

p1が1の場合、例えば、直鎖、分岐もしくは環状のアルキレン基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜12、更に好ましくは炭素数2〜4のアルキレン基であり、例えば、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、へキシレン、オクチレン、デシレンなどが挙げられる。なお、環状のアルキレン基、すなわち、シクロアルキレン基の場合、最低の炭素数は3が好ましく、シクロペンチレン、シクロヘキシレンがより好ましい。)、−(アルキレンオキシ)−アルキレン基(ここで、tは1以上の整数を表し、1〜50が好ましく、1〜20がより好ましく、1〜10がさらに好ましい。アルキレンは好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜12、更に好ましくは炭素数2〜4のアルキレンである。 When p1 is 1, for example, a linear, branched or cyclic alkylene group (preferably an alkylene group having 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, still more preferably 2 to 4 carbon atoms, , Ethylene, propylene, butylene, pentylene, hexylene, octylene, decylene, etc. In the case of a cyclic alkylene group, that is, a cycloalkylene group, the minimum carbon number is preferably 3, and cyclopentylene, cyclohexylene And-(alkyleneoxy) t -alkylene group (where t represents an integer of 1 or more, preferably 1 to 50, more preferably 1 to 20, still more preferably 1 to 10.) Preferably it is C2-C30, More preferably, it is C2-C12, More preferably, it is C2-C4 alkylene. .

例えばエチレンオキシエチレン、プロピレンオキシプロピレン、ブチレンオキシブチレン、ペンチレンオキシペンチレン、ヘキシレンオキシヘキシレン、オクチレンオキシオクチレン、デシレンオキシエチレン、ポリエチレンオキシエチレン、ポリプロピレンオキシプロピレンなどが挙げられる。)、アラルキレン基(好ましくは炭素数7〜30、より好ましくは炭素数7〜13のアラルキレン基であり、例えばベンジリデン、シンナミリデンなどが挙げられる。)、アリーレン基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜15のアリーレン基であり、例えば、フェニレン、クメニレン、メシチレン、トリレン、キシリレンなどが挙げられる。)、−アルキレン−E−アルキレン基(ここで、Eは−S−、−SO−、−SO−、−S−S−、−C(=O)−、−N(RL1)−、フェニレン、シクロアルキレン、アルキレン、2価のヘテロ基およびこれらの基が組合された基を表す。RL1は水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。)、−アリーレン−E−アリーレン基(ここで、Eは上記と同義である。)、アリーレン−E−アルキレン基(ここで、Eは上記と同義である。)などが挙げられる。
ここで、上記Eにおける2価のヘテロ環基は、下記の2価のヘテロ環基が好ましい。
なお、これらの各環は、置換基を有してもよく、該置換基としては、後述の置換基群αから選択される任意の置換基が挙げられる。
なかでも、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン環(ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン−1,4−ジイル)、1,4−ピペラジン環(ピペラジ−1,4−ジイル)が好ましい。
Examples thereof include ethyleneoxyethylene, propyleneoxypropylene, butyleneoxybutylene, pentyleneoxypentylene, hexyleneoxyhexylene, octyleneoxyoctylene, decyleneoxyethylene, polyethyleneoxyethylene, and polypropyleneoxypropylene. ), An aralkylene group (preferably an aralkylene group having 7 to 30 carbon atoms, more preferably an aralkylene group having 7 to 13 carbon atoms, such as benzylidene and cinnamylidene), an arylene group (preferably having 6 to 30 carbon atoms and more). An arylene group having 6 to 15 carbon atoms is preferred, and examples thereof include phenylene, cumenylene, mesitylene, tolylene, xylylene, etc.), -alkylene-E-alkylene group (where E is -S-, -SO). —, —SO 2 —, —S—S—, —C (═O) —, —N (R L1 ) —, phenylene, cycloalkylene, alkylene, a divalent hetero group, and a group in which these groups are combined. .R L1 representing the represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group), -. arylene -E- arylene group (wherein, E is as defined above. , (Wherein, E is as defined above.) Arylene -E- alkylene group and the like.
Here, the divalent heterocyclic group in E is preferably the following divalent heterocyclic group.
Each of these rings may have a substituent, and examples of the substituent include any substituent selected from the substituent group α described later.
Among them, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane ring (diazabicyclo [2.2.2] octane-1,4-diyl), 1,4-piperazine ring (piperazi-1,4-diyl) Is preferred.

Figure 0006118284
Figure 0006118284

p1が3以上の場合、Lで表される連結基は、下記の連結基が好ましい。 When p1 is 3 or more, the linking group represented by L 6 is preferably the following linking group.

Figure 0006118284
Figure 0006118284

Wは、アルキル基、ヒドロキシ基またはアミノ基を表し、mは2以上の整数を表し、a1〜a6は各々独立に、0以上の整数を表す。   W represents an alkyl group, a hydroxy group or an amino group, m represents an integer of 2 or more, and a1 to a6 each independently represents an integer of 0 or more.

mは2または3が好ましい。
a1〜a6は0〜20が好ましく、0〜10がより好ましい。
m is preferably 2 or 3.
a1 to a6 are preferably 0 to 20, and more preferably 0 to 10.

における各基は、置換基を有していてもよく、該置換基としては、後述の置換基群αから選択される任意の置換基が挙げられる。 Each group in L 6 may have a substituent, and examples of the substituent include any substituent selected from the substituent group α described later.

以下に、一般式(CL)で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Although the specific example of a compound represented by general formula (CL) below is shown, this invention is not limited to these.

Figure 0006118284
Figure 0006118284

これらの化合物は、興人(株)、協和発酵ケミカル(株)、Fluka(株)、aldrich(株)、東亜合成(株)から市販されており、また公知の方法で容易に合成できる。   These compounds are commercially available from Kojin Co., Ltd., Kyowa Hakko Chemical Co., Ltd., Fluka Co., Ltd., aldrich Co., Ltd., and Toa Gosei Co., Ltd., and can be easily synthesized by known methods.

本発明における膜形成用組成物には、一般式(CL)で表される化合物を2種以上組み合わせて用いてもよい。   In the film forming composition of the present invention, two or more compounds represented by the general formula (CL) may be used in combination.

本発明において、膜形成用組成物の全固形分100質量%のうち、一般式(SM)、(AM−1)、(AM−2)のいずれかで表される化合物の含有量が0〜85質量%が好ましく、0〜80質量%がより好ましく、0〜75質量%が特に好ましい。   In the present invention, the content of the compound represented by any one of the general formulas (SM), (AM-1), and (AM-2) in 100% by mass of the total solid content of the film-forming composition is 0 to 85 mass% is preferable, 0-80 mass% is more preferable, and 0-75 mass% is especially preferable.

本発明において、膜形成用組成物の全固形分100質量部に対し、一般式(SXL)、(AXL−1)または(AXL−2)で表される化合物の含有量が10〜95質量部が好ましく、30〜90質量部がより好ましく、35〜85質量部が特に好ましい。   In the present invention, the content of the compound represented by the general formula (SXL), (AXL-1) or (AXL-2) is 10 to 95 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total solid content of the film-forming composition. Is preferable, 30-90 mass parts is more preferable, and 35-85 mass parts is especially preferable.

本発明において、膜形成用組成物の全固形分100質量%のうち、一般式(CL)で表される化合物の含有量が1〜50質量%が好ましく、10〜40質量%がより好ましく、15〜30質量%が特に好ましい。   In the present invention, the content of the compound represented by the general formula (CL) is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 10 to 40% by mass, out of 100% by mass of the total solid content of the film-forming composition. 15-30 mass% is especially preferable.

本発明では、前記一般式(AM−1)で表される化合物は、前記一般式(AXL−1)または前記一般式(CL)で表される化合物と組み合わせて使用することが好ましい。
また、前記一般式(SM)で表される化合物は、前記一般式(SXL)で表される化合物と組み合わせて使用することが好ましい。
一方、前記一般式(AM−2)で表される化合物は、前記一般式(AXL−2)または前記一般式(CL)で表される化合物と組み合わせて使用することが好ましい。
In the present invention, the compound represented by the general formula (AM-1) is preferably used in combination with the compound represented by the general formula (AXL-1) or the general formula (CL).
Moreover, it is preferable to use the compound represented by the said general formula (SM) in combination with the compound represented by the said general formula (SXL).
On the other hand, the compound represented by the general formula (AM-2) is preferably used in combination with the compound represented by the general formula (AXL-2) or the general formula (CL).

ここで、置換基群αを説明する。
置換基群αは、以下の置換基からなる置換基の群である。
Here, the substituent group α will be described.
The substituent group α is a group of substituents composed of the following substituents.

(置換基群α)
置換基群αとして、アルキル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜10のアルキル基であり、例えばメチル、エチル、イソプロピル、t−ブチル、n−オクチル、2−エチルヘキシル、n−デシル、n−ヘキサデシル)、シクロアルキル基(好ましくは炭素数3〜30、より好ましくは炭素数3〜20、特に好ましくは炭素数3〜10のシクロアルキル基であり、例えばシクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10のアルケニル基であり、例えばビニル、アリル、2−ブテニル、3−ペンテニルなどが挙げられる。)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10のアルキニル基であり、例えばプロパルギル、3−ペンチニルなどが挙げられる。)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12のアリール基であり、例えばフェニル、p−メチルフェニル、ナフチル、アントラニルなどが挙げられる。)、アミノ基(アミノ基、アルキルアミノ基、アリ−ルアミノ基を含み、好ましくは炭素数0〜30、より好ましくは炭素数0〜20、特に好ましくは炭素数0〜10のアミノ基であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノ、ジフェニルアミノ、ジトリルアミノなどが挙げられる。)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜10のアルコキシ基であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ、2−エチルヘキシロキシなどが挙げられる。)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12のアリールオキシ基であり、例えばフェニルオキシ、1−ナフチルオキシ、2−ナフチルオキシなどが挙げられる。)、ヘテロ環オキシ基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜12のヘテロ環オキシ基であり、例えばピリジルオキシ、ピラジルオキシ、ピリミジルオキシ、キノリルオキシなどが挙げられる。)、
(Substituent group α)
As the substituent group α, an alkyl group (preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 10 carbon atoms, such as methyl, ethyl, isopropyl, and t-butyl. , N-octyl, 2-ethylhexyl, n-decyl, n-hexadecyl), a cycloalkyl group (preferably having 3 to 30 carbon atoms, more preferably 3 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 3 to 10 carbon atoms). Group, for example, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, etc.), an alkenyl group (preferably an alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms). For example, vinyl, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl, etc.), alkynyl groups (preferably An alkynyl group having 2 to 30 primes, more preferably 2 to 20 carbons, particularly preferably 2 to 10 carbons, and examples thereof include propargyl and 3-pentynyl, and aryl groups (preferably 6 to 6 carbons). 30, more preferably an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenyl, p-methylphenyl, naphthyl, anthranyl, etc.), amino group (amino group, alkyl group) An amino group and an arylamino group, preferably an amino group having 0 to 30 carbon atoms, more preferably 0 to 20 carbon atoms, particularly preferably 0 to 10 carbon atoms, such as amino, methylamino, dimethylamino, Diethylamino, dibenzylamino, diphenylamino, ditolylamino, etc.), alkoxy groups (preferably An alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 10 carbon atoms, and examples thereof include methoxy, ethoxy, butoxy, 2-ethylhexyloxy and the like. Group (preferably an aryloxy group having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, and examples thereof include phenyloxy, 1-naphthyloxy, 2-naphthyloxy and the like. And a heterocyclic oxy group (preferably a heterocyclic oxy group having 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, such as pyridyloxy, pyrazyloxy, pyrimidyloxy, Quinolyloxy, etc.)

