JP5863659B2 - マグネシウムおよびマグネシウム合金基材の改良されたジンケート処理のための組成物および方法 - Google Patents
マグネシウムおよびマグネシウム合金基材の改良されたジンケート処理のための組成物および方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5863659B2 JP5863659B2 JP2012535252A JP2012535252A JP5863659B2 JP 5863659 B2 JP5863659 B2 JP 5863659B2 JP 2012535252 A JP2012535252 A JP 2012535252A JP 2012535252 A JP2012535252 A JP 2012535252A JP 5863659 B2 JP5863659 B2 JP 5863659B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- zinc
- fluoride
- composition
- magnesium
- ions
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 65
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 title claims description 61
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 56
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 32
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 31
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 title claims description 31
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 title claims description 31
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 32
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 claims description 30
- -1 fluoride ions Chemical class 0.000 claims description 25
- PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N Zinc dication Chemical compound [Zn+2] PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- BHHYHSUAOQUXJK-UHFFFAOYSA-L zinc fluoride Chemical compound F[Zn]F BHHYHSUAOQUXJK-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 18
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 claims description 15
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 8
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 8
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 8
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims description 7
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 6
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 6
- CIWBSHSKHKDKBQ-DUZGATOHSA-N D-isoascorbic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-DUZGATOHSA-N 0.000 claims description 5
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 claims description 5
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 claims description 5
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 claims description 5
- 229910000085 borane Inorganic materials 0.000 claims description 5
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J diphosphate(4-) Chemical compound [O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 5
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 claims description 5
- 235000010350 erythorbic acid Nutrition 0.000 claims description 5
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 claims description 5
- 229940026239 isoascorbic acid Drugs 0.000 claims description 5
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 claims description 5
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M phosphinate Chemical group [O-][PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical compound O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical compound OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N trihydridoboron Substances B UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 4
