JP5799738B2 - 電子写真感光体、画像形成装置、およびプロセスカートリッジ - Google Patents

Description

本発明は、電子写真感光体、画像形成装置、およびプロセスカートリッジに関する。

電子写真方式の画像形成装置に用いる感光体の表面層に、ポリテトラフルオロエチレンなどのフッ素樹脂粒子を分散させた技術が用いられており、該フッ素樹脂粒子を感光体の表面層に分散させる技術として、分散助剤としてフッ素原子を含むオリゴマーを用いる方法が開示されている（例えば特許文献１参照）。

また、感光層の表面層が、溶媒中に単量体を含む塗工液を用いて形成され、重合開始時における表面層の残留溶媒量が５０００ｐｐｍ以下である電子写真感光体が開示されている（例えば特許文献２参照）。
更に、導電性支持体、該導電性支持体上に電荷発生層、電荷輸送層及び表面層を有する電子写真感光体の製造方法において、該電荷発生層上に電荷輸送材料と樹脂及び溶媒からなる塗布液を塗布し、１００℃以下で乾燥して該電荷輸送層を形成する工程、該電荷輸送層上に、正孔輸送化合物と溶媒からなる塗布液を塗布し、加速電圧が１００ｋＶ以下の電子線を照射した後、１４０℃以下で加熱、硬化して該表面層を形成する工程、を有し、該電荷輸送層形成後かつ該表面層形成前の電荷輸送層中の残留溶媒量が０．５質量％乃至５質量％である電子写真感光体が開示されている（例えば特許文献３参照）。

特開２００８−４６１９７号公報 特開２００７−２４１１５８号公報 特開２００９−２５１５０７号公報

本発明の課題は、帯電と除電とが繰り返されても残留電位の蓄積を抑制し、且つ粒状性に優れた画像が形成される電子写真感光体を提供することである。

上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項１に係る発明は、
導電性基体と
前記導電性基体上に設けられた感光層と、
を有し、
前記感光層の最外表面を構成する層が、グアナミン化合物およびメラミン化合物から選択される少なくとも１種と−ＯＨ、−ＯＣＨ_３、−ＮＨ_２、−ＳＨおよび−ＣＯＯＨから選択される少なくとも１つの置換基を持つ電荷輸送性材料との架橋物と、フッ素樹脂粒子と、末端基に-ＣＦ_３基を有するカルボン酸類のオリゴマーと、アルコール溶剤を含む残留溶剤と、を含有し、
前記アルコール溶剤の含有量が、前記アルコール溶剤として炭素数３以下のアルコール溶剤を含む場合、全残留溶剤に対して０．１質量％以上２０質量％以下であり、前記アルコール溶剤として炭素数４以上のアルコール溶剤を含む場合、全残留溶剤に対して０．１質量％以上６０質量％以下であり、
前記最外表面を構成する層における前記電荷輸送性材料の含有量が、８５質量％以上である電子写真感光体。

請求項２に係る発明は、
前記アルコール溶剤が、炭素数６以下のアルコール溶剤である請求項１に記載の電子写真感光体。

請求項３に係る発明は、
前記炭素数６以下のアルコール溶剤が、シクロペンタノール、メタノール、エタノール、ｉ−プロパノール、２−ブタノール、およびｎ−ペンタノールから選択される少なくとも１種である請求項２に記載の電子写真感光体。

請求項４に係る発明は、
前記残留溶剤が、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤および炭化水素系溶剤から選択される少なくとも１種の溶剤をさらに含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子写真感光体。

請求項５に係る発明は、
前記残留溶剤が、シクロペンタノン、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、エチルベンゼン、テトラヒドロフラン、および２−メチルテトラヒドロフランから選択される少なくとも１種をさらに含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子写真感光体。

請求項６に係る発明は、
請求項１〜５のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電装置と、
帯電された前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成装置と、
前記静電潜像を現像剤で現像してトナー像を形成する現像装置と、
前記トナー像を被転写媒体に転写する転写装置と、
トナー像の転写後、前記電子写真感光体の表面を除電させる除電装置と、
を備える画像形成装置。

請求項７に係る発明は、
請求項１〜５のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱し得るプロセスカートリッジ。

請求項１に係る発明によれば、アルコール溶剤として炭素数３以下のアルコール溶剤を含む場合、全残留溶剤に対して０．１質量％以上２０％質量以下で、炭素数４以上のアルコール溶剤を含む場合、全残留溶剤に対して０．１質量％以上６０質量％以下で、感光層の最外表面を構成する層にアルコール溶剤を含有しない場合に比べ、帯電と除電とが繰り返されても残留電位の蓄積を抑制し、且つ粒状性に優れた画像が形成される電子写真感光体を提供できる。
請求項２、３に係る発明によれば、アルコール溶剤が炭素数６以下のアルコール溶剤でない場合に比べ、帯電と除電とが繰り返されても残留電位の蓄積が抑制される電子写真感光体を提供できる。
請求項４、５に係る発明によれば、残留溶剤に、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤および炭化水素系溶剤から選択される少なくとも１種の溶剤を含まない場合に比べ、帯電と除電とが繰り返されても残留電位の蓄積が抑制される電子写真感光体を提供できる。

請求項６、７に係る発明によれば、アルコール溶剤として炭素数３以下のアルコール溶剤を含む場合、０．１質量％以上２０％質量以下で、炭素数４以上のアルコール溶剤を含む場合、０．１質量％以上６０質量％以下で、感光層の最外表面を構成する層にアルコール溶剤を含有しない電子写真感光体を備えた場合に比べ、繰り返し、画質に優れかつ粒状性に優れた画像が形成される画像形成装置、及びプロセスカートリッジを提供できる。

本実施形態における感光体の層構成の一例を示す模式断面図である。 本実施形態における感光体の層構成の他の例を示す模式断面図である。 本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。 本実施形態に係る他の画像形成装置を示す概略構成図である。

以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。

＜電子写真感光体＞
本実施形態に係る電子写真感光体（以下「感光体」と称す）は、導電性基体、および、前記導電性基体上に感光層を有し、前記感光層の最外表面を構成する層（以下「表面層」と称す）が、下記（ａ）乃至（ｄ）の成分を含有し、前記表面層における下記電荷輸送性材料の含有量が８５質量％以上である。
（ａ）グアナミン化合物およびメラミン化合物から選択される少なくとも１種（ａ−１）と、−ＯＨ、−ＯＣＨ_３、−ＮＨ_２、−ＳＨおよび−ＣＯＯＨから選択される少なくとも１つの置換基（以下「特定の置換基」と称す）を持つ電荷輸送性材料（ａ−２）と、の架橋物
（ｂ）フッ素樹脂粒子
（ｃ）末端基に-ＣＦ_３基を有するカルボン酸類のオリゴマー（以下「特定オリゴマー」と称す）
（ｄ）アルコール溶剤を含む残留溶剤（但し、アルコール溶剤が炭素数３以下のアルコールの場合、当該アルコール溶剤の含有量は０．１質量％以上２０質量％以下であり、アルコール溶剤が炭素数４以上のアルコールの場合、当該アルコール溶剤の含有量は０．１質量％以上６０質量％以下である）
（ｅ）ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤および炭化水素系溶剤から選択される少なくとも１種の溶剤（以下「その他の特定溶剤」と称す）

ここで、（ｂ）フッ素樹脂粒子と、（ｂ）フッ素樹脂粒子に吸着して該（ｂ）フッ素樹脂粒子を分散させる働きを担う（ｃ）特定オリゴマーと、を含有する表面層を有する感光体では、帯電と除電とが繰り返されると残留電位が蓄積することがあった。このメカニズムは明らかではないものの、（ｃ）特定オリゴマーが（ｂ）フッ素樹脂粒子に吸着した状態で表面層中に存在する場合には分極成分とはならない一方で、（ｃ）特定オリゴマーが（ｂ）フッ素樹脂粒子に吸着せずに単体で存在する場合には分極成分として働くため、電荷を蓄積する物質となるものと考えられる。

一方、（ｄ）アルコール溶剤（残留溶剤）は（ｃ）特定オリゴマーを溶解しにくいという性質を有する。本実施形態では、表面層に（ｄ）アルコール溶剤を含有しており、即ち表面層の形成の際に溶剤として（ｄ）アルコール溶剤を用いていることで、（ｃ）特定オリゴマーと溶剤との相溶性が抑えられ、相対的に（ｃ）特定オリゴマーと（ｂ）フッ素樹脂粒子との親和性が高められると考えられる。その結果（ｃ）特定オリゴマーが表面層中に単体で存在しにくくなって（ｂ）フッ素樹脂粒子と吸着するため、該（ｃ）特定オリゴマーが電荷を蓄積する物質として表面層中に存在することが抑制され、本実施形態に係る感光体では帯電と除電とが繰り返されても残留電位の蓄積が抑制されるものと推察される。
また、電荷輸送性材料の含有量が８５質量％未満となると、感光体では帯電と除電とが繰り返されて残留電位の蓄積が生じ易いが、電荷輸送性材料を含有量８５質量％以上と多量に含ませると、これが改善され易くなるものと考えられる。

しかしながら、アルコール溶剤量が多すぎると、（ｃ）特定オリゴマー自体の分散性が低下し、（ｂ）フッ素樹脂粒子を分散させる働きが発揮されず、表面層の形成の際、（ｂ）フッ素樹脂粒子の分散が良好でないために（ｂ）フッ素樹脂粒子の凝集物が表面層中に残り、この凝集物の部分が帯電されないものと推察され、その結果、形成される画像では粒状性（画像を構成する各ドットの円形性）に劣ってしまう。この現象は、アルコール溶剤の炭素数によっても影響が異なる。これは、フッ素原子を含む特定オリゴマーの溶解性が炭素数の少ないアルコールほど弱く、フッ素樹脂を分散させる機能を発揮できないと推測されるためである。
このため、アルコール溶剤が炭素数３以下のアルコールの場合、当該アルコール溶剤の含有量は０．１質量％以上２０質量％以下とし、アルコール溶剤が炭素数４以上のアルコールの場合、当該アルコール溶剤の含有量は０．１質量％以上６０質量％以下とする。

