JP5839986B2 - Inspection method and inspection system - Google Patents
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Description
本発明は、金属層の両面に絶縁層が積層されてなる積層フィルムの欠陥を検査する検査方法および検査システムに関する。 The present invention relates to an inspection method and an inspection system for inspecting a defect of a laminated film in which insulating layers are laminated on both surfaces of a metal layer.
近年、環境保護運動の高まりを背景として、電気自動車(EV)およびハイブリッド電気自動車(HEV)の開発が進められている。これらのモータ駆動用電源として、繰り返し充放電可能なリチウムイオン二次電池が注目されている。リチウムイオン二次電池は、シート状の正極と負極とがセパレータを介して複数積層されてなる発電要素が、絶縁性の外装部材に収容されて形成される。絶縁性の外装部材は、金属層の両面に絶縁層が積層されてなる絶縁性の積層フィルムが貼り合わされて形成される。 In recent years, the development of electric vehicles (EVs) and hybrid electric vehicles (HEVs) has been promoted against the background of the increasing environmental protection movement. As a power source for driving these motors, lithium ion secondary batteries that can be repeatedly charged and discharged have attracted attention. A lithium ion secondary battery is formed by accommodating a power generation element in which a plurality of sheet-like positive electrodes and negative electrodes are stacked via a separator in an insulating exterior member. The insulating exterior member is formed by laminating an insulating laminated film in which an insulating layer is laminated on both surfaces of a metal layer.
これに関連する技術として、フィルム状の絶縁性部材の信頼性を向上させる見地から、下記の特許文献1に示すような検査装置が提案されている。特許文献1に開示されている検査装置は、検査対象である絶縁性部材を載置する第1電極と、絶縁性部材の上部に電解液を供給する電解液供給部と、絶縁性部材の表面に接触する第2電極とを有する。このような構成によれば、絶縁性部材に貫通孔が形成されている場合、第1電極と第2電極との間に電圧を印加すれば、電解液により第1電極と第2電極とが通電するため、絶縁性部材を貫通するピンホールや傷等の欠陥を検知することができる。 As a technique related to this, an inspection apparatus as shown in the following Patent Document 1 has been proposed from the viewpoint of improving the reliability of a film-like insulating member. The inspection apparatus disclosed in Patent Document 1 includes a first electrode on which an insulating member to be inspected is placed, an electrolytic solution supply unit that supplies an electrolytic solution to an upper portion of the insulating member, and a surface of the insulating member A second electrode in contact with the first electrode. According to such a configuration, when the through-hole is formed in the insulating member, if the voltage is applied between the first electrode and the second electrode, the first electrode and the second electrode are brought into contact with each other by the electrolytic solution. Since electricity is supplied, defects such as pinholes and scratches penetrating the insulating member can be detected.
しかしながら、上記の検査装置では、絶縁性部材の表面側および裏面側に第1および第2電極がそれぞれ配置される。このため、上記の検査装置では、金属層の両面に絶縁層が積層されてなる絶縁性の積層フィルムについて、積層フィルムを貫通していないピンホールや傷等の欠陥を検知することができないという問題がある。 However, in the above inspection apparatus, the first and second electrodes are disposed on the front surface side and the back surface side of the insulating member, respectively. For this reason, the above inspection apparatus cannot detect defects such as pinholes and scratches that do not penetrate the laminated film with respect to the insulating laminated film in which the insulating layers are laminated on both surfaces of the metal layer. There is.
本発明は、上述した問題を解決するためになされたものである。したがって、本発明の目的は、金属層の両面に絶縁層が積層されてなる積層フィルムについて、積層フィルムを貫通していない欠陥を検査することができる検査方法および検査システムを提供することである。 The present invention has been made to solve the above-described problems. Therefore, the objective of this invention is providing the inspection method and inspection system which can test | inspect the defect which has not penetrated the laminated | multilayer film about the laminated | multilayer film by which an insulating layer is laminated | stacked on both surfaces of a metal layer.
本発明の上記目的は、下記の手段によって達成される。 The above object of the present invention is achieved by the following means.
本発明の検査方法は、金属層の両面に絶縁層が積層された積層フィルムの欠陥を検査する検査方法であって、電圧印加工程および検知工程を有する。前記電圧印加工程は、前記絶縁層に浸透する導電性の液体を前記積層フィルムの表面に供給しつつ、当該液体が供給される前記積層フィルムの表面に接触する第1の電極と前記積層フィルムの端部から露出する前記金属層の端部に接触する第2の電極との間に電圧を印加する。前記検知工程は、前記電圧が印加される第1および第2の電極間の通電状態を検知する。ここで、前記液体が前記絶縁層に浸透して前記金属層に到達するとき、前記第1および第2の電極間には、チャタリングが発生し、前記検査方法は、前記積層フィルムの表面に前記液体の供給を開始してから前記チャタリングが発生するまでの時間を検出する検出工程と、欠陥の深さと検出時間との関係を示す関係テーブルを参照して、前記検出された時間から、前記絶縁層に存在する当該絶縁層を未貫通の欠陥の深さを算出する算出工程と、をさらに有する。
また、本発明の検査方法は、金属層の両面に絶縁層が積層された積層フィルムの欠陥を検査する検査方法であって、電圧印加工程および検知工程を有する。前記電圧印加工程は、前記絶縁層に浸透する導電性の液体を前記積層フィルムの表面に供給しつつ、当該液体が供給される前記積層フィルムの表面に接触する第1の電極と前記積層フィルムの端部から露出する前記金属層の端部に接触する第2の電極との間に電圧を印加する。前記検知工程は、前記電圧が印加される第1および第2の電極間の通電状態を検知する。ここで、前記第1および第2の電極間には、チャタリングの発生を防止するように前記電圧が印加され、前記検知工程において、前記積層フィルムへの前記液体の供給開始直後に前記第1および第2の電極間の通電状態が検知される場合、前記絶縁層を貫通して前記金属層に達している欠陥が前記絶縁層に存在すると判断される一方で、前記積層フィルムへの前記液体の供給開始直後に前記第1および第2の電極間の通電状態が検知されない場合、前記絶縁層を未貫通の欠陥が前記絶縁層に存在すると判断される。
The inspection method of the present invention is an inspection method for inspecting a defect of a laminated film in which an insulating layer is laminated on both surfaces of a metal layer, and includes a voltage application step and a detection step. Wherein the voltage applying step, the while the conductive liquid to penetrate the insulating layer and the sheet subjected to a surface of the laminated film, the first electrode and the laminated film in contact with the surface of the laminated film to which the liquid is supplied A voltage is applied between the second electrode contacting the end of the metal layer exposed from the end of the metal layer. In the detecting step, an energization state between the first and second electrodes to which the voltage is applied is detected. Here, when the liquid penetrates the insulating layer and reaches the metal layer, chattering occurs between the first and second electrodes, and the inspection method is performed on the surface of the laminated film. With reference to a detection table for detecting a time from the start of liquid supply until the occurrence of chattering, and a relationship table showing a relationship between the depth of the defect and the detection time, the insulation is determined from the detected time. A calculation step of calculating a depth of a defect that has not penetrated the insulating layer existing in the layer.