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N Potassium ion Chemical compound [K+] NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N Sodium cation Chemical compound [Na+] FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- LDDQLRUQCUTJBB-UHFFFAOYSA-O azanium;hydrofluoride Chemical compound [NH4+].F LDDQLRUQCUTJBB-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 4
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 4
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 claims description 4
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 claims description 4
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 claims description 4
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 claims description 4
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 claims description 4
- 235000019832 sodium triphosphate Nutrition 0.000 claims description 4
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- UNXRWKVEANCORM-UHFFFAOYSA-I triphosphate(5-) Chemical compound [O-]P([O-])(=O)OP([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O UNXRWKVEANCORM-UHFFFAOYSA-I 0.000 claims description 4
- WGIWBXUNRXCYRA-UHFFFAOYSA-H trizinc;2-hydroxypropane-1,2,3-tricarboxylate Chemical compound [Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O WGIWBXUNRXCYRA-UHFFFAOYSA-H 0.000 claims description 4
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 claims description 4
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 claims description 4
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 claims description 4
- 239000011746 zinc citrate Substances 0.000 claims description 4
- 235000006076 zinc citrate Nutrition 0.000 claims description 4
- 229940068475 zinc citrate Drugs 0.000 claims description 4
- UGZADUVQMDAIAO-UHFFFAOYSA-L zinc hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Zn+2] UGZADUVQMDAIAO-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- 229940007718 zinc hydroxide Drugs 0.000 claims description 4
- 229910021511 zinc hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 4
- 229960001763 zinc sulfate Drugs 0.000 claims description 4
- 229910000368 zinc sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 claims description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- YPTUAQWMBNZZRN-UHFFFAOYSA-N dimethylaminoboron Chemical compound [B]N(C)C YPTUAQWMBNZZRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZNBNBTIDJSKEAM-UHFFFAOYSA-N 4-[7-hydroxy-2-[5-[5-[6-hydroxy-6-(hydroxymethyl)-3,5-dimethyloxan-2-yl]-3-methyloxolan-2-yl]-5-methyloxolan-2-yl]-2,8-dimethyl-1,10-dioxaspiro[4.5]decan-9-yl]-2-methyl-3-propanoyloxypentanoic acid Chemical compound C1C(O)C(C)C(C(C)C(OC(=O)CC)C(C)C(O)=O)OC11OC(C)(C2OC(C)(CC2)C2C(CC(O2)C2C(CC(C)C(O)(CO)O2)C)C)CC1 ZNBNBTIDJSKEAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910000378 hydroxylammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J tetrapotassium;phosphonato phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- DOBRDRYODQBAMW-UHFFFAOYSA-N copper(i) cyanide Chemical compound [Cu+].N#[C-] DOBRDRYODQBAMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 3
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 3
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 3
- KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 5-[3-(trifluoromethyl)phenyl]-2h-tetrazole Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C2=NNN=N2)=C1 KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 150000004673 fluoride salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 229910001379 sodium hypophosphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 101150103244 ACT1 gene Proteins 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100161918 Glycine max SAC1 gene Proteins 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001464 adherent effect Effects 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 229910002065 alloy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- 238000012217 deletion Methods 0.000 description 1
- 230000037430 deletion Effects 0.000 description 1
- 238000004512 die casting Methods 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 230000008450 motivation Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J sodium diphosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- ACUGTEHQOFWBES-UHFFFAOYSA-M sodium hypophosphite monohydrate Chemical compound O.[Na+].[O-]P=O ACUGTEHQOFWBES-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- VKFFEYLSKIYTSJ-UHFFFAOYSA-N tetraazanium;phosphonato phosphate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O VKFFEYLSKIYTSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019818 tetrasodium diphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011573 trace mineral Substances 0.000 description 1
- 235000013619 trace mineral Nutrition 0.000 description 1
- RZLVQBNCHSJZPX-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate heptahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.[Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O RZLVQBNCHSJZPX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
該基材を非電解水性ジンケート処理組成物中に、該基材上に亜鉛酸塩を析出させるに充分な時間浸漬する工程を含み、
ここで、該組成物が亜鉛イオン、錯形成剤、フッ化物イオンおよび還元剤を含み、かつ約8〜約11の範囲のpHを有する、方法に関する。
亜鉛イオン、錯形成剤、フッ化物イオン、および約8〜約11の範囲のpHを含む水性非電解組成物を調製する工程;
該組成物に、該マグネシウムまたはマグネシウム合金基材上の亜鉛酸塩の析出を向上させるに充分な量の還元剤を添加する工程;ならびに
該基材を該組成物中に、該亜鉛酸塩を該基材上に析出させるに充分な時間浸漬する工程;を含む、方法に関する。
約0.005M〜約1.5Mの亜鉛イオン、
約0.01M〜約2Mの錯形成剤、
約0.0025M〜約1.5Mのフッ化物イオン、および
約0.005M〜約1.5Mの還元剤、を含む。
明度(brightness)、色彩、輝度(shininess)、該基材に対する密着性、および厚みの均一さの1つまたはそれ以上を含む。
本発明に係る組成物および方法が適用される基材は広範な物品を包含し、共通してそれらはマグネシウムまたはマグネシウム合金から形成されている。マグネシウム合金は、例えば、ISO 16220:2005、ASTM B94-07 Standard Specification for Magnesium-Alloy Die Castings、および種々の他の工業、軍事および/または政府規格にて定義されている。本明細書にて使用されるように、用語「マグネシウム」および「マグネシウム合金」とは、当該分野において理解されるようにこれらの材料を包含するものとして定義する。
本発明の実施態様によれば、マグネシウムおよびマグネシウム合金をジンケート処理するために用いられる組成物は水性ジンケート処理組成物であり、該組成物は約8〜約11のpHを有し、かつ亜鉛イオン、錯形成剤、フッ化物イオン、および還元剤を含有する。
約0.005M〜約1.5Mの亜鉛イオン、
約0.01M〜約2Mの錯形成剤、
約0.0025M〜約1.5Mのフッ化物イオン、および
約0.005M〜約1.5Mの還元剤
を含有する。
約1g/l〜約50g/lの亜鉛イオン、
約20g/l〜約240g/lの錯形成剤、
約0.05g/l〜約50g/lのフッ化物イオン、および
約1g/l〜約50g/lの還元剤
を含有する。
本発明によれば、ジンケート処理方法は非電解にて行われる。本発明の実施態様においては、マグネシウムまたはマグネシウム合金基材をジンケート処理するための非電解方法には、基材を非電解組成物中で、該基材上に亜鉛酸塩を析出させるに充分な時間浸漬する工程を包含し、ここで、該組成物は、亜鉛イオン、錯形成剤、フッ化物イオンおよび還元剤を含有し、かつ約8〜約11、あるいは上述するような他の範囲のpHを有する。1つの実施態様では、錯形成剤は上述の任意のものであり得る。1つの実施態様では、亜鉛イオンは上述した形態の任意のもので提供され得る。1つの実施態様では、フッ化物イオンは上述した形態の任意のもので提供され得る。1つの実施態様では、還元剤は上述した形態の任意のもので提供され得る。1つの実施態様では、ジンケート処理組成物は、約0.005M〜約1.5Mの亜鉛イオン、約0.01M〜約2Mの錯形成剤、約0.0025M〜約1.5Mのフッ化物イオン、および約0.005M〜約1.5Mの還元剤を含有し、あるいは他の場合は上述したような濃度範囲内で含有する。
