JP5735831B2 - Method for producing chalcogen-containing fused polycyclic compound - Google Patents
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Description
本発明は、含カルコゲン縮合多環式化合物の製造方法等に関する。更に、本発明は含カルコゲン縮合多環式化合物の製造方法の中間体として有用な化合物に関する。 The present invention relates to a method for producing a chalcogen-containing fused polycyclic compound. Furthermore, the present invention relates to a compound useful as an intermediate in the process for producing a chalcogen-containing fused polycyclic compound.
有機薄膜トランジスタ等の有機エレクトロニクス分野において有用な有機半導体材料として、含カルコゲン縮合多環式化合物が提案されている(特許文献1)。含カルコゲン縮合多環式化合物の製造方法としては、ジスルフィド結合を含む縮合多環式化合物を遷移金属触媒の存在下、約200℃で加熱する方法が特許文献1に記載されている。 Chalcogen-containing polycyclic compounds have been proposed as organic semiconductor materials useful in the field of organic electronics such as organic thin film transistors (Patent Document 1). As a method for producing a chalcogen-containing fused polycyclic compound, Patent Document 1 discloses a method in which a fused polycyclic compound containing a disulfide bond is heated at about 200 ° C. in the presence of a transition metal catalyst.
工業的な観点から、従来よりも温和な反応温度で含カルコゲン縮合多環式化合物を製造する方法が求められている。 From an industrial viewpoint, a method for producing a chalcogen-containing condensed polycyclic compound at a milder reaction temperature than before has been demanded.
このような状況下、本発明者らは鋭意検討した結果、以下の本発明に至った。 Under such circumstances, the present inventors diligently studied, and as a result, reached the following present invention.
本発明は、式(5)
で表される化合物を酸と反応させる工程を有する、式(10)
で表される含カルコゲン縮合多環式化合物の製造方法に関する。
The present invention relates to formula (5)
Having a step of reacting a compound represented by the formula (10) with an acid:
The manufacturing method of the chalcogen containing polycyclic compound represented by these.
各式中、R1はそれぞれ独立に炭素数1〜20のアルキル基を示し、Z1はそれぞれ独立に、硫黄原子又はセレン原子を示し、Z2は酸素原子、硫黄原子又はセレン原子を示し、R11、R12、R13及びR14はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素数6〜30のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数7〜30のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素数5〜30のヘテロアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素数4〜30のヘテロアリール基、又は、−Si(R2)3(R2はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜30のアリール基を示す。)で表される置換シリル基を示す。 In each formula, R 1 independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, Z 1 independently represents a sulfur atom or a selenium atom, Z 2 represents an oxygen atom, a sulfur atom or a selenium atom, R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are each independently a hydrogen atom, a fluorine atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, or an optionally substituted carbon atom. An alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms which may have a substituent, an aralkyl group having 7 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and a substituent; An optionally substituted heteroaralkyl group having 5 to 30 carbon atoms, an optionally substituted heteroaryl group having 4 to 30 carbon atoms, or —Si (R 2 ) 3 (R 2 is independently substituted; C1-C30 alkyl which may have a group Or a substituted silyl group represented by.) Which represents an aryl group having 6 to 30 carbon atoms which may have a substituent.
式(5)で表される化合物を酸と反応させた後、反応生成物と塩基とを混合することが好ましい。 After reacting the compound represented by formula (5) with an acid, the reaction product and a base are preferably mixed.
式(5)で表される化合物は、下記式(2a)
で表される化合物を酸化する工程と、該工程で得られた下記式(3a)
で表される化合物と下記式(4a)
で表される化合物とを縮合する工程と、を含む方法により得られる化合物であることが好ましい。
The compound represented by the formula (5) is represented by the following formula (2a)
And a step of oxidizing the compound represented by formula (3a):
And a compound represented by the following formula (4a)
It is preferable that it is a compound obtained by the method including the process of condensing with the compound represented by these.
上記式(5)で表される化合物は、上記式(2a)表される化合物と上記式(4a)で表される化合物とを縮合する工程と、上記工程で得られた下記式(3b)
で表される化合物(3b)を酸化する工程と、を含む方法により得られる化合物であることも好ましい。
The compound represented by the above formula (5) includes a step of condensing the compound represented by the above formula (2a) and the compound represented by the above formula (4a), and the following formula (3b) obtained in the above step.
It is also preferable that it is a compound obtained by the method including the process of oxidizing the compound (3b) represented by these.
上記式(5)で表される化合物が、下記式(2b)
で表される化合物と下記式(4b)
で表される化合物とを縮合する工程と、該工程で得られた式(3b)で表される化合物を酸化する工程と、を含む方法により得られる化合物であることも好ましい。
The compound represented by the above formula (5) is represented by the following formula (2b)
And a compound represented by the following formula (4b)
It is also preferable that it is a compound obtained by the method of condensing the compound represented by these, and the process of oxidizing the compound represented by Formula (3b) obtained at this process.
上記式(2a)で表される化合物は、下記式(1)
で表される化合物に含まれる水素原子を、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルキルスルホネート基又は炭素数6〜20のアリールスルホネート基に置換する工程を含む方法により得られる化合物であることが好ましい。
The compound represented by the above formula (2a) is represented by the following formula (1):
It is preferable that it is a compound obtained by the method including the process of substituting the hydrogen atom contained in the compound represented by a halogen atom, a C1-C20 alkylsulfonate group, or a C6-C20 arylsulfonate group. .
式(2b)で表される化合物は、式(1)で表される化合物に含まれる水素原子を脱離基に置換する工程を含む方法により得られる化合物であることが好ましい。 The compound represented by the formula (2b) is preferably a compound obtained by a method including a step of substituting a leaving group for a hydrogen atom contained in the compound represented by the formula (1).
式(2a)、(3a)、(4a)、(2b)、(3b)、(4b)、及び(1)中、R1、R11、R12、R13、R14、Z1及びZ2は前記と同義である。X1はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルキルスルホネート基又は炭素数6〜20のアリールスルホネート基を示し、X2は脱離基を示す。脱離基X2は、下記式(6)
で表される基であることが好ましい。
In formulas (2a), (3a), (4a), (2b), (3b), (4b) and (1), R 1 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , Z 1 and Z 2 is as defined above. X 1 independently represents a halogen atom, an alkyl sulfonate group having 1 to 20 carbon atoms or an aryl sulfonate group having 6 to 20 carbon atoms, and X 2 represents a leaving group. The leaving group X 2 has the following formula (6)
It is preferable that it is group represented by these.
式(6)中、R10はそれぞれ独立に、水酸基、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基又は炭素数6〜20のアリールオキシ基を示す。分子内の2つのR10は結合して、ホウ素原子とともに環構造を形成していてもよい。 Wherein (6), R 10 are each independently, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group or an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms having 1 to 10 carbon atoms. Two R 10 in the molecule may be bonded to form a ring structure together with the boron atom.
含カルコゲン縮合多環式化合物中のZ1及びZ2がいずれも硫黄原子であることが好ましい。 It is preferable that both Z 1 and Z 2 in the chalcogen-containing fused polycyclic compound are sulfur atoms.
含カルコゲン縮合多環式化合物中のR11、R12、R13及びR14からなる群から選ばれる少なくとも1つの基が、炭素数1〜30のアルキル基、炭素数1〜30のアルコキシ基、炭素数6〜30のアリール基又は炭素数7〜30のアラルキル基であり、その他のR11、R12、R13及びR14は水素原子であることが好ましい。 In the chalcogen-containing fused polycyclic compound, at least one group selected from the group consisting of R 11 , R 12 , R 13 and R 14 is an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, It is an aryl group having 6 to 30 carbon atoms or an aralkyl group having 7 to 30 carbon atoms, and other R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are preferably hydrogen atoms.
本発明はまた、上述の式(3a)、(3b)又は(5)で表される各化合物及び下記式(10−3)
で表される各化合物を提供する。
The present invention also provides each compound represented by the above formula (3a), (3b) or (5) and the following formula (10-3):
Each compound represented by is provided.
式(3b)及び(5)において、R12がいずれも水素原子、炭素数1〜20のアルキル基及び炭素数1〜20のアルコキシ基からなる群より選ばれる同一の基であり、R11、R13及びR14がいずれも水素原子であることが好ましい。 In formulas (3b) and (5), R 12 is the same group selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, R 11 , R 13 and R 14 are preferably both hydrogen atoms.
本発明はまた、式(4)
で表される化合物にアルキルリチウムを反応させる第I’工程と、第I’工程の反応生成物をアルキルスルフィド化又はアルキルセレニド化する第II’工程と、を有する、式(3b)
で表される化合物の製造方法に関する。
The present invention also provides formula (4)
A compound represented by formula (3b), comprising: a step I ′ in which alkyllithium is reacted with an alkyllithium; and a step II ′ in which the reaction product of step I ′ is alkylsulfided or alkylselenylated.
It relates to the manufacturing method of the compound represented by these.
各式中、R1、R11、R12、R13、R14、Z1及びZ2は式(1)における定義と同義であり、X5はそれぞれ独立に、ハロゲン原子を示す。 In each formula, R 1 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , Z 1 and Z 2 are as defined in formula (1), and X 5 independently represents a halogen atom.
第II’工程において、第I’工程の反応生成物に、硫黄又はセレンを反応させた後、式(11)
R1−X6 (11)
で表されるハロゲン化アルキルを反応させることにより、第I’工程の反応生成物をアルキルスルフィド化又はアルキルセレニド化することが好ましい。式(11)中、R1は式(3b)における定義と同義であり、X6はハロゲン原子を示す。
In the step II ′, after reacting the reaction product of the step I ′ with sulfur or selenium, the formula (11)
R 1 -X 6 (11)
It is preferable that the reaction product of the step I ′ is subjected to alkyl sulfidation or alkyl selenide reaction by reacting an alkyl halide represented by the following formula. In formula (11), R 1 has the same definition as in formula (3b), and X 6 represents a halogen atom.
式(4)で表される化合物は、式(3)
で表される化合物にハロゲン化剤を反応させる工程を含む方法により得られる化合物であることが好ましい。
The compound represented by the formula (4) has the formula (3)
It is preferable that it is a compound obtained by the method including the process of making a halogenating agent react with the compound represented by these.
式(3)で表される化合物が、式(1c)
で表される化合物と式(4a)
で表される化合物とを縮合する工程を含む方法によって得られる化合物であることが好ましい。
The compound represented by the formula (3) is represented by the formula (1c)
And a compound represented by formula (4a)
It is preferable that it is a compound obtained by the method including the process of condensing with the compound represented by these.
式(3)及び(1c)中、R11、R12、R13、R14、X1及びZ2は式(5)及び(2a)等における定義と同義である。 In formulas (3) and (1c), R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , X 1 and Z 2 have the same definitions as in formulas (5) and (2a).
本発明の製造方法によれば、含カルコゲン縮合多環式化合物が、従来よりも温和な反応温度で製造可能である。また、本発明によれば、含カルコゲン縮合多環式化合物を製造するための中間体として、式(5)、(3a)又は(3b)で表される各化合物が提供される。 According to the production method of the present invention, the chalcogen-containing polycyclic compound can be produced at a milder reaction temperature than before. Moreover, according to this invention, each compound represented by Formula (5), (3a) or (3b) is provided as an intermediate for manufacturing a chalcogen-containing polycyclic compound.
以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail.
本実施形態に係る下記一般式(10)で表される含カルコゲン縮合多環式化合物(以下、「含カルコゲン縮合多環式化合物(10)」と記すことがある。)の製造方法は、下記式(5)で表される化合物(以下、「化合物(5)」と記すことがある。)を酸と反応させる工程(以下、「工程4」と記すことがある。)を含む。
工程4に用いられる化合物(5)の製造方法として、以下の工程1A、工程2A及び工程3Aを経由する方法を例示することができる。
工程1A:
下記式(1)で表される化合物(以下、「化合物(1)」と記すことがある。)に含まれる水素原子を、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルキルスルホネート基又は炭素数6〜20のアリールスルホネート基に置換する工程
工程2A:
工程1Aで得られた下記式(2a)で表される化合物(以下、「化合物(2a)」と記すことがある。)を酸化する工程
工程3A:
工程2Aで得られた下記式(3a)で表される化合物(以下、「化合物(3a)」と記すことがある。)と下記式(4a)で表される化合物(以下、「化合物(4a)」と記すことがある。)とを縮合する工程
The production method of the chalcogen-condensed polycyclic compound represented by the following general formula (10) according to the present embodiment (hereinafter sometimes referred to as “chalcogen-condensed polycyclic compound (10)”) is as follows. A step of reacting a compound represented by the formula (5) (hereinafter sometimes referred to as “compound (5)”) with an acid (hereinafter sometimes referred to as “step 4”).
As a manufacturing method of the compound (5) used for the process 4, the method through the following processes 1A, 2A, and 3A can be illustrated.
Step 1A:
A hydrogen atom contained in a compound represented by the following formula (1) (hereinafter sometimes referred to as “compound (1)”) is a halogen atom, an alkyl sulfonate group having 1 to 20 carbon atoms, or 6 to 6 carbon atoms. Substitution of 20 aryl sulfonate groups Step 2A:
Step 3A for oxidizing the compound represented by the following formula (2a) obtained in Step 1A (hereinafter sometimes referred to as “compound (2a)”):
The compound represented by the following formula (3a) obtained in step 2A (hereinafter sometimes referred to as “compound (3a)”) and the compound represented by the following formula (4a) (hereinafter referred to as “compound (4a)”. ) "May be noted.)
工程4に用いられる化合物(5)の他の製造方法として、以下の工程3Bを例示することができる。
工程3B:
下記式(3b)で表される化合物(以下、「化合物(3b)」と記すことがある。)を酸化する工程
As another production method of the compound (5) used in the step 4, the following step 3B can be exemplified.
Step 3B:
A step of oxidizing a compound represented by the following formula (3b) (hereinafter sometimes referred to as “compound (3b)”).
ここで、化合物(3b)は、例えば、前述した工程1Aと後述する工程2Bとを経由して、又は、後述する工程1Bと後述する工程2Cとを経由して得ることができる。 Here, the compound (3b) can be obtained, for example, via the step 1A described above and the step 2B described later, or via the step 1B described later and the step 2C described later.
工程2B:
工程1Aで得られた化合物(2a)と化合物(4a)とを縮合する工程
Step 2B:
A step of condensing compound (2a) obtained in step 1A with compound (4a)
工程1B:
化合物(1)に含まれる水素原子を、脱離基に置換する工程
工程2C:
工程1Bで得られた下記式(2b)で表される化合物(以下、「化合物(2b)」と記すことがある。)と下記式(4b)で表される化合物(以下、「化合物(4b)」と記すことがある。)とを縮合する工程
Step 1B:
Step 2C for substituting a leaving group for a hydrogen atom contained in compound (1):
The compound represented by the following formula (2b) obtained in step 1B (hereinafter sometimes referred to as “compound (2b)”) and the compound represented by the following formula (4b) (hereinafter referred to as “compound (4b)”. ) "May be noted.)
化合物(4b)のX1がハロゲン原子の場合、例えば、市販のハロゲン化ベンゼン化合物等をそのまま使用するか、ベンゼン化合物を公知の方法でハロゲン化して化合物(4b)とすればよく、化合物(4b)のX1がアルキルスルホネート基又はアリールスルホネート基の場合、例えば、J. Org. Chem. Soc., 1999, 64, 3266の記載に準じて、化合物(4b)のX1がフェノール性水酸基である化合物にアルキルスルホン酸無水物もしくは又はアリールスルホン酸無水物を反応させて化合物(4b)とすればよい。 When X 1 of the compound (4b) is a halogen atom, for example, a commercially available halogenated benzene compound or the like may be used as it is, or a benzene compound may be halogenated by a known method to obtain a compound (4b). when X 1) of the alkyl sulfonate group or an aryl sulfonate group, for example, J. Org. Chem. Soc. , 1999, 64, 3266, a compound (4b) can be obtained by reacting an alkylsulfonic acid anhydride or an arylsulfonic acid anhydride with a compound in which X 1 of the compound (4b) is a phenolic hydroxyl group. Good.
以下、工程1Aについて説明する。
まず、工程1Aの化合物(1)について説明する。
化合物(1)におけるR1は、炭素数1〜20のアルキル基を示す。具体的には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、2−エチルヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−ヘキシルオクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、2−ヘキシルデシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基、及びn−イコシル基が挙げられる。好ましくはメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、シクロペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、及びn−デシル基、が挙げられる。R1は更に好ましくはメチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、及びn−ヘキシル基から、更により好ましくはメチル基、エチル基、n−プロピル基、及びn−ブチル基から選ばれる。
Hereinafter, step 1A will be described.
First, the compound (1) in step 1A will be described.
R 1 in the compound (1) represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Specifically, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, neopentyl group, n-hexyl group, 2-ethylhexyl Group, n-heptyl group, n-octyl group, 2-hexyloctyl group, n-nonyl group, n-decyl group, 2-hexyldecyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, n-tridecyl group, n -A tetradecyl group, n-pentadecyl group, n-hexadecyl group, n-heptadecyl group, n-octadecyl group, n-nonadecyl group, and n-icosyl group are mentioned. Preferably methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, cyclopentyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, n-heptyl Group, n-octyl group, n-nonyl group, and n-decyl group. R 1 is more preferably methyl, ethyl, n-propyl, n-butyl, n-pentyl, and n-hexyl, still more preferably methyl, ethyl, n-propyl, and Selected from n-butyl groups.
化合物(1)におけるZ1はそれぞれ独立に、硫黄原子又はセレン原子を示す。Z1は好ましくは硫黄原子である。Z2は酸素原子、硫黄原子又はセレン原子を示す。Z2は好ましくは、酸素原子又は硫黄原子であり、さらに好ましくは硫黄原子である。 Z 1 in the compound (1) independently represents a sulfur atom or a selenium atom. Z 1 is preferably a sulfur atom. Z 2 represents an oxygen atom, a sulfur atom or a selenium atom. Z 2 is preferably an oxygen atom or a sulfur atom, and more preferably a sulfur atom.
化合物(1)としては、Z1、Z2及びR1が表1に例示される組み合わせである番号(1−1)〜(1−34)の化合物を挙げることができる。 Examples of the compound (1) include compounds of numbers (1-1) to (1-34) in which Z 1 , Z 2 and R 1 are combinations exemplified in Table 1.
好ましい化合物(1)としては、例えば、(1−1)、(1−2)、(1−3)、(1−4)、(1−5)、(1−7)、(1−8)、(1−9)、(1−10)、(1−12)、(1−13)、(1−14)、(1−16)、(1−21),(1−22)、(1−24)、(1−27)、(1−31)、又は(1−33)の化合物、さらに好ましくは、(1−1)、(1−2)、(1−5)、(1−8)、(1−10)、(1−13)、(1−21)、(1−27)、(1−31)、又は(1−33)の化合物が挙げられる。 As preferred compounds (1), for example, (1-1), (1-2), (1-3), (1-4), (1-5), (1-7), (1-8) ), (1-9), (1-10), (1-12), (1-13), (1-14), (1-16), (1-21), (1-22), (1-24), (1-27), (1-31), or (1-33) compounds, more preferably (1-1), (1-2), (1-5), ( 1-8), (1-10), (1-13), (1-21), (1-27), (1-31), or the compound of (1-33) is mentioned.
化合物(1)のZ1が硫黄である場合の化合物(1)の調製方法として、例えば、下記式(1a): As a preparation method of the compound (1) when Z 1 of the compound (1) is sulfur, for example, the following formula (1a):
(式中、Z2は上記と同じ意味を示し、X5は臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子を示す。)で表される化合物(以下、化合物(1a)と記すことがある。)にアルキルリチウムを反応させる第I工程と、第I工程で得られた反応生成物をアルキルスルフィド化する第II工程とを含む調製方法を挙げることができる。
(Wherein, Z 2 has the same meaning as described above, and X 5 represents a halogen atom such as a bromine atom or an iodine atom) (hereinafter, may be referred to as compound (1a)). A preparation method including Step I in which alkyllithium is reacted and Step II in which the reaction product obtained in Step I is alkylsulfided can be mentioned.
上記調製方法の溶媒としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、及びヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、及びプロピレングリコールジメチルエーテル等のエーテル溶媒、並びに、これらの混合溶媒が挙げられる。好ましくは、ペンタン、ヘキサン、トルエン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、及びシクロペンチルメチルエーテルが挙げられる。 Examples of the solvent for the above preparation method include aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, and heptane, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, diethyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, cyclopentyl methyl ether, And ether solvents such as propylene glycol dimethyl ether, and mixed solvents thereof. Pentane, hexane, toluene, diethyl ether, tetrahydrofuran, and cyclopentyl methyl ether are preferable.
第I工程で用いられるアルキルリチウムとしては、例えば、メチルリチウム、n−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム、及びフェニルリチウムが挙げられる。好ましくは、n−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、及びtert−ブチルリチウムであり、さらに好ましくは、sec−ブチルリチウム、及びtert−ブチルリチウム等が挙げられる。 Examples of the alkyl lithium used in Step I include methyl lithium, n-butyl lithium, sec-butyl lithium, tert-butyl lithium, and phenyl lithium. N-butyllithium, sec-butyllithium, and tert-butyllithium are preferable, and sec-butyllithium, tert-butyllithium, and the like are more preferable.
第I工程の例を更に具体的に説明すると、化合物(1a)を溶媒に溶解又は懸濁させた後、例えば、−40℃以下、好ましくは−55℃〜−110℃、更に好ましくは、−65℃〜−100℃の温度範囲に冷却させた後、アルキルリチウムを化合物(1a)1モルに対して、1モル〜4モル、好ましくは2モル〜4モル加え、更に上記温度範囲で10分〜5時間攪拌する。 The example of the step I will be described more specifically. After dissolving or suspending the compound (1a) in a solvent, for example, −40 ° C. or lower, preferably −55 ° C. to −110 ° C., more preferably − After cooling to a temperature range of 65 ° C. to −100 ° C., 1 to 4 mol, preferably 2 to 4 mol, of alkyl lithium is added to 1 mol of compound (1a), and further 10 minutes in the above temperature range. Stir for ~ 5 hours.
第II工程としては、例えば、第I工程で得られた反応生成物に、下記式
R1−S−S−R1
(式中、R1は上記と同じ意味を示す。)
で表されるジアルキルジスルフィド(以下、単にジアルキルジスルフィドと記すことがある)を反応させる工程(以下、「(I)工程」と記すことがある。)、並びに、
第I工程で得られた反応生成物に、硫黄を反応させた後、式(11)
R1−X6 (11)
(式中、R1は上記と同じ意味を示し、X6は臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子を示す。)
で表されるハロゲン化アルキル(以下、「ハロゲン化アルキル(11)」と記すことがある)を反応させる工程(以下、「(II)工程」と記すことがある。)、
等を挙げることができる。
As the step II, for example, the reaction product obtained in the step I is added to the following formula R 1 —S—S—R 1
(Wherein R 1 has the same meaning as described above.)
A dialkyl disulfide represented by the following (hereinafter sometimes simply referred to as dialkyl disulfide) (hereinafter, also referred to as “(I) step”), and
After reacting the reaction product obtained in Step I with sulfur, the formula (11)
R 1 -X 6 (11)
(In the formula, R 1 represents the same meaning as described above, and X 6 represents a halogen atom such as a bromine atom or an iodine atom.)
A step of reacting an alkyl halide represented by formula (hereinafter sometimes referred to as “halogenated alkyl (11)”) (hereinafter sometimes referred to as “step (II)”),
Etc.
前項には第II工程として硫黄を用いた場合を例示したが、前項及び後述する第II工程の説明に記載された硫黄は、セレンに置き換えてもよい。 Although the case where sulfur was used as the step II was exemplified in the previous section, the sulfur described in the previous section and the description of the step II described later may be replaced with selenium.
第II工程の(I)工程について説明する。
(I)工程で用いられるジアルキルジスルフィドとしては、例えば、ジメチルジスルフィド、ジエチルジスルフィド、ジ−n−プロピルジスルフィド、ジ−n−ブチルジスルフィド、ジ−n−ヘキシルジスルフィド、ジ−n−オクチルジスルフィド、及びジ−n−デシルジスルフィドが挙げられる。好ましくは、ジメチルジスルフィド、ジエチルジスルフィド、及びジ−n−ヘキシルジスルフィドが挙げられ、更に好ましくは、ジメチルジスルフィド、及びジ−n−ヘキシルジスルフィド等が挙げられる。
The (I) step of the second step will be described.
Examples of the dialkyl disulfide used in the step (I) include dimethyl disulfide, diethyl disulfide, di-n-propyl disulfide, di-n-butyl disulfide, di-n-hexyl disulfide, di-n-octyl disulfide, and di- -N-decyl disulfide is mentioned. Preferred are dimethyl disulfide, diethyl disulfide, and di-n-hexyl disulfide, and more preferred are dimethyl disulfide, di-n-hexyl disulfide, and the like.