アシル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12のアシル基であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜30、より好ましくは炭素数7〜20、特に好ましくは炭素数7〜12のアリールオキシカルボニル基であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10のアシルオキシ基であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。)、 An acyl group (preferably an acyl group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include acetyl, benzoyl, formyl, pivaloyl, etc.), alkoxy A carbonyl group (preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, such as methoxycarbonyl and ethoxycarbonyl), aryloxy A carbonyl group (preferably an aryloxycarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms, more preferably 7 to 20 carbon atoms, particularly preferably 7 to 12 carbon atoms, such as phenyloxycarbonyl), an acyloxy group ( Preferably 2-30 carbons, more preferably 2-20 carbons, especially preferred. Or an acyloxy group having 2 to 10 carbon atoms such as acetoxy and benzoyloxy), an acylamino group (preferably having 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, and particularly preferably carbon number). 2-10 acylamino groups such as acetylamino and benzoylamino).

アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜12のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜30、より好ましくは炭素数7〜20、特に好ましくは炭素数7〜12のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。)、スルファモイル基(スルファモイル基、アルキルもしくはアリールスルファモイル基を含み、好ましくは炭素数0〜30、より好ましくは炭素数0〜20、特に好ましくは炭素数0〜12のスルファモイル基であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。)、 An alkoxycarbonylamino group (preferably an alkoxycarbonylamino group having 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, such as methoxycarbonylamino), aryl Oxycarbonylamino group (preferably an aryloxycarbonylamino group having 7 to 30 carbon atoms, more preferably 7 to 20 carbon atoms, particularly preferably 7 to 12 carbon atoms, and examples thereof include phenyloxycarbonylamino group). , Alkyl or arylsulfonylamino group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include methanesulfonylamino and benzenesulfonylamino). Sulfamoyl group (sulfamoyl group) An alkyl or aryl sulfamoyl group, preferably a sulfamoyl group having 0 to 30 carbon atoms, more preferably 0 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 0 to 12 carbon atoms, such as sulfamoyl, methylsulfamoyl, Dimethylsulfamoyl, phenylsulfamoyl, etc.),

カルバモイル基(カルバモイル基、アルキルもしくはアリールカルバモイル基を含み、好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12のカルバモイル基であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12のアルキルチオ基であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12のアリールチオ基であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。)、ヘテロ環チオ基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜12のヘテロ環チオ基であり、例えばピリジルチオ、2−ベンズイミゾリルチオ、2−ベンズオキサゾリルチオ、2−ベンズチアゾリルチオなどが挙げられる。)、 A carbamoyl group (including a carbamoyl group, an alkyl or arylcarbamoyl group, preferably a carbamoyl group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as carbamoyl, methylcarbamoyl , Diethylcarbamoyl, phenylcarbamoyl, etc.), an alkylthio group (preferably an alkylthio group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as methylthio, Ethylthio etc.), an arylthio group (preferably an arylthio group having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenylthio). A heterocyclic thio group (preferably having 2 to 3 carbon atoms) More preferably a heterocyclic thio group having 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, such as pyridylthio, 2-benzimidazolylthio, 2-benzoxazolylthio, 2-benzthiazolylthio and the like. ),

アルキルもしくはアリールスルホニル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12のアルキルもしくはアリールスルホニル基であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。)、アルキルもしくはアリールスルフィニル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12のアルキルもしくはアリールスルフィニル基であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12のウレイド基であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12のリン酸アミド基であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。)、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子であり、より好ましくはフッ素原子が挙げられる)、 An alkyl or arylsulfonyl group (preferably an alkyl or arylsulfonyl group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include mesyl and tosyl). An alkyl or arylsulfinyl group (preferably an alkyl or arylsulfinyl group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as methanesulfinyl, benzenesulfinyl, etc. Ureido group (preferably a ureido group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include ureido, methylureido, and phenylureido. ), Phosphoric acid amide groups (preferably carbon A phosphoric acid amide group having 1 to 30, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as diethyl phosphoric acid amide and phenyl phosphoric acid amide)), hydroxy group, mercapto A group, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, more preferably a fluorine atom),

シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、オキソ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜12のヘテロ環基であり、環構成ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子が好ましく、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、チエニル、ピペリジル、モルホリノ、ベンズオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリル、カルバゾリル基、アゼピニル基などが挙げられる。)、シリル基(好ましくは炭素数3〜40、より好ましくは炭素数3〜30、特に好ましくは炭素数3〜24のシリル基であり、例えばトリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる。)、シリルオキシ基(好ましくは炭素数3〜40、より好ましくは炭素数3〜30、特に好ましくは炭素数3〜24のシリルオキシ基であり、例えばトリメチルシリルオキシ、トリフェニルシリルオキシなどが挙げられる。)などが挙げられる。 A cyano group, a sulfo group, a carboxyl group, an oxo group, a nitro group, a hydroxamic acid group, a sulfino group, a hydrazino group, an imino group, and a heterocyclic group (preferably having a carbon number of 1 to 30, more preferably a heterocyclic group having 1 to 12 carbon atoms) A ring group, and the ring-constituting hetero atom is preferably, for example, a nitrogen atom, an oxygen atom, or a sulfur atom. Specifically, for example, imidazolyl, pyridyl, quinolyl, furyl, thienyl, piperidyl, morpholino, benzoxazolyl, benzimidazolyl , Benzthiazolyl, carbazolyl group, azepinyl group, etc.), silyl group (preferably a silyl group having 3 to 40 carbon atoms, more preferably 3 to 30 carbon atoms, particularly preferably 3 to 24 carbon atoms, Trimethylsilyl, triphenylsilyl, etc.), silyloxy groups (preferably Ku 3 to 40 carbon atoms, more preferably 3 to 30 carbon atoms, particularly preferably a silyloxy group having 3 to 24 carbon atoms, for example trimethylsilyloxy, etc. triphenylsilyl oxy and the like.) And the like.

これらの置換基は、更に上記置換基群αより選択されるいずれか1つ以上の置換基により置換されてもよい。
なお、本発明において、1つの構造部位に複数の置換基があるときには、それらの置換基は互いに連結して環を形成していたり、上記構造部位の一部又は全部と縮環して芳香族環もしくは不飽和複素環を形成していたりしてもよい。
These substituents may be further substituted with any one or more substituents selected from the above substituent group α.
In the present invention, when one structural site has a plurality of substituents, these substituents are connected to each other to form a ring, or condensed with a part or all of the above structural sites to form an aromatic group. A ring or an unsaturated heterocyclic ring may be formed.

<その他の成分>
本発明の高分子機能性膜の膜形成用組成物は、必要に応じてさらに、溶媒および重合禁止剤等を含有してもよい。
<Other ingredients>
The composition for forming a polymer functional film of the present invention may further contain a solvent, a polymerization inhibitor and the like, if necessary.

(溶媒)
本発明における膜形成用組成物は溶媒を含有していてもよい。
本発明において、前記膜形成用組成物中の溶媒の含有量は、全膜形成用組成物100質量部に対し、5〜60質量部が好ましく、10〜40質量部がより好ましい。
溶媒の含有量をこの範囲にすることで、膜形成用組成物の粘度が上昇することなく、均一な膜を製造できる。また、ピンホール(微小な欠陥穴)の発生が抑えられる。
(solvent)
The film-forming composition in the present invention may contain a solvent.
In the present invention, the content of the solvent in the film-forming composition is preferably 5 to 60 parts by mass and more preferably 10 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total film-forming composition.
By setting the content of the solvent within this range, a uniform film can be produced without increasing the viscosity of the film-forming composition. In addition, the occurrence of pinholes (fine defect holes) can be suppressed.

溶媒は、水に対する溶解度が5質量%以上であるものが好ましく用いられ、さらには水に対して自由に混合するものが好ましい。このため、水および水溶性溶媒から選択される溶媒が好ましい。水溶性溶媒としては、特に、アルコール系溶媒、非プロトン性極性溶媒であるエーテル系溶媒、アミド系溶媒、ケトン系溶媒、スルホキシド系溶媒、スルホン系溶媒、二トリル系溶媒、有機リン系溶媒が好ましい。水およびアルコール系溶媒が好ましく、アルコール系溶媒としては例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコールなどが挙げられる。アルコール系溶媒の中では、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、エチレングリコールがより好ましく、イソプロパノールが特に好ましい。これらは1種類単独または2種類以上を併用して用いることができる。水単独または水と水溶性溶媒の併用が好ましく、水単独または水と少なくとも一つのアルコール系溶媒の併用がより好ましい。水と水溶性溶媒の併用においては、水100質量%に対し、イソプロパノール0.1〜50%が好ましく、10〜45%がより好ましく、15〜40%がさらに好ましい。
また、非プロトン性極性溶媒としては、ジメチルスルホキシド、ジメチルイミダゾリジノン、スルホラン、N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、アセトン、ジオキサン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホロトリアミド、ピリジン、プロピオニトリル、ブタノン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、エチレングリコールジアセテート、γ−ブチロラクトン等が好ましい溶媒として挙げられ、中でもジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルイミダゾリジノン、スルホラン、アセトン又はアセトニトリル、テトラヒドロフランが好ましい。これらは1種類単独または2種類以上を併用して用いることができる。
As the solvent, a solvent having a solubility in water of 5% by mass or more is preferably used, and a solvent that is freely mixed in water is preferable. For this reason, a solvent selected from water and a water-soluble solvent is preferred. As the water-soluble solvent, alcohol solvents, ether solvents that are aprotic polar solvents, amide solvents, ketone solvents, sulfoxide solvents, sulfone solvents, nitrile solvents, and organic phosphorus solvents are particularly preferable. . Water and alcohol solvents are preferred. Examples of alcohol solvents include methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol and the like. Among alcohol solvents, ethanol, isopropanol, n-butanol, and ethylene glycol are more preferable, and isopropanol is particularly preferable. These can be used alone or in combination of two or more. Water alone or a combination of water and a water-soluble solvent is preferred, and water alone or a combination of water and at least one alcohol solvent is more preferred. In the combined use of water and a water-soluble solvent, isopropanol is preferably 0.1 to 50%, more preferably 10 to 45%, and still more preferably 15 to 40% with respect to 100% by mass of water.
Examples of aprotic polar solvents include dimethyl sulfoxide, dimethyl imidazolidinone, sulfolane, N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, acetonitrile, acetone, dioxane, tetramethylurea, hexamethylphosphorotriamide, pyridine, propionitrile, Preferred examples of the solvent include butanone, cyclohexanone, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, ethylene glycol diacetate, and γ-butyrolactone. Among them, dimethylsulfoxide, N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, dimethylimidazolidinone, sulfolane, acetone or acetonitrile, and tetrahydrofuran are preferable. preferable. These can be used alone or in combination of two or more.

