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JP5970941B2 - Light reflecting laminate and semiconductor light emitting device - Google Patents

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JP5970941B2
JP5970941B2 JP2012103847A JP2012103847A JP5970941B2 JP 5970941 B2 JP5970941 B2 JP 5970941B2 JP 2012103847 A JP2012103847 A JP 2012103847A JP 2012103847 A JP2012103847 A JP 2012103847A JP 5970941 B2 JP5970941 B2 JP 5970941B2
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俊之 坂井
俊之 坂井
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Description

本発明は、光反射積層体及び該光反射積層体を用いた半導体発光装置に関する。   The present invention relates to a light reflecting laminate and a semiconductor light emitting device using the light reflecting laminate.

半導体発光装置の一つであるLED素子は、小型で長寿命であり、省電力性に優れることから、表示灯等の光源として広く利用されている。そして近年では、より輝度の高いLED素子が比較的安価に製造されるようになったことから、蛍光ランプ及び白熱電球に替わる光源としての利用が検討されている。このような光源に適用する場合、大きな照度を得るために、表面実装型LEDパッケージ、即ち、アルミニウム等の金属製の基板(LED実装用基板)上に複数のLED素子を配置し、各LED素子の周りに光を所定方向に反射させる反射体(リフレクター)を配設する方式が多用されている。   An LED element, which is one of semiconductor light emitting devices, is widely used as a light source for an indicator lamp or the like because it is small and has a long lifetime and is excellent in power saving. In recent years, LED elements with higher brightness have been manufactured at a relatively low cost, and therefore, use as a light source to replace fluorescent lamps and incandescent bulbs has been studied. When applying to such a light source, in order to obtain a large illuminance, a plurality of LED elements are arranged on a surface-mounted LED package, that is, a metal substrate (LED mounting substrate) such as aluminum, and each LED element. A system is often used in which a reflector (reflector) that reflects light in a predetermined direction is disposed around the.

例えば、特許文献1では、熱硬化性オルガノポリシロキサン、白色顔料、無機充填剤(但し、白色顔料を除く)、縮合触媒、所定のカップリング剤を含有する白色熱硬化性シリコーン樹脂組成物で反射体を構成する光半導体ケースが提案されている。
また、特許文献2では、特定の熱硬化樹脂及び無機部材を含有するコーティング部材を所定部にコーティングして光の反射を高めるパッケージ成形体が提案されている。
For example, in Patent Document 1, it is reflected by a white thermosetting silicone resin composition containing a thermosetting organopolysiloxane, a white pigment, an inorganic filler (excluding a white pigment), a condensation catalyst, and a predetermined coupling agent. An optical semiconductor case constituting a body has been proposed.
Further, Patent Document 2 proposes a package molded body that enhances light reflection by coating a predetermined part with a coating member containing a specific thermosetting resin and an inorganic member.

特開2009−221393号公報JP 2009-221393 A 特開2005−136378号公報JP 2005-136378 A

これらの特許文献において白色顔料又は無機部材として実際に効果の確認が行われているのは酸化チタンを用いた場合のみであり、他の顔料又は無機部材を用いた場合の効果については具体的に開示されていない。
また、酸化チタンの屈折率はルチル結晶では約2.71、アナターゼ結晶においても約2.52と高いため、反射に用いる白色顔料又は無機部材には非常に有用な材料であるが、ルチル結晶では411nm付近、アナターゼ結晶においても波長387nm付近にて光の吸収が起こるため紫外光の反射を阻害する。さらに、光触媒作用に伴い樹脂の劣化を促進してしまうことがあり実用的ではない。
In these patent documents, the effect of the white pigment or the inorganic member is actually confirmed only when titanium oxide is used, and the effect when other pigments or inorganic members are used is specifically described. Not disclosed.
In addition, since the refractive index of titanium oxide is as high as about 2.71 for rutile crystals and about 2.52 for anatase crystals, it is a very useful material for white pigments or inorganic members used for reflection. Absorption of light occurs near the wavelength of 411 nm and also at the wavelength of about 387 nm in the anatase crystal, thereby inhibiting the reflection of ultraviolet light. Further, the photocatalytic action may accelerate the deterioration of the resin, which is not practical.

一方、酸化チタン以外の白色顔料、例えば酸化アルミニウムは紫外光を吸収しないが、屈折率は約1.76と低いため、酸化チタンと同等の可視光を反射するには膜厚を増やすか高充填化させなくてはならないため、実用的ではない。
また、広い波長域における高効率での光反射は、紫外光を利用する光学製品の発光効率の向上及び紫外光による劣化を防ぐ他に、紫外光により発色する色素と組み合わせることで照明やテレビ等の演色性を高めることが期待される。
On the other hand, white pigments other than titanium oxide, such as aluminum oxide, do not absorb ultraviolet light, but have a low refractive index of about 1.76. Is impractical because it must be
In addition, high-efficiency light reflection in a wide wavelength range improves the light emission efficiency of optical products that use ultraviolet light and prevents deterioration due to ultraviolet light. It is expected to improve the color rendering properties.

以上から、本発明は、可視光領域の光だけでなく、波長400nm以下の紫外光に対しても高い反射特性を有する光反射積層体及び当該光反射積層体を具備する半導体発光装置を提供することを目的とする。   As described above, the present invention provides a light reflection laminate having high reflection characteristics not only for light in the visible light region but also for ultraviolet light having a wavelength of 400 nm or less, and a semiconductor light emitting device including the light reflection laminate. For the purpose.

本発明者は、上記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、下記の本発明により当該目的を達成できることを見出した。すなわち、本発明は下記の通りである。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor has found that the object can be achieved by the following present invention. That is, the present invention is as follows.

[1] 酸化チタン粒子を含む樹脂組成物からなる樹脂組成物層Aと、窒化ホウ素粒子、メラミンシアヌレート粒子、酸化アルミニウム粒子、及び酸化マグネシウム粒子の少なくともいずれかの非酸化チタン粒子を含む樹脂組成物からなる樹脂組成物層Bと、を有し、光入射側から樹脂組成物層B及び樹脂組成物層Aが順次形成されてなる光反射積層体。
[2] 前記非酸化チタン粒子が、窒化ホウ素粒子及びメラミンシアヌレート粒子の少なくともいずれかである[1]に記載の光反射積層体。
[3] 樹脂組成物層A及び樹脂組成物層Bのそれぞれの厚みが、50〜200μmである[1]又は[2]に記載の光反射積層体。
[4] さらに樹脂組成物層Bが設けられてなり、光入射側から樹脂組成物層B、樹脂組成物層A及び樹脂組成物層Bが順次形成されてなる[1]〜[3]のいずれかに記載の光反射積層体。
[5] 光半導体素子と、前記光半導体素子の周りに設けられ、該光半導体素子からの光を所定方向に反射させる反射体とを基板上に有し、前記反射体の光反射面の少なくとも一部が[1]〜[4]のいずれかに記載の光反射積層体からなる半導体発光装置。
[1] A resin composition comprising a resin composition layer A comprising a resin composition containing titanium oxide particles, and non-titanium oxide particles of at least one of boron nitride particles, melamine cyanurate particles, aluminum oxide particles, and magnesium oxide particles. And a resin composition layer B made of a product, and the resin composition layer B and the resin composition layer A are sequentially formed from the light incident side.
[2] The light reflecting laminate according to [1], wherein the non-titanium oxide particles are at least one of boron nitride particles and melamine cyanurate particles.
[3] The light reflecting laminate according to [1] or [2], wherein each of the resin composition layer A and the resin composition layer B has a thickness of 50 to 200 μm.
[4] The resin composition layer B is further provided, and the resin composition layer B, the resin composition layer A, and the resin composition layer B are sequentially formed from the light incident side. [1] to [3] The light reflection laminated body in any one.
[5] An optical semiconductor element and a reflector provided around the optical semiconductor element and reflecting light from the optical semiconductor element in a predetermined direction are provided on a substrate, and at least a light reflecting surface of the reflector A semiconductor light-emitting device, part of which comprises the light-reflecting laminate according to any one of [1] to [4].