(I)工程では、例えば、第I工程で得られた反応生成物に、第I工程に用いられた化合物(1a)1モルに対して、1モル〜4モル、好ましくは2モル〜4モルのジアルキルジスルフィドを加え、反応液を必要に応じて30℃まで昇温させ、10分〜48時間攪拌する。 In step (I), for example, the reaction product obtained in step I is 1 mol to 4 mol, preferably 2 mol to 4 mol, relative to 1 mol of compound (1a) used in step I. The dialkyl disulfide is added, and the reaction solution is heated to 30 ° C., if necessary, and stirred for 10 minutes to 48 hours.
第I工程及び(I)工程による化合物(1)の調製方法においては、第I工程及び(I)工程をそれぞれ2回に分けて行うことが好ましい。この場合、例えば、まず、化合物(1a)を溶媒に溶解又は懸濁させた後、例えば、−40℃以下、好ましくは−55℃〜−110℃、更に好ましくは、−65℃〜−100℃の温度範囲に冷却させた後、アルキルリチウムを化合物(1a)1モルに対して、1モル〜2モル加え、更に上記温度範囲で反応液を10分〜5時間攪拌する工程(第I工程の1回目)を行い、この工程で得られた反応生成物に、化合物(1a)1モルに対して、0.5モル〜2モルのジアルキルジスルフィドを加え、必要に応じて30℃まで昇温させ、10分から48時間反応液を攪拌する工程((I)工程の1回目)を行い、式(1b): In the method for preparing compound (1) by the step I and the step (I), the step I and the step (I) are preferably performed in two steps. In this case, for example, after first dissolving or suspending the compound (1a) in a solvent, for example, −40 ° C. or less, preferably −55 ° C. to −110 ° C., more preferably −65 ° C. to −100 ° C. After cooling to the above temperature range, 1 to 2 mol of alkyl lithium is added to 1 mol of compound (1a), and the reaction solution is further stirred for 10 minutes to 5 hours in the above temperature range (in the step I). To the reaction product obtained in this step, 0.5 mol to 2 mol of dialkyl disulfide is added to 1 mol of compound (1a), and the temperature is raised to 30 ° C. if necessary. A step of stirring the reaction solution for 10 minutes to 48 hours (first time of the step (I)) is performed, and the formula (1b):
(式中、R1、Z2及びX5は上記と同じ意味を示す。)
で表される化合物(以下、化合物(1b)と記すことがある。)を生成させる。続いて、生成した化合物(1b)を含む反応生成物を、例えば、−40℃以下、好ましくは−55℃〜−110℃、更に好ましくは、−65℃〜−100℃の温度範囲に冷却させた後、アルキルリチウムを化合物(1b)1モルに対して、0.5モル〜2モル加え、更に上記温度範囲で10分〜5時間反応液を攪拌する工程(第I工程の2回目)を行い、この工程で得られた反応生成物に、化合物(1b)1モルに対して、0.5モル〜2モルのジアルキルジスルフィドを加え、必要に応じて30℃まで昇温させ、10分から48時間反応液を攪拌する工程((I)工程の2回目)を行う。
(Wherein R 1 , Z 2 and X 5 have the same meaning as described above.)
(Hereinafter, may be referred to as compound (1b)). Subsequently, the reaction product containing the produced compound (1b) is cooled to, for example, −40 ° C. or less, preferably −55 ° C. to −110 ° C., more preferably −65 ° C. to −100 ° C. Then, 0.5 mol to 2 mol of alkyl lithium is added to 1 mol of compound (1b), and the reaction solution is further stirred for 10 minutes to 5 hours in the above temperature range (second step of Step I). Then, 0.5 mol to 2 mol of dialkyl disulfide is added to 1 mol of compound (1b) to the reaction product obtained in this step, and the temperature is raised to 30 ° C., if necessary, from 10 minutes to 48 minutes. A step of stirring the reaction solution for a period of time (second time of step (I)) is performed.
ここで、例えば、蒸留、再結晶、及びシリカゲルクロマトグラフィー等の精製を行い、一旦、化合物(1b)を単離してもよい。 Here, for example, the compound (1b) may be isolated by performing purification such as distillation, recrystallization, and silica gel chromatography.
次に、第II工程の(II)工程について説明する。 Next, step (II) of step II will be described.
(II)工程に用いられるハロゲン化アルキルとしては、例えば、臭化メチル、ヨウ化メチル、臭化エチル、ヨウ化エチル、臭化−n−プロピル、ヨウ化−n−プロピル、臭化−n−ブチル、ヨウ化−n−ブチル、臭化−n−ヘキシル、ヨウ化−n−ヘキシル、臭化−n−オクチル、ヨウ化−n−オクチル、臭化−n−デシル、ヨウ化−n−デシル、臭化−n−ドデシル、臭化−n−テトラデシル、及び臭化−n−イコシルが挙げられる。好ましくは、臭化メチル、ヨウ化メチル、臭化エチル、ヨウ化エチル、ヨウ化−n−プロピル、ヨウ化−n−ブチル、及びヨウ化−n−ヘキシル、ヨウ化−n−デシルが挙げられる。ここで用いられる溶媒としては、上記と同様のものが挙げられ、上記と同様のものが好ましい。 Examples of the alkyl halide used in the step (II) include methyl bromide, methyl iodide, ethyl bromide, ethyl iodide, -n-propyl bromide, n-propyl iodide, and n-bromide. Butyl, iodide-n-butyl, bromide-n-hexyl, iodide-n-hexyl, bromide-n-octyl, iodide-n-octyl, bromide-n-decyl, iodide-n-decyl , Bromide-n-dodecyl, bromide-n-tetradecyl, and bromide-n-icosyl. Preferred examples include methyl bromide, methyl iodide, ethyl bromide, ethyl iodide, iodinated n-propyl, iodinated n-butyl, and iodinated n-hexyl, iodinated n-decyl. . As a solvent used here, the same thing as the above is mentioned, The thing similar to the above is preferable.
(II)工程で用いられる硫黄は、粉砕したものが好ましい。硫黄は、粉体又は上記溶媒に溶解若しくは懸濁させた懸濁液として用いることが好ましい。 The sulfur used in the step (II) is preferably pulverized. Sulfur is preferably used as a powder or a suspension dissolved or suspended in the above solvent.
(II)工程としては、例えば、第I工程で得られた反応生成物を−40℃以下、好ましくは−55℃〜−110℃、より好ましくは−65℃〜−100℃とした後、第I工程に用いられた化合物(1a)1モルに対して、1モル〜6モル、好ましくは2〜6モルの硫黄を上記温度範囲にて加え、10分から5時間反応液を攪拌し、続いて、ハロゲン化アルキル(11)を化合物(1a)1モルに対して、2モル〜4モルを加え、必要に応じて30℃まで昇温させ、10分から48時間反応液を攪拌する工程等を挙げることができる。 As the step (II), for example, the reaction product obtained in the step I is set to −40 ° C. or lower, preferably −55 ° C. to −110 ° C., more preferably −65 ° C. to −100 ° C. 1 mol to 6 mol, preferably 2 to 6 mol of sulfur is added in the above temperature range with respect to 1 mol of the compound (1a) used in step I, and the reaction solution is stirred for 10 minutes to 5 hours. In addition, 2 to 4 mol of alkyl halide (11) is added to 1 mol of compound (1a), the temperature is raised to 30 ° C. as necessary, and the reaction solution is stirred for 10 minutes to 48 hours. be able to.
第I工程及び(II)工程による化合物(1)の調製方法において、第I工程と(II)工程の硫黄の混合とをそれぞれ2回に分けて行った後、ハロゲン化アルキル(11)を混合することが好ましい。この場合、例えば、まず、化合物(1a)を溶媒に溶解又は懸濁させ、例えば、−40℃以下、好ましくは−55℃〜−110℃、更に好ましくは、−65℃〜−100℃の温度範囲に冷却させた後、アルキルリチウムを化合物(1a)1モルに対して、1モル〜3モル加え、更に上記温度範囲で10分〜5時間反応液攪拌する(第I工程の1回目)。得られた反応生成物に、化合物(1a)1モルに対して1モル〜3モルの硫黄を加え、第I工程の1回目と同様の温度範囲にて、10分から5時間反応液を攪拌する((II)工程の硫黄の混合1回目)。次に、(II)工程の硫黄の混合1回目で得られた反応生成物に、第I工程の1回目と同様の温度範囲で、アルキルリチウムを化合物(1a)1モルに対して1モル〜3モルを再び加え、10分〜5時間反応液を攪拌する(第I工程の2回目)。続いて、第I工程の2回目で得られた反応生成物に、化合物(1a)1モルに対して1モル〜3モルの硫黄を再び加え、必要に応じて30℃まで昇温させ、10分から5時間反応液を攪拌する((II)工程の硫黄の混合2回目)。さらに、(II)工程の硫黄の混合2回目で得られた反応生成物に、ハロゲン化アルキル(11)を化合物(1a)1モルに対して、2モル〜4モルを加え、必要に応じて30℃まで昇温させ、10分から48時間、反応液を攪拌する。 In the preparation method of the compound (1) by the step I and the step (II), the mixing of the sulfur in the step I and the step (II) was performed in two steps, and then the alkyl halide (11) was mixed. It is preferable to do. In this case, for example, first, the compound (1a) is dissolved or suspended in a solvent and, for example, a temperature of −40 ° C. or lower, preferably −55 ° C. to −110 ° C., more preferably −65 ° C. to −100 ° C. After cooling to the range, 1 to 3 mol of alkyllithium is added to 1 mol of compound (1a), and the reaction solution is further stirred for 10 minutes to 5 hours in the above temperature range (first step of Step I). 1 mol to 3 mol of sulfur is added to 1 mol of compound (1a) to the obtained reaction product, and the reaction solution is stirred for 10 minutes to 5 hours in the same temperature range as in the first step of Step I. (First mixing of sulfur in step (II)). Next, in the reaction product obtained in the first mixing of sulfur in step (II), alkyllithium is added in an amount of 1 mol to 1 mol of compound (1a) in the same temperature range as in the first step of step I. 3 mol is added again, and the reaction solution is stirred for 10 minutes to 5 hours (second time in Step I). Subsequently, 1 mol to 3 mol of sulfur is again added to 1 mol of the compound (1a) to the reaction product obtained in the second step of Step I, and the temperature is raised to 30 ° C. as necessary. The reaction solution is stirred for 5 to 5 hours (the second mixing of sulfur in the step (II)). Furthermore, 2-4 mol of alkyl halide (11) is added to 1 mol of compound (1a) to the reaction product obtained in the second mixing of sulfur in step (II). The temperature is raised to 30 ° C., and the reaction solution is stirred for 10 minutes to 48 hours.
(I)工程又は(II)工程によって得られた、化合物(1b)及び化合物(1)等を含む反応性生物に対して、例えば、水洗、乾燥、及び溶媒留去等の後処理を行ってもよく、更に、蒸留、再結晶、及びシリカゲルクロマトグラフィー等の精製を行ってもよい。 For the reactive organisms obtained by the step (I) or the step (II) and containing the compound (1b), the compound (1) and the like, for example, post-treatment such as washing with water, drying, and solvent distillation is performed. Further, purification such as distillation, recrystallization, and silica gel chromatography may be performed.
次に、工程1Aで得られる化合物(2a)について説明する。 Next, the compound (2a) obtained in Step 1A will be described.
化合物(2a)におけるR1、Z1、及びZ2は上記と同様のものが挙げられ、上記と同様のものが好ましい。X1は、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルキルスルホネート基又は炭素数6〜20のアリールスルホネート基を示し、同一分子中の2つのX1は同一でも異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。 R 1 , Z 1 , and Z 2 in the compound (2a) may be the same as those described above, and those similar to the above are preferable. X 1 represents a halogen atom, an alkyl sulfonate group having 1 to 20 carbon atoms or an aryl sulfonate group having 6 to 20 carbon atoms, and two X 1 in the same molecule may be the same or different but are the same. It is preferable.
ハロゲン原子としては、例えば、臭素原子、塩素原子及びヨウ素原子を挙げることができる。 As a halogen atom, a bromine atom, a chlorine atom, and an iodine atom can be mentioned, for example.
炭素数1〜20のアルキルスルホネート基とは、フッ素原子等を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基とスルホネート基(−OSO2−)とからなる基である。例えば、メチルスルホネート基、エチルスルホネート基、及びトリフルオロメチルスルホネート基を挙げることができる。アリールスルホネート基とはアルキル基、及びフッ素原子等を有していてもよいアリール基とスルホネート基とからなる基である。例えば、フェニルスルホネート基、及びp−トルエンスルホネート基を挙げることができる。 The alkyl sulfonate group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyl group and sulfonate group which has carbon atoms which may 20 have a fluorine atom or the like - a group consisting of a (-OSO 2). For example, a methyl sulfonate group, an ethyl sulfonate group, and a trifluoromethyl sulfonate group can be mentioned. The aryl sulfonate group is a group consisting of an alkyl group and an aryl group which may have a fluorine atom and the like and a sulfonate group. For example, a phenyl sulfonate group and p-toluene sulfonate group can be mentioned.
ハロゲン原子、アルキルスルホネート基、及びアリールスルホネート基の中でもハロゲン原子が好ましく、臭素原子及びヨウ素原子がより好ましい。 Of the halogen atom, alkyl sulfonate group, and aryl sulfonate group, a halogen atom is preferable, and a bromine atom and an iodine atom are more preferable.
化合物(2a)としては、Z1、Z2、R1及びX1が表2及び表3に例示される組み合わせである番号(2a−1)〜(2a−43)の化合物を挙げることができる。 Examples of the compound (2a) include compounds of numbers (2a-1) to (2a-43) in which Z 1 , Z 2 , R 1 and X 1 are combinations exemplified in Table 2 and Table 3. .
好ましい化合物(2a)としては、表2及び3に記載された化合物番号が(2a−1)、(2a−2)、(2a−3)、(2a−5)、(2a−8)、(2a−9)、(2a−10)、(2a−12)、(2a−13)、(2a−14)、(2a−17)、(2a−21)、(2a−22)、(2a−25)、(2a−27)、(2a−28)、(2a−31)、(2a−32)、(2a−33)、(2a−34)、(2a−35)、(2a−36)、(2a−37)、(2a−38)、(2a−39)、(2a−40)、又は(2a−41)である化合物が挙げられる。さらに好ましくは、表2及び3に記載された化合物番号が(2a−1)、(2a−2)、(2a−5)、(2a−8)、(2a−9)、(2a−10)、(2a−13)、(2a−17)、(2a−21)、(2a−25)、(2a−27)、(2a−31)、(2a−33)、(2a−35)、(2a−36)、又は(2a−37)である化合物が挙げられる。 As a preferable compound (2a), the compound numbers described in Tables 2 and 3 are (2a-1), (2a-2), (2a-3), (2a-5), (2a-8), ( 2a-9), (2a-10), (2a-12), (2a-13), (2a-14), (2a-17), (2a-21), (2a-22), (2a- 25), (2a-27), (2a-28), (2a-31), (2a-32), (2a-33), (2a-34), (2a-35), (2a-36) , (2a-37), (2a-38), (2a-39), (2a-40), or (2a-41). More preferably, the compound numbers described in Tables 2 and 3 are (2a-1), (2a-2), (2a-5), (2a-8), (2a-9), (2a-10) , (2a-13), (2a-17), (2a-21), (2a-25), (2a-27), (2a-31), (2a-33), (2a-35), ( The compound which is 2a-36) or (2a-37) is mentioned.
工程1Aにおいて化合物(1)に含まれる水素原子(Z2のα位にある水素原子)を、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルキルスルホネート基又は炭素数6〜20のアリールスルホネート基に置換する方法は、特に制限されない。化合物(1)に含まれる水素原子をハロゲン原子に置換する方法としては、例えば、化合物(1)とN−クロロスクシンイミド、N−ブロモスクシンイミド、又はN−ヨードスクシンイミド等のハロゲン化剤とを反応させる方法が好適である。ハロゲン化剤の量は、化合物(1)1モルに対して、2モル〜20モルが好ましく、さらに好ましくは2モル〜10モルである。反応溶媒としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、及びヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒、例えば、トルエン、及びキシレン等の芳香族炭化水素溶媒、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、及び1,2−ジクロロプロパン等のハロゲン化炭化水素溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、及びシクロペンチルメチルエーテル等のエーテル溶媒、並びに、これらの混合溶媒等が挙げられる。好ましくは、塩化メチレン、クロロホルム、トルエン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、及び1,4−ジオキサンが挙げられ、さらに好ましくはクロロホルムが挙げられる。この方法によれば、例えば、−20℃〜100℃程度の温度で、溶液中で容易に反応を進行させることができる。反応時間は、例えば、10分〜48時間である。反応終了後は一般的な後処理をし、必要に応じて、蒸留、再結晶、及びシリカゲルクロマトグラフィー等の精製することで化合物(2a)を得ることができる。 In Step 1A, the hydrogen atom (hydrogen atom at the α-position of Z 2 ) contained in compound (1) is substituted with a halogen atom, an alkyl sulfonate group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl sulfonate group having 6 to 20 carbon atoms. The method is not particularly limited. As a method of substituting a hydrogen atom contained in compound (1) with a halogen atom, for example, compound (1) is reacted with a halogenating agent such as N-chlorosuccinimide, N-bromosuccinimide, or N-iodosuccinimide. The method is preferred. The amount of the halogenating agent is preferably 2 to 20 mol, more preferably 2 to 10 mol, per 1 mol of compound (1). Examples of the reaction solvent include aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, and heptane, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, such as methylene chloride, chloroform, 1,2-dichloroethane, and 1 Halogenated hydrocarbon solvents such as 1,2-dichloropropane, ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, and cyclopentyl methyl ether, and mixed solvents thereof. Preferably, methylene chloride, chloroform, toluene, diethyl ether, tetrahydrofuran, and 1,4-dioxane are mentioned, More preferably, chloroform is mentioned. According to this method, for example, the reaction can easily proceed in the solution at a temperature of about −20 ° C. to 100 ° C. The reaction time is, for example, 10 minutes to 48 hours. After completion of the reaction, the compound (2a) can be obtained by performing general post-treatment and, if necessary, purifying by distillation, recrystallization, silica gel chromatography or the like.
次に、工程1Bで得られる化合物(2b)について説明する。化合物(2b)におけるR1、Z1、及びZ2は上記と同様なものが挙げられ、同様のものが好ましく、同一分子中の二つのZ1は同一であっても異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。X2は、脱離基を示す。 Next, the compound (2b) obtained in the step 1B will be described. R 1 , Z 1 and Z 2 in the compound (2b) are the same as those described above, and the same are preferable, and two Z 1 in the same molecule may be the same or different. Are preferably the same. X 2 represents a leaving group.
脱離基X2は、化合物(2a)と化合物(4a)、化合物(2b)と化合物(4b)、又は化合物(3a)と化合物(4a)との縮合反応が進行し得るような脱離基であればよい。例えば、下記式(6)で表される基が好適である。 The leaving group X 2, the compound with the compound (2a) (4a), Compound (2b) and compound (4b), or a leaving group such as a condensation reaction can proceed in the compound (3a) Compound (4a) If it is. For example, a group represented by the following formula (6) is preferable.
式(6)中、R10はそれぞれ独立に水酸基、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基又は炭素数6〜20のアリールオキシ基を示し、R10は同一でも異なっていてもよく、2つのR10が結合してホウ素原子とともに環構造を形成していてもよい。 In formula (6), each R 10 independently represents a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms or an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, and R 10 is the same or different. Or two R 10 may be bonded to form a ring structure together with the boron atom.
炭素数1〜10のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、及び1,2−ジメチルプロピル基等の直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基が挙げられる。炭素数1〜10のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、n−ブトキシ基、及びn−ヘキサノキシ基が挙げられる。炭素数6〜20のアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、1−ナフトキシ基、及び2−ナフトキシ基が挙げられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, neopentyl group, Linear, branched or cyclic such as cyclopentyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group and 1,2-dimethylpropyl group Of the alkyl group. As a C1-C10 alkoxy group, a methoxy group, an ethoxy group, n-propoxy group, n-butoxy group, and n-hexanoxy group are mentioned, for example. Examples of the aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms include a phenoxy group, a 1-naphthoxy group, and a 2-naphthoxy group.
2つのR10が結合してホウ素原子とともに環構造を形成する場合、好ましい例としては、1,3,2−ジオキサボロラン環、4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン環、5,5−ジメチル−1,3,2−ジオキサボリナン環、1,3,2−ベンゾジオキサボロール環、及び9−ボラビシクロ3,3,1−ノナン環が挙げられる。 When two R 10 are bonded to form a ring structure with a boron atom, preferred examples include 1,3,2-dioxaborolane ring, 4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane And a ring, 5,5-dimethyl-1,3,2-dioxaborinane ring, 1,3,2-benzodioxaborol ring, and 9-borabicyclo3,3,1-nonane ring.
脱離基の具体例としては、式(6)の基以外にも、下記式(7)、(8)及び(9)でそれぞれ表されるような脱離基が挙げられる。 Specific examples of the leaving group include leaving groups represented by the following formulas (7), (8) and (9), in addition to the group of the formula (6).
式(7)におけるR20としては、それぞれ独立に炭素数1〜10のアルキル基を示し、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、シクロペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−オクチル基、及びn−デシル基が挙げられる。好ましくは、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、及びn−ヘキシル基であり、さらに好ましくは、メチル基、エチル基、n−プロピル基、及びn−ブチル基である。式(7)中のR20はそれぞれ異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。 R 20 in the formula (7) independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, sec-butyl. Group, tert-butyl group, n-pentyl group, cyclopentyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, n-octyl group, and n-decyl group. Preferred are a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, and an n-hexyl group, and more preferred are a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, and an n-butyl group. R 20 in formula (7) may be different from each other, but is preferably the same.
式(8)におけるX3は、ハロゲン原子を示し、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。X3は好ましくは臭素原子、又はヨウ素原子である。 X 3 in Formula (8) represents a halogen atom, and examples thereof include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. X 3 is preferably a bromine atom or an iodine atom.
式(9)におけるX4は、ハロゲン原子を示し、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。X4は好ましくは臭素原子、又はヨウ素原子である。 X 4 in Formula (9) represents a halogen atom, and examples thereof include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. X 4 is preferably a bromine atom or an iodine atom.
化合物(2b)としては、Z1、Z2、R1及びX2が表4及び表5に示される組み合わせである番号(2b−1)〜(2a−52)の化合物を挙げることができる。 Examples of the compound (2b) include compounds of numbers (2b-1) to (2a-52) in which Z 1 , Z 2 , R 1 and X 2 are combinations shown in Table 4 and Table 5.
好ましい化合物(2b)としては、表4及び5に記載された化合物番号が(2b−1)、(2b−2)、(2b−5)、(2b−8)、(2b−10)、(2b−12)、(2b−13)、(2b−15)、(2b−17)、(2b−19)、(2b−30)、(2b−33)、(2b−38)、(2b−40)、(2b−42)、(2b−45)、(2b−46)、(2b−50)、又は(2b−51)である化合物が挙げられる。さらに好ましくは、化合物番号が(2b−1)、(2b−8)、(2b−10)、(2b−13)、(2b−19)、(2b−30)、(2b−33)、(2b−38)、(2b−40)、(2b−42)、(2b−45)、(2b−46)、(2b−50)、又は(2b−51)である化合物が挙げられる。 As a preferable compound (2b), the compound numbers described in Tables 4 and 5 are (2b-1), (2b-2), (2b-5), (2b-8), (2b-10), ( 2b-12), (2b-13), (2b-15), (2b-17), (2b-19), (2b-30), (2b-33), (2b-38), (2b- 40), (2b-42), (2b-45), (2b-46), (2b-50), or (2b-51). More preferably, the compound numbers are (2b-1), (2b-8), (2b-10), (2b-13), (2b-19), (2b-30), (2b-33), ( 2b-38), (2b-40), (2b-42), (2b-45), (2b-46), (2b-50), or (2b-51).
化合物(1)の水素原子を脱離基に置換する方法は特に制限されない。脱離基として式(6)で表される基の1種である下記式
で表される基に置換する方法としては、例えば、J.Am.Chem.Soc.,2006,128,9034記載の方法に準拠して、化合物(1)にBuLiを作用させた後、2−イソプロポキシ−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロランと反応させる方法がある。
The method for substituting the hydrogen atom of compound (1) with a leaving group is not particularly limited. The following formula, which is one of the groups represented by formula (6) as the leaving group
As a method for substitution with a group represented by Am. Chem. Soc. , 2006, 128, 9034, after allowing BuLi to act on compound (1), 2-isopropoxy-4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane and There is a method of reacting.
