JP5919138B2 - Pt担持マイクロチューブとその製造方法 - Google Patents
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Description
しかしながら、このような特許文献1および2に開示される、特殊な担体により構成される貴金属担持触媒体は、所望の貴金属触媒コロイド等を含む溶液を含浸させるなどして担持させている。
かかる構成によるマイクロチューブは、中空形状であることに加え、セラミック粒子が結合することでマイクロチューブを構成しているため、比表面積が極めて大きい。したがって、単位体積あたりに多量のPt粒子を担持することができ、触媒能の高い触媒を実現することができる。
上記のPt粒子は、本質的にはナノメートルサイズ(典型的には、1nm〜100nmの範囲)の粒径を有するナノ粒子であり得る。そして、かかる構成において、Pt粒子(以下、「Ptナノ粒子」と表現する場合もある。)の平均粒径は15nm以下であることが好ましく、典型的には、10nm以下、さらに好ましくは5nm以下であり得る。したがって、高価なPtの使用量を減らしつつ、触媒活性表面を大きく確保することができ、低コストで触媒能の高いPt担持マイクロチューブを実現することができる。
セラミック粒子が粗大になると、マイクロチューブの比表面積が減少してしまうために好ましくない。また、粒子同士の接合面積も相対的に減少し、マイクロチューブの強度が低減し得る。かかるセラミック粒子の平均粒径は、200nm以下であることが好ましく、典型的には100nm以下、より好ましくは75nm以下である。
かかる構成によると、マイクロチューブの外壁と内壁の両方がPt粒子の担持表面となり、より多くのPt粒子の担持が可能とされる。
かかる構成によると、Pt粒子はナノ粒子でありながらも、担体であるマイクロチューブの比表面積が大きいことから、1質量%以上40質量%の範囲で所望の量だけ担持することができ、例えば40質量%と多量に担持され得る。これにより、より触媒能の高いPt担持マイクロチューブが実現される。
マイクロチューブにおける平均外径は、200nm以上700nm以下程度の範囲で調製することができ、また、マイクロチューブの平均内径は40nm以上600nm程度の範囲で調製することができる。これにより、例えば、かかるPt担持マイクロチューブをPEMFCの電極用触媒として用いた時の、燃料や空気等の気体と、電解質と、触媒との三相界面の形態を制御することが可能とされる。
マイクロチューブは、セラミック粒子が結合することで構成されているが、セラミック粒子の間隔が疎である部分等においてチューブ壁に細孔が形成され、全体としては多孔質構造となり得る。かかる細孔は、1nmから数十nmの大きさの孔(メソポア)を含むため、担体の比表面積を極端に大きくすることができる。このように、マイクロチューブがメソポアを含む多孔質構造であることにより、担体の比表面積がさらに大幅に増大し、より多くのPt粒子を担持することが可能となる。またこの細孔を通じてマイクロチューブの内側と外側とをつなぐ通路が形成されることとなり、マイクロチューブの内壁に担持されるPt粒子と気体等との接触効率が高められる。
また、セラミック粒子とPtナノ粒子とは、その割合を紡糸原料液の調製段階で制御することができるため、Ptナノ粒子の担持量を比較的正確に制御することが可能となる。
さらに、セラミック原料とPt原料とは、紡糸原料液を調整する段階で均一な系を形成しているため、得られるPt担持マイクロチューブにおいて、Ptナノ粒子をセラミック粒子の表面に均一に分散した状態で担持させることができる。
また、Pt担持マイクロチューブの形態は、紡糸により形成される前駆体の形態に由来するため、紡糸の態様によって所望のチューブ形状を実現することができ、またマイクロチューブの集合形態を所望の形態に制御することも可能とされる。これにより、より形状の自由度の高いPt担持マイクロチューブを簡便に製造することが可能となる。