(重合禁止剤)
本発明における膜形成用組成物は、膜を形成する際の塗布液に安定性を付与するために、重合禁止剤を含むことも好ましい。
重合禁止剤としては、公知の重合禁止剤が使用でき、フェノール化合物、ハイドロキノン化合物、アミン化合物、メルカプト化合物などが挙げられる。
フェノール化合物としては、ヒンダードフェノール(オルト位にt−ブチル基を有するフェノールで、代表的には、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノールが挙げられる)、ビスフェノールが挙げられる。ハイドロキノン化合物の具体例としては、モノメチルエーテルハイドロキノンが挙げられる。また、アミン化合物の具体例としては、N−ニトロソ―N−フェニルヒドロキシルアミン、N,N−ジエチルヒドロキシルアミン等が挙げられる。また、脂肪族ヘテロ環化合物の具体例としては、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルが挙げられる。
なお、これらの重合禁止剤は、1種単独または2種以上を組み合わせて使用しても良い。
重合禁止剤の含有量は、膜形成用組成物中の全固形分質量100質量部に対し、0.01〜5質量部が好ましく、0.01〜1質量部がより好ましく、0.01〜0.5質量部がさらに好ましい。
(Polymerization inhibitor)
The film-forming composition in the present invention also preferably contains a polymerization inhibitor in order to impart stability to the coating solution when forming a film.
As a polymerization inhibitor, a well-known polymerization inhibitor can be used, and a phenol compound, a hydroquinone compound, an amine compound, a mercapto compound, etc. are mentioned.
Examples of the phenol compound include hindered phenols (phenols having a t-butyl group in the ortho position, typically 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol) and bisphenols. Specific examples of the hydroquinone compound include monomethyl ether hydroquinone. Specific examples of the amine compound include N-nitroso-N-phenylhydroxylamine and N, N-diethylhydroxylamine. Specific examples of the aliphatic heterocyclic compound include 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl.
These polymerization inhibitors may be used singly or in combination of two or more.
The content of the polymerization inhibitor is preferably 0.01 to 5 parts by mass, more preferably 0.01 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the total solid content in the film-forming composition, and 0.01 to 0.5 parts by mass is more preferable.

(界面活性剤)
本発明における膜形成用組成物には、膜物性を調整するため、各種高分子化合物を添加することもできる。高分子化合物としては、アクリル系重合体、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、シェラック、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ワックス類、その他の天然樹脂等が使用できる。また、これらは2種以上併用してもかまわない。
また、液物性調整のためにノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤や、有機フルオロ化合物などを添加することもできる。
(Surfactant)
Various polymer compounds may be added to the film-forming composition in the present invention in order to adjust film physical properties. High molecular compounds include acrylic polymers, polyurethane resins, polyamide resins, polyester resins, epoxy resins, phenol resins, polycarbonate resins, polyvinyl butyral resins, polyvinyl formal resins, shellac, vinyl resins, acrylic resins, rubber resins. Waxes and other natural resins can be used. Two or more of these may be used in combination.
Further, nonionic surfactants, cationic surfactants, organic fluoro compounds, and the like can be added to adjust liquid properties.

界面活性剤の具体例としては、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、高級脂肪酸塩、高級脂肪酸エステルのスルホン酸塩、高級アルコールエーテルの硫酸エステル塩、高級アルコールエーテルのスルホン酸塩、高級アルキルスルホンアミドのアルキルカルボン酸塩、アルキルリン酸塩などのアニオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、アセチレングリコールのエチレンオキサイド付加物、グリセリンのエチレンオキサイド付加物、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルなどの非イオン性界面活性剤、また、この他にもアルキルベタインやアミドベタインなどの両性界面活性剤、シリコン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤などを含めて、従来公知である界面活性剤及びその誘導体から適宜選ぶことができる。   Specific examples of the surfactant include alkylbenzene sulfonate, alkylnaphthalene sulfonate, higher fatty acid salt, sulfonate of higher fatty acid ester, sulfate ester of higher alcohol ether, sulfonate of higher alcohol ether, higher alkyl Anionic surfactants such as alkyl carboxylates of sulfonamides, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene fatty acid esters, sorbitan fatty acid esters, ethylene oxide adducts of acetylene glycol, Nonionic surfactants such as ethylene oxide adducts of glycerin and polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters, and other amphoteric interfaces such as alkyl betaines and amide betaines Sexual agents, silicone surface active agent, including a fluorine-based surfactant, can be appropriately selected from surfactants and derivatives thereof are known.

(高分子分散剤)
本発明における膜形成用組成物は高分子分散剤を含んでいてもよい。
高分子分散剤として、具体的にはポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリエチレンオキシド、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリアクリルアミド等が挙げられ、中でもポリビニルピロリドンを用いることも好ましい。
(Polymer dispersant)
The film-forming composition in the present invention may contain a polymer dispersant.
Specific examples of the polymer dispersant include polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl alcohol, polyvinyl methyl ether, polyethylene oxide, polyethylene glycol, polypropylene glycol, and polyacrylamide. Among them, polyvinyl pyrrolidone is also preferably used.

(アルカリ金属化合物)
本発明における膜形成用組成物は、モノマー、特にイオン性基を有さない一般式(CL)で表される化合物の溶解性を向上させるためにアルカリ金属化合物を含んでいてもよい。アルカリ金属化合物としては、リチウム、ナトリウム、カリウムの水酸化物塩、塩化物塩、硝酸塩等が好ましい。中でも、リチウム化合物がより好ましく、その具体例としては、水酸化リチウム、塩化リチウム、臭化リチウム、硝酸リチウム、ヨウ化リチウム、リチウム塩素酸塩、チオシアン酸リチウム、過塩素酸リチウム、リチウム・テトラフルオロボラート、リチウム・ヘキサフルオロホスファート、リチウム・ヘキサフルオロアルセナートが挙げられる。
ここで、アルカリ金属化合物は、膜形成用組成物、膜形成用組成物溶液混合物を中和するために使用することも好ましい。
これらのアルカリ金属化合物は水和物であってもよい。また、1種単独、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
アルカリ金属化合物を添加する場合の添加量は、膜形成用組成物中の全固形分質量100質量部に対し、0.1〜30質量部が好ましく、1〜30質量部がより好ましく、5〜25質量部がさらに好ましい。
(Alkali metal compound)
The film-forming composition in the present invention may contain an alkali metal compound in order to improve the solubility of the monomer, particularly the compound represented by the general formula (CL) having no ionic group. As the alkali metal compound, lithium, sodium, potassium hydroxide salt, chloride salt, nitrate salt and the like are preferable. Among them, lithium compounds are more preferable, and specific examples thereof include lithium hydroxide, lithium chloride, lithium bromide, lithium nitrate, lithium iodide, lithium chlorate, lithium thiocyanate, lithium perchlorate, lithium tetrafluoro Examples thereof include borate, lithium hexafluorophosphate, and lithium hexafluoroarsenate.
Here, the alkali metal compound is also preferably used for neutralizing the film-forming composition and the film-forming composition solution mixture.
These alkali metal compounds may be hydrates. Moreover, it can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
0.1-30 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of total solid content in the film forming composition, and the addition amount in the case of adding an alkali metal compound is more preferably 1-30 mass parts, More preferred is 25 parts by weight.

(クレーター防止剤)
クレーター防止剤とは、表面調整剤、レベリング剤またはスリップ剤とも称し、膜表面の凹凸を防止するものであり、例えば、有機変性ポリシロキサン(ポリエーテルシロキサンとポリエーテルの混合物)、ポリエーテル変性ポリシロキサンコポリマー、シリコン変性コポリマーの構造の化合物が挙げられる。
市販品としては、例えば、Evonik industries社製のTego Glide 432、同110、同110、同130、同406、同410、同411、同415、同420、同435、同440、同450、同482、同A115、同B1484、同ZG400(いずれも商品名)が挙げられる。
クレーター防止剤は、膜形成用組成物中の全固形分質量100質量部に対し、0〜10質量部が好ましく、0〜5質量部がより好ましく、1〜2質量部がさらに好ましい。
(Anti-crater agent)
Anti-crater agent is also called surface conditioner, leveling agent or slip agent, and prevents unevenness on the film surface. For example, organic modified polysiloxane (mixture of polyether siloxane and polyether), polyether modified poly Examples thereof include compounds having a structure of siloxane copolymer or silicon-modified copolymer.
Examples of commercially available products include, for example, Tego Glide 432, 110, 110, 130, 406, 410, 411, 415, 420, 435, 440, 450, and the like manufactured by Evonik Industries. 482, A115, B1484, and ZG400 (all are trade names).
The crater inhibitor is preferably 0 to 10 parts by mass, more preferably 0 to 5 parts by mass, and still more preferably 1 to 2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total solid content in the film-forming composition.

上記以外に、本発明における膜形成用組成物は必要により、例えば、粘度向上剤、防腐剤を含有してもよい。   In addition to the above, the film-forming composition in the present invention may contain, for example, a viscosity improver and a preservative, if necessary.