また、工程1Aにより、化合物(2a)における2つのX1が臭素原子である化合物を得たのち、J.Appl.Poly.Sci.,2009,114,1278記載の方法に準拠して、化合物(2a)にBuLiを作用させた後、2−イソプロポキシ−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロランと反応させる方法により、上記式で表される基に置換された化合物(2a)を得ることができる。 In addition, after obtaining a compound in which two X 1 in the compound (2a) are bromine atoms by Step 1A, Appl. Poly. Sci. , 2009, 114, 1278, after allowing BuLi to act on compound (2a), 2-isopropoxy-4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane and By the reaction method, the compound (2a) substituted with the group represented by the above formula can be obtained.
化合物(2a)における水素原子を、式(7)で表されR20がいずれもメチル基である脱離基に置換する方法としては、例えば、J.Am.Chem.Soc.,2003,125,13173記載の方法に準拠して、化合物(1)にBuLiを作用させた後、トリメチルスズクロリドと反応させる方法がある。工程1Aにより、化合物(2a)における2つのX1が臭素原子である化合物を得たのち、J.Org.Chem.,1984,49,5250記載の方法に準拠して、化合物(2a)に、BuLiを作用させた後、トリメチルスズクロリドと反応させる方法により、式(7)で表されR20がいずれもメチル基である脱離基によって置換された化合物(2a)を得ることができる。 Examples of the method for substituting the hydrogen atom in the compound (2a) with a leaving group represented by the formula (7) and in which R 20 is a methyl group include: Am. Chem. Soc. , 2003, 125, 13173, there is a method in which BuLi is allowed to act on compound (1) and then reacted with trimethyltin chloride. In Step 1A, a compound in which two X 1 's in the compound (2a) are bromine atoms was obtained. Org. Chem. , 1984, 49, 5250, by reacting BuLi with compound (2a) and then reacting with trimethyltin chloride, R 20 represented by the formula (7) is a methyl group. The compound (2a) substituted by the leaving group which is can be obtained.
化合物(2a)における水素原子を、脱離基としての式(8)で表される基に置換する方法としては、例えば、工程1Aにより、化合物(2a)における2つのX1が臭素原子である化合物を得たのち、J.Phys.Chem.B,2009,113,8214記載の方法に準拠して、化合物(2a)に、金属マグネシウムを作用させる方法により、式(8)で表されX3が臭素原子である脱離基によって置換された化合物(2a)を得ることができる。 As a method for substituting the hydrogen atom in the compound (2a) with a group represented by the formula (8) as a leaving group, for example, in Step 1A, two X 1 in the compound (2a) are bromine atoms. After obtaining the compound, Phys. Chem. In accordance with the method described in B, 2009, 113, 8214, the compound (2a) was substituted with a leaving group represented by the formula (8) and X 3 being a bromine atom by the method of allowing metal magnesium to act. Compound (2a) can be obtained.
化合物(2a)における水素原子を、脱離基としての式(9)で表される基に置換する方法としては、例えば、工程1Aにより、化合物(2a)における2つのX1が臭素原子である化合物を得たのち、J.Am.Chem.Soc.,2003,125,3867記載の方法に準拠して、化合物(2a)に、金属亜鉛を作用させる方法により、式(9)で表されX4が臭素原子である脱離基に置換された化合物(2a)を得ることができる。 As a method for substituting the hydrogen atom in the compound (2a) with a group represented by the formula (9) as a leaving group, for example, in Step 1A, two X 1 in the compound (2a) are bromine atoms. After obtaining the compound, Am. Chem. Soc. , 2003, 125, 3867, a compound represented by formula (9) and substituted with a leaving group in which X 4 is a bromine atom by a method in which metal zinc is allowed to act on compound (2a) (2a) can be obtained.
次に、工程2A及び工程3Bについて説明する。工程2A又は工程3Bにおいて化合物(2a)又は化合物(3b)を酸化する方法は特に制限されない。化合物(2a)又は化合物(3b)を酸化する方法としては、例えば、化合物(2a)又は化合物(3b)を過酸化水素、m−クロロ過安息香酸、過安息香酸、過酢酸、tert−ブチルハイドロパーオキサイド、及びクメンハイドロパーオキサイド等の過酸化物、並びに、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−p−ベンゾキノン等のキノン化合物等の酸化剤と反応させる方法が挙げられる。酸化剤として、好ましくは、過酸化水素、m−クロロ過安息香酸、過安息香酸、過酢酸、及びtert−ブチルハイドロパーオキサイド等の過酸化物であり、さらに好ましくは過酸化水素である。この方法によれば、例えば、−20℃〜100℃、好ましくは0℃〜80℃の温度で、容易に反応を進行させることができる。酸化剤の量としては、化合物(2a)又は化合物(3b)1モルに対し、例えば、1モル〜5モル、好ましくは1.5モル〜3モルである。酸化剤の量が5モル以下であると過酸化の進行(例えば、硫黄原子(−S−)であれば−SO2−まで酸化されること)を抑制することができる。反応溶媒としては、例えば、水、酢酸、例えば、ベンゼン、トルエン、及びキシレン等の芳香族炭化水素溶媒、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、及び1,2−ジクロロプロパン等のハロゲン化炭化水素溶媒、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、及びn−ブタノール等のアルコール溶媒、並びに、これらの混合溶媒等を挙げることができる。好ましくはメタノール、エタノール、及びイソプロパノール等のアルコール溶媒又は酢酸であり、より好ましくは酢酸である。 Next, step 2A and step 3B will be described. The method for oxidizing compound (2a) or compound (3b) in step 2A or step 3B is not particularly limited. As a method for oxidizing compound (2a) or compound (3b), for example, compound (2a) or compound (3b) is converted into hydrogen peroxide, m-chloroperbenzoic acid, perbenzoic acid, peracetic acid, tert-butylhydro Examples thereof include peroxides and peroxides such as cumene hydroperoxide, and a method of reacting with an oxidizing agent such as quinone compounds such as 2,3-dichloro-5,6-dicyano-p-benzoquinone. As the oxidizing agent, hydrogen peroxide, m-chloroperbenzoic acid, perbenzoic acid, peracetic acid, and peroxides such as tert-butyl hydroperoxide are preferable, and hydrogen peroxide is more preferable. According to this method, for example, the reaction can easily proceed at a temperature of −20 ° C. to 100 ° C., preferably 0 ° C. to 80 ° C. The amount of the oxidizing agent is, for example, 1 mol to 5 mol, preferably 1.5 mol to 3 mol, relative to 1 mol of the compound (2a) or the compound (3b). When the amount of the oxidizing agent is 5 mol or less, the progress of peroxidation (for example, oxidation to -SO 2 -in the case of a sulfur atom (-S-)) can be suppressed. Examples of the reaction solvent include water, acetic acid, for example, aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, and xylene, for example, halogen such as methylene chloride, chloroform, 1,2-dichloroethane, and 1,2-dichloropropane. Hydrocarbon solvents, for example, alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropanol, and n-butanol, and mixed solvents thereof can be exemplified. Alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropanol or acetic acid are preferred, and acetic acid is more preferred.
工程2A及び工程3Bの反応はいずれも、上記の温度範囲程度で、常圧で行うことができることから、温和な条件且つ高収率で目的とする化合物(3a)又は化合物(5)を得ることができる。 Since both the reaction of step 2A and step 3B can be performed at about the above temperature range and at normal pressure, the desired compound (3a) or compound (5) is obtained in mild conditions and in high yield. Can do.
化合物(3a)としては、Z1、Z2、R1及びX1が表6に示される組み合わせである番号(3a−1)〜(3a−41)の化合物を挙げることができる。
好ましい化合物(3a)としては、番号が(3a−1)、(3a−2)、(3a−3)、(3a−5)、(3a−8)、(3a−10)、(3a−12)、(3a−13)、(3a−14)、(3a−17)、(3a−21)、(3a−22)、(3a−25)、(3a−27)、(3a−31)、(3a−33)、(3a−35)、(3a−36)、(3a−37)、(3a−38)、(3a−39)、(3a−40)、又は(3a−41)である化合物が挙げられる。化合物(3a)は、さらに好ましくは、番号が(3a−1)、(3a−2)、(3a−8)、(3a−10)、(3a−13)、(3a−17)、(3a−21)、(3a−25)、(3a−27)、(3a−31)、(3a−33)、又は(3a−35)である化合物から選ばれる。 Preferable compounds (3a) include the numbers (3a-1), (3a-2), (3a-3), (3a-5), (3a-8), (3a-10), (3a-12) ), (3a-13), (3a-14), (3a-17), (3a-21), (3a-22), (3a-25), (3a-27), (3a-31), (3a-33), (3a-35), (3a-36), (3a-37), (3a-38), (3a-39), (3a-40), or (3a-41). Compounds. More preferably, the compound (3a) has the numbers (3a-1), (3a-2), (3a-8), (3a-10), (3a-13), (3a-17), (3a -21), (3a-25), (3a-27), (3a-31), (3a-33), or (3a-35).
次に、工程2B、工程2C、及び工程3Aについて説明する。工程2Bは化合物(2a)と後述する化合物(4a)とを縮合して化合物(3b)を得る工程であり、工程2Cは化合物(2b)と後述する化合物(4b)とを縮合して化合物(3b)を得る工程であり、工程3Aは化合物(3a)と後述する化合物(4a)とを縮合して化合物(5)を得る工程である。以下、総称して本縮合反応と記すことがある。 Next, step 2B, step 2C, and step 3A will be described. Step 2B is a step of condensing compound (2a) with compound (4a) described later to obtain compound (3b), and step 2C is a process of condensing compound (2b) with compound (4b) described later to obtain compound ( 3b), and step 3A is a step of condensing compound (3a) with compound (4a) described later to obtain compound (5). Hereinafter, this condensation reaction may be collectively referred to.
化合物(4a)及び化合物(2b)のX2が、式(6)で表される基の場合、本縮合反応は、例えば、遷移金属触媒及び塩基の存在下、例えば、0℃〜150℃程度の温度範囲内で、溶液中で容易に反応を進行させることができる。本縮合反応はいずれも、上記の温度範囲程度で、常圧で行うことができることから、温和な条件且つ高収率で化合物(3b)又は化合物(5)を得ることができる。 Compound X 2 in (4a) and compound (2b), when the group represented by the formula (6), condensation reaction, for example, the presence of a transition metal catalyst and a base, for example, 0 ° C. to 150 DEG ° C. approximately The reaction can easily proceed in the solution within the above temperature range. Since all of the present condensation reactions can be carried out in the above temperature range and at normal pressure, compound (3b) or compound (5) can be obtained in mild conditions and in high yield.
本縮合反応で用いられる遷移金属触媒としては、例えば、パラジウム触媒及びニッケル触媒が挙げられる。パラジム触媒としては、市販されているものを用いてもよいし、予めパラジウム化合物とホスフィン化合物とから調製したものを用いてもよいし、パラジウム化合物とホスフィン化合物とを、本縮合反応の反応系中で調製してもよい。 Examples of the transition metal catalyst used in the condensation reaction include a palladium catalyst and a nickel catalyst. As the paradymium catalyst, a commercially available one may be used, one prepared in advance from a palladium compound and a phosphine compound, or a palladium compound and a phosphine compound may be used in the reaction system of this condensation reaction. May be prepared.
パラジウム触媒としては、例えば、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、ビス(アセテート)ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)、ビス[1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン]パラジウム(0)、[1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン]ジクロロパラジウム(II)、ジブロモビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)、ジクロロビス(ジメチルフェニルホスフィン)パラジウム(II)、ジクロロビス(メチルジフェニルホスフィン)パラジウム(II)、ジクロロビス(トリシクロヘキシルホスフィン)パラジウム(II)、ジクロロビス(トリエチルホスフィン)パラジウム(II)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)、ジクロロビス[トリス(2−メチルフェニル)ホスフィン]パラジウム(II)、テトラキス(メチルジフェニルホスフィン)パラジウム(0)、テトラキス(トリシクロヘキシルホスフィン)パラジウム(0)、及びジクロロビス(1,1’−ジフェニルホスフィノフェロセニル)パラジウム(II)が挙げられる。 Examples of the palladium catalyst include tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0), bis (acetate) bis (triphenylphosphine) palladium (II), bis [1,2-bis (diphenylphosphino) ethane] palladium (0 ), [1,2-bis (diphenylphosphino) ethane] dichloropalladium (II), dibromobis (triphenylphosphine) palladium (II), dichlorobis (dimethylphenylphosphine) palladium (II), dichlorobis (methyldiphenylphosphine) palladium (II), dichlorobis (tricyclohexylphosphine) palladium (II), dichlorobis (triethylphosphine) palladium (II), dichlorobis (triphenylphosphine) palladium (II), dichlorobi [Tris (2-methylphenyl) phosphine] palladium (II), tetrakis (methyldiphenylphosphine) palladium (0), tetrakis (tricyclohexylphosphine) palladium (0), and dichlorobis (1,1′-diphenylphosphinoferroce Nyl) palladium (II).
パラジム触媒の調製に用いられるパラジウム化合物としては、例えば、トリス(ジベンシリデンアセトン)ジパラジウム(0)、及びトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)・クロロホルム付加体、等の0価のパラジウムを含む化合物、例えば、酢酸パラジウム(II)、塩化パラジウム(II)、臭化パラジウム(II)、ヨウ化パラジウム(II)、(ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2,5−ジエン)ジクロロパラジウム(II)、(2,2’−ビピリジル)ジクロロパラジウム(II)、ビス(アセトニトリル)クロロニトロパラジウム(II)、ビス(ベンゾニトリル)ジクロロパラジウム(II)、ビス(アセトニトリル)ジクロロパラジウム(II)、ジクロロ(1,5−シクロオクタジエン)パラジウム(II)、ジクロロ(エチレンジアミン)パラジウム(II)、ジクロロ(N,N,N’,N’−テトラメチレンジアミン)パラジウム(II)、ジクロロ(1,10−フェナントロリン)パラジウム(II)、パラジウム(II)アセチルアセトナート、パラジウム(II)ヘキサフルオロアセチルアセトナート、硝酸パラジウム(II)、硫酸パラジウム(II)、及びトリフルオロ酢酸パラジウム(II)等の2価のパラジウムを含む化合物等が挙げられ、好ましくは、酢酸パラジウム(II)、塩化パラジウム(II)、及びトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)が挙げられる。かかるパラジウム化合物は、通常市販されているものが用いられる。 Examples of the palladium compound used for the preparation of the paradymium catalyst include zero-valent palladium such as tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (0) and tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (0) / chloroform adduct. Compounds containing, for example, palladium (II) acetate, palladium (II) chloride, palladium (II) bromide, palladium (II) iodide, (bicyclo [2.2.1] hepta-2,5-diene) dichloro Palladium (II), (2,2′-bipyridyl) dichloropalladium (II), bis (acetonitrile) chloronitropalladium (II), bis (benzonitrile) dichloropalladium (II), bis (acetonitrile) dichloropalladium (II) Dichloro (1,5-cyclooctadiene) palladium (I ), Dichloro (ethylenediamine) palladium (II), dichloro (N, N, N ′, N′-tetramethylenediamine) palladium (II), dichloro (1,10-phenanthroline) palladium (II), palladium (II) acetyl Examples thereof include compounds containing divalent palladium such as acetonate, palladium (II) hexafluoroacetylacetonate, palladium (II) nitrate, palladium (II) sulfate, and palladium (II) trifluoroacetate. Palladium (II) acetate, palladium (II) chloride, and tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (0) are mentioned. As the palladium compound, a commercially available product is usually used.
パラジム触媒の調製に用いられるホスフィン化合物としては、トリフェニルホスフィン、トリス(2−メチルフェニル)ホスフィン、トリス(3−メチルフェニル)ホスフィン、トリス(4−メチルフェニル)ホスフィン、トリス(ペンタフルオロフェニル)ホスフィン、トリス(4−フルオロフェニル)ホスフィン、トリス(2−メトキシフェニル)ホスフィン、トリス(3−メトキシフェニル)ホスフィン、トリス(4−メトキシフェニル)ホスフィン、トリス(2,4,6−トリメチルフェニル)ホスフィン、トリ(3−クロロフェニル)ホスフィン、トリ(4−クロロフェニル)ホスフィン、トリ−n−ブチルホスフィン、トリ−tert−ブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、1,2−ジフェニルホスフィノエタン、1,3−ジフェニルホスフィノプロパン、1,4−ジフェニルホスフィノブタン、1,2−ジシクロヘキシルホスフィノエタン、1,3−ジシクロヘキシルホスフィノプロパン、1,4−ジシクロヘキシルホスフィノブタン、1,2−ジメチルホスフィノエタン、1,3−ジメチルホスフィノプロパン、1,4−ジメチルホスフィノブタン、1,2−ジエチルホスフィノエタン、1,3−ジエチルホスフィノプロパン、1,4−ジエチルホスフィノブタン、1,2−ジイソプロピルホスフィノエタン、1,3−ジイソプロピルホスフィノプロパン、1,4−ジイソプロピルホスフィノブタン、トリ−2−フリルホスフィン、2−(ジシクロヘキシルホスフィノ)ビフェニル、2−(ジ−tert−ブチルホスフィノ)ビフェニル、2−ジ−tert−ブチルホスフィノ−2’−メチルビフェニル、2−(ジシクロヘキシルホスフィノ−2’−6’−ジメトキシ、1,1’−ビフェニル、2−(ジシクロヘキシルホスフィノ)−2’−(N,N−ジメチルアミノ)ビフェニル、2−ジシクロヘキシルホスフィノ−2’−メチル−ビフェニル、2−(ジシクロヘキシルホスフィノ)−2’,4’,6’−トリ−イソプロピル1,1’−ビフェニル、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン、及び1,1’−ビス(ジ−イソプロピルホスフィノ)フェロセン等が挙げられる。かかるホスフィン化合物としては、市販されているものを用いてもよいし公知の方法に準じて製造したものを用いてもよい。ホスフィン化合物の使用量はパラジウム化合物1モルに対して、例えば、0.5モル〜10モルであり、好ましくは1モル〜5モルである。 Examples of the phosphine compound used for the preparation of the paradium catalyst include triphenylphosphine, tris (2-methylphenyl) phosphine, tris (3-methylphenyl) phosphine, tris (4-methylphenyl) phosphine, tris (pentafluorophenyl) phosphine , Tris (4-fluorophenyl) phosphine, tris (2-methoxyphenyl) phosphine, tris (3-methoxyphenyl) phosphine, tris (4-methoxyphenyl) phosphine, tris (2,4,6-trimethylphenyl) phosphine, Tri (3-chlorophenyl) phosphine, tri (4-chlorophenyl) phosphine, tri-n-butylphosphine, tri-tert-butylphosphine, tricyclohexylphosphine, 1,2-diphenylphosphinoethane 1,3-diphenylphosphinopropane, 1,4-diphenylphosphinobutane, 1,2-dicyclohexylphosphinoethane, 1,3-dicyclohexylphosphinopropane, 1,4-dicyclohexylphosphinobutane, 1,2-dimethyl Phosphinoethane, 1,3-dimethylphosphinopropane, 1,4-dimethylphosphinobutane, 1,2-diethylphosphinoethane, 1,3-diethylphosphinopropane, 1,4-diethylphosphinobutane, 1 , 2-diisopropylphosphinoethane, 1,3-diisopropylphosphinopropane, 1,4-diisopropylphosphinobutane, tri-2-furylphosphine, 2- (dicyclohexylphosphino) biphenyl, 2- (di-tert-butyl) Phosphino) biphenyl, 2-di- ert-Butylphosphino-2′-methylbiphenyl, 2- (dicyclohexylphosphino-2′-6′-dimethoxy, 1,1′-biphenyl, 2- (dicyclohexylphosphino) -2 ′-(N, N- Dimethylamino) biphenyl, 2-dicyclohexylphosphino-2′-methyl-biphenyl, 2- (dicyclohexylphosphino) -2 ′, 4 ′, 6′-tri-isopropyl 1,1′-biphenyl, 1,1′- Examples thereof include bis (diphenylphosphino) ferrocene and 1,1′-bis (di-isopropylphosphino) ferrocene, etc. As such phosphine compounds, commercially available ones may be used or according to known methods. The amount of the phosphine compound used is, for example, 0 with respect to 1 mol of the palladium compound. .5 mol to 10 mol, preferably 1 mol to 5 mol.
本縮合反応で用いられるニッケル触媒としては、例えば、ジクロロビス(1,1’−ジフェニルホスフィノフェロセニル)ニッケル(II)、ジクロロビス(ジフェニルホスフィノ)ニッケル(II)、ジクロロニッケル(II)、及びジヨードニッケル(II)が挙げあれる。 Examples of the nickel catalyst used in the condensation reaction include dichlorobis (1,1′-diphenylphosphinoferrocenyl) nickel (II), dichlorobis (diphenylphosphino) nickel (II), dichloronickel (II), and Diiodine nickel (II) may be mentioned.
遷移金属触媒の使用量は化合物(2a)、化合物(3a)又は化合物(4b)1モルに対して、遷移金属原子として、例えば、0.0005モル〜0.5モルである。 The amount of the transition metal catalyst used is, for example, 0.0005 mol to 0.5 mol as a transition metal atom with respect to 1 mol of the compound (2a), the compound (3a) or the compound (4b).
本縮合反応は、反応溶媒存在下で行うことが好ましい。反応溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、及びキシレン等の芳香族炭化水素溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、tert−ブチルメチルエーテル、及びエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、及びN,N−ジメチルアセトアミド等のアミド溶媒、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、並びに、水が挙げられる。反応溶媒は1種を単独で用いてもよいし2種以上を混合して用いてもよい。溶媒は脱気して用いることが好ましい。また、反応で用いる化合物の一部又は全てを反応溶媒に溶解又は懸濁させてから、窒素バブリング等の方法で脱気してもよい。反応溶媒の使用量は、化合物(2a)、化合物(3a)又は化合物(4b)1質量部に対して、例えば、0.5質量部〜200質量部であり、好ましくは2質量部〜100質量部である。 This condensation reaction is preferably performed in the presence of a reaction solvent. Examples of the reaction solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, and xylene, ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, tert-butyl methyl ether, and ethylene glycol dimethyl ether, N, N Amide solvents such as dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, N-methylpyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, and water. A reaction solvent may be used individually by 1 type, and 2 or more types may be mixed and used for it. The solvent is preferably used after deaeration. Alternatively, some or all of the compounds used in the reaction may be dissolved or suspended in the reaction solvent and then degassed by a method such as nitrogen bubbling. The usage-amount of the reaction solvent is 0.5 mass part-200 mass parts with respect to 1 mass part of a compound (2a), a compound (3a), or a compound (4b), Preferably it is 2 mass parts-100 masses. Part.
本縮合反応は、塩基存在下で行うことが好ましい。塩基としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化タリウム、水酸化バリウム、リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、リチウムエトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、ナトリウム−tert−ブトキシド、カリウム−tert−ブトキシド、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸タリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、リン酸ナトリウム、及びリン酸カリウムが用いられる。塩基の使用量は、化合物(2a)、化合物(3a)又は化合物(4b)1モルに対して、少なくとも0.5モル、好ましくは、少なくとも1モルである。 This condensation reaction is preferably performed in the presence of a base. Examples of the base include lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, thallium hydroxide, barium hydroxide, lithium methoxide, sodium methoxide, potassium methoxide, lithium ethoxide, sodium ethoxide, potassium ethoxide, Sodium-tert-butoxide, potassium-tert-butoxide, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, thallium carbonate, cesium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, sodium phosphate, and potassium phosphate are used. The amount of the base to be used is at least 0.5 mol, preferably at least 1 mol, per 1 mol of compound (2a), compound (3a) or compound (4b).
本縮合反応は、相間移動触媒の存在下に行ってもよい。相間移動触媒としては、例えば、テトラアルキルハロゲン化アンモニウム、テトラアルキル硫酸水素アンモニウム、及びテトラアルキル水酸化アンモニウム等の第4級アンモニウム塩を挙げることができ、好ましくは、テトラ−n−ブチルハロゲン化アンモニウム、及びベンジルトリエチルハロゲン化アンモニウムが挙げられる。反応の雰囲気は大気下でも可能であるが、窒素又はアルゴン等の不活性ガス下で行うことが好ましい。 This condensation reaction may be performed in the presence of a phase transfer catalyst. Examples of the phase transfer catalyst include quaternary ammonium salts such as tetraalkyl ammonium halide, tetraalkyl ammonium hydrogen sulfate, and tetraalkyl ammonium hydroxide, preferably tetra-n-butyl ammonium halide. And benzyltriethyl ammonium halide. The reaction atmosphere can be carried out in the air, but it is preferably carried out under an inert gas such as nitrogen or argon.
本縮合反応の反応温度は、例えば、0℃〜150℃の範囲を挙げることができる。本縮合反応の反応時間は、例えば、1分〜96時間の範囲を挙げることができる。本縮合反応終了後、例えば、得られた反応混合物と塩化アンモニウム水溶液とを混合し、必要に応じて水に不溶の有機溶媒を加えて抽出処理をし、得られた有機層を濃縮し、必要に応じてカラムクロマトグラフィー、蒸留、再結晶、及びリサイクルゲルパーミネーションクロマトグラフィー等の精製手段を行うことで、化合物(5)又は化合物(3b)を得ることができる。 The reaction temperature of this condensation reaction can mention the range of 0 to 150 degreeC, for example. The reaction time of this condensation reaction can mention the range of 1 minute-96 hours, for example. After completion of the condensation reaction, for example, the obtained reaction mixture and an aqueous ammonium chloride solution are mixed, and if necessary, an extraction process is performed by adding an organic solvent insoluble in water, and the obtained organic layer is concentrated and necessary. The compound (5) or the compound (3b) can be obtained by performing purification means such as column chromatography, distillation, recrystallization, and recycle gel permeation chromatography according to the above.
工程3A及び工程2Bに用いられる化合物(4a)及び(4b)について説明する。化合物(4a)におけるX2は、上記と同様のものが挙げられ、上記と同様のものが好ましい。化合物(4b)におけるX1は、上記と同様のものが挙げられ、上記と同様のものが好ましい。 The compounds (4a) and (4b) used in Step 3A and Step 2B will be described. Examples of X 2 in the compound (4a) include the same as those described above, and those similar to the above are preferable. Examples of X 1 in the compound (4b) include the same as those described above, and those similar to the above are preferable.
化合物(4a)及び(4b)におけるR11、R12、R13及びR14はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素数6〜30のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数7〜30のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素数5〜30のヘテロアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素数4〜30のヘテロアリール基、又は、−Si(R2)3(R2はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜30のアリール基を示す。)で表される置換シリル基を示す。 R 11 , R 12 , R 13 and R 14 in the compounds (4a) and (4b) are each independently a hydrogen atom, a fluorine atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms or a substituted group. An optionally substituted alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, an optionally substituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms, and an optionally substituted group having 7 to 30 carbon atoms. An aralkyl group, an optionally substituted heteroaralkyl group having 5 to 30 carbon atoms, an optionally substituted heteroaryl group having 4 to 30 carbon atoms, or —Si (R 2 ) 3 (R 2 each independently represents an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent or an aryl group having 6 to 30 carbon atoms which may have a substituent). Represents a substituted silyl group.
本実施形態における炭素数1〜30のアルキル基は、直鎖、分枝鎖、及び環状のいずれでもよい。炭素数1〜30のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、2−エチルヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−ヘキシルオクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、2−ヘキシルデシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基、n−イコシル基、n−ヘンイコシル基、n−ドコシル基、n−トリコシル基、n−テトラコシル基、n−ペンタコシル基、n−ヘキサコシル基、n−ヘプタコシル基、n−オクタコシル基、n−ノナコシル基、n−トリアコンチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、及びシクロヘプチル基等が挙げられ、好ましくは、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、2−エチルヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、2−ヘキシルデシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基、及びn−イコシル基が挙げられ、より好ましくはメチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、2−エチルヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、2−ヘキシルオクチル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、シクロヘキシル基、及びシクロヘプチル基等の炭素数1〜16のアルキル基が挙げられる。 The alkyl group having 1 to 30 carbon atoms in the present embodiment may be any of linear, branched, and cyclic. Specific examples of the alkyl group having 1 to 30 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, s-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, and neopentyl group. N-hexyl group, 2-ethylhexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, 2-hexyloctyl group, n-nonyl group, n-decyl group, 2-hexyldecyl group, n-undecyl group, n- Dodecyl group, n-tridecyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, n-hexadecyl group, n-heptadecyl group, n-octadecyl group, n-nonadecyl group, n-icosyl group, n-henicosyl group, n- Docosyl group, n-tricosyl group, n-tetracosyl group, n-pentacosyl group, n-hexacosyl group, n-heptacosyl group, n-octacosyl group, n-nonakosi Group, n-triacontyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group and the like, preferably methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, s-butyl group, t -Butyl group, n-pentyl group, neopentyl group, n-hexyl group, 2-ethylhexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, 2-hexyldecyl group, n- Examples include undecyl group, n-dodecyl group, n-tridecyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, n-hexadecyl group, n-heptadecyl group, n-octadecyl group, n-nonadecyl group, and n-icosyl group. And more preferably methyl, ethyl, n-propyl, n-butyl, n-pentyl, n-hexyl, cyclohexyl. 2-ethylhexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, n-tridecyl group, 2-hexyloctyl group, n-tetradecyl group C1-C16 alkyl groups, such as a group, n-pentadecyl group, n-hexadecyl group, cyclohexyl group, and cycloheptyl group.
本実施形態における「置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基」が有する置換基としては、フッ素原子、及び炭素数1〜30のアルコキシ基等を挙げることができる。 Examples of the substituent of the “optionally substituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms” in the present embodiment include a fluorine atom and an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms.
本実施形態における「置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基」が有する置換基としては、フッ素原子が好ましい。フッ素原子を有する炭素数1〜30のアルキル基としては、例えば、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロデシル基、パーフルオロドデシル基、及びパーフルオロトリデシル基が挙げられる。 As the substituent that the “optionally substituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms” in the present embodiment has, a fluorine atom is preferable. Examples of the alkyl group having 1 to 30 carbon atoms having a fluorine atom include a perfluorohexyl group, a perfluorooctyl group, a perfluorodecyl group, a perfluorododecyl group, and a perfluorotridecyl group.
本実施形態における炭素数1〜30のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、n−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、n−ウンデシルオキシ基、n−ドデシルオキシ基、n−トリデシルオキシ基、n−テトラデシルオキシ基、n−ペンタデシルオキシ基、n−ヘキサデシルオキシ基、n−ヘプタデシルオキシ基、n−オクタデシルオキシ基、n−ノナデシルオキシ基、n−イコシルオキシ基、n−ヘンイコシルオキシ基、n−ドコシルオキシ基、n−トリコシルオキシ基、n−テトラコシルオキシ基、n−ペンタコシルオキシ基、n−ヘキサコシルオキシ基、n−ヘプタコシルオキシ基、n−オクタコシルオキシ基、n−ノナコシルオキシ基、及びn−トリアコンチルオキシ基を挙げることができる。好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、n−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、n−ウンデシルオキシ基、n−ドデシルオキシ基、n−トリデシルオキシ基、n−テトラデシルオキシ基、n−ペンタデシルオキシ基、n−ヘキサデシルオキシ基、n−ヘプタデシルオキシ基、n−オクタデシルオキシ基、n−ノナデシルオキシ基、及びn−イコシルオキシ基等の炭素数1〜20のアルコキシ基が挙げられる。 Examples of the alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms in the present embodiment include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an n-butoxy group, an n-pentyloxy group, an n-hexyloxy group, and an n-heptyloxy group. , N-octyloxy group, n-nonyloxy group, n-decyloxy group, n-undecyloxy group, n-dodecyloxy group, n-tridecyloxy group, n-tetradecyloxy group, n-pentadecyloxy group N-hexadecyloxy group, n-heptadecyloxy group, n-octadecyloxy group, n-nonadecyloxy group, n-icosyloxy group, n-henicosyloxy group, n-docosyloxy group, n-tricosyloxy group N-tetracosyloxy group, n-pentacosyloxy group, n-hexacosyloxy group, n-heptacosyloxy group Group, n- oct cosyl group, can be exemplified n- Nonakoshiruokishi group, and n- triacontyl group. Preferably, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, n-butoxy group, n-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, n-nonyloxy group, n- Decyloxy group, n-undecyloxy group, n-dodecyloxy group, n-tridecyloxy group, n-tetradecyloxy group, n-pentadecyloxy group, n-hexadecyloxy group, n-heptadecyloxy group , N-octadecyloxy group, n-nonadecyloxy group, n-icosyloxy group, etc., and an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms.
本実施形態における「置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルコキシ基」が有する置換基としては、例えば、フッ素原子、炭素数1〜30のアルコキシ基、炭素数6〜30のアリール基、炭素数7〜30のアラルキル基、炭素数4〜30のヘテロアリール基、及び炭素数5〜30のヘテロアラルキル基を挙げることができる。置換基に含まれる水素原子はフッ素原子に置き換わっていてもよい。 Examples of the substituent of the “optionally substituted alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms” in the present embodiment include a fluorine atom, an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, and an alkyl group having 6 to 30 carbon atoms. Examples thereof include an aryl group, an aralkyl group having 7 to 30 carbon atoms, a heteroaryl group having 4 to 30 carbon atoms, and a heteroaralkyl group having 5 to 30 carbon atoms. The hydrogen atom contained in the substituent may be replaced with a fluorine atom.
本実施形態における「置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルコキシ基」が有する置換基としては、フッ素原子が好ましい。置換基を有する炭素数1〜30のアルコキシ基としては、例えば、パーフルオロヘキシルオキシ基、パーフルオロオクチルオキシ基、パーフルオロデシルオキシ基、パーフルオロドデシルオキシ基、パーフルオロトリデシルオキシ基、及びメトキシエトキシエトキシ基等が挙げられる。 As the substituent that the “optionally substituted alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms” in the present embodiment has, a fluorine atom is preferable. Examples of the alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms having a substituent include, for example, a perfluorohexyloxy group, a perfluorooctyloxy group, a perfluorodecyloxy group, a perfluorododecyloxy group, a perfluorotridecyloxy group, and a methoxy group. An ethoxyethoxy group etc. are mentioned.
本実施形態における「置換基を有していてもよい炭素数6〜30のアリール基」のアリール基としては、単環又は二環のアリール基を挙げることがでる、好ましいアリール基としては、フェニル基、1−ナフチル基、及び2−ナフチル基等を挙げることができる。 As the aryl group of the “aryl group having 6 to 30 carbon atoms which may have a substituent” in the present embodiment, a monocyclic or bicyclic aryl group can be exemplified. A preferred aryl group is phenyl. Group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group and the like.
本実施形態における「置換基を有していてもよい炭素数6〜30のアリール基」が有する置換基としては、例えば、フッ素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアラルキル基、炭素数4〜20のヘテロアリール基、及び炭素数5〜20のヘテロアラルキル基を挙げることができる。置換基に含まれる水素原子はフッ素原子に置き換わっていてもよい。 Examples of the substituent in the “aryl group having 6 to 30 carbon atoms which may have a substituent” in the present embodiment include a fluorine atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and a carbon atom having 1 to 20 carbon atoms. Examples thereof include an alkoxy group, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, a heteroaryl group having 4 to 20 carbon atoms, and a heteroaralkyl group having 5 to 20 carbon atoms. A hydrogen atom contained in the substituent may be replaced with a fluorine atom.
「置換基を有していてもよい炭素数6〜30のアリール基」としては、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、及びパーフルオロフェニル等が好ましい。 As the “optionally substituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms”, a phenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, perfluorophenyl, and the like are preferable.
本実施形態における「置換基を有していてもよい炭素数4〜30のヘテロアリール基」のヘテロアリール基としては、例えば、チエニル基、フリル基、チアゾリル基、チエノ[3,2−b]チエニル基、フロロ[3,2−b]フリル基、チエノ[3,2−b]フリル基、ベンゾ[b]チエニル基、及びベンゾ[b]フリル基等が挙げられる。ヘテロアリール基としては、チエニル基、チアゾリル基、チエノ[3,2−b]チエニル基、ベンゾ[b]チエニル基、及びベンゾ[b]フリル基、より好ましくは、下記化学式
で表わされる基が挙げられる。
Examples of the heteroaryl group of the “optionally substituted heteroaryl group having 4 to 30 carbon atoms” in the present embodiment include a thienyl group, a furyl group, a thiazolyl group, and thieno [3,2-b]. Examples include thienyl group, fluoro [3,2-b] furyl group, thieno [3,2-b] furyl group, benzo [b] thienyl group, and benzo [b] furyl group. As the heteroaryl group, a thienyl group, a thiazolyl group, a thieno [3,2-b] thienyl group, a benzo [b] thienyl group, and a benzo [b] furyl group, more preferably the following chemical formula
The group represented by these is mentioned.
「置換基を有していてもよい炭素数4〜30のヘテロアリール基」の置換基としては、例えば、フッ素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアラルキル基、炭素数4〜30のヘテロアリール基、及び炭素数5〜30のヘテロアラルキル基を挙げることができる。置換基に含まれる水素原子はフッ素原子に置き換わっていてもよい。 Examples of the substituent of the “optionally substituted heteroaryl group having 4 to 30 carbon atoms” include a fluorine atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and carbon. Examples thereof include an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, a heteroaryl group having 4 to 30 carbon atoms, and a heteroaralkyl group having 5 to 30 carbon atoms. The hydrogen atom contained in the substituent may be replaced with a fluorine atom.
「置換基を有していてもよい炭素数4〜30のヘテロアリール基」としては、2−チエニル基、2−チエノ[3,2−b]チエニル基、2−ベンゾ[b]チエニル基、5−フルオロ−2−チエニル基、5−ヘキシル−2−チエニル、及び4−ヘキシルオキシ−2−チエニル基等が好ましい。 Examples of the “optionally substituted heteroaryl group having 4 to 30 carbon atoms” include 2-thienyl group, 2-thieno [3,2-b] thienyl group, 2-benzo [b] thienyl group, 5-fluoro-2-thienyl group, 5-hexyl-2-thienyl, 4-hexyloxy-2-thienyl group and the like are preferable.
本実施形態における「置換基を有していてもよい炭素数7〜30のアラルキル基」のアラルキル基としては、例えば、下記式
(n1は1〜14の整数を示し、n2及びn3は1〜10の整数を示す。)
で表される基が挙げられる。
Examples of the aralkyl group of the “aralkyl group having 7 to 30 carbon atoms which may have a substituent” in the present embodiment include the following formulas:
(N1 shows the integer of 1-14, n2 and n3 show the integer of 1-10.)
The group represented by these is mentioned.
本実施形態における「置換基を有していてもよい炭素数7〜30のアラルキル基」が有する置換基としては、例えば、フッ素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数7〜20のアラルキル基、炭素数4〜20のヘテロアリール基、及び炭素数5〜20のヘテロアラルキル基を挙げることができる。置換基のアルキル基、アルコキシ基、アラルキル基、ヘテロアリール基、及びヘテロアラルキル基に含まれる水素原子はフッ素原子に置き換わっていてもよい。 Examples of the substituent in the “aralkyl group having 7 to 30 carbon atoms which may have a substituent” in the present embodiment include a fluorine atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and a carbon atom having 1 to 20 carbon atoms. Examples thereof include an alkoxy group, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, a heteroaryl group having 4 to 20 carbon atoms, and a heteroaralkyl group having 5 to 20 carbon atoms. The hydrogen atom contained in the substituent alkyl group, alkoxy group, aralkyl group, heteroaryl group, and heteroaralkyl group may be replaced with a fluorine atom.
本実施形態における「置換基を有していてもよい炭素数7〜30のアラルキル基」が有する置換基としては、フッ素原子が好ましい。 As the substituent that the “aralkyl group having 7 to 30 carbon atoms which may have a substituent” in the present embodiment has, a fluorine atom is preferable.
「置換基を有する炭素数7〜30のアラルキル基」としては、例えば、下記式
(n4及びn5は1〜24の整数を示し、n6は1〜23の整数を示す。)
で表される基が挙げられる。
Examples of the “substituted aralkyl group having 7 to 30 carbon atoms” include, for example, the following formula:
(N4 and n5 show the integer of 1-24, n6 shows the integer of 1-23.)
The group represented by these is mentioned.
本実施形態における「置換基を有していてもよい炭素数5〜30のヘテロアラルキル基」のヘテロアラルキル基とは、アラルキル基の芳香環に含まれる炭素原子の少なくとも1つが、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、及びセレン原子等の複素原子に置き換えられた基を意味し、ヘテロアラルキル基としては、例えば、下記式
(n4は1〜26の整数を示し、n5は1〜24の整数を示し、n6は1〜22の整数を示す。)
で表されるヘテロアラルキル基を挙げることができる。
In the present embodiment, the heteroaralkyl group of the “heteroaralkyl group having 5 to 30 carbon atoms which may have a substituent” means that at least one carbon atom contained in the aromatic ring of the aralkyl group is a nitrogen atom, oxygen A group substituted by a hetero atom such as an atom, a sulfur atom, and a selenium atom means a heteroaralkyl group, for example,
(N4 represents an integer of 1 to 26, n5 represents an integer of 1 to 24, and n6 represents an integer of 1 to 22.)
The heteroaralkyl group represented by these can be mentioned.
ヘテロアラルキル基は、さらに好ましくは、下記式
(n4は1〜26の整数を示し、n5は1〜24の整数を示し、n6は1〜22の整数を示す。)
で表される基である。
More preferably, the heteroaralkyl group is represented by the following formula:
(N4 represents an integer of 1 to 26, n5 represents an integer of 1 to 24, and n6 represents an integer of 1 to 22.)
It is group represented by these.
本実施形態における「置換基を有していてもよい炭素数5〜30のヘテロアラルキル基」の置換基としては、例えば、フッ素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数7〜30のアラルキル基、炭素数4〜30のヘテロアリール基及び炭素数5〜20のヘテロアラルキル基を挙げることができる。置換基に含まれる水素原子はフッ素原子に置き換わっていてもよい。 Examples of the substituent of the “optionally substituted heteroaralkyl group having 5 to 30 carbon atoms” in the present embodiment include a fluorine atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Examples thereof include an alkoxy group, an aralkyl group having 7 to 30 carbon atoms, a heteroaryl group having 4 to 30 carbon atoms, and a heteroaralkyl group having 5 to 20 carbon atoms. The hydrogen atom contained in the substituent may be replaced with a fluorine atom.
「置換基を有していてもよい炭素数5〜30のヘテロアラルキル基」の置換基としては、フッ素原子が好ましい。「置換基を有していてもよい炭素数5〜30のヘテロアラルキル基」としては、例えば、下記式
(n4は1〜26の整数を示し、n5は1〜24の整数を示し、n6は1〜22の整数を示す。)
で表される基を挙げることができる。
As the substituent of the “optionally substituted heteroaralkyl group having 5 to 30 carbon atoms”, a fluorine atom is preferable. As the “optionally substituted heteroaralkyl group having 5 to 30 carbon atoms”, for example, the following formula
(N4 represents an integer of 1 to 26, n5 represents an integer of 1 to 24, and n6 represents an integer of 1 to 22.)
The group represented by these can be mentioned.
本実施形態における置換シリル基とは、下記式
−Si(R2)3
(式中、R2はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜30のアリール基を示す。)
で表される基である。ここで、置換シリル基におけるケイ素原子に結合している3つのアルキル基又はアリール基の炭素数の合計は3〜30である。該アルキル基又は該アリール基1個の炭素数は最大で28である。該アルキル基又は該アリール基の水素原子の一部又は全部がフッ素原子に置き換わっていてもよい。
The substituted silyl group in the present embodiment is represented by the following formula: —Si (R 2 ) 3
(In the formula, each R 2 independently represents an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent or an aryl group having 6 to 30 carbon atoms which may have a substituent.)
It is group represented by these. Here, the total number of carbon atoms of the three alkyl groups or aryl groups bonded to the silicon atom in the substituted silyl group is 3 to 30. The alkyl group or the aryl group has a maximum of 28 carbon atoms. Some or all of the hydrogen atoms of the alkyl group or aryl group may be replaced by fluorine atoms.
置換シリル基の具体例としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ(i−プロピル)シリル基、t−ブチルジメチルシリル基、ジメチルヘキシルシリル基、及びジメチルドデシルシリル基が挙げられる。 Specific examples of the substituted silyl group include trimethylsilyl group, triethylsilyl group, tri (i-propyl) silyl group, t-butyldimethylsilyl group, dimethylhexylsilyl group, and dimethyldodecylsilyl group.
化合物(4a)としては、R11、R12、R13、R14及びX2が表7〜表23に例示される組み合わせである番号(4a−1)〜(4a−280)の化合物を挙げることができる。 Examples of the compound (4a) include compounds of numbers (4a-1) to (4a-280) in which R 11 , R 12 , R 13 , R 14 and X 2 are combinations exemplified in Tables 7 to 23. be able to.
好ましい化合物(4a)としては、表7〜23に記載された番号が(4a−1)、(4a−2)、(4a−3)、(4a−6)、(4a−8)、(4a−11)、(4a−13)、(4a−15)、(4a−16)、(4a−17)、(4a−20)、(4a−21)、(4a−24)、(4a−26)、(4a−29)、(4a−32)、(4a−42)、(4a−43)、(4a−44)、(4a−45)、(4a−46)、(4a−47)、(4a−48)、(4a−49)、(4a−50)、(4a−51)、(4a−52)、(4a−54)、(4a−56)、(4a−57)、(4a−59)、(4a−60)、(4a−61)、(4a−62)、(4a−63)、(4a−64)、(4a−65)、(4a−66)、(4a−67)、(4a−68)、(4a−69)、(4a−70)、(4a−71)、(4a−72)、(4a−73)、(4a−74)、(4a−75)、(4a−76)、(4a−77)、(4a−78)、(4a−79)、(4a−80)、(4a−81)、(4a−83)、(4a−84)、(4a−85)、(4a−86)、(4a−87)、(4a−88)、(4a−92)、(4a−95)、(4a−96)、(4a−97)、(4a−98)、(4a−99)、(4a−100)、(4a−101)、(4a−103)、(4a−104)、(4a−105)、(4a−107)、(4a−109)、(4a−110)、(4a−112)、(4a−114)、(4a−124)、(4a−128)、(4a−129)、(4a−134)、(4a−135)、(4a−137)、(4a−138)、(4a−139)、(4a−143)、(4a−147)、(4a−149)、(4a−151)、(4a−156)、(4a−159)、(4a−164)、(4a−169)、(4a−177)、(4a−196)、(4a−197)、(4a−198)、(4a−201)、(4a−203)、(4a−205)、(4a−207)、(4a−208)、(4a−210)、(4a−219)、(4a−225)、(4a−228)、(4a−234)、(4a−235)、(4a−237)、(4a−239)、(4a−246)、(4a−249)、(4a−251)、(4a−253)、(4a−259)、(4a−269)、(4a−270)、(4a−271)、(4a−272)、(4a−274)、(4a−276)、(4a−278)、又は(4a−280)である化合物が挙げられる。 As a preferable compound (4a), the numbers described in Tables 7 to 23 are (4a-1), (4a-2), (4a-3), (4a-6), (4a-8), (4a -11), (4a-13), (4a-15), (4a-16), (4a-17), (4a-20), (4a-21), (4a-24), (4a-26) ), (4a-29), (4a-32), (4a-42), (4a-43), (4a-44), (4a-45), (4a-46), (4a-47), (4a-48), (4a-49), (4a-50), (4a-51), (4a-52), (4a-54), (4a-56), (4a-57), (4a -59), (4a-60), (4a-61), (4a-62), (4a-63), (4a-64), (4a-65), (4a-66), (4a- 7), (4a-68), (4a-69), (4a-70), (4a-71), (4a-72), (4a-73), (4a-74), (4a-75) , (4a-76), (4a-77), (4a-78), (4a-79), (4a-80), (4a-81), (4a-83), (4a-84), ( 4a-85), (4a-86), (4a-87), (4a-88), (4a-92), (4a-95), (4a-96), (4a-97), (4a- 98), (4a-99), (4a-100), (4a-101), (4a-103), (4a-104), (4a-105), (4a-107), (4a-109) , (4a-110), (4a-112), (4a-114), (4a-124), (4a-128), (4a-129), (4a- 34), (4a-135), (4a-137), (4a-138), (4a-139), (4a-143), (4a-147), (4a-149), (4a-151) (4a-156), (4a-159), (4a-164), (4a-169), (4a-177), (4a-196), (4a-197), (4a-198), ( 4a-201), (4a-203), (4a-205), (4a-207), (4a-208), (4a-210), (4a-219), (4a-225), (4a- 228), (4a-234), (4a-235), (4a-237), (4a-239), (4a-246), (4a-249), (4a-251), (4a-253) , (4a-259), (4a-269), (4a-270), (4a-2 71), (4a-272), (4a-274), (4a-276), (4a-278), or (4a-280).
化合物(4a)は、さらに好ましくは、表7〜23に記載された番号が(4a−1)、(4a−2)、(4a−3)、(4a−6)、(4a−42)、(4a−43)、(4a−44)、(4a−45)、(4a−46)、(4a−47)、(4a−48)、(4a−49)、(4a−50)、(4a−51)、(4a−52)、(4a−54)、(4a−56)、(4a−57)、(4a−59)、(4a−64)、(4a−73)、(4a−78)、(4a−80)、(4a−92)、(4a−95)、(4a−101)、(4a−103)、(4a−104)、(4a−105)、(4a−107)、(4a−109)、(4a−110)、(4a−112)、(4a−114)、(4a−124)、(4a−128)、(4a−129)、(4a−156)、(4a−196)、(4a−197)、(4a−269)、(4a−272)、(4a−274)、又は(4a−276)である化合物から選ばれる。 More preferably, the compound (4a) has the numbers described in Tables 7 to 23 as (4a-1), (4a-2), (4a-3), (4a-6), (4a-42), (4a-43), (4a-44), (4a-45), (4a-46), (4a-47), (4a-48), (4a-49), (4a-50), (4a -51), (4a-52), (4a-54), (4a-56), (4a-57), (4a-59), (4a-64), (4a-73), (4a-78) ), (4a-80), (4a-92), (4a-95), (4a-101), (4a-103), (4a-104), (4a-105), (4a-107), (4a-109), (4a-110), (4a-112), (4a-114), (4a-124), (4a-128), (4a-12) ), (4a-156), (4a-196), (4a-197), (4a-269), (4a-272), (4a-274), or (4a-276). .