The inspection method of the present invention is an inspection method for inspecting a defect of a laminated film in which insulating layers are laminated on both surfaces of a metal layer, and includes a voltage application step and a detection step. In the voltage application step, the conductive liquid penetrating the insulating layer is supplied to the surface of the laminated film, and the first electrode that contacts the surface of the laminated film to which the liquid is supplied and the laminated film A voltage is applied between the second electrode in contact with the end of the metal layer exposed from the end. In the detecting step, an energization state between the first and second electrodes to which the voltage is applied is detected. Here, the voltage is applied between the first and second electrodes so as to prevent chattering, and in the detection step, the first and second electrodes immediately after the liquid supply to the laminated film is started. When an energization state between the second electrodes is detected, it is determined that a defect penetrating the insulating layer and reaching the metal layer is present in the insulating layer, while the liquid to the laminated film is If a current-carrying state between the first and second electrodes is not detected immediately after the supply is started, it is determined that a defect that has not penetrated the insulating layer exists in the insulating layer.
本発明の検査システムは、金属層の両面に絶縁層が積層された積層フィルムの欠陥を検査する検査システムであって、液体供給部、第1の電極、第2の電極、電圧印加部、および検知部を有する。前記液体供給部は、前記絶縁層に浸透する導電性の液体を前記積層フィルムの表面に供給する。前記第1の電極は、前記液体が供給される前記積層フィルムの表面に接触する。前記第2の電極は、前記積層フィルムの端部から露出する前記金属層の端部に接触する。前記電圧印加部は、前記第1および第2の電極間に電圧を印加する。前記検知部は、前記電圧が印加される第1および第2の電極間の通電状態を検知する。ここで、前記液体が前記絶縁層に浸透して前記金属層に到達するとき、前記第1および第2の電極間には、チャタリングが発生し、前記検査システムは、前記積層フィルムの表面に前記液体の供給を開始してから前記チャタリングが発生するまでの時間を検出する検出部と、欠陥の深さと検出時間との関係を示す関係テーブルを参照して、前記検出された時間から、前記絶縁層に存在する当該絶縁層を未貫通の欠陥の深さを算出する算出部と、をさらに有する。
また、本発明の検査システムは、金属層の両面に絶縁層が積層された積層フィルムの欠陥を検査する検査システムであって、液体供給部、第1の電極、第2の電極、電圧印加部、および検知部を有する。前記液体供給部は、前記絶縁層に浸透する導電性の液体を前記積層フィルムの表面に供給する。前記第1の電極は、前記液体が供給される前記積層フィルムの表面に接触する。前記第2の電極は、前記積層フィルムの端部から露出する前記金属層の端部に接触する。前記電圧印加部は、前記第1および第2の電極間に電圧を印加する。前記検知部は、前記電圧が印加される第1および第2の電極間の通電状態を検知する。ここで、前記第1および第2の電極間には、チャタリングの発生を防止するように前記電圧が印加され、前記検査システムは、前記検知部により、前記積層フィルムへの前記液体の供給開始直後に前記第1および第2の電極間の通電状態が検知される場合、前記絶縁層を貫通して前記金属層に達している欠陥が前記絶縁層に存在すると判断する一方で、前記積層フィルムへの前記液体の供給開始直後に前記第1および第2の電極間の通電状態が検知されない場合、前記絶縁層を未貫通の欠陥が前記絶縁層に存在すると判断する演算装置をさらに有する。
An inspection system of the present invention is an inspection system for inspecting a defect of a laminated film in which an insulating layer is laminated on both surfaces of a metal layer, and includes a liquid supply unit, a first electrode, a second electrode, a voltage application unit, and It has a detection part. The liquid supply portion is provided supplying the conductive fluid to penetrate into the insulating layer on the surface of the laminated film. The first electrode contacts the surface of the laminated film to which the liquid is supplied. The second electrode contacts an end portion of the metal layer exposed from an end portion of the laminated film. The voltage application unit applies a voltage between the first and second electrodes. The detection unit detects an energization state between the first and second electrodes to which the voltage is applied. Here, when the liquid penetrates into the insulating layer and reaches the metal layer, chattering occurs between the first and second electrodes, and the inspection system is disposed on the surface of the laminated film. Referring to a detection unit that detects a time from the start of liquid supply until the occurrence of chattering, and a relationship table that shows a relationship between the depth of the defect and the detection time, the insulation is determined based on the detected time. And a calculation unit that calculates the depth of a defect that has not penetrated the insulating layer existing in the layer.