これにより、本実施形態に係る感光体では、上記構成により、帯電と除電とが繰り返されても残留電位の蓄積を抑制し、且つ粒状性に優れた画像が形成される。

尚、本実施形態において感光体の表面層中に存在する（ｄ）アルコール溶剤を含む残留溶剤は、表面層を形成するための塗布液に用いられた溶剤であって、表面層の形成の際に乾燥されて該表面層が硬化された後にも蒸発し切らずに残留溶剤として残ったものを指す。

以下、本実施形態における感光体の構成について説明する。

−感光体の構成−
本実施形態に係る感光体は、感光層として、電荷輸送能と電荷発生能とを併せ持つ機能一体型の感光層を有していてもよいし、電荷輸送層と電荷発生層とを含む機能分離型の感光層を有していてもよい。さらには、感光層には、下引層や保護層等のその他の層を設けてもよい。

以下、本実施形態における感光体の構成について、図１乃至図２を参照して説明するが、本実施形態は図１乃至図２によって限定されることはない。
図１は、本実施形態における感光体の層構成の一例を示す模式断面図であり、図１中、１は導電性基体、２は感光層、２Ａは電荷発生層、２Ｂは電荷輸送層、２Ｃは保護層、４は下引層を表す。
図１に示す第１の態様の感光体は、導電性基体１上に、下引層４、電荷発生層２Ａ、電荷輸送層２Ｂ、保護層２Ｃがこの順に積層された層構成を有し、感光層２は電荷発生層２Ａ、電荷輸送層２Ｂおよび保護層２Ｃの３層から構成される（第１の態様の感光体）。
尚、図１に示す感光体においては保護層２Ｃが最外表面を構成する表面層である。

図２は、本実施形態における感光体の層構成の他の例を示す模式断面図であり、図２中に示した符号は、図１中に示したものと同義である。
図２に示す第２の態様の感光体は、導電性基体１上に、下引層４、電荷発生層２Ａ、電荷輸送層２Ｂがこの順に積層された層構成を有し、感光層２は電荷発生層２Ａおよび電荷輸送層２Ｂの２層から構成される（第２の態様の感光体）。
尚、図２に示す第２の態様の感光体においては電荷輸送層２Ｂが最外表面を構成する表面層である。

また、図１に示す第１の態様では上記の通り感光層２として電荷発生層２Ａ、電荷輸送層２Ｂおよび保護層２Ｃの３層から構成される態様を示すが、この他にも前記感光層２の態様として、導電性基体１側から順に電荷輸送層２Ｂ、電荷発生層２Ａ、保護層２Ｃを有する態様や、電荷輸送能と電荷発生能とを併せ持つ機能一体型の感光層および保護層２Ｃを有する態様等であってもよい。

以下、本実施形態における感光体の例として、上記第１乃至第２の態様のそれぞれについて説明する。

〔第１の態様の感光体：表面層＝保護層〕
第１の態様の感光体は、図１に示す通り、導電性基体１上に、下引層４、電荷発生層２Ａ、電荷輸送層２Ｂ、保護層２Ｃがこの順に積層された層構成を有し、保護層２Ｃが表面層である。

・導電性基体
導電性基体１としては、導電性を有する導電性基体が用いられ、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等の金属または合金を用いて構成される金属板、金属ドラム、および金属ベルト、または、導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物やアルミニウム、パラジウム、金等の金属または合金を塗布、蒸着またはラミネートした紙、プラスチックフィルム、ベルト等が挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０^１３Ωｃｍ未満であることをいう。

第１の態様の感光体がレーザープリンターに使用される場合であれば、導電性基体１の表面は中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化することが望ましい。但し、非干渉光を光源に用いる場合には粗面化は特に行わなくてもよい。

粗面化の方法としては、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、または回転する砥石に支持体を接触させ、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が望ましい。

また、他の粗面化の方法としては、導電性基体１表面を粗面化することなく、導電性または半導電性粉体を樹脂中に分散させて、支持体表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も望ましく用いられる。

ここで、陽極酸化による粗面化処理は、アルミニウムを陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することによりアルミニウム表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であるため、陽極酸化膜の微細孔を加圧水蒸気または沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが望ましい。 陽極酸化膜の膜厚については、０．３μｍ以上１５μｍ以下が望ましい。

また、導電性基体１には、酸性水溶液による処理またはベーマイト処理を施してもよい。
リン酸、クロム酸およびフッ酸を含む酸性処理液による処理は以下のようにして実施される。先ず、酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸およびフッ酸の配合割合は、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲が望ましい。処理温度は４２℃以上４８℃以下が望ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が望ましい。

ベーマイト処理は、９０℃以上１００℃以下の純水中に５分間以上６０分間以下浸漬すること、または９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分間以上６０分間以下接触させることにより行われる。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が望ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の他種に比べ被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。

・下引層
下引層４は、例えば、結着樹脂に無機粒子を含有した層として構成される。
無機粒子としては、粉体抵抗（体積抵抗率）１０^２Ω・ｃｍ以上１０^１１Ω・ｃｍ以下のものが望ましく用いられる。

中でも上記抵抗値を有する無機粒子としては、酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等の無機粒子（導電性金属酸化物）を用いるのが望ましく、特に酸化亜鉛は望ましく用いられる。

また、無機粒子は表面処理を行ったものでもよく、表面処理の異なるもの、または、粒子径の異なるものなど２種以上混合して用いてもよい。無機粒子の体積平均粒径は５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（望ましくは６０以上１０００以下）の範囲であることが望ましい。

また、無機粒子としては、ＢＥＴ法による比表面積が１０ｍ^２／ｇ以上のものが望ましく用いられる。

さらに無機粒子に加えて、アクセプター性化合物を含有させてもよい。アクセプター性化合物としてはいかなるものでも使用し得るが、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールや２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送性物質などが望ましく、特にアントラキノン構造を有する化合物が望ましい。さらに、ヒドロキシアントラキノン系化合物、アミノアントラキノン系化合物、アミノヒドロキシアントラキノン系化合物等、アントラキノン構造を有するアクセプター性化合物が望ましく用いられ、具体的にはアントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が挙げられる。

これらのアクセプター性化合物の含有量は任意に設定してもよいが、望ましくは無機粒子に対して０．０１質量％以上２０質量％以下含有される。さらに０．０５質量％以上１０質量％以下が望ましい。

アクセプター化合物は、下引層４の塗布時に添加するだけでもよいし、無機粒子表面にあらかじめ付着させておいてもよい。無機粒子表面にアクセプター化合物を付与させる方法としては、乾式法、または、湿式法が挙げられる。

乾式法にて表面処理を施す場合には無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接または有機溶剤に溶解させたアクセプター化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることによって処理される。添加または噴霧する際には溶剤の沸点以下の温度で行われることが望ましい。添加または噴霧した後、さらに１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けの温度、時間については任意の範囲で実施される。

湿式法としては、無機粒子を溶剤中で攪拌し、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミル等を用いて分散し、アクセプター化合物を添加し攪拌または分散したのち、溶剤除去することで処理される。溶剤除去方法はろ過または蒸留により留去される。溶剤除去後にはさらに１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けの温度、時間については任意の範囲で実施される。湿式法においては表面処理剤を添加する前に無機粒子含有水分を除去してもよく、その例として表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法を用いてもよい。

また、無機粒子はアクセプター化合物を付与する前に表面処理を施してもよい。表面処理剤としては、公知の材料から選択される。例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性材等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が望ましく用いられる。さらにアミノ基を有するシランカップリング剤も望ましく用いられる。

アミノ基を有するシランカップリング剤としてはいかなる物を用いてもよいが、具体的例としてはγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。但し、これらに限定されるものではない。

また、シランカップリング剤は２種以上混合して使用してもよい。前記アミノ基を有するシランカップリング剤と併用して用いてもよいシランカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。但し、これらに限定されるものではない。

表面処理方法は公知の方法であればいかなる方法でも使用し得るが、乾式法または湿式法を用いることがよい。また、アクセプター付与とカップリング剤等による表面処理とを並行して行ってもよい。

下引層４中の無機粒子に対するシランカップリング剤の量は、任意に設定されるが、無機粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が望ましい。

下引層４に含有される結着樹脂としては、公知のいかなるものでも使用し得るが、例えばポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等の公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂等が用いられる。中でも上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が望ましく用いられ、特にフェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が望ましく用いられる。これらを２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。

尚、下引層形成用塗布液中のアクセプター性を付与した金属酸化物とバインダー樹脂、または無機粒子とバインダー樹脂との比率は、任意に設定される。

下引層４中には種々の添加剤を用いてもよい。添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が用いられる。シランカップリング剤は金属酸化物の表面処理に用いられるが、添加剤としてさらに塗布液に添加して用いてもよい。ここで用いられるシランカップリング剤の具体例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等である。
ジルコニウムキレート化合物の例として、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。

チタニウムキレート化合物の例としては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。

アルミニウムキレート化合物の例としては、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。

これらの化合物は単独で若しくは複数の化合物の混合物または重縮合物として用いてもよい。

下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては公知の有機溶剤、例えばアルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から選択される。溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が用いられる。

また、これらの分散に用いる溶剤は単独または２種以上混合して用いてもよい。混合する際、使用される溶剤としては、混合溶剤としてバインダー樹脂を溶かし得る溶剤であれば、いかなるものでも使用される。

分散方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの公知の方法が用いられる。さらにこの下引層４を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。

このようにして得られた下引層形成用塗布液を用い、導電性基体１上に下引層４が成膜される。
また、下引層４は、ビッカース強度が３５以上とされていることが望ましい。
さらに、下引層４はいかなる厚さに設定してもよいが、厚さが１５μｍ以上が望ましく、さらに望ましくは１５μｍ以上５０μｍ以下とされていることが望ましい。

また、下引層４の表面粗さ（十点平均粗さ）はモアレ像防止のために、使用される露光用レーザー波長λの１／４ｎ（ｎは上層の屈折率）から１／２λまでに調整される。表面粗さ調整のために下引層中に樹脂などの粒子を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が用いられる。

尚、下引層４は、結着樹脂および導電性金属酸化物を含み且つ厚み２０μｍにおける波長９５０ｎｍの光に対する光透過率が４０％以下（より望ましくは１０％以上３５％以下、更に望ましくは１５％以上３０％以下）であることがよい。
上記下引層４の光透過率は次のようにして測定される。下引層形成用塗布液を、ガラスプレート上に乾燥後の厚さが２０μｍとなるように塗布し、乾燥後、分光光度計を用いて波長９５０ｎｍでの膜の光透過率を測定する。光度計による光透過率は、分光光度計として装置名「Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ（Ｕ−２０００）：日立社製」を用いる。

この下引層４の光透過率は、前記ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等を用いた分散時の分散時間を調整することで、制御し得る。分散時間は、特に限定しないが、５分以上１０００時間以下の時間が好ましく、さらには３０分以上１０時間以下がより好ましい。分散時間を長くすると、光透過率は低下する傾向にある。

また、表面粗さ調整のために下引層を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が用いられる。

塗布したものを乾燥させて下引層を得るが、通常、乾燥は溶剤を蒸発させ、製膜し得る温度で行われる。

・電荷発生層
電荷発生層２Ａは、少なくとも電荷発生材料および結着樹脂を含有する層であることが望ましい。
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料、酸化亜鉛、三方晶系セレン等が挙げられる。これらの中でも、近赤外域のレーザー露光に対しては、金属および／または無金属フタロシアニン顔料が望ましく、特に、特開平５−２６３００７号公報、特開平５−２７９５９１号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン、特開平５−９８１８１号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン、特開平５−１４０４７２号公報、特開平５−１４０４７３号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン、特開平４−１８９８７３号公報、特開平５−４３８２３号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより望ましい。また、近紫外域のレーザー露光に対してはジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、チオインジゴ系顔料、ポルフィラジン化合物、酸化亜鉛、三方晶系セレン等がより望ましい。電荷発生材料としては、３８０ｎｍ以上５００ｎｍの露光波長の光源を用いる場合には無機顔料が望ましく、７００ｎｍ以下８００ｎｍの露光波長の光源を用いる場合には、金属および無金属フタロシアニン顔料が望ましい。

電荷発生材料としては、６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおいて、８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を用いることが望ましい。このヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、従来のＶ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料とは異なるものであり、分光吸収スペクトルの最大ピーク波長を従来のＶ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料よりも短波長側にシフトさせたものである。

また、上記の８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、平均粒径が特定の範囲であり、且つ、ＢＥＴ比表面積が特定の範囲であることが望ましい。具体的には、平均粒径が０．２０μｍ以下であることが望ましく、０．０１μｍ以上０．１５μｍ以下であることがより望ましく、一方、ＢＥＴ比表面積が４５ｍ^２／ｇ以上であることが望ましく、５０ｍ^２／ｇ以上であることがより望ましく、５５ｍ^２／ｇ以上１２０ｍ^２／ｇ以下であることが特に望ましい。平均粒径は、体積平均粒径（ｄ５０平均粒径）でレーザ回折散乱式粒度分布測定装置（ＬＡ−７００、堀場製作所社製）にて測定した値である。また、ＢＥＴ式比表面積測定器（島津製作所製：フローソープＩＩ２３００）を用い窒素置換法にて測定した値である。

また、上記ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の最大粒径（一次粒子径の最大値）は、１．２μｍ以下であることが望ましく、１．０μｍ以下であることがより望ましく、更に望ましくは０．３μｍ以下である。

更に、上記ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、平均粒径が０．２μｍ以下、最大粒径が１．２μｍ以下であり、且つ、比表面積値が４５ｍ^２／ｇ以上であることが望ましい。

また、上記のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、ＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度（２θ±０．２°）７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°および２８．３°に回折ピークを有するものであることが望ましい。

また、上記のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、２５℃から４００℃まで昇温したときの熱重量減少率が２．０％以上４．０％以下であることが望ましく、２．５％以上３．８％以下であることがより望ましい。

電荷発生層２Ａに使用される結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。望ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノール類と芳香族２価カルボン酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂は１種を単独でまたは２種以上を混合して用いられる。電荷発生材料と結着樹脂の配合比は質量比で１０：１から１：１０までの範囲内であることが望ましい。ここで、「絶縁性」とは、体積抵抗率が１０^１３Ωｃｍ以上であることをいう。

電荷発生層２Ａは、例えば、上記電荷発生材料および結着樹脂を溶剤中に分散した塗布液を用いて形成される。
分散に用いる溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等が挙げられ、これらは１種を単独でまたは２種以上を混合して用いられる。

また、電荷発生材料および結着樹脂を溶剤中に分散させる方法としては、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンドミル分散法等の通常の方法が用いられる。さらにこの分散の際、電荷発生材料の平均粒径を０．５μｍ以下、望ましくは０．３μｍ以下、さらに望ましくは０．１５μｍ以下にすることが有効である。

また、電荷発生層２Ａを形成する際には、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。

このようにして得られる電荷発生層２Ａの膜厚は、望ましくは０．１μｍ以上５．０μｍ以下、さらに望ましくは０．２μｍ以上２．０μｍ以下である。

・電荷輸送層
電荷輸送層２Ｂは、少なくとも電荷輸送性材料と結着樹脂とを含有する層であるか、または高分子電荷輸送材を含有する層であることが望ましい。
電荷輸送性材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの正孔輸送性化合物が挙げられる。これらの電荷輸送性材料は１種を単独でまたは２種以上を混合して用いられるが、これらに限定されるものではない。

電荷輸送性材料としては電荷移動度の観点から、下記構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、および下記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体が望ましい。

（構造式（ａ−１）中、Ｒ^８は、水素原子またはメチル基を示す。ｎは１または２を示す。Ａｒ^６およびＡｒ^７は各々独立に置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ_６Ｈ_４−Ｃ（Ｒ^９）＝Ｃ（Ｒ^１０）（Ｒ^１１）、または−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ^１２）（Ｒ^１３）を示し、Ｒ^９乃至Ｒ^１３はそれぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。置換基としてはハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、または炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基を示す。）

（構造式（ａ−２）中、Ｒ^１４およびＲ^１４’は同一でも異なってもよく、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、を示す。Ｒ^１５、Ｒ^１５’、Ｒ^１６、およびＲ^１６’は同一でも異なってもよく、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ（Ｒ^１７）＝Ｃ（Ｒ^１８）（Ｒ^１９）、または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ^２０）（Ｒ^２１）を示し、Ｒ^１７乃至Ｒ^２１は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。ｍおよびｎは各々独立に０以上２以下の整数を示す。）

ここで、上記構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、および上記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ^１２）（Ｒ^１３）」を有するトリアリールアミン誘導体、および「−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ^２０）（Ｒ^２１）」を有するベンジジン誘導体が望ましい。

電荷輸送層２Ｂに用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。また、上述のように、特開平８−１７６２９３号公報、特開平８−２０８８２０号公報に開示されているポリエステル系高分子電荷輸送材等の高分子電荷輸送材を用いてもよい。これらの結着樹脂は１種を単独でまたは２種以上を混合して用いられる。電荷輸送性材料と結着樹脂との配合比は質量比で１０：１から１：５までが望ましい。

結着樹脂としては、特に限定されないが、粘度平均分子量５００００以上８００００以下のポリカーボネート樹脂、および粘度平均分子量５００００以上８００００以下のポリアリレート樹脂の少なくとも１種が望ましい。

また、電荷輸送性材料として高分子電荷輸送材を用いてもよい。高分子電荷輸送材としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシランなどの電荷輸送性を有する公知のものが用いられる。特に、特開平８−１７６２９３号公報、特開平８−２０８８２０号公報等に開示されているポリエステル系高分子電荷輸送材は特に望ましい。高分子電荷輸送材はそれだけでも成膜し得るものであるが、後述する結着樹脂と混合して成膜してもよい。

電荷輸送層２Ｂは、例えば、上記構成材料を含有する電荷輸送層形成用塗布液を用いて形成される。電荷輸送層形成用塗布液に用いる溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤を単独または２種以上混合して用いられる。また、上記各構成材料の分散方法としては、公知の方法が使用される。

電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層２Ａの上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。

電荷輸送層２Ｂの膜厚は、望ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、より望ましくは１０μｍ以上３０μｍ以下である。

・保護層
表面層（第１の態様においては保護層２Ｃ）は、下記（ａ）乃至（ｄ）の成分を含有し、望ましくはさらに（ｅ）の成分を含有する。
（ａ）グアナミン化合物およびメラミン化合物から選択される少なくとも１種(a-1)と、−ＯＨ、−ＯＣＨ_３、−ＮＨ_２、−ＳＨおよび−ＣＯＯＨから選択される少なくとも１つの置換基（特定の置換基）を持つ電荷輸送性材料(a-2)と、の架橋物
（ｂ）フッ素樹脂粒子
（ｃ）末端基に−ＣＦ_３基を有するカルボン酸類のオリゴマー（特定オリゴマー）
（ｄ）残留溶剤としてアルコール溶剤（アルコール溶剤）
（ｅ）残留溶剤としてケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤および炭化水素系溶剤から選択される少なくとも１種の溶剤（その他の特定溶剤）

（a-1）グアナミン化合物およびメラミン化合物
まず、グアナミン化合物について説明する。
グアナミン化合物は、グアナミン骨格（構造）を有する化合物であり、例えば、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、ホルモグアナミン、ステログアナミン、スピログアナミン、シクロヘキシルグアナミンなどが挙げられる。

グアナミン化合物としては、特に下記一般式（Ａ）で示される化合物およびその多量体の少なくとも１種であることが望ましい。ここで、多量体は、一般式（Ａ）で示される化合物を構造単位として重合されたオリゴマーであり、その重合度は例えば２以上２００以下（望ましくは２以上１００以下）である。なお、一般式（Ａ）で示される化合物は、一種単独で用いてもよいが、２種以上を併用してもよい。

