JP5824147B2 - Visibility evaluation device for transparent substrate, positioning device for laminated body, determination device, position detection device, evaluation device for surface condition of metal foil, program, recording medium, method for producing printed wiring board, visibility evaluation of transparent substrate Method, Laminate Positioning Method, Judgment Method, Position Detection Method - Google Patents
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Description
本発明は、透明基材の視認性評価装置、積層体の位置決め装置、判定装置、位置検出装置、金属箔の表面状態の評価装置、プログラム、記録媒体、プリント配線板の製造方法、透明基材の視認性評価方法、積層体の位置決め方法、判定方法、位置検出方法に関する。 The present invention relates to a visibility evaluation device for a transparent substrate, a positioning device for a laminate, a determination device, a position detection device, an evaluation device for the surface state of a metal foil, a program, a recording medium, a printed wiring board manufacturing method, and a transparent substrate. It is related with the visibility evaluation method, the positioning method of a laminated body, the determination method, and a position detection method.
スマートフォンやタブレットPCといった小型電子機器には、配線の容易性や軽量性からフレキシブルプリント配線板(以下、FPC)が採用されている。近年、これら電子機器の高機能化により信号伝送速度の高速化が進み、FPCにおいてもインピーダンス整合が重要な要素となっている。信号容量の増加に対するインピーダンス整合の方策として、FPCのベースとなる樹脂絶縁層(例えば、ポリイミド)の厚層化が進んでいる。一方、FPCは液晶基材への接合やICチップの搭載などの加工が施されるが、この際の位置合わせは銅箔と樹脂絶縁層との積層板における銅箔をエッチングした後に残る樹脂絶縁層を透過して視認される位置決めパターンを介して行われるため、樹脂絶縁層の視認性が重要となる。 In a small electronic device such as a smartphone or a tablet PC, a flexible printed wiring board (hereinafter referred to as FPC) is adopted because of easy wiring and light weight. In recent years, with the enhancement of functions of these electronic devices, the signal transmission speed has been increased, and impedance matching has become an important factor in FPC. As a measure for impedance matching with respect to an increase in signal capacity, a resin insulation layer (for example, polyimide) serving as a base of an FPC has been increased in thickness. On the other hand, processing such as bonding to a liquid crystal substrate and mounting of an IC chip is performed on the FPC, but the alignment at this time is the resin insulation remaining after etching the copper foil in the laminate of the copper foil and the resin insulating layer The visibility of the resin insulation layer is important because it is performed through a positioning pattern that is visible through the layer.
このような樹脂絶縁層の視認性の評価方法として、特許文献1では、CCDカメラによって樹脂絶縁層越しに撮影した画像を観察して評価している。また、特許文献2では、評価対象の樹脂絶縁層の水平面に対して30°をなす角度からCCDカメラで撮影した画像にテストパターンが歪んで映っているか否かを評価している。
As a method for evaluating the visibility of such a resin insulating layer, in
しかしながら、特許文献1のようにCCDカメラで観察して画像を単純に観察するものでは、視認性評価の精度には限界があり、製造ラインで実際に作製しなければ、位置合わせ等のために設けられたマークを透明基材越しに視認することが可能か否かを判断できないのが実情であり、製造コストの点で問題があった。これは特許文献2のように当該画像にテストパターンが歪んで映っているか否かを評価する方法であっても同様である。
本発明は、透明基材の視認性を効率良く正確に評価することができる透明基材の視認性評価装置、透明基材の視認性評価プログラム及びそれが記録されたコンピュータ読み取り可能な記録媒体を提供する。また、本発明は、積層体の位置決めを効率良く正確に行うことができる積層体の位置決め装置、積層体の位置決めプログラム及びそれが記録されたコンピュータ読み取り可能な記録媒体、及び、プリント配線板の製造方法を提供する。また、本発明は、銅箔の表面状態を効率良く正確に評価することができる銅箔の表面状態の評価装置、銅箔の表面状態の評価プログラム及びそれが記録されたコンピュータ読み取り可能な記録媒体、並びに、銅箔の表面状態の評価方法を提供する。また、本発明は、透明基材の視認性を効率良く正確に評価することができる透明基材の視認性評価方法を提供する。また、本発明は、積層体の位置決めを効率良く正確に行う方法、マークが存在するか否かの判定を効率良く正確に行う方法及びマークの位置を効率良く正確に検出する方法を提供する。However, in the case of simply observing an image by observing with a CCD camera as in
The present invention relates to a visibility evaluation apparatus for a transparent base material that can efficiently and accurately evaluate the visibility of a transparent base material, a visibility evaluation program for a transparent base material, and a computer-readable recording medium on which the program is recorded. provide. The present invention also relates to a laminate positioning apparatus capable of efficiently and accurately positioning the laminate, a laminate positioning program, a computer-readable recording medium on which the laminate is recorded, and a printed wiring board. Provide a method. The present invention also relates to a copper foil surface state evaluation apparatus, a copper foil surface state evaluation program, and a computer-readable recording medium on which the copper foil surface state evaluation program is recorded. And the evaluation method of the surface state of copper foil is provided. Moreover, this invention provides the visibility evaluation method of the transparent base material which can evaluate the visibility of a transparent base material efficiently and correctly. In addition, the present invention provides a method for efficiently and accurately positioning a laminated body, a method for efficiently and accurately determining whether or not a mark exists, and a method for efficiently and accurately detecting the position of a mark.
本発明者らは鋭意研究を重ねた結果、透明基材の下にマークを設けて撮影手段で透明基材越しに撮影し、当該マーク部分の画像から得た観察地点−明度グラフにおいて描かれるマーク端部付近の明度曲線の傾きに着目し、当該明度曲線の傾きを評価することで、透明基材の視認性を透明基材の種類や透明基材の厚みの影響を受けずに、効率良く正確に評価することができることを見出した。 As a result of intensive research, the inventors have provided a mark under the transparent base material, photographed through the transparent base material with a photographing means, and a mark drawn in the observation point-lightness graph obtained from the image of the mark portion. Paying attention to the slope of the brightness curve near the edge and evaluating the slope of the brightness curve, the visibility of the transparent substrate can be efficiently improved without being affected by the type of transparent substrate and the thickness of the transparent substrate. It was found that it can be evaluated accurately.
以上の知見を基礎として完成された本発明は一側面において、透明基材の下に存在するマークを、前記透明基材越しに撮影する撮影手段と、前記撮影によって得られた画像について、観察された前記マークが伸びる方向と交わる方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作製する観察地点−明度グラフ作製手段と、前記観察地点−明度グラフにおいて、前記マークの端部から前記マークがない部分にかけて生じる明度曲線の傾きに基づいて前記透明基材の視認性を評価する視認性評価手段とを備えた透明基材の視認性評価装置である。 The present invention completed on the basis of the above knowledge is, in one aspect, observed with respect to an imaging means for imaging a mark existing under a transparent substrate through the transparent substrate, and an image obtained by the imaging. In the observation point-lightness graph preparation means for measuring the lightness of each observation point along the direction intersecting with the direction in which the mark extends to produce an observation point-lightness graph, and in the observation point-lightness graph, the end of the mark It is the visibility evaluation apparatus of the transparent base material provided with the visibility evaluation means which evaluates the visibility of the said transparent base material based on the inclination of the brightness curve produced from the part to the part which does not have the said mark.
本発明は別の一側面において、コンピュータを本発明の透明基材の視認性評価装置として機能させるためのプログラムである。 In another aspect, the present invention is a program for causing a computer to function as the visibility evaluation device for a transparent substrate of the present invention.
本発明は更に別の一側面において、本発明の透明基材の視認性評価装置として機能させるためのプログラムが記録されたコンピュータ読み取り可能な記録媒体である。 In another aspect of the present invention, there is provided a computer-readable recording medium in which a program for functioning as the transparent substrate visibility evaluation apparatus of the present invention is recorded.
本発明は更に別の一側面において、金属と樹脂との積層体の位置決めをするための積層体の位置決め装置であって、マークを有する、前記金属と樹脂の積層体に対し、前記マークを前記樹脂越しに撮影する撮影手段と、前記撮影によって得られた画像について、観察された前記マークが伸びる方向と交わる方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作製する観察地点−明度グラフ作製手段と、前記観察地点−明度グラフにおいて、前記マークの端部から前記マークがない部分にかけて生じる明度曲線の傾きによって前記積層体の位置を決定する位置決め手段とを備えた積層体の位置決め装置である。 In another aspect of the present invention, there is provided a positioning device for a laminate for positioning a laminate of a metal and a resin, wherein the mark is included in the laminate of the metal and the resin having a mark. An imaging means for imaging through the resin, and an observation for producing an observation point-lightness graph by measuring the brightness at each observation point along the direction intersecting the direction in which the observed mark extends with respect to the image obtained by the imaging Laminate provided with point-lightness graph preparation means and positioning means for determining the position of the laminate according to the slope of the lightness curve generated from the end of the mark to the portion without the mark in the observation point-lightness graph It is a positioning device.
本発明は更に別の一側面において、コンピュータを本発明の積層体の位置決め装置として機能させるためのプログラムである。 In yet another aspect of the present invention, there is provided a program for causing a computer to function as the laminated body positioning device of the present invention.
本発明は更に別の一側面において、コンピュータを本発明の積層体の位置決め装置として機能させるためのプログラムが記録されたコンピュータ読み取り可能な記録媒体である。 In still another aspect of the present invention, there is provided a computer-readable recording medium on which a program for causing a computer to function as the laminated body positioning device of the present invention is recorded.
本発明は更に別の一側面において、本発明の位置決め装置を用いて、プリント配線板の位置決めを行い、位置決めされた前記プリント配線板に部品を装着する工程を含むプリント配線板の製造方法である。 According to another aspect of the present invention, there is provided a printed wiring board manufacturing method including a step of positioning a printed wiring board using the positioning device of the present invention and mounting a component on the positioned printed wiring board. .
本発明は更に別の一側面において、表面処理金属箔の表面処理された表面側を透明基材の少なくとも一方の面に張り合わせた後に、前記表面処理銅箔をエッチングにより除去し、当該表面処理金属箔をエッチングにより除去した後の透明基材の下に存在するマークを、前記透明基材越しに撮影する撮影手段と、前記撮影によって得られた画像について、観察された前記マークが伸びる方向と交わる方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作製する観察地点−明度グラフ作製手段と、前記観察地点−明度グラフにおいて、前記マークの端部から前記マークがない部分にかけて生じる明度曲線の傾きに基づいて前記透明基材の視認性を評価し、前記視認性の評価結果に基づいて金属箔の表面状態を評価する金属箔表面状態評価手段とを備えた金属箔の表面状態の評価装置である。 In another aspect of the present invention, after the surface-treated surface side of the surface-treated metal foil is bonded to at least one surface of the transparent substrate, the surface-treated copper foil is removed by etching, The imaging means for imaging the mark existing under the transparent base material after the foil is removed by etching through the transparent base material, and the image obtained by the imaging crosses the direction in which the observed mark extends. In the observation point-lightness graph preparation means for measuring the lightness of each observation point along the direction to prepare an observation point-lightness graph, and in the observation point-lightness graph, from the end of the mark to the portion where the mark is not present Metal foil surface that evaluates the visibility of the transparent substrate based on the slope of the resulting brightness curve, and evaluates the surface state of the metal foil based on the evaluation result of the visibility An evaluation device for the surface condition of the metal foil and a condition evaluation unit.
本発明は更に別の一側面において、コンピュータを本発明の金属箔の表面状態の評価装置として機能させるためのプログラムである。 In still another aspect of the present invention, there is provided a program for causing a computer to function as the metal foil surface state evaluation apparatus of the present invention.
本発明は更に別の一側面において、コンピュータを本発明の金属箔の表面状態の評価装置として機能させるためのプログラムが記録されたコンピュータ読み取り可能な記録媒体である。 In still another aspect of the present invention, there is provided a computer-readable recording medium on which a program for causing a computer to function as the metal foil surface state evaluation apparatus of the present invention is recorded.
本発明は更に別の一側面において、表面処理金属箔の表面処理された表面側を透明基材の少なくとも一方の面に張り合わせた後に、前記表面処理金属箔をエッチングにより除去し、当該表面処理金属箔をエッチングにより除去した後の透明基材の下に存在するマークを、前記透明基材越しに撮影し、前記撮影によって得られた画像について、観察された前記マークが伸びる方向と交わる方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作製し、前記観察地点−明度グラフにおいて、前記マークの端部から前記マークがない部分にかけて生じる明度曲線の傾きを角度に基づいて前記透明基材の視認性を評価し、前記視認性の評価結果に基づいて金属箔の表面状態を評価する金属箔の表面状態の評価方法である。 According to another aspect of the present invention, after the surface-treated surface side of the surface-treated metal foil is bonded to at least one surface of the transparent substrate, the surface-treated metal foil is removed by etching, and the surface-treated metal foil The mark existing under the transparent base material after removing the foil by etching is photographed through the transparent base material, and the image obtained by the photographing is along the direction intersecting with the direction in which the observed mark extends. The brightness of each observation point is measured to produce an observation point-lightness graph. In the observation point-lightness graph, the slope of the lightness curve that occurs from the end of the mark to the portion without the mark is based on the angle. It is the evaluation method of the surface state of the metal foil which evaluates the visibility of the transparent substrate and evaluates the surface state of the metal foil based on the evaluation result of the visibility.
本発明は更に別の一側面において、マーク及び前記マーク上に設けた透明基材を準備し、前記マークを前記透明基材越しにCCDカメラで撮影し、前記撮影によって得られた画像について、観察された前記マークを横切る方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作成し、前記観察地点−明度グラフにおいて、前記マークの端部から前記マークがない部分にかけて生じる明度曲線の傾きに基づいて前記透明基材の視認性を評価する方法である。 In another aspect of the present invention, a mark and a transparent substrate provided on the mark are prepared, the mark is photographed with a CCD camera through the transparent substrate, and an image obtained by the photographing is observed. The observation point-lightness graph is created by measuring the lightness of each observation point along the direction crossing the mark, and the lightness generated from the end of the mark to the portion where the mark is not present in the observation point-lightness graph. This is a method for evaluating the visibility of the transparent substrate based on the slope of a curve.
本発明は更に別の一側面において、金属と樹脂との積層体の位置決めをする方法であって、前記金属と樹脂の積層体はマークを有し、前記マークを前記樹脂越しにCCDカメラで撮影し、前記撮影によって得られた画像について、観察された前記マークを横切る方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作成し、前記観察地点−明度グラフにおいて、前記マークの端部から前記マークがない部分にかけて生じる明度曲線の傾きに基づいて金属と樹脂との積層体の位置決めをする方法である。 In another aspect of the present invention, there is provided a method of positioning a laminate of metal and resin, wherein the laminate of metal and resin has a mark, and the mark is photographed with a CCD camera through the resin. Then, with respect to the image obtained by the photographing, the brightness at each observation point is measured along the direction crossing the observed mark to create an observation point-lightness graph. In the observation point-lightness graph, the mark This is a method of positioning the laminate of metal and resin based on the slope of the brightness curve generated from the end of the metal to the portion where the mark is not present.
本発明は更に別の一側面において、本発明の位置決め方法を用いて、プリント配線板の位置決めを行い、位置決めされた前記プリント配線板に部品を装着する工程を含むプリント配線板の製造方法である。 In another aspect of the present invention, there is provided a printed wiring board manufacturing method including a step of positioning a printed wiring board using the positioning method of the present invention and mounting a component on the positioned printed wiring board. .
本発明は更に別の一側面において、金属と透明基材との積層体が有するマークが存在するか否かを判定する方法であって、マークを有する、前記金属と透明基材との積層体に対し、前記マークを前記透明基材越しに撮影し、前記撮影によって得られた画像について、観察された前記マークが伸びる方向と交わる方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作成し、前記観察地点−明度グラフにおいて、前記マークの端部から前記マークがない部分にかけて生じる明度曲線の傾きに基づいて前記積層体が有するマークが存在するか否かを判定する方法である。 According to another aspect of the present invention, there is provided a method for determining whether or not there is a mark included in a laminate of a metal and a transparent substrate, the laminate of the metal and the transparent substrate having a mark. On the other hand, the mark is photographed through the transparent base material, and the brightness of each observation point is measured along the direction intersecting the direction in which the observed mark extends with respect to the image obtained by the photographing. A method of creating a brightness graph and determining whether or not there is a mark included in the laminate based on an inclination of a brightness curve generated from an end portion of the mark to a portion without the mark in the observation point-lightness graph It is.
本発明は更に別の一側面において、金属と透明基材との積層体が有するマークが存在するか否かを判定する装置であって、マークを有する、前記金属と透明基材の積層体に対し、前記マークを前記透明基材越しに撮影する撮影手段と、前記撮影によって得られた画像について、観察された前記マークが伸びる方向と交わる方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作製する観察地点−明度グラフ作製手段と、前記観察地点−明度グラフにおいて、前記マークの端部から前記マークがない部分にかけて生じる明度曲線の傾きに基づいて前記マークが存在するか否かを判定する判定手段とを備えた、金属と透明基材との積層体が有するマークが存在するか否かを判定する装置である。 According to another aspect of the present invention, there is provided an apparatus for determining whether or not there is a mark included in a laminate of a metal and a transparent substrate, the laminate including the metal and the transparent substrate having a mark. On the other hand, with respect to the imaging means for imaging the mark through the transparent substrate and the image obtained by the imaging, the brightness at each observation point is measured along the direction intersecting with the direction in which the observed mark extends. In the observation point-lightness graph preparation means for preparing the point-lightness graph, and in the observation point-lightness graph, whether the mark exists based on the slope of the lightness curve that occurs from the end of the mark to the portion without the mark An apparatus for determining whether or not a mark included in a laminate of a metal and a transparent substrate exists.
本発明は更に別の一側面において、コンピュータを本発明の金属と透明基材との積層体が有するマークが存在するか否かを判定する装置として機能させるためのプログラムである。 In another aspect of the present invention, there is provided a program for causing a computer to function as an apparatus for determining whether or not a mark included in a laminate of a metal and a transparent substrate of the present invention is present.
本発明は更に別の一側面において、コンピュータを本発明の金属と透明基材との積層体が有するマークが存在するか否かを判定する装置として機能させるためのプログラムが記録されたコンピュータ読み取り可能な記録媒体である。 In yet another aspect of the present invention, a computer-readable program having recorded thereon a program for causing a computer to function as a device for determining whether or not the mark of the laminate of the metal and the transparent substrate of the present invention exists is recorded. Recording medium.
本発明は更に別の一側面において、金属と透明基材との積層体が有するマークの位置を検出する方法であって、マークを有する、前記金属と透明基材との積層体に対し、前記マークを前記透明基材越しに撮影し、前記撮影によって得られた画像について、観察された前記マークが伸びる方向と交わる方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作成し、前記観察地点−明度グラフにおいて、前記マークの端部から前記マークがない部分にかけて生じる明度曲線の傾きに基づいて前記マークの位置を検出する方法である。 According to still another aspect of the present invention, there is provided a method for detecting a position of a mark included in a laminate of a metal and a transparent substrate, the mark including the metal and the transparent substrate, Photograph the mark through the transparent base material, and create an observation point-brightness graph by measuring the brightness at each observation point along the direction where the observed mark extends with respect to the image obtained by the photographing. In the observation point-lightness graph, the position of the mark is detected based on the slope of the lightness curve generated from the end of the mark to the portion where the mark is not present.
本発明は更に別の一側面において、金属と透明基材との積層体が有するマークの位置を検出する装置であって、マークを有する、前記金属と透明基材の積層体に対し、前記マークを前記透明基材越しに撮影する撮影手段と、前記撮影によって得られた画像について、観察された前記マークが伸びる方向と交わる方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作成する観察地点−明度グラフ作製手段と、前記観察地点−明度グラフにおいて、前記マークの端部から前記マークがない部分にかけて生じる明度曲線の傾きに基づいて前記マークの位置を検出する位置検出手段とを備えた、金属と透明基材との積層体が有するマークの位置を検出する装置である。 According to another aspect of the present invention, there is provided an apparatus for detecting a position of a mark included in a laminate of a metal and a transparent substrate, wherein the mark is included in the laminate of the metal and the transparent substrate. An observation point-lightness graph by measuring the lightness at each observation point along the direction intersecting the direction in which the observed mark extends with respect to the image obtained by photographing through the transparent substrate and the image obtained by the photographing Observation point-lightness graph preparation means for creating the position, and position detection means for detecting the position of the mark based on the slope of the lightness curve generated from the end of the mark to the portion without the mark in the observation point-lightness graph The apparatus which detects the position of the mark which the laminated body of a metal and a transparent base material provided with.
本発明は更に別の一側面において、コンピュータを本発明の金属と透明基材との積層体が有するマークの位置を検出する装置として機能させるためのプログラムである。 In another aspect of the present invention, there is provided a program for causing a computer to function as a device for detecting a position of a mark included in a laminate of a metal and a transparent substrate of the present invention.
本発明は更に別の一側面において、コンピュータを本発明の金属と透明基材との積層体が有するマークの位置を検出する装置として機能させるためのプログラムが記録されたコンピュータ読み取り可能な記録媒体である。 In another aspect of the present invention, there is provided a computer-readable recording medium on which a program for causing a computer to function as a device for detecting a position of a mark included in a laminate of a metal and a transparent substrate of the present invention is recorded. is there.
本発明によれば、透明基材の視認性を効率良く正確に評価することができる。また、本発明によれば、積層体の位置決めを効率良く正確に行うことができる。また、本発明によれば、金属箔の表面状態を効率良く正確に評価することができる。また、本発明によれば、マークが存在するか否かの判定を効率良く正確に行うことができる。また、本発明によれば、マークの位置を効率良く正確に検出することができる。 According to the present invention, the visibility of a transparent substrate can be evaluated efficiently and accurately. Moreover, according to this invention, positioning of a laminated body can be performed efficiently and correctly. Moreover, according to this invention, the surface state of metal foil can be evaluated efficiently and correctly. Further, according to the present invention, it is possible to efficiently and accurately determine whether or not a mark exists. Further, according to the present invention, the position of the mark can be detected efficiently and accurately.
(透明基材の視認性評価装置、視認性評価方法、視認性評価プログラム及び記録媒体)
図1は、本発明の実施形態に係る透明基材の視認性評価装置10の模式図である。本発明の実施形態に係る透明基材の視認性評価装置10は、ステージ15上に設けられた透明基材17の下に存在するマーク16を、透明基材17越しに撮影する撮影手段11と、撮像手段11からの画像信号を基に各種の処理を行うコンピュータ12と、コンピュータ12からの各種信号を基に所定の画像等を表示する表示手段13と、ステージ上の透明基材17及びマーク16に光を照射する照明手段14とを備えている。本発明で評価の対象とする透明基材17は特に限定されず、透明であれば、ガラス製やポリイミド等の樹脂製基材であってもよい。なお、本発明では透明とは光透過性を有することも含まれる。なお、本発明におけるマークは、紙等の印刷物に印刷された印でもよく、銅配線でもよく、目印となる印であればどのような形態であってもよい。また、マークとは印刷物であってもよく、金属であってもよく、無機物であってもよく、有機物であってもよく、目印となるものであればよい。マークは、ライン状であれば、撮影によって得られた画像について、観察されたマークを横切る方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作成するのが容易となり、好ましい。(Visibility evaluation apparatus for transparent substrate, visibility evaluation method, visibility evaluation program, and recording medium)
FIG. 1 is a schematic diagram of a
フレキシブルプリント配線板(FPC)は液晶基材への接合やICチップの搭載などの加工が施されるが、この際の位置合わせは銅張積層板の銅箔をエッチングした後に残る樹脂絶縁層を透過して視認される位置決めパターンを介して行われるため、樹脂絶縁層の視認性が重要となる。このような樹脂絶縁層の効率良い正確な視認性評価のために、本発明において、透明基材は、少なくとも一方の表面が粗化処理などの表面処理をされた表面処理金属箔を、粗化処理などの表面処理をされた表面側から、透明基材の少なくとも一方の表面に貼り合わせた後、エッチングで前記金属箔を除去して作製されていてもよい。また、透明基材は、表面処理金属箔を、粗化処理などの表面処理をされた表面側から透明基材の両面に貼り合わせた後、エッチングを行い、両面の金属箔を除去することで作製されていてもよい。当該金属箔は、特に限定されないが、銅箔、アルミ箔、ニッケル箔、銅合金箔、ニッケル合金箔、アルミ合金箔、ステンレス箔、鉄箔、鉄合金箔等を用いることができる。 The flexible printed wiring board (FPC) is subjected to processing such as bonding to a liquid crystal substrate and mounting of an IC chip. The alignment at this time is the resin insulation layer that remains after etching the copper foil of the copper-clad laminate. The visibility of the resin insulating layer is important because it is performed through a positioning pattern that is visible through the screen. In order to efficiently and accurately evaluate the visibility of such a resin insulating layer, in the present invention, the transparent substrate is roughened with a surface-treated metal foil on which at least one surface has been subjected to a surface treatment such as a roughening treatment. The metal foil may be removed by etching after bonding to at least one surface of the transparent substrate from the surface side subjected to surface treatment such as treatment. In addition, the transparent base material is obtained by attaching the surface-treated metal foil to both surfaces of the transparent base material from the surface side subjected to surface treatment such as roughening treatment, and then performing etching to remove the metal foil on both sides. It may be produced. Although the said metal foil is not specifically limited, Copper foil, aluminum foil, nickel foil, copper alloy foil, nickel alloy foil, aluminum alloy foil, stainless steel foil, iron foil, iron alloy foil, etc. can be used.
撮影手段11は、撮像素子、撮像素子の出力が入力される画像処理回路等で構成された画像処理部、画像処理部等を制御する制御回路等で構成された制御部、レンズ等で構成された光学系等を備えている。撮影手段11としては、例えばCCDカメラ等を用いることができる。撮影手段11は、ステージ15上に設けられた透明基材17の下に存在するマーク16を、透明基材17越しに撮影して画像を取得する。
The imaging means 11 includes an imaging device, an image processing unit configured with an image processing circuit to which an output of the imaging device is input, a control unit configured with a control circuit that controls the image processing unit, a lens, and the like. Equipped with an optical system. As the photographing
コンピュータ12は、撮像手段11からの画像信号を基に各種の処理を行う。コンピュータ12は、撮像手段11からの画像信号について、観察されたマーク16が伸びる方向と交わる方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作成する観察地点−明度グラフ作製手段と、観察地点−明度グラフにおいて、マーク16の端部からマーク16がない部分にかけて生じる明度曲線の傾きによって透明基材17の視認性を評価する視認性評価手段とを備えている。観察地点−明度グラフ作製手段は、観察されたマーク16が伸びる方向と垂直な方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作成してもよい。
The
コンピュータ12は、撮影手段11による撮影によって得られた画像について、明度のばらつきを緩和させるスムージング処理手段をさらに備え、観察地点−明度グラフ作製手段が、スムージング処理後の明度を用いて観察地点−明度グラフを作成してもよい。
The
また、透明基材17の下に存在するマーク16が、透明基材17の下に敷いた印刷物に印刷されたライン状のマーク16であり、観察地点−明度グラフ作製手段が、撮影によって得られた画像について、観察されたライン状のマーク16が伸びる方向と垂直な方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作製してもよい。
Further, the
コンピュータ12は、記憶手段としてのメモリを備えている。このメモリには、デジタル化した撮像手段11からの画像、観察地点−明度グラフ作製式、視認性評価式、各段階における評価値等がそれぞれコンピュータ読み取り可能に記録(いわゆる保存)されている。
The
表示手段13は、コンピュータ12からの各種信号を基に、観察地点−明度グラフ、視認性評価結果等の所定の画像や数値等を表示する。
The
次に、上記実施形態による透明基材の視認性評価装置10を用いた視認性評価方法について、図2に示すフローチャートを参照して説明する。なお、図2に示すフローチャートは本発明に係る透明基材の視認性評価装置10を用いた視認性評価方法の一実施形態であり、本発明の視認性評価装置10で実現可能な評価方法は、図2のフローチャートで示すものに限られない。特に、スムージング処理は、図2では撮影で得られた画像に対して、観察地点−明度グラフを作成する前に行っているが、これに限らず、例えば、観察地点−明度グラフを作成した後に行ってもよい。
透明基材の視認性評価装置10を用いた視認性評価方法では、まず、透明基材17の下に存在するマーク16を、透明基材17越しに撮影手段11によって撮影する。撮影手段11によって撮影された画像の信号は、コンピュータ12へ送られる。コンピュータ12の観察地点−明度グラフ作製手段は、撮像手段11からの画像信号について、観察されたマーク16が伸びる方向と垂直な方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作製する。コンピュータ12の視認性評価手段は、当該観察地点−明度グラフにおいて、マーク16の端部からマーク16がない部分にかけて生じる明度曲線の傾きによって透明基材17の視認性を評価する。従来、製造ラインで実際に作製しなければ、位置合わせ等のために設けられたマークを透明基材越しに視認することが可能か否かを判断できず、製造コストの点で問題があった。しかしながら、本発明に係る透明基材の視認性評価装置10を用いれば、上記構成により、実験室のみでも容易に効率良く透明基材17の視認性を正確に評価することが可能となる。Next, a visibility evaluation method using the transparent substrate
In the visibility evaluation method using the
本発明で評価の対象とする透明基材17としてポリイミド基板を用いる場合、ポリイミド基板は、厚さ50μmであり、且つ、金属箔に貼り合わせ前のポリイミド基板についてのマーク16の端部からマーク16がない部分にかけて生じる明度曲線のトップ平均値Btとボトム平均値Bbとの差ΔB(PI)〔ΔB(PI)=Bt−Bb〕が20以上33以下であるものを用いてもよい。また、本発明で評価の対象とする透明基材17としてポリイミド基板を用いる場合、ポリイミド基板は、厚さ50μmであり、且つ、金属箔に貼り合わせ前のポリイミド基板についてのマーク16の端部からマーク16がない部分にかけて生じる明度曲線のトップ平均値Btとボトム平均値Bbとの差ΔB(PI)〔ΔB(PI)=Bt−Bb〕が50以上65以下であるものを用いてもよい。
When a polyimide substrate is used as the
コンピュータ12の視認性評価手段は、表面処理金属箔を、粗化処理などの表面処理をされた表面処理表面側から、ポリイミド基板の少なくとも一方の表面に貼り合わせた後、エッチングで金属箔を除去して作製されたポリイミド基板についてのマーク16の端部からマーク16がない部分にかけて生じる明度曲線のトップ平均値Btとボトム平均値Bbとの差ΔB(ΔB=Bt−Bb)と、ΔB/ΔB(PI)からなる比率と、Btを基準とした所定の深さ範囲における前記明度曲線の角度で表された傾きk1とを用いて視認性の評価を行うことができる。
また、コンピュータ12の視認性評価手段は、マーク16の端部からマーク16がない部分にかけて生じる明度曲線のトップ平均値Btとボトム平均値Bbとの差ΔB(ΔB=Bt−Bb)が20以上33以下であり、ΔB/ΔB(PI)からなる比率が0.7以上であり、Btを基準に0.4ΔB〜0.6ΔBの深さ範囲における明度曲線の角度で表された傾きk1が65°以上となる場合を良好と判定してもよく、さらに87°以下となる場合をより良好と判定してもよい。
また、コンピュータ12の視認性評価手段は、明度曲線とBtとの交点からBtを基準に0.1ΔBまでの深さ範囲における明度曲線の角度で表された傾きk2を更に評価に用いてもよい。また、さらに、k2が30°以上となる場合を更に良好と判定してもよい。
このような評価装置によれば、透明基材の視認性を効率良く、更に正確に評価することが可能となる。The visibility evaluation unit of the
Further, the visibility evaluation means of the
Further, the visibility evaluation unit of the
According to such an evaluation apparatus, it becomes possible to evaluate the visibility of the transparent substrate efficiently and more accurately.
コンピュータ12は、撮影手段11による撮影によって得られた画像について、明度のばらつきを緩和させるスムージング処理手段をさらに備え、観察地点−明度グラフ作製手段が、スムージング処理後の明度を用いて観察地点−明度グラフを作製するのが好ましい。撮影手段11による撮影によって得られた画像から得られる明度のノイズを含んだデータ(原波形)に対して、スムージング処理手段によるスムージング処理を行うことで、当該明度のばらつきが緩和するため、透明基材17の視認性をより正確に評価することが可能となる。スムージング処理手段によるスムージング処理としては、種々ある平滑化プログラムにより行うことができ、例えば、2・3次多項式適合法によるスムージング処理、フーリエ変換によるスムージング処理、或いは、移動平均法によるスムージング処理等を用いることができる。なお、スムージング処理は、公知の種々ある平滑化プログラムを用いて行ってもよい。また、明度データのスムージング処理はマーク16の有る部分、無い部分の両方について行ってもよく、マーク16の有る部分について行ってもよく、マーク16の無い部分に行ってもよく、部分的に行ってもよい。
The
なお、撮影手段11による撮影によって得られた画像について、当該明度のスムージング処理を行う前に、あらかじめ当該明度のノイズを含んだデータ(原波形)の観察地点−明度グラフ作製を行ってもよい。
Note that an image obtained by photographing by the photographing
ここで、「明度曲線のトップ平均値Bt」、「明度曲線のボトム平均値Bb」、「明度曲線の角度で表された傾きk1」、及び、後述の「明度曲線の角度で表された傾きk2」について、図を用いて説明する。また、「明度曲線のボトム平均値Bb」については、マーク16の幅を大きくした(例えばマーク16の幅は0.7mm以上、例えば0.8mm以上、例えば5mm以下、4mm以下、例えば約1.3mmとすることができる。)としたものと、マーク16の幅を小さくした(例えばマーク16の幅は0.01mm以上、0.05mm以上、0.1mm以上、0.8mm以下、0.7mm以下、0.6mm以下、例えば0.3mmとすることができる。)としたものとでは、規定が異なっているため、それぞれの場合について説明する。
Here, “top average value Bt of the lightness curve”, “bottom average value Bb of the lightness curve”, “slope k1 represented by the angle of the lightness curve”, and “slope represented by the angle of the lightness curve described later” “k2” will be described with reference to the drawings. For the “bottom average value Bb of the brightness curve”, the width of the
図3に、マーク16の幅を大きくした(約1.3mmとした)場合のBt及びBbを定義する模式図を示す。図3の「マーク」は、上記CCDカメラによる撮影で得られた画像に観察された印刷物のライン状のマーク16(幅約1.3mm)を示している。当該マーク16に重なるように描かれた曲線が上記観察地点−明度グラフにおいて、マーク16の端部からマーク16がない部分にかけて生じる明度曲線を示している。図3に示すように、「明度曲線のトップ平均値Bt」は、マーク16の両側の端部位置から100μm離れた位置から30μm間隔で5箇所(両側で合計10箇所)測定したときの明度の平均値を示す。「明度曲線のボトム平均値Bb」は、マーク16の端部位置から100μm内側に入った位置から100μm間隔で11箇所測定したときの明度の平均値を示す。なお、明度の平均値を測定するための観察地点の間隔は、明度曲線の形に応じて適宜1μm〜500μmの範囲で採用することができる。観察地点の偏りを避けるため、観察地点の間隔は略等間隔であるか、等間隔であることが好ましい。なお、観察地点の間隔は略等間隔でなくても良く、等間隔でなくても良い。また、測定間隔が広いほど、特定の観察地点の影響を排除することができ、観察地点による誤差を軽減できると考える。
FIG. 3 is a schematic diagram for defining Bt and Bb when the width of the
図4(a)及び図4(b)に、マーク16の幅を約0.3mmとした場合のBt及びBbを定義する模式図を示す。マーク16の幅を約0.3mmとした場合、図4(a)に示すようにV型の明度曲線となる場合と、図4(b)に示すように約1.3mmの場合と同様に底部を有する明度曲線となる場合がある。いずれの場合も「明度曲線のトップ平均値Bt」は、マーク16の両側の端部位置から50μm離れた位置から、マーク16の幅を約1.3mmとした場合と同様に、30μm間隔で5箇所(両側で合計10箇所)測定したときの明度の平均値を示す。一方、「明度曲線のボトム平均値Bb」は、明度曲線が図4(a)に示すようにV型となる場合は、このV字の谷の先端部における明度の最低値を示し、図4(b)の底部を有する場合は、約0.3mmの中心部の値を示す。なお、明度の平均値を測定するための観察地点の間隔は、明度曲線の形に応じて適宜1μm〜500μmの範囲で採用することができる。観察地点の偏りを避けるため、観察地点の間隔は略等間隔であるか、等間隔であることが好ましい。なお、観察地点の間隔は略等間隔でなくてもよく、等間隔でなくてもよい。また、測定間隔が広いほど、特定の観察地点の影響を排除することができ、観測地点による誤差を軽減できると考える。
FIGS. 4A and 4B are schematic diagrams for defining Bt and Bb when the width of the
図5に、k1及びk2を定義する模式図を示す。「明度曲線の角度で表された傾きk1」は、Btを基準に0.4ΔB〜0.6ΔB〔ΔBは、明度曲線のトップ平均値Btとボトム平均値Bbとの差(ΔB=Bt−Bb)〕の深さ範囲における明度曲線の角度で表された傾きを示す(k1(°)=tan-1(b(階調)/a(ピクセル)))。なお、横軸の1ピクセルは10μm長さに相当する。そして、明度曲線のグラフにおける1ピクセルと1階調の長さの比率を3.5:5(明度曲線のグラフにおける1ピクセルの長さ:明度曲線のグラフにおける1階調の長さ=3.5:5)とした明度曲線のグラフにおいてk1(°)の値を算出した。また、k1は、マーク16の両側を測定し、角度で表された傾きの小さい値を採用する。「明度曲線の角度で表された傾きk2」は、明度曲線とBtとの交点からBtを基準に0.1ΔBまでの深さ範囲における明度曲線の角度で表された傾きを示す(k2(°)=tan-1(d(階調)/c(ピクセル)))。なお、横軸の1ピクセルは10μm長さに相当する。そして、明度曲線のグラフにおける1ピクセルと1階調の長さの比率を3.5:5(明度曲線のグラフにおける1ピクセルの長さ:明度曲線のグラフにおける1階調の長さ=3.5:5)とした明度曲線のグラフにおいてk1(°)の値を算出した。また、k2は、マーク16の両側を測定し、角度で表された傾きの小さい値を採用する。さらに、明度曲線の形状が不安定で上記「明度曲線とBtとの交点」が複数存在する場合は、最もマーク16に近い交点を採用する。FIG. 5 shows a schematic diagram defining k1 and k2. “Slope k1 expressed by the angle of the lightness curve” is 0.4ΔB to 0.6ΔB based on Bt [ΔB is the difference between the top average value Bt and the bottom average value Bb of the lightness curve (ΔB = Bt−Bb) )] Indicates the slope of the brightness curve in the depth range (k1 (°) = tan −1 (b (gradation) / a (pixel))). One pixel on the horizontal axis corresponds to a length of 10 μm. Then, the ratio of the length of one pixel to one gradation in the lightness curve graph is 3.5: 5 (the length of one pixel in the lightness curve graph: the length of one gradation in the lightness curve graph = 3. The value of k1 (°) was calculated in the lightness curve graph of 5: 5). Further, k1 is measured on both sides of the
ΔB(PI)は、銅箔等の金属箔に貼り合わせ前のポリイミドについての明度曲線のトップ平均値Btとボトム平均値Bbとの差を示す。
CCDカメラで撮影した上記画像において、マーク16が付されていない部分では高い明度となるが、マーク16端部に到達したとたんに明度が低下する。ポリイミド基板の視認性が良好であれば、このような明度の低下状態が明確に観察される。一方、ポリイミド基板の視認性が不良であれば、明度がマーク16端部付近で一気に「高」から「低」へ急に下がるのではなく、低下の状態が緩やかとなり、明度の低下状態が不明確となってしまう。ΔB (PI) indicates the difference between the top average value Bt and the bottom average value Bb of the lightness curve for the polyimide before being bonded to a metal foil such as a copper foil.
In the image taken with the CCD camera, the brightness is high in the portion where the
本発明はこのような知見に基づき、表面処理銅箔等の金属箔を貼り合わせて除去したポリイミド基板に対し、マーク16を付した印刷物を下に置き、ポリイミド基板越しにCCDカメラで撮影した上記マーク部分の画像から得られる観察地点−明度グラフにおいて描かれるマーク16端部付近の明度曲線の角度で表された傾き、より詳細には、明度曲線のトップ平均値Btとボトム平均値Bbとの差ΔB(ΔB=Bt−Bb)、ΔB/ΔB(PI)からなる比率、Btを基準に0.4ΔB〜0.6ΔBの深さ範囲における明度曲線の角度で表された傾きk1を総合的に評価することで、正確な透明基板の視認性評価を可能としている。k1は好ましくは65°以上であり、さらに87°以下であればより好ましい。また、k1の上限は87°以下であることが好ましく、85°以下であることが更に好ましく、83°以下であることが更により好ましい。k1が87°を超えるとピール強度が小さくなる場合がある。ΔB/ΔB(PI)の上限は特に規定する必要は無いが例えば、1.70以下、あるいは1.50以下、あるいは1.40以下である。
The present invention is based on such knowledge, the polyimide substrate from which the metal foil such as the surface-treated copper foil is bonded and removed, the printed matter with the
また、撮影手段11によって得られた画像からコンピュータ12の観察地点−明度グラフ作製手段が作製した観察地点−明度グラフにおいて、明度曲線とBtとの交点からBtを基準に0.1ΔBまでの深さ範囲における明度曲線の角度で表された傾きk2が30°以上となるものを更に視認性が良好であると評価してもよい。このような構成によれば、マーク16とマーク16で無い部分との境界がより明確になり、位置決め精度が向上して、マーク画像認識による誤差が少なくなり、より正確に位置合わせができるようになる。k2は、より好ましくは35°以上、より好ましくは40°以上である。k2の上限は特に限定する必要は無いが例えば87°以下、あるいは82°以下、あるいは77°以下、あるいは72°以下である。
Further, in the observation point-lightness graph prepared by the observation point-lightness graph preparation means of the
本発明において、粗化処理とは、例えば金属箔の表面に対して物理的な研磨や処理(機械研磨、バフ研磨、サンドブラスト処理など)または化学的な研磨や処理(酸洗、粗化めっき(粗化粒子を電着させるめっき))等をすることにより、金属箔の表面の凹凸を増す処理のことをいう。また、本発明において表面処理とは、粗化処理、湿式めっき処理、乾式めっき処理(スパッタリング処理や蒸着処理を含む)、化学研磨処理、機械研磨処理など金属箔の表面に物理的、化学的な処理をする処理のことをいう。 In the present invention, the roughening treatment means, for example, physical polishing or treatment (mechanical polishing, buffing, sandblasting, etc.) or chemical polishing or treatment (pickling, roughening plating ( It refers to a treatment for increasing the irregularities on the surface of the metal foil by performing plating or the like for electrodeposition of roughened particles)). In the present invention, the surface treatment means a physical or chemical treatment on the surface of the metal foil such as roughening treatment, wet plating treatment, dry plating treatment (including sputtering treatment and vapor deposition treatment), chemical polishing treatment, mechanical polishing treatment, etc. A process that performs processing.
また、上述のような処理手順をプログラムとしてコンピュータに実行させることで、透明基材の視認性を効率良く正確に評価することができる。 Moreover, the visibility of a transparent base material can be evaluated efficiently and correctly by making a computer perform the above processing procedures as a program.
さらに、このプログラムを光学、あるいは磁気ディスクなどの記録媒体にコンピュータ読み取り可能に記録させて用いることにより、他のコンピュータでもこのプログラムを実現でき、上述の処理手順と同様の作用効果を得ることができる。 Furthermore, by using this program recorded on a recording medium such as an optical or magnetic disk so that it can be read by a computer, this program can be realized on other computers, and the same effects as the above-described processing procedure can be obtained. .
(積層体の位置決め装置、積層体の位置決め方法、積層体の位置決めプログラム及び記録媒体)
図6は、本発明の実施形態に係る積層体の位置決め装置20の模式図である。本発明の実施形態に係る積層体の位置決め装置20は、ステージ25上に設けられた金属と樹脂との積層体27中に存在するマーク26を、樹脂越しに撮影する撮影手段21と、撮像手段21からの画像信号を基に各種の処理を行うコンピュータ22と、コンピュータ22からの各種信号を基に所定の画像等を表示する表示手段23と、ステージ上の積層体27に光を照射する照明手段24とを備えている。(Laminate Positioning Device, Laminate Positioning Method, Laminate Positioning Program, and Recording Medium)
FIG. 6 is a schematic diagram of a
金属と樹脂との積層体27としては、樹脂に金属を貼り合わせて構成されているものであれば、特に形態は限定されない。本発明における金属と樹脂との積層体27の具体例としては、本体基板と付属の回路基板と、それらを電気的に接続するために用いられる、ポリイミド等の樹脂の少なくとも一方の表面に銅等の金属配線が形成されたフレキシブルプリント基板とで構成される電子機器において、フレキシブルプリント基板を正確に位置決めして当該本体基板及び付属の回路基板の配線端部に圧着させて作製される積層体が挙げられる。すなわち、この場合であれば、積層体27は、フレキシブルプリント基板及び本体基板の配線端部が圧着により貼り合わせられた積層体、或いは、フレキシブルプリント基板及び回路基板の配線端部が圧着により貼り合わせられた積層体となる。積層体27は、当該金属配線の一部や別途材料で形成したマークを有している。マークの位置については、当該積層体27を構成する樹脂越しにCCDカメラ等の撮影手段21で撮影可能な位置であれば特に限定されない。
The form of the
撮影手段21は、撮像素子、撮像素子の出力が入力される画像処理回路等で構成された画像処理部、画像処理部等を制御する制御回路等で構成された制御部、レンズ等で構成された光学系等を備えている。撮影手段21としては、例えばCCDカメラ等を用いることができる。撮影手段21は、ステージ25上に設けられた積層体27中に存在するマーク26を、積層体の樹脂越しに撮影して画像を取得する。
The photographing means 21 includes an imaging device, an image processing unit configured with an image processing circuit to which an output of the imaging device is input, a control unit configured with a control circuit that controls the image processing unit, a lens, and the like. Equipped with an optical system. As the photographing
コンピュータ22は、撮像手段21からの画像信号を基に各種の処理を行う。コンピュータ22は、撮像手段21からの画像信号について、観察されたマーク26が伸びる方向と交わる方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作製する観察地点−明度グラフ作製手段と、観察地点−明度グラフにおいて、マーク26の端部からマーク26がない部分にかけて生じる明度曲線の傾きによって積層体27の位置を決定する位置決め手段とを備えている。観察地点−明度グラフ作製手段は、観察されたマーク26が伸びる方向と垂直な方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作製してもよい。
The
コンピュータ22は、撮影手段21による撮影によって得られた画像について、明度のばらつきを緩和させるスムージング処理手段をさらに備え、観察地点−明度グラフ作製手段が、スムージング処理後の明度を用いて観察地点−明度グラフを作製してもよい。
The
コンピュータ22は、記憶手段としてのメモリを備えている。このメモリには、デジタル化した撮像手段21からの画像、観察地点−明度グラフ作製式、位置決め式、各段階における評価値等がそれぞれコンピュータ読み取り可能に記録(いわゆる保存)されている。
The
表示手段23は、コンピュータ22からの各種信号を基に、観察地点−明度グラフ、位置評価結果等の所定の画像や数値等を表示する。
The
次に、上記実施形態による積層体の位置決め装置20を用いた位置決め方法について、図7に示すフローチャートを参照して説明する。なお、図7に示すフローチャートは本発明に係る積層体の位置決め装置20を用いた位置決め方法の一実施形態であり、本発明の位置決め装置20で実現可能な評価方法は、図7のフローチャートで示すものに限られない。特に、スムージング処理は、図7では撮影で得られた画像に対して、観察地点−明度グラフを作成する前に行っているが、これに限らず、例えば、観察地点−明度グラフを作成した後に行ってもよい。
積層体の位置決め装置20を用いた位置決め方法は、ステージ25上に設けられた金属と樹脂との積層体27中に存在するマーク26を、撮影手段21によって樹脂越しに撮影する。撮影手段21によって撮影された画像の信号は、コンピュータ22へ送られる。コンピュータ22の観察地点−明度グラフ作製手段は、撮像手段21からの画像信号について、観察されたマーク26が伸びる方向と垂直な方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作製する。コンピュータ22の位置決め手段は、当該観察地点−明度グラフにおいて、マーク26の端部からマーク26がない部分にかけて生じる明度曲線の傾きによって積層体27の位置を評価する。Next, a positioning method using the laminated
In the positioning method using the laminated
コンピュータ22の位置決め手段は、表面処理金属箔を、粗化処理などの表面処理をされた表面側から、ポリイミド基板の少なくとも一方の表面に貼り合わせた後、エッチングで金属箔を除去して作製されたポリイミド基板についてのマーク26の端部からマーク26がない部分にかけて生じる明度曲線のトップ平均値Btとボトム平均値Bbとの差ΔB(ΔB=Bt−Bb)と、ΔB/ΔB(PI)からなる比率と、Btを基準とした所定の深さ範囲における前記明度曲線の角度で表された傾きk1とを用いて位置決めを行うことができる。また、コンピュータ22の視認性評価手段は、明度曲線とBtとの交点からBtを基準に0.1ΔBまでの深さ範囲における明度曲線の角度で表された傾きk2を更に評価に用いてもよい。このような構成によってマーク26の位置を検出して、検出されたマーク26の位置に基づき金属と樹脂との積層体27の位置決めをすることができる。
Bt、Bb、k1及びk2の定義は、上記の透明基材の視認性評価で説明した通りであり、このような位置決め方法によれば、マーク26とマーク26で無い部分との境界がより明確になり、位置決め精度が向上して、マーク画像認識による誤差が少なくなり、より正確に位置合わせができるようになる。例えば、ΔB(PI)、ΔB/ΔB(PI)、k1又はk2の値が所定の範囲である場合は、マーク26が当該位置に存在するという判定を、位置を検出する装置が行うことが出来る。具体的には、例えば、ΔB(PI)が20以上33以下、ΔB/ΔB(PI)からなる比率が0.7以上、k1が65°以上、さらには87°以下、或いは、k2が30°以上である場合にマーク26が当該位置に存在するという判定を、位置を検出する装置によって行うことが出来る。The positioning means of the
The definition of Bt, Bb, k1, and k2 is as described in the visibility evaluation of the transparent base material, and according to such a positioning method, the boundary between the
コンピュータ22は、撮影手段21による撮影によって得られた画像について、明度のばらつきを緩和させるスムージング処理手段をさらに備え、観察地点−明度グラフ作製手段が、スムージング処理後の明度を用いて観察地点−明度グラフを作製するのが好ましい。撮影手段21による撮影によって得られた画像から得られる明度のノイズを含んだデータ(原波形)に対して、スムージング処理手段によるスムージング処理を行うことで、当該明度のばらつきが緩和するため、積層体27の位置をより正確に評価することが可能となる。スムージング処理手段によるスムージング処理としては、種々ある平滑化プログラムにより行うことができ、例えば、2・3次多項式適合法によるスムージング処理、フーリエ変換によるスムージング処理、或いは、移動平均法によるスムージング処理等を用いることができる。
The
なお、撮影手段21による撮影によって得られた画像について、当該明度のスムージング処理を行う前に、あらかじめ当該明度のノイズを含んだデータ(原波形)の観察地点−明度グラフ作製を行ってもよい。
Note that an image obtained by photographing by the photographing
また、積層体の位置決め装置20は、位置を決定した積層体(銅と樹脂の積層体やプリント配線板を含む)の位置合わせを行う位置合わせ手段(不図示)をさらに備えてもよい。位置合わせ手段としては、例えば、積層体を移動することができる移動装置や移動手段等が挙げられる。移動装置や移動手段としては例えばベルトコンベヤーやチェーンコンベヤーなどのコンベヤー、アーム機構を備えた移動装置や移動手段、気体を用いて積層体を浮遊させることで移動させる移動装置や移動手段、略円筒形などの物を回転させて積層体を移動させる移動装置や移動手段(コロやベアリングなどを含む)、油圧を動力源とした移動装置や移動手段、空気圧を動力源とした移動装置や移動手段、モーターを動力源とした移動装置や移動手段、ガントリ移動型リニアガイドステージ、ガントリ移動型エアガイドステージ、スタック型リニアガイドステージ、リニアモーター駆動ステージなどのステージを有する移動装置や移動手段などを用いてもよい。また、移動装置や移動手段として公知の移動装置や移動手段を用いてもよい。
The laminated
なお、本発明の実施の形態に係る位置決め装置20は表面実装機を有していてもよいし、表面実装機に本発明の実施の形態に係る位置決め装置を設置してもよい。
The
また、本発明の実施の形態に係る位置決め装置20においては、当該位置決め装置によって位置決めされる前記金属と樹脂との積層体が、樹脂板及び前記樹脂板の上に設けられた回路を有するプリント配線板であってもよい。また、その場合、前記マークが前記回路であってもよい。
Further, in the
また、上述のような処理手順をプログラムとしてコンピュータに実行させることで、積層体の位置決めを効率良く正確に評価することができる。 Moreover, the positioning of a laminated body can be evaluated efficiently and correctly by making a computer perform the above processing procedures as a program.
さらに、このプログラムを光学、あるいは磁気ディスクなどの記録媒体にコンピュータ読み取り可能に記録させて用いることにより、他のコンピュータでもこのプログラムを実現でき、上述の処理手順と同様の作用効果を得ることができる。 Furthermore, by using this program recorded on a recording medium such as an optical or magnetic disk so that it can be read by a computer, this program can be realized on other computers, and the same effects as the above-described processing procedure can be obtained. .
本発明において「位置決め」とは「マークや物の位置を検出すること」を含む。また、本発明において、「位置合わせ」とは、「マークや物の位置を検出した後に、前記検出した位置に基づいて、当該マークや物を所定の位置に移動すること」を含む。 In the present invention, “positioning” includes “detecting the position of a mark or an object”. In the present invention, “alignment” includes “after detecting the position of a mark or object, moving the mark or object to a predetermined position based on the detected position”.
本発明のプリント配線板の位置決め装置により、プリント配線板の位置決めを行い、位置決めされたプリント配線板に部品を装着することでプリント配線板を製造してもよい。さらに、本発明のプリント配線板の位置決め装置により、プリント配線板の位置決めを行い、位置決めされたプリント配線板の位置合わせを行い、位置合わせされたプリント配線板に部品を装着することでプリント配線板を製造してもよい。これにより、電子部品等の部品をプリント配線板の正確な位置に装着することができる。 The printed wiring board may be manufactured by positioning the printed wiring board with the printed wiring board positioning device of the present invention and mounting components on the positioned printed wiring board. Further, the printed wiring board positioning device of the present invention positions the printed wiring board, aligns the positioned printed wiring board, and mounts the components on the aligned printed wiring board. May be manufactured. Thereby, components, such as an electronic component, can be mounted | worn in the exact position of a printed wiring board.
また、本発明のプリント配線板の位置決め装置により、プリント配線板の位置決めを行い、位置決めされたプリント配線板にもう一つのプリント配線板を接続することでプリント配線板を製造してもよい。さらに、本発明のプリント配線板の位置決め装置により、プリント配線板の位置決めを行い、位置決めされたプリント配線板の位置合わせを行い、位置合わせされたプリント配線板にもう一つのプリント配線板を接続することでプリント配線板を製造してもよい。これにより、別のプリント配線板を接続対象のプリント配線板における正確な位置に接続することができる。ここで、「接続」とは、電気的な接続であってもよく(例えば半田付けなど)、電気的な接続ではない、接着材等による接続であってもよい。
なお、本発明において、「プリント配線板」には部品が装着されたプリント配線板およびプリント基板も含まれることとする。Further, the printed wiring board may be manufactured by positioning the printed wiring board with the printed wiring board positioning device of the present invention and connecting another printed wiring board to the positioned printed wiring board. Further, the printed wiring board positioning device of the present invention positions the printed wiring board, aligns the positioned printed wiring board, and connects another printed wiring board to the aligned printed wiring board. A printed wiring board may be manufactured. Thereby, another printed wiring board can be connected to an accurate position on the printed wiring board to be connected. Here, the “connection” may be an electrical connection (for example, soldering), or may be a connection using an adhesive or the like, which is not an electrical connection.
In the present invention, the “printed wiring board” includes a printed wiring board and a printed board on which components are mounted.
本発明の実施の形態に係るプログラムや位置決め装置を用いてプリント配線板の位置決めを行うと、プリント配線板の位置決めをより正確に行うことが出来る。そのため、一つのプリント配線板ともう一つのプリント配線板とを接続する際や一つのプリント配線板に部品を装着する際に、接続不良が低減し、歩留まりが向上すると考えられる。なお、このプログラムを用いてプリント配線板の位置決めを行うことは、半田付けや異方性導電フィルム(Anisotropic Conductive Film、ACF)を介した接続、異方性導電ペースト(Anisotropic Conductive Paste、ACP)を介した接続または導電性を有する接着剤を介しての接続など公知の接続方法において一つのプリント配線板ともう一つのプリント配線板を接続する際や一つのプリント配線板に部品を装着する際にも適用することができる。 When the printed wiring board is positioned using the program or positioning device according to the embodiment of the present invention, the printed wiring board can be positioned more accurately. Therefore, when one printed wiring board is connected to another printed wiring board or when a component is mounted on one printed wiring board, it is considered that the connection failure is reduced and the yield is improved. It should be noted that positioning of the printed wiring board using this program includes soldering, connection through an anisotropic conductive film (ACF), anisotropic conductive paste (ACP), and anisotropic conductive paste (ACP). When connecting one printed wiring board and another printed wiring board or mounting a component on one printed wiring board in a known connection method such as connection via an adhesive or conductive adhesive Can also be applied.
(銅箔の表面状態の評価装置、銅箔の表面状態の評価方法、銅箔の表面状態の評価プログラム及び記録媒体)
図10は、本発明の実施形態に係る銅箔の表面状態の評価装置10’の模式図である。本発明の実施形態に係る銅箔の表面状態の評価装置10’は、ステージ15’上に設けられた透明基材17’の下に存在するマーク16’を、透明基材17’越しに撮影する撮影手段11’と、撮像手段11’からの画像信号を基に各種の処理を行うコンピュータ12’と、コンピュータ12’からの各種信号を基に所定の画像等を表示する表示手段13’と、ステージ上の透明基材17’及びマーク16’に光を照射する照明手段14’とを備えている。本発明で評価の対象とする透明基材17’は特に限定されず、透明であれば、ガラス製やポリイミド等の樹脂製基材であってもよい。なお、本発明では透明とは光透過性を有することも含まれる。なお、本発明におけるマークは、紙等の印刷物に印刷された印でもよく、銅配線でもよく、目印となる印であればどのような形態であってもよい。また、マークとは印刷物であってもよく、金属であってもよく、無機物であってもよく、有機物であってもよく、目印となるものであればよい。マークは、ライン状であれば、撮影によって得られた画像について、観察されたマークを横切る方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作成するのが容易となり、好ましい。(Copper foil surface state evaluation device, copper foil surface state evaluation method, copper foil surface state evaluation program, and recording medium)
FIG. 10 is a schematic diagram of an
フレキシブルプリント配線板(FPC)は液晶基材への接合やICチップの搭載などの加工が施されるが、この際の位置合わせは銅張積層板の銅箔をエッチングした後に残る樹脂絶縁層を透過して視認される位置決めパターンを介して行われるため、樹脂絶縁層の視認性が重要となる。そして、このような樹脂絶縁層の視認性に影響を与える銅箔の表面状態の評価が必要となる。このような樹脂絶縁層の効率良い正確な視認性評価及び銅箔の表面状態の評価のために、本発明において、透明基材は、少なくとも一方の表面が粗化処理などの表面処理をされた表面処理金属箔を、粗化処理などの表面処理をされた表面側から、透明基材の少なくとも一方の表面に貼り合わせた後、エッチングで前記金属箔を除去して作製されている。当該金属箔は、特に限定されないが、銅箔、アルミ箔、ニッケル箔、銅合金箔、ニッケル合金箔、アルミ合金箔、ステンレス箔、鉄箔、鉄合金箔等を用いることができる。 The flexible printed wiring board (FPC) is subjected to processing such as bonding to a liquid crystal substrate and mounting of an IC chip. The alignment at this time is the resin insulation layer that remains after etching the copper foil of the copper-clad laminate. The visibility of the resin insulating layer is important because it is performed through a positioning pattern that is visible through the screen. And evaluation of the surface state of the copper foil which affects the visibility of such a resin insulation layer is needed. In the present invention, for the efficient and accurate visibility evaluation of such a resin insulating layer and the evaluation of the surface state of the copper foil, in the present invention, at least one surface is subjected to a surface treatment such as a roughening treatment. After the surface-treated metal foil is bonded to at least one surface of the transparent substrate from the surface side subjected to the surface treatment such as the roughening treatment, the metal foil is removed by etching. Although the said metal foil is not specifically limited, Copper foil, aluminum foil, nickel foil, copper alloy foil, nickel alloy foil, aluminum alloy foil, stainless steel foil, iron foil, iron alloy foil, etc. can be used.
撮影手段11’は、撮像素子、撮像素子の出力が入力される画像処理回路等で構成された画像処理部、画像処理部等を制御する制御回路等で構成された制御部、レンズ等で構成された光学系等を備えている。撮影手段11’としては、例えばCCDカメラ等を用いることができる。撮影手段11’は、ステージ15’上に設けられた透明基材17’の下に存在するマーク16’を、透明基材17’越しに撮影して画像を取得する。
The photographing means 11 ′ is composed of an imaging device, an image processing circuit configured with an image processing circuit to which an output of the imaging device is input, a control unit configured with a control circuit that controls the image processing unit, and the like, a lens, and the like. Provided with an optical system. For example, a CCD camera or the like can be used as the photographing unit 11 '. The photographing
コンピュータ12’は、撮像手段11’からの画像信号を基に各種の処理を行う。コンピュータ12’は、撮像手段11’からの画像信号について、観察されたマーク16’が伸びる方向と交わる方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作製する観察地点−明度グラフ作製手段と、観察地点−明度グラフにおいて、マーク16’の端部からマーク16’がない部分にかけて生じる明度曲線の傾きによって透明基材17’の視認性を評価し、当該視認性の評価結果に基づいて銅箔の表面状態を評価する銅箔表面状態評価手段とを備えている。観察地点−明度グラフ作製手段は、観察されたマーク16’が伸びる方向と垂直な方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作製してもよい。
The computer 12 'performs various processes based on the image signal from the imaging means 11'. The
コンピュータ12’は、撮影手段11’による撮影によって得られた画像について、明度のばらつきを緩和させるスムージング処理手段をさらに備え、観察地点−明度グラフ作製手段が、スムージング処理後の明度を用いて観察地点−明度グラフを作製してもよい。
The
また、透明基材17’の下に存在するマーク16’が、透明基材17’の下に敷いた印刷物に印刷されたライン状のマーク16’であり、観察地点−明度グラフ作製手段が、撮影によって得られた画像について、観察されたライン状のマーク16’が伸びる方向と垂直な方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作製してもよい。
Further, the
コンピュータ12’は、記憶手段としてのメモリを備えている。このメモリには、デジタル化した撮像手段11’からの画像、観察地点−明度グラフ作製式、視認性評価式、銅箔の表面状態の評価式、各段階における評価値等がそれぞれコンピュータ読み取り可能に記録(いわゆる保存)されている。 The computer 12 'includes a memory as storage means. In this memory, the digitized image from the imaging means 11 ′, the observation point-lightness graph preparation formula, the visibility evaluation formula, the evaluation formula of the surface state of the copper foil, the evaluation value at each stage, and the like can be read by a computer. It is recorded (so-called storage).
表示手段13’は、コンピュータ12’からの各種信号を基に、観察地点−明度グラフ、視認性評価結果、銅箔の表面状態の評価結果等の所定の画像や数値等を表示する。
The display means 13 ′ displays predetermined images, numerical values, and the like such as an observation point-lightness graph, a visibility evaluation result, and a copper foil surface state evaluation result based on various signals from the
次に、上記実施形態による銅箔の表面状態の評価装置10’を用いた銅箔の表面状態の評価方法について、図11に示すフローチャートを参照して説明する。なお、図11に示すフローチャートは本発明に係る銅箔の表面状態の評価装置10’を用いた銅箔の表面状態の評価方法の一実施形態であり、本発明の銅箔の表面状態の評価装置10’で実現可能な評価方法は、図11のフローチャートで示すものに限られない。特に、スムージング処理は、図11では撮影で得られた画像に対して、観察地点−明度グラフを作成する前に行っているが、これに限らず、例えば、観察地点−明度グラフを作成した後に行ってもよい。
Next, a copper foil surface state evaluation method using the copper foil surface
銅箔の表面状態の評価装置10’を用いた銅箔の表面状態の評価方法では、まず、少なくとも一方の表面が粗化処理などの表面処理をされた表面処理金属箔を、粗化処理などの表面処理をされた表面側から、透明基材の少なくとも一方の表面に貼り合わせた後、エッチングで前記金属箔を除去して作製された透明基材17’を準備する。次に、透明基材17の下に存在するマーク16’を、透明基材17’越しに撮影手段11’によって撮影する。撮影手段11’によって撮影された画像の信号は、コンピュータ12’へ送られる。コンピュータ12’の観察地点−明度グラフ作製手段は、撮像手段11’からの画像信号について、観察されたマーク16’が伸びる方向と垂直な方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作製する。コンピュータ12’の銅箔の表面状態評価手段は、当該観察地点−明度グラフにおいて、マーク16’の端部からマーク16がない部分にかけて生じる明度曲線の傾きによって透明基材17’の視認性を評価し、当該視認性の評価結果に基づいて、透明基材17’に貼り合わせられていた表面処理金属箔の表面状態を評価する。従来、製造ラインで実際に作製しなければ、位置合わせ等のために設けられたマークを透明基材越しに視認することが可能か否かを判断できず、製造コストの点で問題があった。しかしながら、本発明に係る銅箔の表面状態の評価装置10’を用いれば、上記構成により、実験室のみでも容易に効率良く透明基材17’の視認性を正確に評価し、それによって効率良く正確に銅箔の表面状態の評価をすることが可能となる。例えば、透明基材17’の視認性の評価結果が良好である場合を、そのまま銅箔の表面状態が良好であると評価することができる。
In the copper foil surface state evaluation method using the copper foil surface state evaluation apparatus 10 ', first, a surface-treated metal foil having at least one surface subjected to a surface treatment such as a roughening treatment is subjected to a roughening treatment or the like. A
本発明で評価の対象とする透明基材17’としてポリイミド基板を用いる場合、ポリイミド基板は、厚さ50μmであり、且つ、金属箔に貼り合わせ前のポリイミド基板についてのマーク16’の端部からマーク16’がない部分にかけて生じる明度曲線のトップ平均値Btとボトム平均値Bbとの差ΔB(PI)〔ΔB(PI)=Bt−Bb〕が20以上33以下であるものを用いてもよい。また、本発明で評価の対象とする透明基材17’としてポリイミド基板を用いる場合、ポリイミド基板は、厚さ50μmであり、且つ、金属箔に貼り合わせ前のポリイミド基板についてのマーク16’の端部からマーク16’がない部分にかけて生じる明度曲線のトップ平均値Btとボトム平均値Bbとの差ΔB(PI)〔ΔB(PI)=Bt−Bb〕が50以上65以下であるものを用いてもよい。
When a polyimide substrate is used as the
コンピュータ12’の銅箔の表面状態評価手段は、表面処理金属箔を、粗化処理などの表面処理をされた表面処理表面側から、ポリイミド基板の少なくとも一方の表面に貼り合わせた後、エッチングで金属箔を除去して作製されたポリイミド基板についてのマーク16’の端部からマーク16’がない部分にかけて生じる明度曲線のトップ平均値Btとボトム平均値Bbとの差ΔB(ΔB=Bt−Bb)と、ΔB/ΔB(PI)からなる比率と、Btを基準とした所定の深さ範囲における前記明度曲線の角度で表された傾きk1とを用いて視認性の評価を行うことができる。
The surface condition evaluation means for the copper foil of the
また、コンピュータ12’の銅箔の表面状態評価手段は、マーク16’の端部からマーク16’がない部分にかけて生じる明度曲線のトップ平均値Btとボトム平均値Bbとの差ΔB(ΔB=Bt−Bb)が20以上33以下であり、ΔB/ΔB(PI)からなる比率が0.7以上であり、Btを基準に0.4ΔB〜0.6ΔBの深さ範囲における明度曲線の角度で表された傾きk1が65°以上となる場合を良好と判定し、さらに87°以下となる場合をより良好と判定し、当該視認性の評価が良好である場合を銅箔の表面状態が良好であると判定してもよい。
Further, the surface condition evaluating means for the copper foil of the
また、コンピュータ12’の銅箔の表面状態評価手段は、明度曲線とBtとの交点からBtを基準に0.1ΔBまでの深さ範囲における明度曲線の角度で表された傾きk2を更に評価に用いてもよい。また、さらに、k2が30°以上となる場合を更に良好と判定し、当該視認性の評価が良好である場合を銅箔の表面状態が良好であると判定してもよい。
このような評価装置によれば、銅箔の表面状態を効率良く、更に正確に評価することが可能となる。Further, the surface condition evaluation means for the copper foil of the
According to such an evaluation apparatus, the surface state of the copper foil can be evaluated efficiently and more accurately.
コンピュータ12’は、撮影手段11’による撮影によって得られた画像について、明度のばらつきを緩和させるスムージング処理手段をさらに備え、観察地点−明度グラフ作製手段が、スムージング処理後の明度を用いて観察地点−明度グラフを作製するのが好ましい。撮影手段11’による撮影によって得られた画像から得られる明度のノイズを含んだデータ(原波形)に対して、スムージング処理手段によるスムージング処理を行うことで、当該明度のばらつきが緩和するため、透明基材17’の視認性をより正確に評価し、それによって銅箔の表面状態をより正確に評価することが可能となる。スムージング処理手段によるスムージング処理としては、種々ある平滑化プログラムにより行うことができ、例えば、2・3次多項式適合法によるスムージング処理、フーリエ変換によるスムージング処理、或いは、移動平均法によるスムージング処理等を用いることができる。なお、スムージング処理は、公知の種々ある平滑化プログラムを用いて行ってもよい。また、明度データのスムージング処理はマーク16’の有る部分、無い部分の両方について行ってもよく、マーク16’の有る部分について行ってもよく、マーク16’の無い部分に行ってもよく、部分的に行ってもよい。
なお、撮影手段11’による撮影によって得られた画像について、当該明度のスムージング処理を行う前に、あらかじめ当該明度のノイズを含んだデータ(原波形)の観察地点−明度グラフ作製を行ってもよい。The
Note that an observation point-lightness graph of data (original waveform) including noise of the lightness may be prepared in advance before performing the lightness smoothing process on the image obtained by the photographing by the photographing
ここで、「明度曲線のトップ平均値Bt」、「明度曲線のボトム平均値Bb」、「明度曲線の角度で表された傾きk1」、「明度曲線の角度で表された傾きk2」、「ΔB」及び「ΔB(PI)」の定義については、上述の透明基材の視認性評価装置及び視認性評価方法で示したものと同様である。 Here, “top average value Bt of the lightness curve”, “bottom average value Bb of the lightness curve”, “slope k1 represented by the angle of the lightness curve”, “slope k2 represented by the angle of the lightness curve”, “ The definitions of “ΔB” and “ΔB (PI)” are the same as those shown in the above-described transparent substrate visibility evaluation apparatus and visibility evaluation method.
本発明では、表面処理銅箔等の金属箔を貼り合わせて除去したポリイミド基板に対し、マーク16’を付した印刷物を下に置き、ポリイミド基板越しにCCDカメラで撮影した上記マーク部分の画像から得られる観察地点−明度グラフにおいて描かれるマーク16’端部付近の明度曲線の角度で表された傾き、より詳細には、明度曲線のトップ平均値Btとボトム平均値Bbとの差ΔB(ΔB=Bt−Bb)、ΔB/ΔB(PI)からなる比率、Btを基準に0.4ΔB〜0.6ΔBの深さ範囲における明度曲線の角度で表された傾きk1を総合的に評価することで、正確な透明基板の視認性評価を可能とし、これによって銅箔の表面状態の正確な評価を可能としている。k1は好ましくは65°以上であり、より好ましくはさらに87°以下である。また、k1の上限は87°以下であることが好ましく、85°以下であることが更に好ましく、83°以下であることが更により好ましい。k1が87°を超えるとピール強度が小さくなる場合がある。ΔB/ΔB(PI)の上限は特に規定する必要は無いが例えば、1.70以下、あるいは1.50以下、あるいは1.40以下である。k1、ΔB/ΔB(PI)の値が前述の範囲内である場合に、当該銅箔に積層される樹脂の視認性を確保するという観点から、銅箔の表面状態が良好であると判定してもよい。
In the present invention, the polyimide substrate from which the metal foil such as the surface-treated copper foil is pasted and removed is placed on the printed material with the
また、撮影手段11’によって得られた画像からコンピュータ12’の観察地点−明度グラフ作製手段が作製した観察地点−明度グラフにおいて、明度曲線とBtとの交点からBtを基準に0.1ΔBまでの深さ範囲における明度曲線の角度で表された傾きk2が30°以上となるものを更に視認性が良好であると評価し、それによって銅箔の表面状態が良好であると評価してもよい。このような構成によれば、マーク16’とマーク16’で無い部分との境界がより明確になり、位置決め精度が向上して、マーク画像認識による誤差が少なくなり、より正確に位置合わせができるようになる。k2は、より好ましくは35°以上、より好ましくは40°以上である。k2の上限は特に限定する必要は無いが例えば87°以下、あるいは82°以下、あるいは77°以下、あるいは72°以下である。k2の値が前述の範囲内である場合に、当該銅箔に積層される樹脂の視認性を確保するという観点から、銅箔の表面状態が良好であると判定してもよい。
Further, in the observation point-lightness graph prepared by the observation point-lightness graph preparation means of the
また、本実施形態では、銅箔の表面状態の評価について説明したが、これに限らず、本金属箔の表面状態であっても同様に良好な評価が可能である。当該金属箔は、特に限定されないが、銅箔、アルミ箔、ニッケル箔、銅合金箔、ニッケル合金箔、アルミ合金箔、ステンレス箔、鉄箔、鉄合金箔等を用いることができる。 Moreover, although this embodiment demonstrated the evaluation of the surface state of copper foil, it is not restricted to this, Even if it is the surface state of this metal foil, a favorable evaluation is possible similarly. Although the said metal foil is not specifically limited, Copper foil, aluminum foil, nickel foil, copper alloy foil, nickel alloy foil, aluminum alloy foil, stainless steel foil, iron foil, iron alloy foil, etc. can be used.
また、上述のような処理手順をプログラムとしてコンピュータに実行させることで、透明基材の視認性を効率良く正確に評価することができる。 Moreover, the visibility of a transparent base material can be evaluated efficiently and correctly by making a computer perform the above processing procedures as a program.
さらに、このプログラムを光学、あるいは磁気ディスクなどの記録媒体にコンピュータ読み取り可能に記録させて用いることにより、他のコンピュータでもこのプログラムを実現でき、上述の処理手順と同様の作用効果を得ることができる。 Furthermore, by using this program recorded on a recording medium such as an optical or magnetic disk so that it can be read by a computer, this program can be realized on other computers, and the same effects as the above-described processing procedure can be obtained. .
(透明基材の視認性評価方法)
本発明の透明基材の視認性評価方法は、マーク及びマーク上に設けた透明基材を準備し、マークを前記透明基材越しにCCDカメラで撮影し、撮影によって得られた画像について、観察されたマークを横切る方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作成し、観察地点−明度グラフにおいて、マークの端部からマークがない部分にかけて生じる明度曲線の傾きに基づいて透明基材の視認性を評価する方法である。
従来、製造ラインで実際に作製しなければ、位置合わせ等のために設けられたマークを透明基材越しに視認することが可能か否かを判断できず、製造コストの点で問題があった。しかしながら、本発明では、このような構成により、実験室のみでも容易に効率良く透明基材の視認性を正確に評価することが可能となる。また、前記観察地点−明度グラフにおいて、マークの端部からマークがない部分にかけて生じる明度曲線の傾きを角度で表し、角度によって透明基材の視認性を評価すると、より効率良く透明基材の視認性を正確に評価することが可能となり、好ましい。(Transparent substrate visibility evaluation method)
The transparent substrate visibility evaluation method of the present invention is to prepare a mark and a transparent substrate provided on the mark, photograph the mark with a CCD camera over the transparent substrate, and observe an image obtained by photographing. The brightness at each observation point is measured along the direction crossing the marked mark to create an observation point-lightness graph. In the observation point-lightness graph, the slope of the lightness curve that occurs from the end of the mark to the part without the mark This is a method for evaluating the visibility of a transparent substrate.
Conventionally, unless actually produced on the production line, it was impossible to determine whether or not the marks provided for alignment etc. could be seen through the transparent base material, and there was a problem in terms of production cost . However, in the present invention, with such a configuration, it is possible to easily and efficiently evaluate the visibility of the transparent substrate easily and efficiently even in the laboratory alone. Further, in the observation point-lightness graph, when the inclination of the lightness curve generated from the end of the mark to the portion without the mark is expressed by an angle, and the visibility of the transparent base material is evaluated by the angle, the transparent base material can be visually recognized more efficiently. It is possible to accurately evaluate the property, which is preferable.
マークの形状は特に限定されないが、ライン状のマークであれば、撮影によって得られた画像について、観察されたマークを横切る方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作成するのが容易となり、好ましい。 The shape of the mark is not particularly limited, but if it is a line-shaped mark, the brightness of each observation point is measured along the direction crossing the observed mark, and an observation point-lightness graph is obtained. It is easy to create and is preferable.
フレキシブルプリント配線板(FPC)は液晶基材への接合やICチップの搭載などの加工が施されるが、この際の位置合わせは銅張積層板の銅箔をエッチングした後に残る樹脂絶縁層を透過して視認される位置決めパターンを介して行われるため、樹脂絶縁層の視認性が重要となる。このような樹脂絶縁層の効率良い正確な視認性評価のために、本発明において、透明基材は、マーク上に設ける前に、少なくとも一方の表面が粗化処理された表面処理金属箔を、粗化処理表面側から、透明基材の少なくとも一方の表面に貼り合わせた後、エッチングで前記金属箔を除去して作製されていてもよい。また、透明基材は、表面処理金属箔を、粗化処理表面側から透明基材の両面に貼り合わせた後、エッチングを行い、両面の金属箔を除去することで作製されていてもよい。 The flexible printed wiring board (FPC) is subjected to processing such as bonding to a liquid crystal substrate and mounting of an IC chip. The alignment at this time is the resin insulation layer that remains after etching the copper foil of the copper-clad laminate. The visibility of the resin insulating layer is important because it is performed through a positioning pattern that is visible through the screen. For efficient and accurate visibility evaluation of such a resin insulation layer, in the present invention, the transparent base material is a surface-treated metal foil having at least one surface roughened before being provided on the mark. After bonding to at least one surface of the transparent base material from the surface of the roughening treatment, the metal foil may be removed by etching. Moreover, the transparent base material may be produced by attaching the surface-treated metal foil to both surfaces of the transparent base material from the roughened surface side and then performing etching to remove the metal foil on both surfaces.
本発明で用いる金属箔は、特に限定されないが、銅箔、アルミ箔、ニッケル箔、銅合金箔、ニッケル合金箔、アルミ合金箔、ステンレス箔、鉄箔、鉄合金箔等を用いることができる。 Although metal foil used by this invention is not specifically limited, Copper foil, aluminum foil, nickel foil, copper alloy foil, nickel alloy foil, aluminum alloy foil, stainless steel foil, iron foil, iron alloy foil, etc. can be used.
本発明で評価の対象とする透明基材は特に限定されず、透明であれば、ガラス製や樹脂製基材であってもよい。なお、本発明では透明とは光透過性を有することも含まれる。ここでは、透明基材としてポリイミド基板を挙げて説明する。 The transparent substrate to be evaluated in the present invention is not particularly limited, and may be a glass or resin substrate as long as it is transparent. In the present invention, the term “transparent” includes light transparency. Here, a polyimide substrate will be described as an example of the transparent base material.
本発明で評価の対象とする透明基材としてポリイミド基板を用いる場合、ポリイミド基板は、厚さ50μmであり、且つ、前記金属箔に貼り合わせ前のポリイミド基板についての前記マークの端部から前記マークがない部分にかけて生じる明度曲線のトップ平均値Btとボトム平均値Bbとの差ΔB(PI)〔ΔB(PI)=Bt−Bb〕が20以上33以下であるものを用いるのが好ましい。そして、少なくとも一方の表面に粗化処理により粗化粒子が形成された表面処理銅箔を、粗化処理表面側から上記ポリイミド基板の両面に貼り合わせた後、エッチングで両面の銅箔を除去する。次に、ライン状のマーク、及び、マーク上に設けた上記ポリイミド基板について、マークをポリイミド基板越しにCCDカメラで撮影し、撮影によって得られた画像について、観察されたライン状のマークが伸びる方向と垂直な方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作成し、観察地点−明度グラフにおいて、マークの端部からマークがない部分にかけて生じる明度曲線の角度で表された傾きによってポリイミドの視認性を評価することができる。 When a polyimide substrate is used as the transparent base material to be evaluated in the present invention, the polyimide substrate has a thickness of 50 μm, and the mark from the end of the mark on the polyimide substrate before being bonded to the metal foil. It is preferable to use one having a difference ΔB (PI) [ΔB (PI) = Bt−Bb] between the top average value Bt and the bottom average value Bb of the lightness curve generated over the portion having no difference between 20 and 33. And after bonding together the surface-treated copper foil in which the roughening particle was formed by the roughening process on at least one surface from the roughening process surface side on both surfaces of the said polyimide substrate, the copper foil of both surfaces is removed by an etching. . Next, with respect to the line-shaped mark and the polyimide substrate provided on the mark, the mark is photographed with a CCD camera through the polyimide substrate, and the observed line-shaped mark extends in the image obtained by the photographing. The brightness at each observation point is measured along the direction perpendicular to the observation point, and a lightness graph is created. In the observation point-lightness graph, the lightness curve is generated from the edge of the mark to the part without the mark. The visibility of the polyimide can be evaluated by the tilt.
上記明度曲線の角度で表された傾きによってポリイミドの視認性を評価する方法は、マークの端部からマークがない部分にかけて生じる明度曲線のトップ平均値Btとボトム平均値Bbとの差ΔB(ΔB=Bt−Bb)と、ΔB/ΔB(PI)からなる比率と、Btを基準とした所定の深さ範囲における明度曲線の角度で表された傾きk1とを用いて行ってもよい。 The method for evaluating the visibility of polyimide by the inclination represented by the angle of the brightness curve is based on the difference ΔB (ΔB) between the top average value Bt and the bottom average value Bb of the brightness curve generated from the end of the mark to the portion without the mark. = Bt−Bb), a ratio of ΔB / ΔB (PI), and a slope k1 expressed by an angle of a lightness curve in a predetermined depth range based on Bt.
また、上記明度曲線の傾きによってポリイミドの視認性を評価する方法は、マークの端部からマークがない部分にかけて生じる明度曲線のトップ平均値Btとボトム平均値Bbとの差ΔB(ΔB=Bt−Bb)が20以上33以下であり、ΔB/ΔB(PI)からなる比率が0.7以上であり、Btを基準に0.4ΔB〜0.6ΔBの深さ範囲における前記明度曲線の傾きk1が65°以上となる場合を良好と判定してもよい。また、前記明度曲線の傾きk1が87°以下となる場合を更に良好と判定してもよい。 Further, the method for evaluating the visibility of polyimide based on the slope of the brightness curve is based on the difference ΔB (ΔB = Bt−) between the top average value Bt and the bottom average value Bb of the brightness curve generated from the end of the mark to the portion where there is no mark. Bb) is 20 or more and 33 or less, the ratio of ΔB / ΔB (PI) is 0.7 or more, and the slope k1 of the brightness curve in the depth range of 0.4ΔB to 0.6ΔB with reference to Bt is You may determine with the case where it becomes 65 degrees or more being favorable. Moreover, you may determine with the case where the inclination k1 of the said lightness curve is 87 degrees or less further.
また、撮影によって得られた画像から作成した観察地点−明度グラフにおいて、明度曲線とBtとの交点からBtを基準に0.1ΔBまでの深さ範囲における明度曲線の角度で表された傾きk2をさらに評価に用いてもよい。
さらに、k2が30°以上となる場合を更に良好と判定してもよい。
このような評価方法によれば、透明基材の視認性を効率良く、更に正確に評価することが可能となる。Further, in an observation point-lightness graph created from an image obtained by photographing, an inclination k2 expressed by an angle of the lightness curve in a depth range from the intersection of the lightness curve and Bt to 0.1 ΔB with reference to Bt. Furthermore, you may use for evaluation.
Furthermore, you may determine with the case where k2 becomes 30 degrees or more still better.
According to such an evaluation method, it becomes possible to efficiently and more accurately evaluate the visibility of the transparent substrate.
ここで、「明度曲線のトップ平均値Bt」、「明度曲線のボトム平均値Bb」、「明度曲線の角度で表された傾きk1」、「明度曲線の角度で表された傾きk2」、「ΔB」及び「ΔB(PI)」の定義については、上述の透明基材の視認性評価装置及び視認性評価方法で示したものと同様である。 Here, “top average value Bt of the lightness curve”, “bottom average value Bb of the lightness curve”, “slope k1 represented by the angle of the lightness curve”, “slope k2 represented by the angle of the lightness curve”, “ The definitions of “ΔB” and “ΔB (PI)” are the same as those shown in the above-described transparent substrate visibility evaluation apparatus and visibility evaluation method.
前記撮影によって得られた画像について、明度のばらつきを緩和させるスムージング処理をさらに行い、スムージング処理後の明度を用いて観察地点−明度グラフを作成するのが好ましい。撮影によって得られた画像から得られる明度のノイズを含んだデータ(原波形)に対して、スムージング処理を行うことで、当該明度のばらつきが緩和するため、透明基材の視認性を正確に評価することが可能となる。スムージング処理としては、種々ある平滑化プログラムにより行うことができ、例えば、2・3次多項式適合法によるスムージング処理、フーリエ変換によるスムージング処理、或いは、移動平均法によるスムージング処理等を用いることができる。
なお、撮影によって得られた画像について、当該明度のスムージング処理を行う前に、あらかじめ当該明度のノイズを含んだデータ(原波形)の観察地点−明度グラフ作成を行ってもよい。It is preferable to further perform a smoothing process for reducing variations in brightness on the image obtained by the photographing, and create an observation point-brightness graph using the brightness after the smoothing process. By performing smoothing processing on the data (original waveform) containing lightness noise obtained from the image obtained by shooting, the lightness variation is alleviated, so the visibility of the transparent substrate is accurately evaluated. It becomes possible to do. The smoothing process can be performed by various smoothing programs. For example, a smoothing process using a second-third-order polynomial fitting method, a smoothing process using Fourier transform, a smoothing process using a moving average method, or the like can be used.
Note that an observation point-lightness graph of data (original waveform) including noise of the lightness may be generated in advance before performing the lightness smoothing process on the image obtained by photographing.
(金属と樹脂との積層体の位置決め方法)
本発明の金属と樹脂との積層体の位置決めをする方法について説明する。まず、金属と樹脂との積層体を準備する。金属と樹脂との積層体としては、樹脂に金属を貼り合わせて構成されているものであれば、特に形態は限定されない。本発明の金属と樹脂との積層体の具体例としては、本体基板と付属の回路基板と、それらを電気的に接続するために用いられる、ポリイミド等の樹脂の少なくとも一方の表面に銅等の金属配線が形成されたフレキシブルプリント基板とで構成される電子機器において、フレキシブルプリント基板を正確に位置決めして当該本体基板及び付属の回路基板の配線端部に圧着させて作製される積層体が挙げられる。すなわち、この場合であれば、積層体は、フレキシブルプリント基板及び本体基板の配線端部が圧着により貼り合わせられた積層体、或いは、フレキシブルプリント基板及び回路基板の配線端部が圧着により貼り合わせられた積層体となる。積層体は、当該金属配線の一部や別途材料で形成したマークを有している。マークの位置については、当該積層体を構成する樹脂越しにCCDカメラで撮影可能な位置であれば特に限定されない。(Positioning method of metal / resin laminate)
A method for positioning the laminate of the metal and resin of the present invention will be described. First, a laminate of metal and resin is prepared. The form of the laminate of the metal and the resin is not particularly limited as long as it is configured by bonding the metal to the resin. As a specific example of the laminate of the metal and resin of the present invention, copper or the like is used on at least one surface of a resin such as polyimide, which is used to electrically connect the main body substrate and the attached circuit board, and the circuit board. In an electronic device composed of a flexible printed circuit board on which metal wiring is formed, there is a laminate produced by accurately positioning the flexible printed circuit board and crimping it to the wiring ends of the main circuit board and the attached circuit board. It is done. That is, in this case, the laminate is a laminate in which the wiring end portions of the flexible printed circuit board and the main body substrate are bonded together by pressure bonding, or the wiring edge portions of the flexible printed circuit board and the circuit board are bonded together by pressure bonding. It becomes a laminated body. The laminate has a mark formed of a part of the metal wiring and a separate material. The position of the mark is not particularly limited as long as it can be photographed with a CCD camera through the resin constituting the laminate.
このように準備された積層体において、上述のマークを積層体の樹脂越しにCCDカメラで撮影し、撮影によって得られた画像について、観察された前記マークを横切る方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作成し、前記マークの端部から前記マークがない部分にかけて生じる明度曲線の傾きに基づいて金属と樹脂との積層体の位置決めをする。また、前記明度曲線の傾きを角度で表し、前記角度によって金属と樹脂との積層体の位置決めをすると、より正確な積層体の位置決めが可能となる。ここで利用する明度曲線の傾きを表す角度は、上述の透明基材の視認性評価方法と同様に、明度曲線のトップ平均値Btとボトム平均値Bbとの差ΔB(PI)、ΔB/ΔB(PI)からなる比率、Btを基準とした所定の深さ範囲における前記明度曲線の角度で表された傾きk1、明度曲線とBtとの交点からBtを基準に0.1ΔBまでの深さ範囲における明度曲線の角度で表された傾きk2を利用することができる。このような位置決め方法によれば、マークとマークで無い部分との境界がより明確になり、位置決め精度が向上して、マーク画像認識による誤差が少なくなり、より正確に位置合わせができるようになる。例えば、ΔB(PI)の値が所定の範囲である場合は、マークが当該位置に存在するという判定を、位置を検出する装置が行うことが出来る。具体的には、例えば、積層体を構成する樹脂が厚さ50μmのポリイミド基板であるとき、金属箔に貼り合わせ前のポリイミド基板についてのマークの端部からマークがない部分にかけて生じる明度曲線のトップ平均値Btとボトム平均値Bbとの差ΔB(PI)〔ΔB(PI)=Bt−Bb〕が20以上33以下である場合に、マークが当該位置に存在するという判定を、位置を検出する装置が行うことが出来る。このように、マークが当該位置に存在するか否かという判定までを行う装置及び方法であれば、当該装置及び方法は、積層体が有するマークが存在するか否かを判定する装置及び方法といえる。このとき、積層体が有するマークが存在するか否かを判定する装置は、観察地点−明度グラフにおいて、マークの端部からマークがない部分にかけて生じる明度曲線の傾きに基づいてマークが存在するか否かを判定する判定手段を備える。また、このように、マークの位置を検出する段階までを行う装置及び方法であれば、当該装置及び方法は、積層体が有するマークの位置を検出する装置及び方法といえる。このとき、積層体が有するマークの位置を検出する装置は、観察地点−明度グラフにおいて、マークの端部からマークがない部分にかけて生じる明度曲線の傾きに基づいてマークの位置を検出する検出手段を備える。 In the layered body thus prepared, the above-mentioned mark is photographed with a CCD camera through the resin of the layered body, and for the image obtained by photographing, the brightness at each observation point along the direction crossing the observed mark Is measured to create an observation point-brightness graph, and the laminate of the metal and the resin is positioned based on the slope of the brightness curve generated from the end of the mark to the portion without the mark. Further, when the inclination of the lightness curve is represented by an angle and the laminate of the metal and the resin is positioned by the angle, the laminate can be positioned more accurately. The angle representing the slope of the lightness curve used here is the difference ΔB (PI), ΔB / ΔB between the top average value Bt and the bottom average value Bb of the lightness curve, as in the above-described visibility evaluation method of the transparent substrate. A ratio composed of (PI), a slope k1 expressed by the angle of the lightness curve in a predetermined depth range based on Bt, and a depth range from the intersection of the lightness curve and Bt to 0.1 ΔB based on Bt The slope k2 expressed by the angle of the brightness curve at can be used. According to such a positioning method, the boundary between the mark and the non-mark portion becomes clearer, the positioning accuracy is improved, the error due to the mark image recognition is reduced, and the alignment can be performed more accurately. . For example, when the value of ΔB (PI) is within a predetermined range, the device that detects the position can determine that the mark exists at the position. Specifically, for example, when the resin constituting the laminate is a polyimide substrate with a thickness of 50 μm, the top of the lightness curve generated from the end of the mark to the portion without the mark on the polyimide substrate before being bonded to the metal foil When the difference ΔB (PI) [ΔB (PI) = Bt−Bb] between the average value Bt and the bottom average value Bb is 20 or more and 33 or less, the determination that the mark is present at the position is detected. The device can do it. As described above, if the apparatus and method perform up to the determination whether or not the mark exists at the position, the apparatus and method include an apparatus and a method for determining whether or not the mark included in the stacked body exists. I can say that. At this time, the apparatus for determining whether or not the mark included in the stacked body exists is based on the inclination of the lightness curve generated from the end of the mark to the portion without the mark in the observation point-lightness graph. A determination means for determining whether or not is provided. In addition, in this way, if the apparatus and method perform up to the step of detecting the position of the mark, the apparatus and method can be said to be an apparatus and method for detecting the position of the mark included in the stacked body. At this time, the apparatus for detecting the position of the mark included in the laminate includes a detecting means for detecting the position of the mark based on the inclination of the brightness curve generated from the end of the mark to the portion without the mark in the observation point-lightness graph. Prepare.
前記撮影によって得られた画像について、明度のばらつきを緩和させるスムージング処理をさらに行い、スムージング処理後の明度を用いて観察地点−明度グラフを作成するのが好ましい。撮影によって得られた画像から得られる明度のノイズを含んだデータ(原波形)に対して、スムージング処理を行うことで、当該明度のばらつきが緩和するため、積層体の位置決めを正確に評価することが可能となる。スムージング処理としては、種々ある平滑化プログラムにより行うことができ、例えば、2・3次多項式適合法によるスムージング処理、フーリエ変換によるスムージング処理、或いは、移動平均法によるスムージング処理等を用いることができる。
なお、撮影によって得られた画像について、当該明度のスムージング処理を行う前に、あらかじめ当該明度のノイズを含んだデータ(原波形)の観察地点−明度グラフ作成を行ってもよい。It is preferable to further perform a smoothing process for reducing variations in brightness on the image obtained by the photographing, and create an observation point-brightness graph using the brightness after the smoothing process. To accurately evaluate the positioning of the stack because the variation in brightness is reduced by performing smoothing processing on the data (original waveform) containing brightness noise obtained from the image obtained by shooting. Is possible. The smoothing process can be performed by various smoothing programs. For example, a smoothing process using a second-third-order polynomial fitting method, a smoothing process using Fourier transform, a smoothing process using a moving average method, or the like can be used.
Note that an observation point-lightness graph of data (original waveform) including noise of the lightness may be generated in advance before performing the lightness smoothing process on the image obtained by photographing.
本発明の実施の形態に係る位置決め方法を用いてプリント配線板の位置決めを行うと、プリント配線板の位置決めをより正確に行うことが出来る。そのため、一つのプリント配線板ともう一つのプリント配線板を接続する際や一つのプリント配線板に部品を装着する際に、接続不良が低減し、歩留まりが向上すると考えられる。なお、このプリント配線板の位置決めを行うことは、半田付けや異方性導電フィルム(Anisotropic Conductive Film、ACF)を介した接続、異方性導電ペースト(Anisotropic Conductive Paste、ACP)を介した接続または導電性を有する接着剤を介しての接続など公知の接続方法において一つのプリント配線板ともう一つのプリント配線板を接続する際や一つのプリント配線板に部品を装着する際にも適用することができる。 When the printed wiring board is positioned using the positioning method according to the embodiment of the present invention, the printed wiring board can be positioned more accurately. Therefore, when one printed wiring board is connected to another printed wiring board or when a component is mounted on one printed wiring board, it is considered that the connection failure is reduced and the yield is improved. The positioning of the printed wiring board can be performed by soldering, connection via an anisotropic conductive film (ACF), connection via an anisotropic conductive paste (Anisotropic Conductive Paste, ACP) or Applicable when connecting one printed wiring board and another printed wiring board or mounting parts on one printed wiring board in a known connection method such as connection via conductive adhesive. Can do.
なお、本発明の実施の形態に係る積層体の位置決め方法は、位置を決定した積層体(銅と樹脂の積層体やプリント配線板を含む)を移動させて積層体の位置合わせを行ってもよい。位置合わせ手段としては、例えばベルトコンベヤーやチェーンコンベヤーなどのコンベヤーを用いてもよく、アーム機構を備えた移動装置を用いてもよく、気体を用いて積層体を浮遊させることで移動させる移動装置や移動手段を用いてもよく、略円筒形などの物を回転させて積層体を移動させる移動装置や移動手段(コロやベアリングなどを含む)、油圧を動力源とした移動装置や移動手段、空気圧を動力源とした移動装置や移動手段、モーターを動力源とした移動装置や移動手段、ガントリ移動型リニアガイドステージ、ガントリ移動型エアガイドステージ、スタック型リニアガイドステージ、リニアモーター駆動ステージなどのステージを有する移動装置や移動手段等を用いてもよい。また、公知の移動手段を用いてもよい。 In addition, the positioning method of the laminated body which concerns on embodiment of this invention moves the laminated body (including the laminated body of copper and resin, and a printed wiring board) which moved the position, and performs alignment of a laminated body Good. As the alignment means, for example, a conveyor such as a belt conveyor or a chain conveyor may be used, a moving device provided with an arm mechanism may be used, a moving device that moves the laminate by floating using gas, Moving means may be used, moving devices and moving means (including rollers and bearings) that move the laminate by rotating an object such as a substantially cylindrical shape, moving devices and moving means that use hydraulic power as a power source, air pressure Stages such as moving devices and moving means powered by motors, moving devices and moving means powered by motors, gantry moving linear guide stages, gantry moving air guide stages, stacked linear guide stages, linear motor drive stages, etc. A moving device, a moving means, or the like may be used. Moreover, you may use a well-known moving means.
なお、本発明の実施の形態に係る位置決め方法は表面実装機やチップマウンターを用いてもよい。
また、本発明の実施の形態に係る位置決め方法は、前記金属と透明基材との積層体が、透明基材の板及び前記透明基材の板の上に設けられた回路を有するプリント配線板であってもよい。また、その場合、前記マークが前記回路であってもよい。The positioning method according to the embodiment of the present invention may use a surface mounter or a chip mounter.
Further, in the positioning method according to the embodiment of the present invention, the laminate of the metal and the transparent substrate includes a transparent substrate plate and a circuit provided on the transparent substrate plate. It may be. In that case, the mark may be the circuit.
本発明の位置決め方法により、プリント配線板の位置決めを行い、位置決めされたプリント配線板に部品を装着することでプリント配線板を製造してもよい。さらに、本発明のプリント配線板の位置決め方法により、プリント配線板の位置決めを行い、位置決めされたプリント配線板の位置合わせを行い、位置合わせされたプリント配線板に部品を装着することでプリント配線板を製造してもよい。これにより、電子部品等の部品をプリント配線板の正確な位置に装着することができる。 The printed wiring board may be manufactured by positioning the printed wiring board by the positioning method of the present invention and mounting components on the positioned printed wiring board. Further, the printed wiring board is positioned by the printed wiring board positioning method of the present invention, the positioned printed wiring board is aligned, and a component is mounted on the aligned printed wiring board. May be manufactured. Thereby, components, such as an electronic component, can be mounted | worn in the exact position of a printed wiring board.
また、本発明の位置決め方法により、プリント配線板の位置決めを行い、位置決めされたプリント配線板にもう一つのプリント配線板を接続することでプリント配線板を製造してもよい。さらに、本発明のプリント配線板の位置決め方法により、プリント配線板の位置決めを行い、位置決めされたプリント配線板の位置合わせを行い、位置合わせされたプリント配線板にもう一つのプリント配線板を接続することでプリント配線板を製造してもよい。これにより、別のプリント配線板を接続対象のプリント配線板における正確な位置に接続することができる。ここで、「接続」とは、電気的な接続であってもよく(例えば半田付けなど)、電気的な接続ではない、接着材等による接続であってもよい。
なお、本発明において、「プリント配線板」には部品が装着されたプリント配線板およびプリント基板も含まれることとする。Further, the printed wiring board may be manufactured by positioning the printed wiring board by the positioning method of the present invention and connecting another printed wiring board to the positioned printed wiring board. Further, the printed wiring board is positioned by the printed wiring board positioning method of the present invention, the positioned printed wiring board is aligned, and another printed wiring board is connected to the aligned printed wiring board. A printed wiring board may be manufactured. Thereby, another printed wiring board can be connected to an accurate position on the printed wiring board to be connected. Here, the “connection” may be an electrical connection (for example, soldering), or may be a connection using an adhesive or the like, which is not an electrical connection.
In the present invention, the “printed wiring board” includes a printed wiring board and a printed board on which components are mounted.
また、本発明において位置決めされる前記金属と透明基材との積層体が、透明基材の板及び前記透明基材の板の上に設けられた回路を有するプリント配線板であってもよい。また、その場合、前記マークが前記回路であってもよい。また、当該回路は配線も含むこととする。 Moreover, the printed wiring board which has the circuit provided on the board of the transparent base material and the board of the transparent base material may be sufficient as the laminated body of the said metal and transparent base material which are positioned in this invention. In that case, the mark may be the circuit. The circuit also includes wiring.
例A1〜例A23、例B1〜例B13、例a1〜例a23、及び、例b1〜例b13として、各種銅箔を準備し、一方の表面に、粗化処理として表1に記載の条件にてめっき処理を行った。 As Example A1 to Example A23, Example B1 to Example B13, Example a1 to Example a23, and Example b1 to Example b13, various copper foils were prepared, and one surface was subjected to the conditions described in Table 1 as a roughening treatment. The plating process was performed.
上述の粗化めっき処理を行った後、例A1〜例A13、例A15〜例A20、例A22〜例A23、例B2、例B4、例B7〜例B10、例a1〜例a13、例a15〜例a20、例a22〜例a23、例b2、例b4、例b7〜例b10について次の耐熱層および防錆層形成のためのめっき処理を行った。
耐熱層1の形成条件を以下に示す。
液組成 :ニッケル5〜20g/L、コバルト1〜8g/L
pH :2〜3
液温 :40〜60℃
電流密度 :5〜20A/dm2
クーロン量:10〜20As/dm2
上記耐熱層1を施した銅箔上に、耐熱層2を形成した。例B3、例B5、例B6、例b3、例b5、例b6については、粗化めっき処理は行わず、準備した銅箔に、この耐熱層2を直接形成した。耐熱層2の形成条件を以下に示す。
液組成 :ニッケル2〜30g/L、亜鉛2〜30g/L
pH :3〜4
液温 :30〜50℃
電流密度 :1〜2A/dm2
クーロン量:1〜2As/dm2 After performing the above-described roughening plating treatment, Example A1 to Example A13, Example A15 to Example A20, Example A22 to Example A23, Example B2, Example B4, Example B7 to Example B10, Example a1 to Example a13, Example a15 to Example a20, Example a22 to Example a23, Example b2, Example b4, and Example b7 to Example b10 were subjected to the following plating treatment for forming a heat resistant layer and a rust preventive layer.
The conditions for forming the heat-
Liquid composition: Nickel 5-20 g / L, cobalt 1-8 g / L
pH: 2-3
Liquid temperature: 40-60 degreeC
Current density: 5 to 20 A / dm 2
Coulomb amount: 10-20 As / dm 2
A heat-resistant layer 2 was formed on the copper foil provided with the heat-
Liquid composition: nickel 2-30 g / L, zinc 2-30 g / L
pH: 3-4
Liquid temperature: 30-50 degreeC
Current density: 1 to 2 A / dm 2
Coulomb amount: 1-2 As / dm 2
上記耐熱層1及び2を施した銅箔上に、さらに防錆層を形成した。防錆層の形成条件を以下に示す。
液組成 :重クロム酸カリウム1〜10g/L、亜鉛0〜5g/L
pH :3〜4
液温 :50〜60℃
電流密度 :0〜2A/dm2(浸漬クロメート処理のため)
クーロン量:0〜2As/dm2(浸漬クロメート処理のため)On the copper foil which gave the said heat-
Liquid composition: potassium dichromate 1-10 g / L, zinc 0-5 g / L
pH: 3-4
Liquid temperature: 50-60 degreeC
Current density: 0 to 2 A / dm 2 (for immersion chromate treatment)
Coulomb amount: 0 to 2 As / dm 2 (for immersion chromate treatment)
上記耐熱層1、2及び防錆層を施した銅箔上に、さらに耐候性層を形成した。形成条件を以下に示す。
アミノ基を有するシランカップリング剤として、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン(例A17、例a17)、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン(例A1〜例A13、例A15、例A16、例a1〜例a13、例a15、例a16)、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン(例A18、例a18)、3−アミノプロピルトリメトキシシラン(例A19、例a19)、3−アミノプロピルトリエトキシシラン(例A20、例a20)、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン(例A22、例a22)、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン(例A23、例a23)で、塗布・乾燥を行い、耐候性層を形成した。これらのシランカップリング剤を2種以上の組み合わせで用いることもできる。On the copper foil which gave the said heat-
As a silane coupling agent having an amino group, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane (Example A17, Example a17), N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane (Example A1 to Example A13, Example A15, Example A16, Example a1 to Example a13, Example a15, Example a16), N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane (Example A18, Example a18), 3-aminopropyltrimethoxysilane (Example A19, Example a19), 3-aminopropyltriethoxysilane (Example A20, Example a20), 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene) propylamine ( Example A22, Example a22), N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (Example A23, Example a23), coated and dried Performed to form a weather-resistant layer. These silane coupling agents can be used in combination of two or more.
なお、圧延銅箔は以下のように製造した。表2又は6に示す組成の銅インゴットを製造し、熱間圧延を行った後、300〜800℃の連続焼鈍ラインの焼鈍と冷間圧延を繰り返して1〜2mm厚の圧延板を得た。この圧延板を300〜800℃の連続焼鈍ラインで焼鈍して再結晶させ、表2又は6の厚みまで最終冷間圧延し、銅箔を得た。表2又は6の「種類」の欄の「タフピッチ銅」はJIS H3100 C1100に規格されているタフピッチ銅を、「無酸素銅」はJIS H3100 C1020に規格されている無酸素銅を示す。また、「タフピッチ銅+Ag:100ppm」はタフピッチ銅にAgを100質量ppm添加したことを意味する。 In addition, the rolled copper foil was manufactured as follows. After manufacturing the copper ingot of the composition shown in Table 2 or 6 and performing hot rolling, annealing and cold rolling of a 300-800 degreeC continuous annealing line were repeated, and the rolled sheet of 1-2 mm thickness was obtained. This rolled sheet was annealed in a continuous annealing line at 300 to 800 ° C. and recrystallized, and finally cold-rolled to the thickness shown in Table 2 or 6 to obtain a copper foil. “Tough pitch copper” in the “type” column of Table 2 or 6 indicates tough pitch copper standardized in JIS H3100 C1100, and “oxygen-free copper” indicates oxygen-free copper standardized in JIS H3100 C1020. “Tough pitch copper + Ag: 100 ppm” means that 100 mass ppm of Ag is added to tough pitch copper.
電解銅箔はJX日鉱日石金属社製電解銅箔HLP箔を用いた。電解研磨又は化学研磨を行った場合には、電解研磨又は化学研磨後の板厚を記載した。
表2又は6において、「高光沢圧延」は、最終の冷間圧延(最終の再結晶焼鈍後の冷間圧延)を記載の油膜当量の値で行ったことを意味する。「通常圧延」は、最終の冷間圧延(最終の再結晶焼鈍後の冷間圧延)を記載の油膜当量の値で行ったことを意味する。「化学研磨」、「電解研磨」は、以下の条件で行ったことを意味する。
「化学研磨」はH2SO4が1〜3質量%、H2O2が0.05〜0.15質量%、残部水のエッチング液を用い、研磨時間を1時間とした。
「電解研磨」はリン酸67%+硫酸10%+水23%の条件で、電圧10V/cm2、表2又は6に記載の時間(10秒間の電解研磨を行うと、研磨量は1〜2μmとなる。)で行った。The electrolytic copper foil used was an electrolytic copper foil HLP foil manufactured by JX Nippon Mining & Metals. When electrolytic polishing or chemical polishing was performed, the plate thickness after electrolytic polishing or chemical polishing was described.
In Table 2 or 6, “high gloss rolling” means that the final cold rolling (cold rolling after the final recrystallization annealing) was performed at the value of the oil film equivalent. “Normal rolling” means that the final cold rolling (cold rolling after the final recrystallization annealing) was performed at the oil film equivalent value described. “Chemical polishing” and “electropolishing” mean the following conditions.
“Chemical polishing” was performed using an etching solution of 1 to 3% by mass of H 2 SO 4 , 0.05 to 0.15% by mass of H 2 O 2 , and the remaining water, and the polishing time was 1 hour.
“Electropolishing” is a condition of phosphoric acid 67% +
上述のようにして作製した実施例の各サンプルについて、図1に示したものと同様の構成の視認性評価装置を用いて、各種評価を下記の通り行った。 About each sample of the Example produced as mentioned above, various evaluation was performed as follows using the visibility evaluation apparatus of the structure similar to what was shown in FIG.
(1)明度曲線の傾き
銅箔をラミネート用熱硬化性接着剤付きポリイミドフィルム(例A1〜例A23及び例B1〜例B13:宇部興産製ユーピレックス厚み50μm、例a1〜例a23及び例b1〜例b13:カネカ製厚み50μm)の両面に貼り合わせ、銅箔をエッチング(塩化第二鉄水溶液)で除去してサンプルフィルムを作製した。続いて、ライン状の黒色マークを印刷した印刷物を、サンプルフィルムの下に敷いて、印刷物をサンプルフィルム越しにCCDカメラで撮影した。ここで使用したマークの幅は、0.1〜0.4mmであった。次に、コンピュータによって、撮影によって得られた画像について、観察されたライン状のマークが伸びる方向と垂直な方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して作製した、観察地点−明度グラフにおいて、マークの端部からマークがない部分にかけて生じる明度曲線の傾き(角度)を測定した。このとき用いた撮影装置の構成及び明度曲線の傾きの測定方法を表す模式図を図8に示す。また、ΔB及び傾きはk1、k2は、図5で示すように測定した。なお、横軸の1ピクセルは10μm長さに相当する。そして、明度曲線のグラフにおける1ピクセルと1階調の長さの比率を3.5:5(明度曲線のグラフにおける1ピクセルの長さ:明度曲線のグラフにおける1階調の長さ=3.5(mm):5(mm))とした明度曲線のグラフにおいてk1、k2(°)の値を算出した。(1) Inclination of lightness curve Polyimide film with thermosetting adhesive for laminating copper foil (Example A1 to Example A23 and Example B1 to Example B13: Ube Industries Upilex thickness 50 μm, Example a1 to Example a23 and Example b1 to Example (b13: Kaneka thickness 50 μm) and the copper foil was removed by etching (ferric chloride aqueous solution) to prepare a sample film. Subsequently, a printed material on which a line-shaped black mark was printed was laid under the sample film, and the printed material was photographed with a CCD camera through the sample film. The width of the mark used here was 0.1 to 0.4 mm. Next, in the observation point-brightness graph prepared by measuring the lightness of each observation point along the direction perpendicular to the direction in which the observed line-shaped mark extends, for an image obtained by photographing with a computer, The inclination (angle) of the brightness curve generated from the end of the mark to the portion without the mark was measured. FIG. 8 is a schematic diagram showing the configuration of the photographing apparatus used at this time and the method of measuring the slope of the brightness curve. ΔB and slopes k1 and k2 were measured as shown in FIG. One pixel on the horizontal axis corresponds to a length of 10 μm. Then, the ratio of the length of one pixel to one gradation in the lightness curve graph is 3.5: 5 (the length of one pixel in the lightness curve graph: the length of one gradation in the lightness curve graph = 3. The values of k1 and k2 (°) were calculated in a lightness curve graph with 5 (mm): 5 (mm)).
撮影手段は、CCDカメラ、マークを付した紙を下に置いたポリイミド基板を置くステージ(白色)、ポリイミド基板の撮影部に光を照射する照明用電源、撮影対象のマークが付された紙を下に置いた評価用ポリイミド基板をステージ上に搬送する搬送機(不図示)を備えている。当該撮影手段の主な仕様を以下に示す:
・撮影手段:株式会社ニレコ製シート検査装置Mujiken
・CCDカメラ:8192画素(160MHz)、1024階調デジタル(10ビット)
・照明用電源:高周波点灯電源(電源ユニット×2)
・照明:蛍光灯(30W)The photographing means includes a CCD camera, a stage (white) on which a polyimide substrate is placed with a marked paper underneath, an illumination power source for irradiating light onto the photographing portion of the polyimide substrate, and a paper with a mark to be photographed. A transporter (not shown) for transporting the evaluation polyimide substrate placed below onto the stage is provided. The main specifications of the photographing means are as follows:
・ Photographing means: Nireco Corporation sheet inspection device Mujken
CCD camera: 8192 pixels (160 MHz), 1024 gradation digital (10 bits)
・ Power supply for lighting: High frequency lighting power supply (power supply unit x 2)
・ Lighting: Fluorescent lamp (30W)
なお、図8に示された明度について、0は「黒」を意味し、明度255は「白」を意味し、「黒」から「白」までの灰色の程度(白黒の濃淡、グレースケール)を256階調に分割して表示している。
なお、使用したマークの幅が0.1〜0.4mmと小さいものであったため、作製した明度曲線は図4(a)に示すようなV型または図4(b)に示すような底部を有するV型となった。For the lightness shown in FIG. 8, 0 means “black”,
In addition, since the used mark width was as small as 0.1 to 0.4 mm, the produced brightness curve has a V shape as shown in FIG. 4A or a bottom as shown in FIG. It became V type which has.
(2)視認性(樹脂透明性)及び銅箔の表面状態の評価;
銅箔をラミネート用熱硬化性接着剤付きポリイミドフィルム(例A1〜例A23及び例B1〜例B13:宇部興産製ユーピレックス厚み50μm、例a1〜例a23及び例b1〜例b13:カネカ製厚み50μm)の両面に貼り合わせ、銅箔をエッチング(塩化第二鉄水溶液)で除去してサンプルフィルムを作成した。得られた樹脂層の一面に印刷物(直径6cmの黒色の円)を貼り付け、反対面から樹脂層越しに印刷物の視認性を判定した。印刷物の黒色の円の輪郭が円周の90%以上の長さにおいてはっきりしたものを「◎」、黒色の円の輪郭が円周の80%以上90%未満の長さにおいてはっきりしたものを「○」(以上合格)、黒色の円の輪郭が円周の0〜80%未満の長さにおいてはっきりしたもの及び輪郭が崩れたものを「×」(不合格)と評価した。そして、当該視認性の評価をそのまま、銅箔表面状態の評価とした。(2) Evaluation of visibility (resin transparency) and surface condition of copper foil;
Copper foil laminated polyimide film with thermosetting adhesive (Examples A1 to A23 and Examples B1 to B13: Ube Industries Upilex thickness 50 μm, Examples a1 to Examples a23 and Examples b1 to b13: Kaneka thickness 50 μm) Then, the copper foil was removed by etching (ferric chloride aqueous solution) to prepare a sample film. A printed material (black circle with a diameter of 6 cm) was attached to one surface of the obtained resin layer, and the visibility of the printed material was judged from the opposite surface through the resin layer. “◎” indicates that the outline of the black circle of the printed material is clear when the length is 90% or more of the circumference, and “Clear” indicates that the outline of the black circle is clear when the length is 80% or more and less than 90% of the circumference. “O” (passed above), a black circle with a clear outline of 0 to less than 80% of the circumference and a broken outline were evaluated as “x” (failed). And the evaluation of the said visibility was made into evaluation of the copper foil surface state as it is.
(3)歩留まり
銅箔をラミネート用熱硬化性接着剤付きポリイミドフィルム(例A1〜例A23及び例B1〜例B13:宇部興産製ユーピレックス厚み50μm、例a1〜例a23及び例b1〜例b13:カネカ製厚み50μm)の両面に貼り合わせ、銅箔をエッチング(塩化第二鉄水溶液)して、L/Sが30μm/30μmの回路幅のFPCを作成した。その後、20μm×20μm角のマークをポリイミド越しにCCDカメラで検出することを試みた。10回中9回以上検出できた場合には「◎」、7〜8回検出できた場合には「○」、6回検出できた場合には「△」、5回以下検出できた場合には「×」とした。
上記各試験の条件及び評価を表1〜9に示す。(3) Yield Polyimide film with thermosetting adhesive for laminating copper foil (Example A1 to Example A23 and Example B1 to Example B13: Upilex thickness 50 μm, Ube Industries, Examples a1 to a23 and Examples b1 to b13: Kaneka) The copper foil was etched (ferric chloride aqueous solution) to form a FPC having a circuit width of L / S of 30 μm / 30 μm. After that, an attempt was made to detect a 20 μm × 20 μm square mark with a CCD camera through polyimide. “◎” when 9 times or more out of 10 times can be detected, “◯” when 7 to 8 times can be detected, “△” when 6 times can be detected, and when 5 times or less can be detected. Is “×”.
The conditions and evaluation of each test are shown in Tables 1-9.
(評価結果)
例A1〜例A23及び例B1〜例B13、例a1〜例a23及び例b1〜例b13の各ポリイミド基材について、いずれも製造ラインで実際に製造することなく、実験室レベルで容易に且つ正確に視認性を評価することができた。
また、幅が1.0〜2.0mmと大きいマークを上記例の代わりに用いて上記実施例と同様の試験を行ったところ、明度曲線として図3に示す底部のある図が得られた。図9に、マークの幅が1.0〜2.0mmの場合の明度曲線の傾き評価の際の、撮影手段の構成及び明度曲線の傾きの測定方法を表す模式図を示す。この場合も、上記実施例と同じ結果が得られ、かつ上記実施例と同様に、ポリイミド基材について、製造ラインで実際に製造することなく、実験室レベルで容易に且つ正確に視認性を評価することができた。銅箔表面状態は、表中の視認性の評価の「◎」、「○」(以上合格)、「×」(不合格)をそのまま適用することで評価することで、銅箔の表面状態についても容易に且つ正確に評価することができた。
また、幅が1.0〜2.0mmと大きいマークを上記例の代わりに用いて上記実施例と同様の試験を行ったところ、明度曲線として図3に示す底部のある図が得られた。図7に、マークの幅が1.0〜2.0mmの場合の明度曲線の傾き評価の際の、撮影手段の構成及び明度曲線の傾きの測定方法を表す模式図を示す。この場合も、上記実施例と同じ結果が得られ、かつ上記実施例と同様に、製造ラインで実際に製造することなく、実験室レベルで容易に且つ正確にポリイミド基材の視認性を評価することができ、さらに銅箔の表面状態を評価することができた。(Evaluation results)
For each polyimide substrate of Example A1 to Example A23 and Example B1 to Example B13, Example a1 to Example a23 and Example b1 to Example b13, all are easily and accurately at the laboratory level without actually being manufactured on the production line. It was possible to evaluate the visibility.
Moreover, when the same test as the said Example was done using the mark with a width | variety as large as 1.0-2.0 mm instead of the said example, the figure with the bottom part shown in FIG. 3 as a lightness curve was obtained. FIG. 9 is a schematic diagram showing the configuration of the photographing means and the method of measuring the slope of the brightness curve when evaluating the slope of the brightness curve when the mark width is 1.0 to 2.0 mm. In this case as well, the same results as in the above example were obtained, and as in the above example, the visibility of the polyimide base material was evaluated easily and accurately at the laboratory level without actually manufacturing it on the manufacturing line. We were able to. The copper foil surface condition is evaluated by applying the visibility evaluations “◎”, “O” (passed above), and “×” (failed) as they are in the table. Could be easily and accurately evaluated.
Moreover, when the same test as the said Example was done using the mark with a width | variety as large as 1.0-2.0 mm instead of the said example, the figure with the bottom part shown in FIG. 3 as a lightness curve was obtained. FIG. 7 is a schematic diagram showing the configuration of the photographing means and the method of measuring the slope of the brightness curve when evaluating the slope of the brightness curve when the mark width is 1.0 to 2.0 mm. In this case as well, the same results as in the above example were obtained, and as in the above example, the visibility of the polyimide substrate was evaluated easily and accurately at the laboratory level without actually producing it on the production line. In addition, the surface condition of the copper foil could be evaluated.
10 透明基材の視認性評価装置
11 撮影手段
12 コンピュータ(観察地点−明度グラフ作製手段、視認性評価手段、スムージング処理手段)
13 表示手段
14 照明手段
15 ステージ
16 マーク
17 透明基材
20 積層体の位置決め装置
21 撮影手段
22 コンピュータ(観察地点−明度グラフ作製手段、位置決め手段、スムージング処理手段)
23 表示手段
24 照明手段
25 ステージ
26 マーク
27 積層体
10’ 銅箔の表面状態の評価装置
11’ 撮影手段
12’ コンピュータ(観察地点−明度グラフ作製手段、銅箔の表面状態評価手段、スムージング処理手段)
13’ 表示手段
14’ 照明手段
15’ ステージ
16’ マーク
17’ 透明基材DESCRIPTION OF
DESCRIPTION OF
DESCRIPTION OF
13 'display means 14' illumination means 15 'stage 16' mark 17 'transparent substrate
Claims (93)
前記撮影によって得られた画像について、観察された前記マークが伸びる方向と交わる方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作製する観察地点−明度グラフ作製手段と、
前記観察地点−明度グラフにおいて、前記マークの端部から前記マークがない部分にかけて生じる明度曲線の傾きに基づいて前記透明基材の視認性を評価する視認性評価手段と、
を備えた透明基材の視認性評価装置。Photographing means for photographing the mark existing under the transparent substrate through the transparent substrate;
For the image obtained by the photographing, an observation point-lightness graph preparation means for preparing the observation point-lightness graph by measuring the lightness of each observation point along the direction intersecting with the direction in which the observed mark extends, and
In the observation point-lightness graph, visibility evaluation means for evaluating the visibility of the transparent substrate based on the slope of the lightness curve generated from the end of the mark to the portion without the mark;
The visibility evaluation apparatus of the transparent base material provided with.
前記観察地点−明度グラフ作製手段が、前記スムージング処理後の前記明度を用いて観察地点−明度グラフを作製する請求項1〜3のいずれか一項に記載の透明基材の視認性評価装置。For an image obtained by photographing by the photographing means, further comprising a smoothing processing means for reducing variations in brightness,
The visibility evaluation apparatus of the transparent base material as described in any one of Claims 1-3 in which the said observation point-lightness graph preparation means produces an observation point-lightness graph using the said lightness after the said smoothing process.
前記観察地点−明度グラフ作製手段が、前記撮影によって得られた画像について、観察された前記ライン状のマークが伸びる方向と垂直な方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作製する請求項1〜4のいずれか一項に記載の透明基材の視認性評価装置。The mark present under the transparent substrate is a line-shaped mark printed on a printed material laid under the transparent substrate,
The observation point-lightness graph preparation means measures the lightness of each observation point along the direction perpendicular to the direction in which the observed line-shaped mark extends with respect to the image obtained by the photographing. The visibility evaluation apparatus of the transparent base material as described in any one of Claims 1-4 which produces a graph.
前記表面処理金属箔を、表面処理された表面側から、前記透明基材の少なくとも一方の表面に貼り合わせた後、エッチングで前記金属箔を除去して作製された前記透明基材についての前記マークの端部から前記マークがない部分にかけて生じる明度曲線のトップ平均値Btとボトム平均値Bbとの差ΔB(ΔB=Bt−Bb)と、
ΔB/ΔB(PI)からなる比率と、
Btを基準とした所定の深さ範囲における前記明度曲線の角度で表された傾きと、
を用いて行う請求項7〜9のいずれか一項に記載の透明基材の視認性評価装置。Visibility evaluation of the transparent substrate by the inclination represented by the angle of the brightness curve,
The mark on the transparent base material produced by attaching the surface-treated metal foil from the surface-treated surface side to at least one surface of the transparent base material and then removing the metal foil by etching. A difference ΔB (ΔB = Bt−Bb) between the top average value Bt and the bottom average value Bb of the brightness curve generated from the end portion of the lightness to the portion without the mark,
A ratio of ΔB / ΔB (PI);
An inclination represented by an angle of the brightness curve in a predetermined depth range based on Bt;
The visibility evaluation apparatus of the transparent base material as described in any one of Claims 7-9 performed using this.
前記透明基材についての前記マークの端部から前記マークがない部分にかけて生じる明度曲線のトップ平均値Btとボトム平均値Bbとの差ΔB(ΔB=Bt−Bb)が20以上33以下、又は、50以上65以下であり、
ΔB/ΔB(PI)からなる比率が0.7以上であり、
Btを基準に0.4ΔB〜0.6ΔBの深さ範囲における前記明度曲線の角度で表された傾きk1が65°以上となる場合を良好と判定する請求項11に記載の透明基材の視認性評価装置。Visibility evaluation of the transparent substrate by the inclination represented by the angle of the brightness curve,
The difference ΔB (ΔB = Bt−Bb) between the top average value Bt and the bottom average value Bb of the lightness curve generated from the end of the mark to the portion where the mark is not present on the transparent substrate is 20 or more and 33 or less, or 50 or more and 65 or less,
The ratio of ΔB / ΔB (PI) is 0.7 or more,
The visual recognition of the transparent base material according to claim 11, wherein it is determined that the inclination k1 represented by the angle of the brightness curve in the depth range of 0.4ΔB to 0.6ΔB with respect to Bt is 65 ° or more is good. Sex evaluation device.
マークを有する、前記金属と樹脂の積層体に対し、前記マークを前記樹脂越しに撮影する撮影手段と、
前記撮影によって得られた画像について、観察された前記マークが伸びる方向と交わる方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作製する観察地点−明度グラフ作製手段と、
前記観察地点−明度グラフにおいて、前記マークの端部から前記マークがない部分にかけて生じる明度曲線の傾きによって前記積層体の位置を決定する位置決め手段と、
を備えた積層体の位置決め装置。A laminated body positioning device for positioning a laminated body of metal and resin,
An imaging means for imaging the mark through the resin with respect to the metal-resin laminate having the mark;
For the image obtained by the photographing, an observation point-lightness graph preparation means for preparing the observation point-lightness graph by measuring the lightness of each observation point along the direction intersecting with the direction in which the observed mark extends, and
In the observation point-lightness graph, positioning means for determining the position of the stacked body by an inclination of a lightness curve generated from an end portion of the mark to a portion without the mark;
Laminate positioning apparatus comprising:
前記撮影によって得られた画像について、観察された前記マークが伸びる方向と交わる方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作製する観察地点−明度グラフ作製手段と、
前記観察地点−明度グラフにおいて、前記マークの端部から前記マークがない部分にかけて生じる明度曲線の傾きに基づいて前記透明基材の視認性を評価し、前記視認性の評価結果に基づいて金属箔の表面状態を評価する金属箔表面状態評価手段と、
を備えた金属箔の表面状態の評価装置。After bonding the metal foil to at least one surface of the transparent substrate, the metal foil is removed by etching, and the mark present under the transparent substrate after the metal foil is removed by etching is marked with the transparent substrate. Photography means to shoot over,
For the image obtained by the photographing, an observation point-lightness graph preparation means for preparing the observation point-lightness graph by measuring the lightness of each observation point along the direction intersecting with the direction in which the observed mark extends, and
In the observation point-lightness graph, the visibility of the transparent substrate is evaluated based on the slope of the lightness curve generated from the end of the mark to the portion where the mark is not present, and the metal foil is based on the visibility evaluation result. Metal foil surface state evaluation means for evaluating the surface state of,
An apparatus for evaluating the surface state of a metal foil comprising:
前記撮影によって得られた画像について、観察された前記マークが伸びる方向と垂直な方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作製する観察地点−明度グラフ作製手段と、
前記観察地点−明度グラフにおいて、前記マークの端部から前記マークがない部分にかけて生じる明度曲線の傾きに基づいて前記透明基材の視認性を評価し、前記視認性の評価結果に基づいて金属箔の表面状態を評価する金属箔表面状態評価手段と、
を備えた金属箔の表面状態の評価装置。After bonding the surface-treated surface side of the surface-treated metal foil to at least one surface of the transparent substrate, the surface-treated metal foil is removed by etching, and the surface-treated metal foil is removed by etching. Photographing means for photographing the mark existing under the material through the transparent substrate;
With respect to the image obtained by the photographing, an observation point-lightness graph creating means for measuring the lightness of each observation point along a direction perpendicular to the direction in which the observed mark extends, and creating an observation point-lightness graph;
In the observation point-lightness graph, the visibility of the transparent substrate is evaluated based on the slope of the lightness curve generated from the end of the mark to the portion where the mark is not present, and the metal foil is based on the visibility evaluation result. Metal foil surface state evaluation means for evaluating the surface state of,
An apparatus for evaluating the surface state of a metal foil comprising:
前記観察地点−明度グラフ作製手段が、前記スムージング処理後の前記明度を用いて観察地点−明度グラフを作製する請求項32又は33に記載の金属箔の表面状態の評価装置。For an image obtained by photographing by the photographing means, further comprising a smoothing processing means for reducing variations in brightness,
34. The apparatus for evaluating a surface state of a metal foil according to claim 32 or 33, wherein the observation point-lightness graph preparation means prepares an observation point-lightness graph using the lightness after the smoothing process.
前記観察地点−明度グラフ作製手段が、前記撮影によって得られた画像について、観察された前記ライン状のマークが伸びる方向と垂直な方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作製する請求項32〜34のいずれか一項に記載の金属箔の表面状態の評価装置。The mark present under the transparent substrate is a line-shaped mark printed on a printed material laid under the transparent substrate,
The observation point-lightness graph preparation means measures the lightness of each observation point along the direction perpendicular to the direction in which the observed line-shaped mark extends with respect to the image obtained by the photographing. The evaluation apparatus of the surface state of the metal foil as described in any one of Claims 32-34 which produces a graph.
前記表面処理金属箔を、表面処理された表面側から、前記透明基材の少なくとも一方の表面に貼り合わせた後、エッチングで前記金属箔を除去して作製された前記透明基材についての前記マークの端部から前記マークがない部分にかけて生じる明度曲線のトップ平均値Btとボトム平均値Bbとの差ΔB(ΔB=Bt−Bb)と、
ΔB/ΔB(PI)からなる比率と、
Btを基準とした所定の深さ範囲における前記明度曲線の角度で表された傾きと、
を用いて行う請求項36〜38のいずれか一項に記載の金属箔の表面状態の評価装置。Visibility evaluation of the transparent substrate by the inclination represented by the angle of the brightness curve,
The mark on the transparent base material produced by attaching the surface-treated metal foil from the surface-treated surface side to at least one surface of the transparent base material and then removing the metal foil by etching. A difference ΔB (ΔB = Bt−Bb) between the top average value Bt and the bottom average value Bb of the brightness curve generated from the end portion of the lightness to the portion without the mark,
A ratio of ΔB / ΔB (PI);
An inclination represented by an angle of the brightness curve in a predetermined depth range based on Bt;
The evaluation apparatus of the surface state of the metal foil as described in any one of Claims 36-38 performed using.
前記透明基材についての前記マークの端部から前記マークがない部分にかけて生じる明度曲線のトップ平均値Btとボトム平均値Bbとの差ΔB(ΔB=Bt−Bb)が20以上33以下、又は、50以上65以下であり、
ΔB/ΔB(PI)からなる比率が0.7以上であり、
Btを基準に0.4ΔB〜0.6ΔBの深さ範囲における前記明度曲線の角度で表された傾きk1が65°以上となる場合を良好と判定する請求項40に記載の金属箔の表面状態の評価装置。Visibility evaluation of the transparent substrate by the inclination represented by the angle of the brightness curve,
The difference ΔB (ΔB = Bt−Bb) between the top average value Bt and the bottom average value Bb of the lightness curve generated from the end of the mark to the portion where the mark is not present on the transparent substrate is 20 or more and 33 or less, or 50 or more and 65 or less,
The ratio of ΔB / ΔB (PI) is 0.7 or more,
41. The surface state of the metal foil according to claim 40, wherein it is determined that the case where the slope k1 represented by the angle of the brightness curve in the depth range of 0.4ΔB to 0.6ΔB with respect to Bt is 65 ° or more is good. Evaluation device.
前記撮影によって得られた画像について、観察された前記マークが伸びる方向と垂直な方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作製し、
前記観察地点−明度グラフにおいて、前記マークの端部から前記マークがない部分にかけて生じる明度曲線の傾きを角度に基づいて前記透明基材の視認性を評価し、前記視認性の評価結果に基づいて金属箔の表面状態を評価する金属箔の表面状態の評価方法。After bonding the surface-treated surface side of the surface-treated metal foil to at least one surface of the transparent substrate, the surface-treated metal foil is removed by etching, and the surface-treated metal foil is removed by etching. Photograph the mark that exists under the material through the transparent substrate,
For the image obtained by the photographing, an observation point-brightness graph is prepared by measuring the brightness for each observation point along the direction perpendicular to the direction in which the observed mark extends,
In the observation point-lightness graph, the visibility of the transparent substrate is evaluated based on the angle of the lightness curve that occurs from the end of the mark to the portion without the mark, and based on the evaluation result of the visibility. The evaluation method of the surface state of metal foil which evaluates the surface state of metal foil.
前記撮影によって得られた画像について、観察された前記マークを横切る方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作成し、
前記観察地点−明度グラフにおいて、前記マークの端部から前記マークがない部分にかけて生じる明度曲線の傾きに基づいて前記透明基材の視認性を評価する方法。Preparing a mark and a transparent substrate provided on the mark, photographing the mark with a CCD camera through the transparent substrate,
For the image obtained by the shooting, measure the brightness for each observation point along the direction across the observed mark to create an observation point-lightness graph,
A method of evaluating the visibility of the transparent base material based on an inclination of a lightness curve generated from an end portion of the mark to a portion without the mark in the observation point-lightness graph.
前記観察地点−明度グラフが、前記撮影によって得られた画像について、観察された前記ライン状のマークが伸びる方向と垂直な方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して作成される請求項52〜54のいずれか一項に記載の評価方法。The mark is a line-shaped mark,
53. The observation point-lightness graph is created by measuring the lightness of each observation point along a direction perpendicular to a direction in which the observed line-shaped mark extends with respect to an image obtained by the photographing. The evaluation method as described in any one of -54.
ΔB/ΔB(PI)からなる比率と、
Btを基準とした所定の深さ範囲における前記明度曲線の角度で表された傾きと、
を用いて行う請求項61に記載の評価方法。A method for evaluating the visibility of the transparent substrate is to remove the metal foil by etching after the surface-treated metal foil is bonded to at least one surface of the transparent substrate from the roughened surface side. The difference ΔB (ΔB = Bt−Bb) between the top average value Bt and the bottom average value Bb of the brightness curve generated from the end of the mark to the portion without the mark for the transparent substrate produced in
A ratio of ΔB / ΔB (PI);
An inclination represented by an angle of the brightness curve in a predetermined depth range based on Bt;
62. The evaluation method according to claim 61, which is performed using
ΔB/ΔB(PI)からなる比率が0.7以上であり、
Btを基準に0.4ΔB〜0.6ΔBの深さ範囲における前記明度曲線の角度で表された傾きk1が65°以上となる場合を良好と判定する請求項63に記載の評価方法。A method for evaluating the visibility of the transparent substrate is that a difference ΔB (ΔB = Bt−Bb) between a top average value Bt and a bottom average value Bb of a brightness curve generated from an end portion of the mark to a portion where the mark is not present. 20 or more and 33 or less,
The ratio of ΔB / ΔB (PI) is 0.7 or more,
64. The evaluation method according to claim 63, wherein it is determined that the case where the slope k1 expressed by the angle of the brightness curve in the depth range of 0.4 ΔB to 0.6 ΔB with respect to Bt is 65 ° or more is good.
前記金属と樹脂の積層体はマークを有し、
前記マークを前記樹脂越しにCCDカメラで撮影し、
前記撮影によって得られた画像について、観察された前記マークを横切る方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作成し、
前記観察地点−明度グラフにおいて、前記マークの端部から前記マークがない部分にかけて生じる明度曲線の傾きに基づいて金属と樹脂との積層体の位置決めをする方法。A method for positioning a laminate of metal and resin,
The metal and resin laminate has a mark,
The mark is photographed with a CCD camera through the resin,
For the image obtained by the shooting, measure the brightness for each observation point along the direction across the observed mark to create an observation point-lightness graph,
A method of positioning a laminate of a metal and a resin on the basis of an inclination of a lightness curve generated from an end portion of the mark to a portion without the mark in the observation point-lightness graph.
マークを有する、前記金属と透明基材との積層体に対し、前記マークを前記透明基材越しに撮影し、
前記撮影によって得られた画像について、観察された前記マークが伸びる方向と交わる方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作成し、
前記観察地点−明度グラフにおいて、前記マークの端部から前記マークがない部分にかけて生じる明度曲線の傾きに基づいて前記積層体が有するマークが存在するか否かを判定する方法。A method for determining whether or not there is a mark of a laminate of a metal and a transparent substrate,
For the laminate of the metal and the transparent substrate having a mark, the mark is photographed through the transparent substrate,
For the image obtained by the photographing, an observation point-brightness graph is created by measuring the brightness for each observation point along the direction intersecting the direction in which the observed mark extends,
In the observation point-lightness graph, a method of determining whether or not a mark included in the stacked body is present based on a slope of a lightness curve generated from an end portion of the mark to a portion where the mark is not present.
マークを有する、前記金属と透明基材の積層体に対し、前記マークを前記透明基材越しに撮影する撮影手段と、
前記撮影によって得られた画像について、観察された前記マークが伸びる方向と交わる方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作製する観察地点−明度グラフ作製手段と、
前記観察地点−明度グラフにおいて、前記マークの端部から前記マークがない部分にかけて生じる明度曲線の傾きに基づいて前記マークが存在するか否かを判定する判定手段と、
を備えた、金属と透明基材との積層体が有するマークが存在するか否かを判定する装置。An apparatus for determining whether or not a mark included in a laminate of a metal and a transparent substrate exists,
An imaging means for photographing the mark through the transparent substrate with respect to a laminate of the metal and the transparent substrate having a mark;
For the image obtained by the photographing, an observation point-lightness graph preparation means for preparing the observation point-lightness graph by measuring the lightness of each observation point along the direction intersecting with the direction in which the observed mark extends, and
In the observation point-lightness graph, a determination unit that determines whether or not the mark exists based on a slope of a lightness curve generated from an end of the mark to a portion where the mark is not present;
The apparatus which determines whether the mark which the laminated body of a metal and a transparent base material provided with has exists.
マークを有する、前記金属と透明基材との積層体に対し、前記マークを前記透明基材越しに撮影し、
前記撮影によって得られた画像について、観察された前記マークが伸びる方向と交わる方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作成し、
前記観察地点−明度グラフにおいて、前記マークの端部から前記マークがない部分にかけて生じる明度曲線の傾きに基づいて前記マークの位置を検出する方法。A method for detecting the position of a mark of a laminate of a metal and a transparent substrate,
For the laminate of the metal and the transparent substrate having a mark, the mark is photographed through the transparent substrate,
For the image obtained by the photographing, an observation point-brightness graph is created by measuring the brightness for each observation point along the direction intersecting the direction in which the observed mark extends,
A method of detecting the position of the mark based on an inclination of a lightness curve generated from an end portion of the mark to a portion without the mark in the observation point-lightness graph.
マークを有する、前記金属と透明基材の積層体に対し、前記マークを前記透明基材越しに撮影する撮影手段と、
前記撮影によって得られた画像について、観察された前記マークが伸びる方向と交わる方向に沿って観察地点ごとの明度を測定して観察地点−明度グラフを作成する観察地点−明度グラフ作製手段と、
前記観察地点−明度グラフにおいて、前記マークの端部から前記マークがない部分にかけて生じる明度曲線の傾きに基づいて前記マークの位置を検出する位置検出手段と、
を備えた、金属と透明基材との積層体が有するマークの位置を検出する装置。An apparatus for detecting the position of a mark of a laminate of a metal and a transparent substrate,
An imaging means for photographing the mark through the transparent substrate with respect to a laminate of the metal and the transparent substrate having a mark;
For the image obtained by the photographing, an observation point-lightness graph creating means for measuring the lightness of each observation point along a direction intersecting with the direction in which the observed mark extends, and creating an observation point-lightness graph;
In the observation point-lightness graph, position detecting means for detecting the position of the mark based on a slope of a lightness curve generated from an end of the mark to a portion without the mark;
The apparatus which detects the position of the mark which the laminated body of a metal and a transparent base material provided with.
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