化合物(4b)としては、R11、R12、R13、R14及びX1が表24〜表38に例示される組み合わせである番号(4b−1)〜(4b−251)の化合物を挙げることができる。 Examples of the compound (4b) include compounds of numbers (4b-1) to (4b-251) in which R 11 , R 12 , R 13 , R 14 and X 1 are combinations exemplified in Tables 24 to 38. be able to.
好ましい化合物(4b)としては、表24〜38に記載された番号が(4b−1)、(4b−2)、(4b−3)、(4b−6)、(4b−8)、(4b−10)、(4b−11)、(4b−13)、(4b−15)、(4b−16)、(4b−17)、(4b−20)、(4b−21)、(4b−24)、(4b−26)、(4b−29)、(4b−32)、(4b−42)、(4b−43)、(4b−44)、(4b−45)、(4b−46)、(4b−47)、(4b−48)、(4b−49)、(4b−50)、(4b−51)、(4b−52)、(4b−53)、(4b−54)、(4b−55)、(4b−56)、(4b−57)、(4b−59)、(4b−60)、(4b−61)、(4b−62)、(4b−63)、(4b−64)、(4b−65)、(4b−66)、(4b−67)、(4b−68)、(4b−69)、(4b−70)、(4b−71)、(4b−72)、(4b−73)、(4b−74)、(4b−75)、(4b−76)、(4b−77)、(4b−78)、(4b−79)、(4b−80)、(4b−81)、(4b−82)、(4b−83)、(4b−84)、(4b−85)、(4b−86)、(4b−87)、(4b−88)、(4b−92)、(4b−95)、(4b−96)、(4b−97)、(4b−99)、(4b−100)、(4b−101)、(4b−103)、(4b−105)、(4b−106)、(4b−107)、(4b−108)、(4b−110)、(4b−114)、(4b−115)、(4b−118)、(4b−119)、(4b−121)、(4b−122)、(4b−127)、(4b−129)、(4b−130)、(4b−135)、(4b−139)、(4b−140)、(4b−148)、(4b−158)、(4b−165)、(4b−166)、(4b−167)、(4b−168)、(4b−169)、(4b−171)、(4b−172)、(4b−173)、(4b−174)、(4b−176)、(4b−177)、(4b−178)、(4b−182)、(4b−183)、(4b−185)、(4b−187)、(4b−188)、(4b−190)、(4b−195)、(4b−199)、(4b−205)、(4b−207)、(4b−208)、(4b−210)、(4b−211)、(4b−214)、(4b−217)、(4b−219)、(4b−220)、(4b−221)、(4b−223)、(4b−224)、(4b−225)、(4b−227)、(4b−228)、(4b−229)、(4b−233)、(4b−234)、(4b−240)、(4b−241)、(4b−242)、(4b−243)、(4b−245)、(4b−247)、(4b−248)、(4b−249)、又は(4b−251)である化合物が挙げられる。 As a preferable compound (4b), the numbers described in Tables 24-38 are (4b-1), (4b-2), (4b-3), (4b-6), (4b-8), (4b -10), (4b-11), (4b-13), (4b-15), (4b-16), (4b-17), (4b-20), (4b-21), (4b-24) ), (4b-26), (4b-29), (4b-32), (4b-42), (4b-43), (4b-44), (4b-45), (4b-46), (4b-47), (4b-48), (4b-49), (4b-50), (4b-51), (4b-52), (4b-53), (4b-54), (4b -55), (4b-56), (4b-57), (4b-59), (4b-60), (4b-61), (4b-62), (4b-63), (4b 64), (4b-65), (4b-66), (4b-67), (4b-68), (4b-69), (4b-70), (4b-71), (4b-72) , (4b-73), (4b-74), (4b-75), (4b-76), (4b-77), (4b-78), (4b-79), (4b-80), ( 4b-81), (4b-82), (4b-83), (4b-84), (4b-85), (4b-86), (4b-87), (4b-88), (4b- 92), (4b-95), (4b-96), (4b-97), (4b-99), (4b-100), (4b-101), (4b-103), (4b-105) , (4b-106), (4b-107), (4b-108), (4b-110), (4b-114), (4b-115), (4b-11) ), (4b-119), (4b-121), (4b-122), (4b-127), (4b-129), (4b-130), (4b-135), (4b-139), (4b-140), (4b-148), (4b-158), (4b-165), (4b-166), (4b-167), (4b-168), (4b-169), (4b -171), (4b-172), (4b-173), (4b-174), (4b-176), (4b-177), (4b-178), (4b-182), (4b-183) ), (4b-185), (4b-187), (4b-188), (4b-190), (4b-195), (4b-199), (4b-205), (4b-207), (4b-208), (4b-210), (4b-211), (4b-214) ), (4b-217), (4b-219), (4b-220), (4b-221), (4b-223), (4b-224), (4b-225), (4b-227), (4b-228), (4b-229), (4b-233), (4b-234), (4b-240), (4b-241), (4b-242), (4b-243), (4b -245), (4b-247), (4b-248), (4b-249), or (4b-251).
化合物(4b)は、さらに好ましくは、表24〜38に記載された番号が(4b−1)、(4b−2)、(4b−3)、(4b−6)、(4b−42)、(4b−43)、(4b−44)、(4b−45)、(4b−46)、(4b−47)、(4b−48)、(4b−49)、(4b−50)、(4b−51)、(4b−52)、(4b−54)、(4b−56)、(4b−57)、(4b−59)、(4b−64)、(4b−73)、(4b−78)、(4b−92)、(4b−95)、(4b−118)、(4b−165)、(4b−166)、(4b−167)、(4b−168)、(4b−185)、(4b−205)、(4b−207)、(4b−208)、(4b−210)、(4b−243)、(4b−245)、又は(4b−247)である化合物から選ばれる。 More preferably, the compound (4b) has the numbers described in Tables 24-38 as (4b-1), (4b-2), (4b-3), (4b-6), (4b-42), (4b-43), (4b-44), (4b-45), (4b-46), (4b-47), (4b-48), (4b-49), (4b-50), (4b -51), (4b-52), (4b-54), (4b-56), (4b-57), (4b-59), (4b-64), (4b-73), (4b-78) ), (4b-92), (4b-95), (4b-118), (4b-165), (4b-166), (4b-167), (4b-168), (4b-185), (4b-205), (4b-207), (4b-208), (4b-210), (4b-243), (4b-245), or (4 Selected from -247) compounds wherein.
工程2B又は工程2Cで得られる化合物(3b)について説明する。化合物(3b)における、Z1、Z2、R1、R11、R12、R13及びR14としては、上記と同様のものが挙げられ、上記と同様のものが好ましい。工程2B又は工程2Cで得られる化合物(3b)としては、R1、Z1、Z2、R11、R12、R13及びR14が表39〜表60に例示される組み合わせである番号(3b−1)〜(3b−445)の化合物を挙げることができる。 The compound (3b) obtained in Step 2B or Step 2C will be described. Examples of Z 1 , Z 2 , R 1 , R 11 , R 12 , R 13 and R 14 in the compound (3b) include the same as those described above, and those similar to the above are preferable. As the compound (3b) obtained in Step 2B or Step 2C, R 1 , Z 1 , Z 2 , R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are numbers that are combinations exemplified in Table 39 to Table 60 ( The compounds of 3b-1) to (3b-445) can be mentioned.
工程2B又は工程2Cで得られる化合物(3b)としては、さらに、下記番号(3b−446)〜(3b−452)の化合物を挙げることができる。 As the compound (3b) obtained in Step 2B or Step 2C, the following compounds (3b-446) to (3b-452) can be further exemplified.
化合物(3b)として、好ましくは、番号が(3b−1)、(3b−2)、(3b−3)、(3b−5)、(3b−6)、(3b−8)、(3b−10)、(3b−16)、(3b−17)、(3b−18)、(3b−24)、(3b−28)、(3b−31)、(3b−35)、(3b−37)、(3b−41)、(3b−42)、(3b−49)、(3b−51)、(3b−52)、(3b−56)、(3b−57)、(3b−58)、(3b−68)、(3b−73)、(3b−81)、(3b−82)、(3b−83)、(3b−84)、(3b−85)、(3b−86)、(3b−87)、(3b−88)、(3b−89)、(3b−90)、(3b−91)、(3b−93)、(3b−94)、(3b−95)、(3b−96)、(3b−98)、(3b−101)、(3b−103)、(3b−107)、(3b−108)、(3b−110)、(3b−112)、(3b−113)、(3b−114)、(3b−122)、(3b−127)、(3b−137)、(3b−140)、(3b−142)、(3b−148)、(3b−150)、(3b−159)、(3b−160)、(3b−161)、(3b−166)、(3b−167)、(3b−177)、(3b−178)、(3b−181)、(3b−184)、(3b−186)、(3b−202)、(3b−203)、(3b−207)、(3b−212)、(3b−213)、(3b−223)、(3b−225)、(3b−228)、(3b−230)、(3b−239)、(3b−243)、(3b−246)、(3b−248)、(3b−257)、(3b−260)、(3b−269)、(3b−271)、(3b−279)、(3b−291)、(3b−298)、(3b−299)、(3b−300)、(3b−302)、(3b−308)、(3b−314)、(3b−320)、(3b−321)、(3b−325)、(3b−327)、(3b−331)、(3b−332)、(3b−334)、(3b−341)、(3b−344)、(3b−350)、(3b−362)、(3b−375)、(3b−376)、(3b−380)、(3b−381)、(3b−390)、(3b−393)、(3b−394)、(3b−398)、(3b−399)、(3b−404)、(3b−410)、(3b−416)、(3b−434)、(3b−435)、(3b−436)、(3b−437)、(3b−439)、(3b−441)、(3b−442)、(3b−443)、又は(3b−445)である化合物が挙げられる。 As the compound (3b), the numbers (3b-1), (3b-2), (3b-3), (3b-5), (3b-6), (3b-8), (3b- 10), (3b-16), (3b-17), (3b-18), (3b-24), (3b-28), (3b-31), (3b-35), (3b-37) , (3b-41), (3b-42), (3b-49), (3b-51), (3b-52), (3b-56), (3b-57), (3b-58), ( 3b-68), (3b-73), (3b-81), (3b-82), (3b-83), (3b-84), (3b-85), (3b-86), (3b- 87), (3b-88), (3b-89), (3b-90), (3b-91), (3b-93), (3b-94), (3b-95), (3b-96) (3b-98), (3b-101), (3b-103), (3b-107), (3b-108), (3b-110), (3b-112), (3b-113), (3b -114), (3b-122), (3b-127), (3b-137), (3b-140), (3b-142), (3b-148), (3b-150), (3b-159) ), (3b-160), (3b-161), (3b-166), (3b-167), (3b-177), (3b-178), (3b-181), (3b-184), (3b-186), (3b-202), (3b-203), (3b-207), (3b-212), (3b-213), (3b-223), (3b-225), (3b -228), (3b-230), (3b-239), (3b-243), 3b-246), (3b-248), (3b-257), (3b-260), (3b-269), (3b-271), (3b-279), (3b-291), (3b- 298), (3b-299), (3b-300), (3b-302), (3b-308), (3b-314), (3b-320), (3b-321), (3b-325) , (3b-327), (3b-331), (3b-332), (3b-334), (3b-341), (3b-344), (3b-350), (3b-362), ( 3b-375), (3b-376), (3b-380), (3b-380), (3b-390), (3b-393), (3b-394), (3b-398), (3b- 399), (3b-404), (3b-410), (3b-416), ( 3b-434), (3b-435), (3b-436), (3b-437), (3b-439), (3b-441), (3b-442), (3b-443), or (3b -445).
化合物(3b)は、さらに好ましくは、番号が(3b−1)、(3b−2)、(3b−5)、(3b−6)、(3b−17)、(3b−18)、(3b−35)、(3b−37)、(3b−81)、(3b−82)、(3b−83)、(3b−84)、(3b−85)、(3b−86)、(3b−87)、(3b−89)、(3b−90)、(3b−93)、(3b−96)、(3b−98)、(3b−103)、(3b−112)、(3b−140)、(3b−142)、(3b−148)、(3b−150)、(3b−159)、(3b−167)、(3b−177)、(3b−178)、(3b−181)、(3b−184)、(3b−202)、(3b−203)、(3b−207)、(3b−223)、(3b−225)、(3b−230)、(3b−239)、(3b−298)、(3b−299)、(3b−300)、(3b−302)、(3b−308)、(3b−325)、(3b−327)、(3b−331)、(3b−332)、(3b−375)、(3b−376)、(3b−380)、(3b−381)、(3b−399)、(3b−437)、(3b−439)、又は(3b−441)である化合物から選ばれる。 More preferably, the compound (3b) has the numbers (3b-1), (3b-2), (3b-5), (3b-6), (3b-17), (3b-18), (3b -35), (3b-37), (3b-81), (3b-82), (3b-83), (3b-84), (3b-85), (3b-86), (3b-87) ), (3b-89), (3b-90), (3b-93), (3b-96), (3b-98), (3b-103), (3b-112), (3b-140), (3b-142), (3b-148), (3b-150), (3b-159), (3b-167), (3b-177), (3b-178), (3b-181), (3b -184), (3b-202), (3b-203), (3b-207), (3b-223), (3b-225), (3b 230), (3b-239), (3b-298), (3b-299), (3b-300), (3b-302), (3b-308), (3b-325), (3b-327) , (3b-331), (3b-332), (3b-375), (3b-376), (3b-380), (3b-381), (3b-399), (3b-437), ( 3b-439) or (3b-441).
化合物(3b)の異なる製造方法として、式(4)
で表される化合物(以下、「化合物(4)」と記すことがある)にアルキルリチウムを反応させる第I’工程と、第I’工程で得られた反応生成物をアルキルスルフィド化する第II’工程とを含む方法を挙げることができる。
As a different production method of the compound (3b), a compound represented by formula (4)
Step I ′ in which alkyllithium is reacted with a compound represented by the formula (hereinafter sometimes referred to as “compound (4)”), and Step II in which the reaction product obtained in Step I ′ is alkylsulfided. And a method including a process.
式(4)中のZ2、R11、R12、R13及びR14は、既に挙げた各化学式中の符号と同様である。X5はそれぞれ独立にハロゲン原子であり、好ましくは臭素原子又はヨウ素原子である。 Z 2 , R 11 , R 12 , R 13 and R 14 in the formula (4) are the same as the symbols in the chemical formulas already mentioned. X 5 is each independently a halogen atom, preferably a bromine atom or an iodine atom.
この方法による化合物(3b)の製造は、具体的には、化合物(1a)にアルキルリチウムを反応させる第I工程と、第I工程で得られた反応生成物をアルキルスルフィド化する第II工程を含む化合物(1)の調製方法と同様の条件で行えばよい。 Specifically, the production of the compound (3b) by this method comprises the step I of reacting the compound (1a) with alkyllithium and the step II of alkylsulfating the reaction product obtained in the step I. What is necessary is just to perform on the conditions similar to the preparation method of the compound (1) containing.
前項には第II工程として硫黄を用いた場合を例示したが、前項及び後述する第II’工程の説明に記載された硫黄は、セレンに置き換えてもよい。 Although the case where sulfur was used as the step II was exemplified in the previous item, the sulfur described in the previous item and the description of the step II 'described later may be replaced with selenium.
第II’工程としては、第II工程と同様に、例えば、第I’工程で得られた反応生成物に、ジアルキルジスルフィドを反応させる工程(以下、(I’)工程と記すことがある。)、並びに、第I’工程で得られた反応生成物に、硫黄を反応させた後、ハロゲン化アルキル(11)を反応させる工程(以下、(II’)工程と記すことがある。)等を挙げることができる。 As step II ′, as in step II, for example, a reaction product obtained in step I ′ is reacted with a dialkyl disulfide (hereinafter sometimes referred to as (I ′) step). In addition, a step of reacting the reaction product obtained in the step I ′ with sulfur and then reacting with an alkyl halide (11) (hereinafter sometimes referred to as a step (II ′)), and the like. Can be mentioned.
化合物(4)の好ましい具体例としては、R11、R12、R13、R14及びX5が表61〜表75に例示される組み合わせである番号(4−1)〜(4−251)の化合物を挙げることができる。 Preferable specific examples of compound (4) include numbers (4-1) to (4-251) in which R 11 , R 12 , R 13 , R 14 and X 5 are combinations exemplified in Tables 61 to 75. Can be mentioned.
化合物(4)として、好ましくは、番号が(4−1)、(4−2)、(4−3)、(4−6)、(4−8)、(4−10)、(4−11)、(4−13)、(4−15)、(4−16)、(4−17)、(4−20)、(4−21)、(4−24)、(4−26)、(4−29)、(4−32)、(4−42)、(4−43)、(4−44)、(4−45)、(4−46)、(4−47)、(4−48)、(4−49)、(4−50)、(4−51)、(4−52)、(4−53)、(4−54)、(4−55)、(4−56)、(4−57)、(4−59)、(4−60)、(4−61)、(4−62)、(4−63)、(4−64)、(4−65)、(4−66)、(4−67)、(4−68)、(4−69)、(4−70)、(4−71)、(4−72)、(4−73)、(4−74)、(4−75)、(4−76)、(4−77)、(4−78)、(4−79)、(4−80)、(4−81)、(4−82)、(4−83)、(4−84)、(4−85)、(4−86)、(4−87)、(4−88)、(4−92)、(4−95)、(4−96)、(4−97)、(4−99)、(4−100)、(4−101)、(4−103)、(4−105)、(4−106)、(4−107)、(4−108)、(4−110)、(4−114)、(4−115)、(4−118)、(4−119)、(4−121)、(4−122)、(4−127)、(4−129)、(4−130)、(4−135)、(4−139)、(4−140)、(4−148)、(4−158)、(4−165)、(4−166)、(4−167)、(4−168)、(4−169)、(4−171)、(4−172)、(4−173)、(4−174)、(4−176)、(4−177)、(4−178)、(4−182)、(4−183)、(4−185)、(4−187)、(4−188)、(4−190)、(4−195)、(4−199)、(4−205)、(4−207)、(4−208)、(4−210)、(4−211)、(4−214)、(4−217)、(4−219)、(4−220)、(4−221)、(4−223)、(4−224)、(4−225)、(4−227)、(4−228)、(4−229)、(4−233)、(4−234)、(4−240)、(4−241)、(4−242)、(4−243)、(4−245)、(4−247)、(4−248)、(4−249)、又は(4−251)である化合物が挙げられる。 As the compound (4), the numbers (4-1), (4-2), (4-3), (4-6), (4-8), (4-10), (4- 11), (4-13), (4-15), (4-16), (4-17), (4-20), (4-21), (4-24), (4-26) , (4-29), (4-32), (4-42), (4-43), (4-44), (4-45), (4-46), (4-47), ( 4-48), (4-49), (4-50), (4-51), (4-52), (4-53), (4-54), (4-55), (4- 56), (4-57), (4-59), (4-60), (4-61), (4-62), (4-63), (4-64), (4-65) , (4-66), (4-67), (4-68), (4-69), (4-70), (4-7) ), (4-72), (4-73), (4-74), (4-75), (4-76), (4-77), (4-78), (4-79), (4-80), (4-81), (4-82), (4-83), (4-84), (4-85), (4-86), (4-87), (4 -88), (4-92), (4-95), (4-96), (4-97), (4-99), (4-100), (4-101), (4-103) ), (4-105), (4-106), (4-107), (4-108), (4-110), (4-114), (4-115), (4-118), (4-119), (4-121), (4-122), (4-127), (4-129), (4-130), (4-135), (4-139), (4 -140), (4-148), (4-158), 4-165), (4-166), (4-167), (4-168), (4-169), (4-171), (4-172), (4-173), (4- 174), (4-176), (4-177), (4-178), (4-182), (4-183), (4-185), (4-187), (4-188) , (4-190), (4-195), (4-199), (4-205), (4-207), (4-208), (4-210), (4-211), ( 4-214), (4-217), (4-219), (4-220), (4-221), (4-223), (4-224), (4-225), (4- 227), (4-228), (4-229), (4-233), (4-234), (4-240), (4-241), (4-242), (4-243) ), (4-245), (4-247), (4-248), (4-249), or (4-251).
化合物(4)は、更に好ましくは、番号が(4−1)、(4−2)、(4−3)、(4−6)、(4−42)、(4−43)、(4−44)、(4−45)、(4−46)、(4−47)、(4−48)、(4−49)、(4−50)、(4−51)、(4−52)、(4−54)、(4−56)、(4−57)、(4−59)、(4−64)、(4−73)、(4−78)、(4−92)、(4−95)、(4−118)、(4−165)、(4−166)、(4−167)、(4−168)、(4−185)、(4−205)、(4−207)、(4−208)、(4−210)、(4−243)、(4−245)、又は(4−247)である化合物から選ばれる。 More preferably, the compound (4) has the numbers (4-1), (4-2), (4-3), (4-6), (4-42), (4-43), (4 -44), (4-45), (4-46), (4-47), (4-48), (4-49), (4-50), (4-51), (4-52) ), (4-54), (4-56), (4-57), (4-59), (4-64), (4-73), (4-78), (4-92), (4-95), (4-118), (4-165), (4-166), (4-167), (4-168), (4-185), (4-205), (4 -207), (4-208), (4-210), (4-243), (4-245), or (4-247).
化合物(4)は、例えば、式(3)
で表される化合物(以下、「化合物(3)」と記すことがある)にハロゲン化剤を反応させる工程を含む方法によって得ることができる。当該工程の具体的な方法としては、工程1Aにおける化合物(1)に代えて化合物(3)を用いること以外は、工程1Aのハロゲン化剤を用いる方法と同様に行えばよい。式(3)中、Z2、R11、R12、R13及びR14は式(4)と同義である。
Compound (4) is represented, for example, by the formula (3)
It can obtain by the method including the process of making a halogenating agent react with the compound (henceforth "compound (3)") represented. A specific method for this step may be the same as the method using the halogenating agent in Step 1A, except that Compound (3) is used instead of Compound (1) in Step 1A. In formula (3), Z 2 , R 11 , R 12 , R 13 and R 14 have the same meaning as in formula (4).
化合物(3)は、例えば、式(1c)
で表される化合物(以下、化合物(1c)と記すことがある)と式(4a)
で表される化合物(化合物(4a))とを縮合する工程を含む方法によって得ることができる。当該工程の具体的な方法としては、上述の工程3Aにおける、化合物(3a)に代えて化合物(1c)を用い、化合物(5)に代えて化合物(3)を得ること以外は、工程3Aと同様に行えばよい。式中、Z2、X1、X2、R11、R12、R13及びR14は、上記各式と同義である。
Compound (3) is represented, for example, by the formula (1c)
A compound represented by the formula (hereinafter sometimes referred to as compound (1c)) and formula (4a)
It can obtain by the method including the process of condensing with the compound (compound (4a)) represented by these. As a specific method of this step, Step 3A and Step 3A are used except that Compound (1c) is used instead of Compound (3a) in Step 3A and that Compound (3) is obtained instead of Compound (5). The same may be done. In the formula, Z 2 , X 1 , X 2 , R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are as defined above.
化合物(3)としては、番号(4−1)〜(4−251)の化合物(4)のX5が水素原子に置換された化合物を例示することができる。 Examples of the compound (3) include compounds in which X 5 in the compounds (4) of the numbers (4-1) to (4-251) is substituted with a hydrogen atom.
工程3A又は工程3Bで得られる化合物(5)、すなわち、工程4に用いられる化合物(5)について説明する。化合物(5)における、Z1、Z2、R1、R11、R12、R13及びR14としては、上記と同様のものが挙げられ、上記と同様のものが好ましい。化合物(5)において、2つのR12は互いに同一であることが好ましい。化合物(5)としては、表76〜97に例示される番号(5−1)〜(5−445)の化合物を挙げることができる。 The compound (5) obtained in Step 3A or Step 3B, that is, the compound (5) used in Step 4 will be described. Examples of Z 1 , Z 2 , R 1 , R 11 , R 12 , R 13 and R 14 in the compound (5) include the same as those described above, and those similar to the above are preferable. In the compound (5), two R 12 are preferably the same as each other. Examples of the compound (5) include compounds of numbers (5-1) to (5-445) exemplified in Tables 76 to 97.