一般式（Ａ）中、Ｒ^１は、炭素数１以上１０以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキル基、炭素数６以上１０以下の置換若しくは未置換のフェニル基、または炭素数４以上１０以下の置換若しくは未置換の脂環式炭化水素基を示す。Ｒ^２乃至Ｒ^５は、それぞれ独立に水素、−ＣＨ_２−ＯＨ、または−ＣＨ_２−Ｏ−Ｒ^６を示す。Ｒ^６は、水素、または炭素数１以上１０以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキル基を示す。

一般式（Ａ）において、Ｒ^１を示すアルキル基は、炭素数が１以上１０以下であるが、望ましくは炭素数が１以下８以上であり、より望ましくは炭素数が１以上５以下である。また、当該アルキル基は、直鎖状であってもよし、分鎖状であってもよい。

一般式（Ａ）中、Ｒ^１を示すフェニル基は、炭素数６以上１０以下であるが、より望ましくは６以上８以下である。当該フェニル基に置換される置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。

一般式（Ａ）中、Ｒ^１を示す脂環式炭化水素基は、炭素数４以上１０以下であるが、より望ましくは５以上８以下である。当該脂環式炭化水素基に置換される置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。

一般式（Ａ）中、Ｒ^２乃至Ｒ^５を示す「−ＣＨ_２−Ｏ−Ｒ^６」において、Ｒ^６を示すアルキル基は、炭素数が１以上１０以下であるが、望ましくは炭素数が１以下８以上であり、より望ましくは炭素数が１以上６以下である。また、当該アルキル基は、直鎖状であってもよし、分鎖状であってもよい。望ましくは、メチル基、エチル基、ブチル基などが挙げられる。

一般式（Ａ）で示される化合物としては、特に望ましくは、Ｒ^１が炭素数６以上１０以下の置換若しくは未置換のフェニル基を示し、Ｒ^２乃至Ｒ^５がそれぞれ独立に−ＣＨ_２−Ｏ−Ｒ^６を示される化合物である。また、Ｒ^６は、メチル基またはｎ−ブチル基から選ばれることが望ましい。

一般式（Ａ）で示される化合物は、例えば、グアナミンとホルムアルデヒドとを用いて公知の方法（例えば、実験化学講座第４版、２８巻、４３０ページ参照）で合成される。

以下、一般式（Ａ）で示される化合物の具体例を示すが、これらに限られるわけではない。また、以下の具体例は、単量体のものを示すが、これらを構造単位とする多量体（オリゴマー）であってもよい。

一般式（Ａ）で示される化合物の市販品としては、例えば、”スーパーベッカミン（Ｒ）Ｌ−１４８−５５、スーパーベッカミン（Ｒ）１３−５３５、スーパーベッカミン（Ｒ）Ｌ−１４５−６０、スーパーベッカミン（Ｒ）ＴＤ−１２６”以上ＤＩＣ社製、”ニカラックＢＬ−６０、ニカラックＢＸ−４０００”以上日本カーバイド社製、などが挙げられる。

また、一般式（Ａ）で示される化合物（多量体を含む）は、合成後または市販品の購入後、残留触媒の影響を取り除くために、トルエン、キシレン、酢酸エチル、などの適当な溶剤に溶解し、蒸留水、イオン交換水などで洗浄してもよいし、イオン交換樹脂で処理して除去してもよい。

次に、メラミン化合物について説明する。
メラミン化合物としては、メラミン骨格（構造）であり、特に下記一般式（Ｂ）で示される化合物およびその多量体の少なくとも１種であることが望ましい。ここで、多量体は、一般式（Ａ）のごとく、一般式（Ｂ）で示される化合物を構造単位として重合されたオリゴマーであり、その重合度は例えば２以上２００以下（望ましくは２以上１００以下）である。なお、一般式（Ｂ）で示される化合物またはその多量体は、１種単独で用いてもよいが、２種以上を併用してもよい。また、前記一般式（Ｂ）で示される化合物またはその多量体と併用してもよい。

一般式（Ｂ）中、Ｒ^７乃至Ｒ^１２はそれぞれ独立に、水素原子、−ＣＨ_２−ＯＨ、−ＣＨ_２−Ｏ−Ｒ^１３、−Ｏ−Ｒ^１３を示し、Ｒ^１３は炭素数１以上５以下の分岐してもよいアルキル基を示す。Ｒ１３としてはメチル基、エチル基、ブチル基などが挙げられる。

一般式（Ｂ）で示される化合物は、例えば、メラミンとホルムアルデヒドとを用いて公知の方法（例えば、実験化学講座第４版、２８巻、４３０ページに記載のメラミン樹脂のごとく合成される）で合成される。

以下、一般式（Ｂ）で示される化合物の具体例を示すが、これらに限られるわけではない。また、以下の具体例は、単量体のものを示すが、これらを構造単位とする多量体（オリゴマー）であってもよい。

一般式（Ｂ）で示される化合物の市販品としては、例えば、スーパーメラミＮｏ．９０（日油社製）、スーパーベッカミン（Ｒ）ＴＤ−１３９−６０（ＤＩＣ社製）、ユーバン２０２０（三井化学）、スミテックスレジンＭ−３（住友化学工業）、ニカラックＭＷ−３０（日本カーバイド社製）、などが挙げられる。

また、一般式（Ｂ）で示される化合物（多量体を含む）は、合成後または市販品の購入後、残留触媒の影響を取り除くために、トルエン、キシレン、酢酸エチルなどの適当な溶剤に溶解し、蒸留水、イオン交換水などで洗浄してもよいし、イオン交換樹脂で処理して除去してもよい。

ここで、グアナミン化合物およびメラミン化合物から選択される少なくとも１種の、表面層（第１の態様においては保護層２Ｃ）の固形分に対する含有率は、好ましくは０．１質量％以上５質量％以下であり、より好ましくは１質量％以上３質量％以下である。

（a-2）電荷輸送性材料
電荷輸送性材料としては、−ＯＨ、−ＯＣＨ_３、−ＮＨ_２、−ＳＨおよび−ＣＯＯＨから選択される少なくとも１つの置換基（特定の置換基）を持つ電荷輸送性材料であれば特に限定されるものではない。特に、上記特定の置換機を少なくとも２つ（さらには３つ）持つものが好適に挙げられる。中でも、下記一般式（Ｉ）で示される構造を有する電荷輸送性材料が好適に用いられる。
Ｆ−（（−Ｒ^１−Ｘ）_ｎ１（Ｒ^２）_ｎ３−Ｙ）_ｎ２ （Ｉ）
（一般式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、炭素数１以上５以下の直鎖状または分鎖状のアルキレン基を、ｎ１は０または１を、ｎ２は１以上４以下の整数を、ｎ３は０または１を、Ｘは酸素原子、硫黄原子および−ＮＨ−基から選択される何れかを、Ｙは−ＯＨ、−ＯＣＨ_３、−ＮＨ_２、−ＳＨおよび−ＣＯＯＨを示す。）

一般式（Ｉ）中、Ｆで示される正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基における正孔輸送能を有する化合物としては、アリールアミン誘導体が好適に挙げられる。アリールアミン誘導体としては、トリフェニルアミン誘導体、テトラフェニルベンジジン誘導体が好適に挙げられる。

そして、一般式（Ｉ）で示される化合物は、下記一般式（ＩＩ）で示される化合物であることが望ましい。

（一般式（ＩＩ）中、Ａｒ^１乃至Ａｒ^４は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ａｒ^５は置換若しくは未置換のアリール基または置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Ｄは−（−Ｒ^１−Ｘ）_ｎ１（Ｒ^２）_ｎ３−Ｙを示し、ｃはそれぞれ独立に０または１を示し、ｋは０または１を示し、Ｄの総数は１以上４以下である。また、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状または分鎖状のアルキレン基を示し、ｎ１は０または１を示し、ｎ３は０または１を示し、Ｘは酸素原子、硫黄原子および−ＮＨ−基から選択される何れかを、Ｙは−ＯＨ、−ＯＣＨ_３、−ＮＨ_２、−ＳＨおよび−ＣＯＯＨを示す。）

一般式（ＩＩ）中、Ｄを示す「−（−Ｒ^１−Ｘ）_ｎ１（Ｒ^２）_ｎ３−Ｙ」は、一般式（Ｉ）と同義であり、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキレン基である。また、ｎ１として望ましくは、１である。また、Ｘとして望ましくは、酸素である。また、Ｙとして望ましくは水酸基である。

なお、一般式（ＩＩ）におけるＤの総数は、一般式（Ｉ）におけるｎ２に相当し、望ましくは２以上４以下であり、さらに望ましくは３以上４以下である。つまり、一般式（Ｉ）や一般式（ＩＩ）において一分子中に２以上４以下、さらには３以上４以下の特定の置換基を有することが好ましい。

一般式（ＩＩ）中、Ａｒ^１乃至Ａｒ^４としては、下記式（１）乃至（７）のうちのいずれかであることが望ましい。なお、下記式（１）乃至（７）は、各Ａｒ^１乃至Ａｒ^４に連結され得る「−（Ｄ）_ｃ」と共に示す。

［式（１）乃至（７）中、Ｒ^９は水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルキル基もしくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基からなる群より選ばれる１種を表し、Ｒ^１０乃至Ｒ^１２はそれぞれ水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ａｒは置換または未置換のアリーレン基を表し、Ｄおよびｃは一般式（ＩＩ）における「Ｄ」、「ｃ」と同義であり、ｓはそれぞれ０または１を表し、ｔは１以上３以下の整数を表す。］

ここで、式（７）中のＡｒとしては、下記式（８）または（９）で表されるものが望ましい。

［式（８）、（９）中、Ｒ^１３およびＲ^１４はそれぞれ水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、ｔは１以上３以下の整数を表す。］

また、式（７）中のＺ’としては、下記式（１０）乃至（１７）のうちのいずれかで表されるものが望ましい。

［式（１０）乃至（１７）中、Ｒ^１５およびＲ^１６はそれぞれ水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基もしくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ｗは２価の基を表し、ｑおよびｒはそれぞれ１以上１０以下の整数を表し、ｔはそれぞれ１以上３以下の整数を表す。］

上記式（１６）乃至（１７）中のＷとしては、下記（１８）乃至（２６）で表される２価の基のうちのいずれかであることが望ましい。但し、式（２５）中、ｕは０以上３以下の整数を表す。

また、一般式（ＩＩ）中、Ａｒ^５は、ｋが０のときはＡｒ^１乃至Ａｒ^４の説明で例示された上記（１）乃至（７）のアリール基であり、ｋが１のときはかかる上記（１）乃至（７）のアリール基から１つの水素原子を除いたアリーレン基であることが望ましい。

ここで、電荷輸送性材料の具体例としては、例えば以下のものが挙げられる。

ここで、電荷輸送性材料の、表面層（第１の態様においては保護層２Ｃ）の固形分に対する含有率は、８５質量％以上であり、より好ましくは９０質量％以上である。

（ｂ）フッ素樹脂粒子
フッ素樹脂粒子としては、特に限定されるものではないが、例えばポリテトラフルオロエチレン、ポリトリフルオロエチレン、ポリヘキサプルオロプロピレン、ペルフルオロアルコキシフッ素樹脂、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリジクロロジフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体、またはテトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体等が挙げられる。これらは１種を単独でまたは２種以上を併用して用いてもよい。

フッ素樹脂粒子としては、３０００以上５００万以下の分子量のものが好ましい。また、粒径は０．０１μｍ以上１０μｍ以下のものが好ましく、更に０．０５μｍ以上２．０μｍ以下のものがより好ましい。
尚、上記フッ素樹脂粒子の粒径（平均一次粒径）は、レーザー回折式粒度分布測定装置ＬＡ−７００（堀場製作所製）を用いて、フッ素樹脂粒子が分散された分散液と同じ溶剤に希釈した測定液を屈折率１．３５で測定した値をいう。

市販のフッ素樹脂粒子を用いてもよく、市販品としては例えば、ルブロンシリーズ（ダイキン工業株式会社製）、テフロン（登録商標）シリーズ（ディポン製）、ダイニオンシリーズ（住友３Ｍ製）等が挙げられる。

表面層である保護層２Ｃの固形分全量に対するフッ素樹脂粒子の含有量は１質量％以上３０質量％以下が望ましく、２質量％以上２０質量％以下がさらに望ましい。

（ｃ）末端基に−ＣＦ_３基を有するカルボン酸類のオリゴマー（特定オリゴマー）
末端基に-ＣＦ_３基を有するカルボン酸類のオリゴマーは、フッ素原子を含むオリゴマーであり、具体的には、例えば、フッ化アルキル基を持つカルボン酸類のオリゴマー（例えば（メタ）アクリルコポリマー等）が挙げられる。
特定オリゴマーの市販品としては例えば、ＧＦ３００、ＧＦ４００（東亞合成社製）、サーフロンシリーズ（ＡＧＣセイミケキカル社製）、フタージェントシリーズ（ネオス社製）、ＰＦシリーズ（北村化学社製）、メガファックシリーズ（ＤＩＣ製）、ＦＣシリーズ（３Ｍ製）等が挙げられる。これらは１種を単独でまたは２種以上を併用して用いてもよい。

尚、特定オリゴマーの分子量は、２０００以上２５００００以下であることが好ましく、更には３０００以上１５００００以下であることがより好ましい。
上記特定オリゴマーの分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィーにより測定される。表面層である保護層２Ｃにおいて、フッ素樹脂粒子に対する特定オリゴマーの含有量は０．５質量％以上１０質量％以下が望ましく、１質量％以上７質量％以下がさらに望ましい。

（ｄ）アルコール溶剤および（ｅ）その他の特定溶剤
次いで、残留溶剤としての（ｄ）アルコール溶剤、および、（ｅ）ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤および炭化水素系溶剤から選択される少なくとも１種の溶剤（その他の特定溶剤）について説明する。
尚、本実施形態において感光体の表面層中に存在する（ｄ）アルコール溶剤および（ｅ）その他の特定溶剤とは、表面層を形成するための塗布液に用いられた溶剤であって、表面層の形成の際に乾燥されて該表面層が硬化された後にも蒸発し切らずに残留溶剤として残ったものを指す。

残留溶剤には、アルコール溶剤が含まれるが、帯電と除電とが繰り返されても残留電位の蓄積が抑制され易くなる観点から、アルコール溶剤以外の溶剤を含む場合、その他の特定溶剤として、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤および炭化水素系溶剤から選択される少なくとも１種の溶剤を含むことがよい。

・アルコール溶剤
アルコール溶剤としては、例えば、炭素数１０以下のアルコール溶剤が挙げられ、具体的には、例えばメタノール、エタノール、ｉ−プロパノール、ブタノール、ペンタノール、シクロペンタノール、デカノール等の環状または直鎖状アルコール類が挙げられる。
これら、アルコール溶剤の中でも、帯電と除電とが繰り返されても残留電位の蓄積を抑制し易くする観点から、炭素数６以下のアルコール溶剤（特に、シクロペンタノール、メタノール、エタノール、ｉ−プロパノール、２−ブタノール、およびｎ−ペンタノール）であることがよい。
かかるアルコール溶剤は１種を単独でまたは２種以上を混合して使用してよい。

・ケトン系溶剤
上記ケトン系溶剤としては、例えばシクロブタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン等の環状脂肪族ケトン類；アセトン、メチルエチルケトン等の直鎖状ケトン類が挙げられる。

・エーテル系溶剤
上記エーテル系溶剤としては、例えばテトラヒドロフラン、２メチルテトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチルエーテル、等の環状或いは直鎖状エーテル類が挙げられる。

・エステル系溶剤
上記エステル系溶剤としては、例えば酢酸ブチル、酢酸イソブチル等のエステル類が挙げられる。

・炭化水素系溶剤
上記炭化水素系溶剤としては、例えばトルエン、エチルベンゼン等のエステル類が挙げられる。

かかるケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤および炭化水素系溶剤は１種を単独でまたは２種以上を混合して使用してよい。

ここで、その他特性溶剤としては、帯電と除電とが繰り返されても残留電位の蓄積を抑制し易くする観点から、シクロペンタノン、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、エチルベンゼン、テトラヒドロフラン、および２−メチルテトラヒドロフランから選択される少なくとも１種であることがよい。

・溶剤の含有量等
感光体の表面層における残留溶剤に含まれるアルコール溶剤として、炭素数３以下のアルコール溶剤を含む場合、そのアルコール溶剤の含有量は全残留溶剤に対して０．１質量％以上２０質量％以下（望ましくは０．１質量％以上１０質量％以下、より望ましくは０．１質量％５質量ｍ％以下）であり、炭素数４以上のアルコール溶剤を含む場合０．１質量％以上６０質量％以下（望ましくは０．１質量％以上５０質量％以下、より望ましくは０．２質量％５０質量％以下）である必要がある。
このアルコール溶剤の含有量を上記範囲とすることにより、帯電と除電とが繰り返されても残留電位の蓄積を抑制し、且つ粒状性に優れた画像が形成される。
ここで、炭素数４以上のアルコール溶剤は、炭素数４以上６以下のアルコール溶剤であることがよい。

感光体の表面層における全残留溶剤の量は、１０００ｐｐｍ以上４００００ｐｐｍ以下であることが望ましく、更には３０００ｐｐｍ以上６０００ｐｐｍ以下であることが望ましい。

また、感光体の表面層に含有される溶剤（残留溶剤）の同定分析、定量分析は、例えばガスクロマトグラフィーにて検出される。

（その他の組成物）
保護層２Ｃには、特定の電荷輸送性材料が架橋された架橋物と共に、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、アルキッド樹脂、ベンゾグアナミン樹脂などの他の熱硬化性樹脂を混合して用いてもよい。また、スピロアセタール系グアナミン樹脂（例えば「ＣＴＵ−グアナミン」（味の素ファインテクノ（株）））など、一分子中の官能基のより多い化合物を当該架橋物中の材料に共重合させてもよい。

また、保護層２Ｃには界面活性剤を添加することが好ましく、用いる界面活性剤としては、フッ素原子、アルキレンオキサイド構造、シリコーン構造のうち少なくとも一種類以上の構造を含む界面活性剤であれば特に制限はないが、上記構造を複数有するものが好適に挙げられる。

フッ素原子を有する界面活性剤としては、様々なものが挙げられる。フッ素原子およびアクリル構造を有する界面活性剤として具体的は、ポリフローＫＬ６００（共栄社化学社製）、エフトップＥＦ−３５１、ＥＦ−３５２、ＥＦ−８０１、ＥＦ−８０２、ＥＦ−６０１（以上、ＪＥＭＣＯ社製）などが挙げられる。アクリル構造を有する界面活性剤とは、アクリルもしくはメタクリル化合物などのモノマーを重合もしくは共重合したものが主に挙げられる。

また、フッ素原子としてパーフルオロアルキル基を持つ界面活性剤として、具体的には、パーフルオロアルキルスルホン酸類（例えば、パーフルオロブタンスルホン酸、パーフルオロオクタンスルホン酸など）、パーフルオロアルキルカルボン酸類（例えば、パーフルオロブタンカルボン酸、パーフルオロオクタンカルボン酸など）、パーフルオロアルキル基含有リン酸エステルが好適に挙げられる。パーフルオロアルキルスルホン酸類、およびパーフルオロアルキルカルボン酸類は、その塩およびそのアミド変性体であってもよい。

パーフルオロアルキルスルホン酸類の市販品としては、例えばメガファックＦ−１１４（大日本インキ化学工業株式会社製）、エフトップＥＦ−１０１、ＥＦ１０２、ＥＦ−１０３、ＥＦ−１０４、ＥＦ−１０５、ＥＦ−１１２、ＥＦ−１２１、ＥＦ−１２２Ａ、ＥＦ−１２２Ｂ、ＥＦ−１２２Ｃ、ＥＦ−１２３Ａ（以上、ＪＥＭＣＯ社製）、Ａ−Ｋ、５０１（以上、ネオス社製）などが挙げられる。
パーフルオロアルキルカルボン酸類の市販品としては、例えばメガファックＦ−４１０（大日本インキ化学工業株式会社製）、エフトップ ＥＦ−２０１、ＥＦ−２０４（以上、ＪＥＭＣＯ社製）などが挙げられる。
パーフルオロアルキル基含有リン酸エステルの市販品としては、メガファックＦ−４９３、Ｆ−４９４（以上、大日本インキ化学工業株式会社製）エフトップ ＥＦ−１２３Ａ、ＥＦ−１２３Ｂ、ＥＦ−１２５Ｍ、ＥＦ−１３２、（以上、ＪＥＭＣＯ社製）などが挙げられる。

