JP5966244B2

JP5966244B2 - 水素化触媒とその製造方法、及びその用途

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Publication number: JP5966244B2
Application number: JP2010288883A
Authority: JP
Inventors: 恒夫原田; 正河部
Original assignee: Tosoh Corp
Current assignee: Tosoh Corp
Priority date: 2009-12-25
Filing date: 2010-12-24
Publication date: 2016-08-10
Anticipated expiration: 2030-12-24
Also published as: JP2011147934A

Description

本発明は、有機化合物の水素化に用いる触媒に関する。具体的にはアルデヒド類、ケトン類、カルボン酸類、カルボン酸エステル類及び芳香族ニトロ化合物類等の水素化に用いられる有用な触媒に関する。

上記水素化反応に用いられる有用な触媒としては、従来、銅クロマイト触媒として銅／クロム酸化物触媒が広く知られている（例えば、非特許文献１参照）。

その具体的な例として、反応温度１８０〜３７０℃、圧力０．１〜０．５ＭＰａ、ニトロベンゼン濃度２〜１４容量％の条件下で、銅／クロム酸化物触媒を用いてガス状のニトロベンゼンを水素還元し、アニリンを製造する方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。しかし、このようなクロム酸化物を含む触媒は、クロムによる健康被害や環境汚染の恐れがあるため、その取り扱いに際しては細心の注意が求められるとともに、使用済み触媒の処理と回収にも多大な労力と費用が必要であった。

さらに、銅、鉄及びアルミニウムを基本成分とする変性ラネー銅触媒を用いた、芳香族ニトロ化合物の水素化による芳香族アミンを製造する方法が提案されている（例えば、特許文献２参照）。しかしながら、一般的に、ラネー金属触媒は表面酸化による活性低下が起こりやすいため、水中や不活性ガス雰囲気中で保管しなければならず、その取り扱いには細心の注意が必要となる。また、活性は高いものの、反面、耐久性において十分でないという問題がある。

最近では、銅、ケイ酸カルシウム、アタパルジャイト等の天然粘土鉱物からなる成型水素化触媒が提案されている（例えば、特許文献３参照）。しかし、この成型触媒は、強度と耐久性に優れているものの、原料として天然素材を含むため、その組成や物性変動により、製造される触媒の組成や粒度などにおいて、再現性が乏しいという欠点を有する。

また、銅、ケイ酸カルシウム、ハイドロタルサイトからなる成型触媒が提案されている（例えば、特許文献４参照）。しかし、この成型触媒は、組成がコントロールされたハイドロタルサイトや花弁状のケイ酸カルシウムを使用するため、比較的高価にならざるを得ないという経済的問題点を有する。

特開昭４９−２３１号公報特開平９−１２４５６２号公報特表平１１−５０７８６７号公報特開２００７−２８９８５５公報

触媒工学講座１０触媒学会編集「元素別触媒便覧」（８０頁）

本発明は、従来の銅／クロム酸化物とは異なり、クロム酸化物を含まないことによって、環境汚染や健康被害を招く恐れがなく、その上、従来の銅／クロム酸化物触媒同等以上の活性、選択率及び耐久性を示す触媒を提供することを目的とする。

本発明者らは、鋭意検討を行った結果、銅とケイ酸カルシウムを主成分とする水素化触媒において、銅を２０〜６０重量％含有し、好適には銅を３０〜６０重量％含有し、ケイ酸カルシウム中のケイ素酸化物（ＳｉＯ_２）に対するカルシウム酸化物（ＣａＯ）のモル比が０．１〜０．７の範囲である水素化触媒が、上記課題を解決することを見出した。

また、本発明において、銅酸化物を３０〜７５重量％含有し、好適には４０〜７５重量％含有し、ケイ酸カルシウム中のケイ素酸化物（ＳｉＯ_２）に対するカルシウム酸化物（ＣａＯ）のモル比が０．１〜０．７の範囲である水素化触媒前駆体を還元することにより、本発明の水素化触媒が製造できる。