化合物(5)としては、さらに、下記化学式で表わされる番号(5−446)〜(5−452)の化合物を挙げることができる。 As the compound (5), compounds of numbers (5-446) to (5-452) represented by the following chemical formulas can be further exemplified.
化合物(5)として、好ましくは、表76〜97に記載の番号が(5−1)、(5−2)、(5−3)、(5−5)、(5−6)、(5−8)、(5−10)、(5−16)、(5−17)、(5−18)、(5−24)、(5−28)、(5−31)、(5−35)、(5−37)、(5−41)、(5−42)、(5−49)、(5−51)、(5−52)、(5−56)、(5−57)、(5−58)、(5−68)、(5−73)、(5−81)、(5−82)、(5−83)、(5−84)、(5−85)、(5−86)、(5−87)、(5−88)、(5−89)、(5−90)、(5−91)、(5−93)、(5−94)、(5−95)、(5−96)、(5−98)、(5−101)、(5−103)、(5−107)、(5−108)、(5−110)、(5−112)、(5−113)、(5−114)、(5−122)、(5−127)、(5−137)、(5−140)、(5−142)、(5−148)、(5−150)、(5−159)、(5−160)、(5−161)、(5−166)、(5−167)、(5−177)、(5−178)、(5−181)、(5−184)、(5−186)、(5−202)、(5−203)、(5−207)、(5−212)、(5−213)、(5−223)、(5−225)、(5−228)、(5−230)、(5−239)、(5−243)、(5−246)、(5−248)、(5−257)、(5−260)、(5−269)、(5−271)、(5−279)、(5−291)、(5−298)、(5−299)、(5−300)、(5−302)、(5−308)、(5−314)、(5−320)、(5−321)、(5−325)、(5−327)、(5−331)、(5−332)、(5−334)、(5−341)、(5−344)、(5−350)、(5−362)、(5−375)、(5−376)、(5−380)、(5−381)、(5−390)、(5−393)、(5−394)、(5−398)、(5−399)、(5−404)、(5−410)、(5−416)、(5−434)、(5−435)、(5−436)、(5−437)、(5−439)、(5−441)、(5−442)、(5−443)、又は(5−445)である化合物が挙げられる。 As the compound (5), the numbers described in Tables 76 to 97 are preferably (5-1), (5-2), (5-3), (5-5), (5-6), (5 -8), (5-10), (5-16), (5-17), (5-18), (5-24), (5-28), (5-31), (5-35) ), (5-37), (5-41), (5-42), (5-49), (5-51), (5-52), (5-56), (5-57), (5-58), (5-68), (5-73), (5-81), (5-82), (5-83), (5-84), (5-85), (5 -86), (5-87), (5-88), (5-89), (5-90), (5-91), (5-93), (5-94), (5-95) ), (5-96), (5-98), (5-101), (5-103), (5-107) (5-108), (5-110), (5-112), (5-113), (5-114), (5-122), (5-127), (5-137), (5 -140), (5-142), (5-148), (5-150), (5-159), (5-160), (5-161), (5-166), (5-167) ), (5-177), (5-178), (5-181), (5-184), (5-186), (5-202), (5-203), (5-207), (5-212), (5-213), (5-223), (5-225), (5-228), (5-230), (5-239), (5-243), (5 -246), (5-248), (5-257), (5-260), (5-269), (5-271), (5-279), (5-291), (5-2) 8), (5-299), (5-300), (5-302), (5-308), (5-314), (5-320), (5-321), (5-325) , (5-327), (5-331), (5-332), (5-334), (5-341), (5-344), (5-350), (5-362), ( 5-375), (5-376), (5-380), (5-381), (5-390), (5-393), (5-394), (5-398), (5- 399), (5-404), (5-410), (5-416), (5-434), (5-435), (5-436), (5-437), (5-439) , (5-441), (5-442), (5-443), or (5-445).
化合物(5)は、さらに好ましくは、番号が(5−1)、(5−2)、(5−5)、(5−6)、(5−17)、(5−18)、(5−35)、(5−37)、(5−81)、(5−82)、(5−83)、(5−84)、(5−85)、(5−86)、(5−87)、(5−89)、(5−90)、(5−93)、(5−96)、(5−98)、(5−103)、(5−112)、(5−140)、(5−142)、(5−148)、(5−150)、(5−159)、(5−167)、(5−177)、(5−178)、(5−181)、(5−184)、(5−202)、(5−203)、(5−207)、(5−223)、(5−225)、(5−230)、(5−239)、(5−298)、(5−299)、(5−300)、(5−302)、(5−308)、(5−325)、(5−327)、(5−331)、(5−332)、(5−375)、(5−376)、(5−380)、(5−381)、(5−399)、(5−437)、(5−439)、又は(5−441)である化合物から選ばれる。 More preferably, the compound (5) has the numbers (5-1), (5-2), (5-5), (5-6), (5-17), (5-18), (5 -35), (5-37), (5-81), (5-82), (5-83), (5-84), (5-85), (5-86), (5-87) ), (5-89), (5-90), (5-93), (5-96), (5-98), (5-103), (5-112), (5-140), (5-142), (5-148), (5-150), (5-159), (5-167), (5-177), (5-178), (5-181), (5 -184), (5-202), (5-203), (5-207), (5-223), (5-225), (5-230), (5-239), (5-298) ), (5-299), (5-300), ( -302), (5-308), (5-325), (5-327), (5-331), (5-332), (5-375), (5-376), (5-380) ), (5-381), (5-399), (5-437), (5-439), or (5-441).
工程4は、化合物(5)に酸を反応させる工程である。酸としては、具体的に、トリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸、燐酸及び前記酸の混合物等が挙げられる。好ましくは、トリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸及び硫酸である。酸は必要に応じて、水等で希釈して使用してもよい。 Step 4 is a step of reacting compound (5) with an acid. Specific examples of the acid include trifluoromethanesulfonic acid, methanesulfonic acid, sulfuric acid, phosphoric acid, and a mixture of the above acids. Preferred are trifluoromethanesulfonic acid, methanesulfonic acid and sulfuric acid. If necessary, the acid may be diluted with water or the like.
工程4を具体的に説明すると、例えば、酸に対して化合物(5)をそのまま又はクロロホルム等の溶媒に希釈してから加え、−20℃〜100℃程度で1分〜48時間程度、反応混合物を攪拌する。この際、P2O5等の脱水剤の存在下で反応を行ってもよい。反応終了後、反応混合物を水と混合し、必要に応じて、有機溶媒を加え、有機層を分液する。得られた溶液(有機層)をそのまま用いてもよいが、好ましくは、濃縮した後、ピリジン、トリエチルアミン等の有機塩基等の塩基を加えて、化合物(5)と塩基とを混合する。化合物(5)と塩基とは、好ましくは50℃から該溶媒の沸点までの温度で、例えば、1分〜48時間混合される。 Step 4 will be specifically described. For example, the compound (5) is added to the acid as it is or after being diluted with a solvent such as chloroform, and then added at a temperature of about -20 ° C to 100 ° C for about 1 minute to 48 hours. Stir. At this time, the reaction may be performed in the presence of a dehydrating agent such as P 2 O 5 . After completion of the reaction, the reaction mixture is mixed with water, an organic solvent is added as necessary, and the organic layer is separated. The obtained solution (organic layer) may be used as it is, but preferably after concentration, a base such as an organic base such as pyridine or triethylamine is added, and the compound (5) and the base are mixed. The compound (5) and the base are preferably mixed at a temperature from 50 ° C. to the boiling point of the solvent, for example, for 1 minute to 48 hours.
その後、一般的な後処理を行い、必要に応じてカラムクロマトグラフィー、蒸留、再結晶、及びリサイクルゲルパーミネーションクロマトグラフィー等の通常の精製手段を行うことで、化合物(10)を得ることができる。 Then, a general post-treatment is performed, and the compound (10) can be obtained by performing a usual purification means such as column chromatography, distillation, recrystallization, and recycle gel permeation chromatography as necessary. .
上記後処理を行う前に、必要に応じて、さらに、工程4を繰り返して行ってもよい。 Before performing the post-treatment, step 4 may be further repeated as necessary.
工程4は温和な条件で進行させることができる。また、工程4は、100℃よりも低い温度で行うことが可能である。有機半導体材料として有用な含カルコゲン縮合多環式化合物(10)を従来よりも温和な条件で製造することが可能である。 Step 4 can proceed under mild conditions. In addition, step 4 can be performed at a temperature lower than 100 ° C. The chalcogen-containing polycyclic compound (10) useful as an organic semiconductor material can be produced under milder conditions than before.
かくして得られた含カルコゲン縮合多環式化合物(10)において、R11、R12、R13及びR14のうち少なくも1つが、炭素数1〜30のアルキル基、炭素数1〜30のアルコキシ基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数4〜30のヘテロアリール基であることが好ましい。より好ましくは、R11、R13及びR14が水素原子であり、R12が炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数1〜20のアルコキシ基である。R11、R12、R13及びR14におけるアルキル基及びアルコキシ基の炭素数は、好ましくは4〜16である。含カルコゲン縮合多環式化合物(10)が、かかる程度の長鎖アルキル基又はアルコキシ基を有していることにより、成膜のための塗布加工性が向上する傾向があることから好ましい。 In the chalcogen-containing polycyclic compound (10) thus obtained, at least one of R 11 , R 12 , R 13 and R 14 is an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms and an alkoxy having 1 to 30 carbon atoms. It is preferably a group, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or a heteroaryl group having 4 to 30 carbon atoms. More preferably, R 11 , R 13 and R 14 are hydrogen atoms, and R 12 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms. Carbon number of the alkyl group and alkoxy group in R 11 , R 12 , R 13 and R 14 is preferably 4-16. The chalcogen-containing fused polycyclic compound (10) having such a long-chain alkyl group or alkoxy group is preferable because the coating processability for film formation tends to be improved.
含カルコゲン縮合多環式化合物(10)の具体例としては、表98〜表116に例示される番号(10−1)〜(10−445)の化合物が挙げられる。 Specific examples of the chalcogen-containing fused polycyclic compound (10) include compounds of numbers (10-1) to (10-445) exemplified in Table 98 to Table 116.
含カルコゲン縮合多環式化合物(10)としては、さらに、下記化学式で表わされる番号(10−446)〜(10−452)の化合物が挙げられる。 Examples of the chalcogen-containing condensed polycyclic compound (10) include compounds of numbers (10-446) to (10-452) represented by the following chemical formulas.
好ましい化合物(10)として、例えば、番号が(10−1)、(10−2)、(10−3)、(10−5)、(10−6)、(10−8)、(10−10)、(10−35)、(10−37)、(10−41)、(10−42)、(10−49)、(10−51)、(10−52)、(10−56)、(10−57)、(10−58)、(10−68)、(10−73)、(10−81)、(10−82)、(10−83)、(10−84)、(10−85)、(10−86)、(10−87)、(10−88)、(10−89)、(10−90)、(10−91)、(10−93)、(10−94)、(10−95)、(10−96)、(10−98)、(10−101)、(10−103)、(10−107)、(10−108)、(10−110)、(10−112)、(10−113)、(10−114)、(10−177)、(10−178)、(10−181)、(10−184)、(10−186)、(10−202)、(10−203)、(10−207)、(10−212)、(10−213)、(10−223)、(10−225)、(10−228)、(10−230)、(10−239)、(10−243)、(10−246)、(10−248)、(10−257)、(10−260)、(10−269)、(10−271)、(10−279)、(10−291)、(10−298)、(10−299)、(10−300)、(10−302)、(10−325)、(10−327)、(10−331)、(10−332)、(10−334)、(10−341)、(10−344)、(10−350)、(10−362)、(10−375)、(10−376)、(10−380)、(10−381)、(10−398)、(10−399)、(10−404)、(10−410)、又は(10−416)である化合物が挙げられる。 As preferable compound (10), for example, the numbers are (10-1), (10-2), (10-3), (10-5), (10-6), (10-8), (10- 10), (10-35), (10-37), (10-41), (10-42), (10-49), (10-51), (10-52), (10-56) , (10-57), (10-58), (10-68), (10-73), (10-81), (10-82), (10-83), (10-84), ( 10-85), (10-86), (10-87), (10-88), (10-89), (10-90), (10-91), (10-93), (10- 94), (10-95), (10-96), (10-98), (10-101), (10-103), (10-107), (10-108), ( 0-110), (10-112), (10-113), (10-114), (10-177), (10-178), (10-181), (10-184), (10- 186), (10-202), (10-203), (10-207), (10-212), (10-213), (10-223), (10-225), (10-228) , (10-230), (10-239), (10-243), (10-246), (10-248), (10-257), (10-260), (10-269), ( 10-271), (10-279), (10-291), (10-298), (10-299), (10-300), (10-302), (10-325), (10- 327), (10-331), (10-332), (10-334), ( 0-341), (10-344), (10-350), (10-362), (10-375), (10-376), (10-380), (10-381), (10- 398), (10-399), (10-404), (10-410), or (10-416).
化合物(10)は、さらに好ましくは、番号が(10−1)、(10−2)、(10−5)、(10−6)、(10−35)、(10−37)、(10−81)、(10−82)、(10−83)、(10−84)、(10−85)、(10−86)、(10−87)、(10−89)、(10−90)、(10−93)、(10−96)、(10−98)、(10−103)、(10−112)、(10−177)、(10−178)、(10−181)、(10−184)、(10−202)、(10−203)、(10−207)、(10−223)、(10−225)、(10−230)、(10−239)、(10−298)、(10−299)、(10−300)、(10−302)、(10−325)、(10−327)、(10−331)、(10−332)、(10−375)、(10−376)、(10−380)、(10−381)、又は(10−399)である化合物から選ばれる。 More preferably, the compound (10) has the numbers (10-1), (10-2), (10-5), (10-6), (10-35), (10-37), (10 -81), (10-82), (10-83), (10-84), (10-85), (10-86), (10-87), (10-89), (10-90) ), (10-93), (10-96), (10-98), (10-103), (10-112), (10-177), (10-178), (10-181), (10-184), (10-202), (10-203), (10-207), (10-223), (10-225), (10-230), (10-239), (10 -298), (10-299), (10-300), (10-302), (10-325), (10-327), ( 0-331), (10-332), (10-375), (10-376), (10-380), is selected from compounds which are (10-381), or (10-399).
以下、実施例を挙げて本発明についてさらに具体的に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.
参考例 <3,4−ジメチルスルファニルチオフェンの合成>
3,4−ジブロモチオフェン(0.30g、1.2mmol)をジエチルエーテル6mLに溶解し、−78℃まで冷却したあと、同温度にてt−BuLiを1.59M含むペンタン溶液(0.78mL、1.2mmol)を滴下した。さらに同温度にて30分間撹拌後、硫黄粉末(0.04g、1.2mmol)を加え、同温度で30分間攪拌した。同温度下、再度t−BuLiを1.59M含むペンタン溶液(0.78mL、1.2mmol)を滴下し、30分間撹拌した。その後、硫黄粉末(0.04g、1.2mmol)を加え、同温度で30分間攪拌させた後、緩やかに室温まで昇温させ、そのまま1時間攪拌した。この溶液を0℃に冷却させ、ヨウ化メチル(0.39g、2.7mmol)を加えた後、緩やかに室温まで昇温させ、そのまま2時間攪拌した。その後、水とクロロホルムを加えた後、有機層を分離し、水層をクロロホルムで抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮することで粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:ヘキサン=1:1)で精製することで、3,4−ジメチルスルファニルチオフェンを0.19g得た(収率87%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):7.02(s,2H)、2.46(s,6H)
Reference Example <Synthesis of 3,4-dimethylsulfanylthiophene>
3,4-Dibromothiophene (0.30 g, 1.2 mmol) was dissolved in 6 mL of diethyl ether, cooled to −78 ° C., and then at the same temperature, a pentane solution containing 1.59 M of t-BuLi (0.78 mL, 1.2 mmol) was added dropwise. Further, after stirring at the same temperature for 30 minutes, sulfur powder (0.04 g, 1.2 mmol) was added, and the mixture was stirred at the same temperature for 30 minutes. Under the same temperature, a pentane solution (0.78 mL, 1.2 mmol) containing 1.59 M of t-BuLi was dropped again and stirred for 30 minutes. Thereafter, sulfur powder (0.04 g, 1.2 mmol) was added, and the mixture was stirred at the same temperature for 30 minutes, then gently warmed to room temperature and stirred as it was for 1 hour. The solution was cooled to 0 ° C., methyl iodide (0.39 g, 2.7 mmol) was added, the temperature was slowly raised to room temperature, and the mixture was stirred for 2 hours. Thereafter, water and chloroform were added, the organic layer was separated, and the aqueous layer was extracted with chloroform. The organic layer was dried over magnesium sulfate and then concentrated to obtain a crude product. The obtained crude product was purified by silica gel column chromatography (chloroform: hexane = 1: 1) to obtain 0.19 g of 3,4-dimethylsulfanylthiophene (yield 87%).
1 H-NMR (CDCl 3 , δ ppm): 7.02 (s, 2H), 2.46 (s, 6H)
(1)ビス(5−ヘキシルベンゾ[4,5]チエノ)[3,2−c:2’,3’−e]チオフェン(式(10)で表され、R11、R13及びR14が水素原子、R12がn−ヘキシル基、Z1及びZ2がいずれも硫黄原子である含カルコゲン縮合多環式化合物)の合成 (1) Bis (5-hexylbenzo [4,5] thieno) [3,2-c: 2 ′, 3′-e] thiophene (represented by formula (10), wherein R 11 , R 13 and R 14 are Synthesis of a chalcogen-containing fused polycyclic compound in which a hydrogen atom, R 12 is an n-hexyl group, and Z 1 and Z 2 are all sulfur atoms
製造例1(工程1)
2,5−ジブロモ−3,4−ジメチルスルファニルチオフェンの合成
3,4−ジメチルスルファニルチオフェン(0.18g、1.0mmol)をクロロホルム10mLに溶解し、得られた溶解液にN−ブロモスクシンイミド0.38gを室温(約20℃)にて徐々に加えた。得られた混合液を室温にてさらに4時間撹拌後、水を加え、有機層と水層とに分離した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後の有機層を濃縮して、粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製して、2,5−ジブロモ−3,4−ジメチルスルファニルチオフェン0.26gを得た(収率77%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):2.41(s,6H)
Production Example 1 (Process 1)
Synthesis of 2,5-dibromo-3,4-dimethylsulfanylthiophene 3,4-Dimethylsulfanylthiophene (0.18 g, 1.0 mmol) was dissolved in 10 mL of chloroform, and N-bromosuccinimide 0. 38 g was gradually added at room temperature (about 20 ° C.). The resulting mixture was further stirred at room temperature for 4 hours, water was added, and the mixture was separated into an organic layer and an aqueous layer. The organic layer was washed with saturated brine and dried over magnesium sulfate. The organic layer after drying was concentrated to obtain a crude product. The obtained crude product was purified by silica gel column chromatography to obtain 0.26 g of 2,5-dibromo-3,4-dimethylsulfanylthiophene (yield 77%).
1 H-NMR (CDCl 3 , δ ppm): 2.41 (s, 6H)
製造例2(工程2B)
2,5−ビス(4−n−ヘキシルフェニル)−3,4−ジメチルスルファニルチオフェンの合成
2,5−ジブロモ−3,4−ジメチルスルファニルチオフェン(2.2g、6.6mmol)をテトラヒドロフラン(THF)270mLに溶解し、得られた溶解液に4−n−ヘキシル−1−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)ベンゼン(4.74g、16.4mmol)、及び炭酸ナトリウム水溶液(2.0M、89mL)を加えた。得られた混合液を室温にて窒素でバブリングした。この混合液に、PdCl2(dppf)(0.54g、0.7mmol)を加えた後、85℃で7時間撹拌した。得られた反応液を室温まで冷却後、塩化アンモニウム水溶液を加えた。次いで水層と有機層とに分離した。水層中に含まれる生成物はTHFにより抽出し、有機層と混合した。混合された有機層は、水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。その後反応液を濃縮し粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラム及び分取ゲルパーミネーションクロマトグラフィーを用いて分取することによって、2,5−ビス(4−n−ヘキシルフェニル)−3,4−ジメチルスルファニルチオフェンを1.88g得た(収率51%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):7.60(d,J=8.4Hz,4H)、7.25(d,J=8.4Hz,4H)、2.65(t,J=7.6Hz,4H)、2.31(s,6H)、1.71−1.60(m、4H)、1.40−1.29(m,12H)、0.90(t,J=6.8Hz,6H)
Production Example 2 (Process 2B)
Synthesis of 2,5-bis (4-n-hexylphenyl) -3,4-dimethylsulfanylthiophene 2,5-dibromo-3,4-dimethylsulfanylthiophene (2.2 g, 6.6 mmol) was added to tetrahydrofuran (THF) Dissolve in 270 mL, and add 4-n-hexyl-1- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl) benzene (4.74 g, 16) to the resulting solution. 4 mmol), and aqueous sodium carbonate (2.0 M, 89 mL). The resulting mixture was bubbled with nitrogen at room temperature. PdCl 2 (dppf) (0.54 g, 0.7 mmol) was added to the mixture, and the mixture was stirred at 85 ° C. for 7 hours. The resulting reaction solution was cooled to room temperature, and an aqueous ammonium chloride solution was added. Then, it was separated into an aqueous layer and an organic layer. The product contained in the aqueous layer was extracted with THF and mixed with the organic layer. The mixed organic layer was washed with water and a saturated aqueous sodium chloride solution and then dried over magnesium sulfate. Thereafter, the reaction solution was concentrated to obtain a crude product. The obtained crude product was fractionated using a silica gel column and preparative gel permeation chromatography to obtain 2,5-bis (4-n-hexylphenyl) -3,4-dimethylsulfanylthiophene as 1. 88 g was obtained (yield 51%).
1 H-NMR (CDCl 3 , δ ppm): 7.60 (d, J = 8.4 Hz, 4H), 7.25 (d, J = 8.4 Hz, 4H), 2.65 (t, J = 7) .6 Hz, 4H), 2.31 (s, 6H), 1.71-1.60 (m, 4H), 1.40-1.29 (m, 12H), 0.90 (t, J = 6) .8Hz, 6H)
製造例3(工程3B)
2,5−ビス(4−n−ヘキシルフェニル)−3,4−ジメチルスルフィニルチオフェンの合成
2,5−ビス(4−n−ヘキシルフェニル)−3,4−ジメチルスルファニルチオフェン(1.40g、2.8mmol)を酢酸70mLに溶解し、そこに室温にて35%過酸化水素水(0.60g、6.2mmol)を滴下した。滴下終了後、得られた反応液を50℃まで昇温し、同温度にてさらに5.5時間撹拌した。途中で35%過酸化水素水を0.3g追加した。次に、反応液を室温まで冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及びクロロホルムを加え、有機層と水層とに分離した。水層中に含まれる生成物はクロロホルムで抽出して有機層と混合した。混合された有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後濃縮し、粗生成物を得た。得られた粗生成物をヘキサンで洗浄することによって、2,5−ビス(4−n−ヘキシルフェニル)−3,4−ジメチルスルフィニルチオフェンを0.99g得た(収率66%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):7.45(d,J=8.1Hz,1.6H)、7.36(d,J=8.1Hz,2.4H)、7.28−7.24(m,4H)、3.28(s、3.6H)、3.09(s、2.4H)、2.70−2.63(m,4H)、1.70−1.53(m,4H)、1.42−1.28(m,12H)、0.92−0.87(m,6H)
MS−FD:528(M+)
Production Example 3 (Process 3B)
Synthesis of 2,5-bis (4-n-hexylphenyl) -3,4-dimethylsulfinylthiophene 2,5-bis (4-n-hexylphenyl) -3,4-dimethylsulfanylthiophene (1.40 g, 2 0.8 mmol) was dissolved in 70 mL of acetic acid, and 35% aqueous hydrogen peroxide (0.60 g, 6.2 mmol) was added dropwise thereto at room temperature. After completion of the dropwise addition, the obtained reaction solution was heated to 50 ° C. and further stirred at the same temperature for 5.5 hours. In the middle, 0.3 g of 35% hydrogen peroxide solution was added. Next, after cooling a reaction liquid to room temperature, saturated sodium hydrogencarbonate aqueous solution and chloroform were added, and it isolate | separated into the organic layer and the water layer. The product contained in the aqueous layer was extracted with chloroform and mixed with the organic layer. The mixed organic layer was dried over magnesium sulfate and then concentrated to obtain a crude product. The obtained crude product was washed with hexane to obtain 0.99 g of 2,5-bis (4-n-hexylphenyl) -3,4-dimethylsulfinylthiophene (yield 66%).
