JP6090514B1 - 重合性化合物の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】高純度な重合性化合物を、工業的に有利に製造する方法の提供。【解決手段】下記式（Ｉ）で示される重合性化合物の製造方法であって、下記式（ＩＩ）で示されるハロゲン化体を含む組成物を、有機溶媒中、塩基性化合物を含む水層の存在下で、脱ハロゲン化水素反応に供する工程を含む、製造方法。【化１】【化２】【選択図】なし

Description

本発明は、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムの調製に使用し得る重合性化合物の製造方法、並びに、当該製造方法に使用し得るハロゲン化体および混合物に関するものである。

フラットパネル表示装置等の各種装置において用いられている位相差板には、直線偏光を円偏光に変換する１／４波長板や直線偏光の偏光振動面を９０度変換する１／２波長板等がある。これらの位相差板は、ある特定の単色光に対しては正確に光線波長の１／４λあるいは１／２λの位相差を与えることが可能なものである。
しかしながら、従来の位相差板には、位相差板を通過して出力される偏光が有色の偏光に変換されてしまうという問題があった。これは、位相差板を構成する材料が位相差について波長分散性を有し、可視光域の光線が混在する合成波である白色光に対しては各波長ごとの偏光状態に分布が生じることから、入力光を全ての波長領域において正確な１／４λあるいは１／２λの位相差の偏光に調整することが不可能であることに起因する。
このような問題を解決するため、広い波長域の光に対して均一な位相差を与え得る広帯域位相差板、いわゆる逆波長分散性を有する位相差板が種々検討されている。

一方、モバイルパソコン、携帯電話等携帯型の情報端末の高機能化及び普及に伴い、フラットパネル表示装置の厚みを極力薄く抑えることが求められてきている。その結果、構成部材である位相差板の薄層化も求められている。
薄層化の方法としては、低分子重合性化合物を含有する重合性組成物をフィルム基材に塗布して光学フィルムを形成することにより位相差板を作製する方法が、近年では最も有効な方法とされている。そのため、優れた逆波長分散性を有する光学フィルムを形成可能な重合性化合物またはそれを用いた重合性組成物の開発が多く行われている。

そして、例えば特許文献１では、逆波長分散性に優れる光学フィルムを形成可能であると共に、加工に適した低い融点を有して基材に塗布することが容易であり、液晶性を示す温度範囲が広く、更に安価で合成可能な重合性化合物および重合性組成物が提案されている。

国際公開第２０１４／０１０３２５号

ここで、本発明者らは、逆波長分散性などの性能に優れる光学フィルムを与える化合物として、下記式（Ｉ）：

〔式（Ｉ）中、化学構造を示す記号および添え字の意味は後述する。〕で示される重合性化合物（「重合性化合物（Ｉ）」）に着目した。しかしながら、本発明者らの検討によれば、従来の製造方法を用いても、当該重合性化合物を十分に高い収率で製造することは困難な場合があった。例えば、特許文献１に記載された手法で所望の重合性化合物を調製すると、重合性化合物の合成に用いるハロゲン含有化合物中の不純物あるいは、その他原料化合物中に不純物として混入するハロゲン含有化合物の存在あるいは、塩類など反応に伴って生成する副生成物の影響に因ると推察されるが、重合性化合物のハロゲン化体が生成する場合があることが、本発明者らの検討で明らかとなった。

本発明は、かかる実情のもとになされたものであって、高純度な重合性化合物を、工業的に有利に製造する方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、当該重合性組成物の製造方法に有用なハロゲン化体、およびそのハロゲン化体を含む混合物を提供することを目的とする。

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した。その結果、本発明者らは、重合性化合物（Ｉ）の合成過程の何れかの段階で、副生成物として生成するハロゲン化体を脱ハロゲン化水素反応させれば、上述した重合性化合物（Ｉ）の収率を高めることができることに着想した。また、本発明者らは、更なる検討の結果、重合性化合物（Ｉ）の原料化合物として、所定のハロゲン化体を敢えて選択し、当該ハロゲン化体を脱ハロゲン化水素反応させることでも、結果としてハロゲン化体の混入割合が少ない（即ち、純度の高い）重合性化合物（Ｉ）を製造できることを見出した。そして、本発明者らは、これらの検討を経て、本発明を完成するに至った。
かくして本発明によれば、下記に示す重合性化合物の製造方法、ハロゲン化体および混合物が提供される。

〔１〕下記式（Ｉ）：

〔式（Ｉ）中、Ａｒ^１は、Ｄ^１を置換基として有する２価の芳香族炭化水素環基、または、Ｄ^１を置換基として有する２価の芳香族複素環基を表し、
Ｄ^１は、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群より選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する炭素数１〜２０の有機基を表し、
Ｚ^１１およびＺ^１２は、それぞれ独立して、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ^１１−ＣＯ−、または、−ＣＯ−ＮＲ^１２−を表し、Ｒ^１１およびＲ^１２はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ａ^１１、Ａ^１２、Ｂ^１１およびＢ^１２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基を表し、
Ｙ^１１、Ｙ^１２、Ｌ^１１およびＬ^１２は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ^２１−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ^２２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ^２３−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ^２４−、または、−ＮＲ^２５−ＣＯ−ＮＲ^２６−を表し、Ｒ^２１〜Ｒ^２６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基を表し、
ａおよびｄは、それぞれ独立して、１〜２０の整数を表し、
ｂおよびｃは、それぞれ独立して、０または１である。〕で示される重合性化合物の製造方法であって、
下記式（ＩＩ）：

〔式（ＩＩ）中、Ｘ^１はハロゲン原子を表し、
Ｇは、有機基を表し、
Ｒ^１およびａは、前記式（Ｉ）と同じ意味を表す。〕で示されるハロゲン化体を含む組成物を、有機溶媒中、塩基性化合物を含む水層の存在下で、脱ハロゲン化水素反応に供する工程を含む、製造方法。

〔２〕前記式（ＩＩ）で示されるハロゲン化体が、下記式（ＩＩＩ）：

〔式（ＩＩＩ）中、Ｑは、下記式（ＩＩＩ−１）：

［式（ＩＩＩ−１）中、Ｒ^２は、前記式（Ｉ）と同じ意味を表す。］または下記式（ＩＩＩ−２）：

［式（ＩＩＩ−２）中、Ｘ^２は、ハロゲン原子を表し、Ｒ^２は、前記式（Ｉ）と同じ意味を表す。］で表される基を示し、
Ｘ^１は、前記式（ＩＩ）と同じ意味を表し、
Ａｒ^１ 、Ｚ^１１、Ｚ^１２、Ａ^１１、Ａ^１２、Ｂ^１１、Ｂ^１２、Ｙ^１１、Ｙ^１２、Ｌ^１１、Ｌ^１２、Ｒ^１、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、前記式（Ｉ）と同じ意味を表す。〕で示されるハロゲン化体である、前記〔１〕に記載の製造方法。

〔３〕前記Ｘ^１およびＸ^２が塩素原子である、前記〔２〕に記載の製造方法。

〔４〕前記式（ＩＩ）で示されるハロゲン化体が、下記式（ＩＶ）：

〔式（ＩＶ）中、ＦＧ^１は、水酸基、カルボキシル基またはアミノ基を表し、
Ｒ^１、Ｙ^１１、B^１１およびａは、前記式（Ｉ）と同じ意味を表し、
Ｘ^１は、前記式（ＩＩ）と同じ意味を表す。〕で示されるハロゲン化体である、前記〔１〕に記載の製造方法。

〔５〕前記Ｘ^１が塩素原子である、前記〔４〕に記載の製造方法。

〔６〕前記ＦＧ^１が水酸基である、前記〔４〕または〔５〕に記載の製造方法。

〔７〕前記組成物が、前記式（ＩＶ）で示されるハロゲン化体と、下記式（Ｖ）：

〔式（Ｖ）中、Ｒ^１、Ｙ^１１、B^１１、ＦＧ^１およびａは、前記式（ＩＶ）と同じ意味を表す。〕で示される化合物を含む混合物である、前記〔４〕〜〔６〕の何れかに記載の製造方法。

〔８〕前記式（ＩＶ）で示されるハロゲン化体と前記式（Ｖ）で示される化合物の合計中に占める前記式（ＩＶ）で示されるハロゲン化体の割合が、０．０１質量％以上５質量％以下である、前記〔７〕に記載の製造方法。

〔９〕前記式（ＩＩ）で示されるハロゲン化体が、下記式（ＶＩ）：

〔式（ＶＩ）中、ＦＧ^２は、水酸基、カルボキシル基またはアミノ基を表し、
Ｒ^１、Ｙ^１１、Ｂ^１１、Ｌ^１１、Ａ^１１、ａおよびｂは、前記式（Ｉ）と同じ意味を表し、
Ｘ^１は、前記式（ＩＩ）と同じ意味を表す。〕で示されるハロゲン化体である、前記〔１〕に記載の製造方法。

〔１０〕前記Ｘ^１が塩素原子である、前記〔９〕に記載の製造方法。

〔１１〕前記ＦＧ^２がカルボキシル基であり、
前記ｂが１である、前記〔９〕または〔１０〕に記載の製造方法。

〔１２〕前記組成物が、前記式（ＶＩ）で示されるハロゲン化体と、下記式（ＶＩＩ）：

〔式（ＶＩＩ）中、Ｒ^１、Ｙ^１１、Ｂ^１１、Ｌ^１１、Ａ^１１、ＦＧ^２、ａおよびｂは、前記式（ＶＩ）と同じ意味を表す。〕で示される化合物を含む混合物である、前記〔９〕〜〔１１〕の何れかに記載の製造方法。

〔１３〕前記式（ＶＩ）で示されるハロゲン化体と前記式（ＶＩＩ）で示される化合物の合計中に占める前記式（ＶＩ）で示されるハロゲン化体の割合が、０．０１質量％以上５質量％以下である、前記〔１２〕に記載の製造方法。

〔１４〕前記Ａｒ ^１ が、下記式（ＶＩＩＩ）：

〔式（ＶＩＩＩ）中、Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群より選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する炭素数２〜２０の有機基を表し、
Ｒａは、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の有機基を表す。〕で表される２価の基である、前記〔１〕〜〔１３〕の何れかに記載の製造方法。

〔１５〕前記Ａｘが、下記式（ＩＸ）：

〔式（ＩＸ）中、Ｒ^Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、または、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ^ｂを表し、Ｒ^ｂは、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、または、置換基を有していてもよい炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基を表し、複数のＲ^Ｘ同士は、すべて同一であっても、相異なっていてもよく、環を構成する少なくとも１つのＣ−Ｒ^Ｘは、窒素原子に置き換えられていてもよい。〕
で表される基である、前記〔１４〕に記載の製造方法。

〔１６〕下記式（ＩＶ）：

〔式（ＩＶ）中、
Ｘ^１は、ハロゲン原子を表し、
Ｒ^１は、水素原子またはメチル基を表し、
Ｙ^１１は、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ^１１−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ^１２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ^１３−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ^１４−、または、−ＮＲ^１５−ＣＯ−ＮＲ^１６−を表し、Ｒ^１１〜Ｒ^１６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
B^１１は、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基を表し、
ＦＧ^１は、水酸基、カルボキシル基またはアミノ基を表し、
ａは、１〜２０の整数を表す。〕で示されるハロゲン化体。

〔１７〕前記Ｘ^１が塩素原子である、前記〔１６〕に記載のハロゲン化体。

〔１８〕前記ＦＧ^１が水酸基である、前記〔１６〕または〔１７〕に記載のハロゲン化体。

〔１９〕前記〔１６〕〜〔１８〕の何れかに記載のハロゲン化体と、
下記式（Ｖ）：

〔式（Ｖ）中、Ｒ^１、Ｙ^１１、B^１１、ＦＧ^１およびａは、前記式（ＩＶ）と同じ意味を表す。〕
で示される化合物と、
を含む混合物。

〔２０〕前記式（ＩＶ）で示されるハロゲン化体および前記式（Ｖ）で示される化合物の合計中に占める前記式（ＩＶ）で示されるハロゲン化体の割合が、０．０１質量％以上５質量％以下である、前記〔１９〕に記載の混合物。

〔２１〕下記式（ＶＩ）：

〔式（ＶＩ）中、
Ｘ^１は、ハロゲン原子を表し、
Ｒ^１は、水素原子またはメチル基を表し、
Ｙ^１１およびＬ^１１は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ^１１−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ^１２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ^１３−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ^１４−、または、−ＮＲ^１５−ＣＯ−ＮＲ^１６−を表し、Ｒ^１１〜Ｒ^１６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ａ^１１およびＢ^１１は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基を表し、
ＦＧ^２は、水酸基、カルボキシル基またはアミノ基を表し、
ａは、１〜２０の整数を表し、
ｂは、０または１である。〕で示されるハロゲン化体。

〔２２〕前記Ｘ^１が塩素原子である、前記〔２１〕に記載のハロゲン化体。

〔２３〕前記ＦＧ^２がカルボキシル基であり、
前記ｂが１である、前記〔２１〕または〔２２〕に記載のハロゲン化体。

〔２４〕前記〔２１〕〜〔２３〕の何れかに記載のハロゲン化体と、
下記式（ＶＩＩ）：

〔式（ＶＩＩ）中、Ｒ^１、Ｙ^１１、Ｂ^１１、Ｌ^１１、Ａ^１１、ＦＧ^２、ａおよびｂは、前記式（ＶＩ）と同じ意味を表す。〕で示される化合物と、
を含む混合物。

〔２５〕前記式（ＶＩ）で示されるハロゲン化体と前記式（ＶＩＩ）で示される化合物の合計中に占める前記式（ＶＩ）で示されるハロゲン化体の割合が、０．０１質量％以上５質量％以下である、前記〔２４〕に記載の混合物。

本発明によれば、高純度な重合性化合物を、工業的に有利に製造する方法を提供することができる。
また、本発明によれば、当該重合性組成物の製造方法に有用なハロゲン化体、およびそのハロゲン化体を含む混合物を提供することができる。

以下、本発明を詳細に説明する。なお、本発明において、「置換基を有していてもよい」は、「無置換の、または、置換基を有する」の意味である。また、一般式中に含まれるアルキル基や芳香族炭化水素環基等の有機基が置換基を有する場合、当該置換基を有する有機基の炭素数には、置換基の炭素数を含まないものとする。例えば、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基が置換基を有する場合、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基の炭素数には、このような置換基の炭素数を含まないものとする。

ここで、本発明の重合性化合物の製造方法は、上述した重合性化合物（Ｉ）を製造するために用いられる。また、本発明のハロゲン化体および混合物は、本発明の重合性化合物の製造方法に用いることができる。

本発明の重合性化合物の製造方法は、有機溶媒中に溶解している式（ＩＩ）で示されるハロゲン化体（「ハロゲン化体（ＩＩ）」）を含む組成物を、少なくとも１種の塩基性化合物を含む水層の存在下で、脱ハロゲン化水素反応に供する工程を含む、重合性化合物（Ｉ）を製造する方法である。
そして、本発明の重合性化合物の製造方法によれば、ハロゲン化体（ＩＩ）を脱ハロゲン化水素反応させて、最終的に得られる生成物中に占めるハロゲン化体の割合を低下させて、重合性化合物（Ｉ）の収率を高めることができる。
従って、本発明の製造方法によれば、純度の高い重合性化合物（Ｉ）を、工業的に有利に製造することができる。

（１）重合性化合物（Ｉ）
ここで、本発明の製造方法の目的生成物である重合性化合物（Ｉ）は、光学フィルムの作製に用いられる化合物である。そして、重合性化合物（Ｉ）を用いれば、逆波長分散性等の諸特性に優れる光学フィルムを作製することができる。重合性化合物（Ｉ）は、以下の式（Ｉ）で示される化合物である。

ここで、式（Ｉ）中、ａおよびｄは、それぞれ独立して、１〜２０の整数であり、２〜１２の整数が好ましく、４〜８の整数がより好ましく、ｂおよびｃは、それぞれ独立して、０または１であり、１が好ましい。

そして、Ａｒ^１は、Ｄ^１を置換基として有する２価の芳香族炭化水素環基、または、Ｄ^１を置換基として有する２価の芳香族複素環基である。また、Ｄ^１は、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群より選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する炭素数１〜２０の有機基である。

ここで、Ｄ^１を置換基として有する２価の芳香族炭化水素環基またはＤ^１を置換基として有する２価の芳香族複素環基とは、Ｄ^１が結合している芳香族炭化水素環またはＤ^１が結合している芳香族複素環の環部分からＤ^１が結合している炭素以外の炭素に結合している水素原子を２個取り除いた基である。

そして、Ａｒ^１の２価の芳香族炭化水素環基としては、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基、１，４−ナフチレン基、２，６−ナフチレン基、１，５−ナフチレン基、アントラセニル−９，１０−ジイル基、アントラセニル−１，４−ジイル基、アントラセニル−２，６−ジイル基等が挙げられる。
これらの中でも、２価の芳香族炭化水素環基としては、１，４−フェニレン基、１，４−ナフチレン基または２，６−ナフチレン基が好ましい。

また、Ａｒ^１の２価の芳香族複素環基としては、ベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、１，２−ベンゾイソチアゾール−４，７−ジイル基、ベンゾオキサゾール−４，７−ジイル基、インドーニル−４，７−ジイル基、ベンゾイミダゾール−４，７−ジイル基、ベンゾピラゾール−４，７−ジイル基、１−ベンゾフラン−４，７−ジイル基、２−ベンゾフラン−４，７−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｄ：４，５−ｄ’］ジチアゾリル−４，８−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｄ：５，４−ｄ’］ジチアゾリル−４，８−ジイル基、ベンゾチオフェニル−４，７−ジイル基、１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン−４，７−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：５，４−ｂ’］ジチオフェニル−４，８−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ’］ジチオフェニル−４，８−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：５，４−ｂ’］ジフラニル−４，８−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ’］ジフラニル−４，８−ジイル基、ベンゾ［２，１−ｂ：４，５−ｂ’］ジピロール−４，８−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：５，４−ｂ’］ジピロール−４，８−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｄ：４，５−ｄ’］ジイミダゾール−４，８−ジイル基等が挙げられる。
これらの中でも、２価の芳香族複素環基としては、ベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、ベンゾオキサゾール−４，７−ジイル基、１−ベンゾフラン−４，７−ジイル基、２−ベンゾフラン−４，７−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｄ：４，５−ｄ’］ジチアゾリル−４，８−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｄ：５，４−ｄ’］ジチアゾリル−４，８−ジイル基、ベンゾチオフェニル−４，７−ジイル基、１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン−４，７−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：５，４−ｂ’］ジチオフェニル−４，８−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ’］ジチオフェニル−４，８−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：５，４−ｂ’］ジフラニル−４，８−ジイル基またはベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ’］ジフラニル−４，８−ジイル基が好ましい。

Ａｒ^１の２価の芳香族炭化水素環基および２価の芳香族複素環基は、Ｄ^１の他に、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ターシャリーブチル基等の炭素数１〜６のアルキル基から選ばれる少なくとも１つの置換基を有していてもよい。置換基が複数の場合は、複数の置換基は互いに同一でも異なっていてもよい。２価の芳香族炭化水素環基および２価の芳香族複素環基のＤ^１以外の置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ｓｅｃ−ブチル基およびターシャリーブチル基から選ばれる少なくとも１つの置換基が好ましい。

また、Ｄ^１の、「芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数１〜２０の有機基」において、「芳香環」とは、Ｈｕｃｋｅｌ則に従う広義の芳香族性を有する環状構造、すなわち、π電子を（４ｎ＋２）個有する環状共役構造、および、チオフェン、フラン、ベンゾチアゾール等に代表される、硫黄、酸素、窒素等のヘテロ原子の孤立電子対がπ電子系に関与して芳香族性を示す環状構造を意味する。