本発明によれば、可視光領域の光だけでなく、波長400nm以下の紫外光に対しても高い反射特性を有する光反射積層体及び当該光反射積層体を具備する半導体発光装置を提供することができる。   According to the present invention, there are provided a light reflecting laminate having high reflection characteristics not only for light in the visible light region but also for ultraviolet light having a wavelength of 400 nm or less, and a semiconductor light emitting device including the light reflecting laminate. Can do.

本発明の半導体発光装置の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the semiconductor light-emitting device of this invention. 本発明の半導体発光装置の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the semiconductor light-emitting device of this invention. 実施例1〜5及び比較例1の光反射積層体の波長300〜800nmの領域での反射率を示す図である。It is a figure which shows the reflectance in the area | region of wavelength 300-800 nm of the light reflection laminated body of Examples 1-5 and Comparative Example 1. FIG. 比較例3,4の光反射積層体の波長300〜800nmの領域での反射率を示す図である。It is a figure which shows the reflectance in the area | region of wavelength 300-800 nm of the light reflection laminated body of the comparative examples 3 and 4. FIG. 比較例1,2,5の光反射体の波長300〜800nmの領域での反射率を示す図である。It is a figure which shows the reflectance in the wavelength range of 300-800 nm of the light reflector of the comparative examples 1, 2, and 5. FIG. 比較例6の光反射体の波長300〜800nmの領域での反射率を示す図である。It is a figure which shows the reflectance in the area | region with a wavelength of 300-800 nm of the light reflector of the comparative example 6.

[1.光反射積層体]
本発明の光反射積層体は、酸化チタン粒子を含む樹脂組成物からなる樹脂組成物層Aと、窒化ホウ素粒子、メラミンシアヌレート粒子、酸化アルミニウム粒子、及び酸化マグネシウム粒子の少なくともいずれかの非酸化チタン粒子を含む樹脂組成物からなる樹脂組成物層Bと、を有してなり、光入射側から樹脂組成物層B及び樹脂組成物層Aが順次形成されてなる。
[1. Light reflecting laminate]
The light reflecting laminate of the present invention includes a resin composition layer A composed of a resin composition containing titanium oxide particles, and non-oxidized at least one of boron nitride particles, melamine cyanurate particles, aluminum oxide particles, and magnesium oxide particles. And a resin composition layer B made of a resin composition containing titanium particles, and the resin composition layer B and the resin composition layer A are sequentially formed from the light incident side.

光入射側にある樹脂組成物層Bに含有される粒子は非酸化チタン粒子であるため、酸化チタンのような紫外光の吸収がなく、紫外光が反射される。このため紫外光は、主に樹脂組成物層Bで反射することができる。また、樹脂組成物層B側である程度の紫外光が反射されるため、樹脂組成物層A側へ透過する紫外光が減少する。そのため、当該紫外光と下層に含有される酸化チタン粒子との反応による樹脂成分の劣化が抑制される。また、樹脂組成物層Bで反射せずに透過した可視光は、酸化チタン粒子を含む樹脂組成物層Aにて反射される。結果として、紫外領域から可視領域までの光の反射率を高くすることができる。
これに対し、樹脂組成物層Aが光入射側にある場合は、酸化チタン粒子による紫外光の吸収が起こるため、紫外光をほとんど反射させることができず、また透過しないため樹脂組成物層Bで反射させることもできない。また、光触媒作用に伴い樹脂の劣化を促進してしまう。
以下では、本発明の光反射積層体の各層について説明する。
Since the particles contained in the resin composition layer B on the light incident side are non-titanium oxide particles, they do not absorb ultraviolet light like titanium oxide and reflect ultraviolet light. For this reason, the ultraviolet light can be reflected mainly by the resin composition layer B. Moreover, since a certain amount of ultraviolet light is reflected on the resin composition layer B side, the ultraviolet light transmitted to the resin composition layer A side is reduced. Therefore, deterioration of the resin component due to the reaction between the ultraviolet light and the titanium oxide particles contained in the lower layer is suppressed. Visible light transmitted without being reflected by the resin composition layer B is reflected by the resin composition layer A containing titanium oxide particles. As a result, the reflectance of light from the ultraviolet region to the visible region can be increased.
On the other hand, when the resin composition layer A is on the light incident side, ultraviolet light is absorbed by the titanium oxide particles, so that the ultraviolet light can hardly be reflected and is not transmitted. It cannot be reflected by. Moreover, deterioration of resin will be accelerated | stimulated with photocatalysis.
Below, each layer of the light reflection laminated body of this invention is demonstrated.

(樹脂組成物層B)
樹脂組成物層Bは、窒化ホウ素粒子、メラミンシアヌレート粒子、酸化アルミニウム粒子、及び酸化マグネシウム粒子の少なくともいずれかの非酸化チタン粒子を含む樹脂組成物からなり、実質的に酸化チタン粒子を含有しない。
(Resin composition layer B)
The resin composition layer B is made of a resin composition containing non-titanium oxide particles of at least one of boron nitride particles, melamine cyanurate particles, aluminum oxide particles, and magnesium oxide particles, and substantially does not contain titanium oxide particles. .

本発明に係る窒化ホウ素粒子は、六方晶構造(h−BN)、閃亜鉛鉱構造(c−BN)、ウルツ鉱構造(w−BN)、及び菱面体構造(r−BN)のいずれも適用可能であるが、鱗片状のいわゆる六方晶構造の窒化ホウ素粒子であることが耐熱性やコストの点から好ましい。   The boron nitride particles according to the present invention are applied to any of hexagonal structure (h-BN), zinc blende structure (c-BN), wurtzite structure (w-BN), and rhombohedral structure (r-BN). Although possible, the so-called hexagonal boron nitride particles having a scale shape are preferable from the viewpoint of heat resistance and cost.