<支持体>
とりわけ良好な機械的強度を有する本発明の膜を提供するために、多くの技術を用いることができる。例えば、膜の補強材料として支持体を用いることができ、好ましくは多孔質支持体を使用することができる。この多孔質支持体は、前記膜形成用組成物を塗布およびまたは含浸させた後重合硬化反応させることにより膜の一部を構成することができる。
補強材料としての多孔質支持体としては、例えば、合成織布または合成不織布、スポンジ状フィルム、微細な貫通孔を有するフィルム等が挙げられる。本発明の多孔質支持体を形成する素材は、例えば、ポリオレフィン(ポリエチレン、ポリプロピレンなど)、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリアミドおよびそれらのコポリマーであるか、あるいは、例えばポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリイミド、ポリエーテルミド(polyethermide)、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリアクリロニトリル、ポリカーボネート、ポリアクリレート、酢酸セルロース、ポリプロピレン、ポリ(4−メチル−1−ペンテン)、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリヘキサフルオロプロピレン、ポリクロロトリフルオロエチレンおよびそれらのコポリマーに基づく多孔質膜であることができる。これらのうち、本発明では、ポリオレフィンが好ましい。
市販の多孔質支持体および補強材料は、例えば、日本バイリーンやFreudenbergFiltration Technologies(Novatexx材料)およびSefar AGから市販されている。
なお、多孔質支持体および補強材料は光重合硬化反応を行う場合は、照射光の波長領域を遮らない、すなわち、重合硬化に用いられる波長の照射を通過させることが要求されるが、熱重合硬化の場合は、この点を考慮する必要はない。また、多孔質補強材料は、膜形成用組成物が浸透することができるものであることが好ましい。
<Support>
Many techniques can be used to provide the membrane of the present invention having particularly good mechanical strength. For example, a support can be used as the membrane reinforcing material, and a porous support can be preferably used. This porous support can form a part of a membrane by applying and / or impregnating the membrane-forming composition and then carrying out a polymerization curing reaction.
Examples of the porous support as the reinforcing material include a synthetic woven fabric or synthetic nonwoven fabric, a sponge film, a film having fine through holes, and the like. The material forming the porous support of the present invention is, for example, polyolefin (polyethylene, polypropylene, etc.), polyacrylonitrile, polyvinyl chloride, polyester, polyamide and copolymers thereof, or, for example, polysulfone, polyethersulfone, Polyphenylene sulfone, polyphenylene sulfide, polyimide, polyetherimide, polyamide, polyamideimide, polyacrylonitrile, polycarbonate, polyacrylate, cellulose acetate, polypropylene, poly (4-methyl-1-pentene), polyvinylidene fluoride, polytetra A porous membrane based on fluoroethylene, polyhexafluoropropylene, polychlorotrifluoroethylene and their copolymers Door can be. Of these, polyolefins are preferred in the present invention.
Commercially available porous supports and reinforcement materials are commercially available from, for example, Japan Vilene, Freudenberg Filtration Technologies (Novatex material) and Separ AG.
When the porous support and the reinforcing material are subjected to a photopolymerization curing reaction, it is required not to block the wavelength region of the irradiation light, that is, to pass the irradiation of the wavelength used for the polymerization curing. This need not be considered in the case of curing. Moreover, it is preferable that the porous reinforcing material can be penetrated by the film-forming composition.

多孔質支持体は親水性を有することが好ましい。支持体に親水性を付与するための手法として、コロナ処理、オゾン処理、硫酸処理、シランカップリング剤処理などの一般的な方法を使用することができる。   The porous support preferably has hydrophilicity. As a method for imparting hydrophilicity to the support, general methods such as corona treatment, ozone treatment, sulfuric acid treatment, and silane coupling agent treatment can be used.

[高分子機能性膜の製造方法]
次に、本発明の高分子機能性膜の製造方法を説明する。
本発明の高分子機能性膜の製造方法は、前記本発明における膜形成用組成物を重合硬化反応させ膜を形成する。以下、本発明の高分子機能性膜の製造方法の一例を詳細に説明する。
本発明の高分子機能性膜は、固定された支持体を用いてバッチ式で調製(バッチ方式)することが可能であるが、移動する支持体を用いて連続式で膜を調製(連続方式)することもできる。支持体は、連続的に巻き戻されるロール形状でもよい。なお、連続方式の場合、連続的に動かされるベルト上に支持体を乗せ、膜形成用組成物である塗布液の連続的な塗布と重合硬化して膜を形成する工程を連続して行うことができる。ただし、塗布工程と膜形成工程の一方のみを連続的に行ってもよい。
なお、支持体と別に、膜形成用組成物を多孔質支持体に浸漬させ重合硬化反応が終わるまでの間、仮支持体(重合硬化反応終了後、仮支持体から膜を剥がす)を用いてもよい。
このような仮支持体は、物質透過を考慮する必要がなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムやアルミ板等の金属板を含め、膜形成のために固定できるものであれば、どのようなものでも構わない。
また、膜形成用組成物を多孔質支持体に浸漬させ、多孔質支持体以外の支持体を用いずに重合硬化させることもできる。
[Method for producing polymer functional film]
Next, the manufacturing method of the polymeric functional film of this invention is demonstrated.
In the method for producing a functional polymer film of the present invention, the film-forming composition of the present invention is polymerized and cured to form a film. Hereinafter, an example of the manufacturing method of the polymeric functional film of this invention is demonstrated in detail.
The polymer functional membrane of the present invention can be prepared in a batch system using a fixed support (batch system), but it can be prepared in a continuous system using a moving support (continuous system). ). The support may be in the form of a roll that is continuously rewound. In the case of the continuous method, a support is placed on a belt that is continuously moved, and a process of continuously applying a coating liquid that is a film forming composition and polymerizing and curing to form a film is continuously performed. Can do. However, only one of the coating process and the film forming process may be performed continuously.
Separately from the support, a temporary support (the film is peeled off from the temporary support after the completion of the polymerization and curing reaction) is used until the film-forming composition is immersed in the porous support and the polymerization and curing reaction is completed. Also good.
Such a temporary support does not need to consider material permeation, and includes any metal plate such as a polyethylene terephthalate (PET) film or an aluminum plate that can be fixed for film formation. It does n’t matter.
Alternatively, the film-forming composition can be immersed in a porous support and polymerized and cured without using a support other than the porous support.

上記膜形成用組成物は、種々の方法、例えば、カーテンコーティング、押し出しコーティング、エアナイフコーティング、スライドコーティング、ニップロールコーティング、フォワードロールコーティング、リバースロールコーティング、浸漬コーティング、キスコーティング、ロッドバーコーティングまたは噴霧コーティングにより、多孔質支持体に塗布もしくは浸漬することができる。複数の層の塗布は、同時または連続して行うことができる。同時重層塗布するには、カーテンコーティング、スライドコーティング、スロットダイコーティングおよび押し出しコーティングが好ましい。   The film-forming composition can be applied by various methods, such as curtain coating, extrusion coating, air knife coating, slide coating, nip roll coating, forward roll coating, reverse roll coating, dip coating, kiss coating, rod bar coating or spray coating. It can be applied or immersed in a porous support. Multiple layers can be applied simultaneously or sequentially. For simultaneous multi-layer application, curtain coating, slide coating, slot die coating and extrusion coating are preferred.

高分子機能性膜の連続方式での製造は、上記膜形成用組成物を、移動している支持体に連続的に、より好ましくは、膜形成用組成物塗布部と、該膜形成用組成物を重合硬化するための照射源と、形成された膜を収集する膜収集部と、支持体を前記膜形成用組成物塗布部から照射源および膜収集部に移動させるための手段とを含む製造ユニットにより製造する。   The production of the polymer functional film in a continuous manner is carried out by continuously applying the film-forming composition to the moving support, more preferably, the film-forming composition application part and the film-forming composition. An irradiation source for polymerizing and curing the product, a film collecting unit for collecting the formed film, and a means for moving the support from the film forming composition application unit to the irradiation source and the film collecting unit Manufactured by a manufacturing unit.

本製造例では、(i)本発明における膜形成用組成物を多孔質支持体に塗布およびまたは含浸し(ii)当該膜形成用組成物を光照射、必要な場合これに加えてさらに加熱により重合硬化反応し、(iii)所望により膜を支持体から取り外す、という過程を経て本発明の高分子機能性膜が作成される。
なお、前記(ii)において、加熱は光照射と同時に行ってもよく、また、光照射により形成後の膜に対して行なってもよい。さらに、前記(ii)は加熱による重合硬化反応としてもよいが、光照射による重合硬化反応が好ましい。
In this production example, (i) the film-forming composition of the present invention is applied to and / or impregnated on a porous support, and (ii) the film-forming composition is irradiated with light, and if necessary, further heated. The polymer functional film of the present invention is produced through a process of polymerizing and curing, and (iii) removing the film from the support if desired.
In (ii), heating may be performed simultaneously with light irradiation, or may be performed on a film formed by light irradiation. Furthermore, the above (ii) may be a polymerization curing reaction by heating, but a polymerization curing reaction by light irradiation is preferred.

[エネルギー線照射]
前記製造ユニットでは、前記膜形成用組成物塗布部は照射源に対し上流の位置に設け、照射源は前記収集部に対し上流の位置に置かれる。
高速塗布機で塗布する際に十分な流動性を有するために、本発明における膜形成用組成物の35℃での粘度は、4,000mPa・s未満が好ましく、1〜1,000mPa・sがより好ましく、1〜500mPa.sが最も好ましい。スライドビードコーティングの場合に35℃での粘度は1〜100mPa・sが好ましい。
[Energy beam irradiation]
In the manufacturing unit, the film-forming composition application unit is provided at a position upstream of the irradiation source, and the irradiation source is positioned at an upstream position of the collection unit.
In order to have sufficient fluidity when applied with a high-speed coater, the viscosity at 35 ° C. of the film-forming composition in the present invention is preferably less than 4,000 mPa · s, and preferably 1 to 1,000 mPa · s. More preferably, 1 to 500 mPa.s. s is most preferred. In the case of slide bead coating, the viscosity at 35 ° C. is preferably 1 to 100 mPa · s.

高速塗布機では、本発明における膜形成用組成物である塗布液を、15m/分を超える速度で、移動する支持体に塗布することができ、400m/分を超える速度で塗布することもできる。   In the high-speed coating machine, the coating liquid that is the film forming composition in the present invention can be applied to the moving support at a speed exceeding 15 m / min, and can also be applied at a speed exceeding 400 m / min. .

特に機械的強度を高めるために支持体を使用する場合、本発明における膜形成用組成物を支持体の表面に塗布する前に、この支持体を、例えば支持体の湿潤性および付着力を改善するために、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理などに付してもよい。   In particular, when a support is used to increase the mechanical strength, before applying the film-forming composition of the present invention to the surface of the support, the support is improved, for example, the wettability and adhesion of the support. Therefore, it may be subjected to corona discharge treatment, glow discharge treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation treatment, and the like.

