JP6107254B2 - 光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器 - Google Patents
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Description
これに対して、本発明によれば、Φa<Φm<Φpの関係を満たすため、第一反射膜で反射した光の大部分は入射光通過孔を通過し、光学フィルターデバイスの外部に出射されるか又は前記平面視において入射光通過孔内に位置するアパーチャーの表面に当たって吸収される。これにより、迷光の発生を抑制できる。また、第一反射膜に入射する光の入射角度を高精度に制御するためのレンズを設けたり、筐体の内壁に反射防止処理を施したりする必要がないため、コストを低減できる。
本発明によれば、第一反射膜で反射した光の大部分は、より確実に入射光通過孔を通過し、光学フィルターデバイスの外部に出射されるか又は前記平面視において入射光通過孔内に位置するアパーチャーの表面に当たって吸収される。
本発明によれば、第一反射膜で反射した光は、全て入射光通過孔を通過するため、筐体の内壁に当たることはないので、迷光の発生をより確実に抑制できる。
本発明によれば、入射光通過孔を介して入射した光は、全て第一反射膜に入射する。これにより、入射光通過孔を介して入射した光が第一反射膜に入射されずに干渉フィルターや筐体の内部で反射を繰り返して迷光となることを抑制できる。
本発明によれば、アパーチャーを例えば膜で構成することができ、薄くできる。これにより、光学フィルターデバイスを薄型化できる。
本発明によれば、第一反射膜で反射して入射光通過孔を通過する光が、透光基板の表面で反射して迷光となることを抑制できる。
本発明によれば、第一反射膜で反射して入射光通過孔を通過する光が、アパーチャーの前記面で反射して迷光となることを抑制できる。
本発明によれば、Φo≧Φpの場合と比べてΦoを小さくできるため、出射光通過孔を介して光学フィルターデバイスから出射される迷光を低減できる。また、出射光通過孔をガラス基板等の透光性基板により閉塞して筐体内を密封する場合では、出射光通過孔の口径を小さくできる分、封止領域の面積も小さくでき、筐体内の気密性の向上を図れる。
以下、本発明に係る第一実施形態を図面に基づいて説明する。
[1.光学フィルターデバイスの構成]
図1は、本発明に係る第一実施形態の光学フィルターデバイス600の概略構成を示す斜視図である。図2は、光学フィルターデバイス600の断面図である。
光学フィルターデバイス600は、入射した検査対象光から、所定の目的波長の光を取り出して射出させる装置であり、筐体601と、筐体601の内部に収納される波長可変干渉フィルター5(図2参照)を備えている。このような光学フィルターデバイス600は、例えば測色センサー等の光学モジュールや、測色装置やガス分析装置等の電子機器に組み込むことができる。なお、光学フィルターデバイス600を備えた光学モジュールや電子機器の構成については、後述の第二実施形態において説明する。
波長可変干渉フィルター5は、本発明の干渉フィルターを構成する。図3は、光学フィルターデバイス600に設けられた波長可変干渉フィルター5の概略構成を示す平面図であり、図4は、図3におけるIV−IV線を断面した際の波長可変干渉フィルター5の概略構成を示す断面図である。
波長可変干渉フィルター5は、図3に示すように、例えば矩形板状の光学部材である。この波長可変干渉フィルター5は、本発明の第一基板である固定基板51、および本発明の第二基板である可動基板52を備えている。これらの固定基板51及び可動基板52は、それぞれ例えば、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラスなどの各種ガラスや、水晶などにより形成されている。そして、これらの固定基板51及び可動基板52は、固定基板51の第一接合部513及び可動基板の第二接合部523が、例えばシロキサンを主成分とするプラズマ重合膜などにより構成された接合膜53(第一接合膜531及び第二接合膜532)により接合されることで、一体的に構成されている。
なお、以降の説明に当たり、固定基板51または可動基板52の基板厚み方向から見た平面視、つまり、固定基板51、接合膜53、及び可動基板52の積層方向から波長可変干渉フィルター5を見た平面視を、フィルター平面視と称する。
なお、本実施形態では、反射膜間ギャップG1が電極間ギャップG2よりも小さく形成される構成を例示するが、例えば波長可変干渉フィルター5により透過させる波長域によっては、反射膜間ギャップG1を電極間ギャップG2よりも大きく形成してもよい。
また、フィルター平面視において、可動基板52の辺のうち、第一電装面514に対向する一辺側(頂点C3−頂点C4間の辺)は、固定基板51よりも外側に突出する。この突出部分のうち、波長可変干渉フィルター5を固定基板51側から見た際に露出する面は、第二電装面524を構成する。
固定基板51は、厚みが例えば500μmに形成されたガラス基材を加工することで形成される。具体的には、図4に示すように、固定基板51には、エッチングにより電極配置溝511および反射膜設置部512が形成されている。この固定基板51は、可動基板52に対して厚み寸法が大きく形成されており、固定電極561および可動電極562間に電圧を印加した際の静電引力や、固定電極561の内部応力による固定基板51の撓みはない。
また、固定基板51には、電極配置溝511から、第一電装面514及び第二電装面524に向かって延出する電極引出溝511Bが設けられている。
そして、固定基板51には、固定電極561の外周縁から、電極引出溝511Bを通り、第一電装面514まで延出する固定引出電極563が設けられている。この固定引出電極563の延出先端部(固定基板51の頂点C2に位置する部分)は、第一電装面514において固定電極パッド563Pを構成する。
なお、本実施形態では、電極設置面511Aに1つの固定電極561が設けられる構成を示すが、例えば、平面中心点Oを中心とした同心円となる2つの電極が設けられる構成(二重電極構成)などとしてもよい。
この反射膜設置部512には、図4に示すように、固定反射膜54が設置されている。この固定反射膜54としては、例えばAg等の金属膜や、Ag合金等の合金膜を用いることができる。また、例えば高屈折層をTiO2、低屈折層をSiO2とした誘電体多層膜を用いてもよい。さらに、誘電体多層膜上に金属膜(又は合金膜)を積層した反射膜や、金属膜(又は合金膜)上に誘電体多層膜を積層した反射膜、単層の屈折層(TiO2やSiO2等)と金属膜(又は合金膜)とを積層した反射膜などを用いてもよい。
可動基板52は、厚みが例えば200μmに形成されるガラス基材を加工することで形成されている。
具体的には、可動基板52は、図3に示すようなフィルター平面視において、平面中心点Oを中心とした円形状の可動部521と、可動部521の外側に設けられ、可動部521を保持する保持部522と、保持部522の外側に設けられた基板外周部525と、を備えている。
なお、固定基板51と同様に、可動部521の固定基板51とは反対側の面には、反射防止膜が形成されていてもよい。このような反射防止膜は、低屈折率膜および高屈折率膜を交互に積層することで形成することができ、可動基板52の表面での可視光の反射率を低下させ、透過率を増大させることができる。
可動反射膜55は、可動部521の可動面521Aの中心部に、固定反射膜54と反射膜間ギャップG1を介して対向して設けられる。この可動反射膜55としては、上述した固定反射膜54と同一の構成の反射膜が用いられる。
このような保持部522は、可動部521よりも撓みやすく、僅かな静電引力により、可動部521を固定基板51側に変位させることが可能となる。この際、可動部521が保持部522よりも厚み寸法が大きく、剛性が大きくなるため、保持部522が静電引力により固定基板51側に引っ張られた場合でも、可動部521の形状変化が起こらない。したがって、可動部521に設けられた可動反射膜55の撓みも生じず、固定反射膜54及び可動反射膜55を常に平行状態に維持することが可能となる。
なお、本実施形態では、ダイアフラム状の保持部522を例示するが、これに限定されず、例えば、平面中心点Oを中心として、等角度間隔で配置された梁状の保持部が設けられる構成などとしてもよい。
図1及び図2に戻り、筐体601は、ベース基板610と、リッド620と、ベース側ガラス基板630(透光基板)と、リッド側ガラス基板640(透光基板)と、を備える。
ベース基板610には、波長可変干渉フィルター5の反射膜(固定反射膜54,可動反射膜55)に対向する領域に、光通過孔611(出射光通過孔)が開口形成されている。