窒化ホウ素粒子の平均粒径は、0.1〜300μmであることが好ましく、0.1〜12μmであることがより好ましく、0.5〜2μmであることがさらに好ましい。当該平均粒径は、レーザー光回折法による粒度分布測定における質量平均値D50として求めることができる(以下に説明する他の粒子についても同様)。   The average particle diameter of the boron nitride particles is preferably 0.1 to 300 μm, more preferably 0.1 to 12 μm, and further preferably 0.5 to 2 μm. The average particle diameter can be obtained as a mass average value D50 in particle size distribution measurement by a laser light diffraction method (the same applies to other particles described below).

窒化ホウ素粒子の含有量は、樹脂組成物中の樹脂成分100質量部に対し、10〜300質量部であることが好ましく、20〜200質量部であることがより好ましく、25〜100質量部であることがさらに好ましい。なお、成形性を損なわない限りは、300部以上充填してもよい。   The content of the boron nitride particles is preferably 10 to 300 parts by mass, more preferably 20 to 200 parts by mass, and preferably 25 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component in the resin composition. More preferably it is. As long as the moldability is not impaired, 300 parts or more may be filled.

本発明に係るメラミンシアヌレートとは、メラミン分子とシアヌル酸分子が水素結合により平面状に配列し、化学式C6993で表わされる化合物のことをいい、例えば、下記式(1)又は式(2)のような構造式で表される。 The melamine cyanurate according to the present invention refers to a compound in which melamine molecules and cyanuric acid molecules are arranged in a plane by hydrogen bonds and represented by the chemical formula C 6 H 9 N 9 O 3. ) Or a structural formula such as formula (2).

メラミンシアヌレート粒子の製造方法は、特定の粒径を有するように製造することができれば、特に限定されず、従来公知の方法により製造することができ、例えば、特開平5−310716号公報、特開平7−149739号公報、及び特開平7−224049号公報の記載を参照して製造することができる。   The method for producing melamine cyanurate particles is not particularly limited as long as it can be produced so as to have a specific particle diameter, and can be produced by a conventionally known method. For example, JP-A-5-310716, It can be produced with reference to the descriptions in Kaihei 7-149739 and JP-A-7-224049.

メラミンシアヌレート粒子の製造方法の一例を挙げると、所定の配合割合でメラミン粉末及びシアヌル酸を、混合攪拌が可能な装置に投入し、混合しながら槽内温度を所定の温度に昇温させた後、当該槽内に、攪拌しながら水を徐々に添加して中和反応させると、白色の沈殿物が生成し、当該沈殿物を濾別し、乾燥及び顆粒化処理を行なうことにより、所望のメラミンシアヌレート粒子が得られる方法が挙げられる。
なお、メラミンシアヌレート粒子は、市販品としての入手も可能である。
As an example of a method for producing melamine cyanurate particles, melamine powder and cyanuric acid were charged at a predetermined mixing ratio into a device capable of mixing and stirring, and the temperature inside the tank was raised to a predetermined temperature while mixing. Then, when water is gradually added to the tank while stirring and neutralization reaction is performed, a white precipitate is generated, and the precipitate is filtered and dried and granulated. The method of obtaining the melamine cyanurate particle | grains of this is mentioned.
In addition, the melamine cyanurate particle | grains can also be obtained as a commercial item.

メラミンシアヌレート粒子の平均粒径は、製造上及び反射特性の観点から0.1〜100μmであることが好ましく、0.2〜20μmであることがより好ましく、0.5〜4μmであることがさらに好ましい。   The average particle size of the melamine cyanurate particles is preferably 0.1 to 100 μm, more preferably 0.2 to 20 μm, and more preferably 0.5 to 4 μm from the viewpoint of production and reflection characteristics. Further preferred.

メラミンシアヌレート粒子の含有量は、樹脂成分100質量部に対し、5〜300質量部であることが好ましく、10〜200質量部であることがより好ましく、15〜150質量部であることがさらに好ましく、20〜115質量部であることが特に好ましい。なお、成形性を損なわない限りは、300質量部以上充填してもよい。   The content of the melamine cyanurate particles is preferably 5 to 300 parts by mass, more preferably 10 to 200 parts by mass, and further preferably 15 to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component. It is preferably 20 to 115 parts by mass. In addition, as long as a moldability is not impaired, you may fill 300 mass parts or more.

本発明に係る酸化アルミニウム粒子としては、α−アルミナ、γ−アルミナ等の種々の酸化アルミニウム粒子を使用することができる。アルミナの製造方法は、特定の粒径や純度を有するように製造することができれば、特に限定されず、従来公知の方法により製造することができる。例えば、酸化炎中などに金属アルミニウム粉末を投入する方法、アルミナ粉末を火炎中に投入して熔融させることにより球状化させた後に冷却固化する方法、これらの組み合わせ、アルミナをボールミル、振動ボールミル、ジェットミル、遊星ミルなどの一般的な粉砕機により粉砕する方法等が挙げられる。
酸化アルミニウム粒子の平均粒径は、0.1〜100μmであることが好ましく、0.1〜20μmであることがより好ましく、0.5〜10μmであることがさらに好ましい。
As the aluminum oxide particles according to the present invention, various aluminum oxide particles such as α-alumina and γ-alumina can be used. The production method of alumina is not particularly limited as long as it can be produced so as to have a specific particle size and purity, and can be produced by a conventionally known method. For example, a method in which metallic aluminum powder is introduced into an oxidation flame, a method in which alumina powder is spheroidized by being melted in a flame and then cooled and solidified, a combination of these, alumina ball mill, vibrating ball mill, jet Examples thereof include a method of pulverizing with a general pulverizer such as a mill and a planetary mill.
The average particle diameter of the aluminum oxide particles is preferably 0.1 to 100 μm, more preferably 0.1 to 20 μm, and further preferably 0.5 to 10 μm.

酸化アルミニウム粒子の含有量は、樹脂組成物中の樹脂成分100質量部に対し、10〜600質量部であることが好ましく、30〜500質量部であることがより好ましく、45〜400質量部であることがさらに好ましい。   The content of the aluminum oxide particles is preferably 10 to 600 parts by mass, more preferably 30 to 500 parts by mass, and 45 to 400 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component in the resin composition. More preferably it is.

本発明に係る酸化マグネシウム粒子は、特定の粒径や純度を有するように製造することができれば、特に限定されず、従来公知の方法により製造することができる。例えば、水酸化マグネシウムあるいは炭酸マグネシウムを焼成して製造することができる。
酸化マグネシウム粒子の平均粒径は、0.1〜100μmであることが好ましく、0.1〜20μmであることがより好ましく、0.5〜10μmであることがさらに好ましい。
The magnesium oxide particles according to the present invention are not particularly limited as long as they can be produced so as to have a specific particle size and purity, and can be produced by a conventionally known method. For example, it can be produced by firing magnesium hydroxide or magnesium carbonate.
The average particle diameter of the magnesium oxide particles is preferably 0.1 to 100 μm, more preferably 0.1 to 20 μm, and further preferably 0.5 to 10 μm.