亜鉛イオン、錯形成剤、フッ化物イオン、および約8から約11の範囲のpHを有する、水性非電解組成物を調製する工程;
該組成物に、該マグネシウムまたはマグネシウム合金基材上への亜鉛酸塩の析出を向上させるに充分な量の還元剤を添加する工程;および
該基材を該組成物中に、該亜鉛酸塩を該基材上に析出させるに充分な時間浸漬する工程;
を包含する。
TKPP=ピロリン酸四カリウム
ZnSO4=硫酸亜鉛・7水和物(ZnSO4・7H2O)
Hypo=次亜リン酸ナトリウム水和物(NaH2PO2・xH2O)
NaBH4=水素化ホウ素ナトリウム、12質量%水溶液@pH約12〜12.5
DMAB=ジメチルアミノボラン、10質量%水溶液@pH約11.5
HAS=硫酸ヒドロキシルアミン
EXPT PrepAlloy Cleaner L 10 65 10%
EXPT PrepAlloy AE 2 室温 15%
EXPT PrepAlloy ACT-1 3 45 50%
上記表に記載したジンケート処理 10 65 上記の通り
シアン化銅ストライク 5 60 従来通り
濯ぎ 0.5〜0.75 室温 水道水
実施例 亜鉛酸塩析出物の外観
1 スポンジタイプの析出物とともにブリスター領域を有するダークグレー
2 明るい青味がかったグレーで、均一な亜鉛酸塩析出物。
3 明るい青味がかったグレーで、均一な亜鉛酸塩析出物。
4 明るい青味がかったグレーで、均一な亜鉛酸塩析出物。
5 明るい青味がかったグレーで、薄い亜鉛酸塩析出物の半均一な領域
6 明るい青味がかったグレーで、均一な亜鉛酸塩析出物。
7 明るい青味がかったグレーで、均一な亜鉛酸塩析出物。
8 明るい青味がかったグレーで、薄い亜鉛酸塩析出物の半均一な領域
9 青味がかったグレーで、半均一な亜鉛酸塩析出物;かなりのガス発生
(ジンケート処理浴内でのほんの5分の浸漬)
10 青味がかったグレーの析出物、均一な亜鉛酸塩析出物
(ジンケート処理浴内でのほんの5分の浸漬)。
1 亜鉛酸塩との弱い固着、シアン化銅の電着は不可
2 ok、剥離なし
3 ok、剥離なし
4 ok、剥離なし
5 ok、剥離なし、グレーで、幾分薄い亜鉛酸塩の1つまたは2つの領域
6 ok、剥離なし
7 ok、剥離なし
8 ok、剥離なし、グレーで、幾分薄い亜鉛酸塩の1つまたは2つの領域
9 ok、剥離なし
10 ok、剥離なし
Claims (13)
- 8から11のpHを有し、かつ亜鉛イオン、錯形成剤、フッ化物イオンおよび還元剤を含む、マグネシウムまたはマグネシウム合金の基材をジンケート処理するための水性組成物であって、
該還元剤が、次亜リン酸塩、ボラン化合物、水素化ホウ素、ヒドラジン、アルキルおよび/またはアリール置換されたヒドラジン、亜リン酸塩、ヒドロキシルアミン、アスコルビン酸、イソアスコルビン酸、ホルムアルデヒド、次亜リン酸、ならびに亜リン酸の1つまたはそれ以上として提供される、組成物。 - 前記錯形成剤が、ピロリン酸塩、トリポリリン酸塩、リン酸塩、あるいはそれらの2つまたはそれ以上の混合物として提供される、請求項1に記載の組成物。
- 前記錯形成剤の塩が、カリウムカチオン、ナトリウムカチオン、あるいはアンモニウムカチオンまたはそれらの混合物を含む、請求項2に記載の組成物。
- 前記亜鉛イオンが、硫酸亜鉛、酢酸亜鉛、水酸化亜鉛、酸化亜鉛、塩化亜鉛、フッ化亜鉛、クエン酸亜鉛またはスルホン酸亜鉛の1つまたはそれ以上として提供される、請求項1から3のいずれかに記載の組成物。
- 前記フッ化物イオンが、フッ化カリウム、フッ化ナトリウム、フッ化亜鉛、フッ化アンモニウム、またはフッ化水素アンモニウムの1つまたはそれ以上として提供される、請求項1から4のいずれかに記載の組成物。
- 前記組成物が:
0.005Mから1.5Mの前記亜鉛イオン、
0.01Mから2Mの前記錯形成剤、
0.0025Mから1.5Mの前記フッ化物イオン、および
0.005Mから1.5Mの前記還元剤、
を含む、請求項1から5のいずれかに記載の組成物。 - マグネシウムまたはマグネシウム合金基材をジンケート処理するための非電解方法であって:
該基材を非電解水性ジンケート処理組成物中に、該基材上に亜鉛酸塩を析出させるに充分な時間浸漬する工程、を含み、
ここで、該組成物が、亜鉛イオン、錯形成剤、フッ化物イオン、および還元剤を含み、そして8から11の範囲のpHを有し、
該還元剤が、次亜リン酸塩、ボラン化合物、水素化ホウ素、ヒドラジン、アルキルおよび/またはアリール置換されたヒドラジン、亜リン酸塩、ヒドロキシルアミン、アスコルビン酸、イソアスコルビン酸、ホルムアルデヒド、次亜リン酸、ならびに亜リン酸の1つまたはそれ以上として提供される、方法。 - 前記錯形成剤が、ピロリン酸塩、トリポリリン酸塩、リン酸塩、あるいはそれらの2つまたはそれ以上の混合物を含むとして提供される、請求項7に記載の方法。
- 前記錯形成剤の塩が、カリウムカチオン、ナトリウムカチオン、あるいはアンモニウムカチオンまたはそれらの混合物を含む、請求項8に記載の方法。
- 前記亜鉛イオンが、硫酸亜鉛、酢酸亜鉛、水酸化亜鉛、酸化亜鉛、塩化亜鉛、フッ化亜鉛、クエン酸亜鉛またはスルホン酸亜鉛の1つまたはそれ以上として提供される、請求項7から9のいずれかに記載の方法。
- 前記フッ化物イオンが、フッ化カリウム、フッ化ナトリウム、フッ化亜鉛、フッ化アンモニウム、またはフッ化水素アンモニウムの1つまたはそれ以上として提供される、請求項7から10のいずれかに記載の方法。
- 前記組成物が:
0.005Mから1.5Mの前記亜鉛イオン、
0.01Mから2Mの前記錯形成剤、
0.0025Mから1.5Mの前記フッ化物イオン、および
0.005Mから1.5Mの前記還元剤、
を含む、請求項7から11のいずれかに記載の方法。 - マグネシウムまたはマグネシウム合金基材をジンケート処理するための非電解方法であって:
亜鉛イオン、錯形成剤、フッ化物イオン、および8から11の範囲のpHを含む、水性非電解組成物を調製する工程;
該組成物に、該マグネシウムまたはマグネシウム合金基材上への亜鉛酸塩の析出を向上させるに充分な量の還元剤を添加する工程;および
該基材を該組成物中に、該亜鉛酸塩を該基材上に析出させるに充分な時間浸漬する工程;
を含み、
ここで、該還元剤が、次亜リン酸塩、ボラン化合物、水素化ホウ素、ヒドラジン、アルキルおよび/またはアリール置換されたヒドラジン、亜リン酸塩、ヒドロキシルアミン、アスコルビン酸、イソアスコルビン酸、ホルムアルデヒド、次亜リン酸、ならびに亜リン酸の1つまたはそれ以上として提供される、方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US12/603,743 US8231743B2 (en) | 2009-10-22 | 2009-10-22 | Composition and process for improved zincating magnesium and magnesium alloy substrates |
US12/603,743 | 2009-10-22 | ||