そして、Ｄ^１が有する芳香環は、１または複数の置換基を有していてもよい。
また、前記Ａｒ^１およびＤ^１の中に含まれるπ電子の合計数は、通常１２以上であり、好ましくは１２以上２２以下であり、より好ましくは１２以上２０以下である。

なお、Ｄ^１の、芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ピレン環、フルオレン環等が挙げられる。
これらの中でも、芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましい。

また、Ｄ^１の、芳香族複素環としては、例えば、１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン環、１−ベンゾフラン環、２−ベンゾフラン環、アクリジン環、イソキノリン環、イミダゾール環、インドール環、オキサジアゾール環、オキサゾール環、オキサゾロピラジン環、オキサゾロピリジン環、オキサゾロピリダジル環、オキサゾロピリミジン環、キナゾリン環、キノキサリン環、キノリン環、シンノリン環、チアジアゾール環、チアゾール環、チアゾロピラジン環、チアゾロピリジン環、チアゾロピリダジン環、チアゾロピリミジン環、チオフェン環、トリアジン環、トリアゾール環、ナフチリジン環、ピラジン環、ピラゾール環、ピラノン環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピロール環、フェナントリジン環、フタラジン環、フラン環、ベンゾ［ｃ］チオフェン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾオキサジアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアジアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾチオフェン環、ベンゾトリアジン環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾピラゾール環、ペンゾピラノン環、ジヒドロピラン環、テトラヒドロピラン環、ジヒドロフラン環、テトラヒドロフラン環等が挙げられる。
これらの中でも、芳香族複素環としては、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、１−ベンゾフラン環、２−ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン環、チオフェン環、フラン環、ベンゾ［ｃ］チオフェン環、オキサゾール環、チアゾール環、オキサジアゾール環、ピラン環、ベンゾイソオキサゾール環、チアジアゾール環、ベンゾオキサジアゾール環、ベンゾチアジアゾール環が好ましい。

そして、Ｄ^１である、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する炭素数１〜２０の有機基としては、特に限定されることなく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環基、置換基を有していてもよい芳香族複素環基、または、式：−Ｒ^ｆＣ（＝Ｎ−ＮＲ^ｇＲ^ｈ）で表される基が挙げられる。
なお、上記式中、Ｒ^ｆは、水素原子、または、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基を表す。
また、上記式中、Ｒ^ｇは、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の有機基を表す。ここで、炭素数１〜２０の有機基およびその置換基としては、後述するＲａの炭素数１〜２０の有機基およびその置換基の具体例として列記したものと同じものが挙げられる。
更に、上記式中、Ｒ^ｈは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群より選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する炭素数２〜２０の有機基を表す。ここで、炭素数２〜２０の有機基およびその置換基の具体例としては、後述するＡｘの炭素数２〜２０の有機基およびその置換基の具体例として列記したものと同じものが挙げられる。

具体的には、Ｄ^１となる芳香族炭化水素環基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントレニル基、ピレニル基、フルオレニル基等が挙げられる。
これらの中でも、芳香族炭化水素環基としては、フェニル基、ナフチル基が好ましい。

また、Ｄ^１となる芳香族複素環基としては、フタルイミド基、１−ベンゾフラニル基、２−ベンゾフラニル基、アクリジニル基、イソキノリニル基、イミダゾリル基、インドリニル基、フラザニル基、オキサゾリル基、オキサゾロピラジニル基、オキサゾロピリジニル基、オキサゾロピリダジニル基、オキサゾロピリミジニル基、キナゾリニル基、キノキサリニル基、キノリル基、シンノリニル基、チアジアゾリル基、チアゾリル基、チアゾロピラジニル基、チアゾロピリジル基、チアゾロピリダジニル基、チアゾロピリミジニル基、チエニル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、ナフチリジニル基、ピラジニル基、ピラゾリル基、ピラノンニル基、ピラニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピロリル基、フェナントリジニル基、フタラジニル基、フラニル基、ベンゾ［ｃ］チエニル基、ベンゾイソオキサゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアジアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾチエニル基、ベンゾトリアジニル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾピラゾリル基、ペンゾピラノンニル基、ジヒドロピラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジヒドロフラニル基、テトラヒドロフラニル基等が挙げられる。
これらの中でも、芳香族複素環基としては、フラニル基、チエニル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、１−ベンゾフラニル基、２−ベンゾフラニル基、ベンゾチエニル基、チアゾロピリジル基が好ましい。

Ｄ^１となる芳香族炭化水素環基および芳香族複素環基は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基等の炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基；フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜８のシクロアルキル基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^ｂ’；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ^ｂ’；−ＳＲ^ｂ’；−ＳＯ_２Ｒ^ｄ’；水酸基；等から選ばれる少なくとも１つの置換基を有していてもよい。ここで、Ｒ^ｂ’は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基または置換基を有していてもよい炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基を表し、Ｒ^ｄ’は、メチル基、エチル基等の炭素数１〜６のアルキル基；フェニル基、４−メチルフェニル基、４−メトキシフェニル基等の、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基を表す。なお、芳香族炭化水素環基および芳香族複素環基が複数の置換基を有する場合、置換基は同一でも相異なっていてもよい。

Ｒ^ｂ’の、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、および、置換基を有していてもよい炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜２０のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基；フラニル基、チオフェニル基等の炭素数２〜２０の芳香族複素環基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜８のシクロアルキル基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、−ＣＨ_２ＣＦ_３等の、少なくとも１個の水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜１２のフルオロアキル基等が挙げられる。Ｒ^ｂ’の炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、および、炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基は、上述した置換基から選ばれる１または複数の置換基を有していてもよく、複数の置換基を有する場合は、複数の置換基は互いに同一でも相異なっていてもよい。

また、Ｒ^ｂ’の、炭素数３〜１２のシクロアルキル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；および、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基等が挙げられる。Ｒ^ｂ’の炭素数３〜１２のシクロアルキル基は、上述した置換基から選ばれる１または複数の置換基を有していてもよく、複数の置換基を有する場合は、複数の置換基は互いに同一でも相異なっていてもよい。

そして、上述したＡｒ ^１ としては、式：−Ｒ^ｆＣ（＝Ｎ−ＮＲ^ｇＲ^ｈ）で表される基で置換されたフェニレン基、１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、５−（２−ブチル）−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４，６−ジメチル−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、６−メチル−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４，６，７−トリメチル−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４，５，６−トリメチル−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、５−メチル−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、５−プロピル−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、７−プロピル−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、５−フルオロ−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、フェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４−フルオロフェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４−ニトロフェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４−トリフルオロメチルフェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４−シアノフェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４−メタンスルホニルフェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、チオフェン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、チオフェン−３−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、５−メチルチオフェン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、５−クロロチオフェン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、チエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、２−ベンゾチアゾリル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４−ビフェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４−プロピルビフェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４−チアゾリル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、１−フェニルエチレン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４−ピリジル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、２−フリル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、ナフト［１，２−ｂ］フラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、５−メトキシ−２−ベンゾチアゾリル基で置換された１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン−４，７−ジイル基、フェニル基で置換された１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン−４，７−ジイル基、４−ニトロフェニル基で置換された１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン−４，７−ジイル基、または、２−チアゾリル基で置換された１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン−４，７−ジイル基等が挙げられる。ここで、Ｒ^ｆ、Ｒ^ｇ、Ｒ^ｈは前記と同じ意味を表す。

ここで、Ａｒ ^１ としては、下記式（ＶＩＩＩ）で表される２価の基が好ましい。

〔式（ＶＩＩＩ）中、Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群より選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する炭素数２〜２０の有機基を表し、Ｒａは、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の有機基を表す。〕

なお、本明細書において、下記式（ｉ）で示される部分構造は、下記式（ｉａ）および／または（ｉｉｂ）で示される部分構造を意味する。

ここで、Ａｘの、「芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜２０の有機基」において、「芳香環」とは、Ｈｕｃｋｅｌ則に従う広義の芳香族性を有する環状構造、すなわち、π電子を（４ｎ＋２）個有する環状共役構造、および、チオフェン、フラン、ベンゾチアゾール等に代表される、硫黄、酸素、窒素等のヘテロ原子の孤立電子対がπ電子系に関与して芳香族性を示す環状構造を意味する。

Ａｘの、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する炭素数２〜２０の有機基は、芳香環を複数個有するものであってもよく、芳香族炭化水素環および芳香族複素環を有するものであってもよい。

なお、Ａｘの、芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ピレン環、フルオレン環等が挙げられる。
これらの中でも、芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましい。

また、Ａｘの、芳香族複素環としては、例えば、１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン環、１−ベンゾフラン環、２−ベンゾフラン環、アクリジン環、イソキノリン環、イミダゾール環、インドール環、オキサジアゾール環、オキサゾール環、オキサゾロピラジン環、オキサゾロピリジン環、オキサゾロピリダジル環、オキサゾロピリミジン環、キナゾリン環、キノキサリン環、キノリン環、シンノリン環、チアジアゾール環、チアゾール環、チアゾロピラジン環、チアゾロピリジン環、チアゾロピリダジン環、チアゾロピリミジン環、チオフェン環、トリアジン環、トリアゾール環、ナフチリジン環、ピラジン環、ピラゾール環、ピラノン環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピロール環、フェナントリジン環、フタラジン環、フラン環、ベンゾ［ｃ］チオフェン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾオキサジアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアジアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾチオフェン環、ベンゾトリアジン環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾピラゾール環、ペンゾピラノン環、ジヒドロピラン環、テトラヒドロピラン環、ジヒドロフラン環、テトラヒドロフラン環等が挙げられる。
これらの中でも、芳香族複素環としては、フラン環、チオフェン環、オキサゾール環、チアゾール環等の単環の芳香族複素環；ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、１−ベンゾフラン環、２−ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、チアゾロピリジン環、チアゾロピラジン環等の縮合環の芳香族複素環が好ましい。

Ａｘが有する芳香環は置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；ビニル基、アリル基等の炭素数２〜６のアルケニル基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^ｂ；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ^ｂ；−ＳＯ_２Ｒ^ｄ；等が挙げられる。ここで、Ｒ^ｂは置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、または、置換基を有していてもよい炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基を表す。また、Ｒ^ｄは、メチル基、エチル基等の炭素数１〜６のアルキル基；フェニル基、４−メチルフェニル基、４−メトキシフェニル基等の、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基を表す。これらの中でも、Ａｘが有する芳香環の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基、および、炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましい。
なお、Ａｘは、上述した置換基から選ばれる複数の置換基を有していてもよい。Ａｘが複数の置換基を有する場合、置換基は同一でも相異なっていてもよい。

Ｒ^ｂの、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基の炭素数１〜２０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、１−メチルペンチル基、１−エチルペンチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−へキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−イコシル基等が挙げられる。なお、置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルキル基の炭素数は、１〜１２であることが好ましく、４〜１０であることが更に好ましい。

Ｒ^ｂの、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基の炭素数２〜２０のアルケニル基としては、ビニル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基、ノナデセニル基、イコセニル基等が挙げられる。
置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基の炭素数は、２〜１２であることが好ましい。

Ｒ^ｂの炭素数１〜２０のアルキル基および炭素数２〜２０のアルケニル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜２０のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基等の、炭素数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素数１〜１２のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基；トリアゾリル基、ピロリル基、フラニル基、チオフェニル基等の、炭素数２〜２０の芳香族複素環基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜８のシクロアルキル基；シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の炭素数３〜８のシクロアルキルオキシ基；テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基等の炭素数２〜１２の環状エーテル基；フェノキシ基、ナフトキシ基等の炭素数６〜１４のアリールオキシ基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、−ＣＨ_２ＣＦ_３等の、少なくとも１個の水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜１２のフルオロアキル基；ベンゾフリル基；ベンゾピラニル基；ベンゾジオキソリル基；ベンゾジオキサニル基等が挙げられる。これらの中でも、Ｒ^ｂの炭素数１〜２０のアルキル基および炭素数２〜２０のアルケニル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜２０のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基；フラニル基、チオフェニル基等の、炭素数２〜２０の芳香族複素環基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜８のシクロアルキル基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、−ＣＨ_２ＣＦ_３等の、少なくとも１個の水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜１２のフルオロアキル基が好ましい。
なお、Ｒ^ｂの炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基は、上述した置換基から選ばれる複数の置換基を有していてもよい。Ｒ^ｂの炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基が複数の置換基を有する場合、複数の置換基は互いに同一でも相異なっていてもよい。

Ｒ^ｂの、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基の炭素数３〜１２のシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等が挙げられる。これらの中でも、シクロペンチル基、シクロヘキシル基が好ましい。
Ｒ^ｂの炭素数３〜１２のシクロアルキル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基等が挙げられる。中でも、Ｒ^ｂの炭素数３〜１２のシクロアルキル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基が好ましい。
なお、Ｒ^ｂの炭素数３〜１２のシクロアルキル基は、複数の置換基を有していてもよい。Ｒ^ｂの炭素数３〜１２のシクロアルキル基が複数の置換基を有する場合、複数の置換基は互いに同一でも相異なっていてもよい。

Ｒ^ｂの、置換基を有していてもよい炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基の炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基としては、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等が挙げられる。これらの中でも、フェニル基が好ましい。
置換基を有していてもよい炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜２０のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基等の、炭素数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素数１〜１２のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基；トリアゾリル基、ピロリル基、フラニル基、チオフェニル基等の、炭素数２〜２０の芳香族複素環基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜８のシクロアルキル基；シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の炭素数３〜８のシクロアルキルオキシ基；テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基等の炭素数２〜１２の環状エーテル基；フェノキシ基、ナフトキシ基等の炭素数６〜１４のアリールオキシ基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、−ＣＨ_２ＣＦ_３等の、少なくとも１個の水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜１２のフルオロアキル基；ベンゾフリル基；ベンゾピラニル基；ベンゾジオキソリル基；ベンゾジオキサニル基等が挙げられる。中でも、炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜２０のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基；フラニル基、チオフェニル基等の、炭素数２〜２０の芳香族複素環基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜８のシクロアルキル基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、−ＣＨ_２ＣＦ_３等の、少なくとも１個の水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜１２のフルオロアキル基から選ばれる少なくとも１つの置換基が好ましい。
なお、炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基は、複数の置換基を有していてもよい。炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基が複数の置換基を有する場合、置換基は同一でも相異なっていてもよい。

ここで、Ａｘが有する芳香環は、同一の、または、相異なる置換基を複数有していてもよく、隣り合った二つの置換基が一緒になって結合して環を形成していてもよい。形成される環は単環であっても、縮合多環であってもよく、不飽和環であっても、飽和環であってもよい。
なお、Ａｘの炭素数２〜２０の有機基の「炭素数」は、置換基の炭素原子を含まない有機基全体の総炭素数を意味する。

そして、Ａｘの、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜２０の有機基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントレニル基、ピレニル基、フルオレニル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基；フタルイミド基、１−ベンゾフラニル基、２−ベンゾフラニル基、アクリジニル基、イソキノリニル基、イミダゾリル基、インドリニル基、フラザニル基、オキサゾリル基、オキサゾロピラジニル基、オキサゾロピリジニル基、オキサゾロピリダジニル基、オキサゾロピリミジニル基、キナゾリニル基、キノキサリニル基、キノリル基、シンノリニル基、チアジアゾリル基、チアゾリル基、チアゾロピラジニル基、チアゾロピリジニル基、チアゾロピリダジニル基、チアゾロピリミジニル基、チエニル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、ナフチリジニル基、ピラジニル基、ピラゾリル基、ピラノンニル基、ピラニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピロリル基、フェナントリジニル基、フタラジニル基、フラニル基、ベンゾ［ｃ］チエニル基、ベンゾイソオキサゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアジアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾチオフェニル基、ベンゾトリアジニル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾピラゾリル基、ペンゾピラノンニル基、ジヒドロピラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジヒドロフラニル基、テトラヒドロフラニル基等の炭素数２〜２０の芳香族複素環基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する炭化水素環基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する複素環基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数３〜２０のアルキル基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数４〜２０のアルケニル基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数４〜２０のアルキニル基；等が挙げられる。

芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する炭化水素環基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する複素環基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数３〜２０のアルキル基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数４〜２０のアルケニル基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数４〜２０のアルキニル基の、芳香族炭化水素環および芳香族複素環の具体例としては、上記Ｄ^１の、芳香族炭化水素環および芳香族複素環の具体例として列記したものと同じものが挙げられる。

なお、上記の有機基は、１または複数の置換基を有していてもよい。複数の置換基を有する場合は、複数の置換基は互いに同一でも相異なっていてもよい。

かかる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；ビニル基、アリル基等の炭素数２〜６のアルケニル基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^ｂ；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ^ｂ；−ＳＯ_２Ｒ^ｄ；等が挙げられる。ここでＲ^ｂ、Ｒ^ｄは、前記と同じ意味を表す。
これらの中でも、Ａｘの有機基が有する置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基、および、炭素数１〜６のアルコキシ基から選ばれる少なくとも１つの置換基が好ましい。

Ａｘとしての、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する炭素数２〜２０の有機基の好ましい具体例を以下に示す。但し、本発明は以下に示すものに限定されるものではない。なお、下記式中、「−」は環の任意の位置からのびるＮ原子（即ち、式（ＶＩＩＩ）においてＡｘと結合するＮ原子）との結合手を表す。

１）芳香族炭化水素環基

２）芳香族複素環基

〔各式中、Ｅは、−ＮＲ^ｚ−、酸素原子または硫黄原子を表し、ここで、Ｒ^ｚは、水素原子；または、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；を表す。〕

〔各式中、ＸおよびＹは、それぞれ独立して、−ＮＲ^ｚ−、酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−または−ＳＯ_２−を表す。ここで、Ｒ^ｚは、水素原子；または、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；を表す。〕

〔各式中、Ｘは前記と同じ意味を表す。〕

３）少なくとも１つの芳香環を有する炭化水素環基

４）少なくとも１つの芳香環を有する複素環基

〔各式中、ＸおよびＹは前記と同じ意味を表し、Ｚは、−ＮＲ^ｚ−、酸素原子または硫黄原子を表し、ここで、Ｒ^ｚは前記と同じ意味を表す。ただし、酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−、−ＳＯ_２−が、それぞれ隣接する場合を除く。〕

５）芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、アルキル基

６）芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、アルケニル基

７）芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、アルキニル基

なお、上述したＡｘの好ましい具体例が有する環は、１または複数の置換基を有していてもよい。そして、複数の置換基を有する場合は、複数の置換基は互いに同一でも相異なっていてもよい。かかる置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；ビニル基、アリル基等の炭素数２〜６のアルケニル基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^ｂ；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ^ｂ；−ＳＯ_２Ｒ^ｄ；等が挙げられる。
ここで、Ｒ^ｂおよびＲ^ｄは前記と同じ意味を表す。これらの中でも、Ａｘが有する上記環が有する置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基、および、炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましい。

ここで、Ａｘの更に好ましい具体例を以下に示す。但し、Ａｘは以下に示すものに限定されるものではない。

〔各式中、Ｘは前記と同じ意味を表す。〕

なお、前述した通り、上記環は１または複数の置換基を有していてもよい。複数の置換基を有する場合は、複数の置換基は互いに同一でも相異なっていてもよい。かかる置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；シアノ基；ビニル基、アリル基等の炭素数２〜６のアルケニル基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等の炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^ｂ；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ^ｂ；−ＳＯ_２Ｒ^ｄ；等が挙げられる。ここで、Ｒ^ｂおよびＲ^ｄは前記と同じ意味を表す。
これらの中でも、上記環が有する置換基としてはハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基、および、炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましい。

