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JP5940465B2 - Multilayer electronic component and manufacturing method thereof - Google Patents

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JP5940465B2 JP2013008351A JP2013008351A JP5940465B2 JP 5940465 B2 JP5940465 B2 JP 5940465B2 JP 2013008351 A JP2013008351 A JP 2013008351A JP 2013008351 A JP2013008351 A JP 2013008351A JP 5940465 B2 JP5940465 B2 JP 5940465B2
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正大 八矢
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Description

本発明は積層インダクタなどに代表される積層型電子部品およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a multilayer electronic component typified by a multilayer inductor and a manufacturing method thereof.

従来より、積層型電子部品の代表例である積層インダクタの製造方法の一つとして、フェライト等を含有するセラミックグリーンシートに内部導体パターンを印刷し、これらのシートを積層し、焼成する方法が知られている。   Conventionally, as one method of manufacturing a multilayer inductor, which is a representative example of multilayer electronic components, a method of printing an internal conductor pattern on a ceramic green sheet containing ferrite or the like, and laminating and firing these sheets is known. It has been.

DC/DCコンバータのような電源で使われるインダクタでは、大電流化が進むと同時に高周波化も求められている。これまで、大電流化の要請を受けて、フェライト材料からFe系や合金系の金属材料に置き換える検討が進んでいる。これら金属材料を用いる場合、これまでは樹脂やガラスで磁性粒子を結合させるか、磁性粒子同士を焼結させる方法が取られてきた。しかし、樹脂を使う場合は強度の確保のため、樹脂の添加量を多くせざるをえず、その結果、磁性粒子の充填率がさがり、十分な透磁率を得ることができなかった。一方、焼結させる場合は高い透磁率が得られるが、損失の影響から周波数の制約があり、携帯機器などに用いる電子部品としては限定的なものとなっていた。このことから、樹脂やガラスを用いない方法が検討され、磁性粒子を酸化させ粒子表面に酸化被膜を作り、この酸化被膜により磁性粒子同士を結合させることで高い充填率の磁性体を作製できることがわかった。しかし、このように磁性粒子の間距離が近くなるに伴い、粒子間の容量成分が大きくなることもわかった。   Inductors used in power supplies such as DC / DC converters are required to have higher frequencies as the current increases. So far, in response to a request for increasing the current, studies are underway to replace ferrite materials with Fe-based or alloy-based metallic materials. In the case of using these metal materials, methods have heretofore been employed in which magnetic particles are bonded with resin or glass or the magnetic particles are sintered together. However, when a resin is used, the amount of resin added must be increased in order to ensure strength. As a result, the filling rate of the magnetic particles is reduced, and sufficient magnetic permeability cannot be obtained. On the other hand, when sintered, high magnetic permeability can be obtained, but due to the influence of loss, there are frequency restrictions, and electronic parts used for portable devices and the like are limited. For this reason, methods that do not use resin or glass have been studied, and magnetic particles can be oxidized to form an oxide film on the surface of the particles, and the magnetic particles can be bonded together by this oxide film to produce a magnetic material with a high filling rate. all right. However, it has also been found that the capacity component between the particles increases as the distance between the magnetic particles becomes shorter.

特許文献1に開示される発明では、ガラス成分は結合材として磁性体材料と渾然一体となっており、特定形状をもつガラスパターンの存在は認められない。   In the invention disclosed in Patent Document 1, the glass component is naturally integrated with the magnetic material as a binder, and the presence of a glass pattern having a specific shape is not recognized.

特開平9−148118号公報JP-A-9-148118 特開平7−272935号公報JP 7-272935 A

積層型インダクタでは、磁性体層と内部導体が交互に形成され、多くの場合、内部導体は複数の層状にて形成されている。内部導体間に存在する誘電率の高い磁性体は、内部導体間の容量成分であると評価することができる。このことは、今後、更に高容量化するため内部導体間の間隔を狭くする場合、また機器の動作周波数が高周波化した場合等に影響が予想され、より高性能化を進める上では更なる検討が必要となっている。   In a multilayer inductor, magnetic layers and internal conductors are alternately formed, and in many cases, the internal conductors are formed in a plurality of layers. A magnetic substance having a high dielectric constant existing between the inner conductors can be evaluated as a capacitive component between the inner conductors. This is expected to have an effect when the distance between the internal conductors is narrowed in order to further increase the capacity in the future and when the operating frequency of the equipment is increased. Is required.

以上のことを考慮して、本発明は、より小型化・薄層化が見込まれる状況において、内部導体間の浮遊容量を軽減して高周波対応が可能な積層型電子部品とその製造方法の提供を課題とする。   In view of the above, the present invention provides a multilayer electronic component capable of supporting high frequencies by reducing stray capacitance between internal conductors in a situation where further downsizing and thinning are expected, and a method for manufacturing the same Is an issue.

本発明者らが鋭意検討した結果、以下の特徴を有する積層型電子部品の発明を完成した。本発明によれば、積層型電子部品は、軟磁性合金粒子で形成された複数の磁性体層と、周回構造の一部をなす導電性材料からなる複数のコイルセグメントと、導電性材料からなる中継セグメントと、Si含有ガラスからなるガラスセグメントとを有する。導電性材料は好ましくはAgである。磁性体層とコイルセグメントとは交互に積層された積層構造を構成する。中継セグメントは複数の磁性体層上に形成されるコイルセグメント間を導通するように形成され、コイルセグメントおよび中継セグメントが電気的に一体化した内部導体を構成する。ここで、磁性体層を挟んで隣接する2つのコイルセグメントの間の少なくとも一部に上述のガラスセグメントが存在する。
好ましくは、コイルセグメントの幅は略一定であってかつ周回構造が略同一であり、ガラスセグメントはコイルセグメントよりも幅広であって、隣接する前記コイルセグメントの間に存在する。
好ましくは、ガラスセグメントはコイルセグメントと接するように形成される。
Si含有ガラスは軟化温度が好ましくは400〜600℃であり、別途好ましくは、Si系ガラスまたはSi−B系ガラスである。
好ましくは、軟磁性合金粒子がFe−Si−M系軟磁性合金であり、ここで、MはFeより酸化し易い金属元素であり、好ましくはMはAlまたはCrである。
好ましくは、磁性体層およびガラスセグメントは600〜950℃での熱処理により形成される。
本発明の積層型電子部品は、好ましくは、軟磁性合金粒子を含む複数のグリーンシートにそれぞれ導体パターン及び/又はガラスパターンを形成する工程と、前記各パターンが形成されたグリーンシートを隣接する導体パターン間にガラスパターンが配置されるように積層して加熱処理前チップを得る工程と、得られた加熱処理前チップを加熱する工程と、を有する方法で製造される。このとき、導体パターンは導電性材料を含む導体ペーストを周回構造の一部をなすように印刷することで形成され、ガラスパターンはSi含有ガラスを含むガラスペーストを印刷することで形成される。そして、加熱の工程において、導電性材料およびSi含有ガラスがそれぞれ焼結して導体パターンおよびガラスパターンからそれぞれコイルセグメントおよびガラスセグメントが得られる。
As a result of intensive studies by the present inventors, the invention of a multilayer electronic component having the following characteristics has been completed. According to the present invention, a multilayer electronic component is composed of a plurality of magnetic layers formed of soft magnetic alloy particles, a plurality of coil segments made of a conductive material that forms part of a circular structure, and a conductive material. It has a relay segment and a glass segment made of Si-containing glass. The conductive material is preferably Ag. The magnetic layer and the coil segment constitute a laminated structure in which they are alternately laminated. The relay segment is formed so as to conduct between the coil segments formed on the plurality of magnetic layers, and constitutes an internal conductor in which the coil segment and the relay segment are electrically integrated. Here, the above-mentioned glass segment exists in at least a part between two adjacent coil segments with the magnetic layer interposed therebetween.
Preferably, the width of the coil segment is substantially constant and the circumferential structure is substantially the same, and the glass segment is wider than the coil segment and exists between the adjacent coil segments.
Preferably, the glass segment is formed in contact with the coil segment.
The Si-containing glass preferably has a softening temperature of 400 to 600 ° C., and is preferably Si glass or Si—B glass.
Preferably, the soft magnetic alloy particles are Fe-Si-M soft magnetic alloy, where M is a metal element that is more easily oxidized than Fe, and preferably M is Al or Cr.
Preferably, the magnetic layer and the glass segment are formed by heat treatment at 600 to 950 ° C.
The multilayer electronic component of the present invention preferably includes a step of forming a conductor pattern and / or a glass pattern on each of a plurality of green sheets containing soft magnetic alloy particles, and a conductor adjacent to the green sheet on which each pattern is formed. It is manufactured by a method having a step of obtaining a pre-heat treatment chip by stacking so that a glass pattern is arranged between the patterns, and a step of heating the obtained pre-heat treatment chip. At this time, the conductive pattern is formed by printing a conductive paste containing a conductive material so as to form a part of the surrounding structure, and the glass pattern is formed by printing a glass paste containing Si-containing glass. In the heating step, the conductive material and the Si-containing glass are respectively sintered, and the coil segment and the glass segment are obtained from the conductor pattern and the glass pattern, respectively.