さらに、本発明によれば、上記水素化触媒を用いて、１００〜３５０℃の温度範囲で、アルデヒド類、ケトン類、カルボン酸類、カルボン酸エステル類及び芳香族ニトロ化合物類から選ばれる化合物と水素を接触させて水素化化合物を製造することができる。

以下、本発明を詳細に説明する。

すなわち本発明は、銅とケイ酸カルシウムからなる水素化触媒において、ケイ酸カルシウム中のケイ素酸化物（ＳｉＯ_２）に対するカルシウム酸化物（ＣａＯ）のモル比が０．１〜０．７の範囲であることを特徴とする水素化触媒に関する。

水素化触媒成分である銅は、銅酸化物、焼成によって銅酸化物形態に容易に変化しうる水酸化物、炭酸塩もしくは硝酸塩など、または２種類以上の混合物としての水素化触媒前躯体を還元することにより調製される。また、本発明の水素化触媒は、銅を２０〜６０重量％、好適には３０〜６０重量％、さらに好適には３０〜５５重量％含有する。銅の濃度が２０重量％未満であると反応ロード（原料フィード量）に対し活性不足となり、コーキングが増加し、触媒ライフが短くなり、一方、銅の濃度が６０重量％を超えると銅担持時の分散性が低下し、担持銅あたりの活性が低下する傾向にある。また、銅の濃度が３０〜６０重量％、さらに３０〜５５重量％の範囲であると触媒ライフの向上が見込めるため好ましい。

銅の水素化触媒中の濃度は、銅イオンとしてＪＩＳＫ０４００−５２−３０に記載のＩＣＰ分析方法により算出した値である。

本発明で用いるケイ酸カルシウム中のケイ素酸化物（ＳｉＯ_２）に対するカルシウム酸化物（ＣａＯ）のモル比は０．１〜０．７の範囲であり、好適には０．２〜０．４である。ケイ酸カルシウム中のケイ素酸化物（ＳｉＯ_２）に対するカルシウム酸化物（ＣａＯ）のモル比が０．１〜０．７の範囲であると銅担持の際、銅の分散性が著しく高くなり、担持された銅の粒子径は微粒子となる。その結果、銅の表面積が大きくなり、触媒の活性が高くなる効果がみられる。また、触媒の酸塩基性を改質し、触媒表面への炭素の析出、所謂コーキングを抑える等の効果がみられる。よって、コーキングによる活性劣化が抑制され、触媒ライフが著しく長くなるものと思われる。また、ケイ素酸化物に対するカルシウム酸化物のモル比が０．２〜０．４の範囲であると触媒ライフの向上が見込めるため好ましい。

本発明において、ケイ酸カルシウム中のケイ素酸化物（ＳｉＯ_２）は、ＪＩＳＫ０１０１に記載の重量法による分析方法により算出し、カルシウム酸化物（ＣａＯ）は、カルシウムイオンとしてＪＩＳＫ０４００−５２−３０に記載のＩＣＰ分析方法により算出し、カルシウム酸化物として換算した。

本発明で用いるケイ酸カルシウムの表面積は１００ｍ^２／ｇ以上が好ましく、さらに好適には１５０ｍ^２／ｇ以上である。ケイ酸カルシウムの表面積が１００ｍ^２／ｇ以上であるとケイ酸カルシウム上に銅が高分散されて担持される。従って、銅の粒子径は微粒子となり、その結果、銅の表面積が大きくなり、触媒の活性が高くなる効果がみられる。よって、コーキングが抑制され、触媒ライフが著しく長くなるものと思われる。また、ケイ酸カルシウムの表面積が１５０ｍ^２／ｇ以上であると触媒ライフの向上がさらに見込めるため好ましい。

ケイ酸カルシウムの表面積は、ＪＩＳＺ８８３０に記載の気体吸着法により算出した。

本発明で用いるケイ酸カルシウムは天然源または合成源のいずれのものでもよいが、好適にはケイ素酸化物に対するカルシウム酸化物を０．１〜０．７のモル比にコントロールして合成されたものを用いる。