1 H-NMR (CDCl 3 , δ ppm): 7.45 (d, J = 8.1 Hz, 1.6H), 7.36 (d, J = 8.1 Hz, 2.4H), 7.28-7 .24 (m, 4H), 3.28 (s, 3.6H), 3.09 (s, 2.4H), 2.70-2.63 (m, 4H), 1.70-1.53 (M, 4H), 1.42-1.28 (m, 12H), 0.92-0.87 (m, 6H)
MS-FD: 528 (M +)
製造例4(工程4)
ビス(5−ヘキシルベンゾ[4,5]チエノ)[3,2−c:2’,3’−e]チオフェンの合成
2,5−ビス(4’−n−ヘキシルフェニル)−3,4−ジメチルスルフィニルチオフェン(0.30g、0.6mmol)、及びP2O5(0.03g、0.2mmol)をトリフルオロメタンスルホン酸10.3mLに溶解させ反応液を得た。該溶解液を50℃まで昇温した後、同温度にて3時間撹拌し、続いて室温まで冷却し、反応液を得た。反応液を水103mLに加え、析出した固体をろ別した。析出した固体を水で洗浄後、得られた固体をピリジン90mLに溶解し、得られた溶解液が還流するまで加熱しながら10時間撹拌した。溶解液を室温まで冷却した後、溶解液に水及びクロロホルムを加えた。得られた有機層及び水層を分離し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥してから、濃縮し、粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラム及びゲルパーミネーションクロマトグラフィーを用いて精製することによって、ビス(5−ヘキシルベンゾ[4,5]チエノ)[3,2−c:2’,3’−e]チオフェンを0.08g得た(収率31%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):7.65(d,J=7.3Hz,2H)、7.57(d,J=1.0Hz,2H)、7.19(dd,J=7.3,1.0Hz,2H)、2.73(t,J=7.0Hz,4H)、1.73−1.63(m,4H)、1.40−1.29(m,12H)、0.90(t,J=6.8Hz,6H)
Production Example 4 (Process 4)
Synthesis of bis (5-hexylbenzo [4,5] thieno) [3,2-c: 2 ′, 3′-e] thiophene 2,5-bis (4′-n-hexylphenyl) -3,4- Dimethylsulfinylthiophene (0.30 g, 0.6 mmol) and P 2 O 5 (0.03 g, 0.2 mmol) were dissolved in 10.3 mL of trifluoromethanesulfonic acid to obtain a reaction solution. The temperature of the solution was raised to 50 ° C., and the mixture was stirred at the same temperature for 3 hours and then cooled to room temperature to obtain a reaction solution. The reaction solution was added to 103 mL of water, and the precipitated solid was filtered off. After the precipitated solid was washed with water, the obtained solid was dissolved in 90 mL of pyridine, and stirred for 10 hours while heating until the obtained solution was refluxed. After cooling the solution to room temperature, water and chloroform were added to the solution. The obtained organic layer and aqueous layer were separated, and the organic layer was dried over magnesium sulfate and then concentrated to obtain a crude product. The obtained crude product was purified using a silica gel column and gel permeation chromatography to obtain bis (5-hexylbenzo [4,5] thieno) [3,2-c: 2 ′, 3′-e. ] 0.08 g of thiophene was obtained (yield 31%).
1 H-NMR (CDCl 3 , δ ppm): 7.65 (d, J = 7.3 Hz, 2H), 7.57 (d, J = 1.0 Hz, 2H), 7.19 (dd, J = 7) .3, 1.0 Hz, 2H), 2.73 (t, J = 7.0 Hz, 4H), 1.73-1.63 (m, 4H), 1.40-1.29 (m, 12H) 0.90 (t, J = 6.8 Hz, 6H)
製造例5(工程2A)
2,5−ジブロモ−3,4−ジメチルスルフィニルチオフェンの合成
2,5−ジブロモ−3,4−ジメチルスルファニルチオフェン(2.34g、7.0mmol)を酢酸150mLに溶解し、得られた溶解液に35%過酸化水素水(0.78g、8.0mmol)を滴下した後、得られた反応液を60℃まで昇温し、同温度にて12時間撹拌した。途中、35%過酸化水素水を0.77g追加した。反応終了後、得られた反応液を室温まで冷却し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及びクロロホルムを添加し、混合した後、有機層及び水層に分離した。有機層を、硫酸マグネシウムで乾燥してから濃縮し粗生成物を得た。得られた粗生成物を、シリカゲルカラムを用いて精製することによって、2,5−ジブロモ−3,4−ジメチルスルフィニルチオフェンを1.65g得た(収率64%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):3.21(s,2.4H)、3.09(s,3.6H)
Production Example 5 (Step 2A)
Synthesis of 2,5-dibromo-3,4-dimethylsulfinylthiophene 2,5-dibromo-3,4-dimethylsulfanylthiophene (2.34 g, 7.0 mmol) was dissolved in 150 mL of acetic acid, and the resulting solution was dissolved. After dropwise addition of 35% aqueous hydrogen peroxide (0.78 g, 8.0 mmol), the resulting reaction solution was heated to 60 ° C. and stirred at the same temperature for 12 hours. In the middle, 0.77 g of 35% hydrogen peroxide solution was added. After completion of the reaction, the obtained reaction solution was cooled to room temperature, a saturated aqueous sodium bicarbonate solution and chloroform were added and mixed, and then separated into an organic layer and an aqueous layer. The organic layer was dried over magnesium sulfate and then concentrated to obtain a crude product. The obtained crude product was purified using a silica gel column to obtain 1.65 g of 2,5-dibromo-3,4-dimethylsulfinylthiophene (yield 64%).
1 H-NMR (CDCl 3 , δ ppm): 3.21 (s, 2.4H), 3.09 (s, 3.6H)
製造例6(工程3A)
2,5−ビス(4−n−ヘキシルフェニル)−3,4−ジメチルスルフィニルチオフェンの合成
2,5−ジブロモ−3,4−ジメチルスルフィニルチオフェン(0.08g、0.2mmol)をTHF9mLに溶解し、得られた溶解液に4−n−ヘキシル−1−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)ベンゼン(0.17g、0.6mmol)、及び炭酸セシウム水溶液(2.0M、2.9mL)を加えた。得られた混合液を室温にて窒素でバブリングした後、PdCl2(dppf)(0.09g、0.01mmol)を加え、さらに、80℃まで昇温して16時間撹拌した。得られた反応液を室温まで冷却後、塩化アンモニウム水溶液を加え、有機層及び水層に分離した。水層中に含まれる生成物はTHFで抽出し、有機層と混合した。混合された有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、次いで硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮し粗生成物を得た。得られた粗生成物を、薄層クロマトグラフィーを用いて分取することによって、2,5−ビス(4’−n−ヘキシルフェニル)−3,4−ジメチルスルフィニルチオフェンを0.05g得た(収率41%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):7.45(d,J=8.1Hz,2.5H)、7.36(d,J=8.1Hz,1.5H)、7.28−7.24(m,4H)、3.28(s、2.3H)、3.09(s、3.7H)、2.70−2.63(m,4H)、1.70−1.53(m,4H)、1.42−1.28(m,12H)、0.92−0.87(m,6H)
Production Example 6 (Step 3A)
Synthesis of 2,5-bis (4-n-hexylphenyl) -3,4-dimethylsulfinylthiophene Dissolve 2,5-dibromo-3,4-dimethylsulfinylthiophene (0.08 g, 0.2 mmol) in 9 mL of THF. 4-n-hexyl-1- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl) benzene (0.17 g, 0.6 mmol), And aqueous cesium carbonate (2.0 M, 2.9 mL) were added. The obtained mixture was bubbled with nitrogen at room temperature, PdCl 2 (dppf) (0.09 g, 0.01 mmol) was added, and the mixture was further heated to 80 ° C. and stirred for 16 hours. The resulting reaction solution was cooled to room temperature, and then an aqueous ammonium chloride solution was added to separate it into an organic layer and an aqueous layer. The product contained in the aqueous layer was extracted with THF and mixed with the organic layer. The combined organic layer was washed with water and saturated aqueous sodium chloride solution, then dried over magnesium sulfate, and concentrated to obtain a crude product. The obtained crude product was fractionated using thin layer chromatography to obtain 0.05 g of 2,5-bis (4′-n-hexylphenyl) -3,4-dimethylsulfinylthiophene ( Yield 41%).
1 H-NMR (CDCl 3 , δ ppm): 7.45 (d, J = 8.1 Hz, 2.5H), 7.36 (d, J = 8.1 Hz, 1.5H), 7.28-7 .24 (m, 4H), 3.28 (s, 2.3H), 3.09 (s, 3.7H), 2.70-2.63 (m, 4H), 1.70-1.53 (M, 4H), 1.42-1.28 (m, 12H), 0.92-0.87 (m, 6H)
(2)ビス(5−ペンチルオキシベンゾ[4,5]チエノ)[3,2−c:2’,3’−e]チオフェン((式(10)で表され、R11、R13及びR14が水素原子、R12がn−ペンチルオキシ基、3つのZが硫黄原子である含カルコゲン縮合多環式化合物)の合成
下記合成経路にしたがって、含カルコゲン縮合多環式化合物を合成した。
(2) Bis (5-pentyloxybenzo [4,5] thieno) [3,2-c: 2 ′, 3′-e] thiophene (represented by formula (10), R 11 , R 13 and R Synthesis of chalcogen-condensed polycyclic compound wherein 14 is a hydrogen atom, R 12 is an n-pentyloxy group, and three Z are sulfur atoms. A chalcogen-containing polycyclic compound was synthesized according to the following synthesis route.
製造例7
1−n−ペンチルオキシ−4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)ベンゼンの合成
1−ブロモ−4−n−ペンチルオキシベンゼン(25g、103mmol)をジエチルエーテル500mLに溶解し、得られた溶解液を−78℃に冷却した。この溶解液に−78℃で、t−BuLi/ペンタン溶液(関東化学製、t−BuLi濃度1.76M)117mLを45分かけて滴下し、同温度にてさらに30分撹拌した後、45分かけて0℃まで昇温し、0℃で1時間撹拌した。得られた反応液を再び−78℃に冷却し、2−イソプロピル−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン(31.2mL、154mmol)を滴下し、同温度にてさらに3時間撹拌した後、室温まで昇温し、室温で3時間撹拌した。得られた反応液に飽和食塩水及びエーテルを加え、有機層と水層とに分離し、有機層は、水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮することで粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムにて精製することにより、1−n−ペンチルオキシ−4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)ベンゼンを得た(収率98%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):7.74(d,J=8.6Hz,2H)、6.88(d,J=8.6Hz,2H)、3.97(t,J=6.5Hz,2H)、1.73−1.81(m,2H)、1.20−1.50(m、4H)、1.33(s,12H)、0.93(t,J=7.0Hz,3H)
Production Example 7
Synthesis of 1-n-pentyloxy-4- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl) benzene 1-bromo-4-n-pentyloxybenzene (25 g, 103 mmol) was dissolved in 500 mL of diethyl ether, and the resulting solution was cooled to -78 ° C. To this solution, 117 mL of a t-BuLi / pentane solution (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd., t-BuLi concentration 1.76 M) was added dropwise at −78 ° C. over 45 minutes, and the mixture was further stirred for 30 minutes at the same temperature. The temperature was raised to 0 ° C. over 1 hour and the mixture was stirred at 0 ° C. for 1 hour. The obtained reaction solution was cooled again to -78 ° C, and 2-isopropyl-4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane (31.2 mL, 154 mmol) was added dropwise to the same temperature. The mixture was further stirred for 3 hours, then warmed to room temperature, and stirred at room temperature for 3 hours. Saturated saline and ether were added to the resulting reaction solution to separate into an organic layer and an aqueous layer. The organic layer was washed with water, dried over magnesium sulfate, and concentrated to obtain a crude product. The obtained crude product was purified with a silica gel column to give 1-n-pentyloxy-4- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl) benzene. (Yield 98%) was obtained.
1 H-NMR (CDCl 3 , δ ppm): 7.74 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 6.88 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 3.97 (t, J = 6) .5 Hz, 2H), 1.73-1.81 (m, 2H), 1.20-1.50 (m, 4H), 1.33 (s, 12H), 0.93 (t, J = 7) .0Hz, 3H)
製造例8(工程2A)
2,5−ビス(4−n−ペンチルオキシフェニル)−3,4−ジメチルスルファニルチオフェンの合成
2,5−ジブロモ−3,4−ジメチルスルファニルチオフェン(9g、27mmol)をTHF1000mLに溶解し、得られた溶解液に4−n−ペンチルオキシ−1−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)ベンゼン(21.1g、72.7mmol)、及び炭酸ナトリウム水溶液(2.0M、364mL)を加えた。次いで、得られた混合液を室温にて窒素でバブリングした。この混合液に、PdCl2(dppf)(2.2g、2.7mmol)を加えた後、85℃まで昇温し、同温度で4.5時間撹拌した。得られた反応液を室温まで冷却後、塩化アンモニウム水溶液を加え、有機層と水層とに分離した。水層中に含まれる生成物はTHFで抽出し、有機層と混合した。混合された有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し濃縮し、粗生成物を得た。得られた粗生成物を、シリカゲルカラムを用いて精製することによって、2,5−ビス(4−n−ペンチルオキシフェニル)−3,4−ジメチルスルファニルチオフェンを13.7g得た(収率100%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):7.60(d,J=8.6Hz,4H)、6.95(d,J=8.6Hz,4H)、4.00(t,J=6.5Hz,4H)、2.96(s,6H)1.76−1.84(m,4H)、1.38−1.48(m、8H)、0.94(t,J=7.0Hz,6H)
Production Example 8 (Step 2A)
Synthesis of 2,5-bis (4-n-pentyloxyphenyl) -3,4-dimethylsulfanylthiophene 2,5-dibromo-3,4-dimethylsulfanylthiophene (9 g, 27 mmol) was obtained by dissolving in THF 1000 mL. 4-n-pentyloxy-1- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl) benzene (21.1 g, 72.7 mmol) and carbonic acid Aqueous sodium solution (2.0 M, 364 mL) was added. The resulting mixture was then bubbled with nitrogen at room temperature. PdCl 2 (dppf) (2.2 g, 2.7 mmol) was added to the mixture, and the mixture was heated to 85 ° C. and stirred at the same temperature for 4.5 hours. The resulting reaction solution was cooled to room temperature, and then an aqueous ammonium chloride solution was added to separate it into an organic layer and an aqueous layer. The product contained in the aqueous layer was extracted with THF and mixed with the organic layer. The combined organic layer was washed successively with water and saturated aqueous sodium chloride solution, dried over magnesium sulfate and concentrated to obtain a crude product. The obtained crude product was purified using a silica gel column to obtain 13.7 g of 2,5-bis (4-n-pentyloxyphenyl) -3,4-dimethylsulfanylthiophene (yield: 100). %).
1 H-NMR (CDCl 3 , δ ppm): 7.60 (d, J = 8.6 Hz, 4H), 6.95 (d, J = 8.6 Hz, 4H), 4.00 (t, J = 6) .5 Hz, 4H), 2.96 (s, 6H) 1.76-1.84 (m, 4H), 1.38-1.48 (m, 8H), 0.94 (t, J = 7. 0Hz, 6H)
製造例9(工程3A)
2,5−ビス(4−n−ペンチルオキシフェニル)−3,4−ジメチルスルフィニルチオフェンの合成
酢酸250mLに2,5−ビス(4−n−ペンチルオキシフェニル)−3,4−ジメチルスルファニルチオフェン(5g、10mmol)を加え、得られた混合物を50℃に昇温し溶解後、室温まで冷却した。この溶解液に35%過酸化水素水(2.1g、22mmol)を加え室温で撹拌した。その後、NMRで2,5−ビス(4−n−ペンチルオキシフェニル)−3,4−ジメチルスルファニルチオフェンが確認されなくなるまで、35%過酸化水素水を少量加えることを繰り返し、合計で3.9gの35%過酸化水素水を加えた。得られた反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた後、有機物をクロロホルムで抽出した。抽出された有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して、2,5−ビス(4−n−ペンチルオキシフェニル)−3,4−ジメチルスルフィニルチオフェンを5.3g得た(収率99%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):7.46(d,J=8.6Hz,1.9H)、7.38(d,J=8.6Hz,2.1H)、6.94−6.98(m,4H)、3.98−4.03(m,4H)、3.25(s,3.2H)、3.09(s、2.8H)、1.70−1.90(m,4H)、1.30−1.50(m,8H)、0.94(t,J=7.0Hz,6H)
Production Example 9 (Step 3A)
Synthesis of 2,5-bis (4-n-pentyloxyphenyl) -3,4-dimethylsulfinylthiophene To 250 mL of acetic acid, 2,5-bis (4-n-pentyloxyphenyl) -3,4-dimethylsulfanylthiophene ( 5 g, 10 mmol) was added, and the resulting mixture was heated to 50 ° C. and dissolved, and then cooled to room temperature. To this solution, 35% aqueous hydrogen peroxide (2.1 g, 22 mmol) was added and stirred at room temperature. Thereafter, a small amount of 35% aqueous hydrogen peroxide was repeatedly added until 2,5-bis (4-n-pentyloxyphenyl) -3,4-dimethylsulfanylthiophene was not confirmed by NMR, for a total of 3.9 g. Of 35% hydrogen peroxide was added. A saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution was added to the resulting reaction solution, and the organic matter was extracted with chloroform. The extracted organic layer was dried over magnesium sulfate and concentrated to obtain 5.3 g of 2,5-bis (4-n-pentyloxyphenyl) -3,4-dimethylsulfinylthiophene (99% yield). .
1 H-NMR (CDCl 3 , δ ppm): 7.46 (d, J = 8.6 Hz, 1.9H), 7.38 (d, J = 8.6 Hz, 2.1H), 6.94-6 .98 (m, 4H), 3.98-4.03 (m, 4H), 3.25 (s, 3.2H), 3.09 (s, 2.8H), 1.70-1.90 (M, 4H), 1.30-1.50 (m, 8H), 0.94 (t, J = 7.0 Hz, 6H)
製造例10(工程4)
ビス(5−ペンチルオキシベンゾ[4,5]チエノ)[3,2−c:2’,3’−e]チオフェンの合成
メタンスルホン酸211mLにP2O51.3gを加えた溶液を0℃に冷却後、2,5−ビス(4−n−ペンチルオキシフェニル)−3,4−ジメチルスルフィニルチオフェン(12.5g、23.5mmol)を含むクロロホルム溶液(211mL)を30分かけて滴下した。得られた反応液を50℃まで昇温し、合計12時間撹拌した。水2111mLに、攪拌後の反応液を加え、有機層と水層とに分液した。有機層は水で洗浄し、濃縮した。得られたオイルにピリジン1877mLを加え、還流しながら4時間撹拌した。得られたピリジン溶液を室温まで冷却した後、水及びクロロホルムを加えて有機層と水層とに分液した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮し、粗生成物を得た。得られた粗生成物のシリカゲルカラムカラムクロマトグラフィーにおいて、ヘキサン/クロロホルム=3/1の展開溶媒で溶出する成分を除いた後、展開溶媒を酢酸エチルに変えて溶出する成分を回収し、7.1gの混合物を得た。
Production Example 10 (Process 4)
Synthesis of bis (5-pentyloxybenzo [4,5] thieno) [3,2-c: 2 ′, 3′-e] thiophene A solution obtained by adding 1.3 g of P 2 O 5 to 211 mL of methanesulfonic acid was 0. After cooling to ° C., a chloroform solution (211 mL) containing 2,5-bis (4-n-pentyloxyphenyl) -3,4-dimethylsulfinylthiophene (12.5 g, 23.5 mmol) was added dropwise over 30 minutes. . The resulting reaction solution was heated to 50 ° C. and stirred for a total of 12 hours. The reaction solution after stirring was added to 2111 mL of water, and the mixture was separated into an organic layer and an aqueous layer. The organic layer was washed with water and concentrated. To the obtained oil, 1877 mL of pyridine was added and stirred for 4 hours while refluxing. After cooling the obtained pyridine solution to room temperature, water and chloroform were added and liquid-separated into the organic layer and the water layer. The organic layer was dried over magnesium sulfate and concentrated to give a crude product. In the silica gel column chromatography of the obtained crude product, after removing the component eluted with a developing solvent of hexane / chloroform = 3/1, the developing solvent was changed to ethyl acetate, and the eluted component was recovered. 1 g of a mixture was obtained.
メタンスルホン酸120mLにP2O50.7gを加えた溶液を0℃に冷却後、先に得られた7.1gの混合物をクロロホルム120mLに溶解した溶液を15分かけて滴下した。得られた反応液を50℃まで昇温し、さらに同温度で4時間撹拌した。得られた反応液に、水1200mLに加え、水層と有機層とに分液した後、有機層を水で洗浄し、有機層を濃縮した。得られたオイルにピリジン1000mLを加え、還流しながら2.5時間撹拌した。 A solution obtained by adding 0.7 g of P 2 O 5 to 120 mL of methanesulfonic acid was cooled to 0 ° C., and then a solution obtained by dissolving 7.1 g of the obtained mixture in 120 mL of chloroform was added dropwise over 15 minutes. The resulting reaction solution was heated to 50 ° C. and further stirred at the same temperature for 4 hours. The resulting reaction solution was added to 1200 mL of water and separated into an aqueous layer and an organic layer, and then the organic layer was washed with water and the organic layer was concentrated. To the obtained oil, 1000 mL of pyridine was added and stirred for 2.5 hours while refluxing.
得られたピリジン溶液を室温まで冷却後濃縮し、さらに、水及びクロロホルムを加えて水層と有機層とに分液した。得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。得られたオイルをシリカゲルカラムにより精製し、引き続きトルエンから再結晶することにより、ビス(5−ペンチルオキシベンゾ[4,5]チエノ)[3,2−c:2’,3’−e]チオフェンを0.43g得た(収率4%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):7.72(d,J=8.6Hz,2H)、7.36(s,2H)、7.05(d,J=8.6Hz,2H)、4.05(t,J=6.5Hz,4H)、1.80−1.90(m,4H)、1.38−1.56(m,12H)、0.96(t,J=7.3Hz,6H)
The resulting pyridine solution was cooled to room temperature and concentrated, and further water and chloroform were added to separate the aqueous layer and the organic layer. The obtained organic layer was dried over magnesium sulfate and concentrated. The oil obtained was purified by a silica gel column and subsequently recrystallized from toluene to give bis (5-pentyloxybenzo [4,5] thieno) [3,2-c: 2 ′, 3′-e] thiophene. 0.43 g was obtained (yield 4%).
1 H-NMR (CDCl 3 , δ ppm): 7.72 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 7.36 (s, 2H), 7.05 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 4.05 (t, J = 6.5 Hz, 4H), 1.80-1.90 (m, 4H), 1.38-1.56 (m, 12H), 0.96 (t, J = 7) .3Hz, 6H)
2,5−ビス(4−n−ヘキシルフェニル)−3,4−ジメチルスルフィニルチオフェンの異なる製造例(製造例11〜13) Different production examples of 2,5-bis (4-n-hexylphenyl) -3,4-dimethylsulfinylthiophene (Production Examples 11 to 13)
製造例11
2,5−ビス(4−ヘキシルフェニル)チオフェンの製造例
2,5−ジブロモチオフェン(15.0g、62.0mmol)をTHF300mLに溶解し、得られた溶解液に4−ヘキシル−1−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)ベンゼン(48.25g、167.4mmol)及び炭酸ナトリウム水溶液(2.0M、387.5mL)を加えた後、室温にて窒素でバブリングし、懸濁液を得た。この懸濁液に、PdCl2(dppf)・ジクロロメタン錯体(5.06g、6.2mmol)を加え、40℃で6時間撹拌した。得られた反応溶液を室温まで冷却後、有機層を分液し、水層中に含まれる生成物は更にクロロホルムで抽出し、有機層とクロロホルム層とを併せて濃縮した。得られた濃縮物にクロロホルムを加え、得られたクロロホルム層を水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮し、粗生成物を得た。粗生成物は、シリカゲルカラム(展開溶媒:ヘキサン)で精製した後、さらに、再結晶(再結晶溶媒:ヘキサン)することで、2,5−ビス(4−ヘキシルフェニル)チオフェンを5.70g得た(収率23%)。
得られた2,5−ビス(4−ヘキシルフェニル)チオフェンの分析結果は以下のとおりである。
1H−NMR(CDCl3、δppm):7.53(d,J=8.1Hz,4H)、7.23(s,2H)、7.19(d,J=8.1Hz,4H)、2.61(t,J=7.6Hz,4H)、1.68−1.57(m、4H)、1.40−1.25(m,12H)、0.89(t,J=6.8Hz,6H)
HRMS(EI):404.2535(M+).Calcd for C28H36S:404.2538.