PCT/US2010/052771 WO2011049818A1 (en) | 2009-10-22 | 2010-10-15 | Composition and process for improved zincating magnesium and magnesium alloy substrates |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013508553A JP2013508553A (ja) | 2013-03-07 |
JP2013508553A5 JP2013508553A5 (ja) | 2013-10-31 |
JP5863659B2 true JP5863659B2 (ja) | 2016-02-16 |
Family
ID=43662023
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012535252A Expired - Fee Related JP5863659B2 (ja) | 2009-10-22 | 2010-10-15 | マグネシウムおよびマグネシウム合金基材の改良されたジンケート処理のための組成物および方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8231743B2 (ja) |
EP (1) | EP2491163B1 (ja) |
JP (1) | JP5863659B2 (ja) |
KR (1) | KR101738911B1 (ja) |
CN (1) | CN102666918B (ja) |
WO (1) | WO2011049818A1 (ja) |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2526544A (en) * | 1947-10-06 | 1950-10-17 | Dow Chemical Co | Method of producing a metallic coating on magnesium and its alloys |
US2730490A (en) * | 1951-11-13 | 1956-01-10 | Wire Coating And Mfg Co | Process of zinc coating magnesium articles |
US3099083A (en) * | 1958-02-27 | 1963-07-30 | Dow Chemical Co | Method of suppressing bimetallic couple corrosion of magnesium metal articles |
US3216835A (en) * | 1960-10-06 | 1965-11-09 | Enthone | Synergistic chelate combinations in dilute immersion zincate solutions for treatment of aluminum and aluminum alloys |
US3631835A (en) * | 1969-02-26 | 1972-01-04 | Us Navy | Magnesium bimetal and system for flame spraying metals on magnesium substrate |
SU687145A1 (ru) * | 1975-07-31 | 1979-09-25 | Казанский Ордена "Зак Почета" Сельскохозяйственный Институт | Электролит блест щего цинковани |
US4167459A (en) * | 1979-01-08 | 1979-09-11 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Interior | Electroplating with Ni-Cu alloy |
US4346128A (en) * | 1980-03-31 | 1982-08-24 | The Boeing Company | Tank process for plating aluminum substrates including porous aluminum castings |
US4567066A (en) * | 1983-08-22 | 1986-01-28 | Enthone, Incorporated | Electroless nickel plating of aluminum |
JPS63293170A (ja) * | 1987-05-26 | 1988-11-30 | Brother Ind Ltd | メッキ処理方法 |
JPS63317692A (ja) * | 1987-06-19 | 1988-12-26 | Fujitsu Ltd | マグネシウム合金用亜鉛置換処理液 |
JPH0631443B2 (ja) | 1989-03-27 | 1994-04-27 | 三菱電機株式会社 | マグネシウム合金へのめっき成膜方法 |
US5141778A (en) * | 1989-10-12 | 1992-08-25 | Enthone, Incorporated | Method of preparing aluminum memory disks having a smooth metal plated finish |
JPH04311575A (ja) * | 1991-04-08 | 1992-11-04 | Mitsubishi Electric Corp | マグネシウム合金への表面処理下地調整方法 |
JPH08283959A (ja) * | 1995-04-07 | 1996-10-29 | Shinko Alcoa Yuso Kizai Kk | Al−Mg−Si系合金のジンケート処理材及びその製造方法 |
JP3715743B2 (ja) * | 1997-04-15 | 2005-11-16 | 株式会社神戸製鋼所 | Mg合金部材の製造方法 |
IL159222A0 (en) * | 2001-06-28 | 2004-06-01 | Algat Sherutey Gimur Teufati | Method of anodizing of magnesium and magnesium alloys and producing conductive layers on an anodized surface |
US6790265B2 (en) * | 2002-10-07 | 2004-09-14 | Atotech Deutschland Gmbh | Aqueous alkaline zincate solutions and methods |
EP1881091A1 (de) | 2006-07-21 | 2008-01-23 | Enthone, Inc. | Verfahren und Vorrichtung zur Kontrolle von Abscheideergebnissen auf Substratoberflächen |
CN101153388A (zh) | 2006-09-28 | 2008-04-02 | 比亚迪股份有限公司 | 一种用于镁合金化学镀锌的镀液 |
CN101191242A (zh) * | 2006-11-23 | 2008-06-04 | 天津市瀚隆镀锌有限公司 | 组合型锌酸盐镀锌光亮剂 |