そして、Ａｘとしては、下記式（ＩＸ）で表される基が更に好ましい。

ここで、上記式（ＩＸ）中、Ｒ^Ｘは、水素原子；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；シアノ基；ニトロ基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等の炭素数１〜６のフルオロアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；または、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ^ｂを表し、Ｒ^ｂは、前記した通り、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、または、置換基を有していてもよい炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基を表す。

なお、複数のＲ^Ｘ同士は、すべて同一であっても、相異なっていてもよく、環を構成する任意のＣ−Ｒ^Ｘは、窒素原子に置き換えられていてもよい。

ここで、上記式（ＩＸ）で表される基のＣ−Ｒ^Ｘが窒素原子に置き換えられた基の具体例を下記に示す。但し、Ｃ−Ｒ^Ｘが窒素原子に置き換えられた基はこれらに限定されるものではない。

〔各式中、Ｒ^Ｘは、前記と同じ意味を表す。〕

これらの中でも、Ａｘとしては、上記式（ＩＸ）で表される基のＲ^Ｘがすべて水素原子であるものが好ましい。

また、上記式（ＶＩＩＩ）で表される２価の基のＲａの、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の有機基としては、特に制限されることなく、例えば、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^ｂ、−ＳＯ_２−Ｒ^ｄ、−Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ−Ｒ^ｉ、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基、または、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０の芳香族複素環基が挙げられる。

ここで、Ｒ^ｂおよびＲ^ｄは、前記と同じ意味を表し、Ｒ^ｉは、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０の芳香族炭化水素環基、または、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０の芳香族複素環基を表す。
そして、Ｒ^ｉの、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基の炭素数１〜２０のアルキル基およびその置換基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基の炭素数２〜２０のアルケニル基およびその置換基、並びに、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基の炭素数３〜１２のシクロアルキル基およびその置換基としては、Ｒ^ｂの炭素数１〜２０のアルキル基およびその置換基、炭素数２〜２０のアルケニル基およびその置換基、並びに、炭素数３〜１２のシクロアルキル基およびその置換基の具体例として列記したのと同じものが挙げられる。また、Ｒ^ｉの、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０の芳香族炭化水素環基としては、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等が挙げられ、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０の芳香族複素環基としては、ピリジニル基、キノリル基等が挙げられる。更に、これらの芳香族炭化水素環基および芳香族複素環基の置換基としては、Ａｘの炭素数２〜２０の有機基の置換基として例示したものと同じものが挙げられる。

なお、Ｒａの、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基の炭素数１〜２０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、１−メチルペンチル基、１−エチルペンチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−へキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−イコシル基等が挙げられる。そして、置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルキル基の炭素数は、１〜１２であることが好ましく、１〜１０であることが更に好ましい。

また、Ｒａの、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基の炭素数２〜２０のアルケニル基としては、ビニル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基、ノナデセニル基、イコセニル基等が挙げられる。
置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基の炭素数は、２〜１２であることが好ましい。

更に、Ｒａの、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基の炭素数２〜２０のアルキニル基としては、エチニル基、プロピニル基、２−プロピニル基（プロパルギル基）、ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、ペンチニル基、２−ペンチニル基、ヘキシニル基、５−ヘキシニル基、ヘプチニル基、オクチニル基、２−オクチニル基、ノナニル基、デカニル基、７−デカニル基等が挙げられる。

また、Ｒａの、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基の炭素数３〜１２のシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等が挙げられる。

そして、Ｒａの炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、および、炭素数２〜２０のアルキニル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜２０のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基等の、炭素数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素数１〜１２のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基；トリアゾリル基、ピロリル基、フラニル基、チオフェニル基等の、炭素数２〜２０の芳香族複素環基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜８のシクロアルキル基；シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の炭素数３〜８のシクロアルキルオキシ基；テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基等の炭素数２〜１２の環状エーテル基；フェノキシ基、ナフトキシ基等の炭素数６〜１４のアリールオキシ基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、−ＣＨ_２ＣＦ_３等の、少なくとも１個の水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜１２のフルオロアキル基；ベンゾフリル基；ベンゾピラニル基；ベンゾジオキソリル基；ベンゾジオキサニル基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^ｂ；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ^ｂ；−ＳＯ_２Ｒ^ｄ；−ＳＲ^ｂ；−ＳＲ^ｂで置換された炭素数１〜１２のアルコキシ基；水酸基；等が挙げられる。ここで、Ｒ^ｂおよびＲ^ｄは、前記と同じ意味を表す。
なお、Ｒａの炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、および、炭素数２〜２０のアルキニル基は、上述した置換基を複数有していてもよく、複数の置換基を有する場合は、複数の置換基は互いに同一でも相異なっていてもよい。

また、Ｒａの炭素数３〜１２のシクロアルキル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜８のシクロアルキル基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^ｂ；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ^ｂ；−ＳＯ_２Ｒ^ｄ；水酸基；等が挙げられる。ここで、Ｒ^ｂおよびＲ^ｄは、前記と同じ意味を表す。
なお、Ｒａの炭素数３〜１２のシクロアルキル基は、上述した置換基を複数有していてもよく、複数の置換基を有する場合は、複数の置換基は互いに同一でも相異なっていてもよい。

また、Ｒａの、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基および炭素数２〜２０の芳香族複素環基、並びに、それらの置換基としては、それぞれＡｘの芳香族炭化水素環基および芳香族複素環基、並びに、それらの置換基として列記したものと同じものが挙げられる。

上述した中でも、Ｒａとしては、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜１８の芳香族炭化水素環基、置換基を有していてもよい炭素数５〜１８の芳香族複素環基が好ましく、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜１０のアルキニル基、置換基を有していてもよい炭素数５〜１０のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環基がより好ましい。

また、前述した式（Ｉ）中、Ｚ^１１およびＺ^１２は、それぞれ独立して、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ^１１−ＣＯ−、または、−ＣＯ−ＮＲ^１２−であり、ここで、Ｒ^１１およびＲ^１２は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基である。中でも、Ｚ^１１は、−ＣＯ−Ｏ−であることが好ましい。また、Ｚ^１２は、−Ｏ−ＣＯ−であることが好ましい。

更に、Ａ^１１およびＡ^１２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基である。中でも、Ａ^１１およびＡ^１２は、置換基を有していてもよい環状脂肪族基であることが好ましい。

なお、置換基を有していてもよい環状脂肪族基は、無置換の２価の環状脂肪族基、または、置換基を有する２価の環状脂肪族基である。そして、２価の環状脂肪族基は、炭素数が通常は５〜２０である、環状構造を有する２価の脂肪族基である。
Ａ^１１およびＡ^１２の２価の環状脂肪族基の具体例としては、シクロペンタン−１，３−ジイル、シクロヘキサン−１，４−ジイル、１，４−シクロヘプタン−１，４−ジイル、シクロオクタン−１，５−ジイル等の炭素数５〜２０のシクロアルカンジイル基；デカヒドロナフタレン−１，５−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル等の炭素数５〜２０のビシクロアルカンジイル基等が挙げられる。

また、置換基を有していてもよい芳香族基は、無置換の２価の芳香族基、または、置換基を有する２価の芳香族基である。そして、２価の芳香族基は、炭素数が通常は２〜２０である、芳香環構造を有する２価の芳香族基である。
Ａ^１１およびＡ^１２の２価の芳香族基の具体例としては、１，４−フェニレン基、１，４−ナフチレン基、１，５−ナフチレン基、２，６−ナフチレン基、４，４’−ビフェニレン基等の、炭素数６〜２０の２価の芳香族炭化水素環基；フラン−２，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５−ジイル、ピラジン−２，５−ジイル等の、炭素数２〜２０の２価の芳香族複素環基；等が挙げられる。

更に、Ａ^１１およびＡ^１２の２価の環状脂肪族基および２価の芳香族基の置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；メチル基、エチル基等の炭素数１〜６のアルキル基；メトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜５のアルコキシ基；ニトロ基；シアノ基；等が挙げられる。前記環状脂肪族基および芳香族基は、上述した置換基から選ばれる少なくとも１つの置換基を有していてもよい。なお、置換基を複数有する場合は、各置換基は同一でも相異なっていてもよい。

また、ｂおよび／またはｃが１の場合、Ｌ^１１およびＬ^１２は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ^２１−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ^２２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ^２３−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ^２４−、または、−ＮＲ^２５−ＣＯ−ＮＲ^２６−であり、ここで、Ｒ^２１〜Ｒ^２６は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基である。中でも、Ｌ^１１およびＬ^１２は、それぞれ独立して、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、または、−Ｏ−ＣＯ−であることが好ましい。
なお、前記Ｒ^２１〜Ｒ^２６の炭素数１〜６のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。

また、ｂおよび／またはｃが１の場合、Ｂ^１１およびＢ^１２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基である。中でも、Ｂ^１１およびＢ^１２は置換基を有していてもよい芳香族基であることが好ましい。

ここで、置換基を有していてもよい環状脂肪族基は、無置換の２価の環状脂肪族基、または、置換基を有する２価の環状脂肪族基である。そして、２価の環状脂肪族基は、炭素数が通常は５〜２０である、環状構造を有する２価の脂肪族基である。
Ｂ^１１およびＢ^１２の２価の環状脂肪族基の具体例としては、前記式（Ｉ）のＡ^１１およびＡ^１２の２価の環状脂肪族基として例示したものと同じものが挙げられる。

また、置換基を有していてもよい芳香族基は、無置換の２価の芳香族基、または、置換基を有する２価の芳香族基である。そして、２価の芳香族基は、炭素数が通常は２〜２０である、芳香環構造を有する２価の芳香族基である。
Ｂ^１１およびＢ^１２の２価の芳香族基の具体例としては、前記式（Ｉ）のＡ^１１およびＡ^１２の２価の芳香族基として例示したものと同じものが挙げられる。

更に、Ｂ^１１およびＢ^１２の２価の環状脂肪族基および２価の芳香族基の置換基としては、前記式（Ｉ）のＡ^１１およびＡ^１２の２価の環状脂肪族基および２価の芳香族基の置換基として例示したものと同じものが挙げられる。

また、Ｙ^１１およびＹ^１２は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ^２１−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ^２２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ^２３−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ^２４−、または、−ＮＲ^２５−ＣＯ−ＮＲ^２６−であり、ここで、Ｒ^２１〜Ｒ^２６は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基である。中でも、Ｙ^１１およびＹ^１２は、それぞれ独立して、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、または、−Ｏ−ＣＯ−であることが好ましい。
なお、Ｒ^２１〜Ｒ^２６の炭素数１〜６のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。

そして、Ｒ^１、Ｒ^２は、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基である。なお、Ｒ^１はＲ^２と同一であることが好ましく、Ｒ^１およびＲ^２は共に水素原子でことがより好ましい。

なお、逆波長分散性に優れる光学フィルム等を得る観点からは、重合性化合物（Ｉ）は、Ａｒ ^１ を中心として左右が概ね対称な構造を有することが好ましい。具体的には、重合性化合物（Ｉ）では、Ｒ^１、ａおよびｂが、それぞれ、Ｒ^２、ｄおよびｃと同じであり、−Ｙ^１１−［Ｂ^１１−Ｌ^１１］_ｈ−Ａ^１１−Ｚ^１１−（＊）と、（＊）−Ｚ^１２−Ａ^１２−［Ｌ^１２−Ｂ^１２］_ｉ−Ｙ^１２−とがＡｒ^１に結合する側（＊）を対称中心とした対称構造を有することが好ましい。
なお、「（＊）を対称中心とした対称構造を有する」とは、例えば、−ＣＯ−Ｏ−（＊）と（＊）−Ｏ−ＣＯ−や、−Ｏ−（＊）と（＊）−Ｏ−や、−Ｏ−ＣＯ−（＊）と（＊）−ＣＯ−Ｏ−などの構造を有することを意味する。

ここで、ｂおよびｃが１である重合性化合物（Ｉ）の好ましい例としては、特に限定されることなく、下記式（Ｉａ）：

〔式（Ｉａ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒｃ、Ｒ^ｘ、ａおよびｂは前記と同じ意味を表し、Ｒ^Ｘはすべて水素原子であるのが好ましい。〕に示される化合物が挙げられる。

（２）ハロゲン化体（ＩＩ）
本発明の製造方法においては、上述した重合性化合物（Ｉ）を合成する何れかの段階において、ハロゲン化体（ＩＩ）を含む組成物を脱ハロゲン化水素反応に供して、ハロゲン化体（ＩＩ）からハロゲン化水素を脱離させる。
なお、本発明において、「ハロゲン化体（ＩＩ）を含む組成物」とは、ハロゲン化体（ＩＩ）そのもの、又は、ハロゲン化体（ＩＩ）とハロゲン化体（ＩＩ）の脱ハロゲン化水素物を含む混合物を意味する。

そして、脱ハロゲン化水素反応の対象となるハロゲン化体（ＩＩ）は、下記式（ＩＩ）で表される化合物である。

式（ＩＩ）中、Ｘ^１は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子を表し、塩素原子が好ましい。
また、Ｒ^１およびａは、前記式（Ｉ）と同じ意味を表す。

ここで、Ｇは、有機基であり、好ましくは、少なくとも１つの芳香環を有する炭素数５〜８０の有機基である。なお、芳香環としては、芳香族炭化水素環、芳香族複素環が挙げられ、芳香族炭化水素環および芳香族複素環の例としては、前記式（Ｉ）のＤ^１の芳香族炭化水素環および芳香族複素環として例示したものと同じものが挙げられる。

そして、ハロゲン化体（ＩＩ）としては、重合性化合物（Ｉ）の原料化合物として使用可能であれば特に限定されないが、例えば、上述したＧの構造が相異なる、後述する式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）および（ＶＩ）で示されるハロゲン化体（それぞれ、「ハロゲン化体（ＩＩＩ）」、「ハロゲン化体（ＩＶ）」および「ハロゲン化体（ＶＩ）」と称する。）が挙げられる。

（２−１）ハロゲン化体（ＩＩＩ）
ハロゲン化体（ＩＩＩ）は、下記式（ＩＩＩ）で示される化合物である。

式（ＩＩＩ）中、Ｑは、下記式（ＩＩＩ−１）：

［式（ＩＩＩ−１）中、Ｒ^２は、前記式（Ｉ）と同じ意味を表す。］、
または、下記式（ＩＩＩ−２）：

［式（ＩＩＩ−２）中、Ｘ^２は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子を表し、塩素原子が好ましい。また、Ｒ^２は、前記式（Ｉ）と同じ意味を表す。］で表される基を示す。

なお、Ａｒ^１ 、Ｚ^１１、Ｚ^１２、Ａ^１１、Ａ^１２、Ｂ^１１、Ｂ^１２、Ｙ^１１、Ｙ^１２、Ｌ^１１、Ｌ^１２、Ｒ^１、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、前記式（Ｉ）と同じ意味を表す。

ハロゲン化体（ＩＩＩ）は、重合性化合物（Ｉ）と少なくとも一方の末端構造のみが異なる化合物である。そのため、ハロゲン化体（ＩＩＩ）を脱ハロゲン化水素反応させて末端に炭素―炭素二重結合を生成させれば、ハロゲン体（ＩＩＩ）の脱ハロゲン化水素物として、重合性化合物（Ｉ）を得ることができる。
そして、ハロゲン化体（ＩＩＩ）として、より具体的には、下記式（ＩＩＩａ）、（ＩＩＩｂ）、および（ＩＩＩｃ）で示されるハロゲン化体（それぞれ、「ハロゲン化体（ＩＩＩａ）」、「ハロゲン化体（ＩＩＩｂ）」および「ハロゲン化体（ＩＩＩｃ）」と称する）、並びに、これらの混合物が挙げられる。なお、該混合物中におけるハロゲン化体（ＩＩＩａ）、ハロゲン化体（ＩＩＩｂ）、ハロゲン化体（ＩＩＩｃ）の存在割合は、特に限定されない。

式（ＩＩＩａ）〜（ＩＩＩｃ）中、ａ、ｂ、Ｒａ、Ａｘ、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｘ^１、およびＸ^２は、前記と同じ意味を表す。

ここで、ハロゲン化体（ＩＩＩ）を得る方法は、特に制限されないが、例えば、ハロゲン化体（ＩＩＩａ）〜（ＩＩＩｃ）は、下記に示す製造手順１〜４により得ることができる。

（製造手順１）
ハロゲン化体（ＩＩＩａ）〜（ＩＩＩｃ）は、上述したように、国際公開第２０１４／０１０３２５号に記載された手順により所望の重合性化合物を調製する際に、副生成物として生成することが、本発明者らの検討により明らかとなった。具体的には、以下の手順を経て重合性化合物を調製する際に、ハロゲン化体（ＩＩＩａ）〜（ＩＩＩｃ）の少なくとも何れかが副生成物として得られる。

上記式中、Ｌは水酸基、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。また、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒａ、Ａｘ、ａおよびｂは、前記と同じ意味を表す。

すなわち、ベンズアルデヒド化合物（１）に、カルボン酸誘導体（２ａ）を反応させ、次いでカルボン酸誘導体（２ｂ）を反応させて、化合物（３）を得る工程、および、化合物（３）とヒドラジン化合物（４）を反応させる工程を経て所望の重合性化合物を調製すると、副生成物としてハロゲン化体（ＩＩＩａ）〜（ＩＩＩｃ）の少なくとも何れかが生成する。
この副生したハロゲン化体（ＩＩＩａ）〜（ＩＩＩｃ）を単離することなく、所望の重合性化合物と、ハロゲン化体（ＩＩＩａ）〜（ＩＩＩｃ）とを含む混合物を、そのまま本発明の製造方法の原料として用いることができる。すなわち、この混合物の状態で、ハロゲン化体（ＩＩＩａ）〜（ＩＩＩｃ）を脱ハロゲン化水素反応させれば、これらのハロゲン化体を重合性化合物に効率よく変換して、結果的に、重合性化合物を高い収率で得ることができる。

（製造手順２）
また、ハロゲン化体（ＩＩＩａ）は、以下の手順により製造することができる。

上記式中、Ｌ、Ｘ^１、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒａ、Ａｘ、ａおよびｂは、前記と同じ意味を表す。

すなわち、ベンズアルデヒド化合物（１）とカルボン酸誘導体（５ａ）を反応させて、ヒドロキシ化合物（６ａ）を得る工程、ヒドロキシ化合物（６ａ）とカルボン酸誘導体（７ａ）を反応させて、化合物（８ａ）を得る工程、および、化合物（８ａ）とヒドラジン化合物（４）を反応させる工程を経て、ハロゲン化体（ＩＩＩａ）を得ることができる。
なお、カルボン酸誘導体（７ａ）、ヒドラジン化合物（４）は、上述した国際公開第２０１４／０１０３２５号に記載のものを用いることができる。

ここで、ベンズアルデヒド化合物（１）と、カルボン酸誘導体（５ａ）との反応においては、ベンズアルデヒド化合物（１）とカルボン酸誘導体（５ａ）の使用量比は、ベンズアルデヒド化合物（１）：カルボン酸誘導体（５ａ）のｍｏｌ比で、通常１：１〜１０：１であり、好ましくは３：１〜６：１である。

カルボン酸誘導体（５ａ）が、式（５ａ）中、Ｌが水酸基の化合物（以下、この化合物を「カルボン酸化合物（５’）」という。）である場合には、メタンスルホニルクロリド、ｐ−トルエンスルホニルクロリド等のスルホニルハライド、および、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、４−（ジメチルアミノ）ピリジン等の塩基の存在下で、ベンズアルデヒド化合物（１）およびカルボン酸化合物（５’）を反応させることによって、ヒドロキシ化合物（６ａ）を得ることができる。
スルホニルハライドの使用量は、カルボン酸化合物（５’）１ｍｏｌに対し、通常１〜３ｍｏｌである。
塩基の使用量は、カルボン酸化合物（５’）１ｍｏｌに対し、通常１〜３ｍｏｌである。