The inspection system of the present invention is an inspection system for inspecting a defect of a laminated film in which insulating layers are laminated on both surfaces of a metal layer, and includes a liquid supply unit, a first electrode, a second electrode, and a voltage application unit. And a detection unit. The liquid supply unit supplies a conductive liquid that penetrates the insulating layer to the surface of the laminated film. The first electrode contacts the surface of the laminated film to which the liquid is supplied. The second electrode contacts an end portion of the metal layer exposed from an end portion of the laminated film. The voltage application unit applies a voltage between the first and second electrodes. The detection unit detects an energization state between the first and second electrodes to which the voltage is applied. Here, the voltage is applied between the first and second electrodes so as to prevent chattering from occurring, and the inspection system immediately starts supplying the liquid to the laminated film by the detection unit. When a current-carrying state between the first and second electrodes is detected, a defect reaching the metal layer through the insulating layer is determined to exist in the insulating layer, while When a current-carrying state between the first and second electrodes is not detected immediately after the liquid supply is started, the computer further includes an arithmetic unit that determines that a defect not penetrating the insulating layer exists in the insulating layer.
本発明によれば、積層フィルムの表面と積層フィルムの端部から露出する金属層の端部との間の通電状態が検知されるため、積層フィルムを貫通していない欠陥を検査することができる。 According to the present invention, since the energized state between the surface of the laminated film and the end of the metal layer exposed from the end of the laminated film is detected, it is possible to inspect a defect that does not penetrate the laminated film. .
以下、図面を参照して、本発明の実施形態を説明する。本実施形態では、本発明の検査システムおよび検査方法を用いて、リチウムイオン二次電池の積層フィルムに存在する欠陥の種類および深さを検査する場合を例にとって説明する。なお、図中、同様の部材には同一の符号を用いた。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the present embodiment, a case where the type and depth of defects present in a laminated film of a lithium ion secondary battery are inspected using the inspection system and inspection method of the present invention will be described as an example. In addition, the same code | symbol was used for the same member in the figure.
図1は、本発明の一実施形態にかかる検査システムにより検査される積層フィルムおよび積層フィルムの欠陥を説明するための図である。図1に示すとおり、本実施形態の積層フィルム10は、金属層20と、金属層20の一方の面に形成されるシール層30と、金属層20の他方の面に形成される保護層40とを有する。
FIG. 1 is a view for explaining a laminated film inspected by an inspection system according to an embodiment of the present invention and defects of the laminated film. As shown in FIG. 1, the laminated
金属層20は、電解液やガスを遮断するものであり、アルミニウムにより形成される。シール層30は、2枚の積層フィルム10を相互に溶着するためのものであり、ポリプロピレン(PP)により形成される。
The
保護層40は、金属層20を保護する第1絶縁層41と、第1絶縁層41と金属層20との間に形成される第2絶縁層42とを有する。第1絶縁層41は、ポリエチレンテレフタレート(PET)により形成される。第2絶縁層42は、第1絶縁層41と金属層20との接合性を向上させるためのものであり、ナイロンにより形成される。なお、金属層20、シール層30、第1絶縁層41、および第2絶縁層42を構成する材料は、上記の材料に限定されるものではない。
The
このように構成される積層フィルム10には、ピンホールや傷等の欠陥50a,50b,50cが形成され得る。これらの欠陥50a,50b,50cは、その深さに応じて、3種類に分類される。
ここで、第1の欠陥は、第1絶縁層41を貫通していない欠陥50aであり(図1(A)参照)、第2の欠陥は、第1絶縁層41を貫通して第2絶縁層42の一部にまで達している欠陥50bである(図1(B)参照)。第3の欠陥は、第1および第2絶縁層41,42を貫通して金属層20に達している欠陥50cである(図1(C)参照)。
Here, the first defect is a
積層フィルム10が貼り合わされて形成される外装部材に、シート状の正極と負極とがセパレータを介して複数積層されてなる発電要素を収容することにより、リチウムイオン二次電池200(図2参照)が形成される。本実施形態では、リチウムイオン二次電池200表面の積層フィルム10の欠陥が検査される。以下、上記の積層フィルム10の欠陥を検査する検査システムについて説明する。
A lithium ion secondary battery 200 (see FIG. 2) is accommodated in an exterior member formed by laminating the
図2は、本発明の一実施形態にかかる検査システムの概略構成を示す図であり、図3は、図2の部分拡大図である。図2および図3に示すとおり、本実施形態の検査システム100は、第1および第2プローブ110,120、電圧印加装置130、および演算装置140を備える。
FIG. 2 is a diagram showing a schematic configuration of an inspection system according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a partially enlarged view of FIG. As shown in FIGS. 2 and 3, the
第1プローブ110は、導電性の液体を供給しつつ、積層フィルム10の表面に接触するものである。第1プローブ110は、タンク部111、電極固定部112、および多孔質ゴム部113を有する。タンク部111は、エタノールを主成分とする導電性の液体(以下、電極液と称する)を収容する。電極固定部112は、フェライトにより形成され、内部に銅線(不図示)を保持している。また、電極固定部112は、タンク部111からの電極液の揮発や垂れ流しを防止する。多孔質ゴム部113は、多孔質のゴム材により形成され、電極液を保持する。多孔質ゴム部113は、積層フィルム10の表面に押し当てられ(図3(A)参照)、積層フィルム10の表面に電極液を供給する。
The
第2プローブ120は、積層フィルム10の端面10eから露出する金属層20の端面20e(図3(B)参照)に接触するものである。第2プローブ120は、V字状の溝部を有する導電性ゴム材により形成され、リチウムイオン二次電池200の端部を挟持して、積層フィルム10の端面10eから露出する金属層20の端面20eに接触する。
The
電圧印加装置130は、第1プローブ110と第2プローブ120との間に一定の電圧を印加する。電圧印加装置130のプラス側には第1プローブ110が接続されており、電圧印加装置130のマイナス側には第2プローブ120が接続されている。また、電圧印加装置130は、インピーダンス測定機としての機能を有し、第1および第2プローブ110,120間のインピーダンス値を測定することができる。
The
演算装置140は、積層フィルム10に存在する欠陥を検知する。演算装置140は、第1および第2プローブ110,120間のインピーダンス値から、積層フィルム10に存在する欠陥の種類を特定する。また、演算装置140は、リチウムイオン二次電池200の表面に第1プローブ110が接触してから、第1および第2プローブ110,120間のインピーダンス値にチャタリングが発生するまでの時間(以下、チャタリング開始時間と称する)を検出する。演算装置140には、欠陥の深さとチャタリング開始時間との関係を示す欠陥深さ−チャタリング開始時間変換テーブルが格納されており、チャタリング開始時間から欠陥の深さを算出することができる。
The
以上のとおり構成される検査システム100では、第1および第2プローブ110,120間の通電状態を検知することにより、積層フィルム10の欠陥の種類および深さが検査される。以下、図4〜図6を参照しつつ、本実施形態における検査システム100において、リチウムイオン二次電池200表面の欠陥を検査する方法について説明する。
In the
図4は、検査システムにより実行される検査処理の手順を示すフローチャートである。図4に示す検査処理に先立って、リチウムイオン二次電池の外観検査がカメラを用いて行われ、欠陥が観察されるリチウムイオン二次電池と欠陥が観察されないリチウムイオン二次電池とが仕分けされる。本実施形態の検査処理では、欠陥が観察されたリチウムイオン二次電池について、当該欠陥の種類および深さが検査される。 FIG. 4 is a flowchart showing a procedure of inspection processing executed by the inspection system. Prior to the inspection process shown in FIG. 4, the appearance inspection of the lithium ion secondary battery is performed using a camera, and the lithium ion secondary battery in which defects are observed and the lithium ion secondary battery in which no defects are observed are sorted. The In the inspection process of the present embodiment, the type and depth of the defect are inspected for the lithium ion secondary battery in which the defect is observed.