酸化マグネシウム粒子の含有量は、樹脂組成物中の樹脂成分100質量部に対し、10〜500質量部であることが好ましく、20〜400質量部であることがより好ましく、40〜300質量部であることがさらに好ましい。   The content of the magnesium oxide particles is preferably 10 to 500 parts by mass, more preferably 20 to 400 parts by mass, and 40 to 300 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component in the resin composition. More preferably it is.

上記各粒子は、分散性を向上させる観点から、疎水化処理が施されていてもよい。疎水化処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、シリコーンオイル、脂肪酸、及び脂肪酸金属塩等が代表的に挙げられる。これらの中でも、分散性を向上させる効果が高いことから、シランカップリング剤、及びシリコーンオイルが好ましく用いられる。   From the viewpoint of improving dispersibility, each of the above particles may be subjected to a hydrophobic treatment. Representative examples of the hydrophobizing agent include silane coupling agents, silicone oils, fatty acids, and fatty acid metal salts. Among these, a silane coupling agent and silicone oil are preferably used because they have a high effect of improving dispersibility.

シランカップリング剤としては、例えば、ヘキサメチルジシラザン等のジシラザン;環状シラザン;トリメチルシラン、トリメチルクロルシラン、ジメチルジクロルシラン、メチルトリクロルシラン、アリルジメチルクロルシラン、ベンジルジメチルクロルシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、n−ブチルトリメトキシシラン、n−ヘキサデシルトリメトキシシラン、n−オクタデシルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、及びビニルトリアセトキシシラン等のアルキルシラン化合物;γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)3−アミノプロピルトリメトキシシラン、及びN−β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノシラン化合物;等が挙げられる。
シリコーンオイルとしては、例えば、ジメチルポリシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、及びアミノ変性シリコーンオイル等が挙げられる。これらの疎水化処理剤は、それぞれ単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
Examples of the silane coupling agent include disilazane such as hexamethyldisilazane; cyclic silazane; trimethylsilane, trimethylchlorosilane, dimethyldichlorosilane, methyltrichlorosilane, allyldimethylchlorosilane, benzyldimethylchlorosilane, methyltrimethoxysilane. , Methyltriethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, trimethylmethoxysilane, hydroxypropyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, n-butyltrimethoxysilane, n-hexadecyltrimethoxysilane, n-octadecyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, Alkyl silane compounds such as vinyltriacetoxysilane; γ-aminopropyltriethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, N-phenyl Aminosilane compounds such as -3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) 3-aminopropyltrimethoxysilane, and N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane And the like.
Examples of the silicone oil include dimethylpolysiloxane, methylhydrogenpolysiloxane, methylphenylpolysiloxane, and amino-modified silicone oil. These hydrophobizing agents can be used alone or in combination of two or more.

粒子を疎水化処理する方法としては、従来公知の方法であれば特に限定されず、例えば、乾式法及び湿式法等が挙げられる。具体的には、粒子を高速で撹拌しながら、疎水化処理剤を滴下または噴霧する乾式法;疎水化処理剤を有機溶媒に溶解し、当該有機溶媒を撹拌しながら粒子を添加する湿式法;等の方法が挙げられる。   The method for hydrophobizing the particles is not particularly limited as long as it is a conventionally known method, and examples thereof include a dry method and a wet method. Specifically, a dry method in which the hydrophobic treatment agent is dropped or sprayed while stirring the particles at a high speed; a wet method in which the hydrophobic treatment agent is dissolved in an organic solvent, and the particles are added while stirring the organic solvent; And the like.

樹脂組成物中の樹脂成分としては、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、ポリシロキサン−有機ブロックコポリマー、ポリシロキサン−有機グラフトコポリマー、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を含有する有機無機ハイブリッド樹脂、シアネートエステル樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミド樹脂等の熱硬化性樹脂でも、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ノルボルネン誘導体、ノルボルネン誘導体を開環メタセシス重合させた樹脂あるいはその水素添加物等のシクロオレフィン系樹脂、オレフィン−マレイミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリオキシベンジレン樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレンスルファイド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルケトンケトン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリイミドアミド樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、全芳香族ポリエステル樹脂(液晶樹脂)、ビニルモノマー等を単独あるいは共重合した樹脂、フッ素樹脂、ゴム状樹脂等の熱可塑性樹脂でもよい。
熱硬化性樹脂としては耐光性の観点からシリコーン樹脂(シリコーン変性樹脂を含む)が好ましい。熱可塑性樹脂としては耐光性の観点からノルボルネン重合体、ポリメチルペンテン樹脂、ポリプロピレン樹脂であることが好ましい。
The resin component in the resin composition includes epoxy resin, acrylic resin, urethane resin, silicone resin, polysiloxane-organic block copolymer, polysiloxane-organic graft copolymer, carbon-carbon double bond reactive with SiH group. A thermosetting resin such as an organic-inorganic hybrid resin, a cyanate ester resin, a phenol resin, a polyimide resin, or a bismaleimide resin, or a resin obtained by ring-opening metathesis polymerization of an acrylic resin, a polycarbonate resin, a norbornene derivative, or a norbornene derivative Cycloolefin resins such as hydrogenated products, olefin-maleimide resins, polyester resins, polysulfone resins, polyether resins, polyoxybenzylene resins, polyphenylene oxide resins, polyethersulfone resins Polyphenylene sulfide resin, polyether ether ketone resin, polyether imide resin, polyether ketone ketone resin, polyphenylene ether resin, polyimide resin, polyimide amide resin, polyarylate resin, polyvinyl acetal resin, polyethylene resin, polypropylene resin, polymethylpentene Resins, polystyrene resins, polyamide resins, wholly aromatic polyester resins (liquid crystal resins), resins obtained by singly or copolymerizing vinyl monomers, thermoplastic resins such as fluororesins and rubber-like resins may be used.
As the thermosetting resin, a silicone resin (including a silicone-modified resin) is preferable from the viewpoint of light resistance. The thermoplastic resin is preferably a norbornene polymer, a polymethylpentene resin, or a polypropylene resin from the viewpoint of light resistance.

ここで、上記シリコーン樹脂の硬化の種類としては付加型シリコーン、縮合型シリコーンがあり、構造としてはジメルシリコーン、メチルフェニルシリコーンなどが挙げられる。例えば、縮合型シリコーンとはメチルトリクロロシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、テトラクロロシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等の加水分解反応により得られる熱硬化性オルガノポリシロキサンである。   Here, there are addition type silicone and condensation type silicone as the curing type of the silicone resin, and examples of the structure include dimethyl silicone and methylphenyl silicone. For example, the condensation type silicone is a thermosetting organopolysiloxane obtained by hydrolysis reaction of methyltrichlorosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, tetrachlorosilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane or the like.