また、カルボン酸誘導体（５ａ）が、カルボン酸化合物（５’）である場合、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩およびジシクロヘキシルカルボジイミド等の脱水縮合剤の存在下で、ベンズアルデヒド化合物（１）およびカルボン酸化合物（５’）を反応させることにより、ヒドロキシ化合物（６ａ）を得ることもできる。
脱水縮合剤の使用量は、カルボン酸化合物（５’）１ｍｏｌに対し、通常１〜３ｍｏｌである。

そして、Ｌがハロゲン原子のカルボン酸誘導体（５ａ）は、例えば、カルボン酸化合物（５’）に、三塩化リン、五塩化リン、塩化チオニル、および塩化オキサリル等のハロゲン化剤を作用させて得ることができる。Ｌがハロゲン原子のカルボン酸誘導体（５ａ）と、ベンズアルデヒド化合物（１）を塩基の存在下で反応させることによって、ヒドロキシ化合物（６ａ）を得ることができる。
この反応に用いる塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基、並びに、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、および炭酸水素ナトリウム等の無機塩基が挙げられる。
塩基の使用量は、Ｌがハロゲン原子のカルボン酸誘導体（５ａ）１ｍｏｌに対し、通常１〜３ｍｏｌである。

ここで、上述のベンズアルデヒド化合物（１）とカルボン酸誘導体（５ａ）との反応に用いる溶媒としては、例えば、クロロホルム、塩化メチレン等の塩素系溶媒；Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド系溶媒；１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，３−ジオキソラン等のエーテル類；ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒；ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン等の脂肪族炭化水素系溶媒；シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素系溶媒；及びこれらの溶媒の２種以上からなる混合溶媒；等が挙げられる。
溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類や反応規模等を考慮して適宜定めることができるが、ベンズアルデヒド化合物（１）１ｇに対し、通常１〜５０ｇである。

上述のようにして得られたヒドロキシ化合物（６ａ）と、カルボン酸誘導体（７ａ）との反応は、ベンズアルデヒド化合物（１）とカルボン酸誘導体（５ａ）との反応と同様にして実施することができる。
なお、ヒドロキシ化合物（６ａ）とカルボン酸誘導体（７ａ）の使用量比は、ヒドロキシ化合物（６ａ）：カルボン酸誘導体（７ａ）のｍｏｌ比で、通常１：１〜１：２であり、好ましくは１：１．１〜１：１．５である。

ヒドロキシ化合物（６ａ）とカルボン酸誘導体（７ａ）との反応で得られる、化合物（８ａ）と、ヒドラジン化合物（４）との反応は、国際公開第２０１４／０１０３２５号に記載された、上述した製造手順１における化合物（３）とヒドラジン化合物（４）の反応と同様にして行うことができる。
以上のようにして、ハロゲン化体（ＩＩＩａ）を得ることができる。

そして、製造手順２で使用するカルボン酸化合物（５’）を得る方法としては特に制限されないが、例えば、下記に示す方法が挙げられる。

上記式中、Ｘ^１、Ｒ^１およびａは、前記と同じ意味を表す。

すなわち、化合物（９）と化合物（１０）（３−ハロゲン化（メタ）アクリル酸）を、酸触媒の存在下で反応させて化合物（１１）を得る工程、および、化合物（１１）と化合物（１２）（ｔｒａｎｓ−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸）を反応させる工程を経て、カルボン酸化合物（５’）を得ることができる。

化合物（９）、化合物（１０）は、従来公知の方法で製造することができる。化合物（１０）は、市販品をそのまま使用してもよい。
化合物（９）と化合物（１０）との反応における、化合物（９）と化合物（１０）の使用量比は、ｍｏｌ比で、化合物（９）：化合物（１０）が、通常１：１〜１：１０、好ましくは１：２〜１：４である。

用いる酸触媒としては、特に制限されず、塩酸、硫酸、リン酸、硝酸等の鉱酸；リンタングステン酸等のヘテロポリ酸；メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸等の有機酸；等が挙げられる。
酸触媒の使用量は特に限定されないが、化合物（９）１ｍｏｌに対して、通常０．０１〜１．０ｍｏｌ、好ましくは０．０５〜０．４ｍｏｌである。

用いる溶媒としては、上述したベンズアルデヒド化合物（１）とカルボン酸化合物（５’）の反応で用いることができるとして例示した溶媒等が挙げられる。
溶媒の使用量は特に限定されないが、化合物（１０）１質量部に対して、通常０．２〜５０質量部、好ましくは１〜２０質量部である。

化合物（９）と化合物（１０）の反応中は、目的物を収率良く得る観点から、生成する水を系外に除去しながら行うことが好ましい。生成する水を系外に除去しながら反応を行う方法としては、例えば、ディーンスターク管等の水分除去装置を用いて、水を系外に除去しながら反応を行う方法；反応系にモレキュラーシーブ等の脱水剤を共存させて反応で生じた水を除去しながら反応を行う方法；ベンゼン等との共沸により水を系外に除去しながら反応を行う方法；オルトエステル、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミド等を用いて系内で生じた水を化学的に補足しながら反応を行う方法；等が挙げられる。

化合物（９）と化合物（１０）の脱水縮合反応は、重合を防止するために、重合禁止剤の存在下で行ってもよい。用いる重合禁止剤としては、２，６−ジ（ｔ−ブチル）−４−メチルフェノール、２，２’−メチレンビス（６−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール）、亜リン酸トリフェニル、亜リン酸トリス（ノニルフェニル）等が挙げられる。

化合物（９）と化合物（１０）の反応における反応温度は特に限定されないが、通常０〜１５０℃、好ましくは２０〜１２０℃である。また、反応時間は反応温度等にもよるが、通常０．５〜２４時間である。

次いで、化合物（９）と化合物（１０）の反応により得られた化合物（１１）と、化合物（１２）と反応させる。
この反応においての化合物（１１）と化合物（１２）の使用量比は、ｍｏｌ比で、化合物（１１）：化合物（１２）が、通常１：１〜１：１０、好ましくは１：１．５〜１：４である。
化合物（１１）と化合物（１２）を、メタンスルホニルクロリド、ｐ−トルエンスルホニルクロリド等のスルホニルハライド、および、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、４−（ジメチルアミノ）ピリジン等の塩基の存在下に反応させることによって、カルボン酸化合物（５’）を得ることができる。
スルホニルハライドの使用量は、化合物（１１）１ｍｏｌに対し、通常１〜１．５ｍｏｌである。
塩基の使用量は、化合物（１１）１ｍｏｌに対し、通常１〜３ｍｏｌである。

用いる溶媒としては、前記ベンズアルデヒド化合物（１）とカルボン酸化合物（５’）との反応で用いることができるとして例示した溶媒等が挙げられる。
溶媒の使用量は特に限定されないが、化合物（１１）１質量部に対して、通常０．２〜２０質量部、好ましくは１〜１０質量部である。

いずれの反応においても、反応終了後は、有機合成化学における通常の後処理操作を行い、所望により、カラムクロマトグラフィー、再結晶法、蒸留法等の公知の分離・精製手段を施すことにより、目的物を単離することができる。

目的とする化合物の構造は、ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、マススペクトル等の測定、元素分析等により、同定することができる。

（製造手順３）
ハロゲン化体（ＩＩＩｂ）は、以下のようにして製造することができる。

上記式中、Ｌ、Ｘ^２、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒａ、Ａｘ、ａおよびｂは、前記と同じ意味を表す。

すなわち、ベンズアルデヒド化合物（１）とカルボン酸誘導体（７ｂ）を反応させて、化合物（６ｂ）を得る工程、化合物（６ｂ）とカルボン酸誘導体（５ｂ）を反応させて、化合物（８ｂ）を得る工程、および、化合物（８ｂ）とヒドラジン化合物（４）を反応させる工程を経て、ハロゲン化体（ＩＩＩｂ）を得ることができる。
製造手順３は、前記製造手順２において、カルボン酸誘導体（５ａ）の代わりにカルボン酸誘導体（７ｂ）を、カルボン酸誘導体（７ａ）の代わりにカルボン酸誘導体（５ｂ）を用いる以外は、製造手順２と同様にして実施することができる。

（製造手順４）
ハロゲン化体（ＩＩＩｃ）は、以下の手順により製造することができる。

上記式中、Ｌ、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒａ、Ａｘ、ａおよびｂは、前記と同じ意味を表す。

すなわち、ベンズアルデヒド化合物（１）とカルボン酸誘導体（５ａ）およびカルボン酸誘導体（５ｂ）を反応させて、化合物（８ｃ）を得る工程、並びに、化合物（８ｃ）とヒドラジン化合物（４）を反応させる工程を経て、ハロゲン化体（ＩＩＩｃ）を得ることができる。
反応方法および反応条件等は、前記製造手順２に準じて適宜設定することができる。

（２−２）ハロゲン化体（ＩＶ）
ハロゲン化体（ＩＶ）は、下記式（ＩＶ）で示される化合物である。

式（ＩＶ）中、ＦＧ^１は、水酸基、カルボキシル基またはアミノ基を表し、水酸基が好ましい。なお、Ｒ^１、Ｙ^１１、B^１１およびａは、前記式（Ｉ）と同じ意味を表し、Ｘ^１は、前記式（ＩＩ）と同じ意味を表す。

ハロゲン化体（ＩＶ）を脱ハロゲン化水素反応させると、ハロゲン化体（ＩＶ）の脱ハロゲン化水素物として、下記式（Ｖ）で示される化合物（「化合物（Ｖ）」）を得ることができる。

式（Ｖ）中、Ｒ^１、Ｙ^１１、B^１１、ＦＧ^１およびａは、前記式（ＩＶ）と同じ意味を表す。

なお、脱ハロゲン化水素反応に際し、ハロゲン化体（ＩＶ）を含む組成物として、ハロゲン化体（ＩＶ）と化合物（Ｖ）を含む混合物を使用することができる。このような混合物を脱ハロゲン化水素反応に供することで、混合物中のハロゲン化体（ＩＶ）を化合物（Ｖ）に変換して、純度の高い化合物（Ｖ）を得ることができる。なお、混合物中のハロゲン化体（ＩＶ）と化合物（Ｖ）の比率は特に限定されないが、ハロゲン化体（ＩＶ）と化合物（Ｖ）の合計中に占めるハロゲン化体（ＩＶ）の割合が、０．０１質量％以上５質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以上５質量％以下がより好ましく、２質量％以上５質量％以下が更に好ましい。

得られた化合物（Ｖ）を用いて、例えば、「（２−１）ハロゲン化体（ＩＩ）」で上述した方法を参照して、更なる合成を行うことで、所望の重合性化合物（Ｉ）を得ることができる。

（２−３）ハロゲン化体（ＶＩ）
ハロゲン化体（ＶＩ）は、下記式（ＶＩ）で示される化合物である。

式（ＶＩ）中、ＦＧ^２は、水酸基、カルボキシル基またはアミノ基を表し、カルボキシル基が好ましい。なお、Ｒ^１、Ｙ^１１、Ｂ^１１、Ｌ^１１、Ａ^１１、ａおよびｂは、前記式（Ｉ）と同じ意味を表し、Ｘ^１は、前記式（ＩＩ）と同じ意味を表す。

ハロゲン化体（ＶＩ）を脱ハロゲン化水素反応させると、ハロゲン化体（ＶＩ）の脱ハロゲン化水素物として、下記式（ＶＩＩ）で示される化合物（「化合物（ＶＩＩ）」）を得ることができる。

式（ＶＩＩ）中、Ｒ^１、Ｙ^１１、Ｂ^１１、Ｌ^１１、Ａ^１１、ＦＧ^２、ａおよびｂは、前記式（ＶＩ）と同じ意味を表す。

なお、脱ハロゲン化水素反応に際し、ハロゲン化体（ＶＩ）を含む組成物として、ハロゲン化体（ＶＩ）と化合物（ＶＩＩ）を含む混合物を使用することができる。このような混合物を脱ハロゲン化水素反応に供することで、混合物中のハロゲン化体（ＶＩ）を化合物（ＶＩＩ）に変換して、純度の高い化合物（ＶＩ）を得ることができる。なお、混合物中のハロゲン化体（ＶＩ）と化合物（ＶＩＩ）の比率は特に限定されないが、ハロゲン化体（ＶＩ）と化合物（ＶＩＩ）の合計中に占めるハロゲン化体（ＶＩ）の割合が、０．０１質量％以上５質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以上５質量％以下が更に好ましく、１．５質量％以上５質量％以下が更に好ましい。

得られた化合物（ＶＩＩ）を用いて、例えば、「（２−１）ハロゲン化体（ＩＩ）」で上述した方法を参照して、更なる合成を行うことで、所望の重合性化合物（Ｉ）を得ることができる。

（３）脱ハロゲン化水素反応
ここで、脱ハロゲン化水素反応は、有機溶媒中、少なくとも１種の塩基性化合物を含む水層の存在下で行われる。

（３−１）有機溶媒
用いる有機溶媒としては、ハロゲン化体（ＩＩ）を溶解させることができると共に、反応に不活性な溶媒であれば特に制限されない。例えば、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；シクロペンタノン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒；ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒；ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒；シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素系溶媒；ニトロメタン、ニトロベンゼン、アセトニトリル等の含窒素炭化水素系溶媒；等が挙げられる。
これらの溶媒は１種単独で、或いは２種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの中でも、ハロゲン体（ＩＩ）の溶解性、収率よく目的物が得られること等の理由により、エステル系溶媒と含窒素炭化水素系溶媒との混合溶媒、ケトン系溶媒と含窒素炭化水素系溶媒との混合溶媒が好ましく、エステル系溶媒と含窒素炭化水素系溶媒との混合溶媒がより好ましく、酢酸エチルとアセトニトリルとの混合溶媒が特に好ましい。
ここで、エステル系溶媒と含窒素炭化水素系溶媒の混合溶媒を用いる場合の両者の混合割合は、エステル系溶媒と含窒素炭化水素系溶媒との容積比は通常１：１〜４：１、好ましくは２：１〜３：１である。

（３−２）塩基性化合物を含む水層
塩基性化合物としては、無機塩基性化合物および有機塩基性化合物を用いることができる。なお、脱ハロゲン化水素反応を効率よく進行させる観点からは、塩基性化合物としては、少なくとも無機塩基性化合物を使用することが好ましく、無機塩基性化合物および有機塩基性化合物を併用することがより好ましい。
なお、水層に用いる水は、蒸留水等の不純物を含まないものが好ましい。

無機塩基性化合物としては、特に制限されない。例えば、金属炭酸塩、金属炭酸水素塩、及び金属水酸化物等が挙げられる。
金属炭酸塩としては、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；炭酸マグネシウム；炭酸カルシウム、水酸化バリウム等のアルカリ土類金属炭酸塩；等が挙げられる。
金属炭酸水素塩としては、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩；炭酸水素マグネシウム；炭酸水素カルシウム等のアルカリ土類金属炭酸水素塩；等が挙げられる。
金属水酸化物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；水酸化マグネシウム；水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物；等が挙げられる。
これらの無機塩基性化合物は、一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの中でも、入手容易性、取扱容易性の観点から、金属炭酸塩が好ましく、アルカリ金属炭酸塩がより好ましく、炭酸ナトリウムがさらに好ましい。

無機塩基性化合物の使用量は、特に限定されないが、脱ハロゲン化水素化物の収率を高めると共に、反応後の中和工程を省略可能とすべく、ハロゲン化体（ＩＩ）１当量に対し、１〜３当量であることが好ましく、１．５〜２．５当量であることがより好ましい。
また、水層中の無機塩基性化合物の濃度は、特に限定されないが、脱ハロゲン化水素化物の収率を高めると共に、反応後の中和工程を省略可能とすべく、０．５〜２．５ｍｏｌ／Ｌであることが好ましく、０．５〜１．５ｍｏｌ／Ｌであることがより好ましい。

有機塩基性化合物としては、ピリジン、ピコリン、コリジン、ルチジン、４−（ジメチルアミノ）ピリジン等の複素環式化合物；トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等の３級アミン；等が挙げられる。
これらの中でも、脱ハロゲン化水素化物の収率を高める観点から、３級アミンが好ましく、トリエチルアミンがより好ましい。
有機塩基性化合物の使用量は特に限定されないが、ハロゲン化体（ＩＩ）１当量に対し、１〜３当量であることが好ましく、１．２〜２当量であることがより好ましい。

（３−３）脱ハロゲン化水素反応の条件
反応は、アルゴン、窒素等の不活性雰囲気下で行うのが好ましい。
反応温度は、通常、−１０℃〜＋８０℃、好ましくは１０℃〜７０℃、より好ましくは２０℃〜６０℃である。
反応時間は、反応規模等にもよるが、数分〜２４時間、好ましくは０．５〜１０時間である。
反応の進行状況は公知の分析手段（例えば、薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー）により確認することができる。

反応終了後においては、有機合成化学における通常の後処理操作を行い、所望により、反応生成物を、蒸留法、カラムクロマトグラフィー法、再結晶化法等の公知の分離・精製手段により精製して、脱ハロゲン化水素化物（例えば、目的とする重合性化合物（Ｉ））を単離することができる。
具体的には、反応後の溶液から水層（水相）を除去した後、有機層（有機相）を水洗し、次いで、有機層にアルコール系溶媒等の貧溶媒を加えて結晶を析出させることにより、目的とする重合性化合物（Ｉ）などを効率よく単離することができる。
なお、目的物の構造は、ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、マススペクトル等の分析手段を用いることにより同定し、確認することができる。