まず、第2プローブ120がリチウムイオン二次電池200の端部に接触される(ステップS101)。本実施形態では、V字状の溝部を有する導電性ゴム材よりなる第2プローブ120が、リチウムイオン二次電池200の端部を挟持する。第2プローブ120がリチウムイオン二次電池200の端部を挟持することにより、積層フィルム10の端面10eから露出する金属層20の端面20eと第2プローブ120とが接触する。
First, the
続いて、第1プローブ110がリチウムイオン二次電池200の表面に接触される(ステップS102)。本実施形態では、第1プローブ110の多孔質ゴム部113が、積層フィルム10の欠陥を含む領域に押し当てられる。多孔質ゴム部113は、電極液を保持しているため、多孔質ゴム部113が積層フィルム10に押し当てられることにより、多孔質ゴム部113から電極液が染み出して積層フィルム10の表面に供給される。第1プローブ110がリチウムイオン二次電池200の表面に接触されるとともに、電圧印加装置130により第1および第2のプローブ110,120間に一定の電圧が印加される。
Subsequently, the
続いて、第1および第2プローブ110,120間のインピーダンス値が所定値以下であるか否かが判断される(ステップS103)。本実施形態では、一定の電圧が印加されている第1および第2プローブ110,120間のインピーダンス値が測定され、インピーダンス値が所定値(判定レベル)以下であるか否かが判断される。ここで、所定値は、第1および第2プローブ110,120間の通電状態/絶縁状態を判定するための値であり、たとえば、50Ωである。
Subsequently, it is determined whether or not the impedance value between the first and
第1および第2プローブ110,120間のインピーダンス値が所定値以下でないと判断される場合(ステップS103:NO)、第1および第2プローブ110,120間が絶縁状態にあるとして、ステップS105の処理に移行する。
When it is determined that the impedance value between the first and
一方、第1および第2プローブ110,120間のインピーダンス値が所定値以下であると判断される場合(ステップS103:YES)、不良品の判断がなされ(ステップS104)、処理が終了される。本実施形態では、第1および第2プローブ110,120間が通電状態にあり、第1および第2絶縁層41,42を貫通して金属層20に達している欠陥50c(図1(C)参照)が積層フィルム10に存在すると判断される。金属層20まで達している欠陥50cが存在するリチウムイオン二次電池200は、不良品と判断される。
On the other hand, when it is determined that the impedance value between the first and
以上のとおり、図4のステップS101〜S104に示す処理によれば、第1および第2プローブ110,120間の通電状態が検知される。第1および第2プローブ110,120間の通電状態が検知されることにより、第1および第2絶縁層41,42を貫通して金属層20に達している欠陥50cが積層フィルム10に存在することが検知される。
As described above, according to the processing shown in steps S101 to S104 in FIG. 4, the energization state between the first and
一方、ステップS103に示す処理において、第1および第2プローブ110,120間のインピーダンス値が所定値以下でないと判断される場合(ステップS103:NO)、チャタリングが発生したか否かが判断される(ステップS105)。本実施形態では、第1および第2プローブ110,120間のインピーダンス値が大きく変動するチャタリングが発生したか否かが判断される。
On the other hand, in the process shown in step S103, when it is determined that the impedance value between the first and
図5は、第1および第2プローブ間のチャタリングを説明するための図である。図5(A)は、チャタリングが発生していないインピーダンス波形を示す図であり、図5(B)は、チャタリングが発生しているインピーダンス波形を示す図である。図5(A)および図5(B)の縦軸はインピーダンス値であり、横軸は時間である。チャタリングは、第1絶縁層41を貫通して第2絶縁層42の一部にまで達している欠陥50b(図1(B)参照)が積層フィルム10に存在する場合に発生する。エタノールを主成分とする電極液は、ナイロンよりなる第2絶縁層42に浸透するため、電極液が第2絶縁層42に浸透して金属層20に到達すれば、第1および第2プローブ110,120間が絶縁状態から通電状態に変化する。第1および第2プローブ110,120間が絶縁状態から通電状態に変化するとき、チャタリングが発生する。電極液は時間をかけて第2絶縁層42に浸透し、一定時間(たとえば、数分)経過すれば、第1および第2プローブ110,120間のインピーダンス値はほぼゼロとなる。チャタリングは、金属層20と第2絶縁層42との間の剥離状態に起因している。
FIG. 5 is a diagram for explaining chattering between the first and second probes. FIG. 5A is a diagram illustrating an impedance waveform in which chattering has not occurred, and FIG. 5B is a diagram illustrating an impedance waveform in which chattering has occurred. 5A and 5B, the vertical axis is the impedance value, and the horizontal axis is time. Chattering occurs when a
ステップS105に示す処理において、チャタリングが発生していないと判断される場合(ステップS105:NO)、ステップS109の処理に移行する。 When it is determined in the process shown in step S105 that chattering has not occurred (step S105: NO), the process proceeds to step S109.