より詳細には、ケイ素酸化物と反応しうる生石灰（酸化カルシウム）、消石灰（水酸化カルシウム）、塩化カルシウム、炭酸カルシウム等のカルシウム源とを大気圧下、常温あるいは加温下で混合し、ケイ酸カルシウムを得る。この際、反応を早めるために水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウムなどのアルカリを添加してもよい。ケイ素酸化物は非結晶性、結晶性またはその混合物を使用することができるが、非結晶性のものが好ましい。非結晶性のケイ素酸化物は乾式合成法または湿式合成法のどちらで製造されたものでもよいが、安価な湿式合成法で製造されたもの、例えば、東ソーシリカ（株）からＮｉｐｓｉｌ「ＮＳ−Ｋ」（登録商標）として市販品を入手することができる。

本発明の触媒を製造する際、水素化触媒成分である銅、あるいは銅酸化物、または焼成によって銅酸化物形態に容易に変化しうる水酸化物、炭酸塩もしくは硝酸塩などからなる少なくとも１種類以上の銅化合物とケイ酸カルシウムを混合させる手段は特に限定されないが、これらを均一に混合できる手段であれば、いずれの手段でも用いることができる。例えば、上記適正範囲の組成物を混合装置に仕込み、乾式混合、または湿式混合した場合には、得られた混合物を乾燥、焼成することにより、本発明の水素化触媒の前駆体粉末を得ることができる。

また、上述のケイ素酸化物と酸化カルシウムから湿式合成されたケイ酸カルシウムのスラリー水溶液に、硝酸銅、塩化銅などの水溶液を連続的、または一括もしくは分割して加え、水酸化ナトリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液などにより中和し、ケイ酸カルシウム上に銅を担持し、ろ過して触媒湿潤ケークを得る。得られた湿潤ケークを乾燥して本発明の水素化触媒の前駆体粉末を得ることができる。

必要に応じて、流動調節剤、細孔付与剤、補強剤、粘土のようなバインダーを助剤として用い、粉末状の触媒を押出し成型または圧縮成型して、種々の構造や形態の成型体を得た後、焼成することにより水素化触媒前躯体の成型体を得ることができる。

本発明において、水素化触媒前駆体は、好ましくは反応器内において、目的とする水素化反応を行う前に還元し、活性化して、水素化触媒とする。水素化触媒前駆体を還元する方法としては、例えば、還元剤として水素ガスを用い気相または液相で行う場合、１００〜５００℃、好ましくは１５０〜３００℃の温度で気相還元することが望ましい。１００℃未満では還元反応が進み難く、５００℃を越えると銅のシンタリングによる活性の低下が起こるため好ましくない。また、１５０〜３００℃の温度範囲では安定して反応が進むため好ましい。この場合、窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性ガスで水素ガスを希釈したものを用いてもよい。

このようにして得られる本発明の水素化触媒は、アルデヒド類、ケトン類、カルボン酸類、カルボン酸エステル類及び芳香族ニトロ化合物類を対象とした水素化反応に好適に用いられる。

本発明の触媒を用いて、水素化してアルコールを製造することができるアルデヒド類の例としては、ホルムアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ｎ−ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、バレルアルデヒド、２−メチルブチルアルデヒド、３−メチルブチルアルデヒド、２，２−ジメチルプロピオンアルデヒド、カプロンアルデヒド、２−メチルバレルアルデヒド、３−メチルバレルアルデヒド、４−メチルバレルアルデヒド、２−エチルブチルアルデヒド、２，２−ジメチルブチルアルデヒド、３，３−ジメチルブチルアルデヒド、カプリルアルデヒド、カプリンアルデヒド、グルタルジアルデヒドなどが挙げられる。また、ケトン類としては、アセトン、ブタノン、ペンタノン、ヘキサノン、シクロヘキサノン、アセトフェノンなどが挙げられる。