Production Example 11
Production Example of 2,5-bis (4-hexylphenyl) thiophene 2,5-Dibromothiophene (15.0 g, 62.0 mmol) was dissolved in 300 mL of THF, and 4-hexyl-1- (4 , 4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl) benzene (48.25 g, 167.4 mmol) and aqueous sodium carbonate (2.0 M, 387.5 mL), Bubbling with nitrogen at room temperature gave a suspension. To this suspension, PdCl 2 (dppf) · dichloromethane complex (5.06 g, 6.2 mmol) was added and stirred at 40 ° C. for 6 hours. After cooling the obtained reaction solution to room temperature, the organic layer was separated, the product contained in the aqueous layer was further extracted with chloroform, and the organic layer and the chloroform layer were combined and concentrated. Chloroform was added to the obtained concentrate, and the resulting chloroform layer was washed with water, dried over magnesium sulfate, and concentrated to obtain a crude product. The crude product was purified by a silica gel column (developing solvent: hexane) and then recrystallized (recrystallization solvent: hexane) to obtain 5.70 g of 2,5-bis (4-hexylphenyl) thiophene. (Yield 23%).
The analysis results of the obtained 2,5-bis (4-hexylphenyl) thiophene are as follows.
1 H-NMR (CDCl 3 , δ ppm): 7.53 (d, J = 8.1 Hz, 4H), 7.23 (s, 2H), 7.19 (d, J = 8.1 Hz, 4H), 2.61 (t, J = 7.6 Hz, 4H), 1.68-1.57 (m, 4H), 1.40-1.25 (m, 12H), 0.89 (t, J = 6) .8Hz, 6H)
HRMS (EI): 404.2535 (M +). Calcd for C 28 H 36 S: 404.2538.
製造例12
3,4−ジブロモ−2,5−ビス(4−ヘキシルフェニル)チオフェン(化合物(4−6))の製造例
製造例11及び製造例11に準じて得られた2,5−ビス(4−ヘキシルフェニル)チオフェン(9.90g、24.47mmol)をクロロホルム79mLに溶解した。該溶解液を0℃まで冷却した後、臭素(7.97g、49.87mmol)を含むクロロホルム溶液(4mL)を滴下し、さらに、同温度にて3.5時間撹拌した。得られた反応溶液にチオ硫酸ナトリウム水溶液を加え、分液して得られた有機層を水及び飽和食塩水で順次、洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:ヘキサン)で精製することで、3,4−ジブロモ−2,5−ビス(4−ヘキシルフェニル)チオフェン(化合物(4−6))を11.80g得た(収率86%)。
得られた化合物(4−6)の分析結果は以下のとおりである。
1H−NMR(CDCl3、δppm):7.57(d,J=8.1Hz,4H)、7.27(d,J=8.1Hz,4H)、2.66(t,J=7.6Hz,4H)、1.71−1.60(m、4H)、1.40−1.26(m,12H)、0.90(t,J=6.8Hz,6H)
HRMS(EI):560.0722(M+).Calcd for C28H34Br2S:560.0748.
Production Example 12
Production example of 3,4-dibromo-2,5-bis (4-hexylphenyl) thiophene (compound (4-6)) 2,5-bis (4-) obtained according to Production Example 11 and Production Example 11 Hexylphenyl) thiophene (9.90 g, 24.47 mmol) was dissolved in 79 mL of chloroform. The solution was cooled to 0 ° C., a chloroform solution (4 mL) containing bromine (7.97 g, 49.87 mmol) was added dropwise, and the mixture was further stirred at the same temperature for 3.5 hours. A sodium thiosulfate aqueous solution was added to the obtained reaction solution, and the organic layer obtained by liquid separation was washed successively with water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated to obtain a crude product. By purifying the obtained crude product by silica gel column chromatography (developing solvent: hexane), 3,4-dibromo-2,5-bis (4-hexylphenyl) thiophene (compound (4-6)) was obtained. 11.80 g was obtained (yield 86%).
The analysis results of the obtained compound (4-6) are as follows.
1 H-NMR (CDCl 3 , δ ppm): 7.57 (d, J = 8.1 Hz, 4H), 7.27 (d, J = 8.1 Hz, 4H), 2.66 (t, J = 7) .6 Hz, 4H), 1.71-1.60 (m, 4H), 1.40-1.26 (m, 12H), 0.90 (t, J = 6.8 Hz, 6H)
HRMS (EI): 560.0722 (M +). Calcd for C 28 H 34 Br 2 S: 560.0748.
製造例13
2,5−ビス(4−ヘキシルフェニル)−3,4−ジメチルスルファニルチオフェン(化合物(3b−6))の製造例
窒素雰囲気下、3,4−ジブロモ−2,5−ビス(4−ヘキシルフェニル)チオフェン(1.00g、1.78mmol)をTHF22mLに溶解し、−78℃まで冷却した。該溶液に、t−BuLiの1.55Mペンタン溶液(1.72mL、2.67mmol)を滴下し、−78℃にて30分攪拌した(以上、第I’工程)。第I’工程で得られた反応溶液に硫黄粉末(0.069g、2.15mmol)を加え、1時間攪拌した(以上、第V’工程)。第V’工程で得られた反応溶液に、t−BuLiの1.55Mペンタン溶液(1.72mL、2.67mmol)を滴下し、30分攪拌したのち硫黄粉末(0.063g、1.96mmol)を加えた。同温度で1時間攪拌後、緩やかに室温まで昇温しそのまま1時間攪拌した(以上、第VI’工程)。第VI’工程で得られた反応溶液を0℃に冷却し、ヨードメタン(0.606g、4.27mmol)を加えた後、緩やかに室温まで昇温させ2時間攪拌した。得られた反応溶液に水及びクロロホルムを加えて分液した。得られた有機層を水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、エバポレータ−により濃縮し、粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムおよび分取ゲルパーミネーションクロマトグラフィーにて精製することで、2,5−ビス(4−ヘキシルフェニル)−3,4−ジメチルスルファニルチオフェン(化合物(3b−6))を0.447g得た(収率51%)。
得られた化合物(3b−6)の分析結果は以下のとおりである。
1H−NMR(CDCl3、δppm):7.60(d,J=8.4Hz,4H)、7.25(d,J=8.4Hz,4H)、2.65(t,J=7.6Hz,4H)、2.31(s,6H)、1.71−1.60(m、4H)、1.40−1.29(m,12H)、0.90(t,J=6.8Hz,6H)
HRMS(EI):496.2281(M+).Calcd for C30H40S3:496.2292.
Production Example 13
Production Example of 2,5-bis (4-hexylphenyl) -3,4-dimethylsulfanylthiophene (Compound (3b-6)) 3,4-Dibromo-2,5-bis (4-hexylphenyl) under a nitrogen atmosphere ) Thiophene (1.00 g, 1.78 mmol) was dissolved in 22 mL of THF and cooled to -78 ° C. To the solution, a 1.55 M pentane solution (1.72 mL, 2.67 mmol) of t-BuLi was added dropwise and stirred at −78 ° C. for 30 minutes (step I ′ above). Sulfur powder (0.069 g, 2.15 mmol) was added to the reaction solution obtained in Step I ′ and stirred for 1 hour (step V ′). To the reaction solution obtained in Step V ′, a 1.55 M pentane solution (1.72 mL, 2.67 mmol) of t-BuLi was added dropwise, stirred for 30 minutes, and then sulfur powder (0.063 g, 1.96 mmol). Was added. After stirring at the same temperature for 1 hour, the temperature was gradually raised to room temperature, and the mixture was stirred as it was for 1 hour (step VI ′). The reaction solution obtained in Step VI ′ was cooled to 0 ° C., iodomethane (0.606 g, 4.27 mmol) was added, and the mixture was slowly warmed to room temperature and stirred for 2 hours. Water and chloroform were added to the resulting reaction solution for liquid separation. The obtained organic layer was washed with water, dried over magnesium sulfate, and concentrated by an evaporator to obtain a crude product. The obtained crude product was purified by a silica gel column and preparative gel permeation chromatography, whereby 2,5-bis (4-hexylphenyl) -3,4-dimethylsulfanylthiophene (compound (3b-6)) ) Was obtained (yield 51%).
The analysis results of the obtained compound (3b-6) are as follows.
1 H-NMR (CDCl 3 , δ ppm): 7.60 (d, J = 8.4 Hz, 4H), 7.25 (d, J = 8.4 Hz, 4H), 2.65 (t, J = 7) .6 Hz, 4H), 2.31 (s, 6H), 1.71-1.60 (m, 4H), 1.40-1.29 (m, 12H), 0.90 (t, J = 6) .8Hz, 6H)
HRMS (EI): 496.2281 (M +). Calcd for C 30 H 40 S 3 : 496.2292.
ビス(5−エチルベンゾ[4,5]チエノ)[3,2−c:2’,3’−e]チオフェン(化合物(10−3)の製造例(製造例14及び15)
製造例14
(2,5−ビス(4−エチルフェニル)−3,4−ジメチルスルフィニルチオフェン製造例)
2,5−ビス(4−エチルフェニル)−3,4−ジメチルスルファニルチオフェン(15.0g、39.0mmol)を酢酸600mLに70℃にて溶解し、得られた溶解液に同温にて35.4重量%の過酸化水素を含む水溶液(7.7g、過酸化水素として79.9mmol)を1時間かけて滴下後、同温度にて10時間撹拌した。次に、亜硫酸ナトリウム水溶液(20重量%)150mLを70℃にて加え、同温度にて1時間撹拌した。得られた反応液を室温まで冷却した後、クロロホルム500mLを加え、有機層と水層とに分離した。水層中に含まれる生成物はクロロホルム150mLで2回抽出して有機層と混合した。混合された有機層を水300mLで3回洗浄し、水酸化ナトリウム水溶液(20重量%)を室温にて加えて水層がpH10〜12となるように調整し、さらに、室温にて30分間撹拌した後、有機層と水層とに分離した。得られた有機層に水300mL及び硫酸水溶液(5重量%)を加えて水層をpH6〜8に調整し、有機層と水層とに分離した。分離された有機層は硫酸マグネシウムで乾燥した後濃縮し、粗生成物を得た。得られた粗生成物をn−ヘプタンからの再結晶により精製することによって、下記式
で表される2,5−ビス(4−エチルフェニル)−3,4−ジメチルスルフィニルチオフェン(15.4g、37.0mmol)の白色結晶を収率95%で得た。
得られた2,5−ビス(4−エチルフェニル)−3,4−ジメチルスルフィニルチオフェンの分析結果は以下の通りである。
1H−NMR(δ、CDCl3): 1.29(t×d、6H)、3.10(s、3H)、3.28(s、3H)、7.29(d×d、4H)、7.37(d、2H)、7.46(d、2H)
Bis (5-ethylbenzo [4,5] thieno) [3,2-c: 2 ′, 3′-e] thiophene (Production Example of Compound (10-3) (Production Examples 14 and 15))
Production Example 14
(Production example of 2,5-bis (4-ethylphenyl) -3,4-dimethylsulfinylthiophene)
2,5-bis (4-ethylphenyl) -3,4-dimethylsulfanylthiophene (15.0 g, 39.0 mmol) was dissolved in acetic acid 600 mL at 70 ° C., and the resulting solution was dissolved at the same temperature at 35. An aqueous solution containing 4% by weight of hydrogen peroxide (7.7 g, 79.9 mmol as hydrogen peroxide) was added dropwise over 1 hour, followed by stirring at the same temperature for 10 hours. Next, 150 mL of an aqueous sodium sulfite solution (20 wt%) was added at 70 ° C., and the mixture was stirred at the same temperature for 1 hour. After cooling the obtained reaction liquid to room temperature, chloroform 500mL was added and it isolate | separated into the organic layer and the water layer. The product contained in the aqueous layer was extracted twice with 150 mL of chloroform and mixed with the organic layer. The mixed organic layer was washed with 300 mL of water three times, an aqueous sodium hydroxide solution (20 wt%) was added at room temperature to adjust the aqueous layer to pH 10-12, and further stirred at room temperature for 30 minutes. After that, the organic layer and the aqueous layer were separated. To the obtained organic layer, 300 mL of water and an aqueous sulfuric acid solution (5% by weight) were added to adjust the aqueous layer to pH 6-8, and the organic layer and the aqueous layer were separated. The separated organic layer was dried over magnesium sulfate and concentrated to obtain a crude product. By purifying the resulting crude product by recrystallization from n-heptane, the following formula
A white crystal of 2,5-bis (4-ethylphenyl) -3,4-dimethylsulfinylthiophene (15.4 g, 37.0 mmol) represented by the following formula was obtained in a yield of 95%.
The analysis results of the obtained 2,5-bis (4-ethylphenyl) -3,4-dimethylsulfinylthiophene are as follows.
1 H-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.29 (t × d, 6H), 3.10 (s, 3H), 3.28 (s, 3H), 7.29 (d × d, 4H) 7.37 (d, 2H), 7.46 (d, 2H)
製造例15
(ビス(5−エチルベンゾ[4,5]チエノ)[3,2−c:2’,3’−e]チオフェン(化合物(10−3)の製造例)
攪拌子、温度計を取り付けたフラスコに97%硫酸20mLを加え、系内を窒素置換した後、該硫酸を0℃に冷却した。冷却された硫酸に製造例14で得られた2,5−ビス(4−エチルフェニル)−3,4−ジメチルスルフィニルチオフェン(2.00g、4.80mmol)を混合液の温度が2℃を超えないように、30分間かけて少しずつ加え、さらに、0℃で6時間攪拌し反応溶液を調製した。攪拌子、温度計を取り付けた別のフラスコに水150mLを仕込み、この水に、該反応溶液を加えた。水と該反応溶液との混合液の温度は20℃を超えないように少しずつ該反応溶液が加えられた。得られた反応溶液を5℃にて18時間静置した後、濾過を行い、濾上物を水、炭酸水素ナトリウム水溶液(5重量%)、水、メタノールの順序で洗浄した。得られた濾上物をトルエンに加え、炭酸ナトリウム水溶液(5重量%)を加えた後、70℃にて溶解し、有機層と水層とに分離した。有機層は70℃にてさらに水で2回洗浄した後濃縮し、粗生成物を得た。得られた粗生成物をトルエンからの再結晶により精製することによって、式(10−3)
Production Example 15
(Bis (5-ethylbenzo [4,5] thieno) [3,2-c: 2 ′, 3′-e] thiophene (Production Example of Compound (10-3))
After adding 20 mL of 97% sulfuric acid to a flask equipped with a stirrer and a thermometer, and replacing the system with nitrogen, the sulfuric acid was cooled to 0 ° C. The 2,5-bis (4-ethylphenyl) -3,4-dimethylsulfinylthiophene (2.00 g, 4.80 mmol) obtained in Preparation Example 14 was added to the cooled sulfuric acid, and the temperature of the mixture exceeded 2 ° C. The reaction solution was added little by little over 30 minutes and further stirred at 0 ° C. for 6 hours. In another flask equipped with a stirrer and a thermometer, 150 mL of water was charged, and the reaction solution was added to this water. The reaction solution was added little by little so that the temperature of the mixture of water and the reaction solution did not exceed 20 ° C. The obtained reaction solution was allowed to stand at 5 ° C. for 18 hours and then filtered, and the filtered product was washed with water, an aqueous sodium hydrogen carbonate solution (5% by weight), water and methanol in this order. The obtained filtered product was added to toluene, an aqueous sodium carbonate solution (5% by weight) was added, and the mixture was dissolved at 70 ° C. to separate into an organic layer and an aqueous layer. The organic layer was further washed twice with water at 70 ° C. and then concentrated to obtain a crude product. By purifying the resulting crude product by recrystallization from toluene, the formula (10-3)
で表されるビス(5−エチルベンゾ[4,5]チエノ)[3,2−c:2’,3’−e]チオフェン(化合物(10−3)、1.06g、3.01mmol)の白黄色結晶を収率63%で得た。
得られた化合物(10−3)の分析結果は以下の通りである。
1H−NMR(δ、CDCl3): 1.32(t、6H)、2.80(q、4H)、7.28(d、2H)、7.70(s、2H)、7.76(d、2H)
LC−HRMS(APPI+):calcd for C20H16S3、352.0408;found 352.0406
Bis (5-ethylbenzo [4,5] thieno) [3,2-c: 2 ′, 3′-e] thiophene (compound (10-3), 1.06 g, 3.01 mmol) represented by white Yellow crystals were obtained with a yield of 63%.
The analysis result of the obtained compound (10-3) is as follows.
1 H-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.32 (t, 6H), 2.80 (q, 4H), 7.28 (d, 2H), 7.70 (s, 2H), 7.76 (D, 2H)
LC-HRMS (APPI +): calcd for C 20 H 16 S 3, 352.0408; found 352.0406
本発明の製造方法によれば、含カルコゲン縮合多環式化合物を、従来よりも温和な条件で製造可能である。 According to the production method of the present invention, a chalcogen-containing polycyclic compound can be produced under milder conditions than before.
Claims (13)
[式中、R1はそれぞれ独立に炭素数1〜20のアルキル基を示し、Z1はそれぞれ独立に、硫黄原子又はセレン原子を示し、Z2は酸素原子、硫黄原子又はセレン原子を示し、R11、R12、R13及びR14はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素数6〜30のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数7〜30のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素数5〜30のヘテロアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素数4〜30のヘテロアリール基、又は、−Si(R2)3(R2はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜30のアリール基を示す。)で表される置換シリル基を示す。]
で表される化合物を酸と反応させる工程を有することを特徴とする式(10)
[式中、Z1、Z2、R11、R12、R13及びR14は前記と同義である。]
で表される含カルコゲン縮合多環式化合物の製造方法。 Formula (5)
[Wherein R 1 independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, Z 1 independently represents a sulfur atom or a selenium atom, Z 2 represents an oxygen atom, a sulfur atom or a selenium atom, R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are each independently a hydrogen atom, a fluorine atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, or an optionally substituted carbon atom. An alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms which may have a substituent, an aralkyl group having 7 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and a substituent; An optionally substituted heteroaralkyl group having 5 to 30 carbon atoms, an optionally substituted heteroaryl group having 4 to 30 carbon atoms, or —Si (R 2 ) 3 (R 2 is independently substituted; C1-C30 alkyl which may have a group Or a substituted silyl group represented by.) Which represents an aryl group having 6 to 30 carbon atoms which may have a substituent. ]
Having a step of reacting a compound represented by the formula (10) with an acid:
[Wherein, Z 1 , Z 2 , R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are as defined above]. ]
The manufacturing method of chalcogen containing polycyclic compound represented by these.
下記式(2a)
[式中、R1、Z1及びZ2は前記と同義である。X1はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルキルスルホネート基又は炭素数6〜20のアリールスルホネート基を示す。]
で表される化合物を酸化する工程と、
前記工程で得られた式(3a)
[式中、R1、Z1、Z2及びX1は前記と同義である。]
で表される化合物と式(4a)
[式中、R11、R12、R13及びR14は前記と同義である。X2は脱離基を示す。]
で表される化合物とを縮合する工程と、
を含む方法により得られる化合物であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項記載の製造方法。 The compound represented by the formula (5) is
Following formula (2a)
[Wherein, R 1 , Z 1 and Z 2 have the same meanings as described above. X 1 each independently represents a halogen atom, an alkyl sulfonate group having 1 to 20 carbon atoms or an aryl sulfonate group having 6 to 20 carbon atoms. ]
A step of oxidizing the compound represented by:
Formula (3a) obtained in the above step
[Wherein, R 1 , Z 1 , Z 2 and X 1 are as defined above. ]
And a compound represented by formula (4a)
[Wherein, R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are as defined above. X 2 represents a leaving group. ]
A step of condensing the compound represented by:
The production method according to any one of claims 1 to 3, wherein the compound is obtained by a method comprising:
式(2a)
[式中、R1、Z1及びZ2は前記と同義である。X1はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルキルスルホネート基又は炭素数6〜20のアリールスルホネート基を示す。]
で表される化合物と式(4a)
[式中、R11、R12、R13及びR14は前記と同義である。X2は脱離基を示す。]
で表される化合物とを縮合する工程と、
前記工程で得られた式(3b)
[式中、R1、Z1、Z2、R11、R12、R13及びR14は前記と同義である。]
で表される化合物を酸化する工程と、
を含む方法により得られる化合物であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項記載の製造方法。 The compound represented by the formula (5) is
Formula (2a)
[Wherein, R 1 , Z 1 and Z 2 have the same meanings as described above. X 1 each independently represents a halogen atom, an alkyl sulfonate group having 1 to 20 carbon atoms or an aryl sulfonate group having 6 to 20 carbon atoms. ]
And a compound represented by formula (4a)
[Wherein, R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are as defined above. X 2 represents a leaving group. ]
A step of condensing the compound represented by:
Formula (3b) obtained in the above step
[Wherein, R 1 , Z 1 , Z 2 , R 11 , R 12 , R 13 and R 14 have the same meaning as described above. ]
A step of oxidizing the compound represented by:
The production method according to any one of claims 1 to 3, wherein the compound is obtained by a method comprising:
式(2b)
[式中、R1、Z1及びZ2は前記と同義である。X2は脱離基を示す。]
で表される化合物と式(4b)
[式中、R11、R12、R13及びR14は前記と同義である。X1はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルキルスルホネート基又は炭素数6〜20のアリールスルホネート基を示す。]
で表される化合物とを縮合する工程と、
前記工程で得られた式(3b)
[式中、R1、Z1、Z2、R11、R12、R13及びR14は前記と同義である。]
で表される化合物を酸化する工程と、
を含む方法により得られる化合物であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項記載の製造方法。 The compound represented by the formula (5) is
Formula (2b)
[Wherein, R 1 , Z 1 and Z 2 have the same meanings as described above. X 2 represents a leaving group. ]
And a compound represented by formula (4b)
[Wherein, R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are as defined above. X 1 each independently represents a halogen atom, an alkyl sulfonate group having 1 to 20 carbon atoms or an aryl sulfonate group having 6 to 20 carbon atoms. ]
A step of condensing the compound represented by:
Formula (3b) obtained in the above step
[Wherein, R 1 , Z 1 , Z 2 , R 11 , R 12 , R 13 and R 14 have the same meaning as described above. ]
A step of oxidizing the compound represented by:
The production method according to any one of claims 1 to 3, wherein the compound is obtained by a method comprising:
下記式(1)
[式中、R1、Z1、及びZ2は前記と同義である。]
で表される化合物に含まれる水素原子を、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルキルスルホネート基又は炭素数6〜20のアリールスルホネート基に置換する工程、
を含む方法により得られる化合物であることを特徴とする請求項4又は5記載の製造方法。 The compound represented by the formula (2a) is
Following formula (1)
[Wherein, R 1 , Z 1 and Z 2 have the same meanings as described above. ]
A step of substituting a hydrogen atom contained in the compound represented by a halogen atom, an alkyl sulfonate group having 1 to 20 carbon atoms or an aryl sulfonate group having 6 to 20 carbon atoms,
The production method according to claim 4 or 5 , wherein the compound is obtained by a method comprising:
下記式(1)
[式中、R1、Z1、及びZ2は前記と同義である。]
で表される化合物に含まれる水素原子を脱離基に置換する工程、
を含む方法により得られる化合物であることを特徴とする請求項6記載の製造方法。 The compound represented by the formula (2b) is
Following formula (1)
[Wherein, R 1 , Z 1 and Z 2 have the same meanings as described above. ]
A step of substituting a leaving group for a hydrogen atom contained in the compound represented by:
The method according to claim 6 , wherein the compound is obtained by a method comprising:
[式中、R10はそれぞれ独立に、水酸基、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基又は炭素数6〜20のアリールオキシ基を示す。分子内の2つのR10は結合して、ホウ素原子とともに環構造を形成していてもよい。]
で表される脱離基であることを特徴とする請求項4〜8のいずれか一項記載の製造方法。 The leaving group has the formula (6)
[Wherein, R 10 independently represents a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms. Two R 10 in the molecule may be bonded to form a ring structure together with the boron atom. ]
The production method according to any one of claims 4 to 8 , wherein the leaving group is represented by the following formula.
[式中、R1はそれぞれ独立に炭素数1〜20のアルキル基を示し、Z1はそれぞれ独立に、硫黄原子又はセレン原子を示し、Z2は酸素原子、硫黄原子又はセレン原子を示し、
R11、R12、R13及びR14はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素数6〜30のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数7〜30のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素数5〜30のヘテロアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素数4〜30のヘテロアリール基、又は、−Si(R2)3(R2はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜30のアリール基を示す。)で表される置換シリル基を示す。]
で表される化合物。 Formula (5)
[Wherein R 1 independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, Z 1 independently represents a sulfur atom or a selenium atom, Z 2 represents an oxygen atom, a sulfur atom or a selenium atom,
R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are each independently a hydrogen atom, a fluorine atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, or an optionally substituted carbon atom. An alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms which may have a substituent, an aralkyl group having 7 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and a substituent; An optionally substituted heteroaralkyl group having 5 to 30 carbon atoms, an optionally substituted heteroaryl group having 4 to 30 carbon atoms, or —Si (R 2 ) 3 (R 2 is independently substituted; A substituted silyl group represented by: an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms which may have a group or an aryl group having 6 to 30 carbon atoms which may have a substituent. ]
A compound represented by
R 12 in the formula (5) is the same group selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and R 11 , R 13 and R The compound according to claim 12, wherein all 14 are hydrogen atoms.
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