本発明によれば、内部導体間にガラスセグメントを入れることにより内部導体間で生じる浮遊容量を抑えることができる。このため、共振点が高くなり、より高い周波数に対応できるようになる。また、内部導体の間隔を狭くもできるようになり、小型化や高いインダクタとすることも可能となる。これまで電源系の積層インダクタではフェライトが主流であったため、容量成分の影響は少なかった。しかし、電流特性を得るためには金属系の磁性材料が好適であり、高透磁率を得るため合金粒子を酸化被膜で結合する場合、誘電率の影響を無視できなくなってきた。本発明により、上述のように浮遊容量を低減させて、共振点が高く、高周波まで特性を伸ばすことは、内部導体間の距離が小さいほど効果的であり、小型化や高インダクタンス化を進める有効な手段である。また、内部導体と外部電極との間でも浮遊容量を生じる場合があり、これらの間においても、ガラスセグメントを設ければ同様の効果を得ることができる。   According to the present invention, stray capacitance generated between internal conductors can be suppressed by inserting glass segments between the internal conductors. For this reason, a resonance point becomes high and can respond to a higher frequency. In addition, the interval between the inner conductors can be narrowed, and the size can be reduced and the inductor can be made high. Until now, ferrite was the mainstream in power system multilayer inductors, so the influence of the capacitance component was small. However, in order to obtain current characteristics, a metal-based magnetic material is suitable. When alloy particles are bonded with an oxide film in order to obtain high magnetic permeability, the influence of dielectric constant cannot be ignored. According to the present invention, as described above, it is more effective to reduce the stray capacitance, increase the resonance point, and improve the characteristics up to a high frequency as the distance between the inner conductors is smaller. Means. Further, stray capacitance may be generated between the inner conductor and the outer electrode, and a similar effect can be obtained by providing a glass segment between these.

積層インダクタの模式断面図である。It is a schematic cross section of a multilayer inductor. 積層インダクタの模式的な分解図である。It is a typical exploded view of a multilayer inductor.

以下、図面を適宜参照しながら本発明を詳述する。但し、本発明は図示された態様に限定されるわけでなく、また、図面においては発明の特徴的な部分を強調して表現することがあるので、図面各部において縮尺の正確性は必ずしも担保されていない。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with appropriate reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the illustrated embodiment, and in the drawings, the characteristic portions of the invention may be emphasized and expressed, so that the accuracy of the scale is not necessarily guaranteed in each part of the drawings. Not.

図1(A)は積層型電子部品の典型例である積層インダクタの模式的な断面図である。図1(B)は図1(A)の部分拡大図である。以下の説明では、本発明の対象である積層型電子部品の具体的な実施形態の一つとして積層インダクタを挙げるが、積層型電子部品は、例えば、トランス、LCフィルタ、電源用コモンモードフィルタなどであってもよい。積層インダクタ1は、内部導体20の大部分が磁性体部(磁性体層10の積層体)の中に埋没している構造を有する。典型的には、内部導体20は螺旋状に形成されたコイルであり、その他、渦巻き状のコイル、ミアンダ(蛇行)状の導線、あるいは直線状の導線等が挙げられる。   FIG. 1A is a schematic cross-sectional view of a multilayer inductor which is a typical example of a multilayer electronic component. FIG. 1B is a partially enlarged view of FIG. In the following description, a multilayer inductor is given as one of the specific embodiments of the multilayer electronic component that is the subject of the present invention. The multilayer electronic component includes, for example, a transformer, an LC filter, a common mode filter for power supply, and the like. It may be. The multilayer inductor 1 has a structure in which most of the inner conductor 20 is buried in a magnetic part (laminate of the magnetic layer 10). Typically, the inner conductor 20 is a coil formed in a spiral shape, and other examples include a spiral coil, a meander (meandering) conductor, a linear conductor, and the like.

内部導体20はコイルセグメントと中継セグメントとを有する。図1にはコイルセグメントのみが示されており中継セグメントは示されていない。コイルセグメントと磁性体層10とは交互に積層された積層構造を構成する。コイルセグメントはコイルの周回構造の一部をなす。中継セグメントは複数のコイルセグメントどうしを導通するように形成されている。図2は典型的な積層インダクタの模式的な分解図である。但し、図2では後述するガラスセグメントの描写を省略している。図示された態様では、内部導体20は、コイルセグメントCS1〜CS5と、このコイルセグメントCS1〜CS5を接続する中継セグメントIS1〜IS4とが、螺旋状に一体化したコイルの構造を有しており、コイルセグメントCS1〜CS4はコ字状を成し、コイルセグメントCS5は帯状を成しており、各中継セグメントIS1〜IS4は磁性体層ML1〜ML4を貫通した柱状を成している。   The inner conductor 20 has a coil segment and a relay segment. In FIG. 1, only the coil segment is shown, and the relay segment is not shown. The coil segments and the magnetic layer 10 constitute a laminated structure in which they are alternately laminated. The coil segment forms a part of the coil winding structure. The relay segment is formed so as to conduct the plurality of coil segments. FIG. 2 is a schematic exploded view of a typical multilayer inductor. However, in FIG. 2, the depiction of the glass segment described later is omitted. In the illustrated embodiment, the inner conductor 20 has a coil structure in which coil segments CS1 to CS5 and relay segments IS1 to IS4 connecting the coil segments CS1 to CS5 are spirally integrated. The coil segments CS1 to CS4 have a U shape, the coil segment CS5 has a strip shape, and each relay segment IS1 to IS4 has a column shape penetrating the magnetic layers ML1 to ML4.

本発明によれば、コイルセグメントと中継セグメントとは導電性材料が好ましい。導電性材料は従来の電子部品の電極として用いられる各種の材料を特に限定なく用いることができ、典型的には、Agであり、好適には、他の金属を実質的に含まぬAgであり、100重量部のAgと50重量部以下の他の金属との混合物や合金であってもよく、前記他の金属としては、Au、Cu、Pt、Pdなどが非限定的に例示される。   According to the present invention, the coil segment and the relay segment are preferably conductive materials. As the conductive material, various materials used as electrodes of conventional electronic components can be used without any particular limitation, typically Ag, and preferably Ag substantially free of other metals. A mixture or alloy of 100 parts by weight of Ag and 50 parts by weight or less of other metals may be used, and examples of the other metals include, but are not limited to, Au, Cu, Pt, and Pd.

本発明によれば、積層インダクタ1では、軟磁性合金粒子が多数集積して所定形状の磁性体部を構成している。磁性体部は、コイルセグメントによって分断された磁性体層10の集合であると評価することができ、同時に、磁性体層10とコイルセグメントとが積層構造を構成していると評価することができる。個々の軟磁性合金粒子11はその周囲の少なくとも一部、好ましくは概ね全体にわたって酸化被膜12が形成されていて、この酸化被膜12により磁性体部10の絶縁性が確保される。隣接する軟磁性合金粒子11どうしは、概ね、それぞれの軟磁性合金粒子11がもつ酸化被膜12を介して結合することにより、一定の形状を有する磁性体部10を構成している。酸化被膜12は好ましくは軟磁性合金粒子それ自身が酸化してなる被膜である。部分的には、隣接する軟磁性合金粒子11の金属部分どうしが結合していてもよい。軟磁性合金粒子は好ましくはFe−M−Si系合金(但し、Mは鉄より酸化し易い金属である。)からなり、その場合、酸化被膜は好ましくはこの軟磁性合金が酸化してなるものであって磁性体であるFe34と、非磁性体であるFe23及びMO(xは金属Mの酸化数に応じて決まる値である。)を少なくとも含むことが確認されている。 According to the present invention, in the multilayer inductor 1, a large number of soft magnetic alloy particles are accumulated to constitute a magnetic part having a predetermined shape. The magnetic body portion can be evaluated as an assembly of the magnetic layers 10 divided by the coil segments, and at the same time, it can be evaluated that the magnetic layers 10 and the coil segments constitute a laminated structure. . Each of the soft magnetic alloy particles 11 has an oxide film 12 formed on at least a part of the periphery thereof, preferably substantially the whole, and the insulating property of the magnetic part 10 is ensured by the oxide film 12. Adjacent soft magnetic alloy particles 11 are generally bonded via an oxide film 12 of each soft magnetic alloy particle 11 to constitute a magnetic part 10 having a certain shape. The oxide film 12 is preferably a film formed by oxidizing the soft magnetic alloy particles themselves. In part, metal portions of adjacent soft magnetic alloy particles 11 may be bonded to each other. The soft magnetic alloy particles are preferably made of an Fe-M-Si alloy (where M is a metal that is more easily oxidized than iron), and in this case, the oxide film is preferably formed by oxidation of the soft magnetic alloy. It is confirmed that it contains at least Fe 3 O 4 that is a magnetic material, Fe 2 O 3 that is a non-magnetic material, and MO x (x is a value determined according to the oxidation number of the metal M). Yes.

上述の酸化被膜12を介した結合の存在は、例えば、約3000倍に拡大したSEM観察像などにおいて、隣接する軟磁性合金粒子11が有する酸化被膜12が同一相であることを視認することなどで、明確に判断することができる。酸化被膜12を介した結合の存在により、積層インダクタ1における機械的強度と絶縁性の向上が図られる。また、酸化被膜12は通常は凹凸が比較的大きいので、Agのマイグレーションが抑制され、耐湿性が向上する。積層インダクタ1の全体にわたって、隣接する軟磁性合金粒子11が有する酸化被膜12を介して結合していることが好ましいが、一部でも結合していれば、相応の機械的強度と絶縁性の向上が図られ、そのような形態も本発明の一態様であるといえる。   The presence of the bond through the oxide film 12 is, for example, visually confirming that the oxide film 12 of the adjacent soft magnetic alloy particles 11 is in the same phase in an SEM observation image magnified about 3000 times. And can be clearly determined. The presence of the bond through the oxide film 12 improves the mechanical strength and insulation of the multilayer inductor 1. Moreover, since the oxide film 12 is usually relatively uneven, Ag migration is suppressed and moisture resistance is improved. The laminated inductor 1 is preferably bonded through the oxide film 12 of the adjacent soft magnetic alloy particles 11, but if it is partially bonded, the corresponding mechanical strength and insulation are improved. Such a form is also an embodiment of the present invention.

同様に、上述の軟磁性合金粒子11の酸化被膜が存在しない金属部分どうしの結合についても、例えば、約3000倍に拡大したSEM観察像などにおいて、隣接する軟磁性合金粒子どうしが同一相を保ちつつ結合点を有することを視認することなどにより、金属部分どうしの結合の存在を明確に判断することができる。軟磁性合金粒子11どうしの結合の存在により透磁率のさらなる向上が図られる。ここで、「酸化被膜が存在しない金属部分どうしの結合部」とは、隣接する合金粒子がそれらの金属部分にて直接に接触している部分のことを意味し、例えば、厳密な意味での金属結合や、金属部分どうしが直接に接触して原子の交換が見られない態様や、それらの中間的な態様をも含む概念である。厳密な意味での金属結合とは、「原子が規則的にならんでいる」等の要件を充足することを意味する。   Similarly, with respect to the bonding between the metal portions where the oxide film of the soft magnetic alloy particles 11 does not exist, adjacent soft magnetic alloy particles maintain the same phase in, for example, an SEM observation image magnified about 3000 times. However, the presence of a bond between the metal parts can be clearly determined by visually recognizing having a bond point. The magnetic permeability can be further improved by the presence of the coupling between the soft magnetic alloy particles 11. Here, the “joint part between metal parts where no oxide film is present” means a part in which adjacent alloy particles are in direct contact with each other, for example, in a strict sense. It is a concept including a metal bond, a mode in which metal parts are in direct contact with each other, and an exchange of atoms is not seen, and an intermediate mode between them. The metal bond in the strict sense means that the requirement such as “the atoms are regularly arranged” is satisfied.

なお、隣接する軟磁性合金粒子11が、酸化被膜12を介した結合も、軟磁性合金粒子11どうしの結合もいずれも存在せず単に物理的に接触又は接近するに過ぎない形態が部分的にあってもよい。   The adjacent soft magnetic alloy particles 11 are not physically bonded through the oxide film 12, nor are the soft magnetic alloy particles 11 connected to each other, and are merely in physical contact or approach. There may be.

図1(B)の形態では、軟磁性合金粒子11のうちガラスセグメント30に接する部分には酸化被膜が形成されていない。ガラスセグメントとの界面の磁性粒子の表面に酸化被膜の無い状態とすることで、ガラスセグメント30からガラス材料が磁性体層中に拡がりにくくなり、ガラスセグメント30を精度良く形成することができ、結果としてその厚さを小さくすることができる。このような形態の実現のためには、軟磁性合金系の磁性材料と、軟磁性合金粒子11の酸化被膜形成温度よりも軟化温度の低いSi含有ガラスを用いることが挙げられる。これにより、熱処理時に、軟磁性合金粒子11の酸化被膜形成温度よりも低い温度帯からSi含有ガラスが軟化し始め、磁性体層と接する部分では表面張力の働きによりガラスが膜状となり、さらに加熱処理温度を上昇させることで軟磁性合金粒子11の酸化被膜12が生成する。つまり、ガラスセグメント30に接していない軟磁性合金粒子11は酸化被膜が生成され、ガラスセグメント30に接する部分の軟磁性合金粒子はSi含有ガラスで覆われているため酸化被膜が生成されないのである。この形態でガラスセグメントと磁性体層が形成されるため、ガラスセグメントからのガラス成分の磁性体層への濡れ広がりを防ぐことができ、更にガラスセグメント30に接する磁性体層の界面の軟磁性粒子は軟化したガラスで覆われて加熱処理されるためガラスセグメント30に接する軟磁性合金粒子11には酸化被膜が形成されない。ここで、酸化被膜が形成されないことは、研磨断面のEDS(×1000倍)による観察で厚み100nm以上の酸化被膜が視認されないことにより確認される。   In the form of FIG. 1 (B), the oxide film is not formed in the part which touches the glass segment 30 among the soft magnetic alloy particles 11. FIG. By making the surface of the magnetic particles at the interface with the glass segment free of an oxide film, the glass material is less likely to spread from the glass segment 30 into the magnetic layer, and the glass segment 30 can be formed with high accuracy. The thickness can be reduced. In order to realize such a form, it is possible to use a soft magnetic alloy-based magnetic material and Si-containing glass having a softening temperature lower than the oxide film forming temperature of the soft magnetic alloy particles 11. As a result, during heat treatment, the Si-containing glass begins to soften from a temperature range lower than the oxide film formation temperature of the soft magnetic alloy particles 11, and the glass becomes film-like due to the surface tension at the portion in contact with the magnetic layer. The oxide film 12 of the soft magnetic alloy particles 11 is generated by raising the processing temperature. That is, an oxide film is generated on the soft magnetic alloy particles 11 that are not in contact with the glass segment 30, and an oxide film is not generated because the soft magnetic alloy particles in contact with the glass segment 30 are covered with the Si-containing glass. Since the glass segment and the magnetic layer are formed in this form, the wetting and spreading of the glass component from the glass segment to the magnetic layer can be prevented, and the soft magnetic particles at the interface of the magnetic layer in contact with the glass segment 30 Is covered with softened glass and heat-treated, so that no oxide film is formed on the soft magnetic alloy particles 11 in contact with the glass segment 30. Here, the fact that no oxide film is formed is confirmed by the fact that an oxide film having a thickness of 100 nm or more is not visually recognized by EDS (× 1000 times) observation of the polished cross section.

積層インダクタ1において、内部導体20の両端は、典型的には、それぞれ引出導体(図示せず)を介して積層インダクタ1の外表面の相対向する端面に引き出され、外部端子(図示せず)に接続される。外部端子の構造や接続様式については従来技術を適宜援用することができる。引出導体と内部導体20の外部電極面に近い側の面にもガラスセグメント30を形成することがさらに好ましい。   In the multilayer inductor 1, both ends of the inner conductor 20 are typically drawn to opposite end surfaces of the outer surface of the multilayer inductor 1 through lead conductors (not shown), respectively, and external terminals (not shown). Connected to. Conventional technology can be used as appropriate for the structure and connection mode of the external terminals. More preferably, the glass segment 30 is also formed on the surface of the lead conductor and the inner conductor 20 on the side close to the outer electrode surface.

本発明では、磁性体層10を挟んで隣接する2つのコイルセグメント20の間にガラスセグメント30が設けられる。ガラスセグメント30は前記コイルセグメント20の間の少なくとも一部に存在すればよく、好適には、コイルセグメント20に接して存在する。   In the present invention, the glass segment 30 is provided between two adjacent coil segments 20 with the magnetic layer 10 interposed therebetween. The glass segments 30 may be present at least at a part between the coil segments 20, and preferably are in contact with the coil segments 20.

好適態様では、図1(A)に示されるように、磁性体層10を挟んで隣接する2つのコイルセグメント20の間において、一方から他方のコイルセグメント20へと最短で結ぶ直線が必ずガラスセグメント30で遮断されるように、ガラスセグメント30が設けられる。但し、中継セグメントが存在する箇所にはガラスセグメント30は形成されない。また、好ましくは、複数のコイルセグメントの幅は略一定であり、複数のコイルセグメントがなす周回構造は略同一であり、ガラスセグメントは前記コイルセグメントよりも幅広であってかつ隣接するコイルセグメントの間に存在する。具体的には、図1(A)の形態では、コイルセグメント20は、略同一形状のガラスセグメント30の直ぐ上に対になって形成されていて、隣接する2つのコイルセグメント20の間にはかならずガラスセグメント30が存在している。また、図1(A)の形態では、ガラスセグメント30が対になって存在しているコイルセグメント20より幅広に形成されている。このように、ガラスセグメント30はコイルセグメント20と略同一形状であるかそれを包含する形状であることが好ましい。   In the preferred embodiment, as shown in FIG. 1 (A), a straight line connecting the shortest from one coil segment 20 to the other coil segment 20 between two adjacent coil segments 20 with the magnetic layer 10 interposed therebetween is always a glass segment. A glass segment 30 is provided so as to be blocked at 30. However, the glass segment 30 is not formed at a location where the relay segment exists. Preferably, the widths of the plurality of coil segments are substantially constant, the circumferential structures formed by the plurality of coil segments are substantially the same, and the glass segment is wider than the coil segment and between adjacent coil segments. Exists. Specifically, in the form of FIG. 1 (A), the coil segments 20 are formed as a pair immediately above a glass segment 30 having substantially the same shape, and between two adjacent coil segments 20. There is always a glass segment 30. Moreover, in the form of FIG. 1 (A), the glass segment 30 is formed wider than the coil segment 20 that exists as a pair. Thus, it is preferable that the glass segment 30 has substantially the same shape as or includes the coil segment 20.

複数のコイルセグメントの幅が略一定であり、複数のコイルセグメントがなす周回構造が同一である場合に、隣接するコイルセグメントの間にはガラスセグメントがコイルセグメントの幅方向の、好ましくは75%〜200%、より好ましくは100〜200%を占めるように存在することが好ましい。例えば、図1(A)の形態では、ガラスセグメント30がコイルセグメント20より幅広に形成されているので、前記数値は100%を超える。前記数値については、例えば50%程度であると本発明の効果が小さくなるが、本発明ではそのような形態を排除するものではない。   When the widths of the plurality of coil segments are substantially constant and the circumference structure formed by the plurality of coil segments is the same, the glass segment is between the adjacent coil segments, preferably 75% to It is preferable to be present to occupy 200%, more preferably 100 to 200%. For example, in the form of FIG. 1 (A), since the glass segment 30 is formed wider than the coil segment 20, the numerical value exceeds 100%. For example, if the numerical value is about 50%, the effect of the present invention is reduced, but the present invention does not exclude such a form.

ガラスセグメント30を構成する材料はSi含有ガラスであれば特に限定はなく、典型的にはSi系ガラスまたはSi−B系ガラスが挙げられ、好ましくは軟化温度が400〜600℃のガラス材料が挙げられる。そのようなガラス材料はガラスペースト用のガラスとして市販されているものなどを適宜用いることができる。前記温度範囲で軟化するガラスを用いると、高透磁率の磁性体層と高精度のガラスセグメントとが同時に形成でき、磁性体と非磁性から成る複合体の部品を得ることができる。このとき、磁性体中の磁性粒子は粒子表面の酸化被膜で結合し、ガラスとの界面の磁性粒子表面には酸化被膜が無く、磁性体層とガラスセグメントが形成される。   If the material which comprises the glass segment 30 is Si containing glass, there will be no limitation in particular, Typically, Si type glass or Si-B type glass will be mentioned, Preferably the glass material whose softening temperature is 400-600 degreeC is mentioned. It is done. As such a glass material, what is marketed as glass for glass pastes can be used suitably. When glass that is softened in the above temperature range is used, a magnetic layer having a high magnetic permeability and a high-precision glass segment can be formed at the same time, and a composite part composed of a magnetic material and a non-magnetic material can be obtained. At this time, the magnetic particles in the magnetic material are bonded by an oxide film on the particle surface, and there is no oxide film on the magnetic particle surface at the interface with the glass, so that the magnetic material layer and the glass segment are formed.

以下、本発明に係る積層インダクタ1の典型的かつ非限定的な製造方法を説明する。積層インダクタ1の製造にあたっては、まず、ドクターブレードやダイコータ等の塗工機を用いて、予め用意した磁性体ペースト(スラリー)を、樹脂等からなるベースフィルムの表面に塗工する。これを熱風乾燥機等の乾燥機で乾燥してグリーンシートを得る。上記磁性体ペーストは、軟磁性合金粒子と、典型的には、バインダとしての高分子樹脂と、溶剤とを含む。   Hereinafter, a typical and non-limiting manufacturing method of the multilayer inductor 1 according to the present invention will be described. In manufacturing the multilayer inductor 1, first, a magnetic paste (slurry) prepared in advance is applied to the surface of a base film made of resin or the like using a coating machine such as a doctor blade or a die coater. This is dried with a dryer such as a hot air dryer to obtain a green sheet. The magnetic paste includes soft magnetic alloy particles, typically a polymer resin as a binder, and a solvent.

軟磁性合金粒子は、主として合金からなる軟磁性を呈する粒子である。合金の種類としては、Fe−M−Si系合金(但し、Mは鉄より酸化し易い金属である。)が挙げられる。Mとしては、Cr、Alなどが挙げられ、好ましくはCrである。軟磁性合金粒子としては、例えばアトマイズ法で製造される粒子が挙げられる。   Soft magnetic alloy particles are particles exhibiting soft magnetism mainly composed of an alloy. Examples of the alloy include Fe-M-Si alloys (where M is a metal that is more easily oxidized than iron). Examples of M include Cr and Al, and Cr is preferable. Examples of the soft magnetic alloy particles include particles produced by an atomizing method.

MがCrである場合、つまり、Fe−Cr−Si系合金におけるクロムの含有率は、好ましくは2〜15wt%である。クロムの存在は、熱処理時に不動態を形成して過剰な酸化を抑制するとともに強度および絶縁抵抗を発現する点で好ましく、一方、磁気特性の向上の観点からはクロムが少ないことが好ましく、これらを勘案して上記好適範囲が提案される。   When M is Cr, that is, the chromium content in the Fe—Cr—Si alloy is preferably 2 to 15 wt%. The presence of chromium is preferable in that it forms a passive state during heat treatment to suppress excessive oxidation and develop strength and insulation resistance. On the other hand, from the viewpoint of improving magnetic properties, it is preferable that there is little chromium. The above preferred range is proposed in consideration.

Fe−Cr−Si系軟磁性合金におけるSiの含有率は、好ましくは0.5〜7wt%である。Siの含有量が多ければ高抵抗・高透磁率という点で好ましく、Siの含有量が少なければ成形性が良好であり、これらを勘案して上記好適範囲が提案される。   The Si content in the Fe—Cr—Si based soft magnetic alloy is preferably 0.5 to 7 wt%. A high Si content is preferable in terms of high resistance and high magnetic permeability, and a low Si content provides good moldability, and the above preferable range is proposed in consideration of these.

Fe−Cr−Si系合金において、SiおよびCr以外の残部は不可避不純物を除いて、鉄であることが好ましい。Fe、SiおよびCr以外に含まれていてもよい金属としては、アルミニウム、マグネシウム、カルシウム、チタン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅などが挙げられ、非金属としてはリン、硫黄、カーボンなどが挙げられる。   In the Fe—Cr—Si alloy, the balance other than Si and Cr is preferably iron except for inevitable impurities. Examples of metals that may be contained in addition to Fe, Si, and Cr include aluminum, magnesium, calcium, titanium, manganese, cobalt, nickel, and copper, and examples of nonmetals include phosphorus, sulfur, and carbon. .

積層インダクタ1における各々の軟磁性合金粒子を構成する合金については、例えば、積層インダクタ1の断面を走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて撮影して、その後、エネルギー分散型X線分析(EDS)によるZAF法で化学組成を算出することができる。   For an alloy constituting each soft magnetic alloy particle in the multilayer inductor 1, for example, a cross section of the multilayer inductor 1 is photographed using a scanning electron microscope (SEM), and then energy dispersive X-ray analysis (EDS). The chemical composition can be calculated by the ZAF method.

磁性体部10のための原料として用いる軟磁性合金粒子の粒子径は適宜選択することができ、典型的には、体積基準において、d50が好ましくは2〜30μmであり、より好ましくは2〜20μmである。軟磁性合金粒子のd50は、レーザ回折散乱法を利用した粒子径・粒度分布測定装置(例えば、日機装(株)製のマイクロトラック)を用いて測定される。軟磁性合金粒子を用いる積層インダクタ1においては、原料粒子としての軟磁性合金粒子の粒子サイズは、積層インダクタ10の磁性体部を構成する軟磁性合金粒子の粒子サイズと概ね等しいことが分かっている。   The particle diameter of the soft magnetic alloy particles used as a raw material for the magnetic body portion 10 can be appropriately selected. Typically, d50 is preferably 2 to 30 μm, more preferably 2 to 20 μm on a volume basis. It is. The d50 of the soft magnetic alloy particles is measured using a particle size / particle size distribution measuring device (for example, Microtrack manufactured by Nikkiso Co., Ltd.) using a laser diffraction scattering method. In the multilayer inductor 1 using soft magnetic alloy particles, it is known that the particle size of the soft magnetic alloy particles as the raw material particles is approximately equal to the particle size of the soft magnetic alloy particles constituting the magnetic part of the multilayer inductor 10. .

上述の磁性体ペーストには、好適にはバインダとしての高分子樹脂が含まれる。高分子樹脂の種類は特に限定はなく、例えば、ポリビニルブチラール(PVB)等のポリビニルアセタール樹脂などが挙げられる。磁性体ペーストの溶剤の種類は特に限定はなく、例えば、ブチルカルビトール等のグリコールエーテルなどを用いることができる。磁性体ペーストにおける軟磁性合金粒子、高分子樹脂、溶剤などの配合比率などは適宜調節することができ、それによって、磁性体ペーストの粘度などを設定することも可能である。   The above-mentioned magnetic paste preferably contains a polymer resin as a binder. The type of the polymer resin is not particularly limited, and examples thereof include polyvinyl acetal resins such as polyvinyl butyral (PVB). The type of solvent for the magnetic paste is not particularly limited, and for example, glycol ethers such as butyl carbitol can be used. The blending ratio of soft magnetic alloy particles, polymer resin, solvent and the like in the magnetic paste can be adjusted as appropriate, and the viscosity of the magnetic paste can be set accordingly.

磁性体ペーストを塗工および乾燥してグリーンシートを得るための具体的な方法は従来技術を適宜援用することができる。   Conventional techniques can be used as appropriate for a specific method for obtaining a green sheet by applying and drying the magnetic paste.

次いで、打ち抜き加工機やレーザ加工機等の穿孔機を用いて、グリーンシートに穿孔を行ってスルーホール(貫通孔)を所定配列で形成する。スルーホールの配列については、各シートを積層したときに、導体を充填したスルーホール(即ち、中継セグメント)とコイルセグメントとで内部導体20が形成されるように設定される。内部導体を形成するためのスルーホールの配列およびコイルセグメント形成のための導体パターンの形状については、従来技術を適宜援用することができ、また、後述の実施例において図面を参照しながら具体例が説明される。   Next, using a punching machine such as a punching machine or a laser processing machine, the green sheet is punched to form through holes (through holes) in a predetermined arrangement. The arrangement of the through holes is set so that when the sheets are laminated, the internal conductor 20 is formed by the through holes (that is, the relay segments) filled with the conductors and the coil segments. As for the arrangement of the through holes for forming the inner conductor and the shape of the conductor pattern for forming the coil segment, conventional techniques can be used as appropriate, and specific examples are described with reference to the drawings in the following embodiments. Explained.

スルーホールに充填するため、および、導体パターンの印刷のために、好ましくは導体ペーストが使用される。導体ペーストには導電性材料と、典型的にはバインダとしての高分子樹脂と溶剤とが含まれる。   A conductor paste is preferably used for filling the through holes and for printing the conductor pattern. The conductive paste contains a conductive material, typically a polymer resin as a binder, and a solvent.

導体粒子としての導電性材料の粒子径は適宜選択することができ、体積基準において、d50が好ましくは1〜10μmである。導体粒子のd50は、レーザ回折散乱法を利用した粒子径・粒度分布測定装置(例えば、日機装(株)製のマイクロトラック)を用いて測定される。   The particle diameter of the conductive material as the conductor particles can be appropriately selected, and d50 is preferably 1 to 10 μm on a volume basis. The d50 of the conductor particles is measured using a particle size / particle size distribution measuring apparatus (for example, Microtrack manufactured by Nikkiso Co., Ltd.) using a laser diffraction scattering method.

導体ペーストには、好適にはバインダとしての高分子樹脂が含まれる。高分子樹脂の種類は特に限定はなく、例えば、ポリビニルブチラール(PVB)等のポリビニルアセタール樹脂などが挙げられる。導体ペーストの溶剤の種類は特に限定はなく、例えば、ブチルカルビトール等のグリコールエーテルなどを用いることができる。導体ペーストにおける導電性材料、高分子樹脂、溶剤などの配合比率などは適宜調節することができ、それによって、導体ペーストの粘度などを設定することも可能である。   The conductive paste preferably contains a polymer resin as a binder. The type of the polymer resin is not particularly limited, and examples thereof include polyvinyl acetal resins such as polyvinyl butyral (PVB). The kind of the solvent of the conductor paste is not particularly limited, and for example, glycol ether such as butyl carbitol can be used. The blending ratio of the conductive material, polymer resin, solvent and the like in the conductor paste can be adjusted as appropriate, and the viscosity of the conductor paste can be set accordingly.

次いで、スクリーン印刷機やグラビア印刷機等の印刷機を用いて、導体ペーストをグリーンシートの表面に印刷し、これを熱風乾燥機等の乾燥機で乾燥して、コイルセグメントに対応する導体パターンを形成する。印刷の際に、上述のスルーホールにも導体ペーストの一部が充填される。その結果、スルーホールに充填された導体ペーストと、印刷された導体パターンとが内部導体20の形状を構成することになる。   Next, using a printing machine such as a screen printing machine or a gravure printing machine, the conductor paste is printed on the surface of the green sheet, and this is dried with a dryer such as a hot air dryer to form a conductor pattern corresponding to the coil segment. Form. During printing, a part of the conductor paste is also filled in the above-described through hole. As a result, the conductor paste filled in the through hole and the printed conductor pattern constitute the shape of the internal conductor 20.

上述のように導体ペーストを印刷するグリーンシートを第1のグリーンシートともよぶ。本発明の製造方法の一形態では、第1のグリーンシートと同材料または異なる磁性材料を含む第2のグリーンシートを上述のように調製し、第2のグリーンシートにSi含有ガラスを含むガラスペーストでガラスパターンを形成し、適宜積層・圧着して積層体(加熱処理前チップ)を製造することができる。ガラスパターンの形成においては、市販のガラスペーストを印刷するなど、従来技術を適宜援用することができる。ガラスパターンは、好ましくは、上述の導体パターンと略同一の形状またはその形状を包含する形状に形成する。ただし、第1のグリーンシートにおけるスルーホールに対応する位置にはガラスパターンを設ける必要はない。当該位置には中継セグメントが形成されるからである。   The green sheet on which the conductor paste is printed as described above is also referred to as the first green sheet. In one form of the manufacturing method of the present invention, a second green sheet containing the same material as or a different magnetic material from the first green sheet is prepared as described above, and a glass paste containing Si-containing glass in the second green sheet A glass pattern can be formed, and a laminated body (chip before heat treatment) can be manufactured by appropriately laminating and pressing. In the formation of the glass pattern, a conventional technique such as printing a commercially available glass paste can be appropriately used. The glass pattern is preferably formed in a shape substantially identical to or including the shape of the above-described conductor pattern. However, it is not necessary to provide a glass pattern at a position corresponding to the through hole in the first green sheet. This is because a relay segment is formed at the position.

導体パターンとガラスパターンとを別々のグリーンシートに印刷してから積層する上述の製法ではなく、グリーンシートにまずガラスパターンを形成してその上にさらに導体パターンを印刷する製法を採用することもできる。このように、本発明の製造方法によれば、一つのグリーンシート上には導体パターンおよびガラスパターンのどちらか一方または両方を形成してもよく、結果的に、積層時に導体パターンとガラスパターンとが向きあえばよい。また、スルーホールの形成はガラスパターン形成の前であってもよいし、後であってもよい。グリーンシートにまずガラスパターンを形成してその上にさらに導体パターンを印刷する製法の詳細は実施例の記載を参照されたい。   Instead of the above-described manufacturing method in which the conductor pattern and the glass pattern are printed on separate green sheets and then laminated, it is also possible to adopt a manufacturing method in which a glass pattern is first formed on a green sheet and further a conductor pattern is printed thereon. . As described above, according to the manufacturing method of the present invention, one or both of the conductor pattern and the glass pattern may be formed on one green sheet. As a result, the conductor pattern and the glass pattern are laminated at the time of lamination. Should just face. The through hole may be formed before or after the glass pattern is formed. For the details of the production method in which a glass pattern is first formed on a green sheet and further a conductor pattern is printed thereon, refer to the description of the examples.

焼成炉等の加熱装置を用いて、大気等の酸化性雰囲気中で、加熱処理前チップを加熱処理する。熱処理雰囲気は、酸化雰囲気であれば特に限定されず、生産面から考慮すると大気あるいは乾燥空気が望ましい。昇温過程において好ましくは300〜600℃にて、1〜600分間保持し、その後、さらに温度を上げる。最高温度は、好ましくは600℃以上であり、より好ましくは600〜950℃であり、最高温度において好ましくは、より詳細には0.5〜3時間保持することが望ましい。   Using a heating device such as a firing furnace, the chips before heat treatment are heat-treated in an oxidizing atmosphere such as air. The heat treatment atmosphere is not particularly limited as long as it is an oxidizing atmosphere, and air or dry air is desirable in consideration of production. In the temperature raising process, the temperature is preferably maintained at 300 to 600 ° C. for 1 to 600 minutes, and then the temperature is further raised. The maximum temperature is preferably 600 ° C. or higher, more preferably 600 to 950 ° C., and the maximum temperature is preferably maintained for 0.5 to 3 hours.

加熱処理前チップにあっては、個々の軟磁性合金粒子どうしの間に、多数の微細間隙が存在し、通常、該微細間隙は溶剤とバインダとの混合物で満たされている。これら混合物は昇温過程に消失し、該微細間隙はポアに変わる。上記最高温度に近い高温域では、軟磁性合金粒子が密集して磁性体部ができ、典型的には、その際に、軟磁性合金粒子それぞれの表面に酸化被膜が形成される。このとき、導電性材料が焼結して内部導体20が形成される。これにより積層インダクタ1が得られる。   In the chip before heat treatment, there are many fine gaps between individual soft magnetic alloy particles, and the fine gaps are usually filled with a mixture of a solvent and a binder. These mixtures disappear during the heating process, and the fine gaps turn into pores. In the high temperature range close to the maximum temperature, the soft magnetic alloy particles are densely formed to form a magnetic part, and typically, an oxide film is formed on the surface of each soft magnetic alloy particle. At this time, the conductive material is sintered to form the inner conductor 20. Thereby, the multilayer inductor 1 is obtained.

また、この加熱時にガラスパターンのガラス材料が軟化して冷却後にガラスセグメントを構成する。このとき、ガラスの軟化点が400〜600℃程度であると、加熱時に、ガラスの軟化が始まってから、上述した軟磁性合金粒子の酸化被膜が生成するため、ガラスとの界面の軟磁性合金粒子の表面には酸化膜が形成されず、磁性体層へガラス材料が濡れ広がることなくガラスセグメントが形成される。ガラス材料の軟化が始まってから軟磁性合金粒子の酸化被膜を形成させるためには、熱処理時の昇温速度を緩やかにしたり、ガラス軟化温度より低い温度で保持したりすることが好ましい。   Moreover, the glass material of a glass pattern softens at the time of this heating, and comprises a glass segment after cooling. At this time, if the softening point of the glass is about 400 to 600 ° C., the soft magnetic alloy at the interface with the glass is formed because the above-described oxide film of the soft magnetic alloy particles is formed after the softening of the glass starts during heating. An oxide film is not formed on the surface of the particle, and a glass segment is formed without the glass material being wet spread on the magnetic layer. In order to form the oxide film of the soft magnetic alloy particles after the softening of the glass material is started, it is preferable that the temperature increase rate during the heat treatment is made slow or kept at a temperature lower than the glass softening temperature.

通常は、加熱処理の後に外部端子を形成する。ディップ塗布機やローラ塗布機等の塗布機を用いて、予め用意した導体ペーストを積層インダクタ1の長さ方向両端部に塗布し、これを焼成炉等の加熱装置を用いて、例えば、約600℃、約1hrの条件で焼付け処理を行うことにより、外部端子が形成される。外部端子用の導体ペーストは、上述した導体パターンの印刷用のペーストや、それに類似したペーストを適宜用いることができる。   Usually, external terminals are formed after the heat treatment. Using a coating machine such as a dip coating machine or a roller coating machine, a conductor paste prepared in advance is applied to both ends in the length direction of the multilayer inductor 1, and this is applied using a heating device such as a firing furnace, for example, about 600. An external terminal is formed by performing a baking process at a temperature of about 1 hr. As the conductor paste for the external terminals, the above-described paste for printing a conductor pattern or a paste similar thereto can be used as appropriate.

本発明では、いわゆるスラリービルド法で積層型電子部品を製造してもよい。スラリービルド法の典型例は、例えば、特許文献2に開示された方法である。非限定的な例として、磁性体ペーストをスクリーン印刷等により印刷して磁性体印刷膜を形成し、その上に導体ペーストをスクリーン印刷して、コイルセグメントに対応する導体パターンを形成する。このとき、ガラスペーストをさらに調製しておき、導体パターンの形成の前又は後に導体パターンと同一又は類似形状のガラスパターンを形成することによりガラスセグメントの前駆体を一挙に形成することができる。これら上に磁性体ペーストをスクリーン印刷し導体パターンの一部を露出させて塗布する。同様にして、前記一部露出パターンに連続させて導体パターン及びガラスパターンと磁性体印刷膜とを交互に形成し、最後に磁性体印刷膜を塗布して加熱処理前チップを得る。得られた加熱処理前チップについて、その後の加熱その他の処理については上述の方法を援用することができる。   In the present invention, a multilayer electronic component may be manufactured by a so-called slurry build method. A typical example of the slurry build method is the method disclosed in Patent Document 2, for example. As a non-limiting example, a magnetic paste is printed by screen printing or the like to form a magnetic printed film, and a conductor paste is screen printed thereon to form a conductor pattern corresponding to the coil segment. At this time, a glass paste precursor can be further prepared, and a glass segment precursor can be formed all at once by forming a glass pattern having the same or similar shape as the conductor pattern before or after the formation of the conductor pattern. A magnetic paste is screen-printed on these so that a part of the conductor pattern is exposed and applied. Similarly, the conductor pattern and the glass pattern and the magnetic material printed film are alternately formed continuously with the partially exposed pattern, and finally the magnetic material printed film is applied to obtain a pre-heat treatment chip. About the obtained chip | tip before heat processing, the above-mentioned method can be used about subsequent heating and other processes.

以下、実施例により本発明をより具体的に説明する。ただし、本発明はこれらの実施例に記載された態様に限定されるわけではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the embodiments described in these examples.

[積層インダクタの具体構造]
本実施例で製造した積層インダクタ1の具体構造例を説明する。部品としての積層インダクタ1は長さが約2.5mmで、幅が約2.0mmで、高さが約1.0mmで、全体が直方体形状を成している。
[Concrete structure of multilayer inductor]
A specific structural example of the multilayer inductor 1 manufactured in this embodiment will be described. The multilayer inductor 1 as a part has a length of about 2.5 mm, a width of about 2.0 mm, a height of about 1.0 mm, and the whole has a rectangular parallelepiped shape.

図2は積層インダクタの模式的な分解図である。内部導体が形成されている領域の磁性体部は、計5層の磁性体層ML1〜ML5が一体化した構造を有する。内部導体が形成される領域を挟むように上部カバー領域および下部カバー領域が存在し、上部カバー領域は8層の磁性体層ML6が一体化した構造を有する。下部カバー領域は7層の磁性体層ML6が一体化した構造を有する。積層インダクタ1の長さは約2.5mm、幅は約2.0mm、高さは約1.0mmである。各磁性体層ML1〜ML6の長さは約2.5mmで、幅は約2.0mmで、厚さは約40μmである。各磁性体層ML1〜ML6は、軟磁性合金粒子である表1記載の組成、平均粒子径(d50)をもつ軟磁性合金粒子を主体として成形されてなり、ガラス成分を含んでいない。また、軟磁性合金粒子それぞれの表面には酸化被膜(図示せず)が存在し、磁性体部ならびに上部及び下部カバー領域内の軟磁性合金粒子は隣接する合金粒子それぞれが有する酸化被膜を介して相互結合していることを、本発明者らはSEM観察(3000倍)によって確認した。   FIG. 2 is a schematic exploded view of the multilayer inductor. The magnetic part in the region where the inner conductor is formed has a structure in which a total of five magnetic layers ML1 to ML5 are integrated. An upper cover region and a lower cover region exist so as to sandwich the region where the inner conductor is formed, and the upper cover region has a structure in which eight magnetic layers ML6 are integrated. The lower cover region has a structure in which seven magnetic layers ML6 are integrated. The length of the multilayer inductor 1 is about 2.5 mm, the width is about 2.0 mm, and the height is about 1.0 mm. Each of the magnetic layers ML1 to ML6 has a length of about 2.5 mm, a width of about 2.0 mm, and a thickness of about 40 μm. Each of the magnetic layers ML1 to ML6 is mainly composed of soft magnetic alloy particles having the composition and average particle diameter (d50) shown in Table 1 which are soft magnetic alloy particles, and does not contain a glass component. In addition, an oxide film (not shown) exists on the surface of each soft magnetic alloy particle, and the soft magnetic alloy particles in the magnetic body part and the upper and lower cover regions pass through the oxide film of each adjacent alloy particle. The present inventors confirmed that they were mutually bonded by SEM observation (3000 times).

内部導体20は、計5個のコイルセグメントCS1〜CS5と、該コイルセグメントCS1〜CS5を接続する計4個の中継セグメントIS1〜IS4とが、螺旋状に一体化したコイルの構造を有する。この内部導体20は、銀粒子を熱処理して得られ、原料として用いた銀粒子の体積基準のd50は5μmである。   The internal conductor 20 has a coil structure in which a total of five coil segments CS1 to CS5 and a total of four relay segments IS1 to IS4 connecting the coil segments CS1 to CS5 are spirally integrated. The inner conductor 20 is obtained by heat-treating silver particles, and the volume-based d50 of the silver particles used as a raw material is 5 μm.

4個のコイルセグメントCS1〜CS4はコ字状を成し、1個のコイルセグメントCS5は帯状を成しており、各コイルセグメントCS1〜CS5の厚さは約20μmで、幅は約0.2mmである。最上位のコイルセグメントCS1は、外部端子との接続に利用されるL字状の引出部分LS1を連続して有し、最下位のコイルセグメントCS5は、外部端子との接続に利用されるL字状の引出部分LS2を連続して有している。各中継セグメントIS1〜IS4は磁性体層ML1〜ML4を貫通した柱状を成しており、各々の口径は約150μmである。   The four coil segments CS1 to CS4 have a U shape, and the one coil segment CS5 has a strip shape. Each coil segment CS1 to CS5 has a thickness of about 20 μm and a width of about 0.2 mm. It is. The uppermost coil segment CS1 has a continuous L-shaped lead portion LS1 used for connection with an external terminal, and the lowermost coil segment CS5 is L-shaped used for connection with an external terminal. The lead-out portion LS2 is continuously formed. Each relay segment IS1 to IS4 has a columnar shape penetrating the magnetic layers ML1 to ML4, and each aperture is about 150 μm.

各外部端子(図示せず)は、積層インダクタ1の長さ方向の各端面と該端面近傍の4側面に及んでおり、その厚さは約20μmである。一方の外部端子は最上位のコイルセグメントCS1の引出部分LS1の端縁と接続し、他方の外部端子は最下位のコイルセグメントCS5の引出部分LS2の端縁と接続している。これら外部端子は、主として体積基準のd50が5μmである銀粒子を熱処理して得た。   Each external terminal (not shown) extends to each end face in the length direction of the multilayer inductor 1 and four side faces in the vicinity of the end face, and has a thickness of about 20 μm. One external terminal is connected to the edge of the lead portion LS1 of the uppermost coil segment CS1, and the other external terminal is connected to the edge of the lead portion LS2 of the lowermost coil segment CS5. These external terminals were obtained mainly by heat-treating silver particles having a volume-based d50 of 5 μm.

[積層インダクタの製造]
アトマイズ法で製造されたCr4.5wt%、Si3.5wt%、残部Feの組成をもち、平均粒径d50が6μmである市販の合金粉末、または、アトマイズ法で製造されたAl5.0wt%、Si3.0wt%、残部Feの組成をもち、平均粒径d50が6μmである市販の合金粉末を軟磁性合金粒子として用いた。この軟磁性合金粒子85wt%、ブチルカルビトール(溶剤)が13wt%、ポリビニルブチラール(バインダ)2wt%からなる磁性体ペーストを調製した。ドクターブレードを用いて、この磁性体ペーストをプラスチック製のベースフィルムの表面に塗工し、これを熱風乾燥機で、約80℃、約5minの条件で乾燥した。このようにしてベースフィルム上にグリーンシートを得た。その後、グリーンシートをカットして、磁性体層ML1〜ML6(図2を参照)に対応し、且つ、多数個取りに適合したサイズの第1〜第6シートをそれぞれ得た。
[Manufacture of multilayer inductors]
A commercially available alloy powder having a composition of Cr 4.5 wt%, Si 3.5 wt% and the balance Fe manufactured by the atomizing method and having an average particle diameter d50 of 6 μm, or Al 5.0 wt% manufactured by the atomizing method and Si 3 Commercially available alloy powder having a composition of 0.0 wt% and the balance Fe and having an average particle diameter d50 of 6 μm was used as soft magnetic alloy particles. A magnetic paste composed of 85 wt% of the soft magnetic alloy particles, 13 wt% of butyl carbitol (solvent), and 2 wt% of polyvinyl butyral (binder) was prepared. Using a doctor blade, this magnetic paste was applied to the surface of a plastic base film, and this was dried with a hot air dryer at about 80 ° C. for about 5 minutes. In this way, a green sheet was obtained on the base film. Thereafter, the green sheet was cut to obtain first to sixth sheets corresponding to the magnetic layers ML1 to ML6 (see FIG. 2) and having a size suitable for multi-cavity.

ガラスセグメント用のガラス材料として、表1記載の軟化温度をもつSi系ガラスを用いた。このガラス材料とブチルカルビトールとポリビニルブチラールとを含むガラスペーストを調製した。上述の第1〜第5シートにガラスセグメントに相当するパターンでガラスペーストを印刷してガラスパターンを形成した。このとき、パターンの幅(パターンの面積)を調節した。後述する導体ペーストの印刷層の幅を100%として規格化して、ガラスペーストの印刷幅を表1に記載する。続いて、穿孔機を用いて、磁性体層ML1に対応する第1シート(ガラスパターン形成後のもの)に穿孔を行い、中継セグメントIS1に対応する貫通孔を所定配列で形成した。同様に、磁性体層ML2〜ML4に対応する第2〜第4シートそれぞれに、中継セグメントIS2〜IS4に対応する貫通孔を所定配列で形成した。   As the glass material for the glass segment, Si glass having a softening temperature shown in Table 1 was used. A glass paste containing this glass material, butyl carbitol and polyvinyl butyral was prepared. A glass pattern was formed by printing a glass paste on the first to fifth sheets described above in a pattern corresponding to a glass segment. At this time, the pattern width (pattern area) was adjusted. The width of the printed layer of the conductor paste described later is normalized as 100%, and the printed width of the glass paste is shown in Table 1. Subsequently, using a punch, the first sheet (after the glass pattern was formed) corresponding to the magnetic layer ML1 was punched to form through holes corresponding to the relay segment IS1 in a predetermined arrangement. Similarly, through holes corresponding to the relay segments IS2 to IS4 were formed in a predetermined arrangement in the second to fourth sheets corresponding to the magnetic layers ML2 to ML4, respectively.

続いて、印刷機を用いて、上記Ag粒子が85wt%で、ブチルカルビトール(溶剤)が13wt%で、ポリビニルブチラール(バインダ)が2wt%からなる導体ペーストを上記第1シートの表面(ガラスパターンの上)に印刷し、これを熱風乾燥機で、約80℃、約5minの条件で乾燥して、コイルセグメントCS1に対応する第1印刷層を所定配列で作製した。同様に、上記第2〜第5シートそれぞれの表面に、コイルセグメントCS2〜CS5に対応する第2〜第5印刷層を所定配列で作製した。   Subsequently, using a printing machine, a conductive paste composed of 85 wt% of the Ag particles, 13 wt% of butyl carbitol (solvent), and 2 wt% of polyvinyl butyral (binder) was applied to the surface of the first sheet (glass pattern). The first printed layer corresponding to the coil segment CS1 was produced in a predetermined arrangement by drying with a hot air dryer under conditions of about 80 ° C. and about 5 minutes. Similarly, the 2nd-5th printing layer corresponding to coil segment CS2-CS5 was produced by the predetermined arrangement | sequence on each surface of the said 2nd-5th sheet | seat.

第1〜第4シートそれぞれに形成した貫通孔は、第1〜第4印刷層それぞれの端部に重なる位置に存するため、第1〜第4印刷層を印刷する際に導体ペーストの一部が各貫通孔に充填されて、中継セグメントIS1〜IS4に対応する第1〜第4充填部が形成される。   Since the through-hole formed in each of the first to fourth sheets exists at a position overlapping the end of each of the first to fourth printed layers, a part of the conductor paste is formed when printing the first to fourth printed layers. Filling each through-hole, the first to fourth filling portions corresponding to the relay segments IS1 to IS4 are formed.

続いて、吸着搬送機とプレス機を用いて、印刷層及び充填部が設けられたシートと向かい合わせた第1〜第4シートと、印刷層のみが設けられた第5シートと、印刷層及び充填部が設けられていない第6シートとを、図2に示した順序で積み重ねて熱圧着して積層体を作製した。この積層体を切断機で部品本体サイズに切断して、加熱処理前チップを得た。   Subsequently, using an adsorption transporter and a press, the first to fourth sheets facing the sheet provided with the print layer and the filling unit, the fifth sheet provided with only the print layer, the print layer, and The 6th sheet | seat with which the filling part was not provided was piled up in the order shown in FIG. 2, and was thermocompression-bonded, and the laminated body was produced. This laminated body was cut into a component body size with a cutting machine to obtain a chip before heat treatment.

続いて、焼成炉を用いて、大気中雰囲気で、加熱処理前チップを多数個一括で加熱処理した。まず、脱バインダプロセスとして約300℃、約1hrの条件で加熱し、次いで、表1記載の加熱温度で1時間保持することにより、軟磁性合金粒子が密集して磁性体部10が形成し、また、銀粒子が焼結して内部導体20が形成されるとともに、ガラスセグメントが形成され、これにより部品本体を得た。   Subsequently, a large number of chips before heat treatment were heat-treated in a lump in an air atmosphere using a firing furnace. First, as a binder removal process, heating is performed under conditions of about 300 ° C. and about 1 hr, and then held at the heating temperature shown in Table 1 for 1 hour, so that soft magnetic alloy particles are densely formed and the magnetic body portion 10 is formed. In addition, the silver particles were sintered to form the internal conductor 20, and the glass segment was formed, thereby obtaining the component main body.