本発明の触媒を用いて、水素化してアルコールを製造することができるカルボン酸類やカルボン酸エステル類としては、ギ酸、酢酸、カプロン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、イソステアリル酸、オレイン酸、シュウ酸、マレイン酸、アジピン酸、セバシン酸、シクロヘキサンカルボン酸、安息香酸、フタル酸などやそのエステルが挙げられる。

本発明の触媒を用いて、水素化して芳香族アミン化合物を製造することができる芳香族ニトロ化合物類としては、ニトロベンゼン、アルキル置換ニトロベンゼン類、ニトロナフタレン類、４−ニトロジフェニル、ニトロアントラキノン類、ニトロフェナントロ類、２−ニトロフラン、２−ニトロチオフェン、３−ニトロピリジン、２−ニトロジフェニルエーテル、５−ニトロ−１Ｈ−ベンゾトリアゾール、異性体ジニトロベンゼン類、異性体ニトロアニリン類、ｐ−ニトロ安息香酸、ｍ−ニトロ安息香酸、ｏ−ニトロ安息香酸、異性体ニトロフェノール類、ｏ−ニトロクロロベンゼン、ｍ−ニトロクロロベンゼン、ｐ−ニトロクロロベンゼン、３，４−ジニトロクロロベンゼンなどが挙げられる。特に、ニトロベンゼンは本発明の水素化反応を適用するのに好適なニトロ化合物である。このニトロベンゼンの水素化は、通常、１００〜３５０℃の範囲の温度、０．１〜０．５ＭＰａの加圧下で行うことにより、副反応を抑え、触媒ライフを長くすることができるため効果的である。水素／ニトロベンゼンのモル比は１０〜２０倍が好適であり、また、反応熱の除去や触媒劣化の観点から窒素などの不活性ガスを混合して行うことも可能である。ＧＨＳＶ（単位容積あたりの原料ガス流入速度）は１０００〜２０００ｈ^−１の範囲が好適である。

本発明による水素化触媒は、成分として有害なクロムを含有せず、アルデヒド類、ケトン類、カルボン酸類、カルボン酸エステル類及び芳香族ニトロ化合物類等の水素化反応に対して優れた活性、選択率及び長い触媒寿命を有する。

ケイ酸カルシウムのＣａＯ／ＳｉＯ_２のモル比と触媒推定ライフの関係を示す。

以下の実施例によって本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。

実施例１
（水素化触媒前躯体の調製）
２Ｌのガラス容器に、イオン交換水２２５ｍＬを添加し、次に、シリカ（ケイ素酸化物）に対する酸化カルシウムのモル比（ＣａＯ／ＳｉＯ_２モル比）が０．２５になるように、シリカ粉末（東ソーシリカ製、Ｎｉｐｓｉｌ「ＮＳ−Ｋ」）３０．０ｇ及び生石灰粉末（関東化学製、試薬１級）７．０ｇを仕込み、２５℃で２４時間攪拌して、ケイ酸カルシウム担体を調製した。この調製したケイ酸カルシウムスラリー水溶液を攪拌下、２５℃に保ちながら、３９重量％硝酸銅水溶液（関西触媒化学製）３８２．７ｇを３時間かけて等速添加した。その時、該スラリー水溶液は、２０重量％炭酸ナトリウム水溶液でｐＨ６．５〜７．５にコントロールした。硝酸銅水溶液の添加終了後、２５℃で２時間攪拌熟成した。次に、沈殿物をろ過し、湿潤ケークを３Ｌのイオン交換水で洗浄した。

得られた湿潤ケークは１１０℃で一晩、空気中で乾燥し、この乾燥した固形物は粗粉砕し、４５０℃で３時間焼成した。得られた焼成粉末に滑剤としてグラファイト２．０ｇを添加し、混合した後、ロータリー打錠機で５ｍｍΦ×５ｍｍの円筒形に成型した。得られた成型物は４５０℃で３時間、再び焼成して水素化触媒前躯体とした。