US20080131728A1 (en) * | 2006-12-01 | 2008-06-05 | Manesh Nadupparambil Sekharan | Acidic zincating solution |
CN101245479A (zh) * | 2008-03-17 | 2008-08-20 | 哈尔滨工业大学 | 一种镁合金铸件无氰电镀铜的方法 |
-
2009
- 2009-10-22 US US12/603,743 patent/US8231743B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-10-15 CN CN201080047659.2A patent/CN102666918B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2010-10-15 EP EP10768354.2A patent/EP2491163B1/en not_active Not-in-force
- 2010-10-15 KR KR1020127008082A patent/KR101738911B1/ko active IP Right Grant
- 2010-10-15 JP JP2012535252A patent/JP5863659B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-10-15 WO PCT/US2010/052771 patent/WO2011049818A1/en active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8231743B2 (en) | 2012-07-31 |
KR20120087911A (ko) | 2012-08-07 |
EP2491163B1 (en) | 2013-10-02 |
CN102666918B (zh) | 2014-06-04 |
US20110094631A1 (en) | 2011-04-28 |
KR101738911B1 (ko) | 2017-05-23 |
WO2011049818A1 (en) | 2011-04-28 |
JP2013508553A (ja) | 2013-03-07 |
EP2491163A1 (en) | 2012-08-29 |
CN102666918A (zh) | 2012-09-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Li et al. | The electroless nickel-plating on magnesium alloy using NiSO4· 6H2O as the main salt | |
TWI548782B (zh) | 無氰化物之酸性消光銀電鍍組成物及方法 | |
JP2023058499A (ja) | 組成変調された亜鉛-鉄多層コーティング | |
TWI545232B (zh) | 鋅-鐵合金層材料 | |
US4670312A (en) | Method for preparing aluminum for plating | |
JP5867761B2 (ja) | 黒色Cr−Co合金めっき皮膜用黒化処理液 | |
JPH0436498A (ja) | 鉄鋼線材の表面処理方法 | |
JP2020196914A (ja) | めっき前処理方法 | |
IT9067773A1 (it) | Metodo per la preparazione di dischi di memoria in alluminio aventi un finish liscio placcato | |
JP5863659B2 (ja) | マグネシウムおよびマグネシウム合金基材の改良されたジンケート処理のための組成物および方法 | |
US3338725A (en) | Novel plating process and composition | |
US4371573A (en) | Electroless deposition of nickel coatings and depositing baths therefor | |
CN104583457B (zh) | 金属表面处理液、金属基材的表面处理方法及由此而得的金属基材 | |
CN104822863B (zh) | 含铁材料的腐蚀防护方法 | |
JP6218473B2 (ja) | 無電解Ni−P−Snめっき液 | |
TWI448590B (zh) | 用於鋅與鋅合金鑄模構件之新穎無氰化物電鍍方法 | |
KR100917326B1 (ko) | 마그네슘 합금에 구리를 도금하는 방법 및 구리 도금된 마그네슘 합금 | |
US20230349049A1 (en) | Multilayer corrosion system | |
JP2017527688A (ja) | 高リン無電解ニッケル | |
TWI806422B (zh) | 高耐蝕層狀結構及其製備方法 | |
US7282088B2 (en) | Method for copper-plating or bronze-plating an object and liquid mixtures therefor | |
CA2806047A1 (en) | Process for electroless deposition on magnesium using a nickel hydrate plating bath | |
JPS60502057A (ja) | アルミニウムの無電解ニッケルめっき | |
KR20120093623A (ko) | 친환경 3원 합금 도금액 및 이를 이용한 금속 표면 처리방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130911 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130911 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140729 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140902 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141128 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150602 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150810 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20151208 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20151222 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5863659 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |