JP5950467B2 - ペリクル - Google Patents
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Description
ここで、「最大剥離力」とは、オートグラフAGS−500G(島津製作所株式会社製)を用いて、引っ張り方向がフレームと90°方向で、引っ張り速度が500mm/minである場合に、離型性ライナーをペリクルの粘着剤から剥離するときの最大剥離力をいう。また、この離型性ライナーは、その基材が可撓性の樹脂フィルムであることが好ましい。
<実施例1>
はじめに、外寸149×113mm、内寸145×109mm、高さ4.5mmの大きさで、上端面及び下端面の各々の外内両辺縁部がR加工された長方形のアルミニウム合金製ペリクルフレーム12を機械加工により製作し、その表面に黒色アルマイト処理を施した。その後、このペリクルフレーム12をクリーンルームに搬入し、中性洗剤と純水により、十分に洗浄し乾燥させた。
離型性ライナー14として基材となるPETフィルムにシリカ粉末を添加し、表面粗さが5μmであるライナーを使用した他は実施例1と同様にペリクル1を作製し、離型性ライナー14を貼り付けた。
離型性ライナー14として基材となるPETフィルムにシリカ粉末を添加し、表面粗さが30μmであるライナーを使用した他は実施例1と同様にペリクル1を作製し、離型性ライナー14を貼り付けた。
粘着剤13としてアクリル粘着剤SK−1495(綜研化学株式会社製)を使用した他は実施例1と同様にペリクル1を作製し、離型性ライナー14を貼り付けた。
離型性ライナー14として基材となるPETフィルムに何も処理せず、表面粗さが1.5μmである離型性ライナー14を使用した他は実施例1と同様にペリクル1を作製し、離型性ライナー14を貼り付けた。
離型性ライナー14として基材となるPETフィルムにブラスト処理を施し、表面粗さが55μmである離型性ライナー14を使用した他は実施例1と同様にペリクル1を作製し、離型性ライナー14を貼り付けた。
前記実施例1〜4及び比較例1、2について、その離型性ライナー14の離型側の表面粗さをLEXT_OLS4000(オリンパス株式会社製)により測定した。測定条件は、JIS_B_0601に準じて行い、測定長は2570μmにて測定を行った。
また、前記実施例1〜4及び比較例1、2について、その離型性ライナー14をペリクル1の粘着剤13から剥離するときの剥離力を測定した。測定は、ペリクル1を固定し、オートグラフAGS−500G(島津製作所株式会社製)にて、離型性ライナー14がペリクル1から完全に剥離するまで離型性ライナー14を引っ張り、その間の最大剥離力を測定した。引っ張り方向はフレームと90°方向であり、引っ張り速度は500mm/minである。
さらに、前記実施例1〜4及び比較例1、2について、その離型性ライナー14をペリクル1から剥離した後、ペリクル1の粘着剤13の表面を目視にて観察した。
11 ペリクル膜
12 ペリクルフレーム
13 粘着剤
14 離型性ライナー(離型シート)
Claims (2)
- ペリクル膜と、該ペリクル膜が一方の端面に貼り付けられたペリクルフレームと、該ペリクルフレームの他方の端面に設けられたペリクルをガラス基盤に貼り付けるためのシリコーン系粘着剤又はアクリル系粘着剤と、該粘着剤を保護するためのフッ素変性シリコーン離型剤を塗布した離型性ライナーを有するペリクルであって、前記離型性ライナーは、基材にシリカ粉末を添加した離型側の表面粗さが凸凹の算術平均粗さ(Ra)で5μm〜30μmであり、前記粘着剤から剥離するときの最大剥離力が5〜8gであることを特徴とするペリクル。
ここで、「最大剥離力」とは、オートグラフAGS−500G(島津製作所株式会社製)を用いて、引っ張り方向がフレームと90°方向で、引っ張り速度が500mm/minである場合に、離型性ライナーをペリクルの粘着剤から剥離するときの最大剥離力をいう。 - 前記離型性ライナーは、前記基材が可撓性の樹脂フィルムであることを特徴とする請求項1に記載のペリクル。
Priority Applications (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013196840A JP5950467B2 (ja) | 2013-09-24 | 2013-09-24 | ペリクル |
EP14182098.5A EP2860583B1 (en) | 2013-09-24 | 2014-08-25 | A pellicle |
US14/467,256 US9594300B2 (en) | 2013-09-24 | 2014-08-25 | Pellicle |
KR1020140116061A KR102251928B1 (ko) | 2013-09-24 | 2014-09-02 | 펠리클 |
TW103132695A TWI522730B (zh) | 2013-09-24 | 2014-09-23 | 防塵薄膜組件 |
CN201410490285.1A CN104460225A (zh) | 2013-09-24 | 2014-09-23 | 防尘薄膜组件 |
CN202010862483.1A CN111948902A (zh) | 2013-09-24 | 2014-09-23 | 防尘薄膜组件 |
HK15104240.3A HK1203637A1 (en) | 2013-09-24 | 2015-05-04 | Dust-prevention film assembly |
KR1020210058393A KR102322399B1 (ko) | 2013-09-24 | 2021-05-06 | 펠리클 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013196840A JP5950467B2 (ja) | 2013-09-24 | 2013-09-24 | ペリクル |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015064416A JP2015064416A (ja) | 2015-04-09 |
JP5950467B2 true JP5950467B2 (ja) | 2016-07-13 |
Family
ID=51421838
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013196840A Active JP5950467B2 (ja) | 2013-09-24 | 2013-09-24 | ペリクル |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9594300B2 (ja) |
EP (1) | EP2860583B1 (ja) |
JP (1) | JP5950467B2 (ja) |
KR (2) | KR102251928B1 (ja) |
CN (2) | CN104460225A (ja) |
HK (1) | HK1203637A1 (ja) |
TW (1) | TWI522730B (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6632057B2 (ja) * | 2016-01-07 | 2020-01-15 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル |
TWI670562B (zh) * | 2018-06-21 | 2019-09-01 | 美商微相科技股份有限公司 | 光罩保護組件結構 |
Family Cites Families (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58219023A (ja) * | 1982-06-15 | 1983-12-20 | Daicel Chem Ind Ltd | 樹脂薄膜の製造方法 |
JPS6083032A (ja) | 1983-10-13 | 1985-05-11 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 光透過性に優れたフオトマスク用防塵カバ− |
US4861402A (en) | 1984-10-16 | 1989-08-29 | Du Pont Tau Laboratories, Inc. | Method of making a cellulose acetate butyrate pellicle |