以下、本発明を、実施例によりさらに詳細に説明する。但し、本発明は以下の実施例により何ら制限されるものではない。

（合成例１）化合物１の合成

ステップ１：中間体Ａの合成

冷却器及び温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、ハイドロキノン１０４．７７ｇ（０．９５ｍｏｌ）、６−クロロヘキサノール１００ｇ（０．７３ｍｏｌ）、蒸留水５００ｇ、オルトキシレン１００ｇを加えた。全容を攪拌しながら、さらに、水酸化ナトリウム３５．１５ｇ（０．８８ｍｏｌ）を、内容物の温度が４０℃を超えないように２０分かけて少量ずつ加えた。水酸化ナトリウムの添加終了後、内容物を加熱し、還流条件下（９２℃）で１０時間反応を行った。
反応終了後、反応液の温度を８０℃に下げ、蒸留水２００ｇを加えた後、反応液を１０℃に冷却することで、結晶が析出した。析出した結晶をろ過により固液分離し、得られた結晶を蒸留水１５０ｇで洗浄し、褐色結晶２０３．０ｇを得た。この褐色結晶の一部を用いて分析したところ、乾燥減量は、３６．３質量％であった。また、高速液体クロマトグラフィーで分析した結果、褐色結晶に含まれるモノエーテル化物とジエーテル化物の割合（モル比）は、（モノエーテル化物／ ジエーテル化物）で、９２．０／８．０であった。ディーンスターク管付き冷却器及び温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、先に得た褐色結晶（固液分離し、蒸留水で洗浄した後のもの）１５７ｇ、トルエン５００ｇ、２，６−ジ−ｔ−ブチル− ｐ−クレゾール１．０５ｇ（４．７６ｍｍｏｌ）を加え、全容を撹拌し、溶液を得た。得られた溶液を加熱し、還流条件下、ディーンスターク管から水を除去することで、系内を脱水した。その後、溶液を８０℃に冷却し、メタンスルホン酸４．５７ｇ（４７．６ｍｍｏｌ）を加え、再度、還流条件（１１０℃）に加熱した。次いで、溶液に、アクリル酸４７．９８ｇ（０．６６６ｍｏｌ）を２時間かけて滴下しながら、生成する水を除去し、脱水反応を行った。アクリル酸の滴下後、２時間撹拌を続けた。次いで、反応液を３０℃に冷却し、蒸留水５００ｇを加え、全容を攪拌後、静置した。有機層を分取し、得られた有機層に５％食塩水４００ｇを加え、分液した。有機層を分取し、得られた有機層に活性炭１０ｇを加え、全容を２５℃で３０分撹拌した後、ろ過することで活性炭を除去した。得られたろ液に、２，６−ジ−ｔ−ブチル− ｐ−クレゾール１．０５ｇ（４．７６ｍｍｏｌ）を加えた後、減圧下にてトルエン３５０ｇを留去し、溶液を濃縮した。得られた濃縮液に、ｎ−ヘプタン３００ｇを３０分かけて滴下して結晶を析出させ、そのまま５℃に冷却した。ろ過により結晶を分取し、得られた結晶をトルエン６６．７ｇとｎ−ヘプタン１３３．３ｇの混合液で洗浄した。次いで、結晶をトルエン１４４ｇに加え、４０℃に加熱して結晶を溶解させた。得られた溶液に、ｎ−ヘプタン２１６ｇを１時間かけて滴下して結晶を析出させ、そのまま５℃に冷却した。ろ過により結晶を分取し、得られた結晶をトルエン７２ｇとｎ−ヘプタン１４４ｇの混合液で洗浄し、真空乾燥することで、白色固体として中間体Ａ（４−（６−アクリロイルオキシ−ヘクス−１−イルオキシ）フェノール）を８６．４ｇ（６−クロロヘキサノール基準の収率；５８％ ）で得た。さらに、得られた白色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝：９５：５）により精製することで純度を９９．５％以上まで高めた。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ−ｄ６、ＴＭＳ、δｐｐｍ）：８．８７（ｓ、１Ｈ）、６．７２（ｄ、２Ｈ、Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６ ．６５（ｄ、２Ｈ、Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．３２（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝１．５Ｈｚ、１７．５Ｈｚ）、６．１７（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝１０．０Ｈｚ、１７．５Ｈｚ）、５．９３（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝１．５Ｈｚ、１０．０Ｈｚ）、４．１１（ｔ、２Ｈ、Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．８３（ｔ、２Ｈ、Ｊ＝６．５Ｈｚ）、１．５６−１．７２（ｍ、４Ｈ）、１．３１−１．４７（ｍ、４Ｈ）。

ステップ２：中間体Ｂの合成

温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、ｔｒａｎｓ，−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸１７．９８ｇ（１０４．４２ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１８０ｍｌを加えた。そこへ、メタンスルホニルクロリド６．５８ｇ（５７．４３ｍｍｏｌ）を加え、反応器を水浴に浸して反応液内温を２０℃とした。次いで、トリエチルアミン６．３４ｇ（６２．６５ｍｍｏｌ）を、反応液内温を２０〜３０℃に保持しながら、１０分間かけて滴下した。滴下終了後、全容を２５℃で２時間さらに撹拌した。
得られた反応液に、４−（ジメチルアミノ）ピリジン６３８ｍｇ（５．２２ｍｍｏｌ）、及び、先のステップ１で合成した中間体Ａ：１３．８０ｇ（５２．２１ｍｍｏｌ）を加え、再度反応器を水浴に浸して反応液内温を１５℃とした。そこへ、トリエチルアミン６．３４ｇ（６２．６５ｍｍｏｌ）を、反応液内温を２０〜３０℃に保持しながら、１０分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を２５℃でさらに２時間撹拌した。反応終了後、反応液に蒸留水１０００ｍｌと飽和食塩水１００ｍｌを加え、酢酸エチル４００ｍｌで２回抽出した。有機層を集め、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から溶媒を減圧留去した後、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：ＴＨＦ＝９：１（容積比、以下にて同じ））により精製することで、中間体Ｂを白色固体として１４．１１ｇ得た（収率：６５．０％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：１２．１２（ｓ，１Ｈ）、６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．３２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．０Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．９３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．０Ｈｚ）、４．１１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．４８−２．５６（ｍ，１Ｈ）、２．１８−２．２６（ｍ，１Ｈ）、２．０４−２．１０（ｍ，２Ｈ）、１．９３−２．００（ｍ，２Ｈ）、１．５９−１．７５（ｍ，４Ｈ）、１．３５−１．５２（ｍ，８Ｈ）

ステップ３：中間体Ｃの合成

冷却器、及び温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、ハイドロキノン１０４．７７ｇ（０．９５１５ｍｏｌ）、６−クロロヘキサノール１００ｇ（０．７３２０ｍｏｌ）、蒸留水５００ｍｌ、ｏ−キシレン１００ｍｌを加えた。全容を撹拌しながら、さらに、水酸化ナトリウム３５．１５ｇ（０．８７８４ｍｏｌ）を、反応液内温が４０℃を超えないように２０分かけて少量ずつ加えた。水酸化ナトリウムの添加終了後、内容物を加熱し、還流条件下（９６℃）で１２時間反応を行った。
反応終了後、反応液内温を８０℃に下げ、蒸留水２００ｍｌを加えた後、反応液を１０℃に冷却することで、結晶が析出した。析出した結晶をろ過により固液分離し、得られた結晶を蒸留水５００ｍｌで洗浄し、真空乾燥することで、褐色結晶１２３．３ｇを得た。
この褐色結晶を高速液体クロマトグラフィーで分析した結果、褐色結晶に含まれる化合物の含有量比（mol比）は（ハイドロキノン／中間体Ｃ／副生成物Ｃ＝１．３／９０．１／８．１）であった。

ステップ４：中間体Ｄの合成

ディーンスターク管付き冷却器、及び温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ３で合成した褐色結晶１５．３ｇ、トルエン７０ｍｌ、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール２０２ｍｇ（０．９２１ｍｍｏｌ）を加え、全容を撹拌した。全容を８０℃に加熱し、３−クロロプロピオン酸１０．０ｇ（９２．１５ｍｍｏｌ）、メタンスルホン酸８８５ｍｇ（９．２１ｍｍｏｌ）を加え、還流条件（１１０℃）で、生成する水を除去しながら脱水反応を２時間行った。反応終了後、反応液内温を３０℃に下げ、蒸留水７０ｍｌを加え、全容を撹拌後、静置した。有機層を分取し、得られた有機層に蒸留水３５ｍｌを加え、分液した。有機層を分取し、得られた有機層に活性炭１．４ｇを加え、全容を２５℃で３０分撹拌した後、ろ過することで活性炭を除去した。
得られたろ液に、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール２０２ｍｇ（０．９２１ｍｍｏｌ）を加えた後、ロータリーエバポレーターにてろ液から溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：ＴＨＦ＝：９５：５）により精製することで、中間体Ｄを白色固体として１１．０ｇ得た（ステップ２〜３のトータル収率：４０．０％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：６．７８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．７６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、４．９１（ｓ，１Ｈ）、４．１４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．８９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．７６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．７９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、１．６５−１．７９（ｍ，４Ｈ）、１．４１−１．５０（ｍ，４Ｈ）

ステップ５：中間体Ｅの合成

温度計を備えた３つ口反応器に窒素気流中、ｔｒａｎｓ，−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸１２．５０ｇ（７２．６０ｍｍｏｌ）とＴＨＦ８０ｍｌを加えた。そこへ、メタンスルホニルクロリド４．３５ｇ（３７．９７ｍｍｏｌ）を加え、反応器を氷水浴に浸して反応液内温を５℃とした。次いで、トリエチルアミン４．０３ｇ（３９．８３ｍｍｏｌ）を、反応液内温を５〜１０℃に保持しながら、５分間かけて滴下した。滴下終了後、全容を５〜１０℃で２時間さらに撹拌した。
得られた反応液に、４−（ジメチルアミノ）ピリジン４４０ｍｇ（３．６０ｍｍｏｌ）、及び、前記ステップ４で合成した中間体Ｄ：１０．９ｇ（３６．２４ｍｍｏｌ）を加え、再度反応器を氷水浴に浸して反応液内温を５℃とした。そこへ、トリエチルアミン４．０３ｇ（３９．８３ｍｍｏｌ）を、反応液内温を５〜１０℃に保持しながら、５分間かけて滴下し、滴下終了後、氷水浴を除去し、全容を２５℃でさらに２時間撹拌した。反応終了後、反応液に蒸留水７００ｍｌと飽和食塩水７０ｍｌを加え、酢酸エチル２５０ｍｌで２回抽出した。有機層を集め、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から溶媒を減圧留去した後、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：ＴＨＦ＝９７：３）により精製することで、中間体Ｅを白色固体として９．３０ｇ得た（収率：５６．４％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：１２．１２（ｓ，１Ｈ）、６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、４．０７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．７９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．８１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．４７−２．５６（ｍ，１Ｈ）、２．１８−２．２７（ｍ，１Ｈ）、２．０１−２．１１（ｍ，２Ｈ）、１．９３−２．０１（ｍ，２Ｈ）、１．６５−１．７４（ｍ，２Ｈ）、１．５７−１．６５（ｍ，２Ｈ）、１．３４−１．５２（ｍ，８Ｈ）

ステップ６：中間体Ｆの合成

温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ５で合成した中間体Ｅ：４．９０ｇ（１０．７７ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド６３１ｍｇ（８．６３ｍｍｏｌ）、及びトルエン７０ｍｌを入れ、均一な溶液とし、反応器を氷水浴に浸して反応液内温を５℃とした。この溶液に、塩化チオニル１．３０ｇ（１０．９３ｍｍｏｌ）を、反応液内温を５〜１０℃に保持しながら５分間かけて滴下した。滴下終了後、全容を５〜１０℃で２時間さらに撹拌した。反応終了後、反応液をロータリーエバポレーターで濃縮し、得られた濃縮物にＴＨＦ６０ｍｌを加え、均一な溶液とした。この溶液に、２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド ７．５０ｇ（５４．３０ｍｍｏｌ）を加え、反応器を氷水浴に浸して反応液内温を５℃とし、トリエチルアミン １．２０ｇ（１１．８７ｍｍｏｌ）を１０分間かけて滴下した。滴下終了後、全容を５〜１０℃でさらに２時間撹拌した。
反応終了後、反応液に蒸留水９００ｍｌと飽和食塩水１５０ｍｌを加え、酢酸エチル３００ｍｌで２回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物にトルエン３００ｍｌを加え、不溶分の固体をろ過により除去した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：ＴＨＦ＝９５：５）により精製することで、白色固体として中間体Ｆを２．７７ｇ得た（収率：４４．６％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：１０．９２（ｓ，１Ｈ）、９．８６（ｓ，１Ｈ）、７．３２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）、７．２２−７．２８（ｍ，１Ｈ）、７．０１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．８８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、４．１５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．７６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．７９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．５１−２．６９（ｍ，２Ｈ）、２．２３−２．３８（ｍ，４Ｈ）、１．７４−１．８７（ｍ，２Ｈ）、１．６１−１．７４（ｍ，６Ｈ）、１．３８−１．５５（ｍ，４Ｈ）

ステップ７：中間体Ｇの合成

温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ２で合成した中間体Ｂ：２．８０ｇ（６．７５ｍｍｏｌ）とＴＨＦ４０ｍｌを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、メタンスルホニルクロリド７７３ｍｇ（６．７５ｍｍｏｌ）を加えた後、反応器を氷水浴に浸して反応液内温を５℃とした。次いで、トリエチルアミン７８０ｍｇ（７．７１ｍｍｏｌ）を、反応液内温を５〜１０℃に保持しながら５分間かけて滴下した。滴下終了後、氷水浴を除去し、全容を２５℃で１時間反応させた後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン５８．９ｍｇ（０．４８２ｍｍｏｌ）、前記ステップ６で合成した中間体Ｆ：２．７７ｇ（４．８２ｍｍｏｌ）を加え、反応器を再度氷水浴に浸して反応液内温を５℃とした。そして、トリエチルアミン５８５ｍｇ（５．７８ｍｍｏｌ）を、反応液内温を５〜１０℃に保持しながら５分間かけて滴下し、滴下終了後、氷水浴を除去し、全容を２５℃でさらに２時間撹拌した。
反応終了後、反応液に蒸留水５００ｍｌと飽和食塩水５０ｍｌを加え、クロロホルム３００ｍｌで２回抽出した。有機層を集め、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターでろ液を濃縮し、得られた固体をＴＨＦ１０ｍｌに溶解させた。その溶液にメタノール５０ｍｌを加えて結晶を析出させ、析出結晶をろ取した。得られた結晶をメタノールで洗浄後、真空乾燥させて、中間体Ｇを白色固体として４．２７ｇ得た（収率：９０．８％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：１０．０８（ｓ，１Ｈ）、７．６１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）、７．３７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，９．０Ｈｚ）、７．２０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．８８（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．４０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．１７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、４．１５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９４（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．７６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．７９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．６６−２．７５（ｍ，１Ｈ）、２．５３−２．６６（ｍ，３Ｈ）、２．２３−２．４３（ｍ，８Ｈ）、１．７５−１．８４（ｍ，４Ｈ）、１．６２−１．７５（ｍ，１２Ｈ）、１．３９−１．５５（ｍ，８Ｈ）

ステップ８：中間体Ｈの合成

温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、２−ヒドラジノベンゾチアゾール２．００ｇ（１２．１ｍｍｏｌ）、及び、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、炭酸カリウム８．３６ｇ（６０．５ｍｍｏｌ）、１−ヨードヘキサン３．０８ｇ（１４．５ｍｍｏｌ）を加え、全容を５０℃で７時間撹拌した。反応終了後、反応液を２０℃まで冷却し、反応液を水２００ｍｌに投入し、酢酸エチル３００ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにて、ろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝７５：２５）により精製し、中間体Ｈを白色固体として２．１０ｇ得た（収率：６９．６％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．６０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．５３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．２７（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．０６（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、４．２２（ｓ，２Ｈ）、３．７４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、１．６９−１．７６（ｍ，２Ｈ）、１．２９−１．４２（ｍ，６Ｈ）、０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）

ステップ９：化合物１の合成
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ７で合成した中間体Ｇ：２．３８ｇ（２．４４ｍｍｏｌ）、前記ステップ８で合成した中間体Ｈ：７３１ｍｇ（２．９３ｍｍｏｌ）、（±）−１０−カンファスルホン酸 ５６．７ｍｇ（０．２４４ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ３５ｍｌ、及びエタノール６ｍｌを加え、全容を４０℃にて５時間撹拌した。反応終了後、反応液を水２００ｍｌに投入し、酢酸エチル３３０ｍｌで抽出した。得られた酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにて、ろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：ＴＨＦ＝９９：１）により精製し、淡黄色固体として化合物１を２．０２ｇ得た（収率６８．７％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．７５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）、７．６４−７．７２（ｍ，３Ｈ）、７．３４（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，６．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．１７（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．０７−７．１４（ｍ，２Ｈ）、６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．８８（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．４０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．３０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、４．１７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、４．１５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９４（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．７６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、２．７９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．５３−２．７５（ｍ，４Ｈ）、２．２５−２．４２（ｍ，８Ｈ）、１．６４−１．８５（ｍ，１８Ｈ）、１．２９−１．５６（ｍ，１４Ｈ）、０．９０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）

（合成例２）化合物２の合成

ステップ１：中間体Ｉの合成

温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、合成例１のステップ１で合成した中間体Ｂ：１．５０ｇ（３．５８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ３０ｍｌに溶解させた。この溶液に、メタンスルホニルクロリド４３１ｍｇ（３．７６ｍｍｏｌ）を加え、反応器を水浴に浸して反応液内温を１５℃とした。そこへ、トリエチルアミン ３９９ｍｇ（３．９４ｍｍｏｌ）を５分間かけて滴下し、滴下終了後、２５℃でさらに２時間撹拌した。得られた反応混合物に、２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド２．４８ｇ（１７．９２ｍｍｏｌ）、及び、４−（ジメチルアミノ）ピリジン４０．０ｍｇ（０．３６ｍｍｏｌ）を加え、再度反応器を水浴に浸して反応液内温を１５℃とし、トリエチルアミン４４０ｍｇ（４．３０ｍｍｏｌ）を５分間かけて滴下した。滴下終了後、全容を２５℃でさらに２時間撹拌した。
反応終了後、反応液に蒸留水３００ｍｌと飽和食塩水５０ｍｌを加え、酢酸エチル１００ｍｌで２回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物にトルエン１００ｍｌを加え、不溶分の固体をろ過により除去した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：ＴＨＦ＝９５：５）により精製することで、白色固体として中間体Ｉを０．８０ｇ得た（収率：４１．０％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：１０．９１（ｓ，１Ｈ）、９．８６（ｓ，１Ｈ）、７．３２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）、７．２５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，９．０Ｈｚ）、７．０１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．８７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．４０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．０Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．０Ｈｚ）、４．１７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．５３−２．６５（ｍ，２Ｈ）、２．２３−２．３５（ｍ，４Ｈ）、１．７５−１．８４（ｍ，２Ｈ）、１．６２−１．７５（ｍ，６Ｈ）、１．４１−１．５５（ｍ，４Ｈ）

ステップ２：中間体Ｊの合成

温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、合成例１のステップ５で合成した中間体Ｅ：２．５０ｇ（５．５９ｍｍｏｌ）とＴＨＦ３０ｍｌを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、メタンスルホニルクロリド６４０ｍｇ（５．５９ｍｍｏｌ）を加えた後、反応器を氷水浴に浸して反応液内温を５℃とした。次いで、トリエチルアミン ６４６ｍｇ（６．３８ｍｍｏｌ）を、反応液内温を５〜１０℃に保持しながら５分間かけて滴下した。滴下終了後、氷水浴を除去し、全容を２５℃で１時間反応させた後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン４８．７ｍｇ（０．３９９ｍｍｏｌ）、前記ステップ１で合成した中間体Ｉ：２．１５ｇ（３．９９ｍｍｏｌ）を加え、反応器を再度氷水浴に浸して反応液内温を５℃とした。そして、トリエチルアミン４８５ｍｇ（４．７９ｍｍｏｌ）を、反応液内温を５〜１０℃に保持しながら５分間かけて滴下し、滴下終了後、氷水浴を除去し、全容を２５℃でさらに２時間撹拌した。
反応終了後、反応液に蒸留水４００ｍｌと飽和食塩水４０ｍｌを加え、クロロホルム２５０ｍｌで２回抽出した。有機層を集め、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターでろ液を濃縮し、得られた固体をＴＨＦ１０ｍｌに溶解させた。その溶液にメタノール４０ｍｌを加えて結晶を析出させ、析出結晶をろ取した。得られた結晶をメタノールで洗浄後、真空乾燥させて、中間体Ｊを白色固体として３．４０ｇ得た（収率：８９．０％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：１０．０８（ｓ，１Ｈ）、７．６１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）、７．３７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，９．０Ｈｚ）、７．２０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．８８（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．４０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．１７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、４．１５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９４（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．７６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．７９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．６５−２．７４（ｍ，１Ｈ）、２．４３−２．６５（ｍ，３Ｈ）、２．１６−２．３８（ｍ，８Ｈ）、１．７５−１．８４（ｍ，４Ｈ）、１．６４−１．７５（ｍ，１２Ｈ）、１．３９−１．５５（ｍ，８Ｈ）