（ニトロベンゼンの水素化反応）
上記水素化触媒前躯体を乳鉢で破砕し、２．８ｍｍと１．０ｍｍの篩を用いて、触媒を２．８〜１．０ｍｍの粒子に篩分けした。篩分けした触媒粒子３０ｍＬをＳＵＳ製の固定床反応器に充填し、水素流通下、２１５℃で２４時間還元し、活性化した。触媒性能評価は、水素圧０．１４ＭＰａ、反応温度１７５℃、ＧＨＳＶ１５００ｈ^−１、ＬＨＳＶ（単位容積あたりの原料液体の供給速度）０．４ｈ^−１、及び水素／ニトロベンゼンモル比１５の条件下にて、ニトロベンゼンの水素化反応を８００時間連続して行った。得られた反応生成物をガスクロマトグラフィー（装置は島津製作所社製ＧＣ−１４Ａ、カラムはＤＢ１７０）にて分析した。反応８００時間後のアニリン選択率は９９．８％であった。また、この反応８００時間の触媒層内最高温度位置の移動速度から計算した触媒推定ライフは約１７，０００時間となった。

表１に銅濃度（重量％）、ＣａＯ／ＳｉＯ_２モル比、反応８００時間後のアニリン選択率（％）及び触媒推定ライフ（時間）を示す。

なお、銅の濃度は、パーキンエルマー社製ＩＣＰＯｐｔｉｍａ５３００ＤＶにより定量した。また、担体表面積は島津製作所社製フローソープＩＩ２３００により計測した。

実施例２〜５
表１に示す所定の銅濃度（重量％）と所定のＣａＯ／ＳｉＯ_２モル比となるようにしたこと以外は、実施例１と同様に実施した。そして、反応８００時間後のアニリン選択率と触媒推定ライフの結果を表１に示す。

実施例６
（水素化触媒前躯体の調製）
２Ｌのガラス容器に、イオン交換水２２５ｍＬを添加し、次に、シリカ（ケイ素酸化物）に対する酸化カルシウムのモル比（ＣａＯ／ＳｉＯ_２モル比）が０．２５になるように、シリカ粉末（東ソーシリカ製、Ｎｉｐｓｉｌ「ＮＳ−Ｋ」）３６．０ｇ及び消石灰粉末（関東化学製、試薬１級）１１．１ｇを仕込み、４０℃で６時間攪拌して、ケイ酸カルシウム担体を調製した。この調製したケイ酸カルシウムスラリー水溶液を攪拌下、４０℃に保ちながら、３９重量％硝酸銅水溶液（関西触媒化学製）３０５．５ｇを４時間かけて等速添加した。その時、該スラリー水溶液は、２０重量％炭酸ナトリウム水溶液でｐＨ６．５〜７．５にコントロールした。硝酸銅水溶液の添加終了後、４０℃で２時間攪拌熟成した。次に、沈殿物をろ過し、湿潤ケークを３Ｌのイオン交換水で洗浄した。

得られた湿潤ケークは１１０℃で一晩、空気中で乾燥した。得られた乾燥粉末に滑剤としてグラファイト２．０ｇを添加し、混合した後、ロータリー打錠機で５ｍｍΦ×５ｍｍの円筒形に成型した。得られた成型物は４５０℃で３時間、再び焼成して水素化触媒前躯体とした。

（ニトロベンゼンの水素化反応）
得られた水素化触媒前躯体を用いること以外は、実施例１と同様に実施した。反応８００時間後のアニリン選択率と触媒推定ライフの結果を表１に示す。

実施例７〜８
表１に示す所定の銅濃度（重量％）と所定のＣａＯ／ＳｉＯ_２モル比となるようにしたこと以外は、実施例６と同様に実施した。そして、反応８００時間後のアニリン選択率と触媒推定ライフの結果を表１に示す。