また、ベース基板610は、各内側端子部615が設けられる位置に対応して、貫通孔614が形成されており、各内側端子部615は、貫通孔614を介して、ベース基板610のベース内側面612とは反対側のベース外側面613に設けられた外側端子部616に接続されている。ここで、貫通孔614には、内側端子部615及び外側端子部616を接続する金属部材(例えばAgペースト等)が充填され、筐体601の内部空間650の気密性が維持される。
そして、ベース基板610の外周部には、リッド620に接合されるベース接合部617が設けられている。
このリッド620は、リッド接合部624と、ベース基板610のベース接合部617とが、接合されることで、ベース基板610に密着接合されている。
この接合方法としては、例えば、レーザー溶着の他、銀ロウ等を用いた半田付け、共晶合金層を用いた封着、低融点ガラスを用いた溶着、ガラス付着、ガラスフリット接合、エポキシ樹脂による接着等が挙げられる。これらの接合方法は、ベース基板610及びリッド620の素材や、接合環境等により、適宜選択することができる。
本実施形態では、ベース基板610のベース接合部617上に、例えばNiやAu等により構成された接合用パターン617Aを形成し、接合用パターン617A及びリッド接合部624に対して、高出力レーザー(例えばYAGレーザー等)を照射してレーザー接合する。
なお、光通過孔621の口径Φpは、ベース基板610に形成された光通過孔611の口径Φoよりも大きい(Φp>Φo)。即ち、フィルター平面視において、光通過孔621の外周縁621Aは、光通過孔611の外周縁611Aよりも外側に位置している。
ここで、本実施形態では、リッド620の光通過孔621から光が入射し、波長可変干渉フィルター5により取り出された光はベース基板610の光通過孔611からか射出される。
なお、ここで、光通過孔611の口径ΦoはΦaより小さくてもよいが、この場合は透過光量が低減するので、光通過孔611の口径ΦoはΦa以上であることが好ましい。
このように、内部空間650を真空状態に維持することで、波長可変干渉フィルター5の可動部521を移動させる際に、空気抵抗が発生せず、応答性を良好にすることができる。
図5は、光学フィルターデバイス600を示す部分断面図である。
図5に示すように、光学フィルターデバイス600は、固定反射膜54の直径をΦmとしたとき、Φa(非透光性部材642の開口径)<Φm<Φp(光通過孔621の口径)の関係を満たす。即ち、フィルター平面視において、固定反射膜54の外周縁54Aは、非透光性部材642の開口の外周縁642Aよりも外側に位置し、光通過孔621の外周縁621Aは、固定反射膜54の外周縁54Aよりも外側に位置している。
図5、図6に示すように、光通過孔621を介して固定反射膜54に入射角度θで入射した入射光Lpは、固定反射膜54の面54B(反射膜設置面512Aに対向する面)で反射する。なお、入射角度θは、入射光Lpが、固定反射膜54に垂直な仮想の直線VLと成す角度である。
ここで、図6に示す比較例の光学フィルターデバイス600Aでは、Φp<Φm(=Φa)を満たしているため、固定反射膜54の面54Bで反射した光の一部は、光通過孔621を介して光学フィルターデバイス600Aの外部に出射されるものの、残りの大部分は光通過孔621の周囲に位置するリッド内側面622に当って更に反射する。
これに対して、本実施形態の光学フィルターデバイス600では、Φa<Φm<Φpの関係を満たすため、図5に示すように、固定反射膜54の面54Bで反射した光の大部分は光通過孔621を通過し、光学フィルターデバイス600の外部に出射されるか、又は、フィルター平面視において光通過孔621内に位置する非透光性部材642の面642Bに当たって吸収される。
この条件によれば、固定反射膜54で反射した光は、全て光通過孔621を通過するため、リッド内側面622に当たることはない。
更に、光学フィルターデバイス600は、(Φm−Φa)>2dtanθの関係を満たす。この条件によれば、入射光Lpは、全て固定反射膜54に入射する。
本実施形態の光学フィルターデバイス600では、非透光性部材642の開口径をΦaとし、固定反射膜54の直径をΦmとし、光通過孔621の口径をΦpとしたとき、Φa<Φm<Φpの関係を満たす。これによれば、固定反射膜54で反射した光の大部分は光通過孔621を通過し、光学フィルターデバイス600の外部に出射されるか又はフィルター平面視において光通過孔621内に位置する非透光性部材642の面642Bに当たって吸収される。これにより、迷光の発生を抑制できる。また、筐体601の内壁に反射防止処理を施したりする必要がないため、コストを低減できる。また、入射光Lpの入射角度θを制御するためのレンズとして、(Φp−Φm)>2dtanθ、及び(Φm−Φa)>2dtanθの条件を満たす入射角度θで、入射光Lpを導くことが可能なレンズを用いればよく、入射角度θを小さくするための高精度なレンズを不要にでき、コストを低減できる。