本発明における膜形成用組成物の重合硬化は、該膜形成用組成物を支持体に塗布もしくは含浸して、好ましくは60秒以内、より好ましくは15秒以内、特に5秒以内、最も好ましくは3秒以内に開始する。
重合硬化の光照射は、好ましくは10秒未満、より好ましくは5秒未満、特に好ましくは3秒未満、最も好ましくは2秒未満である。連続法では照射を連続的に行い、膜形成用組成物が照射ビームを通過して移動する速度を考慮して、重合硬化反応時間を決める。
The polymerization and curing of the film-forming composition in the present invention is preferably performed within 60 seconds, more preferably within 15 seconds, particularly preferably within 5 seconds, and most preferably after coating or impregnating the film-forming composition on a support. Start within 3 seconds.
The light irradiation for polymerization curing is preferably less than 10 seconds, more preferably less than 5 seconds, particularly preferably less than 3 seconds, and most preferably less than 2 seconds. In the continuous method, irradiation is continuously performed, and the polymerization curing reaction time is determined in consideration of the speed at which the film-forming composition moves through the irradiation beam.

強度の高い紫外線(UV光)を重合硬化反応に用いる場合、かなりの量の熱が発生するため、過熱を防ぐために、光源のランプおよび/または支持体/膜を冷却用空気などで冷却することが好ましい。著しい線量の赤外線(IR光)がUVビームと一緒に照射される場合、IR反射性石英プレートをフィルターにしてUV光を照射する。   When high intensity ultraviolet rays (UV light) are used in the polymerization curing reaction, a considerable amount of heat is generated, and therefore the lamp of the light source and / or the support / film is cooled with cooling air or the like to prevent overheating. Is preferred. When a significant dose of infrared (IR light) is irradiated with the UV beam, the UV light is irradiated using an IR reflective quartz plate as a filter.

エネルギー線は紫外線が好ましい。照射波長は、膜形成用組成物中に包含される任意の光重合開始剤の吸収波長と波長が適合することが好ましく、例えばUV−A(400〜320nm)、UV−B(320〜280nm)、UV−C(280〜200nm)である。   The energy rays are preferably ultraviolet rays. The irradiation wavelength is preferably matched with the absorption wavelength of any photopolymerization initiator included in the film-forming composition, for example, UV-A (400 to 320 nm), UV-B (320 to 280 nm). , UV-C (280-200 nm).

紫外線源は、水銀アーク灯、炭素アーク灯、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、旋回流プラズマアーク灯、金属ハロゲン化物灯、キセノン灯、タングステン灯、ハロゲン灯、レーザーおよび紫外線発光ダイオードである。中圧または高圧水銀蒸気タイプの紫外線発光ランプがとりわけ好ましい。これに加えて、ランプの発光スペクトルを改変するために、金属ハロゲン化物などの添加剤が存在していてもよい。200〜450nmに発光極大を有するランプがとりわけ適している。   Ultraviolet sources are mercury arc lamps, carbon arc lamps, low pressure mercury lamps, medium pressure mercury lamps, high pressure mercury lamps, swirling flow plasma arc lamps, metal halide lamps, xenon lamps, tungsten lamps, halogen lamps, lasers and ultraviolet light emitting diodes. Medium pressure or high pressure mercury vapor type UV lamps are particularly preferred. In addition, additives such as metal halides may be present to modify the emission spectrum of the lamp. Particularly suitable are lamps having an emission maximum between 200 and 450 nm.

照射源のエネルギー出力は、好ましくは20〜1000W/cm、好ましくは40〜500W/cmであるが、所望の暴露線量を実現することができるならば、これより高くても低くても構わない。暴露強度により、膜の重合硬化を調整する。暴露線量は、High Energy UV Radiometer(EIT−Instrument Markets製のUV Power PuckTM)により、該装置で示されたUV−A範囲で測定して、好ましくは少なくとも40mJ/cm以上、より好ましくは100〜2,000mJ/cm、もっとも好ましくは150〜1,500mJ/cmである。暴露時間は自由に選ぶことができるが、短いことが好ましく、最も好ましくは2秒未満である。 The energy output of the irradiation source is preferably 20 to 1000 W / cm, preferably 40 to 500 W / cm, but may be higher or lower as long as a desired exposure dose can be realized. The polymerization hardening of the film is adjusted according to the exposure strength. The exposure dose is preferably measured by the High Energy UV Radiometer (UV Power Pack manufactured by EIT-Instrument Markets) in the UV-A range indicated by the apparatus, and is preferably at least 40 mJ / cm 2 or more, more preferably 100 or more. ˜2,000 mJ / cm 2 , most preferably 150 to 1,500 mJ / cm 2 . The exposure time can be chosen freely, but is preferably short and most preferably less than 2 seconds.

なお、塗布速度が速い場合、必要な暴露線量を得るために、複数の光源を使用しても構わない。この場合、複数の光源は暴露強度が同じでも異なってもよい。   When the application speed is high, a plurality of light sources may be used to obtain a necessary exposure dose. In this case, the plurality of light sources may have the same or different exposure intensity.

本発明の高分子機能性膜は、イオン交換、逆浸透、正浸透、ガス分離等を行うために用いることができる。以下、本発明の好ましい実施形態について、前記高分子機能性膜がイオン交換膜としての機能を有する場合を例に挙げて説明する。   The polymer functional membrane of the present invention can be used for ion exchange, reverse osmosis, forward osmosis, gas separation and the like. Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described by taking as an example the case where the polymer functional membrane has a function as an ion exchange membrane.

<厚さ>
本発明の高分子機能性膜は、イオン交換膜であることが好ましい。
本発明の膜の厚さは、支持体を有する場合は支持体を含めた膜厚であり、500μmより大きく1,000μ以下である。
本発明では、膜の厚さは510〜990μmが好ましく、530〜980μmがより好ましく、530〜900μmがさらに好ましく、530〜700μmがなかでも好ましい。
<Thickness>
The polymer functional membrane of the present invention is preferably an ion exchange membrane.
The thickness of the film of the present invention is the film thickness including the support when it has a support, and is greater than 500 μm and 1,000 μm or less.
In the present invention, the thickness of the film is preferably 510 to 990 μm, more preferably 530 to 980 μm, further preferably 530 to 900 μm, and particularly preferably 530 to 700 μm.

<イオン交換容量>
本発明の高分子機能性膜は、膜または、支持体を有する場合は膜と多孔質支持体などの任意の多孔質補強材料の全乾燥質量に基づき、2.0meq/g〜7.0meq/gであり、2.5meq/g〜7.0meq/gが好ましく、3.0meq/g〜7.0meq/gがより好ましい。
<Ion exchange capacity>
The polymer functional membrane of the present invention is based on the total dry mass of any porous reinforcing material such as a membrane, or a membrane and a porous support when having a support, and 2.0 meq / g to 7.0 meq / g, preferably 2.5 meq / g to 7.0 meq / g, more preferably 3.0 meq / g to 7.0 meq / g.

<電荷密度>
本発明の膜は、乾燥膜の面積に基づき、好ましくは45meq/m以上、より好ましくは60meq/m以上、特に好ましくは75meq/m以上の電荷密度を有する。電荷密度の上限に特に制限はないが、1,750meq/m以下であることが実際的である。
<Charge density>
Film of the present invention is based on the area of the dry film, preferably 45meq / m 2 or more, more preferably 60 meq / m 2 or more, particularly preferably a 75 mEq / m 2 or more charge density. The upper limit of the charge density is not particularly limited, but it is practical that it is 1,750 meq / m 2 or less.

<選択透過性>
本発明の高分子機能性膜(アニオン交換膜)のClなどのアニオンの選択透過性は、好ましくは0.90を超え、より好ましくは0.93を超え、0.95を超え、理論値の1.0に近づくことが特に好ましい。
一方、本発明の高分子機能性膜(カチオン交換膜)において、Naなどのカチオンの選択透過性は、好ましくは0.9を超え、より好ましくは0.93を超え、特に好ましくは0.95を超え、最も好ましくは0.96を超える。
<Selective permeability>
The selective permeability of anions such as Cl 2 of the polymer functional membrane (anion exchange membrane) of the present invention is preferably more than 0.90, more preferably more than 0.93, more than 0.95, It is particularly preferable that the value approaches 1.0.
On the other hand, in the polymer functional membrane (cation exchange membrane) of the present invention, the selective permeability of cations such as Na + is preferably more than 0.9, more preferably more than 0.93, and particularly preferably 0.8. Greater than 95, most preferably greater than 0.96.

<電気抵抗>
本発明の高分子機能性膜の電気抵抗(膜抵抗)は、2.8Ω・cm未満が好ましく、2.0Ω・cm未満がより好ましく、1.8Ω・cm未満が特に好ましい。電気抵抗は低いほど好ましく、実現できる範囲で最も低い値とすることが本発明の効果を奏する上で好ましい。電気抵抗の下限に特に制限はないが、0.1Ω・cm以上であることが実際的である。
<Electrical resistance>
The electrical resistance of the polymer functional film of the present invention (film resistor) is preferably less than 2.8Ω · cm 2, more preferably less than 2.0Ω · cm 2, less than 1.8Ω · cm 2 is particularly preferred. The lower the electrical resistance, the better, and the lowest value in the realizable range is preferable for achieving the effects of the present invention. There is no particular limitation on the lower limit of the electrical resistance, but it is practical that it is 0.1 Ω · cm 2 or more.

<膨潤率>
本発明の高分子機能性膜の水中での膨潤率(膨潤による寸法変化率)は、好ましくは30%未満、より好ましくは15%未満、特に好ましくは8%未満である。膨潤率は、重合硬化段階で重合硬化条件を選択することにより制御することができる。
<Swelling rate>
The swelling ratio (rate of dimensional change due to swelling) of the functional polymer film of the present invention in water is preferably less than 30%, more preferably less than 15%, and particularly preferably less than 8%. The swelling rate can be controlled by selecting polymerization curing conditions in the polymerization curing stage.

<電気抵抗、選択透過性および水中での膨潤率の測定法>
電気抵抗、選択透過性および水中での膨潤率%は、例えば、Membrane Science,319,217〜218(2008)、中垣正幸著,膜学実験法,193〜195頁(1984)に記載されている方法により測定することができる。
<Measurement of electrical resistance, selective permeability and swelling ratio in water>
Electrical resistance, permselectivity and% swelling in water are described, for example, in Membrane Science, 319, 217-218 (2008), Masayuki Nakagaki, Membrane Experimental Method, pages 193-195 (1984). It can be measured by the method.