ノルボルネン重合体としては、例えば、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体もしくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との開環重合体又はそれらの水素化物;ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体もしくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との付加重合体又はそれらの水素化物;等を挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン構造を有する単量体の開環(共)重合体水素化物は、成形性、耐熱性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性等の観点から、特に好適に用いることができる。   Examples of the norbornene polymer include a ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure, a ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure and another monomer, or a hydride thereof; a norbornene structure Examples thereof include addition polymers of monomers, addition polymers of monomers having a norbornene structure and other monomers, or hydrides thereof. Among these, a ring-opening (co) polymer hydride of a monomer having a norbornene structure is particularly preferably used from the viewpoints of moldability, heat resistance, low hygroscopicity, dimensional stability, lightness, and the like. Can do.

ポリメチルペンテンとしては、例えば、4−メチルペンテン−1の単独重合体や、4−メチルペンテン−1と他のオレフィンとの共重合体等を挙げることができる。4−メチルペンテン−1と他のオレフィンとの共重合体としては、4−メチルペンテン−1と、α−オレフィン、例えば、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−オクタデセン、1−エイコセン、3−メチル−1−ブテン、3−メチル−1−ペンテン等の炭素数2ないし20のα−オレフィンとの共重合体を挙げることができる。4−メチルペンテン−1と他のオレフィンとの共重合体を用いる場合には、該共重合体は、4−メチル−1−ペンテンを90モル%以上含んでいることが好ましい。   Examples of polymethylpentene include a homopolymer of 4-methylpentene-1 and a copolymer of 4-methylpentene-1 and other olefins. Examples of copolymers of 4-methylpentene-1 and other olefins include 4-methylpentene-1 and α-olefins such as ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-hexene, With an α-olefin having 2 to 20 carbon atoms such as octene, 1-decene, 1-dodecene, 1-tetradecene, 1-octadecene, 1-eicocene, 3-methyl-1-butene, 3-methyl-1-pentene, etc. Mention may be made of copolymers. When a copolymer of 4-methylpentene-1 and another olefin is used, the copolymer preferably contains 90 mol% or more of 4-methyl-1-pentene.

本発明では、例示したポリメチルペンテンの中でも、4−メチルペンテン−1の単独重合体を好ましく使用可能である。なかでも、重合平均分子量(Mw)が1000以上、特には、5000以上の4−メチルペンテン−1の単独重合体が好ましい。これらのポリメチルペンテンによれば、反射体とした場合のその耐熱性をさらに向上させることができる。なお、4−メチルペンテン−1の単独重合体の分子量はゲルパーミッションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量である。   In the present invention, among the exemplified polymethylpentenes, a homopolymer of 4-methylpentene-1 can be preferably used. Among these, a homopolymer of 4-methylpentene-1 having a polymerization average molecular weight (Mw) of 1000 or more, particularly 5000 or more is preferable. According to these polymethylpentenes, the heat resistance of the reflector can be further improved. In addition, the molecular weight of the homopolymer of 4-methylpentene-1 is a weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography.

また、ノルボルネン重合体、ポリメチルペンテン樹脂は、三次元網目構造としてもよい。三次元網目構造では、耐熱性や、反射性能のさらなる向上が見込まれるため、例えば、紫外線架橋反応や電子線架橋反応を起こす架橋処理剤と反応させて、分子間を架橋させることで得ることができる。これ以外にも、紫外線架橋反応や電子線架橋反応を起こす架橋処理剤のモノマーを共重合せしめた共重合体を用いて三次元網目構造の樹脂を得ることもできる。   Further, the norbornene polymer and the polymethylpentene resin may have a three-dimensional network structure. In the three-dimensional network structure, heat resistance and reflection performance are expected to be further improved.For example, it can be obtained by crosslinking between molecules by reacting with a crosslinking treatment agent that causes an ultraviolet crosslinking reaction or an electron beam crosslinking reaction. it can. In addition to this, a resin having a three-dimensional network structure can be obtained by using a copolymer obtained by copolymerizing monomers of a crosslinking agent that causes an ultraviolet crosslinking reaction or an electron beam crosslinking reaction.

(樹脂組成物層A)
樹脂組成物層Aは、酸化チタン粒子を含む樹脂組成物からなる。酸化チタン粒子は、ルチル型、アナターゼ型及びブルッカイト型のいずれでもよいが、ルチル型が好ましい。また、必要に応じて、酸化チタン粒子に表面処理を施して光触媒作用を低下させることで樹脂成分の劣化を抑えることが好ましい。表面処理剤としては、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、有機酸、ポリオール、シリコーン等が挙げられる。
(Resin composition layer A)
The resin composition layer A is made of a resin composition containing titanium oxide particles. The titanium oxide particles may be any of a rutile type, anatase type and brookite type, but a rutile type is preferred. Moreover, it is preferable to suppress deterioration of the resin component by subjecting the titanium oxide particles to a surface treatment as necessary to reduce the photocatalytic action. Examples of the surface treating agent include a silane coupling agent, a titanium coupling agent, an organic acid, a polyol, and silicone.

酸化チタン粒子の平均粒径は、0.1〜20μmであることが好ましく、0.5〜5μmであることがより好ましい。
酸化チタン粒子の含有量は、樹脂組成物中の樹脂成分100質量部に対し5〜500質量部であることが好ましく、20〜250質量部であることがより好ましい。
The average particle diameter of the titanium oxide particles is preferably 0.1 to 20 μm, and more preferably 0.5 to 5 μm.
The content of the titanium oxide particles is preferably 5 to 500 parts by mass and more preferably 20 to 250 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component in the resin composition.

樹脂組成物層Aにおいて、樹脂組成物中の樹脂成分としては樹脂組成物層Bで挙げられたものを使用することができる。この場合、樹脂組成物層Aの樹脂成分は、樹脂組成物層Bで使用された樹脂成分と同一でも異なっていてもよい。   In the resin composition layer A, those listed in the resin composition layer B can be used as the resin component in the resin composition. In this case, the resin component of the resin composition layer A may be the same as or different from the resin component used in the resin composition layer B.

樹脂組成物層A及び樹脂組成物層Bのそれぞれの厚みは、50〜100μmであることが好ましく、75〜100μmであることがより好ましい。また、樹脂組成物層Aと樹脂組成物層Bとの厚みの比(樹脂組成物層A/樹脂組成物層B)は、1/3〜3であることが好ましく、1/2〜2であることがより好ましい。当該比が1〜2であることで、反射率を高く維持したまま膜厚を薄くすることができる。   Each thickness of the resin composition layer A and the resin composition layer B is preferably 50 to 100 μm, and more preferably 75 to 100 μm. Further, the ratio of the thickness of the resin composition layer A to the resin composition layer B (resin composition layer A / resin composition layer B) is preferably 1/3 to 3, preferably 1/2 to 2. More preferably. When the ratio is 1 to 2, the film thickness can be reduced while keeping the reflectance high.