なお、これに加えて、光学フィルターデバイス600では、Φo≧Φaの関係を満たす。これによれば、固定反射膜54に直交する入射光が、光量を減らされることなく、光通過孔611から射出される。これにより、光学フィルターデバイス600の透過光量を低減させることなく、迷光を低減できる。
次に、本発明の第二実施形態について、図面に基づいて説明する。
第二実施形態では、上記第一実施形態の光学フィルターデバイス600が組み込まれた光学モジュールである測色センサー3、及び光学フィルターデバイス600が組み込まれた電子機器である測色装置1を説明する。
〔1.測色装置の概略構成〕
図7は、第一実施形態の測色装置1の概略構成を示すブロック図である。
測色装置1は、本発明の電子機器である。この測色装置1は、図7に示すように、検査対象Xに光を射出する光源装置2と、測色センサー3と、測色装置1の全体動作を制御する制御装置4とを備える。そして、この測色装置1は、光源装置2から射出される光を検査対象Xにて反射させ、反射された検査対象光を測色センサー3にて受光し、測色センサー3から出力される検出信号に基づいて、検査対象光の色度、すなわち検査対象Xの色を分析して測定する装置である。
光源装置2は、光源21、複数のレンズ22(図7には1つのみ記載)を備え、検査対象Xに対して白色光を射出する。また、複数のレンズ22には、コリメーターレンズが含まれてもよく、この場合、光源装置2は、光源21から射出された白色光をコリメーターレンズにより平行光とし、図示しない投射レンズから検査対象Xに向かって射出する。なお、本実施形態では、光源装置2を備える測色装置1を例示するが、例えば検査対象Xが液晶パネルなどの発光部材である場合、光源装置2が設けられない構成としてもよい。
測色センサー3は、本発明の光学モジュールを構成し、上記第一実施形態の光学フィルターデバイス600を備えている。この測色センサー3は、図7に示すように、光学フィルターデバイス600と、光学フィルターデバイス600の波長可変干渉フィルター5を透過した光を受光する検出部31と、波長可変干渉フィルター5で透過させる光の波長を可変する電圧制御部32とを備える。
また、測色センサー3は、波長可変干渉フィルター5に対向する位置に、検査対象Xで反射された反射光(検査対象光)を、内部に導光する入射光学レンズ33を備えている。入射光学レンズ33は、入射角度θで光学フィルターデバイス600に入射光を導く。そして、この測色センサー3は、光学フィルターデバイス600内の波長可変干渉フィルター5により、入射光学レンズ33から入射した検査対象光のうち、所定波長の光を分光し、分光した光を検出部31にて受光する。
また、この回路基板311には、ベース基板610のベース外側面613に形成された外側端子部616が接続されており、回路基板311に形成された回路を介して、電圧制御部32に接続されている。
このような構成では、回路基板311を介して、光学フィルターデバイス600及び検出部31を一体的に構成でき、測色センサー3の構成を簡略化することができる。
制御装置4は、測色装置1の全体動作を制御する。
この制御装置4としては、例えば汎用パーソナルコンピューターや、携帯情報端末、その他、測色専用コンピューターなどを用いることができる。
そして、制御装置4は、図7に示すように、光源制御部41、測色センサー制御部42、および測色処理部43などを備えて構成されている。
光源制御部41は、光源装置2に接続されている。そして、光源制御部41は、例えば利用者の設定入力に基づいて、光源装置2に所定の制御信号を出力し、光源装置2から所定の明るさの白色光を射出させる。
測色センサー制御部42は、測色センサー3に接続されている。そして、測色センサー制御部42は、例えば利用者の設定入力に基づいて、測色センサー3にて受光させる光の波長を設定し、この波長の光の受光量を検出する旨の制御信号を測色センサー3に出力する。これにより、測色センサー3の電圧制御部32は、制御信号に基づいて、利用者が所望する光の波長のみを透過させるよう、静電アクチュエーター56への印加電圧を設定する。
測色処理部43は、検出部31により検出された受光量から、検査対象Xの色度を分析する。
