JP5910566B2 - 付加硬化型自己接着性シリコーンゴム組成物及び成形品 - Google Patents
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Description
〔請求項1〕
(A)一分子中に少なくとも2個の珪素原子と結合するアルケニル基を含有するオルガノポリシロキサン:100質量部、
(B)一分子中に珪素原子と結合する水素原子(SiH基)を2個以上含有し、分子中にフェニレン骨格を含有しないオルガノハイドロジェンポリシロキサン:0.1〜20質量部、
(C)表面が疎水化処理された補強性シリカ微粉末:0.1〜100質量部、
(但し、該補強性シリカ微粉末は、表面未処理の補強性シリカ微粉末100質量部に対して12質量部以下の表面処理剤で疎水化処理されたものが40〜60質量%と、表面未処理の補強性シリカ微粉末100質量部に対して16質量部以上の表面処理剤で疎水化処理されたものが60〜40質量%(合計で100質量%)とを含有してなる。)
(D)一分子中に少なくとも1個のSiH基を有し、かつフェニレン骨格を少なくとも1個有する珪素原子数1〜100の有機珪素化合物:0.10〜0.45質量部、
(E)付加反応触媒:触媒量
を含有することを特徴とする透明硬化物を与える付加硬化型自己接着性シリコーンゴム組成物。
〔請求項2〕
請求項1記載のシリコーンゴム組成物を加熱硬化してなる透明シリコーンゴム成形品。
〔請求項3〕
厚さ2mmシートでの全光線透過率が85%以上で、かつヘーズ値(曇値)が15以下である請求項2記載のシリコーンゴム成形品。
〔請求項4〕
請求項2又は3記載のシリコーンゴム成形品が熱可塑性樹脂上に直接積層されてなる物品。
〔請求項5〕
熱可塑性樹脂が、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート又はポリカーボネートである請求項4記載の物品。
まず、(A)成分の一分子中に少なくとも平均2個のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサンとしては、下記平均組成式(I)で示されるものを用いることができる。
R1 aSiO(4-a)/2 ・・・(I)
(式中、R1は互いに同一又は異種の炭素数1〜10、好ましくは1〜8の非置換又は置換一価炭化水素基であり、aは1.5〜2.8、好ましくは1.8〜2.5、より好ましくは1.95〜2.02の範囲の正数である。)
R2 eHfSiO(4-e-f)/2 ・・・(II)
(式中、R2は炭素数1〜10の非置換又は置換の一価炭化水素基である。また、eは0.7〜2.1、fは0.001〜1.0で、かつe+fは0.8〜3.0を満足する正数である。)
で示され、一分子中に2個以上(通常、2〜300個)、好ましくは3〜200個、より好ましくは4〜100個の珪素原子結合水素原子(SiH基)を有するものが好適に用いられる。
即ち、第1の補強性シリカは表面疎水化処理する際の表面処理剤の配合量が、表面未処理の補強性シリカ微粉末100質量部に対し12質量部以下、好ましくは0.1〜12質量部、より好ましくは1〜11質量部、更に好ましくは2〜10質量部の低処理度のシリカであり、第2の補強性シリカは表面疎水化処理する際の表面処理剤の配合量が、表面未処理の補強性シリカ微粉末100質量部に対し16質量部以上、好ましくは16〜60質量部、より好ましくは18〜40質量部、更に好ましくは20〜30質量部の高処理度のシリカであって、本発明の組成物においては、これらの第1の補強性シリカ(低処理度補強性シリカ)と第2の補強性シリカ(高処理度補強性シリカ)とを40〜60質量%:60〜40質量%(合計で100質量%)、好ましくは45〜55質量%:55〜45質量%、特に好ましくは50質量%:50質量%の比率で併用するものである。なお、第1の補強性シリカ(低処理度補強性シリカ)の処理度が高くなりすぎると接着性は不安定になり、また、第2の補強性シリカ(高処理度補強性シリカ)の処理度が低くなりすぎると透明性に劣ったものとなる。
から選ばれる基であり、Y’は
分子鎖両末端がジメチルビニルシロキシ基で封鎖された23℃の粘度が30Pa・s(平均重合度約750)であるジメチルポリシロキサン[ビニル基含有量3×10-5mol/g]84部、分子鎖両末端がトリメチルシロキシ基で封鎖された平均重合度が約230であり、側鎖(分子鎖途中)に5モル%のビニルメチルシロキサン単位を含有するジメチルポリシロキサン[ビニル基含有量6.5×10-4mol/g]5部、比表面積が300m2/gであるヒュームドシリカ(日本アエロジル(株)製、アエロジル300)40部、ヘキサメチルジシラザン4部、水2部を室温(25℃)で30分間混合後、150℃に昇温し、3時間撹拌を続けた後冷却し、ヒュームドシリカ(低処理度)の表面疎水化処理を行うと共に、シリコーンゴムベース1を得た。