実施例９
シリカ成分として、シリカ粉末（東ソーシリカ製、Ｎｉｐｇｅｌ「ＣＸ−２００」）を使用して、表１に示す所定の銅濃度（重量％）と所定のＣａＯ／ＳｉＯ_２モル比となるようにしたこと以外は、実施例６と同様に実施した。そして、反応８００時間後のアニリン選択率と触媒推定ライフの結果を表１に示す。

比較例１
表面積１３０ｍ^２／ｇのケイ酸カルシウム（トクヤマ製、フローライト）を使用して、表１に示す所定の銅濃度（重量％）となるようにしたこと以外は、実施例６と同様に実施した。そして、反応８００時間後のアニリン選択率と触媒推定ライフの結果を表１に示す。

比較例２〜４
表１に示す所定の銅濃度（重量％）と所定のＣａＯ／ＳｉＯ_２モル比となるようにしたこと以外は、実施例１と同様に実施した。そして、反応８００時間後のアニリン選択率と触媒推定ライフの結果を表１に示す。

比較例５
（水素化触媒前躯体の調製）
２Ｌのガラス容器に、イオン交換水４００ｍＬを仕込み、攪拌下、シリカ含有量が６．７６ｍｏｌ／Ｌのケイ酸ソーダ３号液（キシダ化学製）２８６ｍＬと、０．１６ｍｏｌ／Ｌの硫酸アルミニウム水溶液（関東化学製）３０２ｍＬを、それぞれ定量ポンプを用いて１時間で等速投入した。該反応操作は２５℃で実施し、反応終了後ｐＨは４となった。

続いて、得られた反応液を９５℃で１時間加熱し熟成した。

その後、ヌッチェを用いて吸引ろ過し、湿潤ケークを５００ｍＬのイオン交換水で洗浄した。得られた湿潤ケークを７５℃で一晩、空気中で乾燥し、得られた固形物を粗粉砕して、ケイ酸アルミニウム担体を得た。

２Ｌのガラス容器に、イオン交換水４００ｍＬを添加し、次に上記ケイ酸アルミニウム担体を３２ｇ添加して６０℃に加熱した。調製した担体スラリー水溶液を攪拌下、６０℃に保ちながら、３９重量％硝酸銅水溶液（関東化学製）３８２．７ｇを３時間かけて等速添加した。その時、該スラリー水溶液は、２０重量％炭酸ナトリウム水溶液でｐＨ６．５〜７．５にコントロールした。硝酸銅水溶液の添加終了後、６０℃で２時間熟成した。次に沈殿物をろ過し、湿潤ケークを３Ｌのイオン交換水で洗浄した。

得られた湿潤ケークは１１０℃で一晩、空気中で乾燥し、この乾燥した固形物は粗粉砕し、４５０℃で３時間焼成した。得られた焼成粉末にバインダーとしてシリカゾル（日産化学製、スノーテックス４０）を５ｇ添加し、混合した後、ロータリー打錠機で５ｍｍΦ×５ｍｍの円筒形に成型した。得られた成型物は４５０℃で３時間、再び焼成して水素化触媒前躯体とした。

比較例６
（水素化触媒前躯体の調製）
２Ｌのガラス容器に、イオン交換水１Ｌを添加し、次に硝酸銅三水和物（関東化学製、試薬特級）１１１．２ｇを加え、攪拌しながら８０℃に昇温して、硝酸銅水溶液を調製した。別に、イオン交換水０．８Ｌに水酸化ナトリウム（関東化学製、試薬１級）４５ｇを加え溶解して、水酸化ナトリウム水溶液を調製した。上記硝酸銅水溶液を８０℃に保ち、攪拌しながら、水酸化ナトリウム水溶液を添加した。添加終了後に８０℃で３０分間攪拌した後、スラリーを５０℃まで冷却し、沈殿物をろ過し、湿潤ケークを３６６ｍＬのイオン交換水で洗浄した。