なお、樹脂組成物層A及び樹脂組成物層Bには、本発明の効果を損なわない限り、種々の添加剤を含有させることができる。例えば、樹脂組成物の性質を改善する目的で種々のウィスカー、シリコーンパウダー、熱可塑性エラストマー、有機合成ゴム、脂肪酸エステル、グリセリン酸エステル、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の内部離型剤等の添加剤を配合することができる。   The resin composition layer A and the resin composition layer B can contain various additives as long as the effects of the present invention are not impaired. For example, various whisker, silicone powder, thermoplastic elastomer, organic synthetic rubber, fatty acid ester, glycerate ester, zinc stearate, calcium stearate and other additives such as internal mold release agents for the purpose of improving the properties of the resin composition Can be blended.

本発明の光反射積層体がシート状の場合は、例えば下記のようにして製造することができる。
すなわち、樹脂成分となる原料及び酸化チタン粒子を含有する組成物を第一押出機より供給すると共に、樹脂成分となる原料及び非酸化チタン粒子を含有する組成物を第二押出機より供給し、第一、第二押出機を接続させている共押出ダイからシート状に共押出して、樹脂組成物層A及び樹脂組成物層Bが積層一体化された光反射積層体を製造することができる。
When the light reflecting laminate of the present invention is a sheet, it can be produced, for example, as follows.
That is, while supplying the raw material to be a resin component and a composition containing titanium oxide particles from the first extruder, the raw material to be a resin component and a composition containing non-titanium oxide particles are supplied from a second extruder, A light-reflecting laminate in which the resin composition layer A and the resin composition layer B are laminated and integrated can be manufactured by co-extrusion in a sheet form from a co-extrusion die connected to the first and second extruders. .

なお、本発明の光反射積層体は、3層以上の多層構成とすることができる。例えば、光入射側から、樹脂組成物層B、樹脂組成物層A及び樹脂組成物層Bが順次形成されてなる構成や、樹脂組成物層Bと樹脂組成物層Aとの間に透明の中間層を設けた構成としてもよい。   In addition, the light reflection laminated body of this invention can be made into the multilayered structure of 3 or more layers. For example, the resin composition layer B, the resin composition layer A, and the resin composition layer B are sequentially formed from the light incident side, or transparent between the resin composition layer B and the resin composition layer A. It is good also as a structure which provided the intermediate | middle layer.

以上のような本発明の光反射積層体は、種々の用途に適用することができる。例えば、太陽電池の光反射シートやLEDを始めとした照明やテレビ用の光源の反射体として適用することができる。   The light reflecting laminate of the present invention as described above can be applied to various uses. For example, the present invention can be applied as a reflector for a light source for a light reflection sheet or LED for a solar battery or a television.

[2.半導体発光装置]
本発明の半導体発光装置は、図1に例示するように、光半導体素子(例えばLED素子)10と、この光半導体素子10の周りに設けられ、光半導体素子10からの光を所定方向に反射させる反射体12とを基板14上に有してなる。そして、反射体12の光反射面の少なくとも一部(図1の場合は全部)が既述の本発明の光反射積層体で構成されてなる。
[2. Semiconductor light emitting device]
As illustrated in FIG. 1, the semiconductor light emitting device of the present invention is provided around an optical semiconductor element (for example, an LED element) 10 and the optical semiconductor element 10, and reflects light from the optical semiconductor element 10 in a predetermined direction. The reflecting body 12 is provided on the substrate 14. And at least one part (all in the case of FIG. 1) of the light reflection surface of the reflector 12 is comprised by the light reflection laminated body of the above-mentioned this invention.

光半導体素子10は、放射光(一般に、白色光LEDにおいてはUV又は青色光)を放出する、例えば、AlGaAs、AlGaInP、GaP又はGaNからなる活性層を、n型及びp型のクラッド層により挟んだダブルヘテロ構造を有する半導体チップ(発光体)であり、例えば、一辺の長さが0.5mm程度の六面体の形状をしている。そして、ワイヤーボンディング実装の形態の場合には、リード線16を介して不図示の電極(接続端子)に接続されている。   The optical semiconductor element 10 emits radiated light (generally UV or blue light in a white light LED), for example, an active layer made of AlGaAs, AlGaInP, GaP or GaN sandwiched between n-type and p-type cladding layers. It is a semiconductor chip (light emitter) having a double heterostructure, and has a hexahedral shape with a side length of about 0.5 mm, for example. In the case of wire bonding mounting, it is connected to an electrode (connection terminal) (not shown) via a lead wire 16.

反射体12の形状は、レンズ18の端部(接合部)の形状に準じており、通常、角形、円形、楕円形等の筒状又は輪状である。図1の概略断面図においては、反射体12は、筒状体(輪状体)であり、反射体12のすべての端面が基板14の表面に接触、固定されている。
なお、反射体12の内面は、光半導体素子10からの光の指向性を高めるために、テーパー状に上方に広げられていてもよい(図1参照)。
また、反射体12は、レンズ18側の端部を、当該レンズ18の形状に応じた形に加工された場合には、レンズホルダーとしても機能させることができる。
The shape of the reflector 12 conforms to the shape of the end portion (joint portion) of the lens 18 and is usually a cylindrical shape such as a square shape, a circular shape, an elliptic shape, or a ring shape. In the schematic cross-sectional view of FIG. 1, the reflector 12 is a cylindrical body (annular body), and all end surfaces of the reflector 12 are in contact with and fixed to the surface of the substrate 14.
In addition, in order to improve the directivity of the light from the optical semiconductor element 10, the inner surface of the reflector 12 may be expanded upward in a tapered shape (see FIG. 1).
The reflector 12 can also function as a lens holder when the end portion on the lens 18 side is processed into a shape corresponding to the shape of the lens 18.

反射体12は、図2に示すように、光反射面側だけを本発明の光反射積層体からなる光反射層12aとしてもよい。この場合、光反射層12aの厚さは、熱抵抗を低くする等の観点から、500μm以下とすることが好ましく、300μm以下とすることがより好ましい。光反射層12aが形成される部材12bは、公知の耐熱性樹脂で構成することができる。   As shown in FIG. 2, the reflector 12 may have only the light reflection surface side as a light reflection layer 12a made of the light reflection laminate of the present invention. In this case, the thickness of the light reflection layer 12a is preferably 500 μm or less, and more preferably 300 μm or less, from the viewpoint of reducing the thermal resistance. The member 12b on which the light reflecting layer 12a is formed can be made of a known heat resistant resin.

既述のように反射体12上にはレンズ18が設けられているが、これは通常樹脂製であり、目的、用途等により様々な構造が採用され、着色されることもある。   As described above, the lens 18 is provided on the reflector 12, but this is usually made of resin, and various structures may be adopted and colored depending on the purpose and application.