ステップ３：化合物２の合成
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ２で合成した中間体Ｊ：２．００ｇ（２．０５ｍｍｏｌ）、合成例１のステップ８で合成した中間体Ｈ：６１３ｍｇ（２．４６ｍｍｏｌ）、（±）−１０−カンファスルホン酸 ４７．６ｍｇ（０．２０５ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ３０ｍｌ、及びエタノール４ｍｌを加え、全容を４０℃にて５時間撹拌した。反応終了後、反応液を水２００ｍｌに投入し、酢酸エチル３００ｍｌで抽出した。得られた酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにて、ろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：ＴＨＦ＝９９：１）により精製し、淡黄色固体として化合物２を１．５８ｇ得た（収率６３．９％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．７５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）、７．６４−７．７３（ｍ，３Ｈ）、７．３４（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．１７（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．０７−７．１４（ｍ，２Ｈ）、６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．８８（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．４０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．３０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、４．１８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、４．１５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．７６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．７９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．５２−２．７４（ｍ，４Ｈ）、２．２４−２．４１（ｍ，８Ｈ）、１．６４−１．８８（ｍ，１８Ｈ）、１．２５−１．５６（ｍ，１４Ｈ）、０．９０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）

（合成例３）化合物３の合成

温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、合成例１のステップ５で合成した中間体Ｅ：１．００ｇ（２．２１ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１３２ｍｇ（１．８１ｍｍｏｌ）、及びトルエン１５ｍｌを入れ、均一な溶液とし、反応器を氷水浴に浸して反応液内温を５℃とした。この溶液に、塩化チオニル２７４ｍｇ（２．３０ｍｍｏｌ）を、反応液内温を５〜１０℃に保持しながら５分間かけて滴下した。滴下終了後、全容を５〜１０℃で１時間さらに撹拌した。反応終了後、反応液をロータリーエバポレーターで濃縮し、得られた濃縮物にＴＨＦ１５ｍｌを加え、均一な溶液とした。この溶液に、２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド１２７ｍｇ（０．９１９ｍｍｏｌ）を加え、反応器を氷水浴に浸して反応液内温を５℃とし、トリエチルアミン２２２ｍｇ（２．２０ｍｍｏｌ）を５分間かけて滴下した。滴下終了後、全容を５〜１０℃でさらに２時間撹拌した。そこへ、１Ｎ塩酸２．２０ｍｌ（２．２０ｍｍｏｌ）、及び、合成例１のステップ８で合成した中間体Ｈ：３０２ｍｇ（１．２１ｍｍｏｌ）を加え、全容を４０℃にて３時間撹拌した。
反応終了後、反応液を水２０ｍｌに投入し、酢酸エチル２０ｍｌで抽出した。得られた酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにて、ろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：ＴＨＦ＝９９：１）により精製し、淡黄色固体として化合物３を４３１ｍｇ得た（収率：３７．７％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．７５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）、７．６６−７．７１（ｍ，３Ｈ）、７．３４（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，６．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．１７（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．０８−７．１４（ｍ，２Ｈ）、６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．８８（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、４．３０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、４．１５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．７６（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．７９（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．５６−２．７２（ｍ，４Ｈ）、２．２７−２．３８（ｍ，８Ｈ）、１．６５−１．８４（ｍ，１８Ｈ）、１．２９−１．５５（ｍ，１４Ｈ）、０．９０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）

（合成例４）化合物４の合成

ステップ１：中間体Ｋの合成

冷却器、及び温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、ハイドロキノン１０４．７７ｇ（０．９５１５ｍｏｌ）、６−クロロヘキサノール１００ｇ（０．７３２０ｍｏｌ）、蒸留水５００ｍｌ、ｏ−キシレン１００ｍｌを加えた。全容を撹拌しながら、さらに、水酸化ナトリウム３５．１５ｇ（０．８７８４ｍｏｌ）を、反応液内温が４０℃を超えないように２０分かけて少量ずつ加えた。水酸化ナトリウムの添加終了後、内容物を加熱し、還流条件下（９６℃）で１２時間反応を行った。
反応終了後、反応液内温を８０℃に下げ、蒸留水２００ｍｌを加えた後、反応液を１０℃に冷却することで、結晶が析出した。析出した結晶をろ過により固液分離し、得られた結晶を蒸留水５００ｍｌで洗浄し、真空乾燥することで、褐色結晶１２３．３ｇを得た。
この褐色結晶をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝：９０：１０）により精製することで、中間体Ｋを白色固体として２０ｇ得た（収率：１３％）。

ステップ２：中間体ＡＡの合成

冷却器、及び温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、先のステップ１で合成した中間体Ｋ：２０ｇ（９５．１２ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン１２．３ｇ（９５．１２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン５００ｍｌに溶解させた。この溶液を氷浴にて冷却して、１０℃以下になるように制御しながらアクリロイルクロライド５．１６ｇ（５７．０１ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、氷浴下にて、２時間反応を行った。反応終了後、反応液を０．１Ｎ−塩酸水溶液１リットルに投入し、酢酸エチル３００ｍｌで２回抽出を行った。得られた酢酸エチル層を飽和食塩水３００ｍｌで洗浄した。その後、酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させて、硫酸ナトリウムをろ過により除去した。ロータリーエバポレーターにより酢酸エチルを留去して、淡黄色固体を得た。この淡黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝：９５：５）により精製することで、中間体ＡＡを含む白色固体（粗中間体ＡＡ）を５．６ｇ得た（収率：３７％）。
得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、中間体ＡＡのハロゲン化体である下記中間体ＡＡ’が、中間体ＡＡと中間体ＡＡ’の合計中、が２．１質量％の割合で含まれていた。

ステップ３：混合物Ｌの合成

温度計を備えた３口反応器に、窒素気流中、ｔｒａｎｓ−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド１０．０ｇ（４７．８３ｍｍｏｌ）とシクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）８４ｍｌとＴＨＦ３１ｍｌを加えた。そこへ、前記ステップ２で合成した粗中間体ＡＡ：１２．０４ｇを加え、反応器を氷浴に浸して反応液内温を０℃とした。次いで、トリエチルアミン４．８３ｇ（４７．８３ｍｍｏｌ）を、反応液内温を１０℃以下に保持しながら、５分間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、全容を１０℃以下に保持しながら１時間さらに攪拌した。
得られた反応液に、蒸留水３０ｍｌを加えた。この反応液を５０℃に昇温した後、２時間洗浄（加水分解）した後、水層を抜き出した。さらに、得られた有機層に、蒸留水３０ｍｌを加えた後、全容を５０℃にて２時間洗浄（加水分解）を行い、水層を抜き出した。得られた有機層を４０℃に冷却した後、さらに、濃度１ｍｏｌ／リットルの酢酸と酢酸ナトリウムからなる緩衝溶液（ｐＨ：５．５）５０ｍｌで５回洗浄を行った後、緩衝溶液を抜き出した。得られた有機層にさらに、蒸留水３０ｍｌで洗浄を行った後、水層を抜き出した。
得られた有機層に、ｎ−ヘキサン２２０ｍｌを加えた後、０℃まで冷却して結晶を析出させた。その後、析出した結晶をろ過によりろ取した。ろ過物をｎ−ヘキサンで洗浄後、真空乾燥させて、白色固体として混合物Ｌを１６．７８ｇ得た。

得られた結晶をＨＰＬＣにて分析を行い、検量線にてモノエステルとジエステルの定量を行ったところ、目的物であるモノエステルが、１１．４９ｇ（２７．４５ｍｍｏｌ）、ジエステルが、５．２９ｇ（７．９６ｍｍｏｌ）含まれていることが分かった。また、得られた結晶を^１３Ｃ−ＮＭＲ（ＤＭＦ−ｄ７）にて分析を行い、シクロヘキサンジカルボン酸の含量を算出したところ、検出限界以下であった。それぞれの組成比からmol含量を計算すると、モノエステルの含量：７７．５２ｍｏｌ％、ジエステルの含量：２２．４８ｍｏｌ％であった。

ステップ４：化合物４の合成
温度計を備えた３口反応器に、窒素気流中、前記ステップ３で合成した混合物Ｌ：１６．７８ｇ（全量）、及びクロロホルム１１５ｇ、ＤＭＦ４．０ｇを加えて、１０℃以下に冷却した。そこへ、塩化チオニル３．７６ｇ（３１．５７ｍｍｏｌ）を反応温度が１０℃以下になるように制御して滴下した。滴下終了後、反応液を２５℃に戻して１時間撹拌した。反応終了後、エバポレーターにて反応液の量が四分の１になるまで濃縮した。その後、クロロホルム２８．７ｇを加えて、クロロホルム溶液を得た。
別途、温度計を備えた３口反応器に、窒素気流中、２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド１．７２ｇ（１２．４８ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン７．５８ｇ（７４．８８ｍｍｏｌ）を５７ｇのクロロホルムに溶解させ、１０℃以下まで冷却した。この溶液に、前記クロロホルム溶液を、反応液内温を１０℃以下に保持しながらゆっくりと滴下した。滴下終了後、反応液を１０℃以下に保持しながらさらに１時間反応を行った。

反応終了後、１０℃以下のまま、反応液に、先の合成例１のステップ８で合成した中間体Ｈ：４．０５ｇ（１６．２２ｍｍｏｌ）を加え、さらに１．０規定の塩酸水溶液４５ｇを加えた。その後、反応液を４０℃に昇温して３時間反応を行った。反応終了後、反応液を２５℃まで冷却し、分液操作を行った。
得られた有機層にロカヘルプ＃４７９（三井金属鉱業社製）０．５７ｇを加え、３０分撹拌した後、ロカヘルプ＃４７９をろ別した。次いで、得られた反応液から、総重量の約８０％をエバポレーターにて抜き出して濃縮した。この溶液にＴＨＦ２３ｇを加えた後、１時間攪拌した。次いで、この溶液にｎ−ヘキサン９２ｇを滴下した後、０℃まで冷却して結晶を析出させた。その後、析出した結晶をろ過によりろ取した。
得られた結晶にＴＨＦ１２０ｇ、ロカヘルプ＃４７９ ２．１ｇ、及び、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール１１０ｍｇを加えて３０分撹拌した後、ロカヘルプ＃４７９をろ別した。次いで、得られた反応液から、エバポレーターにてＴＨＦ４０ｇを留去した。得られた溶液にメタノール１３４ｇを滴下した後、０℃まで冷却して結晶を析出させた。その後、析出した結晶をろ過によりろ取した。ろ過物をメタノールで洗浄後、真空乾燥させて、固体（粗化合物４）を１２．０２ｇ得た。（収率：８２．３％）
得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、化合物４のハロゲン化体である下記化合物４’が、化合物４と化合物４’の合計中、１．５質量％の割合で含まれていた。

（合成例５）化合物５の合成

ステップ１：中間体Ｍの合成

温度計を備えた３つ口反応器内において、窒素気流中、２−ヒドラジノベンゾチアゾール３０．０ｇ（１８１．６ｍｏｌ）をＤＭＦ５００ｍｌに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム １１８．３ｇ（３６３．２ｍｏｌ）を加えて０℃に冷却し、２−ブロモプロパン３３．３ｇ（２７２．３ｍｍｏｌ）を加え、全容を０℃で１時間撹拌した後、さらに、２５℃で２０時間攪拌した。その後、反応液に蒸留水１５００ｍｌを加え、酢酸エチル１０００ｍｌで２回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＴＨＦ：トルエン＝１：９）により精製することで、白色固体として中間体Ｍを１１．１ｇ、収率２９％で得た。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．６５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．３５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．２０（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、６．９８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、５．１０（ｓ，２Ｈ）、４．６１−４．７２（ｍ，１Ｈ）、１．１７（ｄ，６Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）

ステップ２：化合物５の合成
合成例４のステップ４において、中間体Ｈ：４．０５ｇ（１６．２２ｍｍｏｌ）を、前記ステップ１で合成した中間体Ｍ：３．３６ｇ（１６．２２ｍｍｏｌ）に変更した以外は、合成例４と同様の操作を行った。その結果、固体（粗化合物５）を１１．０８ｇ得た（収率：７８．７％）。
得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、化合物５のハロゲン化体である下記化合物５’が、化合物５と化合物５’の合計中、１．３質量％の割合で含まれていた。

（合成例６）化合物６の合成

ステップ１：中間体Ｎの合成

温度計を備えた３つ口反応器内において、窒素気流中、２−クロロベンゾチアゾール １５．０ｇ（８８．４５ｍｍｏｌ）とフェニルヒドラジン ３８．２５ｇ（３５３．７ｍｍｏｌ）をエチレングリコール１５０ｍｌに溶解させた。この溶液を１４０℃に加熱し５時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水１０００ｍｌを加え、酢酸エチル５００ｍｌで２回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、得られた濃縮物にＴＨＦ５０ｍｌを加えて溶解させた。その溶液を蒸留水１０００ｍｌ中に投入し、析出した固体をろ取した。ろ過物を蒸留水で洗浄後、真空乾燥させて黄色固体を得た。黄色固体をフラスコに入れ、トルエン２５０ｍｌを加えて３０分攪拌した後に、ろ過を行うことでトルエンに不溶の固体成分を除去した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＴＨＦ：トルエン＝２：５０）により精製することで、黄色オイルとして中間体Ｎを４．７０ｇ、収率２２％で得た。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：８．０１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，９．０Ｈｚ）、７．７８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．５１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．４３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，８．５Ｈｚ）、７．２８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．０８−７．１６（ｍ，２Ｈ）、６．２６（ｓ，２Ｈ）

ステップ２：化合物６の合成
合成例４のステップ４において、中間体Ｈ：４．０５ｇ（１６．２２ｍｍｏｌ）を、前記ステップ１で合成した中間体Ｎ：３．９１ｇ（１６．２２ｍｍｏｌ）に変更した以外は、合成例４と同様の操作を行った。その結果、固体（粗化合物６）を１０．６５ｇ得た（収率：７３．４％）。
得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、化合物６のハロゲン化体である下記化合物６’が、化合物６と化合物６’の合計中、０．６質量％の割合で含まれていた。

（合成例７）化合物７の合成

ステップ１：中間体Ｏの合成

温度計を備えた４つ口反応器内において、窒素気流下中、シクロヘキシルヒドラジン塩酸塩１２．５ｇ（８３．０ｍｍｏｌ）をトリエチルアミン４０ｍｌに溶解させた。この溶液に、２−クロロベンゾチアゾール２８．１５ｇ（１６６．０ｍｍｏｌ）を加え、全容を８０℃で５時間撹拌した。反応終了後、反応液を２０℃まで冷却し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液５００ｍｌに投入し、酢酸エチル１０００ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝７５：２５）により精製し、白色固体として中間体Ｏを５．１０ｇ得た（収率：２４．８％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．５８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、７．５２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．２６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，８．２Ｈｚ）、７．０５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，７．８Ｈｚ）、４．２５−４．３２（ｍ，１Ｈ）、４．０４（ｓ，２Ｈ）、１．８４−１．８８（ｍ，４Ｈ）、１．６８−１．７３（ｍ，１Ｈ）、１．４３−１．５９（ｍ，４Ｈ）、１．０８−１．１９（ｍ，１Ｈ）

ステップ２：化合物７の合成
合成例４のステップ４において、中間体Ｈ：４．０５ｇ（１６．２２ｍｍｏｌ）を、前記ステップ１で合成した中間体Ｏ：４．０１ｇ（１６．２２ｍｍｏｌ）に変更した以外は、合成例４と同様の操作を行った。その結果、固体（粗化合物７）を１１．１１ｇ得た（収率：７６．２％）。
得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、化合物７のハロゲン化体である下記化合物７’が、化合物７と化合物７’の合計中、０．４質量％の割合で含まれていた。

（合成例８）化合物８の合成

ステップ１：中間体Ｐの合成

温度計を備えた３つ口反応器内において、窒素気流中、２−ヒドラジノベンゾチアゾール１０．０ｇ（６０．５ｍｍｏｌ）をＤＭＦ１５０ｍｌに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム３９．４ｇ（１２１．０ｍｏｌ）を加えて０℃に冷却し、ヨードヘプタン１６．４ｇ（７２．５ｍｍｏｌ）を５分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を２５℃で３時間攪拌した。反応終了後、反応液に水１０００ｍｌを加え、酢酸エチル５００ｍｌで２回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝８５：１５）により精製することで、白色固体として中間体Ｐを９．０５ｇ得た（収率５６．９％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．５９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．５３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．０６−７．２８（ｍ，２Ｈ）、４．２２（ｓ，２Ｈ）、３．７５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．２９−１．３８（ｍ，１０Ｈ）、０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）

ステップ２：化合物８の合成
合成例４のステップ４において、中間体Ｈ：４．０５ｇ（１６．２２ｍｍｏｌ）を、前記ステップ１で合成した中間体Ｐ：４．２７ｇ（１６．２２ｍｍｏｌ）に変更した以外は、合成例４と同様の操作を行った。その結果、固体（粗化合物８）を１１．９６ｇ得た（収率：８０．９％）。
得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、化合物８のハロゲン化体である下記化合物８’が、化合物８と化合物８’の合計中、０．５質量％の割合で含まれていた。

（合成例９）化合物９の合成

ステップ１：中間体Ｑの合成

温度計を備えた３つ口反応器内において、窒素気流中、２−ヒドラジノベンゾチアゾール１０．０ｇ（６０．５ｍｍｏｌ）をＤＭＦ１５０ｍｌに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム３９．４ｇ（１２１．０ｍｏｌ）を加えて０℃に冷却し、ブチル２−クロロエチルエーテル９．９０ｇ（７２．５ｍｍｏｌ）を５分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を２５℃で３時間攪拌した。反応終了後、反応液に水１０００ｍｌを加え、酢酸エチル５００ｍｌで２回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝７５：２５）により精製することで、白色固体として中間体Ｑを８．５０ｇ得た（収率５３．０％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．６１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．５０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．２７−７．２９（ｍ，１Ｈ）、７．０４−７．０８（ｍ，１Ｈ）、４．７０（ｓ，２Ｈ）、４．０１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．０Ｈｚ）、３．８２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．０Ｈｚ）、３．４４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．５２−１．５７（ｍ，２Ｈ）、１．３１−１．３９（ｍ，２Ｈ）、０．９０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）

ステップ２：化合物９の合成
合成例４のステップ４において、中間体Ｈ：４．０５ｇ（１６．２２ｍｍｏｌ）を、前記ステップ１で合成した中間体Ｑ：４．３０ｇ（１６．２２ｍｍｏｌ）に変更した以外は、合成例４と同様の操作を行った。その結果、固体（粗化合物９）を１１．７７ｇ得た（収率：７９．５％）。
得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、化合物９のハロゲン化体である下記化合物９’が、化合物９と化合物９’の合計中、０．３質量％の割合で含まれていた。

（合成例１０）化合物１０の合成

ステップ１：中間体Ｒの合成

温度計を備えた４つ口反応器内において、窒素気流中、２−ヒドラジノベンゾチアゾール ５．０４ｇ（３０．５ｍｍｏｌ）をＤＭＦ５０ｍｌに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム １４．９ｇ（４５．８ｍｍｏｌ）、４−ブロモ−１−ブテン ４．９４ｇ（３６．６ｍｍｏｌ）を加え、全容を２５℃にて７時間撹拌した。反応終了後、反応液を水２００ｍｌに投入し、酢酸エチル３００ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝７０：３０）により精製し、白色固体として中間体Ｒを４．４０ｇ得た（収率：６５．８％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．６０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．５４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．２８（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．０６（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、５．８９（ｄｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，１０．５Ｈｚ，１７．０Ｈｚ）、５．１７（ｄｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，３．０Ｈｚ，１７．０Ｈｚ）、５．０９（ｄｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，３．０Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．２６（ｓ，２Ｈ）、３．８５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、２．５２（ｄｄｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，１．５Ｈｚ，７．０Ｈｚ，７．０Ｈｚ）