本実施形態の測色装置1は、上記第一実施形態のような光学フィルターデバイス600を備えている。上述したように、入射光学レンズ33から入射角度θで光学フィルターデバイス600に入射光が導かれるため、光学フィルターデバイス600内における入射光Lpの迷光を低減でき、光学フィルターデバイス600の分光精度を向上できる。したがって、測色センサー3においても、高分解能で取り出された目的波長の光を検出部31により検出することができ、所望の目的波長の光に対する正確な光量を検出することができる。これにより、測色装置1は、検査対象Xの正確な色分析を実施することができる。
また、電圧制御部32を回路基板311上に配置してもよく、この場合、更なる構成の簡略化を図ることができる。
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
例えば、上記第一実施形態では、リッド側ガラス基板640における非透光性部材642が形成される面とは反対側の面は、直接、リッド620のリッド外側面623に接合されているが、本発明はこれに限定されない。
図8は、一変形例における光学フィルターデバイス600Bを示す部分断面図である。
光学フィルターデバイス600Bでは、リッド側ガラス基板640における非透光性部材642が形成される面とは反対側の面640Aに、誘電体多層膜643が形成されている。そして、リッド側ガラス基板640は、誘電体多層膜643を介してリッド外側面623に接合されている。
この誘電体多層膜643は反射防止膜として機能し、リッド側ガラス基板640に対して面640A側から入射する光が、面640Aで反射することを抑制できる。
ここで、誘電体多層膜643が形成されていない場合、リッド側ガラス基板640に対して面640A側から入射する光のうち4%程度は、面640Aで反射する。このため、固定反射膜54の面54Bで反射して光通過孔621を通過する光の一部が、リッド側ガラス基板640の面640Aで反射して迷光となる可能性がある。
これに対して、光学フィルターデバイス600Bでは、リッド側ガラス基板640の面640Aに、反射防止膜として機能する誘電体多層膜643が形成されているため、固定反射膜54の面54Bで反射して光通過孔621を通過する光が、リッド側ガラス基板640の面640Aで反射して迷光となることを抑制できる。
なお、図8の例では反射防止膜として多層反射防止膜である誘電体多層膜46を例示したが、その他、例えばMgF2等の単層反射防止膜を設ける構成などとしてもよい。
さらに、静電アクチュエーター56の代わりに圧電アクチュエーターを用いる構成としてもよい。この場合、例えば保持部522に下部電極層、圧電膜、および上部電極層を積層配置させ、下部電極層および上部電極層の間に印加する電圧を入力値として可変させることで、圧電膜を伸縮させて保持部522を撓ませることができる。
この場合、光学フィルターデバイス600の光通過孔621に対向して、例えばビームスプリッター等を設けることで、光学フィルターデバイス600への入射光と、光学フィルターデバイス600から射出された射出光とを分離する構成とすることで、分離した射出光を検出部で検出させることができる。
本発明の電極の他の例としては、例えば、固定反射膜54及び可動反射膜55の電荷保持量の変化から反射膜間ギャップG1の大きさを測定するための静電容量検出電極や、各基板51,52や、固定反射膜54,可動反射膜55に保持された電荷を逃がし、基板間のクーロン力を除去するための帯電除去電極等が挙げられる。この場合、第一電装面514及び第二電装面524に、上記静電容量検出電極や帯電除去電極等から引き出された引出電極を配置する。そして、このような複数の電極が配置された場合でも、例えばFPC615Aを第一電装面514に貼り付けることで、各電極に対して個別に接続作業を実施することなく、容易に配線接続を実施することができる。
例えば、特定物質の存在を検出するための光ベースのシステムとして用いることができる。このようなシステムとしては、例えば、本発明の波長可変干渉フィルターを用いた分光計測方式を採用して特定ガスを高感度検出する車載用ガス漏れ検出器や、呼気検査用の光音響希ガス検出器等のガス検出装置を例示できる。
このようなガス検出装置の一例を以下に図面に基づいて説明する。
図10は、図9のガス検出装置の制御系の構成を示すブロック図である。
このガス検出装置100は、図9に示すように、センサーチップ110と、吸引口120A、吸引流路120B、排出流路120C、および排出口120Dを備えた流路120と、本体部130と、を備えて構成されている。