一方、チャタリングが発生したと判断される場合(ステップS105:YES)、チャタリング発生時間が検出される(ステップS106)。本実施形態では、第2絶縁層42の一部にまで達している欠陥50bの深さを算出するために、リチウムイオン二次電池200の表面に第1プローブ110が接触してからチャタリングが発生するまでの時間(チャタリング開始時間)が検出される。
On the other hand, when it is determined that chattering has occurred (step S105: YES), chattering occurrence time is detected (step S106). In the present embodiment, chattering occurs after the
続いて、欠陥50bの深さが算出される(ステップS107)。本実施形態では、ステップS106に示す処理で検出されたチャタリング開始時間から、第2絶縁層42の一部にまで達している欠陥50bの深さが算出される。
Subsequently, the depth of the
図6は、電極液の浸透時間と欠陥の深さとの関係を示す図である。図6の縦軸は欠陥の深さであり、横軸は電極液の浸透時間である。図6に示すとおり、第2絶縁層42の一部にまで達している欠陥50bの深さと、電極液の第2絶縁層42への浸透時間とは、欠陥50bの深さが深いほど浸透時間が短くなる関係を有する。したがって、欠陥の深さとチャタリング開始時間との関係を示す欠陥深さ−チャタリング開始時間変換テーブルを予め作成しておくことにより、ステップS106に示す処理で検出されたチャタリング開始時間から、欠陥50bの深さを算出することができる。
FIG. 6 is a diagram showing the relationship between the penetration time of the electrode solution and the depth of the defect. The vertical axis in FIG. 6 is the depth of the defect, and the horizontal axis is the penetration time of the electrode solution. As shown in FIG. 6, the depth of the
続いて、リペアが指示され(ステップS108)、処理が終了される。本実施形態では、第2絶縁層42の一部にまで達している欠陥50bが積層フィルム10に存在するとして、リペアが指示される。なお、第2絶縁層42の一部にまで達している欠陥50bが積層フィルム10に存在する場合、十分な水分遮断特性が得られない。
Subsequently, repair is instructed (step S108), and the process ends. In the present embodiment, repair is instructed on the assumption that the
以上のとおり、図4のステップS105〜ステップS108に示す処理によれば、電極液が第2絶縁層42を透過して金属層20に到達することにより、第1および第2プローブ110,120間が絶縁状態から通電状態に変化することが検知される。第1および第2プローブ110,120間が絶縁状態から通電状態に変化することが検知されることにより、第2絶縁層42の一部にまで達している欠陥50bが積層フィルム10に存在することが検知される。加えて、チャタリング開始時間が検出されることにより、欠陥50bの深さが算出される。
As described above, according to the processing shown in Steps S105 to S108 in FIG. 4, the electrode liquid passes through the second insulating
一方、ステップS105に示す処理において、チャタリングが発生していないと判断される場合(ステップS105:NO)、所定時間経過したか否かが判断される(ステップS109)。ここで、所定時間は、第1および第2プローブ110,120間にチャタリングが発生しないことを確認するのに十分な時間であり、たとえば、5分である。
On the other hand, when it is determined in the process shown in step S105 that chattering has not occurred (step S105: NO), it is determined whether or not a predetermined time has elapsed (step S109). Here, the predetermined time is a time sufficient to confirm that chattering does not occur between the first and
所定時間経過していないと判断される場合(ステップS109:NO)、ステップS105の処理に戻る。 If it is determined that the predetermined time has not elapsed (step S109: NO), the process returns to step S105.
一方、所定時間経過したと判断される場合(ステップS109:YES)、リペアが指示され(ステップS110)、処理が終了される。本実施形態では、第1および第2プローブ110,120間が絶縁状態に維持されており(図5(A)参照)、第1絶縁層41を貫通していない欠陥50a(図1(A)参照)が積層フィルム10に存在するとして、リペアが指示される。
On the other hand, when it is determined that the predetermined time has elapsed (step S109: YES), repair is instructed (step S110), and the process is terminated. In the present embodiment, the first and
以上のとおり、図4のステップS109およびS110に示す処理によれば、第1および第2プローブ110,120間の通電状態が検知されないことにより、第1絶縁層41を貫通していない欠陥50aが積層フィルム10に存在することが検知される。
As described above, according to the processing shown in steps S109 and S110 of FIG. 4, the
そして、本実施形態の検査システムおよび検査方法によれば、積層フィルム10の表面と積層フィルム10の端面10eから露出する金属層20の端面20eとの間の通電状態を検知することにより、積層フィルム10を貫通していない欠陥が検査される。具体的には、第1および第2絶縁層41,42を貫通して金属層20に達している欠陥50c、第1絶縁層41を貫通して第2絶縁層42の一部にまで達している欠陥50b、ならびに第1絶縁層41を貫通していない欠陥50aが検査される。
And according to the test | inspection system and test | inspection method of this embodiment, a laminated | multilayer film is detected by detecting the energization state between the surface of the laminated |
(変形例)
上述した実施形態では、第1および第2プローブ110,120間のチャタチングを利用することにより、第1絶縁層41を貫通して第2絶縁層42の一部にまで達している欠陥50bの深さが算出された。しかしながら、欠陥50bの深さを算出する処理は省略されてもよい。
(Modification)
In the embodiment described above, the depth of the
図7は、変形例にかかる検査処理の手順を示すフローチャートである。変形例にかかる検査処理では、上述した実施形態における印加電圧(たとえば、50V)よりも低い印加電圧(たとえば、25V)が第1および第2プローブ110,120間に印加される。低い電圧が印加されることにより、突入電流が小さくなり、第1および第2プローブ110,120間にチャタリングが発生しなくなる。
FIG. 7 is a flowchart illustrating the procedure of the inspection process according to the modification. In the inspection process according to the modification, an applied voltage (for example, 25 V) lower than the applied voltage (for example, 50 V) in the above-described embodiment is applied between the first and
ステップS201〜S204に示す処理は、図4のステップS101〜S104に示す処理と同様であるため、説明は省略する。図7のステップS201〜S204に示す処理によれば、第1および第2絶縁層41,42を貫通して金属層20に達している欠陥50c(図1(C)参照)が積層フィルム10に存在することが検知される。
The processing shown in steps S201 to S204 is the same as the processing shown in steps S101 to S104 in FIG. According to the processing shown in steps S201 to S204 in FIG. 7, the