次に、２Ｌガラス容器に、イオン交換水１Ｌを加え、上記沈殿物を添加、リパルプし、さらにケイ酸カルシウム（トクヤマ製、フローライト）４０．２ｇ及びマグネシウムを含有するハイドロタルサイト（協和化学工業製、アルカマック）１．８ｇを添加し、１時間攪拌した。該スラリーをろ過し、湿潤ケークを得た。

得られた湿潤ケークは１１０℃で一晩、空気中で乾燥し、この乾燥した固形物は粗粉砕した。得られた乾燥粉末に滑剤としてグラファイト１．５ｇを添加し、混合した後、プレス成型機にて成型した。この成型物は４００℃で６時間焼成して水素化触媒前躯体とした。

比較例７
（水素化触媒前躯体の調製）
２Ｌのガラス容器に、イオン交換水１Ｌを添加し、次に硝酸銅三水和物（関東化学製、試薬特級）１１１．２ｇを加え、攪拌しながら８０℃に昇温して、硝酸銅水溶液を調製した。別に、イオン交換水０．８Ｌに水酸化ナトリウム（関東化学製、試薬１級）４５ｇを加え溶解して、水酸化ナトリウム水溶液を調製した。上記硝酸銅水溶液を８０℃に保ち、攪拌しながら、水酸化ナトリウム水溶液を添加した。添加終了後に８０℃で３０分間攪拌した後、スラリーを５０℃まで冷却し、沈殿物をろ過し、湿潤ケークを３６６ｍＬのイオン交換水で洗浄した。得られた湿潤ケークを１１０℃で一晩乾燥し、酸化第二銅粉末を得た。

乳鉢に、この酸化第二銅粉末２５．７ｇ、水酸化カルシウム（関東化学製、試薬１級）９．１ｇ、アタパルジャイト粘土（ＢＡＳＦ製、Ａｔｔａｇｅｌ４０）２．１ｇを添加し、５分間混練した。次に、４０重量％コロイダルシリカ（日産化学製、スノーテックス４０）２８．９ｇを添加し、２７分間混練した。さらにイオン交換水９．０ｍＬを添加しながら、３４分間混練を継続した。

得られた混練物はプレス成型機にて成型し、１２５℃で一晩空気中で乾燥し、この乾燥した成型物は６００℃で２時間焼成し、水素化触媒前躯体を得た。

図１に、ケイ酸カルシウムのＣａＯ／ＳｉＯ_２のモル比と触媒推定ライフの関係を示すが、図１から明らかなように、本発明の水素化触媒を用いれば、水素化反応を著しく長い期間に渡って継続することができる。

本発明による水素化触媒は、成分として有害なクロムを含有せず、アルデヒド類、ケトン類、カルボン酸類、カルボン酸エステル類及び芳香族ニトロ化合物類等の水素化反応に対して優れた活性、選択率及び長い触媒寿命を有するため、アルデヒド類、ケトン類、カルボン酸類、カルボン酸エステル類及び芳香族ニトロ化合物類等の広範な水素化反応に使用できる。

Claims

銅とケイ酸カルシウムからなる水素化触媒において、ケイ酸カルシウム中のケイ素酸化物（ＳｉＯ_２）に対するカルシウム酸化物（ＣａＯ）のモル比が０．１〜０．３３の範囲であり、ケイ酸カルシウムの表面積が１５０ｍ^２／ｇ以上であり、銅の濃度が２０〜６０重量％であることを特徴とするニトロベンゼン水素化触媒。
銅酸化物を３０〜７５重量％含有し、ケイ酸カルシウム中のケイ素酸化物（ＳｉＯ_２）に対するカルシウム酸化物（ＣａＯ）のモル比が０．１〜０．３３の範囲である水素化触媒前駆体を還元することを特徴とする請求項１に記載のニトロベンゼン水素化触媒の製造方法。
請求項１に記載のニトロベンゼン水素化触媒を使用し、１００〜３５０℃の温度範囲で、ニトロベンゼンと水素を接触させることを特徴とするアニリンの製造方法。