続いて、外部端子を形成した。上記銀粒子を85wt%、ブチルカルビトール(溶剤)を13wt%で、ポリビニルブチラール(バインダ)を2wt%含有する導体ペーストを塗布機で、部品本体の長さ方向両端部に塗布し、これを焼成炉で、約600℃、約1hrの条件で焼付け処理を行った。その結果、溶剤及びバインダが消失し、銀粒子が焼結して、外部端子が形成され、積層インダクタ1を得た。   Subsequently, external terminals were formed. A conductive paste containing 85 wt% of the above silver particles, 13 wt% of butyl carbitol (solvent) and 2 wt% of polyvinyl butyral (binder) is applied to both ends in the longitudinal direction of the component body, and this is fired Baking treatment was performed in a furnace under conditions of about 600 ° C. and about 1 hr. As a result, the solvent and the binder disappeared, the silver particles were sintered, the external terminals were formed, and the multilayer inductor 1 was obtained.

[積層インダクタの評価]
全ての実施例及び比較例の積層インダクタの断面を研磨し、電子顕微鏡により酸化被膜の有無を観察した。EDS(×1000倍)で観察したところ、全ての実施例及び比較例について、軟磁性合金粒子の表面に厚み100nm以上の酸化被膜の存在を確認した。また、同じ観察において、全ての実施例及び比較例2〜4について、ガラスセグメントと磁性体層との界面では厚み100nm以上の酸化被膜が無いことを確認した。
[Evaluation of multilayer inductor]
The cross sections of the multilayer inductors of all Examples and Comparative Examples were polished, and the presence or absence of an oxide film was observed with an electron microscope. When observed by EDS (x1000 times), the presence of an oxide film having a thickness of 100 nm or more was confirmed on the surface of the soft magnetic alloy particles in all Examples and Comparative Examples. In the same observation, it was confirmed that there was no oxide film having a thickness of 100 nm or more at the interface between the glass segment and the magnetic layer in all Examples and Comparative Examples 2 to 4.

全ての実施例及び比較例の積層インダクタについて、以下の測定を行った。
コイル設計は220[nH]であり、測定はLCRメータを使用し、各実施例・比較例につき、10個測定して平均値を求めた。
・インダクタンス:1MHzの周波数でのインダクタンス値
・周波数特性:インダクタンス値が共振によりゼロとなる周波数
・Q特性:5MHzの周波数でのQ値
The following measurements were performed on the multilayer inductors of all Examples and Comparative Examples.
The coil design was 220 [nH], and an LCR meter was used for measurement, and 10 samples were measured for each of the examples and comparative examples to obtain an average value.
・ Inductance: Inductance value at a frequency of 1 MHz ・ Frequency characteristics: Frequency at which the inductance value becomes zero due to resonance ・ Q characteristics: Q value at a frequency of 5 MHz

製造条件および測定結果を表1にまとめる。

Figure 0005940465
The manufacturing conditions and measurement results are summarized in Table 1.
Figure 0005940465

1 積層インダクタ、10 磁性体層、11 軟磁性合金粒子、12 酸化被膜、20 内部導体、30 ガラスセグメント、ML1〜ML6 磁性体層、CS1〜CS5 コイルセグメント、IS1〜IS4 中継セグメント 1 multilayer inductor, 10 magnetic layer, 11 soft magnetic alloy particles, 12 oxide film, 20 inner conductor, 30 glass segment, ML1-ML6 magnetic layer, CS1-CS5 coil segment, IS1-IS4 relay segment

Claims (8)

軟磁性合金粒子で形成された複数の磁性体層と、周回構造の一部をなす導電性材料からなる複数のコイルセグメントと、導電性材料からなる中継セグメントと、Si含有ガラスからなるガラスセグメントとを有し、前記磁性体層と前記コイルセグメントとは交互に積層された積層構造を構成し、前記複数のコイルセグメントは前記中継セグメントによって電気的に一体化した内部導体を構成するよう接続され、磁性体層を挟んで隣接する2つのコイルセグメントの間であって前記隣接する2つのコイルセグメントの一方に接するように前記ガラスセグメントが存在し、軟磁性合金粒子のうちガラスセグメントに接していない部分には酸化被膜が生成していて、ガラスセグメントに接する部分には酸化被膜が生成していない、積層型電子部品。   A plurality of magnetic layers made of soft magnetic alloy particles, a plurality of coil segments made of a conductive material forming a part of a circular structure, a relay segment made of a conductive material, and a glass segment made of Si-containing glass The magnetic material layer and the coil segment constitute a laminated structure alternately laminated, and the plurality of coil segments are connected to constitute an internal conductor electrically integrated by the relay segment, The portion of the soft magnetic alloy particles that is between two adjacent coil segments across the magnetic layer so as to be in contact with one of the two adjacent coil segments and is not in contact with the glass segment. Is a multilayer electronic component in which an oxide film is formed and no oxide film is formed on the portion in contact with the glass segment. 前記複数のコイルセグメントの幅が略一定であり、前記複数のコイルセグメントがなす周回構造は略同一であり、前記ガラスセグメントは前記コイルセグメントよりも幅広であってかつ隣接する前記コイルセグメントの間に存在する、請求項1記載の積層型電子部品。   The widths of the plurality of coil segments are substantially constant, the circular structures formed by the plurality of coil segments are substantially the same, and the glass segments are wider than the coil segments and are between the adjacent coil segments. The multilayer electronic component according to claim 1, which is present. 前記Si含有ガラスの軟化温度が400〜600℃である請求項1又は2記載の積層型電子部品。   The multilayer electronic component according to claim 1 or 2, wherein the softening temperature of the Si-containing glass is 400 to 600 ° C. 前記Si含有ガラスがSi系ガラスまたはSi−B系ガラスである請求項1〜3のいずれか1項に記載の積層型電子部品。   The laminated electronic component according to any one of claims 1 to 3, wherein the Si-containing glass is Si-based glass or Si-B-based glass. 前記軟磁性合金粒子がFe−Si−M系軟磁性合金(但し、MはFeより酸化し易い金属元素である。)である請求項1〜4のいずれか1項に記載の積層型電子部品。   The multilayer electronic component according to any one of claims 1 to 4, wherein the soft magnetic alloy particles are Fe-Si-M soft magnetic alloy (where M is a metal element that is more easily oxidized than Fe). . 前記MがAlまたはCrである請求項5記載の積層型電子部品。   The multilayer electronic component according to claim 5, wherein M is Al or Cr. 軟磁性合金粒子を含む複数のグリーンシートにそれぞれ導体パターン及び/又はガラスパターンを形成する工程と、
前記各パターンが形成されたグリーンシートを隣接する2つの導体パターン間であって前記隣接する2つの導体パターンの一方に接するようにガラスパターンが配置されるように積層して加熱処理前チップを得る工程と、
得られた加熱処理前チップを加熱する工程と、
を有し、
前記導体パターンは導電性材料を含む導体ペーストを周回構造の一部をなすように印刷することで形成され、
前記ガラスパターンはSi含有ガラスを含むガラスペーストを印刷することで形成され、
前記加熱する工程において、前記導電性材料および前記Si含有ガラスがそれぞれ焼結して導体パターンおよびガラスパターンからそれぞれコイルセグメントおよびガラスパターンが得られ、軟磁性合金粒子のうちガラスセグメントに接していない部分には酸化被膜が生成し、ガラスセグメントに接する部分には酸化被膜が生成しない、
積層型電子部品の製造方法。
Forming a conductor pattern and / or a glass pattern on each of a plurality of green sheets containing soft magnetic alloy particles;
The green sheets on which the respective patterns are formed are stacked so that a glass pattern is arranged between two adjacent conductor patterns and in contact with one of the two adjacent conductor patterns, thereby obtaining a chip before heat treatment. Process,
A step of heating the obtained pre-heat-treatment chip;
Have
The conductor pattern is formed by printing a conductive paste containing a conductive material so as to form a part of the surrounding structure,
The glass pattern is formed by printing a glass paste containing Si-containing glass,
In the heating step, the conductive material and the Si-containing glass are respectively sintered to obtain a coil segment and a glass pattern from the conductor pattern and the glass pattern, respectively, and portions of the soft magnetic alloy particles that are not in contact with the glass segment Oxide film is formed on the part, and no oxide film is formed on the part in contact with the glass segment.
A method of manufacturing a multilayer electronic component.
前記加熱処理前チップを加熱する工程が600〜950℃での熱処理で行われる請求項7項に記載の製造方法 The manufacturing method according to claim 7, wherein the step of heating the pre-heat treatment chip is performed by heat treatment at 600 to 950 ° C.
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