一方、ステップS203に示す処理において、インピーダンス値が所定値以下でないと判断される場合(ステップS203:NO)、リペアが指示され(ステップS205)、処理が終了される。本変形例では、第1絶縁層41を貫通して第2絶縁層42の一部にまで達している欠陥50b(図1(B)参照)、または、第1絶縁層41を貫通していない欠陥50a(図1(A)参照)が積層フィルム10に存在するとして、リペアが指示される。
On the other hand, in the process shown in step S203, when it is determined that the impedance value is not less than or equal to the predetermined value (step S203: NO), repair is instructed (step S205), and the process ends. In this modification, the
図8は、低い電圧が印加された場合の第1および第2プローブ間のインピーダンス波形を示す図である。第2絶縁層42の一部にまで達している欠陥50bが積層フィルム10に存在する場合、第1および第2プローブ110,120間に電圧が印加されれば、第1および第2プローブ110,120間が絶縁状態から通電状態に変化する(図8(B)参照)。本変形例では、第1および第2プローブ110,120間に低い電圧を印加することにより、第1および第2プローブ110,120間が絶縁状態から通電状態に変化するとき、チャタリングの発生が防止される。なお、第1絶縁層41を貫通していない欠陥50aが積層フィルム10に存在する場合には、第1および第2プローブ110,120間は、絶縁状態に維持される(図8(A)参照)。
FIG. 8 is a diagram showing an impedance waveform between the first and second probes when a low voltage is applied. When a
このような構成によれば、チャタリングが発生せず、安定したインピーダンス波形が得られるため、不良品またはリペアの判断を短時間(たとえば、1秒以内)で精度よく行うことができる。 According to such a configuration, chattering does not occur and a stable impedance waveform can be obtained, so that a defective product or repair can be accurately determined in a short time (for example, within one second).
以上のとおり、説明した本実施形態は、以下の効果を奏する。 As described above, the described embodiment has the following effects.
(a)本実施形態の検査システムおよび検査方法では、積層フィルムの表面と積層フィルムの端面から露出する金属層の端面との間の通電状態が検知されるため、積層フィルムを貫通していない欠陥を検査することができる。 (A) In the inspection system and the inspection method of the present embodiment, since the energization state between the surface of the laminated film and the end face of the metal layer exposed from the end face of the laminated film is detected, a defect that does not penetrate the laminated film Can be inspected.
(b)第1および第2プローブ間の通電状態が検知される場合、第1および第2絶縁層を貫通して金属層に達している欠陥が存在すると判断される。したがって、積層フィルムを貫通することなく金属層に達している欠陥を検査することができる。 (B) When a current-carrying state between the first and second probes is detected, it is determined that there is a defect penetrating the first and second insulating layers and reaching the metal layer. Therefore, the defect reaching the metal layer can be inspected without penetrating the laminated film.
(c)電極液が第2絶縁層に浸透して金属層に到達することにより、第1および第2プローブ間が絶縁状態から通電状態に変化することが検知される場合、第1絶縁層を貫通して第2絶縁層の一部にまで達している欠陥が存在すると判断される。したがって、金属層に達していない欠陥を検査することができる。 (C) When it is detected that the electrode liquid penetrates into the second insulating layer and reaches the metal layer, the first and second probes are changed from the insulating state to the energized state. It is determined that there is a defect that penetrates and reaches a part of the second insulating layer. Therefore, it is possible to inspect defects that have not reached the metal layer.
(d)積層フィルムの表面に電極液の供給を開始してからチャタリングが発生するまでの時間を検出することにより、欠陥の深さが算出される。したがって、積層フィルムを破壊することなく、第1絶縁層を貫通して第2絶縁層の一部にまで達している欠陥の深さを算出することができる。 (D) Defect depth is calculated by detecting the time from the start of supplying the electrode solution to the surface of the laminated film until chattering occurs. Therefore, it is possible to calculate the depth of the defect that penetrates the first insulating layer and reaches a part of the second insulating layer without destroying the laminated film.
(e)第1および第2プローブ間にチャタリングの発生を防止するように電圧が印加される。したがって、第1および第2絶縁層を貫通して金属層に達している欠陥と、金属層に達していない欠陥とを短時間で精度よく検査することができる。その結果、リチウムイオン二次電池の組み立て工程におけるインライン検査に適用することが可能になる。 (E) A voltage is applied between the first and second probes so as to prevent chattering. Therefore, it is possible to accurately inspect in a short time a defect that has penetrated through the first and second insulating layers and reached the metal layer, and a defect that has not reached the metal layer. As a result, it becomes possible to apply to in-line inspection in the assembly process of the lithium ion secondary battery.
(f)第1プローブは、電極液を保持する多孔質ゴム部を含むため、第1プローブの多孔質ゴム部を積層フィルムの表面に押し当てることにより、積層フィルムに電極液を供給することができる。 (F) Since the first probe includes a porous rubber portion that holds the electrode solution, the electrode solution can be supplied to the laminated film by pressing the porous rubber portion of the first probe against the surface of the laminated film. it can.
(g)第2プローブは、積層フィルムの端部を挟持するV字状の溝部を有する導電性の弾性部材であるため、積層フィルムの端部を傷つけることなく、積層フィルムの端面から露出する金属層の端面に接触することができる。 (G) Since the second probe is a conductive elastic member having a V-shaped groove that sandwiches the end of the laminated film, the metal exposed from the end face of the laminated film without damaging the end of the laminated film The end face of the layer can be contacted.