アルキレンオキサイド構造を持つ界面活性剤としてはポリエチレングリコール、ポリエーテル消泡剤、ポリエーテル変性シリコーンオイルなどが挙げられる。ポリエチレングリコールとしては数平均分子量が２０００以下のものが好ましい。数平均分子量が２０００以下のポリエチレングリコールとしては、ポリエチレングリコール２０００（数平均分子量２０００）、ポリエチレングリコール６００（数平均分子量６００）、ポリエチレングリコール４００（数平均分子量４００）、ポリエチレングリコール２００（数平均分子量２００）等が挙げられる。

また、ポリエーテル消泡剤としては、ＰＥ−Ｍ、ＰＥ−Ｌ（以上、和光純薬工業社製）、消泡剤Ｎｏ．１、消泡剤Ｎｏ．５（以上、花王社製）等が挙げられる。

シリコーン構造を有する界面活性剤としては、ジメチルシリコーン、メチルフェニルシリコーン、ジフェニルシリコーンやそれらの誘導体等の一般的なシリコーンオイルが挙げられる。

さらに、フッ素原子、アルキレンオキサイド構造の両方を有する界面活性剤としては、アルキレンオキサイド構造またはポリアルキレン構造を側鎖に有するものや、アルキレンオキサイドまたはポリアルキレンオキサイド構造の末端がフッ素を含む置換基で置換されたものなどが挙げられる。アルキレンオキサイド構造を有する界面活性剤として、具体的には、例えば、メガファックＦ−４４３、Ｆ−４４４、Ｆ−４４５、Ｆ−４４６（以上、大日本インキ化学工業株式会社製）、ＰＯＬＹ ＦＯＸ ＰＦ６３６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ６５６（以上、北村化学社製）などが挙げられる。

また、アルキレンオキサイド構造、シリコーン構造の両方を有する界面活性剤としてはＫＦ３５１（Ａ）、ＫＦ３５２（Ａ）、ＫＦ３５３（Ａ）、ＫＦ３５４（Ａ）、ＫＦ３５５（Ａ）、ＫＦ６１５（Ａ）、ＫＦ６１８、ＫＦ９４５（Ａ）、ＫＦ６００４（以上、信越化学工業社製）、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ４４５０、ＴＳＦ４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４５３、ＴＳＦ４４６０（以上、ＧＥ東芝シリコン社製）、ＢＹＫ−３００、３０２、３０６、３０７、３１０、３１５、３２０、３２２、３２３、３２５、３３０、３３１、３３３、３３７、３４１、３４４、３４５、３４６、３４７、３４８、３７０、３７５、３７７、３７８、ＵＶ３５００、ＵＶ３５１０、ＵＶ３５７０等（以上、ビックケミー・ジャパン株式会社製）が挙げられる。

界面活性剤の含有量は、保護層２Ｃの固形分全量に対して、望ましくは０．０１質量％以上１質量％以下、より望ましくは０．０２質量％以上０．５質量％以下である。

また、保護層２Ｃには、さらに他のカップリング剤、フッ素化合物と混合して用いてもよい。この化合物として、各種シランカップリング剤、および市販のシリコーン系ハードコート剤が用いられる。

シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、等が用いられる。市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８５、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−８２３９（以上、信越シリコーン社製）、ＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８（以上、東レダウコーニング社製）等が用いられる。また、撥水性等の付与のために、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン、等の含フッ素化合物を加えてもよい。シランカップリング剤は任意の量で使用されるが、含フッ素化合物の量は、フッ素を含まない化合物に対して質量で０．２５倍以下とすることが望ましい。

また、保護層２Ｃにはアルコールに溶解する樹脂を加えてもよい。ここで、アルコールに可溶な樹脂とは、炭素数５以下のアルコールに１質量％以上溶解し得る樹脂を意味する。アルコール系溶剤に可溶な樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ブチラールの一部がホルマールやアセトアセタール等で変性された部分アセタール化ポリビニルアセタール樹脂などのポリビニルアセタール樹脂（たとえば積水化学社製エスレックＢ、Ｋ等）、ポリアミド樹脂、セルロ−ス樹脂、ポリビニルフェノール樹脂などがあげられる。特に、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂が望ましい。
当該樹脂の重量平均分子量は２，０００以上１００，０００以下が望ましく、５，０００以上５０，０００以下がより望ましい。また、当該樹脂の添加量は１質量％以上４０質量％以下が望ましく、１質量％以上３０質量％以下がより望ましく、５質量％以上２０質量％以下がさらに望ましい。

保護層２Ｃには、酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系またはヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。酸化防止剤の添加量としては２０質量％以下が望ましく、１０質量％以下がより望ましい。

ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナマイド、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、２，４−ビス［（オクチルチオ）メチル］−ｏ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，５−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン、２−ｔ−ブチル−６−（３−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）等が挙げられる。

更に、保護層２Ｃには各種粒子を添加してもよい。粒子の一例として、ケイ素含有粒子が挙げられる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカおよびシリコーン粒子等が挙げられる。ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、平均粒径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下、望ましくは１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下のシリカを、酸性もしくはアルカリ性の水分散液、アルコール、ケトン、またはエステル等の有機溶剤中に分散させたものから選ばれ、一般に市販されているものを使用してもよい。保護層２Ｃ中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、保護層２Ｃの全固形分全量を基準として、０．１質量％以上５０質量％以下、望ましくは０．１質量％以上３０質量％以下の範囲で用いられる。

ケイ素含有粒子として用いられるシリコーン粒子は、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものを使用してもよい。これらのシリコーン粒子は球状で、その平均粒径は望ましくは１ｎｍ以上５００ｎｍ以下、より望ましくは１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。シリコーン粒子は、化学的に不活性で、樹脂への分散性に優れる粒子である。保護層２Ｃ中のシリコーン粒子の含有量は、保護層２Ｃの全固形分全量を基準として、望ましくは０．１質量％以上３０質量％以下、より望ましくは０．５質量％以上１０質量％以下である。

また、その他の粒子としては、ＺｎＯ−Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２−Ｓｂ_２Ｏ_３、Ｉｎ_２Ｏ_３−ＳｎＯ_２、ＺｎＯ_２−ＴｉＯ_２、ＺｎＯ−ＴｉＯ_２、ＭｇＯ−Ａｌ_２Ｏ_３、ＦｅＯ−ＴｉＯ_２、ＴｉＯ_２、ＳｎＯ_２、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、ＭｇＯ等の半導電性金属酸化物が挙げられる。
また、シリコーンオイル等のオイルを添加してもよい。シリコーンオイルとしては、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル；アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル；ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類；１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリフェニルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタメチル−１，３，５，７，９−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類；ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類；（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチルシクロトリシロキサン等のフッ素含有シクロシロキサン類；メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類；ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等が挙げられる。

また、保護層２Ｃには金属、金属酸化物およびカーボンブラック等を添加してもよい。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀およびステンレス等、またはこれらの金属をプラスチックの粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズおよびアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。これらは単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。２種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着の形にしてもよい。導電性粒子の平均粒径は０．３μｍ以下、特に０．１μｍ以下が望ましい。

保護層２Ｃには、グアナミン化合物およびメラミン化合物や電荷輸送性材料の硬化を促進するための硬化触媒を含有させてもよい。硬化触媒として酸系の触媒が望ましく用いられる。酸系の触媒としては、酢酸、クロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸、マレイン酸、マロン酸、乳酸などの脂肪族カルボン酸、安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸などの芳香族カルボン酸、メタンスルホン酸、ドデシルスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、などの脂肪族、および芳香族スルホン酸類などが用いられるが、含硫黄系材料を用いることが望ましい。

硬化触媒としての含硫黄系材料は、常温（例えば２５℃）、または加熱後に酸性を示すものが望ましく、有機スルホン酸およびその誘導体の少なくとも１種が最も望ましい。保護層２Ｃ中にこれら触媒の存在は、エネルギー分散型Ｘ線分析（ＥＤＳ）、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）等により容易に確認される。

有機スルホン酸および／またはその誘導体としては、例えば、パラトルエンスルホン酸、ジノニルナフタレンスルホン酸（ＤＮＮＳＡ）、ジノニルナフタレンジスルホン酸（ＤＮＮＤＳＡ）、ドデシルベンゼンスルホン酸、フェノールスルホン酸等が挙げられる。これらの中でも、パラトルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸が望ましい。また、硬化性樹脂組成物中で、解離し得るものであれば、有機スルホン酸塩を用いてもよい。

また、熱をかけた際に触媒能力が高くなる、所謂熱潜在性触媒を用いてもよい。
熱潜在性触媒として、たとえば有機スルホン化合物等をポリマーで粒子状に包んだマイクロカプセル、ゼオライトの如く空孔化合物に酸等を吸着させたもの、プロトン酸および／またはプロトン酸誘導体を塩基でブロックした熱潜在性プロトン酸触媒や、プロトン酸および／またはプロトン酸誘導体を一級もしくは二級のアルコールでエステル化したもの、プロトン酸および／またはプロトン酸誘導体をビニルエーテル類および／またはビニルチオエーテル類でブロックしたもの、三フッ化ホウ素のモノエチルアミン錯体、三フッ化ホウ素のピリジン錯体などが挙げられる。

中でも、プロトン酸および／またはプロトン酸誘導体を塩基でブロックしたものが望ましい。
熱潜在性プロトン酸触媒のプロトン酸として、硫酸、塩酸、酢酸、ギ酸、硝酸、リン酸、スルホン酸、モノカルボン酸、ポリカルボン酸類、プロピオン酸、シュウ酸、安息香酸、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、フタル酸、マレイン酸、ベンゼンスルホン酸、ｏ、ｍ、ｐ−トルエンスルホン酸、スチレンスルホン酸、ジノニルナフタレンスルホン酸、ジノニルナフタレンジスルホン酸、デシルベンゼンスルホン酸、ウンデシルベンゼンスルホン酸、トリデシルベンゼンスルホン酸、テトラデシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等が挙げられる。また、プロトン酸誘導体として、スルホン酸、リン酸等のプロトン酸のアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属円などの中和物、プロトン酸骨格が高分子鎖中に導入された高分子化合物（ポリビニルスルホン酸等）等が挙げられる。プロトン酸をブロックする塩基として、アミン類が挙げられる。