ステップ２：化合物１０の合成
合成例４のステップ４において、中間体Ｈ：４．０５ｇ（１６．２２ｍｍｏｌ）を、前記ステップ１で合成した中間体Ｒ：３．５６ｇ（１６．２２ｍｍｏｌ）に変更した以外は、合成例４と同様の操作を行った。その結果、固体（粗化合物１０）を９．８８ｇ得た（収率：６９．４％）。
得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、化合物１０のハロゲン化体である下記化合物１０’が、化合物１０と化合物１０’の合計中、１．０質量％の割合で含まれていた。

（合成例１１）化合物１１の合成

ステップ１：中間体Ｓの合成

温度計を備えた４つ口反応器内で、窒素気流中、２−ヒドラジノベンゾチアゾール１０．０ｇ（６０．５ｍｍｏｌ）をＤＭＦ１５０ｍｌに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム３９．４ｇ（１２１．０ｍｍｏｌ）、１−ブロモ−２−ブチン９．６５ｇ（７２．５ｍｍｏｌ）を加え、全容を２５℃で２０時間撹拌した。反応終了後、反応液を水１０００ｍｌに投入し、酢酸エチル５００ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにて、ろ液から酢酸エチルを減圧留去して、褐色固体を得た。この褐色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝８５：１５）により精製し、白色固体として中間体Ｓを６．２５ｇ得た（収率：４７．５％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．６３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．８Ｈｚ）、７．５８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．８Ｈｚ）、７．２９（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ）、７．１０（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ）、４．５６（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）、４．３６（ｓ，２Ｈ）、１．８４（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）

ステップ２：化合物１１の合成
合成例４のステップ４において、中間体Ｈ：４．０５ｇ（１６．２２ｍｍｏｌ）を、前記ステップ１で合成した中間体Ｓ：３．５２ｇ（１６．２２ｍｍｏｌ）に変更した以外は、合成例４と同様の操作を行った。その結果、固体（粗化合物１１）を９．４６ｇ得た（収率：６６．６％）。
得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、化合物１１のハロゲン化体である下記化合物１１’が、化合物１１と化合物１１’の合計中、化合物１１’が０．９質量％の割合で含まれていた。

（合成例１２）化合物１２の合成

ステップ１：中間体Ｔの合成

温度計を備えた４つ口反応器内において、窒素気流中、２−ヒドラジノベンゾチアゾール１０．０ｇ（６０．５ｍｍｏｌ）をＤＭＦ１００ｍｌに溶解させた。この溶液に、炭酸カリウム４１．８ｇ（３０４ｍｍｏｌ）、及び５−ブロモバレロニトリル１０．３４ｇ（６０．６ｍｍｏｌ）を加え、全容を６０℃で８時間撹拌した。反応終了後、反応液を２０℃まで冷却し、水１０００ｍｌに投入し、酢酸エチル１０００ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝６０：４０）により精製し、白色固体として中間体Ｔを６．８２ｇ得た（収率：４５．７％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．６０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、７．５１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、７．２８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ、８．１Ｈｚ）、７．０７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，７．８Ｈｚ）、４．２３（ｓ，２Ｈ）、３．８１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、２．４６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）、１．８８−１．９５（ｍ，２Ｈ）、１．７１−１．７９（ｍ，２Ｈ）

ステップ２：化合物１２の合成
合成例４のステップ４において、中間体Ｈ：４．０５ｇ（１６．２２ｍｍｏｌ）を、前記ステップ１で合成した中間体Ｔ：４．００ｇ（１６．２２ｍｍｏｌ）に変更した以外は、合成例４と同様の操作を行った。その結果、固体（粗化合物１２）を１１．２３ｇ得た（収率：７７．１％）。
得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、化合物１２のハロゲン化体である下記化合物１２’が、化合物１２と化合物１２’の合計中、０．３質量％の割合で含まれていた。

（合成例１３）化合物１３の合成

ステップ１：中間体Ｕの合成

温度計を備えた４つ口反応器内において、窒素気流中、２−ヒドラジノベンゾチアゾール１４．５ｇ（８７．５ｍｍｏｌ）をＤＭＦ２００ｍｌに溶解させた。この溶液に、炭酸カリウム３６．３ｇ（２６３ｍｍｏｌ）、１，１，１，−トリフルオロ−４−ヨードブタン２５．０ｇ（１０５ｍｍｏｌ）を加え、全容を８０℃で８時間撹拌した。反応終了後、反応液を２０℃まで冷却し、水１０００ｍｌに投入して、酢酸エチル１０００ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝８５：１５）により精製し、白色固体として中間体Ｕを９．６１ｇ得た（収率：３９．９％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．６１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．５４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、７．３０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ）、７．０９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、４．２４（ｓ，２Ｈ）、３．８１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、２．１６−２．２６（ｍ，２Ｈ）、１．９９−２．０５（ｍ，２Ｈ）

ステップ２：化合物１３の合成
合成例４のステップ４において、中間体Ｈ：４．０５ｇ（１６．２２ｍｍｏｌ）を、前記ステップ１で合成した中間体Ｕ：４．４７ｇ（１６．２２ｍｍｏｌ）に変更した以外は、合成例４と同様の操作を行った。その結果、固体（粗化合物１３）を１１．８１ｇ得た（収率：７９．１％）。
得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、化合物１３のハロゲン化体である下記化合物１３’が、化合物１３と化合物１３’の合計中、１．１質量％の割合で含まれていた。

（合成例１４）化合物１４の合成

ステップ１：中間体Ｖの合成

温度計を備えた４つ口反応器において、窒素気流中、２−ヒドラジノベンゾチアゾール４０．０ｇ（２４１．６ｍｍｏｌ）を、ＤＭＦ３００ｍｌに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム１１８ｇ（３６３ｍｍｏｌ）、３−ブロモ−２−メチル−１−プロペン３９．２ｇ（２９１ｍｍｏｌ）を加え、全容を２５℃で１８時間撹拌した。反応終了後、反応液を水１５００ｍｌに投入し、酢酸エチル２０００ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝８０：２０）により精製し、白色固体として中間体Ｖを５．８８ｇ得た（収率：１１．１％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．５９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．５２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．２６（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．０５（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、４．９８（ｓ，１Ｈ）、４．８６（ｓ，１Ｈ）、４．２９（ｓ，２Ｈ）、４．１２（ｓ，２Ｈ）、１．７１（ｓ，３Ｈ）

ステップ２：化合物１４の合成
合成例４のステップ４において、中間体Ｈ：４．０５ｇ（１６．２２ｍｍｏｌ）を、前記ステップ１で合成した中間体Ｖ：３．５６ｇ（１６．２２ｍｍｏｌ）に変更した以外は、合成例４と同様の操作を行った。その結果、固体（粗化合物１４）を１０．０５ｇ得た（収率：７０．６％）。
得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、化合物１４のハロゲン化体である下記化合物１４’が、化合物１４と化合物１４’の合計中、１．３質量％の割合で含まれていた。

（合成例１５）化合物１５の合成

ステップ１：中間体Ｗの合成

温度計を備えた３つ口反応器において、窒素気流中、２−ヒドラジノベンゾチアゾール２０．０ｇ（１２１．１ｍｏｌ）をＤＭＦ４００ｍｌに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム７８．９ｇ（２４２．１ｍｏｌ）とプロパルギルブロミド１７．３ｇ（１４５．３ｍｍｏｌ）とを加え、全容を２５℃で１５時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水１５００ｍｌを加え、酢酸エチル１０００ｍｌで２回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＴＨＦ：トルエン＝１：１９）により精製することで、淡黄色固体として中間体Ｗを６．９０ｇ、収率２８％で得た。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．７３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．４４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．２６（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．０６（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、５．３１（ｓ，２Ｈ）、４．５２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）、３．３５（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）

ステップ２：化合物１５の合成
合成例４のステップ４において、中間体Ｈ：４．０５ｇ（１６．２２ｍｍｏｌ）を、前記ステップ１で合成した中間体Ｗ：３．３０ｇ（１６．２２ｍｍｏｌ）に変更した以外は、合成例４と同様の操作を行った。その結果、固体（粗化合物１５）を１０．１２ｇ得た（収率：７２．１％）。
得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、化合物１５のハロゲン化体である下記化合物１５’が、化合物１５と化合物１５’の合計中、１．８質量％の割合で含まれていた。

（合成例１６）化合物１６の合成

ステップ１：中間体Ｘの合成

温度計を備えた３つ口反応器において、窒素気流中、２−ヒドラジノベンゾチアゾール２０．０ｇ（１２１．１ｍｏｌ）をＤＭＦ４００ｍｌに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム７８．９ｇ（２４２．１ｍｏｌ）と３−ブロモプロピオニトリル１９．５ｇ（１４５．３ｍｍｏｌ）とを加え、全容を２５℃で１５時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水１５００ｍｌを加え、酢酸エチル１０００ｍｌで２回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物にトルエン２００ｍｌを加え０℃に冷却した。析出した結晶をろ取し、真空乾燥させることで、白色固体として中間体Ｘを１１．２ｇ、収率４２％で得た。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．７０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．４２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．２４（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．０３（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、５．４７（ｓ，２Ｈ）、３．９９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．９７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）

ステップ２：化合物１６の合成
合成例４のステップ４において、中間体Ｈ：４．０５ｇ（１６．２２ｍｍｏｌ）を、前記ステップ１で合成した中間体Ｘ：３．５４ｇ（１６．２２ｍｍｏｌ）に変更した以外は、合成例４と同様の操作を行った。その結果、固体（粗化合物１６）を１０．２２ｇ得た（収率：７１．９％）。
得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、化合物１６のハロゲン化体である下記化合物１６’が、化合物１６と化合物１６’の合計中、０．７質量％の割合で含まれていた。

（合成例１７）化合物１７の合成

ステップ１：中間体Ｙの合成

温度計を備えた３つ口反応器において、窒素気流中、２−ヒドラジノベンゾチアゾール１０．０ｇ（６０．５ｍｏｌ）をＤＭＦ２００ｍｌに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム３９．５ｇ（１２１ｍｏｌ）と３−ブロモブチロニトリル １０．８ｇ（７２．７ｍｍｏｌ）とを加え、全容を２５℃で１５時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水１０００ｍｌを加え、酢酸エチル５００ｍｌで２回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＴＨＦ：トルエン＝１：９）により精製することで、白色固体として中間体Ｙを１０．２ｇ、収率７２％で得た。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．７０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．４２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．２４（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．０３（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、５．４７（ｓ，２Ｈ）、３．９９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．９７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）

ステップ２：化合物１７の合成
合成例４のステップ４において、中間体Ｈ：４．０５ｇ（１６．２２ｍｍｏｌ）を、前記ステップ１で合成した中間体Ｙ：３．７７ｇ（１６．２２ｍｍｏｌ）に変更した以外は、合成例４と同様の操作を行った。その結果、固体（粗化合物１７）を９．４７ｇ得た（収率：６５．８％）。
得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、化合物１７のハロゲン化体である下記化合物１７’が、化合物１７と化合物１７’の合計中、０．４質量％の割合で含まれていた。

（合成例１８）化合物１８の合成

ステップ１：中間体Ｚの合成

温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、２−ヒドラジノベンゾチアゾール２０．０ｇ（１２１ｍｍｏｌ）をＤＭＦ３００ｍｌに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム７８．９ｇ（２４２ｍｍｏｌ）、２−（ノナフルオロブチル）エチルヨージド５０．０ｇ（１４５ｍｍｏｌ）を加え、全容を２５℃で２０時間撹拌した。反応終了後、反応液を水１０００ｍｌに投入し、酢酸エチル１０００ｍｌで抽出し、酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、褐色固体を得た。この褐色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）により精製し、白色固体として中間体Ｚを１１．５ｇ得た（収率：２２．９％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．６３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．５７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．３２（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．１１（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、４．３５（ｓ，２Ｈ）、４．０８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、２．５６−２．７０（ｍ，２Ｈ）

ステップ２：化合物１８の合成
合成例４のステップ４において、中間体Ｈ：４．０５ｇ（１６．２２ｍｍｏｌ）を、前記ステップ１で合成した中間体Ｚ：６．６７ｇ（１６．２２ｍｍｏｌ）に変更した以外は、合成例４と同様の操作を行った。その結果、固体（粗化合物１８）を１０．３４ｇ得た（収率：６２．２％）。
得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、化合物１８のハロゲン化体である下記化合物１８’が、化合物１８と化合物１８’の合計中、０．２質量％の割合で含まれていた。

（合成例１９）化合物１９の合成

冷却器、及び温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、トランスシクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド：４．１５ｇ（１９．８７ｍｍｏｌ）をシクロペンチルメチルエーテル３０ｇ、テトラヒドロフラン１１．５ｇに溶解させた。この溶液を氷浴にて冷却した後、先の合成例４のステップ２で得た粗中間体ＡＡ：５．０ｇを加えて溶解させた。氷浴下にてこの溶液に、トリエチルアミン２．０１ｇ（１９．８７ｍｍｏｌ）を１０℃以下となるように制御して、ゆっくり滴下した。滴下終了後、全容を２５℃に戻して１時間さらに攪拌した。得られた反応液に、蒸留水８０ｍｌを加え、５０℃にて４時間洗浄を行った後、水層を抜き出した。有機層をさらに、濃度１．０ｍｏｌ／リットルの酢酸と酢酸ナトリウムからなる緩衝溶液（ｐＨ：５．５）１５０ｍｌで５回洗浄した後、緩衝溶液を抜き出した。有機層をさらに、蒸留水１００ｍｌで洗浄を行い、分液した。得られた有機層に、ｎ−ヘキサン４００ｍｌを加えて結晶を析出させ、析出した結晶をろ取した。得られた結晶をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝：７０：３０）により精製することで、化合物１９を含む白色固体（粗化合物１９）を３．５６ｇ得た（収率：４５％）。
得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、化合物１９のハロゲン化体である下記化合物１９’が、化合物１９と化合物１９’の合計中、１．８質量％の割合で含まれていた。

（合成例２０）混合物１の合成
冷却器、及び温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、トランスシクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド４．１５ｇ（１９．８７ｍｍｏｌ）をシクロペンチルメチルエーテル３０ｇ、テトラヒドロフラン１１．５ｇに溶解させた。この溶液を氷浴にて冷却した後、先の合成例４のステップ２で得た粗中間体ＡＡ：５．０ｇを加えて溶解させた。氷浴下にてこの溶液に、トリエチルアミン２．０１ｇ（１９．８７ｍｍｏｌ）を１０℃以下となるように制御して、ゆっくり滴下した。滴下終了後、全容を２５℃に戻して１時間さらに攪拌した。得られた反応液に、蒸留水１５ｍｌを加え、５０℃にて４時間洗浄を行った後、水層を抜き出した。有機層をさらに、濃度１．０ｍｏｌ／リットルの酢酸と酢酸ナトリウムからなる緩衝溶液（ｐＨ：５．５）２５ｇで５回洗浄した後、緩衝溶液を抜き出した。有機層をさらに、蒸留水１５ｍｌで洗浄を行い、分液した。得られた有機層に、６０％ヘキサン６０ｇを加えて結晶を析出させた。得られた溶液を０℃まで冷却して１時間撹拌した。その後、析出した結晶をろ取して混合物１を７．２５ｇ得た。得られた固体をＨＰＬＣにて定量分析したところ、化合物１９が５．５ｇ、ジエステル化合物が１．７４ｇ含まれていた。さらに、得られた固体をＨＰＬＣにて組成分析したところ、化合物１９のハロゲン化体である化合物１９’が、化合物１９と化合物１９’の合計中、１．５質量％の割合で含まれていた。

（実施例１）化合物１の脱塩化水素反応
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、化合物１：１．０ｇ（０．８３ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン１２６ｍｇ（１．２４ｍｍｏｌ）を酢酸エチル３０ｍｌ、アセトニトリル１５ｍｌの混合溶媒に溶解させた。この溶液に、１ｍｏｌ／Ｌの濃度の炭酸ナトリウム水溶液１．５ｍｌを加えて、５０℃にて４時間撹拌した。反応終了後、炭酸ナトリウム水溶液を抜き出し、得られた有機層をさらに水３０ｍｌで洗浄した。有機層にメタノール７０ｍｌを加えて固体を析出させた。得られた固体を真空乾燥機で乾燥させ、０．９５ｇの淡黄色固体を得た。
得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、ハロゲン化体である化合物１のピークが完全に消失していたことから、化合物１は化合物４に変換されたことが分かった。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．７５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）、７．６７−７．７０（ｍ，３Ｈ）、７．３４（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．１７（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．１２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、７．１０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，９．０Ｈｚ）、６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．８８（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．４０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．０Ｈｚ）、６．１３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．３０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、４．１８（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．５８−２．７０（ｍ，４Ｈ）、２．３１−２．３５（ｍ，８Ｈ）、１．６６−１．８２（ｍ，１８Ｈ）、１．３１−１．５４（ｍ，１４Ｈ）、０．９０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）

（実施例２）化合物２の脱塩化水素反応
実施例１において、化合物１：１．０ｇ（０．８３ｍｍｏｌ）を、合成例２で合成した化合物２：１．０ｇ（０．８３ｍｍｏｌ）に変更した以外は、実施例１と同様の操作を行った。その結果、０．９４ｇの淡黄色固体を得た。
得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、ハロゲン化体である化合物２のピークが完全に消失していたことから、化合物２は化合物４に変換されたことが分かった。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．７５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）、７．６７−７．７０（ｍ，３Ｈ）、７．３４（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．１７（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．１２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、７．１０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，９．０Ｈｚ）、６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．８８（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．４０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．０Ｈｚ）、６．１３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．３０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、４．１８（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．５８−２．７０（ｍ，４Ｈ）、２．３１−２．３５（ｍ，８Ｈ）、１．６６−１．８２（ｍ，１８Ｈ）、１．３１−１．５４（ｍ，１４Ｈ）、０．９０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）

（実施例３）化合物３の脱塩化水素反応
実施例１において、化合物１：１．０ｇ（０．８３ｍｍｏｌ）を、合成例３で合成した化合物３：１．０ｇ（０．８０ｍｍｏｌ）に変更し、トリエチルアミンの使用量を１２６ｍｇ（１．２４ｍｍｏｌ）から２５０ｍｇ（２．４７ｍｍｏｌ）に変更し、１ｍｏｌ／Ｌの濃度の炭酸ナトリウム水溶液の使用量を１．５ｍｌから３ｍｌに変更した以外は、実施例１と同様の操作を行った。その結果、０．９２ｇの淡黄色固体を得た。
得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、ハロゲン化体である化合物３のピークが完全に消失していたことから、化合物３は化合物４に変換されたことが分かった。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．７５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）、７．６７−７．７０（ｍ，３Ｈ）、７．３４（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．１７（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．１２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、７．１０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，９．０Ｈｚ）、６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．８８（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．４０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．０Ｈｚ）、６．１３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．３０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、４．１８（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．５８−２．７０（ｍ，４Ｈ）、２．３１−２．３５（ｍ，８Ｈ）、１．６６−１．８２（ｍ，１８Ｈ）、１．３１−１．５４（ｍ，１４Ｈ）、０．９０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）

（実施例４）粗化合物４の脱塩化水素反応
実施例１において、化合物１：１．０ｇ（０．８３ｍｍｏｌ）を、合成例４で合成した粗化合物４：１．０ｇに変更した以外は、実施例１と同様の操作を行った。その結果、０．９５ｇの淡黄色固体を得た。
得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、ハロゲン化体である化合物４’のピークが完全に消失し、化合物４’は、化合物４に変換された。