<透水率>
本発明の高分子機能性膜の透水率は、3×10−5ml/m/Pa/hr以下が好ましく、2.5×10−5ml/m/Pa/hr以下がより好ましく、2×10−5ml/m/Pa/hr以下が特に好ましい。透水率の下限に特に制限はないが、低いほど好ましくいものの、1×10−5ml/m/Pa/hr以上であることが実際的である。
さらに、アルカリ浸漬や摩擦等の刺激に対して透水率の変化率が小さいほうが良く、変化率の変動幅は、2×10−5ml/m/Pa/hr以下が好ましく、1.5×10−5ml/m/Pa/hr以下がより好ましく、1×10−5ml/m/Pa/hr以下が特に好ましい。
<Water permeability>
The water permeability of the polymer functional membrane of the present invention is preferably 3 × 10 −5 ml / m 2 / Pa / hr or less, more preferably 2.5 × 10 −5 ml / m 2 / Pa / hr or less, 2 × 10 −5 ml / m 2 / Pa / hr or less is particularly preferable. Although there is no restriction | limiting in particular in the minimum of a water permeability, Although it is so preferable that it is low, it is practical that it is 1 * 10 < -5 > ml / m < 2 > / Pa / hr or more.
Furthermore, it is better that the change rate of the water permeability is small with respect to stimulation such as alkali immersion and friction, and the fluctuation range of the change rate is preferably 2 × 10 −5 ml / m 2 / Pa / hr or less, and 1.5 × 10 −5 ml / m 2 / Pa / hr or less is more preferable, and 1 × 10 −5 ml / m 2 / Pa / hr or less is particularly preferable.

<質量平均分子量>
本発明の高分子機能性膜を構成するポリマーの質量平均分子量は、三次元架橋が形成されているため数十万以上であり、実質的に測定できない。一般的には無限大とみなされる。
<Mass average molecular weight>
The mass average molecular weight of the polymer constituting the polymer functional film of the present invention is several hundred thousand or more because three-dimensional crosslinking is formed, and cannot be measured substantially. Generally considered as infinite.

本発明の高分子機能性膜は、特にイオン交換で使用することを主として意図している。しかしながら、本発明の高分子機能性膜はイオン交換に限定されるものではなく、逆浸透及びガス分離にも好適に用いることができると考えられる。   The polymer functional membrane of the present invention is mainly intended for use in particular in ion exchange. However, it is considered that the polymer functional membrane of the present invention is not limited to ion exchange and can be suitably used for reverse osmosis and gas separation.

以下、本発明を実施例に基づき、さらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「%」は質量基準である。
(多官能性モノマーの合成)
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated in detail based on an Example, this invention is not limited to these Examples. Unless otherwise specified, “part” and “%” are based on mass.
(Synthesis of multifunctional monomer)

(例示化合物AXL−1−3の合成)
下記合成スキームで合成した。
(Synthesis of Exemplary Compound AXL-1-3)
It was synthesized by the following synthesis scheme.

Figure 0006118284
Figure 0006118284

パラジクロロキシレン175g(1.00mol、東京化成製)、アセトニトリル1220g、メタノール244g、t−ブチルハイドロペルオキシド1g(東京化成製)の混合溶液に対し、N−[3−(ジメチルアミノプロピル)アクリルアミド]313g(2.00mol、東京化成製)を加え、50℃にて2時間加熱撹拌した。続いて、アセトン1220gを加え室温にて1時間撹拌し、生じた結晶を濾過して例示化合物AXL−1−3の白色結晶450g(収率92%)を得た。   313 g of N- [3- (dimethylaminopropyl) acrylamide] with respect to a mixed solution of 175 g of paradichloroxylene (1.00 mol, manufactured by Tokyo Chemical Industry), 1220 g of acetonitrile, 244 g of methanol, and 1 g of t-butyl hydroperoxide (produced by Tokyo Chemical Industry) (2.00 mol, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added and stirred with heating at 50 ° C. for 2 hours. Subsequently, 1220 g of acetone was added and stirred at room temperature for 1 hour, and the resulting crystals were filtered to obtain 450 g (yield 92%) of white crystals of the exemplary compound AXL-1-3.

(例示化合物AXL−1−4の合成)
下記合成スキームで合成した。
(Synthesis of Exemplified Compound AXL-1-4)
It was synthesized by the following synthesis scheme.

Figure 0006118284
Figure 0006118284

1,3−ジブロモプロパン80.8g(0.40mol、和光純薬製)、メトキシフェノール0.617g(和光純薬製)、アセトニトリル309ml、メタノール103mlの混合溶液に対し、N−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]アクリルアミド125g(0.80mol、和光純薬製)を加え、50℃にて7時間加熱撹拌した。続いてアセトン2.2Lを添加し、上澄みをデカンテーションにて除去した後、メトキシフェノール0.1g、水30gを添加し、35℃40mmHgで30分濃縮することで、例示化合物AXL−1−4の81%溶液188g(含水率19%、収率74%)を得た。   For a mixed solution of 1,3-dibromopropane 80.8 g (0.40 mol, Wako Pure Chemical Industries), methoxyphenol 0.617 g (Wako Pure Chemical Industries), acetonitrile 309 ml, methanol 103 ml, N- [3- (dimethyl Amino) propyl] acrylamide 125 g (0.80 mol, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added, and the mixture was heated and stirred at 50 ° C. for 7 hours. Subsequently, 2.2 L of acetone was added, and the supernatant was removed by decantation. Then, 0.1 g of methoxyphenol and 30 g of water were added, and the mixture was concentrated at 35 ° C. and 40 mmHg for 30 minutes, whereby exemplary compound AXL-1-4 188 g (water content 19%, yield 74%) was obtained.

(例示化合物SXL−1の合成)
クロロメチルスチレン321g(2.10mol、セイミケミカル製CMS−P)、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール1.30g(和光純薬製)、アセトニトリル433gの混合溶液に対し、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(1.00mol、和光純薬製)を加え、80℃にて15時間加熱撹拌した。
生じた結晶を濾過し、例示化合物SXL−1の白色結晶405g(収率97%)を得た。
(Synthesis of Exemplified Compound SXL-1)
For a mixed solution of 321 g of chloromethylstyrene (2.10 mol, CMS-P manufactured by Seimi Chemical Co., Ltd.), 1.30 g of 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries), and 433 g of acetonitrile, 1 , 4-diazabicyclo [2.2.2] octane (1.00 mol, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added, and the mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 15 hours.
The resulting crystals were filtered to obtain 405 g (yield 97%) of white crystals of exemplary compound SXL-1.

(例示化合物AXL−2−1の合成)
下記合成スキームで合成した。
(Synthesis of Exemplary Compound AXL-2-1)
It was synthesized by the following synthesis scheme.

Figure 0006118284
Figure 0006118284

5Lの三口フラスコに炭酸水素ナトリウム(和光純薬工業製、製品番号:195−01303)288.29g(3.43mol)、イオン交換水1,343mLを加えて、室温下で攪拌しているところに、4,4’−ベンジジン−2,2’−ジスルホン酸(東京化成工業製、製品番号:B0395)268.6g(0.78mol)を少しずつ加えた。室温下で30分攪拌した後、氷冷下に冷却し、攪拌を続けた。氷冷下で攪拌しているところに塩化アクリロイル(和光純薬工業製、製品番号:013−12485)138.7mL(1.53mol)を系内が10℃以下を保つように少しずつ滴下した。滴下終了後、氷冷却下で1時間、その後、室温下で3時間攪拌した。反応混合物にイソプロピルアルコール2,686mLを少しずつ加えて、生じた不溶物をろ過により取り除いた。得られたろ液を30Lのステンレスバケツに移し、室温下で攪拌しているところに、イソプロピルアルコール10,744mLを少しずつ加えた。得られた結晶をろ過し、その後、イソプロピルアルコール:水(5:1)の混合溶液1,074mLで結晶を洗浄し、目的の化合物AXL−2−1を339g(収率:87%)得た。カールフィッシャー法で測定した化合物AXL−2−1の含水率は15.8質量%であった。   To a 5 L three-necked flask, 288.29 g (3.43 mol) of sodium hydrogen carbonate (product number: 195-01303, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 1,343 mL of ion-exchanged water were added and stirred at room temperature. 4,4′-benzidine-2,2′-disulfonic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., product number: B0395), 268.6 g (0.78 mol) was added little by little. After stirring at room temperature for 30 minutes, the mixture was cooled under ice cooling and stirring was continued. 138.7 mL (1.53 mol) of acryloyl chloride (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, product number: 013-12485) was added dropwise little by little to keep the system at 10 ° C. or lower while stirring under ice cooling. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred for 1 hour under ice cooling and then for 3 hours at room temperature. To the reaction mixture, 2,686 mL of isopropyl alcohol was added little by little, and the resulting insoluble material was removed by filtration. The obtained filtrate was transferred to a 30 L stainless steel bucket, and 10,744 mL of isopropyl alcohol was added little by little while stirring at room temperature. The obtained crystals were filtered, and then washed with 1,074 mL of a mixed solution of isopropyl alcohol: water (5: 1) to obtain 339 g (yield: 87%) of the target compound AXL-2-1. . The water content of the compound AXL-2-1 measured by the Karl Fischer method was 15.8% by mass.

H−NMR(300MHz、DMSO−d6)δ・=10.3(s,2H),8.09(d、J=2.4Hz、2H),7.71(dd,J=2.4、8.4Hz、2H),7.16(d,J=8.4Hz、2H),7.71(dd,J=2.4、8.4Hz、2H) 1 H-NMR (300 MHz, DMSO-d6) δ · = 10.3 (s, 2H), 8.09 (d, J = 2.4 Hz, 2H), 7.71 (dd, J = 2.4, 8.4 Hz, 2H), 7.16 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.71 (dd, J = 2.4, 8.4 Hz, 2H)

(実施例1)
(イオン交換膜の作成)
下記表1に示す組成(単位:g)の組成物の塗布液をアルミ板に、150μmのワイヤ巻き棒を用いて、手動で約5m/minの速さで塗布し、続いて、不織布(タピルス社製 P030UA−00X、厚さ500μm)に塗布液を含浸させた。ワイヤの巻いていないロッドを用いて余分な塗布液を除去した。塗布時の塗布液の温度は約25℃(室温)であった。UV露光機(Fusion UV Systems社製、型式Light Hammer 10、D−バルブ、コンベア速度9.0m/min、100%強度)を用いて、前記塗布液含浸支持体を重合硬化反応することにより、アニオン交換膜を調製した。露光量は、UV−A領域にて1,000mJ/cmであった。露光時間は3.5秒であった。得られた膜をアルミ板から取り外し、0.1M NaCl溶液中で少なくとも12時間保存した。
Example 1
(Creation of ion exchange membrane)
A coating solution of the composition (unit: g) shown in Table 1 below was manually applied to an aluminum plate at a speed of about 5 m / min using a 150 μm wire winding rod, followed by a nonwoven fabric (tapyrus P030UA-00X, 500 μm thick) was impregnated with the coating solution. Excess coating solution was removed using a rod around which no wire was wound. The temperature of the coating solution at the time of coating was about 25 ° C. (room temperature). By using a UV exposure machine (Fusion UV Systems, Model Light Hammer 10, D-valve, conveyor speed 9.0 m / min, 100% strength), the coating liquid-impregnated support is polymerized and cured to cause anion. An exchange membrane was prepared. The exposure amount was 1,000 mJ / cm 2 in the UV-A region. The exposure time was 3.5 seconds. The resulting membrane was removed from the aluminum plate and stored in 0.1 M NaCl solution for at least 12 hours.