基板14と反射体12とレンズ18とで形成される空間部は、透明封止部であってよいし、必要により空隙部であってもよい。この空間部は、通常、透光性及び絶縁性を与える材料等が充填された透明封止部であり、ワイヤーボンディング実装において、リード線16に直接接触することにより加わる力、及び、間接的に加わる振動、衝撃等により、光半導体素子10との接続部、及び/又は、電極との接続部からリード線16が外れたり、切断したり、短絡したりすることによって生じる電気的な不具合を防止することができる。また、同時に、湿気、塵埃等から光半導体素子10を保護し、長期間に渡って信頼性を維持することができる。   The space formed by the substrate 14, the reflector 12, and the lens 18 may be a transparent sealing portion, or may be a gap if necessary. This space portion is usually a transparent sealing portion filled with a light-transmitting and insulating material, and the force applied by directly contacting the lead wire 16 in wire bonding mounting and indirectly. Prevents electrical defects caused by the lead wire 16 being disconnected, cut, or short-circuited from the connection portion with the optical semiconductor element 10 and / or the connection portion with the electrode due to applied vibration, impact, etc. can do. At the same time, the optical semiconductor element 10 can be protected from moisture, dust, etc., and the reliability can be maintained over a long period of time.

この透光性及び絶縁性を与える材料(透明封止剤組成物)としては、通常、シリコーン樹脂、エポキシシリコーン樹脂、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。これらのうち、耐熱性、耐候性、低収縮性及び耐変色性の観点から、シリコーン樹脂が好ましい。   Examples of the material (transparent encapsulant composition) that imparts light-transmitting properties and insulating properties usually include silicone resins, epoxy silicone resins, epoxy resins, acrylic resins, polyimide resins, polycarbonate resins, and the like. Of these, silicone resins are preferred from the viewpoints of heat resistance, weather resistance, low shrinkage, and discoloration resistance.

以下に、図1に示す光半導体装置の製造方法の一例について説明する。
まず、上記本発明の反射材樹脂組成物を、所定形状のキャビティ空間を備える金型を用いたトランスファー成形、圧縮成形、射出成形等により、所定形状の反射体12を成形する。その後、別途、準備した光半導体素子10、電極及びリード線16を、接着剤又は接合部材により基板14に固定し、さらに反射体12に基板14上に固定する。次いで、基板14及び反射体12により形成された凹部に、シリコーン樹脂等を含む透明封止剤組成物を注入し、加熱、乾燥等により硬化させて透明封止部とする。その後、透明封止部上にレンズ18を配設して、図1に示す半導体発光装置が得られる。
なお、透明封止剤組成物が未硬化の状態でレンズ18を載置してから、組成物を硬化させてもよい。
Below, an example of the manufacturing method of the optical semiconductor device shown in FIG. 1 is demonstrated.
First, the reflector 12 having a predetermined shape is molded from the reflector resin composition of the present invention by transfer molding, compression molding, injection molding or the like using a mold having a cavity space having a predetermined shape. Thereafter, the separately prepared optical semiconductor element 10, electrodes and lead wires 16 are fixed to the substrate 14 with an adhesive or a bonding member, and further fixed to the reflector 12 on the substrate 14. Next, a transparent sealant composition containing a silicone resin or the like is poured into the recess formed by the substrate 14 and the reflector 12, and cured by heating, drying, or the like to form a transparent sealing portion. Thereafter, the lens 18 is disposed on the transparent sealing portion to obtain the semiconductor light emitting device shown in FIG.
In addition, after mounting the lens 18 in a state where the transparent sealant composition is uncured, the composition may be cured.

半導体発光装置の発光素子の発光色については特に限定はなく、白色光であってもよく、所望の発光色の半導体発光素子を用いることもできる。白色光を発色させるためには、赤色系の発光波長が610nm〜700nm、緑色系の発光波長が495nm〜565nm、青色系の発光波長が430nm〜490nmの3原色を発光するLEDチップを1個の発光素子内に内蔵して混色することにより白色光にしてもよいし、発光波長が400nm〜530nmの青色光を発光するLEDチップの表面に黄色に変換する発光色変換部材を設けてもよく、発光波長が400nmより短い紫外光を発光するLEDチップの表面にそれぞれ赤、緑、青に変換する発光色変換部材を設けてそれぞれの色に変換した光を混合することによっても白色光にすることもできる。   There is no limitation in particular about the luminescent color of the light emitting element of a semiconductor light-emitting device, White light may be sufficient and the semiconductor light emitting element of desired luminescent color can also be used. In order to develop white light, one LED chip emitting three primary colors having a red emission wavelength of 610 nm to 700 nm, a green emission wavelength of 495 nm to 565 nm, and a blue emission wavelength of 430 nm to 490 nm is provided. A light emitting color conversion member that converts to yellow may be provided on the surface of the LED chip that emits blue light having a light emission wavelength of 400 nm to 530 nm, and may be provided by mixing and mixing in the light emitting element. White light can also be obtained by providing light emitting color conversion members that convert red, green, and blue on the surface of the LED chip that emits ultraviolet light having an emission wavelength shorter than 400 nm, and mixing the light converted into the respective colors. You can also.

次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。なお、本実施例において使用した材料は下記の通りである。   EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited at all by these examples. The materials used in this example are as follows.

(1)樹脂成分
・熱硬化性樹脂:シリコーン樹脂(SR7010A及びSR7010Bを質量比1:1で混合したもの:いずれも東レ・ダウコーニング(株)製)
・熱可塑性樹脂:ノルボルネン重合体(ZEONOR 1600:日本ゼオン(株)製)
・熱可塑性樹脂:ポリメチルペンテン(TPX RT−18 三井化学(株)製、分子量:MW50万〜60万)
・熱可塑性樹脂:ポリプロピレン(WF836DG3(住友化学(株)製)
(1) Resin component / thermosetting resin: Silicone resin (SR7010A and SR7010B mixed at a mass ratio of 1: 1: both manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.)
-Thermoplastic resin: norbornene polymer (ZEONOR 1600: manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.)
-Thermoplastic resin: Polymethylpentene (TPX RT-18 manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., molecular weight: MW 500,000 to 600,000)
-Thermoplastic resin: Polypropylene (WF836DG3 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.))