同様にして、分子鎖両末端がジメチルビニルシロキシ基で封鎖された23℃の粘度が30Pa・sである(平均重合度約750)であるジメチルポリシロキサン[ビニル基含有量3×10-5mol/g]84部、分子鎖両末端がトリメチルシロキシ基で封鎖された平均重合度が約230であり、側鎖(分子鎖途中)に5モル%のビニルメチルシロキサン単位を含有するジメチルポリシロキサン[ビニル基含有量6.5×10-4mol/g]5部、比表面積が300m2/gであるヒュームドシリカ(日本アエロジル(株)製、アエロジル300)40部、ヘキサメチルジシラザン8部、水2部を室温(25℃)で30分間混合後、150℃に昇温し、3時間撹拌を続けた後冷却し、ヒュームドシリカ(高処理度)の表面疎水化処理を行うと共に、シリコーンゴムベース2を得た。
このシリコーンゴムベース1の64.5部とシリコーンゴムベース2の64.5部を併用し、分子鎖両末端がジメチルビニルシロキシ基で封鎖された23℃の粘度が30Pa・sである(平均重合度約750)であるジメチルポリシロキサン[ビニル基含有量3×10-5mol/g]20部、架橋剤として側鎖にSiH基を有するメチルハイドロジェンポリシロキサン[粘度0.010Pa・s、SiH基量0.0050mol/gの両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体]2.2部と下記式(1)で示されるフェニレン骨格を有する接着助剤(SiH基量0.0066mol/g)0.2部、反応制御剤としてエチニルシクロヘキサノール0.10部、白金触媒(Pt濃度1%)0.2部を均一に約30分間混合し、シリコーンゴム組成物を得た。なお、この組成物中のSiH基とアルケニル基の割合[SiH基/アルケニル基]は2.0である。
せん断接着試験片を測定し、せん断接着強度とゴム凝集破壊率(CF)を表1に示した。また、本シリコーンゴム組成物を厚み2mmのシート金型に充填し、120℃で10分間プレス成形を実施した。その硬化シートをヘーズメーターを使用し、全光線透過率とヘーズ値(曇値)を測定し、表1に示した。
実施例1において、シリコーンゴムベース1の64.5部とシリコーンゴムベース2の64.5部を併用する代わりに、シリコーンゴムベース1を129部使用した以外は実施例1と同様にして、シリコーンゴム組成物を調製し、同様にして、せん断接着強度とゴム凝集破壊率(CF)、全光線透過率とヘーズ値を測定し、表1に示した。
実施例1において、シリコーンゴムベース1の64.5部とシリコーンゴムベース2の64.5部を併用する代わりに、シリコーンゴムベース2を129部使用した以外は実施例1と同様にして、シリコーンゴム組成物を調製し、同様にして、せん断接着強度とゴム凝集破壊率(CF)、全光線透過率とヘーズ値を測定し、表1に示した。
Claims (5)
- (A)一分子中に少なくとも2個の珪素原子と結合するアルケニル基を含有するオルガノポリシロキサン:100質量部、
(B)一分子中に珪素原子と結合する水素原子(SiH基)を2個以上含有し、分子中にフェニレン骨格を含有しないオルガノハイドロジェンポリシロキサン:0.1〜20質量部、
(C)表面が疎水化処理された補強性シリカ微粉末:0.1〜100質量部、
(但し、該補強性シリカ微粉末は、表面未処理の補強性シリカ微粉末100質量部に対して12質量部以下の表面処理剤で疎水化処理されたものが40〜60質量%と、表面未処理の補強性シリカ微粉末100質量部に対して16質量部以上の表面処理剤で疎水化処理されたものが60〜40質量%(合計で100質量%)とを含有してなる。)
(D)一分子中に少なくとも1個のSiH基を有し、かつフェニレン骨格を少なくとも1個有する珪素原子数1〜100の有機珪素化合物:0.10〜0.45質量部、
(E)付加反応触媒:触媒量
を含有することを特徴とする透明硬化物を与える付加硬化型自己接着性シリコーンゴム組成物。 - 請求項1記載のシリコーンゴム組成物を加熱硬化してなる透明シリコーンゴム成形品。
- 厚さ2mmシートでの全光線透過率が85%以上で、かつヘーズ値(曇値)が15以下である請求項2記載のシリコーンゴム成形品。
- 請求項2又は3記載のシリコーンゴム成形品が熱可塑性樹脂上に直接積層されてなる物品。
- 熱可塑性樹脂が、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート又はポリカーボネートである請求項4記載の物品。
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