以上のとおり、説明した一実施形態において、本発明の検査システムおよび検査方法を説明した。しかしながら、本発明は、その技術思想の範囲内において当業者が適宜に追加、変形、および省略することができることはいうまでもない。 As described above, in the described embodiment, the inspection system and the inspection method of the present invention have been described. However, it goes without saying that the present invention can be appropriately added, modified, and omitted by those skilled in the art within the scope of the technical idea.
たとえば、上述した実施形態では、カメラを用いた外観検査により欠陥が予め確認された積層フィルムに対して、本発明の検査システムにより欠陥の種類および深さの検査が行われた。しかしながら、カメラによる外観検査を行うことなく、本発明の検査システムにより、欠陥の有無を直接検査してもよい。 For example, in the above-described embodiment, the type and depth of the defect are inspected by the inspection system of the present invention on the laminated film in which the defect is previously confirmed by the appearance inspection using the camera. However, the presence / absence of a defect may be directly inspected by the inspection system of the present invention without performing an appearance inspection by a camera.
また、上述した実施形態では、第1および第2プローブ間のインピーダンス値が測定されることにより、第1および第2プローブ間の通電状態が検知された。しかしながら、第1および第2プローブ間の電流値が測定されることにより、第1および第2プローブ間の通電状態が検知されてもよい。 In the above-described embodiment, the energization state between the first and second probes is detected by measuring the impedance value between the first and second probes. However, the energization state between the first and second probes may be detected by measuring the current value between the first and second probes.
また、上述した実施形態では、積層フィルムの端部の端面から露出する金属層の端部の端面に第2プローブが接触された。しかしながら、積層フィルムの端部の第1および第2絶縁層を除去して積層フィルムの端部から金属層の端部を露出させ、金属層の端部に第2プローブが接触されてもよい。 In the above-described embodiment, the second probe is brought into contact with the end surface of the end portion of the metal layer exposed from the end surface of the end portion of the laminated film. However, the first and second insulating layers at the end of the laminated film may be removed to expose the end of the metal layer from the end of the laminated film, and the second probe may be in contact with the end of the metal layer.
また、上述した実施形態では、第1プローブは、タンク部および多孔質ゴム部を有し、積層フィルムの表面に電極液を供給した。しかしながら、第1プローブとは別に液体供給装置を設け、液体供給装置から積層フィルムの表面に電極液を供給してもよい。 In the above-described embodiment, the first probe has a tank part and a porous rubber part, and supplies the electrode solution to the surface of the laminated film. However, a liquid supply device may be provided separately from the first probe, and the electrode liquid may be supplied from the liquid supply device to the surface of the laminated film.
また、上述した実施形態では、第2プローブは、V字状の溝部を有する導電性ゴム材により形成された。しかしながら、第2プローブは、金属製プローブであってもよい。 In the above-described embodiment, the second probe is formed of a conductive rubber material having a V-shaped groove. However, the second probe may be a metal probe.
また、上述した実施形態では、導電性の液体として、エタノールが利用された。しかしながら、導電性の液体はエタノールに限定されるものではなく、導電性を有する種々の液体が利用され得る。 In the above-described embodiment, ethanol is used as the conductive liquid. However, the conductive liquid is not limited to ethanol, and various liquids having conductivity can be used.