アミン類は、１級、２級または３級アミンに分類される。特に制限はなく、いずれも使用してもよい。

１級アミンとして、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、イソブチルアミン、ｔ−ブチルアミン、ヘキシルアミン、２−エチルヘキシルアミン、セカンダリーブチルアミン、アリルアミン、メチルヘキシルアミン等が挙げられる。

２級アミンとして、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジｎ−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジｎ−ブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジｔ−ブチルアミン、ジヘキシルアミン、ジ（２−エチルヘキシル）アミン、Ｎ−イソプロピルＮ−イソブチルアミン、ジ（２−エチルヘキシル）アミン、ジセカンダリーブチルアミン、ジアリルアミン、Ｎ−メチルヘキシルアミン、３−ピペコリン、４−ピペコリン、２，４−ルペチジン、２，６−ルペチジン、３，５−ルペチジン、モルホリン、Ｎ−メチルベンジルアミン等が挙げられる。

３級アミンとして、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリｎ−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリｎ−ブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリｔ−ブチルアミン、トリヘキシルアミン、トリ（２−エチルヘキシル）アミン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアリルアミン、Ｎ−メチルジアリルアミン、トリアリルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアリルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’ーテトラメチルー１，２ージアミノエタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’ーテトラメチルー１，３ージアミノプロパン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’ーテトラアリルー１，４ージアミノブタン、Ｎーメチルピペリジン、ピリジン、４ーエチルピリジン、Ｎープロピルジアリルアミン、３−ジメチルアミノプロパノ−ル、２−エチルピラジン、２，３−ジメチルピラジン、２，５−ジメチルピラジン、２，４−ルチジン、２，５−ルチジン、３，４−ルチジン、３，５−ルチジン、２，４，６−コリジン、２−メチル−４−エチルピリジン、２−メチル−５−エチルピリジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’ −テトラメチルヘキサメチレンジアミン、Ｎ−エチル−３−ヒドロキシピペリジン、３−メチル−４−エチルピリジン、３−エチル−４−メチルピリジン、４−（５−ノニル）ピリジン、イミダゾ−ル、Ｎ−メチルピペラジン等が挙げられる。

市販品としては、キングインダストリーズ社製の「ＮＡＣＵＲＥ２５０１」（トルエンスルホン酸解離、メタノール／イソプロパノール溶剤、ｐＨ６．０以上ｐＨ７．２以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２１０７」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、イソプロパノール溶剤、ｐＨ８．０以上ｐＨ９．０以下、解離温度９０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５００」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、イソプロパノール溶剤、ｐＨ６．０以上ｐＨ７．０以下、解離温度６５℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５３０」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、メタノール／イソプロパノール溶剤、ｐＨ５．７以上ｐＨ６．５以下、解離温度６５℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５４７」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、水溶液、ｐＨ８．０以上ｐＨ９．０以下、解離温度１０７℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５５８」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、エチレングリコール溶剤、ｐＨ３．５以上ｐＨ４．５以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−３５７」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、メタノール溶剤、ｐＨ２．０以上ｐＨ４．０以下、解離温度６５℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−３８６」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、水溶液、ｐＨ６．１以上ｐＨ６．４以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＣ−２２１１」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、ｐＨ７．２以上ｐＨ８．５以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５２２５」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、イソプロパノール溶剤、ｐＨ６．０以上ｐＨ７．０以下、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５４１４」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、キシレン溶剤、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５５２８」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、イソプロパノール溶剤、ｐＨ７．０以上ｐＨ８．０以下、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５９２５」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、ｐＨ７．０以上ｐＨ７．５以下、解離温度１３０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ１３２３」（ジノニルナフタレンスルホン酸解離、キシレン溶剤、ｐＨ６．８以上ｐＨ７．５以下、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ１４１９」（ジノニルナフタレンスルホン酸解離、キシレン／メチルイソブチルケトン溶剤、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ１５５７」（ジノニルナフタレンスルホン酸解離、ブタノール／２−ブトキシエタノール溶剤、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸ４９−１１０」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、イソブタノール／イソプロパノール溶剤、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度９０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ３５２５」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、イソブタノール／イソプロパノール溶剤、ｐＨ７．０以上ｐＨ８．５以下、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−３８３」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、キシレン溶剤、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ３３２７」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、イソブタノール／イソプロパノール溶剤、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ４１６７」（リン酸解離、イソプロパノール／イソブタノール溶剤、ｐＨ６．８以上ｐＨ７．３以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−２９７」（リン酸解離、水／イソプロパノール溶剤、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度９０℃、「ＮＡＣＵＲＥ４５７５」（リン酸解離、ｐＨ７．０以上ｐＨ８．０以下、解離温度１１０℃）等が挙げられる。
これらの熱潜在性触媒は単独または二種類以上組み合わせても使用される。

ここで、触媒の配合量は、塗布液におけるフッ素樹脂粒子およびフッ化アルキル基含有共重合体を除いた全固形分に対し、０．１質量％以上１０質量％以下の範囲であることが望ましく、特に０．１質量％以上５質量％以下が望ましい。

（表面層の形成方法）
ここで、本実施形態における感光体の表面層を形成する方法の一例として、第１の態様の感光体における表面層である保護層２Ｃの形成方法について説明する。
まず、第１の態様の感光体の製造方法は、表面層（即ち保護層２Ｃ）以外の層（即ち下引層４、電荷発生層２Ａおよび電荷輸送層２Ｂ等）を形成した導電性基体１を準備する導電性基体準備工程、並びにグアナミン化合物およびメラミン化合物から選択される少なくとも１種(a-1)と、−ＯＨ、−ＯＣＨ_３、−ＮＨ_２、−ＳＨおよび−ＣＯＯＨから選択される少なくとも１つの置換基（特定の置換基）を持つ電荷輸送性材料(a-2)と、（ｂ）フッ素樹脂粒子と、（ｃ）末端基に-ＣＦ_３基を有するカルボン酸類のオリゴマー（特定オリゴマー）と、（ｄ）アルコール溶剤と、を含有する塗布液を前記導電性基体上に塗布し、重合して表面層（即ち保護層２Ｃ）を形成する表面層形成工程、を有する。

上記表面層としての保護層２Ｃを形成するための皮膜形成用塗布液の塗布法としては、突き上げ塗布法、リング塗布法、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法、インクジェット塗布法等の方法が挙げられる。塗布後は、例えば温度１００℃以上１７０℃以下で加熱し硬化（架橋）させることで、保護層２Ｃが得られる。

本実施形態において表面層の厚さは、５μｍ以上２０μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは７μｍ以上１５μｍ以下である。

ここで、第１の態様の感光体では、電荷発生層２Ａおよび電荷輸送層２Ｂを有する機能分離型の例を説明したが、単層型感光層（電荷発生能と電荷輸送能とを有する層）を有する場合には、該単層型感光層中の電荷発生材料の含有量は、１０質量％以上８５質量％以下が望ましく、更に２０質量％以上５０質量％以下が望ましい。また、電荷輸送性材料の含有量は５質量％以上５０質量％以下とすることが望ましい。
単層型感光層の形成方法は、電荷発生層２Ａや電荷輸送層２Ｂの形成方法に準じて行なわれる。
単層型感光層の膜厚は５μｍ以上５０μｍ以下が望ましく、１０μｍ以上４０μｍ以下がさらに望ましい。

〔第２の態様の感光体：表面層＝電荷輸送層〕
本実施形態における一例である第２の態様の感光体は、図２に示す通り、導電性基体１上に、下引層４、電荷発生層２Ａ、電荷輸送層２Ｂがこの順に積層された層構成を有し、電荷輸送層２Ｂが表面層である。

第２の態様の感光体における導電性基体１、下引層４、電荷発生層２Ａとしては、前述の図１に示す第１の態様の感光体における導電性基体１、下引層４、電荷発生層２Ａがそのまま適用される。また、第２の態様の感光体における電荷輸送層２Ｂとしては、前述の図１に示す第１の態様の感光体における保護層２Ｃがそのまま適用される。

［画像形成装置］
図３は、本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。画像形成装置１００は、図３に示すように電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９と、転写装置４０と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。なお、図示しないが、中間転写体５０に転写されたトナー像を被転写体に転写する二次転写装置も有している。

図３におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、帯電装置８、現像装置１１、クリーニング装置１３および除電装置１３３を一体に支持している。クリーニング装置１３は、ゴムなどの弾性材料からなるクリーニングブレード１３１（ブレード部材）を有しており、クリーニングブレード１３１はその一端のエッジが電子写真感光体７の表面に接触するように配置され、電子写真感光体７表面に付着したトナー等の現像剤を除去する方法が適用されている。尚、このほかにも、導電性プラスチックを用いたクリーニングブラシを用いた方法等、公知のクリーニング方法が用いられる。

また、潤滑材１４を感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）を示してあるが、これらは必要に応じて使用してもよい。

帯電装置８としては、例えば、導電性または半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。

なお、図示しないが、電子写真感光体７の周囲には、電子写真感光体７の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための感光体加熱部材を設けてもよい。

露光装置９としては、例えば、感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、所望の像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は感光体の分光感度領域にあるものが使用される。半導体レーザーの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザーや青色レーザーとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザーも利用してもよい。また、多色画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザー光源も有効である。

現像装置１１としては、例えば、磁性若しくは非磁性の一成分系現像剤または二成分系現像剤等を接触または非接触させて現像する一般的な現像装置を用いて行ってもよい。その現像装置としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、上記一成分系現像剤または二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが望ましい。

転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。

中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等のベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体５０の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いられる。

除電装置１３３としては、例えば、トナー像の転写後かつ帯電前に（本実施形態でクリーニング後かつ帯電前に）、光の照射により、トナー像の転写後（本実施形態ではクリーニング装置１３によるクリーングの後）、電子写真感光体７の表面を除電させる光除電装置が挙げられ、例えば、タングステンランプ、ＬＥＤ等が挙げられる。

図４は、他の実施形態に係る画像形成装置を示す概略断面図である。画像形成装置１２０は、図４に示すように、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式のフル多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同じ構成を有している。

なお、本実施形態に係るプロセスカートリッジは、電子写真感光体を備え、画像形成装置に着脱し得るプロセスカートリッジであればよい。

以下、実施例および比較例に基づき本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。尚、以下において「部」は特に断りのない限り質量基準である。

＜実施例１＞
（下引層の形成）
酸化亜鉛（平均粒子径７０ｎｍ：テイカ社製：比表面積値１５ｍ^２／ｇ）１００部をテトラヒドロフラン５００部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＭ５０３：信越化学社製）１．３部を添加し、２時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛を得た。
前記表面処理酸化亜鉛１１０部を５００部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン０．６部を５０部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、５０℃にて５時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛をろ別し、さらに６０℃で減圧乾燥を行いアリザリン付与酸化亜鉛を得た。

このアリザリン付与酸化亜鉛６０部と硬化剤（ブロック化イソシアネート、スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）１３．５部とブチラール樹脂（エスレックＢＭ−１、積水化学社製）１５部とをメチルエチルケトン８５部に溶解した溶液３８部と、メチルエチルケトン２５部と、を混合し１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い分散液を得た。
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート０．００５部、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）４０部を添加し、下引層用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、肉厚１ｍｍのアルミニウム基材上に塗布し、１７０℃、４０分の乾燥硬化を行い厚さ１９μｍの下引層を得た。

（電荷発生層の形成）
電荷発生材料としてＣｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０゜の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン１５部、結着樹脂として塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０部、およびｎ−酢酸ブチル２００部からなる混合物を、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。得られた分散液にｎ−酢酸ブチル１７５部、メチルエチルケトン１８０部を添加し、攪拌して電荷発生層用塗布液を得た。この電荷発生層用塗布液を前記下引層上に浸漬塗布し、常温（２５℃）で乾燥して、膜厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。

（電荷輸送層の形成）
Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン４５部およびビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量：５万）５５部をクロルベンゼン８００部に加えて溶解し、電荷輸送層用塗布液を得た。この塗布液を前記電荷発生層上に塗布し、１３０℃、４５分の乾燥を行って膜厚が２０μｍの電荷輸送層を形成した。

（保護層の形成）
以下の各成分を混合して調製液（１）を調製した。
・前述の「（Ａ）−１」で示されるグアナミン樹脂 ２部
・前述の「Ｉ−１６」で示される化合物（電荷輸送性材料） ７０部
・３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ、酸化防止剤）１．０部
・ドデシルベンゼンスルホン酸
（キングインダストリーズ社製：Ｎａｃｕｒｅ５２２５） ０．１５部
・シクロペンタノン（その他溶剤） ５０部
・シクロペンタノール（アルコール溶剤） ３５部

次に、以下の各成分を、２０℃の液温に保ち２４時間攪拌混合し、微細な流路を持つ貫通式チャンバーを装着した高圧ホモジナイザー（吉田機械興業株式会社製）を用いて、５００ｋｇｆ／ｃｍ^２まで昇圧しての分散処理を６回繰り返し、調製液（２）を得た。
・ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ、平均一次粒径：０．２μｍ） ６部
・フッ素くし型グラフトポリマー
（特定オリゴマー、東亞合成製、商品名：ＧＦ４００） ０．１５部
・シクロペンタノン（その他溶剤） ２０部
・シクロペンタノール（アルコール溶剤） １５部

上記調製液（１）と調製液（２）とを混合し、保護層用塗布液を得た。この塗布液を前記電荷輸送層上に浸漬塗布法により塗布し、室温（２５℃）で３０分風乾した後、１５０℃で１時間加熱処理して硬化させ、膜厚７μｍの保護層を形成して実施例１の感光体を作製した。

＜実施例２乃至３４＞
実施例１において、保護層用塗布液に使用する調製液（１）の組成（電荷輸送性材料の種類・量、グアナミン化合物／メラミン化合物の種類・配合量、フッ素樹脂粒子の種類・量、その他溶剤の種類・量、アルコール溶剤の種類・量）、及び調製液（２）の組成（特定オリゴマー種、その他溶剤の種類・量、アルコール溶剤の種類・量）を、表１〜表２に従って変更した以外は、実施例１に記載の方法により感光体を作製した。

＜比較例１乃至１４＞
実施例１において、保護層用塗布液に使用する調製液（１）の組成（電荷輸送性材料の種類・量、グアナミン化合物／メラミン化合物の種類・配合量、フッ素樹脂粒子の種類・量、その他溶剤の種類・量、アルコール溶剤の種類・量）、及び調製液（２）の組成（特定オリゴマー種、その他溶剤の種類・量、アルコール溶剤の種類・量）を、表３に従って変更した以外は、実施例１に記載の方法により感光体を作製した。

［画質評価］
作製した感光体をＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅＣｏｌｏｒ ４００ＣＰ（富士ゼロックス社製）に装着し、３０℃、８５％の環境下にて１０％ハーフトーン画像を連続して５０万枚出力する画像形成テストを行い、以下の評価を行なった。

・残留電位上昇分の測定
１枚目印字直後の感光体表面上の残留電位と、５０万枚目印字直後の感光体表面上の残留電位と、を測定しその差から上昇分を算出した。
尚、残留電位の測定は表面電位測定プローブを上記画像形成装置中の除電ランプ後の位置に設置し、表面電位を読み取った。

・粒状性
画像形成テストにおける１枚目の画像の粒状性を、以下の評価基準により評価した。
５：大変良い（１ドットが円形率８０％以上）
４：良い（１ドットが円形率６０％以上８０％未満）
３：普通（１ドットが円形率４０％以上６０％未満）
２：悪い（１ドットが円形率２０％以上４０％未満）
１：大変悪い（１ドットが円形率２０％未満）
以上の評価結果を表４〜表５に示す。

また、得られた感光体の保護層における残留溶剤を、ガスクロマトグラフィーで検出した。ガスクロマトグラフィーはＨＰ６８９０（アジレント社製）とカラムＨＰ-５ＭＳ（アジレント社製）をオーブン初期温度を４５℃で使用した。その残留溶剤の種類と残留溶剤中の相対量を表４〜表５に示す。

上記結果から、本実施例では、比較例に比べ、残留電位の上昇分、及び粒状性について良好な結果が得られたことがわかる。

尚、表１〜表５の略職又は商品名等の詳細は、以下の通りである。
・ＧＦ４００（特定オリゴマー、東亞合成社製、分子量１２００００）
・フタージェント７５０ＦＬ（特定オリゴマー、ネオス社製、分子量４０００）
・サーフロンＳ６５１（特定オリゴマー、ＡＧＣセイミケキカル社製、分子量３０００）
・ＰＦ−６５２０（特定オリゴマー、北村化学社製、分子量５０００）
・ＩＰＡ：イソプロピルアルコール（アルコール溶剤）
また、表１〜表３に記載の「電荷輸送材料」および「グアナミン化合物、メラミン化合物」の項の「含有量」の欄における「％」の記載は、保護層の全固形分に対する比率を表す。

１ 基体、２ 感光層、２Ａ 電荷発生層、２Ｂ 電荷輸送層、２Ｃ 保護層、４ 下引層、７ 電子写真感光体、８ 帯電装置、９ 露光装置、１１ 現像装置、１３ クリーニング装置、１４ 潤滑材、４０ 転写装置、５０ 中間転写体、１００ 画像形成装置、１２０ 画像形成装置、１３１ クリーニングブレード、１３２ 繊維状部材（ロール状）、１３３ 除電装置、３００ プロセスカートリッジ

Claims (7)

1. 導電性基体と
   前記導電性基体上に設けられた感光層と、
   を有し、
   前記感光層の最外表面を構成する層が、グアナミン化合物およびメラミン化合物から選択される少なくとも１種と−ＯＨ、−ＯＣＨ_３、−ＮＨ_２、−ＳＨおよび−ＣＯＯＨから選択される少なくとも１つの置換基を持つ電荷輸送性材料との架橋物と、フッ素樹脂粒子と、末端基に−ＣＦ_３基を有するカルボン酸類のオリゴマーと、アルコール溶剤を含む残留溶剤と、を含有し、
   前記アルコール溶剤の含有量が、前記アルコール溶剤として炭素数３以下のアルコール溶剤を含む場合、全残留溶剤に対して０．１質量％以上２０質量％以下であり、前記アルコール溶剤として炭素数４以上のアルコール溶剤を含む場合、全残留溶剤に対して０．１質量％以上６０質量％以下であり、
   前記最外表面を構成する層における前記電荷輸送性材料の含有量が、８５質量％以上である電子写真感光体。
2. 前記アルコール溶剤が、炭素数６以下のアルコール溶剤である請求項１に記載の電子写真感光体。
3. 前記炭素数６以下のアルコール溶剤が、シクロペンタノール、メタノール、エタノール、ｉ−プロパノール、２−ブタノール、およびｎ−ペンタノールから選択される少なくとも１種である請求項２に記載の電子写真感光体。
4. 前記残留溶剤が、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤および炭化水素系溶剤から選択される少なくとも１種の溶剤をさらに含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
5. 前記残留溶剤が、シクロペンタノン、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、エチルベンゼン、テトラヒドロフラン、および２−メチルテトラヒドロフランから選択される少なくとも１種をさらに含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
6. 請求項１〜５のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
   前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電装置と、
   帯電された前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成装置と、
   前記静電潜像を現像剤で現像してトナー像を形成する現像装置と、
   前記トナー像を被転写媒体に転写する転写装置と、
   トナー像の転写後、前記電子写真感光体の表面を除電させる除電装置と、
   を備える画像形成装置。
7. 請求項１〜５のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、
   画像形成装置に着脱し得るプロセスカートリッジ。