第一焼成工程における昇温速度を上記範囲に設定することで、繊維状の前駆体から中空管状のPt担持マイクロチューブを好適に得ることができる。昇温速度が5℃/min未満の場合は、2段階の焼成を行ってもセラミック粒子によりチューブ形状を形成させることが困難な場合があるため好ましくない。昇温速度は、好ましくは7℃/min以上、例えば、8℃/min以上、より好ましくは10℃/min以上とすることが例示される。また、昇温速度の上限は特に制限はないが、上記の通りの芯鞘構造へのスムーズな変成と、例えば汎用されている焼成炉での一般的な昇温速度の上限の目安として、20℃/min以下とすることが例示される。
第二焼成工程における昇温速度は、マイクロチューブの表面に担持されるPtナノ粒子の粒径を制御する上で重要となる。第二焼成工程の昇温速度を高めるにつれて、Ptナノ粒子の粒径が小さくなる傾向がある。そして昇温速度を上記範囲に設定することで、Ptナノ粒子の平均粒径を約1nm〜15nmの範囲のものとすることができる。より詳細には、昇温速度が5℃/min以上15℃/min以下程度の場合に、Ptナノ粒子の粒径を約2nm〜10nm程度のものとすることができる。また、昇温速度が10℃/min以上15℃/min以下程度の場合に、Ptナノ粒子の粒径を約2nm〜5nm程度のものとすることができる。昇温速度が5℃/min未満の場合は、Ptナノ粒子の粒径が15nmを超過することがあり得る。
セラミックからなるマイクロチューブの表面に担持されるPtナノ粒子の割合は、紡糸原料液の段階で所望の質量比となるように調整することができる。また、セラミック源と白金源は上記の質量比の範囲内で紡糸原料液中に均一に分散されるため、Ptナノ粒子はマイクロチューブの表面に凝集することなく均一に分散された状態で担持される。
従来より、エレクトロスピニング法を利用して、直径(繊維径)がマイクロレベルの繊維状のセラミック材料を得る手法が知られている(例えば、特許文献3〜7参照)。典型的には、無機材料と樹脂とを含む紡糸材料を長尺繊維状に紡糸して前駆体とし、これを酸化焼成することで繊維状のセラミックスとするものである。エレクトロスピニング法によると、繊維径がマイクロレベル(例えば、およそ100nm〜1000nm程度の範囲)である程度制御された長尺繊維状のセラミック材料を、比較的容易に作り出すことができる。しかしながら、かかる長尺繊維状のセラミック材料をチューブ状(すなわち、マイクロチューブ)に形成することについては、いまだ実現されていなかった。また、同時に、チューブ壁を多孔質構造とすることや、かかるマイクロチューブの表面に異種材料を担持させることについても、実現されていない。
これに対し、ここに開示される製造方法では、エレクトロスピニング法に上記の通りの特徴的な焼成プロセスを組み合わせることで、これまでに知られていない、Pt担持マイクロチューブの製造を、簡便に実現可能としたものである。
これに対し、ここに開示される製造方法では、かかる特殊な構成のスピナレットは必要ではなく、噴出口が注射針のようなごく単純な管状の構成のノズルを用いて紡糸できる。また、紡糸原料液はセラミック源と白金(Pt)源とを含む1液のみを用意すればよく、極めてシンプルな手法である。
かかる構成により、Pt担持マイクロチューブの中空形状を好適に形成できるとともに、その外径等の寸法の制御が可能となる。例えば、上記範囲でノズルの内径を制御することで、チューブ径(外径)が平均として200nm以上700nm以下程度の範囲で制御されたPt担持マイクロチューブを製造することができる。
かかるマイクロチューブは、複数のセラミック粒子が互いに連続的に結合することで、中空管状の長尺のチューブを構成している。複数のセラミック粒子は、隣り合うセラミック粒子同士が互いに強固に結合(典型的には固相結合、例えば焼結、液相焼結等を含む)している。セラミック粒子は、例えば、粒状のものが、その外形をほぼ維持したまま点ないしは比較的狭い面積を以て互いに結合していてもよいし、複数のセラミック粒子が比較的広い面積を以て緻密に結合していても良い。