10 積層フィルム、
20 金属層、
30 シール層(絶縁層)、
40 保護層(絶縁層)、
41 第1絶縁層(第1の絶縁層)、
42 第2絶縁層(第2の絶縁層)、
50a,50b,50c 欠陥、
100 検査システム、
110 第1プローブ(第1の電極、液体供給部)、
111 タンク部、
112 電極固定部、
113 多孔質ゴム部(多孔質部材)、
120 第2プローブ(第2の電極)、
130 電圧印加装置(電圧印加部、検知部)、
140 演算装置(検出部、算出部)。
10 Laminated film,
20 metal layers,
30 sealing layer (insulating layer),
40 protective layer (insulating layer),
41 1st insulating layer (1st insulating layer),
42 2nd insulating layer (2nd insulating layer),
50a, 50b, 50c defects,
100 inspection system,
110 first probe (first electrode, liquid supply unit),
111 tank section,
112 electrode fixing part,
113 Porous rubber part (porous member),
120 second probe (second electrode),
130 voltage application device (voltage application unit, detection unit),
140 Arithmetic unit (detection unit, calculation unit).
Claims (10)
前記絶縁層に浸透する導電性の液体を前記積層フィルムの表面に供給しつつ、当該液体が供給される前記積層フィルムの表面に接触する第1の電極と前記積層フィルムの端部から露出する前記金属層の端部に接触する第2の電極との間に電圧を印加する電圧印加工程と、
前記電圧が印加される第1および第2の電極間の通電状態を検知する検知工程と、を有し、
前記液体が前記絶縁層に浸透して前記金属層に到達するとき、前記第1および第2の電極間には、チャタリングが発生し、
前記検査方法は、
前記積層フィルムの表面に前記液体の供給を開始してから前記チャタリングが発生するまでの時間を検出する検出工程と、
欠陥の深さと検出時間との関係を示す関係テーブルを参照して、前記検出された時間から、前記絶縁層に存在する当該絶縁層を未貫通の欠陥の深さを算出する算出工程と、をさらに有することを特徴とする検査方法。 An inspection method for inspecting defects in a laminated film in which insulating layers are laminated on both sides of a metal layer,
While the conductivity of the liquid to penetrate into the insulating layer and subjected fed to the surface of the laminated film, exposed from the end portion of the first electrode and the laminated film in contact with the surface of the laminated film to which the liquid is supplied A voltage applying step of applying a voltage between the second electrode contacting the end of the metal layer;
Have a, a detection step of detecting the current supply state between the first and second electrode to which the voltage is applied,
When the liquid penetrates the insulating layer and reaches the metal layer, chattering occurs between the first and second electrodes,
The inspection method is:
A detection step of detecting a time from the start of supplying the liquid to the surface of the laminated film until the chattering occurs;
A calculation step of calculating a depth of a defect not penetrating through the insulating layer existing in the insulating layer from the detected time with reference to a relation table showing a relationship between the depth of the defect and the detecting time; An inspection method further comprising:
前記絶縁層に浸透する導電性の液体を前記積層フィルムの表面に供給しつつ、当該液体が供給される前記積層フィルムの表面に接触する第1の電極と前記積層フィルムの端部から露出する前記金属層の端部に接触する第2の電極との間に電圧を印加する電圧印加工程と、
前記電圧が印加される第1および第2の電極間の通電状態を検知する検知工程と、を有し、
前記第1および第2の電極間には、チャタリングの発生を防止するように前記電圧が印加され、
前記検知工程において、前記積層フィルムへの前記液体の供給開始直後に前記第1および第2の電極間の通電状態が検知される場合、前記絶縁層を貫通して前記金属層に達している欠陥が前記絶縁層に存在すると判断される一方で、前記積層フィルムへの前記液体の供給開始直後に前記第1および第2の電極間の通電状態が検知されない場合、前記絶縁層を未貫通の欠陥が前記絶縁層に存在すると判断されることを特徴とする検査方法。 An inspection method for inspecting defects in a laminated film in which insulating layers are laminated on both sides of a metal layer,
While the conductivity of the liquid to penetrate into the insulating layer and subjected fed to the surface of the laminated film, exposed from the end portion of the first electrode and the laminated film in contact with the surface of the laminated film to which the liquid is supplied A voltage applying step of applying a voltage between the second electrode contacting the end of the metal layer;
Have a, a detection step of detecting the current supply state between the first and second electrode to which the voltage is applied,
The voltage is applied between the first and second electrodes to prevent chattering,
In the detection step, when a current-carrying state between the first and second electrodes is detected immediately after the supply of the liquid to the laminated film is detected, the defect penetrates the insulating layer and reaches the metal layer Is not present in the insulating layer, and if the current-carrying state between the first and second electrodes is not detected immediately after the supply of the liquid to the laminated film is detected, a defect not penetrating the insulating layer Is determined to exist in the insulating layer .
前記絶縁層に浸透する導電性の液体を前記積層フィルムの表面に供給する液体供給部と、
前記液体が供給される前記積層フィルムの表面に接触する第1の電極と、
前記積層フィルムの端部から露出する前記金属層の端部に接触する第2の電極と、
前記第1および第2の電極間に電圧を印加する電圧印加部と、
前記電圧が印加される第1および第2の電極間の通電状態を検知する検知部と、を有し、
前記液体が前記絶縁層に浸透して前記金属層に到達するとき、前記第1および第2の電極間には、チャタリングが発生し、
前記検査システムは、
前記積層フィルムの表面に前記液体の供給を開始してから前記チャタリングが発生するまでの時間を検出する検出部と、
欠陥の深さと検出時間との関係を示す関係テーブルを参照して、前記検出された時間から、前記絶縁層に存在する当該絶縁層を未貫通の欠陥の深さを算出する算出部と、をさらに有することを特徴とする検査システム。 An inspection system for inspecting defects in a laminated film in which insulating layers are laminated on both sides of a metal layer,
Wherein the liquid supply portion to supply feed on the surface of the conductive liquid to penetrate into the insulating layer and the laminated film,
A first electrode that contacts a surface of the laminated film to which the liquid is supplied;
A second electrode in contact with the end of the metal layer exposed from the end of the laminated film;
A voltage applying unit for applying a voltage between the first and second electrodes;
Have a, a detection unit for detecting the current supply state between the first and second electrode to which the voltage is applied,
When the liquid penetrates the insulating layer and reaches the metal layer, chattering occurs between the first and second electrodes,
The inspection system includes:
A detection unit for detecting a time from the start of supplying the liquid to the surface of the laminated film until the chattering occurs;
A calculation unit that calculates a depth of a defect that has not penetrated the insulating layer existing in the insulating layer from the detected time with reference to a relation table that indicates a relationship between the depth of the defect and the detection time. An inspection system further comprising:
前記絶縁層に浸透する導電性の液体を前記積層フィルムの表面に供給する液体供給部と、
前記液体が供給される前記積層フィルムの表面に接触する第1の電極と、
前記積層フィルムの端部から露出する前記金属層の端部に接触する第2の電極と、
前記第1および第2の電極間に電圧を印加する電圧印加部と、
前記電圧が印加される第1および第2の電極間の通電状態を検知する検知部と、を有し、
前記第1および第2の電極間には、チャタリングの発生を防止するように前記電圧が印加され、
前記検査システムは、
前記検知部により、前記積層フィルムへの前記液体の供給開始直後に前記第1および第2の電極間の通電状態が検知される場合、前記絶縁層を貫通して前記金属層に達している欠陥が前記絶縁層に存在すると判断する一方で、前記積層フィルムへの前記液体の供給開始直後に前記第1および第2の電極間の通電状態が検知されない場合、前記絶縁層を未貫通の欠陥が前記絶縁層に存在すると判断する演算装置をさらに有することを特徴とする検査システム。 An inspection system for inspecting defects in a laminated film in which insulating layers are laminated on both sides of a metal layer,
Wherein the liquid supply portion to supply feed on the surface of the conductive liquid to penetrate into the insulating layer and the laminated film,
A first electrode that contacts a surface of the laminated film to which the liquid is supplied;
A second electrode in contact with the end of the metal layer exposed from the end of the laminated film;
A voltage applying unit for applying a voltage between the first and second electrodes;
Have a, a detection unit for detecting the current supply state between the first and second electrode to which the voltage is applied,
The voltage is applied between the first and second electrodes to prevent chattering,
The inspection system includes:
When the energization state between the first and second electrodes is detected by the detection unit immediately after the supply of the liquid to the laminated film is detected, the defect reaches the metal layer through the insulating layer Is not present in the insulating layer, and if a current-carrying state between the first and second electrodes is not detected immediately after the liquid supply to the laminated film is started, a defect that has not penetrated the insulating layer An inspection system further comprising an arithmetic unit that determines that the insulating layer is present in the insulating layer .
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