本体部130は、流路120を着脱可能な開口を有するセンサー部カバー131、排出手段133、筐体134、光学部135、フィルター136、光学フィルターデバイス600、および受光素子137(検出部)等を含む検出装置と、検出された信号を処理し、検出部を制御する制御部138、電力を供給する電力供給部139等から構成されている。また、光学部135は、光を射出する光源135Aと、光源135Aから入射された光をセンサーチップ110側に反射し、センサーチップ側から入射された光を受光素子137側に透過するビームスプリッター135Bと、レンズ135C,135D,135Eと、により構成されている。
また、図10に示すように、ガス検出装置100の表面には、操作パネル140、表示部141、外部とのインターフェイスのための接続部142、電力供給部139が設けられている。電力供給部139が二次電池の場合には、充電のための接続部143を備えてもよい。
さらに、ガス検出装置100の制御部138は、図10に示すように、CPU等により構成された信号処理部144、光源135Aを制御するための光源ドライバー回路145、光学フィルターデバイス600の波長可変干渉フィルター5を制御するための電圧制御部146、受光素子137からの信号を受信する受光回路147、センサーチップ110のコードを読み取り、センサーチップ110の有無を検出するセンサーチップ検出器148からの信号を受信するセンサーチップ検出回路149、および排出手段133を制御する排出ドライバー回路150などを備えている。
本体部130の上部のセンサー部カバー131の内部には、センサーチップ検出器148が設けられており、このセンサーチップ検出器148でセンサーチップ110の有無が検出される。信号処理部144は、センサーチップ検出器148からの検出信号を検出すると、センサーチップ110が装着された状態であると判断し、表示部141へ検出動作を実施可能な旨を表示させる表示信号を出す。
これらのレイリー散乱光やラマン散乱光は、光学部135を通ってフィルター136に入射し、フィルター136によりレイリー散乱光が分離され、ラマン散乱光が光学フィルターデバイス600に入射する。そして、信号処理部144は、電圧制御部146を制御し、光学フィルターデバイス600の波長可変干渉フィルター5に印加する電圧を調整し、検出対象となるガス分子に対応したラマン散乱光を光学フィルターデバイス600の波長可変干渉フィルター5で分光させる。この後、分光した光が受光素子137で受光されると、受光量に応じた受光信号が受光回路147を介して信号処理部144に出力される。
信号処理部144は、上記のようにして得られた検出対象となるガス分子に対応したラマン散乱光のスペクトルデータと、ROMに格納されているデータとを比較し、目的のガス分子か否かを判定し、物質の特定をする。また、信号処理部144は、表示部141にその結果情報を表示させたり、接続部142から外部へ出力したりする。
以下に、上記物質成分分析装置の一例として、食物分析装置を説明する。
この食物分析装置200は、図11に示すように、検出器210(光学モジュール)と、制御部220と、表示部230と、を備えている。検出器210は、光を射出する光源211と、測定対象物からの光が導入される撮像レンズ212と、撮像レンズ212から導入された光を分光する光学フィルターデバイス600と、分光された光を検出する撮像部213(検出部)と、を備えている。
また、制御部220は、光源211の点灯・消灯制御、点灯時の明るさ制御を実施する光源制御部221と、光学フィルターデバイス600の波長可変干渉フィルター5を制御する電圧制御部222と、撮像部213を制御し、撮像部213で撮像された分光画像を取得する検出制御部223と、信号処理部224と、記憶部225と、を備えている。
そして、信号処理部224は、上述のようにして得られた検査対象の食物の成分や含有量、カロリーや鮮度等の情報を表示部230に表示させる処理をする。
さらには、鉱物の成分分析を実施する鉱物分析装置としても用いることができる。
例えば、各波長の光の強度を経時的に変化させることで、各波長の光でデータを伝送させることも可能であり、この場合、光学モジュールに設けられた波長可変干渉フィルターにより特定波長の光を分光し、受光部で受光させることで、特定波長の光により伝送されるデータを抽出することができ、このようなデータ抽出用光学モジュールを備えた電子機器により、各波長の光のデータを処理することで、光通信を実施することもできる。