（実施例５）粗化合物５の脱塩化水素反応
実施例１において、化合物１：１．０ｇ（０．８３ｍｍｏｌ）を、合成例５で合成した粗化合物５：１．０ｇに変更した以外は、実施例１と同様の操作を行った。その結果、０．９４ｇの淡黄色固体を得た。得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、ハロゲン化体である化合物５’のピークが完全に消失し、化合物５’は、化合物５に変換された。

（実施例６）粗化合物６の脱塩化水素反応
実施例１において、化合物１：１．０ｇ（０．８３ｍｍｏｌ）を、合成例６で合成した粗化合物６：１．０ｇに変更した以外は、実施例１と同様の操作を行った。その結果、０．９４ｇの淡黄色固体を得た。得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、ハロゲン化体である化合物６’は完全に消失し、全て化合物６に変換された。

（実施例７）粗化合物７の脱塩化水素反応
実施例１において、化合物１：１．０ｇ（０．８３ｍｍｏｌ）を、合成例７で合成した粗化合物７：１．０ｇに変更した以外は、実施例１と同様の操作を行った。その結果、０．９４ｇの淡黄色固体を得た。得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、ハロゲン化体である化合物７’は完全に消失し、全て化合物７に変換された。

（実施例８）粗化合物８の脱塩化水素反応
実施例１において、化合物１：１．０ｇ（０．８３ｍｍｏｌ）を、合成例８で合成した粗化合物８：１．０ｇに変更した以外は、実施例１と同様の操作を行った。その結果、０．９４ｇの淡黄色固体を得た。得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、ハロゲン化体である化合物８’は完全に消失し、全て化合物８に変換された。

（実施例９）粗化合物９の脱塩化水素反応
実施例１において、化合物１：１．０ｇ（０．８３ｍｍｏｌ）を、合成例９で合成した粗化合物９：１．０ｇに変更した以外は、実施例１と同様の操作を行った。その結果、０．９４ｇの淡黄色固体を得た。得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、ハロゲン化体である化合物９’は完全に消失し、全て化合物９に変換された。

（実施例１０）粗化合物１０の脱塩化水素反応
実施例１において、化合物１：１．０ｇ（０．８３ｍｍｏｌ）を、合成例１０で合成した粗化合物１０：１．０ｇに変更した以外は、実施例１と同様の操作を行った。その結果、０．９４ｇの淡黄色固体を得た。得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、ハロゲン化体である化合物１０’は完全に消失し、全て化合物１０に変換された。

（実施例１１）粗化合物１１の脱塩化水素反応
実施例１において、化合物１：１．０ｇ（０．８３ｍｍｏｌ）を、合成例１１で合成した粗化合物１１：１．０ｇに変更した以外は、実施例１と同様の操作を行った。その結果、０．９４ｇの淡黄色固体を得た。得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、ハロゲン化体である化合物１１’は完全に消失し、全て化合物１１に変換された。

（実施例１２）粗化合物１２の脱塩化水素反応
実施例１において、化合物１：１．０ｇ（０．８３ｍｍｏｌ）を、合成例１２で合成した粗化合物１２：１．０ｇに変更した以外は、実施例１と同様の操作を行った。その結果、０．９４ｇの淡黄色固体を得た。得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、ハロゲン化体である化合物１２’は完全に消失し、全て化合物１２に変換された。

（実施例１３）粗化合物１３の脱塩化水素反応
実施例１において、化合物１：１．０ｇ（０．８３ｍｍｏｌ）を、合成例１３で合成した粗化合物１３：１．０ｇに変更した以外は、実施例１と同様の操作を行った。その結果、０．９４ｇの淡黄色固体を得た。得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、ハロゲン化体である化合物１３’は完全に消失し、全て化合物１３に変換された。

（実施例１４）粗化合物１４の脱塩化水素反応
実施例１において、化合物１：１．０ｇ（０．８３ｍｍｏｌ）を、合成例１４で合成した粗化合物１４：１．０ｇに変更した以外は、実施例１と同様の操作を行った。その結果、０．９４ｇの淡黄色固体を得た。得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、ハロゲン化体である化合物１４’は完全に消失し、全て化合物１４に変換された。

（実施例１５）粗化合物１５の脱塩化水素反応
実施例１において、化合物１：１．０ｇ（０．８３ｍｍｏｌ）を、合成例１５で合成した粗化合物１５：１．０ｇに変更した以外は、実施例１と同様の操作を行った。その結果、０．９４ｇの淡黄色固体を得た。得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、ハロゲン化体である化合物１５’は完全に消失し、全て化合物１５に変換された。

（実施例１６）粗化合物１６の脱塩化水素反応
実施例１において、化合物１：１．０ｇ（０．８３ｍｍｏｌ）を、合成例１６で合成した粗化合物１６：１．０ｇに変更した以外は、実施例１と同様の操作を行った。その結果、０．９４ｇの淡黄色固体を得た。得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、ハロゲン化体である化合物１６’は完全に消失し、全て化合物１６に変換された。

（実施例１７）粗化合物１７の脱塩化水素反応
実施例１において、化合物１：１．０ｇ（０．８３ｍｍｏｌ）を、合成例１７で合成した粗化合物１７：１．０ｇに変更した以外は、実施例１と同様の操作を行った。その結果、０．９４ｇの淡黄色固体を得た。得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、ハロゲン化体である化合物１７’は完全に消失し、全て化合物１７に変換された。

（実施例１８）粗化合物１８の脱塩化水素反応
実施例１において、化合物１：１．０ｇ（０．８３ｍｍｏｌ）を、合成例１８で合成した粗化合物１８：１．０ｇに変更した以外は、実施例１と同様の操作を行った。その結果、０．９４ｇの淡黄色固体を得た。得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、ハロゲン化体である化合物１８’は完全に消失し、全て化合物１８に変換された。

（実施例１９）中間体Ｄの脱塩化水素反応
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、先の合成例１のステップ３で合成した中間体Ｄ：１．０ｇ（３．３２ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン５０５ｍｇ（４．９９ｍｍｏｌ）を酢酸エチル４０ｍｌ、アセトニトリル２０ｍｌの混合溶媒に溶解させた。この溶液に、１ｍｏｌ／Ｌの濃度の炭酸ナトリウム水溶液９．０ｍｌを加えて、５０℃にて４時間撹拌した。反応終了後、炭酸ナトリウム水溶液を抜き出し、得られた有機層をさらに０．５Ｎ−塩酸水溶液２０ｍｌで洗浄した。次いで、蒸留水５０ｍｌで２回洗浄した。得られた酢酸エチル層にｎ−ヘキサン２００ｍｌを投入して固体を析出させた。ろ過により固体をろ取して、真空乾燥機で乾燥させ、０．７７ｇの白色固体を得た。得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、ハロゲン化体である中間体Ｄのピークが完全に消失していたことから、中間体Ｄは中間体ＡＡに変換されたことが分かった。

（実施例２０）中間体Ｅの脱塩化水素反応
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、先の合成例１のステップ４で合成した中間体Ｅ：１．０ｇ（２．２０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン３３４ｍｇ（３．３０ｍｍｏｌ）を酢酸エチル４０ｍｌ、アセトニトリル２０ｍｌの混合溶媒に溶解させた。この溶液に、１ｍｏｌ／Ｌの濃度の炭酸ナトリウム水溶液８．０ｍｌを加えて、５０℃にて４時間撹拌した。反応終了後、炭酸ナトリウム水溶液を抜き出し、得られた有機層をさらに０．５Ｎ−塩酸水溶液２０ｍｌで洗浄した。次いで、蒸留水５０ｍｌで２回洗浄した。得られた酢酸エチル層にｎ−ヘキサン２００ｍｌを投入して固体を析出させた。ろ過により固体をろ取して、真空乾燥機で乾燥させ、０．８２ｇの白色固体を得た。得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、ハロゲン化体である中間体Ｅのピークが完全に消失していたことから、中間体Ｅは化合物１９に変換されたことが分かった。

（実施例２１）粗中間体ＡＡの脱塩化水素反応
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、先の合成例４のステップ２で合成した粗中間体ＡＡ：１．０ｇ、トリエチルアミン５０５ｍｇ（４．９９ｍｍｏｌ）を酢酸エチル４０ｍｌ、アセトニトリル２０ｍｌの混合溶媒に溶解させた。この溶液に、１ｍｏｌ／Ｌの濃度の炭酸ナトリウム水溶液９．０ｍｌを加えて、５０℃にて４時間撹拌した。反応終了後、炭酸ナトリウム水溶液を抜き出し、得られた有機層をさらに０．５Ｎ−塩酸水溶液２０ｍｌで洗浄した。次いで、蒸留水５０ｍｌで２回洗浄した。得られた酢酸エチル層にｎ−ヘキサン２００ｍｌを投入して固体を析出させた。ろ過により固体をろ取して、真空乾燥機で乾燥させ、０．９２ｇの白色固体を得た。得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、ハロゲン化体である中間体ＡＡ’のピークが完全に消失していたことから、中間体ＡＡ’は中間体ＡＡに変換されたことが分かった。

（実施例２２）粗化合物１９の脱塩化水素反応
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、先の合成例１９で合成した粗化合物１９：１．０ｇ（２．２０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン３３４ｍｇ（３．３０ｍｍｏｌ）を酢酸エチル４０ｍｌ、アセトニトリル２０ｍｌの混合溶媒に溶解させた。この溶液に、１ｍｏｌ／Ｌの濃度の炭酸ナトリウム水溶液８．０ｍｌを加えて、５０℃にて４時間撹拌した。反応終了後、炭酸ナトリウム水溶液を抜き出し、得られた有機層をさらに０．５Ｎ−塩酸水溶液２０ｍｌで洗浄した。次いで、蒸留水５０ｍｌで２回洗浄した。得られた酢酸エチル層にｎ−ヘキサン２００ｍｌを投入して固体を析出させた。ろ過により固体をろ取して、真空乾燥機で乾燥させ、０．８９ｇの白色固体を得た。得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、ハロゲン化体である化合物１９’のピークが完全に消失していたことから、化合物１９’は化合物１９に変換されたことが分かった。

（実施例２３）混合物１の脱塩化水素反応
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、先の合成例２０で合成した混合物１：７．２５ｇ、トリエチルアミン２．０ｇ（１９．７１ｍｍｏｌ）を酢酸エチル２００ｍｌ、アセトニトリル１００ｍｌの混合溶媒に溶解させた。この溶液に、１ｍｏｌ／Ｌの濃度の炭酸ナトリウム水溶液５０ｍｌを加えて、５０℃にて４時間撹拌した。反応終了後、炭酸ナトリウム水溶液を抜き出し、得られた有機層をさらに０．５Ｎ−塩酸水溶液１１０ｍｌで洗浄した。次いで、蒸留水１００ｍｌで２回洗浄した。得られた酢酸エチル層をロータリーエバポレーターにて、１００ｍｌまで濃縮した。この酢酸エチル層にｎ−ヘキサン５００ｍｌを投入して固体を析出させた。ろ過により固体をろ取して、真空乾燥機で乾燥させ、６．５８ｇの白色固体を得た。得られた固体をＨＰＬＣにて分析したところ、ハロゲン化体である化合物１９’のピークが完全に消失していたことから、化合物１９’は化合物１９に変換されたことが分かった。

本発明によれば、高純度な重合性化合物を、工業的に有利に製造する方法を提供することができる。
また、本発明によれば、当該重合性組成物の製造方法に有用なハロゲン化体およびそのハロゲン化体を含む混合物を提供することができる。

Claims (15)

1. 下記式（Ｉ）：
   

   

   〔式（Ｉ）中、Ａｒ^１は、Ｄ^１を置換基として有する２価の芳香族炭化水素環基、または、Ｄ^１を置換基として有する２価の芳香族複素環基を表し、
   Ｄ^１は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環基、置換基を有していてもよい芳香族複素環基、または式：−Ｒ^ｆＣ（＝Ｎ−ＮＲ^ｇＲ^ｈ）で表される基であり、ここで、前記式：−Ｒ^ｆＣ（＝Ｎ−ＮＲ^ｇＲ^ｈ）において、Ｒ^ｆは、水素原子、または、炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ^ｇは、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の有機基を表し、Ｒ^ｈは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群より選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する炭素数２〜２０の有機基であり、
   Ｄ^１における前記芳香族炭化水素環基は、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントレニル基、ピレニル基、またはフルオレニル基であり、
   Ｄ^１における前記芳香族複素環基は、フタルイミド基、１−ベンゾフラニル基、２−ベンゾフラニル基、アクリジニル基、イソキノリニル基、イミダゾリル基、インドリニル基、フラザニル基、オキサゾリル基、オキサゾロピラジニル基、オキサゾロピリジニル基、オキサゾロピリダジニル基、オキサゾロピリミジニル基、キナゾリニル基、キノキサリニル基、キノリル基、シンノリニル基、チアジアゾリル基、チアゾリル基、チアゾロピラジニル基、チアゾロピリジル基、チアゾロピリダジニル基、チアゾロピリミジニル基、チエニル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、ナフチリジニル基、ピラジニル基、ピラゾリル基、ピラノンニル基、ピラニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピロリル基、フェナントリジニル基、フタラジニル基、フラニル基、ベンゾ［ｃ］チエニル基、ベンゾイソオキサゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアジアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾチエニル基、ベンゾトリアジニル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾピラゾリル基、ペンゾピラノンニル基、ジヒドロピラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジヒドロフラニル基、またはテトラヒドロフラニル基であり、
   Ｚ^１１およびＺ^１２は、それぞれ独立して、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ^１１−ＣＯ−、または、−ＣＯ−ＮＲ^１２−を表し、Ｒ^１１およびＲ^１２はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
   Ａ^１１、Ａ^１２、Ｂ^１１およびＢ^１２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基を表し、ここで、前記環状脂肪族基は、炭素数５〜２０のシクロアルカンジイル基又は炭素数５〜２０のビシクロアルカンジイル基であり、
   Ｙ^１１、Ｙ^１２、Ｌ^１１およびＬ^１２は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ^２１−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ^２２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ^２３−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ^２４−、または、−ＮＲ^２５−ＣＯ−ＮＲ^２６−を表し、Ｒ^２１〜Ｒ^２６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
   Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基を表し、
   ａおよびｄは、それぞれ独立して、１〜２０の整数を表し、
   ｂおよびｃは、それぞれ独立して、０または１である。〕で示される重合性化合物の製造方法であって、
   下記式（ＩＩ）：
   

   

   〔式（ＩＩ）中、Ｘ^１はハロゲン原子を表し、
   Ｇは、有機基を表し、
   Ｒ^１およびａは、前記式（Ｉ）と同じ意味を表す。〕で示されるハロゲン化体を含む組成物を、有機溶媒中、塩基性化合物を含む水層の存在下で、脱ハロゲン化水素反応に供する工程を含む、製造方法。
2. 前記式（ＩＩ）で示されるハロゲン化体が、下記式（ＩＩＩ）：
   

   

   〔式（ＩＩＩ）中、Ｑは、下記式（ＩＩＩ−１）：
   

   

   ［式（ＩＩＩ−１）中、Ｒ^２は、前記式（Ｉ）と同じ意味を表す。］または下記式（ＩＩＩ−２）：
   

   

   ［式（ＩＩＩ−２）中、Ｘ^２は、ハロゲン原子を表し、Ｒ^２は、前記式（Ｉ）と同じ意味を表す。］で表される基を示し、
   Ｘ^１は、前記式（ＩＩ）と同じ意味を表し、
   Ａｒ^１ 、Ｚ^１１、Ｚ^１２、Ａ^１１、Ａ^１２、Ｂ^１１、Ｂ^１２、Ｙ^１１、Ｙ^１２、Ｌ^１１、Ｌ^１２、Ｒ^１、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、前記式（Ｉ）と同じ意味を表す。〕で示されるハロゲン化体である、請求項１に記載の製造方法。
3. 前記Ｘ^１およびＸ^２が塩素原子である、請求項２に記載の製造方法。
4. 前記式（ＩＩ）で示されるハロゲン化体が、下記式（ＩＶ）：
   

   

   〔式（ＩＶ）中、ＦＧ^１は、水酸基、カルボキシル基またはアミノ基を表し、
   Ｒ^１、Ｙ^１１、Ｂ^１１およびａは、前記式（Ｉ）と同じ意味を表し、
   Ｘ^１は、前記式（ＩＩ）と同じ意味を表す。〕で示されるハロゲン化体である、請求項１に記載の製造方法。
5. 前記Ｘ^１が塩素原子である、請求項４に記載の製造方法。
6. 前記ＦＧ^１が水酸基である、請求項４または５に記載の製造方法。
7. 前記組成物が、前記式（ＩＶ）で示されるハロゲン化体と、下記式（Ｖ）：
   

   

   〔式（Ｖ）中、Ｒ^１、Ｙ^１１、Ｂ^１１、ＦＧ^１およびａは、前記式（ＩＶ）と同じ意味を表す。〕で示される化合物を含む混合物である、請求項４〜６の何れかに記載の製造方法。
8. 前記式（ＩＶ）で示されるハロゲン化体と前記式（Ｖ）で示される化合物の合計中に占める前記式（ＩＶ）で示されるハロゲン化体の割合が、０．０１質量％以上５質量％以下である、請求項７に記載の製造方法。
9. 前記式（ＩＩ）で示されるハロゲン化体が、下記式（ＶＩ）：
   

   

   〔式（ＶＩ）中、ＦＧ^２は、水酸基、カルボキシル基またはアミノ基を表し、
   Ｒ^１、Ｙ^１１、Ｂ^１１、Ｌ^１１、Ａ^１１、ａおよびｂは、前記式（Ｉ）と同じ意味を表し、
   Ｘ^１は、前記式（ＩＩ）と同じ意味を表す。〕で示されるハロゲン化体である、請求項１に記載の製造方法。
10. 前記Ｘ^１が塩素原子である、請求項９に記載の製造方法。
11. 前記ＦＧ^２がカルボキシル基であり、
    前記ｂが１である、請求項９または１０に記載の製造方法。
12. 前記組成物が、前記式（ＶＩ）で示されるハロゲン化体と、下記式（ＶＩＩ）：
    

    

    〔式（ＶＩＩ）中、Ｒ^１、Ｙ^１１、Ｂ^１１、Ｌ^１１、Ａ^１１、ＦＧ^２、ａおよびｂは、前記式（ＶＩ）と同じ意味を表す。〕で示される化合物を含む混合物である、請求項９〜１１の何れかに記載の製造方法。
13. 前記式（ＶＩ）で示されるハロゲン化体と前記式（ＶＩＩ）で示される化合物の合計中に占める前記式（ＶＩ）で示されるハロゲン化体の割合が、０．０１質量％以上５質量％以下である、請求項１２に記載の製造方法。
14. 前記Ａｒ ^１ が、下記式（ＶＩＩＩ）：
    

    

    〔式（ＶＩＩＩ）中、Ａｘは、下記式（ＩＸ）：
    

    

    〔式（ＩＸ）中、Ｒ^Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、または、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ^ｂを表し、Ｒ^ｂは、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、または、置換基を有していてもよい炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基を表し、複数のＲ^Ｘ同士は、すべて同一であっても、相異なっていてもよく、環を構成する少なくとも１つのＣ−Ｒ^Ｘは、窒素原子に置き換えられていてもよい。〕
    で表される基を表し、
    Ｒａは、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の有機基を表す。〕で表される２価の基である、請求項１〜１３の何れかに記載の製造方法。
15. 前記塩基性化合物が、無機塩基性化合物を含む、請求項１〜１４の何れかに記載の製造方法。