GB2165545B (en) * | 1984-10-16 | 1988-03-30 | Du Pont | Pellicle structure for transmission of mid ultraviolet light |
JPS6327707U (ja) | 1986-08-06 | 1988-02-23 | ||
US5344677A (en) * | 1992-08-27 | 1994-09-06 | Hong Gilbert H | Photochemically stable deep ultraviolet pellicles for excimer lasers |
JPH0772617A (ja) * | 1993-09-02 | 1995-03-17 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル |
JPH11160854A (ja) * | 1997-11-28 | 1999-06-18 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル用ライナー及びそれを用いたペリクル |
JPH11219023A (ja) | 1998-02-03 | 1999-08-10 | Fuji Xerox Co Ltd | 現像装置 |
JP3601996B2 (ja) * | 1999-03-05 | 2004-12-15 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル粘着層保護用ライナーおよびこれを具備するペリクル |
JP2002219778A (ja) * | 2001-01-25 | 2002-08-06 | Daikyo Giken Kogyo Kk | 剥離材及びその製造方法並びに粘着性物品 |
JP2004157229A (ja) | 2002-11-05 | 2004-06-03 | Shin Etsu Chem Co Ltd | リソグラフィ用ペリクル及びその製造方法 |
JP2005350650A (ja) * | 2004-05-14 | 2005-12-22 | Nitto Denko Corp | 剥離ライナー及びそれを用いた感圧性接着テープ又はシート |
JP2007099858A (ja) * | 2005-10-03 | 2007-04-19 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 半導体加工用テープ |
JP4931717B2 (ja) | 2007-07-19 | 2012-05-16 | 信越化学工業株式会社 | リソグラフィー用ペリクルの製造方法 |
JP5534728B2 (ja) * | 2009-07-15 | 2014-07-02 | 日東電工株式会社 | 透明フィルムおよびその利用 |
JP4889778B2 (ja) * | 2009-10-02 | 2012-03-07 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルの製造方法及びリソグラフィ用ペリクル |
JP4974389B2 (ja) * | 2009-10-30 | 2012-07-11 | 信越化学工業株式会社 | リソグラフィ用ペリクルフレーム及びリソグラフィ用ペリクル |
KR101990345B1 (ko) * | 2009-10-02 | 2019-06-18 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 펠리클의 제조 방법 |
JP2011095586A (ja) * | 2009-10-30 | 2011-05-12 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ペリクルおよびその製造方法 |
JP5152870B2 (ja) * | 2009-12-07 | 2013-02-27 | 信越化学工業株式会社 | リソグラフィ用ペリクル及びその製造方法 |
JP2011253176A (ja) * | 2010-05-07 | 2011-12-15 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル用粘着剤 |
JP5485083B2 (ja) * | 2010-08-31 | 2014-05-07 | 日東電工株式会社 | 熱硬化型接着テープ又はシート |
JP2012093518A (ja) * | 2010-10-26 | 2012-05-17 | Asahi Kasei E-Materials Corp | ペリクル |
JP2012093595A (ja) * | 2010-10-28 | 2012-05-17 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクルフレームおよびペリクル |
JP5478463B2 (ja) * | 2010-11-17 | 2014-04-23 | 信越化学工業株式会社 | リソグラフィー用ペリクル |
-
2013
- 2013-09-24 JP JP2013196840A patent/JP5950467B2/ja active Active
-
2014
- 2014-08-25 EP EP14182098.5A patent/EP2860583B1/en active Active
- 2014-08-25 US US14/467,256 patent/US9594300B2/en active Active
- 2014-09-02 KR KR1020140116061A patent/KR102251928B1/ko active Active
- 2014-09-23 CN CN201410490285.1A patent/CN104460225A/zh active Pending
- 2014-09-23 CN CN202010862483.1A patent/CN111948902A/zh active Pending
- 2014-09-23 TW TW103132695A patent/TWI522730B/zh active
-
2015
- 2015-05-04 HK HK15104240.3A patent/HK1203637A1/xx unknown
-
2021
- 2021-05-06 KR KR1020210058393A patent/KR102322399B1/ko active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9594300B2 (en) | 2017-03-14 |
KR102322399B1 (ko) | 2021-11-05 |
TWI522730B (zh) | 2016-02-21 |
HK1203637A1 (en) | 2015-10-30 |
KR20150033532A (ko) | 2015-04-01 |
KR20210056298A (ko) | 2021-05-18 |
KR102251928B1 (ko) | 2021-05-14 |
EP2860583A3 (en) | 2015-05-20 |
CN104460225A (zh) | 2015-03-25 |
EP2860583A2 (en) | 2015-04-15 |
EP2860583B1 (en) | 2016-07-13 |
US20150085265A1 (en) | 2015-03-26 |
JP2015064416A (ja) | 2015-04-09 |
CN111948902A (zh) | 2020-11-17 |
TW201518858A (zh) | 2015-05-16 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150827 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160118 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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