図12は、分光カメラの概略構成を示す模式図である。分光カメラ300は、図12に示すように、カメラ本体310と、撮像レンズユニット320と、撮像部330(検出部)とを備えている。
カメラ本体310は、利用者により把持、操作される部分である。
撮像レンズユニット320は、カメラ本体310に設けられ、入射した画像光を撮像部330に導光する。また、この撮像レンズユニット320は、図12に示すように、対物レンズ321、結像レンズ322、及びこれらのレンズ間に設けられた光学フィルターデバイス600を備えて構成されている。
撮像部330は、受光素子により構成され、撮像レンズユニット320により導光された画像光を撮像する。
このような分光カメラ300では、光学フィルターデバイス600の波長可変干渉フィルター5により撮像対象となる波長の光を透過させることで、所望波長の光の分光画像を撮像することができる。
また、本発明の波長可変干渉フィルターを生体認証装置として用いてもよく、例えば、近赤外領域や可視領域の光を用いた、血管や指紋、網膜、虹彩などの認証装置にも適用できる。
Claims (9)
- 光を内側に入射可能な入射光通過孔を有する筐体と、
前記筐体の外側に設けられ、前記入射光通過孔を覆う透光基板と、
前記透光基板に設けられ、前記入射光通過孔へ入射する光を制限するアパーチャーと、
前記筐体の内側に設けられ、第一反射膜、及び前記第一反射膜に対向する第二反射膜を備えた干渉フィルターと、
を備え、
前記第一反射膜及び前記第二反射膜を膜厚方向から見た平面視において、前記アパーチャーの開口と、前記入射光通過孔と、前記第一反射膜及び前記第二反射膜とが重なるように設けられ、
前記入射光通過孔に近い前記第一反射膜の直径をΦmとし、前記入射光通過孔の口径をΦpとし、前記アパーチャーの開口径をΦaとしたとき、Φa<Φm<Φpの関係を満たすことを特徴とする光学フィルターデバイス。 - 光を内側に入射可能な入射光通過孔を有する筐体と、
前記筐体の外側に設けられ、前記入射光通過孔へ入射する光を制限するアパーチャーと、
前記筐体の内側に設けられ、第一反射膜、及び前記第一反射膜に対向する第二反射膜を備えた干渉フィルターと、
を備え、
前記第一反射膜及び前記第二反射膜を膜厚方向から見た平面視において、前記アパーチャーの開口と、前記入射光通過孔と、前記第一反射膜及び前記第二反射膜とが重なるように設けられ、
前記入射光通過孔に近い前記第一反射膜の直径をΦmとし、前記入射光通過孔の口径をΦpとし、前記アパーチャーの開口径をΦaとしたとき、Φa<Φm<Φpの関係を満たし、
前記アパーチャーにおける前記第一反射膜に対向する面の光反射率は1%以下であることを特徴とする光学フィルターデバイス。 - 請求項1または請求項2に記載の光学フィルターデバイスにおいて、
前記アパーチャーの開口、前記入射光通過孔、前記第一反射膜、及び前記第二反射膜の前記平面視における各中心点は、同軸上に位置していることを特徴とする光学フィルターデバイス。 - 請求項1から請求項3のいずれかに記載の光学フィルターデバイスにおいて、
前記入射光通過孔から前記第一反射膜に入射する光の入射角度をθとし、前記第一反射膜から前記アパーチャーまでの距離をdとしたとき、(Φp−Φm)>2dtanθの関係を満たすことを特徴とする光学フィルターデバイス。 - 請求項4に記載の光学フィルターデバイスにおいて、
(Φm−Φa)>2dtanθの関係を満たすことを特徴とする光学フィルターデバイス。 - 請求項1に記載の光学フィルターデバイスにおいて、
前記透光基板における前記第一反射膜に対向する面には、反射防止膜が設けられていることを特徴とする光学フィルターデバイス。 - 請求項1から請求項6のいずれかに記載の光学フィルターデバイスにおいて、
前記筐体は、前記第一反射膜及び前記第二反射膜に対して前記入射光通過孔とは反対側に位置し、前記平面視において前記第一反射膜及び前記第二反射膜と重なる出射光通過孔を有し、
前記出射光通過孔の口径をΦoとしたとき、Φo<Φpの関係を満たすことを特徴とする光学フィルターデバイス。 - 請求項1から請求項7のいずれかに記載の光学フィルターデバイスを含むことを特徴とする光学モジュール。
- 請求項1から請求項7のいずれかに記載の光学フィルターデバイスを含むことを特徴とする電子機器。
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