(実施例2〜10、比較例1および2)
実施例1のイオン交換膜の作成において、組成を下記表1に記載の組成に変えた以外は、実施例1と同様にして実施例2〜10、比較例1および2のイオン交換膜を下記表3に示す膜厚になるようにそれぞれ作成した。
(Examples 2 to 10, Comparative Examples 1 and 2)
In the production of the ion exchange membrane of Example 1, the ion exchange membranes of Examples 2 to 10 and Comparative Examples 1 and 2 were the same as in Example 1 except that the composition was changed to the composition described in Table 1 below. Each of the film thicknesses shown in Table 3 was prepared.

Figure 0006118284
Figure 0006118284

Figure 0006118284
Figure 0006118284

以下に、使用した光重合開始剤の極大吸収波長が位置する吸収領域を下記表2にまとめた。   Below, the absorption region where the maximum absorption wavelength of the used photopolymerization initiator is located is summarized in Table 2 below.

Figure 0006118284
Figure 0006118284

Figure 0006118284
Figure 0006118284

[表1における略称の説明]
IPA:イソプロピルアルコール
MEHQ:モノメチルエーテルハイドロキノン
Genorad16:商品名、Rahn AG社製
DMAPAA−Q:ジメチルアミノプロピルアクリルアミド塩化メチル4級塩
(塩化3−アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウム)
VBTMAC:例示化合物SM−1、ビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロリド(商品名:(ビニルベンジル)トリメチルアンモニウムクロリド、シグマ・アルドリッチ社製)
AMPS:AMPS:2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸
MBA:メチレンビスアクリルアミド(東京化成工業製)
Darocur 1173:商品名、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製
Irgacure 184:商品名、BASF・ジャパン社製
Irgacure 500:商品名、BASF・ジャパン社製
Irgacure 819:商品名、BASF・ジャパン社製
Irgacure 1700:商品名、BASF・ジャパン社製
LUCIRIN TPO:商品名、BASF・ジャパン社製
Tego Glide 432:商品名、Evonil Industries製
[Description of Abbreviations in Table 1]
IPA: isopropyl alcohol MEHQ: monomethyl ether hydroquinone Genrad 16: trade name, DMAPAA-Q: dimethylaminopropylacrylamide methyl chloride quaternary salt, manufactured by Rahn AG
(3-acrylamidopropyltrimethylammonium chloride)
VBTMAC: Exemplified compound SM-1, vinylbenzyltrimethylammonium chloride (trade name: (vinylbenzyl) trimethylammonium chloride, manufactured by Sigma-Aldrich)
AMPS: AMPS: 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid MBA: methylenebisacrylamide (manufactured by Tokyo Chemical Industry)
Darocur 1173: trade name, Irgacure 184 manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc .: trade name, Irgacure 500 manufactured by BASF Japan, Inc. Irgacure 819: trade name, BASF Japan Inc. Irgacure 1700: product Name, BASF Japan made LUCIRIN TPO: Product name, BASF Japan made Tego Glide 432: Product name, made by Evonil Industries

実施例1〜10及び比較例1および2で作成したイオン交換膜について、アルカリ浸漬前後および摩擦試験前後の透水率を評価した。結果を下記表3に示す。   About the ion exchange membrane created in Examples 1-10 and Comparative Examples 1 and 2, the water permeability before and after alkali immersion and before and after the friction test was evaluated. The results are shown in Table 3 below.

[アルカリ浸漬]
室温でpH13のリン酸バッファー溶液を300mL調製し、このリン酸バッファー溶液に50℃に昇温した状態で膜を24時間浸漬させた。
[Alkaline immersion]
300 mL of a phosphate buffer solution having a pH of 13 was prepared at room temperature, and the membrane was immersed in this phosphate buffer solution for 24 hours while being heated to 50 ° C.

[摩擦試験]
摩擦試験は、膜を硬く平らな物質表面に置き、紙やすり(#400)を平行に乗せ、紙やすり上に150gのおもりを乗せた状態でで膜を前後方向に15往復摺動させた。
[Friction test]
In the friction test, the film was placed on a hard and flat material surface, a sandpaper (# 400) was placed in parallel, and the film was slid back and forth 15 times in the front-rear direction with a 150 g weight placed on the sandpaper.

[透水率(mL/m/Pa/hr)]
膜の透水率を図1に示す流路10を有する装置により測定した。図1において、符号1は膜を表し、符号3及び4は、それぞれ、フィード溶液(純水)及びドロー溶液(4M NaCl)の流路を表す。また、符号2の矢印はフィード溶液から分離された水の流れを示す。
フィード溶液400mLとドロー溶液400mLとを、膜を介して接触させ(膜接触面積18cm)、各液はペリスタポンプを用いて符号5の矢印の向きに流速0.11cm/秒で流した。フィード溶液中の水が膜を介してドロー溶液に浸透する速度を、フィード液とドロー液の質量をリアルタイムで測定することによって解析し、透水率を求めた。
なお、表3、4には、10倍した値を示した。例えば、実施例1のアルカリ浸漬前の透水率は2.1×10−5mL/m/Pa/hrであり、2.1と表示した。
[Water permeability (mL / m 2 / Pa / hr)]
The water permeability of the membrane was measured by an apparatus having a flow path 10 shown in FIG. In FIG. 1, reference numeral 1 represents a membrane, and reference numerals 3 and 4 represent flow paths for a feed solution (pure water) and a draw solution (4M NaCl), respectively. Moreover, the arrow of a code | symbol 2 shows the flow of the water isolate | separated from the feed solution.
400 mL of the feed solution and 400 mL of the draw solution were brought into contact with each other through the membrane (membrane contact area 18 cm 2 ), and each solution was flowed at a flow rate of 0.11 cm / sec in the direction of the arrow 5 with a peristaltic pump. The rate at which the water in the feed solution penetrates the draw solution through the membrane was analyzed by measuring the mass of the feed solution and the draw solution in real time, and the water permeability was determined.
Tables 3 and 4 show values multiplied by 10 5 . For example, the water permeability before immersion in alkali of Example 1 was 2.1 × 10 −5 mL / m 2 / Pa / hr, which was indicated as 2.1.

[膜厚の測定方法]
温度25℃の0.01M NaCl水溶液に12時間浸漬させた後、膜を取り出し、表面の水を拭き取った上で、マイクロメーターにより測定を行った。
下記表3における膜厚は、アルカリ浸漬および摩擦試験の各試験を行う前の膜厚である。
[Measurement method of film thickness]
After immersing in a 0.01 M NaCl aqueous solution at a temperature of 25 ° C. for 12 hours, the membrane was taken out and wiped off with water on the surface, and then measured with a micrometer.
The film thickness in the following Table 3 is a film thickness before each test of alkali immersion and friction test.

Figure 0006118284
Figure 0006118284

表3の結果から明らかなように、膜厚が本発明の規定を満たし、かつ、異なる波長領域に極大吸収波長を有する2種類の光重合開始剤を用いた実施例1〜10は各試験後も透水率が2(mL/m/Pa/hr)以上上昇しなかった。これに対して、膜厚が本発明の規定を満たすが、光重合開始剤を1種類しか用いない比較例1および2は、各試験後透水率が2(mL/m/Pa/hr)以上上昇した。このことから、本発明の高分子機能性膜は耐久性に優れることがわかる。 As is clear from the results in Table 3, Examples 1 to 10 using two types of photopolymerization initiators having film thicknesses that satisfy the provisions of the present invention and have maximum absorption wavelengths in different wavelength regions are shown after each test. The water permeability did not increase by 2 (mL / m 2 / Pa / hr) or more. On the other hand, although the film thickness satisfies the provisions of the present invention, Comparative Examples 1 and 2 using only one kind of photopolymerization initiator have a water permeability of 2 (mL / m 2 / Pa / hr) after each test. More than that. This shows that the polymer functional film of the present invention is excellent in durability.

次に、実施例1と同様にして下記表4に記載の膜厚のアニオン交換膜をそれぞれ作製し、アルカリ浸漬前後および摩擦試験前後の透水率を評価した。結果を下記表4に示す。   Next, anion exchange membranes having the film thicknesses shown in Table 4 below were prepared in the same manner as in Example 1, and the water permeability before and after the alkali immersion and before and after the friction test was evaluated. The results are shown in Table 4 below.

Figure 0006118284
Figure 0006118284

試験No.1とNo.2の結果の比較から明らかなように、本発明の膜厚の下限の規定を満たす試験No.2はアルカリ浸漬の前後および摩擦試験前の前後の透水率がいずれも試験No.1と比較して低かったことが分かる。一方、試験No.5と試験No.6の比較から明らかなように、本発明の膜厚の上限の規定を満たす試験No.5はアルカリ浸漬の前後および摩擦試験の前後の透水率がいずれも試験No.6と比較して低かったことが分かる。
この結果、本発明の製造方法で得られた高分子機能性膜は、膜厚が厚くても、耐久性に優れていることがわかる。
Test No. 1 and No. As is clear from the comparison of the results of Test No. 2, the test No. 1 satisfying the lower limit of the film thickness of the present invention is shown. No. 2 shows that the water permeability before and after the alkali soaking and before and after the friction test are both test Nos. It can be seen that it was lower than 1. On the other hand, test no. 5 and test no. As is clear from the comparison of the test No. 6, the test No. 1 satisfying the upper limit of the film thickness of the present invention. No. 5 shows that the water permeability before and after the alkali immersion and before and after the friction test are both test Nos. It turns out that it was low compared with 6.
As a result, it can be seen that the functional polymer film obtained by the production method of the present invention is excellent in durability even when the film thickness is large.