(2)酸化チタン粒子:PFC−107(石原産業(株)製 ルチル型構造 平均粒径0.25μm)
(3)窒化ホウ素粒子:UHP−S1(昭和電工(株)製 鱗片状の六方晶構造、平均粒径1.5μm)
(4)メラミンシアヌレート粒子:MC−6000(日産化学(株)製、平均粒径2.0μm)
(5)酸化アルミニウム粒子:CB−P02(昭和電工(株)製 平均粒径2.0μm)
(6)酸化マグネシウム粒子:和光純薬工業(株)製 平均粒径0.2μm
(2) Titanium oxide particles: PFC-107 (Ishihara Sangyo Co., Ltd. Rutile structure average particle size 0.25 μm)
(3) Boron nitride particles: UHP-S1 (manufactured by Showa Denko KK, scaly hexagonal crystal structure, average particle size 1.5 μm)
(4) Melamine cyanurate particles: MC-6000 (Nissan Chemical Co., Ltd., average particle size 2.0 μm)
(5) Aluminum oxide particles: CB-P02 (Showa Denko Co., Ltd. average particle size 2.0 μm)
(6) Magnesium oxide particles: Wako Pure Chemical Industries, Ltd. average particle size 0.2 μm

[実施例1〜14、比較例1〜6]
樹脂100部数に対してフィラー(上記各種粒子)が45部数に配合された樹脂組成物層A及び樹脂組成物層Bが積層一体化された光反射積層体を作製した。実施例1〜14、比較例3、4の各層の形成は、樹脂組成物層A及びBを150℃、30秒、10MPaの条件でプレス成形後、樹脂組成物層A及びBを重ね合わせてロールで積層体とした。また、比較例1,2,5,6は単層構成とした。
なお、積層構造の組成及び膜厚は下記表1の通りである。また、「部数」とは、質量基準(質量部)を意味する。
[Examples 1-14, Comparative Examples 1-6]
A light-reflecting laminate was produced in which a resin composition layer A and a resin composition layer B in which filler (the above-mentioned various particles) were blended in 45 parts with respect to 100 parts of the resin were laminated and integrated. The formation of each layer of Examples 1 to 14 and Comparative Examples 3 and 4 is performed by pressing the resin composition layers A and B under the conditions of 150 ° C., 30 seconds, 10 MPa, and then superposing the resin composition layers A and B. It was set as the laminated body with the roll. In addition, Comparative Examples 1, 2, 5, and 6 have a single layer configuration.
The composition and film thickness of the laminated structure are as shown in Table 1 below. The “number of parts” means a mass standard (parts by mass).

作製した光反射積層体について、樹脂組成物層B側から光を照射し波長300〜800nmにおける光反射率を分光光度計UV−2550(島津製作所製)を使用して測定した。結果を下記表1及び図3〜6に示す。   About the produced light reflection laminated body, light was irradiated from the resin composition layer B side, and the light reflectance in wavelength 300-800 nm was measured using the spectrophotometer UV-2550 (made by Shimadzu Corporation). The results are shown in Table 1 below and FIGS.

表1より、すべての実施例で可視光領域における反射率が高く、また、紫外光領域(波長300〜400nm)での反射率も比較例に比べて非常に高い結果となった(実施例1〜5の結果を図3に示す)。
一方で、図4で示した、実施例に対して光入射側を反対とした比較例3、4では、紫外光領域での反射率が著しく低かった。また、図5で示した、単層構成とした比較例1、2、5は可視光領域、紫外光領域ともに反射率が低かった。さらに、図6で示した、単層構成で酸化チタン粒子と窒化ホウ素粒子とを混合した比較例6の場合も他の比較例と同様に紫外光領域での反射率は著しく低かった。
From Table 1, the reflectance in the visible light region is high in all examples, and the reflectance in the ultraviolet light region (wavelength 300 to 400 nm) is also very high compared to the comparative example (Example 1). The results of ˜5 are shown in FIG.
On the other hand, in Comparative Examples 3 and 4 in which the light incident side is opposite to that of the example shown in FIG. 4, the reflectance in the ultraviolet light region was remarkably low. In addition, Comparative Examples 1, 2, and 5 having a single layer configuration shown in FIG. 5 had low reflectance in both the visible light region and the ultraviolet light region. Further, in the case of Comparative Example 6 shown in FIG. 6 in which titanium oxide particles and boron nitride particles were mixed in a single layer configuration, the reflectance in the ultraviolet region was remarkably low as in the other comparative examples.

以上から、本発明の光反射積層体は、可視光領域だけでなく紫外光領域の光をも反射する半導体発光装置用の反射材に有用であるといえる。実施例及び表1の結果より、本発明の光反射積層体は特に薄膜時での光反射に適するといえる。   From the above, it can be said that the light reflecting laminate of the present invention is useful as a reflective material for a semiconductor light emitting device that reflects not only the visible light region but also the ultraviolet light region. From the results of Examples and Table 1, it can be said that the light reflecting laminate of the present invention is particularly suitable for light reflection at the time of a thin film.

10・・・光半導体素子
12・・・光反射積層体
14・・・基板
16・・・リード
18・・・レンズ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Optical semiconductor element 12 ... Light reflection laminated body 14 ... Substrate 16 ... Lead 18 ... Lens

Claims (5)

ルチル型酸化チタン粒子を含む樹脂組成物からなる樹脂組成物層Aと、窒化ホウ素粒子、メラミンシアヌレート粒子、及び酸化マグネシウム粒子の少なくともいずれかの非酸化チタン粒子を含む樹脂組成物からなる樹脂組成物層Bと、を有し、
光入射側から樹脂組成物層B及び樹脂組成物層Aが順次形成されてなる光反射積層体。
And the resin composition layer A comprising a resin composition containing rutile type titanium oxide particles, boron nitride particles, melamine cyanurate particles, resins comprising a resin composition containing at least one non-titanium oxide particles beauty magnesium oxide particles A composition layer B,
A light reflection laminate in which a resin composition layer B and a resin composition layer A are sequentially formed from the light incident side.
前記非酸化チタン粒子が、窒化ホウ素粒子及びメラミンシアヌレート粒子の少なくともいずれかである請求項1に記載の光反射積層体。   The light reflecting laminate according to claim 1, wherein the non-titanium oxide particles are at least one of boron nitride particles and melamine cyanurate particles. 樹脂組成物層A及び樹脂組成物層Bのそれぞれの厚みが、50〜100μmである請求項1又は2に記載の光反射積層体。   3. The light reflecting laminate according to claim 1, wherein each of the resin composition layer A and the resin composition layer B has a thickness of 50 to 100 μm. さらに樹脂組成物層Bが設けられてなり、光入射側から樹脂組成物層B、樹脂組成物層A及び樹脂組成物層Bが順次形成されてなる請求項1〜3のいずれか1項に記載の光反射積層体。   The resin composition layer B is further provided, and the resin composition layer B, the resin composition layer A, and the resin composition layer B are sequentially formed from the light incident side. The light reflection laminated body of description. 光半導体素子と、前記光半導体素子の周りに設けられ、該光半導体素子からの光を所定方向に反射させる反射体とを基板上に有し、
前記反射体の光反射面の少なくとも一部が請求項1〜4のいずれか1項に記載の光反射積層体からなる半導体発光装置。
An optical semiconductor element and a reflector provided around the optical semiconductor element and reflecting light from the optical semiconductor element in a predetermined direction on a substrate;
The semiconductor light-emitting device which at least one part of the light reflection surface of the said reflector consists of the light reflection laminated body of any one of Claims 1-4.
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