そして、このマイクロチューブは、全体としてみた場合にはチューブ壁に細孔が形成されており、かかるマイクロチューブは多孔性であり得る。この細孔は、いくつかのセラミック粒子間に間隙が生じ、マイクロチューブの中空部分と外部とが連通されることで、形成されている。例えば、複数の球状のセラミック粒子が最密充填で結合した場合に形成される空隙よりも十分に大きな間隙が生じて細孔を形成し得る。
このように、ここに開示されるマイクロチューブは、複数のセラミック粒子が結合した形態であるために比表面積が大きい。さらに、マイクロチューブのチューブ壁には細孔が存在していることから、比表面積はさらに増大されている。また、マイクロチューブはセラミック製であることから高い強度および耐久性を有し、例えば、触媒担体として望ましい特性を備える。
マイクロチューブの中空部分の平均径(すなわち、平均内径)については、40nm以上600nm以下であり得る。平均内径は、典型的には、100nm以上500nm以下、例えば、200nm以上300nm以下程度であり得る。
マイクロチューブの長さについても制限はなく、典型的には1μm以上、例えば、数μm以上の長さのものができる。
そして、チューブ壁に形成される細孔の大きさは特段制限されないが、例えば、平均細孔径が5nm〜100nm程度の大きさのメソポアであり得る。より代表的には、平均細孔径は10nm〜75nm程度であり、さらに限定的には、15nm〜30nm程度であり得る。
なお、本明細書における「平均外径」「平均内径」「平均粒径」等に代表される寸法は、電子顕微鏡等による観察により計測される20個以上の粒子ついての寸法の算術平均値として定義される。
Pt粒子の平均粒径は、典型的には、100nm以下のナノ粒子であり得る。Pt粒子の平均粒子径が小さいと単位質量あたりの表面積を拡大することができるために好ましい反面、粒子の微細化を過度に進めると触媒活性の低下がみられ、かかるPt担持マイクロチューブを触媒体として利用する場合には性能維持の観点からは好ましくない。また小さすぎる触媒微粒子は耐久性に問題が生じることが予想される。ここに開示されるPt粒子の平均粒子径は、1nm以上30nm以下の範囲にあり、代表的には1nm以上15nm以下、例えば2nm以上10nm以下、より好ましくは、2nm以上5nm以下の範囲である。かかる平均粒子径を有するPt粒子は、質量活性が高くなることに加えて、触媒として使用された場合の耐久性をも備えることができる。
マイクロチューブに担持されるPt粒子の割合は、所望の範囲で調製することができる。かかるマイクロチューブは、セラミック粒子がその粒状の形態をほぼ維持した状態で結合しているため比表面積が大きいものであり得る。そのため、比較的大量のPt粒子を担持し得る。しかしながら、多すぎるPt粒子を担持するとPt粒子同士が接触する事態が生じ得る。すると、Ptの単位質量あたりの活性表面積が低減し、効率的に触媒能を発現させることができないおそれがある。そこで、例えば、Pt担持マイクロチューブの全体を100質量%としたとき、1質量%以上40質量%以下の割合でPt粒子を担持するのが好ましい例として示される。換言すると、マイクロチューブを構成するセラミックとPt粒子との質量比(セラミック質量:Pt質量)として、60:40〜99:1程度であるのが好適な範囲として例示される。かかる割合とすることで、上記の通りのナノレベルの大きさのPt粒子は、マイクロチューブの表面に高分散された状態で好適に担持され得る。
(2)紡糸原料液を紡糸して繊維状の前駆体を用意する工程。
(3)前駆体を、不活性気流中で、450℃以上900℃以下の温度範囲に設定される第一の焼成温度で焼成する第一焼成工程。
(4)第一焼成工程により焼成された焼成物を、酸化雰囲気中で、400℃以上かつ第一の焼成温度を超えない温度範囲に設定される第二の焼成温度で焼成する第二焼成工程。
Pt担持マイクロチューブの原料となるセラミック源としては、酸化焼成によってセラミックスを生成できるものであれば各種の材料であってよい。例えば、セラミックを構成する金属元素の各種の塩を好ましく用いることができる。かかる塩としては、一例として、塩化物、水酸化物、ホウ化物、臭化物、ヨウ化物、硫化物や、炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、しゅう酸塩、過塩素酸塩などを用いることができる。より具体的には、例えば、セラミックスが酸化スズ(SnO2)の場合を例にすると、セラミック源としては、例えば、塩化スズ(II)二水和物(SnCl2・2H2O)、塩化スズ五水和物(SnCl2・5H2O)、硝酸スズ20水和物(Sn(NO3)2・20H2O)、2−エチルヘキサン酸スズ(II)(Co[OOCCH(C2H5)C4H9]2)、二過塩素酸スズ(II)(Sn(ClO4)2)、酢酸スズ(II)(Sn(CH3COO)2)、酒石酸スズ(II)(Sn(C4H4O6))のいずれか1種または2種以上を混合して用いることが例示される。セラミックスが複合酸化物である場合には、かかる複合セラミックスを構成するそれぞれの金属元素について上記のような塩を用意し、各元素の塩をセラミックス組成に応じて所定の割合で配合して用いればよい。
紡糸原料液には、上述の材料の他に、必要に応じて分散剤、増粘剤等に代表される各種の添加剤を加えるようにしても良い。
紡糸原料液を調製する際には、各原料同士が液中に均一に分散するように十分に撹拌するとよい。例えば、室温(典型的には25℃)程度において、回転式撹拌装置を用いるなどして、例えば、100rpm〜500rpm程度の速度で、より好ましくは200rpm〜300rpm程度で数十分間〜数時間程度、例えば、30分間〜1時間程度の撹拌を行うことが例示される。
次いで、上記で用意した紡糸原料液を繊維状に成形することで、Pt担持マイクロチューブの前駆体を用意する。かかる成形手法としては特に制限されず、各種の紡糸方法を利用することができる。マイクロレベルの繊維径の繊維状に紡糸できる手法として、例えば、一例として、セルフアッセンブリー法、フェイズ・セパレーション法、エレクトロスピニング法等を例示することができる。中でもエレクトロスピニング法は、ナノレベルからサブミクロンレベルの直径の繊維を比較的簡単な装置を使って比較的簡単な操作で得ることができるため、ここに開示される前駆体の成形に用いるのに好ましい。
かかる装置20において、紡糸原料液2は、容器4からノズル6まで一定の速度で押し出され、ノズル6において電圧が印加されてプラスに帯電される。このプラスに帯電された紡糸原料液2の電気引力が表面張力を越えた時に、紡糸原料液2がジェット状に集電板14に向けて噴射される。噴出された紡糸原料液2中の溶媒は飛行中に徐々に揮発するため、集電板14に到達する際には、直径がナノレベルからマイクロレベルにまで減少した繊維状となる。これにより、直径がナノレベルからマイクロレベルの繊維状の前駆体10を形成することができる。
また、紡糸原料液2に印加する電圧は、紡糸原料液2の調製状態やノズル6−集電板14間の距離等の条件により最適な値が異なるために一概には言えないが、例えば、紡糸原料液2の押出速度(流量)を10〜40μL/minとし、ノズル6と集電板14との間の距離を20〜30cmとする場合には、印加電圧を10〜30kV程度の範囲で調整することが例示される。なお、ここに例示した条件は一実施形態に過ぎず、ここに開示される発明を限定するものではない。
(3)第一焼成工程
第一焼成工程においては、まず、上記で得られた前駆体を、不活性気流中で、450℃以上900℃以下の温度範囲に設定される第一の焼成温度で焼成する。
不活性気流としては、ヘリウム(He)、ネオン(Ne)、アルゴン(Ar)等の希ガスや窒素(N2)ガス、さらには、酸素(O2)濃度が低減(例えば、8質量%以下)された気体、およびこれらを混合した気体等を焼成炉等に適切な流量で導入すればよい。かかる不活性ガスの流量は、反応系にもよるものの、例えば、5L/min〜40L/min程度、好ましくは10L/min〜30L/min程度、例えば20L/min〜30L/min程度とすることが例示される。
また、かかる焼成温度への昇温速度は、5℃/min以上20℃/min以下とするのが好ましい。昇温速度が5℃/min未満の場合も最終的に中空のマイクロチューブが得られないために好ましくない。昇温速度は、好ましくは5℃/min以上15℃/min以下、例えば、10℃/min以上15℃/min以下である。昇温速度は20℃/min以下程度で十分であり、20℃/minを超える急激な昇温は設備およびコストの面で好ましくない。
前駆体は、かかる第一の焼成条件で0.5時間〜4時間程度(例えば1時間〜3時間)保持した後、次の第二焼成工程に供される。
第二焼成工程においては、上記の第一焼成工程により焼成された焼成物を、酸化雰囲気中で、400℃以上で上記第一の焼成温度を超えない温度範囲に設定される第二の焼成温度で焼成する。
焼成雰囲気は、大気雰囲気等の酸素含有雰囲気とすることができる。かかる酸化雰囲気での焼成により、セラミック源が焼成されて、セラミック粒子が中空管状に結合してなるセラミック製のマイクロチューブが形成される。また、Pt源が焼成されて、マイクロチューブの表面にPt粒子が形成される。
以上のことから、第一焼成工程において、繊維状の(中実の)前駆体がチューブ状に変性される準備がなされているものと考えられる。例えば、本発明者らは、この第一焼成工程において、繊維状の前駆体が、樹脂成分を芯部とし、セラミック源およびPt源を鞘部とした芯鞘構造に変成されると考えている。そして第二焼成工程において、かかる芯鞘構造の芯部が消失され、鞘部が酸化焼成されて、セラミック製のマイクロチューブが得られるものと考えている。Pt粒子については、いずれの段階でPt成分がマイクロチューブ(セラミック粒子)の表面に移動するのかは明確ではないものの、第二焼成工程においてPt粒子が形成されるものと考えられる。
また、前駆体においてセラミック源とPt源とは均質に分散されているため、Pt粒子は基体であるマイクロチューブの表面において偏析することなく高分散されている。
したがって、例えば、ここに開示されるPt担持マイクロチューブは、メソポーラス基体に予め用意したPt粒子を担持させて得られるPt触媒担持体等と比べて、Pt粒子がより均一に分散した状態で、かつ、より強固に基体に担持されたものであり得る。
図1に示す燃料電池100では、2個の単位セル130が直列接続されて1対のホルダ140,140に挟まれた構成(スタック)を概念的に示している。単位セル130は、膜−電極接合体110と、膜−電極接合体110の厚さ方向の両側に配されたバイポーラプレート120,120とによって構成されている。バイポーラプレート120,120は、反応ガスの供給流路が彫り込まれた導電性材料(典型的には、良導電性金属またはカーボン等)によって構成されており、膜−電極接合体110にそれぞれ接合することによって、集電体として機能すると共に、膜−電極接合体110の触媒層に対して酸素及び燃料を供給することができる。
[Pt担持マイクロチューブの作製]
[紡糸原料液の調製]
白金源として、ヘキサクロロ白金(IV)酸六水和物(H2PtCl6・6H2O)を用いた。セラミック源として、四塩化スズ(SnCl4)を用いた。樹脂成分として、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF:N,N-dimethylformamide)を用いた。溶媒としては、重量平均分子量が150,000のポリアクリロニトリル(PAN:polyacrylonitrile)を用いた。
(P2):この白金原料溶液1質量部に対し、DMFを9質量部の割合で混合し、80℃で2時間攪拌した。
(S2):DMF2質量部に対し、四塩化スズを1質量部の割合で混合し、80℃で30分間攪拌した。
(S3):上記の(S1)で用意した溶液10質量部に対し、上記の(S2)で用意した混合物を3質量部の割合で混合し、1時間攪拌した。
図3に示した構成のエレクトロスピニング装置20を用いることにより、上記で調製した紡糸原料液2をターゲット基板(集電板14)上に紡糸し、前駆体10を作製した。紡糸用のノズル6としては、内径が0.4μmのシリンジを用いた。ターゲット基板14としては、アルミホイルを用いた。この装置20を用いた場合の紡糸条件は、以下の通りとした。かかる条件で紡糸された前駆体は、直径が300nm〜800nmで、長さが1μm以上の繊維状であった。
印加電圧(V): 14kV
噴出速度(Q): 10〜40μL/min
ノズル−ターゲット間距離(d): 23cm
相対湿度: 30%
上記で得られた前駆体に対し、焼成雰囲気を制御可能な電熱炉を用い、以下の表1に示した焼成条件での第一焼成工程と第二焼成工程とからなる2段階の焼成を施すことで、サンプル1〜4を得た。
上述の製造プロセスを経て得られた焼成物(サンプル1〜4)を走査型電子顕微鏡(SEM)で観察した。その観察結果を図4〜図7Cに示した。図4はサンプル1のSEM像である。図5Aはサンプル2のSEM像で、図5Bはその要部拡大図である。図6Aはサンプル3のSEM像であって、図6Bは同一試料をより高倍率で透過型電子顕微鏡(TEM)により観察した際のTEM像である。なお、サンプル4の電子顕微鏡での観察の結果は、サンプル3とほぼ同じであった。
また、サンプル1〜4の焼成物の表面のX線回折(XRD)分析を行った。
サンプル1のSEM観察の結果、図4に示したように、前駆体が焼成されて焼き固まった形態の、繊維状の焼成体が得たられたことが確認できた。この繊維の形状は、直径が平均で約700nmであった。焼成体をよく観察すると、直径が100nm〜200nm程度の比較的大きな粒子が繊維状に互いに密に結合して基体となったその表面に、直径が25nm〜35nm(平均粒径約30nm)の粒子が着しているのが確認できた。XRD分析の結果、基体を構成している大きな粒子がSnO2であり、表面に結合している微小粒子がPtであることが確認された。
サンプル2のSEM観察の結果、図5Aに示したように、中空のチューブが破裂したかのような形状の焼成体が得たられたことが確認できた。焼成体をよく観察すると、この繊維状物は、直径が50nm〜150nm程度のやや大きな粒子が結合して、中空のチューブ状で、なおかつ、チューブ壁に比較的大きめの細孔を有する多孔性の基体を形成していることがわかった。また、図5Bに示したように、この基体の表面には、直径が15nm〜20nm(平均粒径約17nm)程度の比較的微小な粒子が結合して担持されていることがわかった。
このチューブ全体のおおよその形状は、直径がおおよそ800nm程度で、長さが2μm程度であった。XRD分析の結果、基体を構成している大きな粒子がSnO2であり、表面に結合している微小粒子がPtであることが確認された。
サンプル3のSEM観察の結果、図6Aに示したように、前駆体が焼成されて、多孔性の繊維状の焼成体が得たられたことが確認できた。焼成体をさらにTEMにより観察すると、図6Bに示したように、この繊維状物は、直径が50nm〜100nm程度の粒子が結合して、中空のチューブ状で、なおかつ、チューブ壁に細孔を有する多孔性の基体を形成していることがわかった。また、この基体を構成する粒子の表面には、微小な粒子が結合して担持されていることがわかった。
このチューブのおおよその形状は、外径が500nm程度、内径が200nm程度で、長さが2μm程度であった。チューブ壁に形成された細孔の径は、およそ20nm〜30nmであった。また、この基体の表面に担持されている粒子は、直径が6nm〜8nm(平均粒径約7nm)程度であった。XRD分析の結果、基体を構成している部分はSnO2であり、表面に結合している粒子がPtであることが確認された。
サンプル4のSEM観察の結果、前駆体が焼成されて、多孔性の繊維状の焼成体が得たられたことが確認できた。焼成体をさらに観察すると、この繊維状物は直径が50nm〜100nm程度の粒子が結合して、中空のチューブ状で、なおかつ、チューブ壁に細孔を有する多孔性の基体を形成していることがわかった。なお、この基体の表面には、サンプル3に比べて微小な粒子が結合して担持されていることがわかった。
このチューブのおおよその形状は、直径がおおよそ500nm程度で、長さが2μm程度と、サンプル3とほぼ同様の形態であった。チューブ壁に形成された細孔の径は、およそ20nm〜30nmであった。なお、サンプル4の基体の表面に担持されている粒子は、直径が3nm〜4nm(平均粒径約3nm)程度とサンプル3のPt粒子よりも微小であった。XRD分析の結果、基体を構成している部分はSnO2であり、表面に結合している粒子がPtであることが確認された。
サンプル1およびサンプル2の観察結果から、第一焼成工程における焼成温度が低すぎると、中空形状が好適に形成できない場合があることがわかる。また、第一焼成工程における不活性雰囲気に十分な流れがないと、セラミック基体が緻密に焼結し、多孔性の基体や中空形状の基体を構成できない場合があることがわかった。
サンプル3およびサンプル4の観察結果から、第二焼成工程における昇温速度を変化させることで、セラミック基体(セラミック製のマイクロチューブ)に担持されるPt粒子の粒径を制御できることがわかった。
サンプル4で得られたPt担持マイクロチューブの触媒活性評価を行うために、サイクリックボルタンメトリー(CV)を以下の手順で測定した。
(1)サイクリックボルタンメトリー測定
サンプル4で得られたPt担持マイクロチューブを触媒体として用いて作用極を構成し、参照極には白金を、対極には可逆水素電極を用い、電解液には0.1M過塩素酸(HClO4)溶液を使用して、三極式セルを作製した。なお、作用極は、測定対象である触媒体を純水に分散させた溶液をディスク電極上に3.76×10−5g/cm2となるように滴下し、乾燥させた後、パーフルオロカーボンから構成されるプロトン伝導性膜により固定することで作製した。また、この三極式セルには、測定前の30分間に電解液に窒素(N2)ガスを吹き込み、セル内を窒素(N2)で飽和させた。その後、25℃で、50mV/s、可逆水素電極に対する電位幅0V〜1.2Vの条件で電位を掃引し、応答電流を測定した。
また、図には示していないが、10サイクルから1000サイクルの電位変動の間で、200サイクルまでは電位変動を繰り返すことでピーク強度が増加し、その後ピーク強度はほぼ一定に保たれることが確認できた。すなわち、Pt担持マイクロチューブは、触媒特性の脱離や劣化がほとんど見られず、サイクル特性および耐久性が高いことが示された。
例えば、上記の実施形態においては、紡糸原料液中のセラミック源と白金源とを均一に混合してマイクロチューブの表面にPt粒子が極めて均一に分散された(高分散された)Pt担持マイクロチューブを製造しているが、例えば、Pt担持マイクロチューブにおけるPt粒子の担持量を部分的に変化させる等の目的で、紡糸原料液中のセラミック源と白金源との割合(例えば、濃度)を不均一にする等しても良い。
また、上記の実施形態において、一つのノズルから紡糸原料液を紡糸し、繊維状の前駆体を形成しているが、例えば、複数のノズルから紡糸原料液を紡糸して、繊維が絡み合ったシート状の前駆体を形成する等しても良い。また、前駆体は、さらに任意の形状に成形した後焼成して、所望の形状を有するPt担持マイクロチューブを得るようにしても良い。
4 容器
6 ノズル
8 高圧電源
10 前駆体
12 ポンプ
14 集電板
20 エレクトロスピニング装置
100 燃料電池(PEMFC)
110 膜−電極接合体(MEA)
120 バイポーラプレート
130 単位セル
140 ホルダ
200 固体高分子膜(電解質膜)
210 燃料極
212 第一燃料流通層
214 第二燃料流通層
220 酸化極
222 第一空気流通層
224 第二空気流通層
Claims (16)
- セラミック粒子が中空管状に結合してなるセラミック製のマイクロチューブの表面に、白金(Pt)粒子が担持されており、
前記セラミック粒子は、酸化スズおよび酸化インジウムスズの少なくとも一方を含み、
前記マイクロチューブは、平均外径が200nm以上700nm以下で、平均内径が40nm以上600nm以下である、Pt担持マイクロチューブ。 - 前記Pt粒子の平均粒径は、15nm以下である、請求項1に記載のPt担持マイクロチューブ。
- 前記セラミック粒子の平均粒径は、200nm以下である、請求項1または2に記載のPt担持マイクロチューブ。
- 前記Pt粒子は、前記マイクロチューブの内壁および外壁にそれぞれ担持されている、請求項1〜3のいずれか1項に記載のPt担持マイクロチューブ。
- 前記Pt粒子は、前記Pt担持マイクロチューブ全体を100質量%として、1質量%以上40質量%以下の割合で担持されている、請求項1〜4のいずれか1項に記載のPt担持マイクロチューブ。
- 前記マイクロチューブが、多孔質構造である、請求項1〜5のいずれか1項に記載のPt担持マイクロチューブ。
- 前記セラミック粒子が酸化スズ粒子である、請求項1〜6のいずれか1項に記載のPt担持マイクロチューブ。
- セラミック粒子が中空管状に結合してなり、平均外径が200nm以上700nm以下で平均内径が40nm以上600nm以下であるセラミック製のマイクロチューブの表面に、白金(Pt)粒子が担持されたPt担持マイクロチューブの製造方法であって、
セラミック源と白金(Pt)源と樹脂成分とを含む紡糸原料液を調製する工程、
前記紡糸原料液を紡糸して繊維状の前駆体を用意する工程、
前記前駆体を、不活性気流中で、450℃以上900℃以下の温度範囲に設定される第一の焼成温度で焼成する第一焼成工程、および、
前記第一焼成工程により焼成された焼成物を、酸化雰囲気中で、400℃以上で前記第一の焼成温度を超えない温度範囲に設定される第二の焼成温度で焼成することで前記Pt担持マイクロチューブを得る第二焼成工程、を包含する、Pt担持マイクロチューブの製造方法。 - 前記第一焼成工程における昇温速度を5℃/min以上20℃/min以下とする、請求項8に記載のPt担持マイクロチューブの製造方法。
- 前記第一焼成工程の終了後に100℃以下にまで温度を下げた後、
前記第二の焼成温度まで昇温速度5℃/min以上20℃/min以下で昇温する、請求項8または9に記載のPt担持マイクロチューブの製造方法。 - 前記紡糸原料液における前記セラミック源と前記白金源との割合は、
前記第二焼成工程後に得られるセラミックと白金との質量比(セラミック質量:白金質量)が、60:40〜99:1の範囲となるよう調製されている、請求項8〜10のいずれか1項に記載のPt担持マイクロチューブの製造方法。 - 前記セラミック源が、スズのハロゲン化物、硝酸塩、硫酸塩、酢酸塩およびシュウ酸塩からなる群から選択される1種以上を含む、請求項8〜11のいずれか1項に記載のPt担持マイクロチューブの製造方法。
- 前記前駆体は、前記紡糸原料液をエレクトロスピニング法によりノズルから噴出させることで形成する、請求項8〜12のいずれか1項に記載のPt担持マイクロチューブの製造方法。
- 前記ノズルの内径が0.2mm以上1.2mm以下の範囲である、請求項13に記載のPt担持マイクロチューブの製造方法。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載のPt担持マイクロチューブを備えていることを特徴とする物品。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載のPt担持マイクロチューブを備えていることを特徴とする固体高分子形燃料電池用触媒体。
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