1 膜
2 フィード溶液中の水が膜を介してドロー溶液に浸透することを示す矢印
3 フィード溶液の流路
4 ドロー溶液の流路
5 液体の進行方向
10 透水率測定装置の流路
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Membrane 2 The arrow which shows that the water in a feed solution osmose | permeates a draw solution through a film | membrane 3 The flow path of a feed solution 4 The flow path of a draw solution 10 The flow direction of a liquid 10 The flow path of a water permeability measuring apparatus

Claims (8)

少なくともモノマーと光重合開始剤を含む組成物を重合硬化させる高分子機能性膜の製造方法であって、
前記高分子機能性膜の膜厚が、500μmより大きく1,000μm以下であり、
前記モノマーの少なくとも1種が、四級アンモニウム基またはスルホ基もしくはその塩を有する、スチレン系モノマーまたはアクリルアミド系モノマーであり、
前記光重合開始剤として、少なくとも1種の(I−1)極大吸収波長が300nm以上350nm未満である光重合開始剤と少なくとも1種の(I−2)極大吸収波長が350nm以上420nm以下である光重合開始剤を組み合わせて使用し、
前記光重合開始剤(I−1)が、下記一般式(PI−1)で表される光重合開始剤であり、前記光重合開始剤(I−2)が、下記一般式(PI−2)で表される光重合開始剤である高分子機能性膜の製造方法。
Figure 0006118284
一般式(PI−1)において、R P1 は水素原子、ヒドロキシ基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ピロリジノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、チオモルホリノ基またはジアルキルアミノ基を表し、R P2 およびR P3 は各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基またはアリールチオ基を表す。ここで、R P2 とR P3 が互いに結合して環を形成してもよい。xは1以上の整数を表す。R P4 は水素原子またはx価の置換基もしくは連結基を表す。
Figure 0006118284
一般式(PI−2)において、R P5 、R P6 およびR P7 は各々独立に、アルキル基またはアリール基を表し、lおよびmは各々独立に0または1を表す。
A method for producing a functional polymer film comprising polymerizing and curing a composition containing at least a monomer and a photopolymerization initiator,
The film thickness of the functional polymer film is greater than 500 μm and 1,000 μm or less,
At least one of the monomers is a styrene monomer or an acrylamide monomer having a quaternary ammonium group, a sulfo group or a salt thereof,
As the photopolymerization initiator, at least one (I-1) maximum absorption wavelength is 300 nm or more and less than 350 nm and at least one (I-2) maximum absorption wavelength is 350 nm or more and 420 nm or less. Use a combination of photopolymerization initiators ,
The photopolymerization initiator (I-1) is a photopolymerization initiator represented by the following general formula (PI-1), and the photopolymerization initiator (I-2) is represented by the following general formula (PI-2). The manufacturing method of the polymeric functional film which is a photoinitiator represented by this .
Figure 0006118284
In the general formula (PI-1), R P1 represents a hydrogen atom, a hydroxy group, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a pyrrolidino group, a piperidino group, a morpholino group, a thiomorpholino group or a dialkylamino group, R P2 and R P3 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group or an arylthio group. Here, R P2 and R P3 may be bonded to each other to form a ring. x represents an integer of 1 or more. R P4 represents a hydrogen atom or an x-valent substituent or linking group.
Figure 0006118284
In general formula (PI-2), R P5 , R P6 and R P7 each independently represents an alkyl group or an aryl group, and l and m each independently represents 0 or 1.
前記組成物の全固形分100質量%のうち、光重合開始剤の全量が0.01〜10質量%であり、かつ前記光重合開始剤(I−1)に対する前記光重合開始剤(I−2)の質量割合が5〜50質量%である請求項1に記載の高分子機能性膜の製造方法。 Of the total solid content of 100% by mass of the composition, the total amount of the photopolymerization initiator is 0.01 to 10% by mass, and the photopolymerization initiator (I−) relative to the photopolymerization initiator (I-1) The method for producing a functional polymer film according to claim 1, wherein the mass ratio of 2) is 5 to 50 mass%. 前記高分子機能性膜の膜厚が、500μmより大きく800μm以下である請求項1または2に記載の高分子機能性膜の製造方法。 The method for producing a polymer functional film according to claim 1 or 2 , wherein a film thickness of the polymer functional film is greater than 500 µm and 800 µm or less. 前記高分子機能性膜の膜厚が、500μmより大きく700μm以下である請求項1〜のいずれか1項に記載の高分子機能性膜の製造方法。 The thickness of the polymer functional membrane, method for producing a polymer functional film according to any one of claims 1 to 3 or less larger than 500 [mu] m 700 .mu.m. 前記四級アンモニウム基を有するスチレン系モノマーが、下記一般式(SM)または(SXL)で表される化合物であり、前記四級アンモニウム基を有するアクリルアミド系モノマーが、下記一般式(AM−1)または(AXL−1)で表される化合物である請求項1〜のいずれか1項に記載の高分子機能性膜の製造方法。
Figure 0006118284
一般式(SM)において、R〜Rは各々独立に、アルキル基またはアリール基を表す。RとR、またはR、RおよびRが互いに結合して脂肪族ヘテロ環を形成してもよい。n1は1〜3の整数を表す。X は有機または無機のアニオンを表す。
Figure 0006118284
一般式(SXL)において、LおよびLは各々独立にアルキレン基またはアルケニレン基を表す。RおよびRは各々独立にアルキル基またはアリール基を表し、RとRが互いに結合して環を形成してもよい。n2は1〜3の整数を表す。X およびX は各々独立に、有機または無機のアニオンを表す。
Figure 0006118284
一般式(AM−1)において、Rは水素原子またはアルキル基を表し、R〜Rは各々独立に、アルキル基またはアリール基を表す。Zは−NRa−を表す。ここで、Raは水素原子またはアルキル基を表す。Lはアルキレン基を表し、X はハロゲンイオンまたは脂肪族もしくは芳香族カルボン酸イオンを表す。
Figure 0006118284
一般式(AXL−1)において、RおよびRは各々独立に、水素原子またはアルキル基を表し、R10〜R13は各々独立に、アルキル基またはアリール基を表す。ZおよびZは各々独立に−NRb−を表す。ここで、Rbは水素原子またはアルキル基を表す。LおよびLは各々独立にアルキレン基を表し、Rはアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、−O−またはこれらが組み合わされた2価の連結基を表す。X およびX は各々独立にハロゲンイオンまたは脂肪族もしくは芳香族カルボン酸イオンを表す。
The styrene monomer having the quaternary ammonium group is a compound represented by the following general formula (SM) or (SXL), and the acrylamide monomer having the quaternary ammonium group is represented by the following general formula (AM-1) Or it is a compound represented by (AXL-1), The manufacturing method of the polymeric functional film of any one of Claims 1-4 .
Figure 0006118284
In the general formula (SM), R 1 to R 3 each independently represents an alkyl group or an aryl group. R 1 and R 2 , or R 1 , R 2 and R 3 may be bonded to each other to form an aliphatic heterocycle. n1 represents an integer of 1 to 3. X 1 represents an organic or inorganic anion.
Figure 0006118284
In General Formula (SXL), L 1 and L 2 each independently represent an alkylene group or an alkenylene group. R d and R e each independently represents an alkyl group or an aryl group, and R d and R e may be bonded to each other to form a ring. n2 represents an integer of 1 to 3. X 2 - and X 3 - each independently represents an organic or inorganic anion.
Figure 0006118284
In General Formula (AM-1), R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 5 to R 7 each independently represents an alkyl group or an aryl group. Z 1 represents -NRa-. Here, Ra represents a hydrogen atom or an alkyl group. L 3 represents an alkylene group, and X 4 represents a halogen ion or an aliphatic or aromatic carboxylate ion.
Figure 0006118284
In General Formula (AXL-1), R 8 and R 9 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, and R 10 to R 13 each independently represent an alkyl group or an aryl group. Z 2 and Z 3 each independently represent —NRb—. Here, Rb represents a hydrogen atom or an alkyl group. L 4 and L 5 each independently represent an alkylene group, and R X represents an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, an arylene group, —O— or a divalent linking group in which these are combined. X 5 - and X 6 - represents a halogen ion or an aliphatic or aromatic carboxylate ion independently.
前記スルホ基もしくはその塩を有するアクリルアミド系モノマーが、下記一般式(AM−2)または(AXL−2)のいずれかで表される化合物である請求項1〜のいずれか1項に記載の高分子機能性膜の製造方法。
Figure 0006118284
一般式(AM−2)中、R14は水素原子またはアルキル基を表す。M は、水素イオンまたはアルカリ金属イオンを表す。
Figure 0006118284
一般式(AXL−2)中、R15は水素原子またはアルキル基を表し、Zは−NRf−を表す。ここで、Rfは水素原子またはアルキル基を表す。M は水素イオンまたはアルカリ金属イオンを表す。
Acrylamide monomer having a sulfo group or a salt thereof, as claimed in any one of claims 1 to 5 which is a compound represented by any one of the following formulas (AM-2) or (AXL-2) A method for producing a polymer functional membrane.
Figure 0006118284
In General Formula (AM-2), R 14 represents a hydrogen atom or an alkyl group. M 1 + represents a hydrogen ion or an alkali metal ion.
Figure 0006118284
In General Formula (AXL-2), R 15 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and Z 4 represents —NRf—. Here, Rf represents a hydrogen atom or an alkyl group. M 2 + represents a hydrogen ion or an alkali metal ion.
前記組成物が、前記一般式(AM−1)で表される化合物と、前記一般式(AXL−1)または下記一般式(CL)で表される化合物を組み合わせて含むか、または前記一般式(SM)で表される化合物と、前記一般式(SXL)で表される化合物を組み合わせて含む請求項に記載の高分子機能性膜の製造方法。
Figure 0006118284
一般式(CL)において、R16およびR17は各々独立に、水素原子またはアルキル基を表す。YおよびYは各々独立に、−O−または−N(Rc)−を表す。ここでRcは水素原子またはアルキル基を表す。Lは、p1+1価の炭素数1以上の連結基を表す。p1は1以上の整数を表す。
The composition contains a combination of the compound represented by the general formula (AM-1) and the compound represented by the general formula (AXL-1) or the following general formula (CL), or the general formula The method for producing a polymer functional film according to claim 5 , comprising a combination of the compound represented by (SM) and the compound represented by the general formula (SXL).
Figure 0006118284
In General Formula (CL), R 16 and R 17 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group. Y 1 and Y 2 each independently represent —O— or —N (Rc) —. Here, Rc represents a hydrogen atom or an alkyl group. L 6 represents a p1 + 1-valent linking group having 1 or more carbon atoms. p1 represents an integer of 1 or more.
前記組成物が、前記一般式(AM−2)で表される化合物と、前記一般式(AXL−2)または下記一般式(CL)で表される化合物を組み合わせて含む請求項に記載の高分子機能性膜の製造方法。
Figure 0006118284
一般式(CL)において、R16およびR17は各々独立に、水素原子またはアルキル基を表す。YおよびYは各々独立に、−O−または−N(Rc)−を表す。ここでRcは水素原子またはアルキル基を表す。Lは、p1+1価の炭素数1以上の連結基を表す。p1は1以上の整数を表す。
The said composition contains the compound represented by the said general formula (AM-2), and the compound represented by the said general formula (AXL-2) or the following general formula (CL) of Claim 6 characterized by the above-mentioned. A method for producing a polymer functional membrane.
Figure 0006118284
In General Formula (CL), R 16 and R 17 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group. Y 1 and Y 2 each independently represent —O— or —N (Rc) —. Here, Rc represents a hydrogen atom or an alkyl group. L 6 represents a p1 + 1-valent linking group having 1 or more carbon atoms. p1 represents an integer of 1 or more.
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