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JP5728961B2 - White thermosetting silicone resin composition for optical semiconductor case formation and optical semiconductor case - Google Patents

White thermosetting silicone resin composition for optical semiconductor case formation and optical semiconductor case Download PDF

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JP5728961B2
JP5728961B2 JP2011006776A JP2011006776A JP5728961B2 JP 5728961 B2 JP5728961 B2 JP 5728961B2 JP 2011006776 A JP2011006776 A JP 2011006776A JP 2011006776 A JP2011006776 A JP 2011006776A JP 5728961 B2 JP5728961 B2 JP 5728961B2
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Description

本発明は、強度が向上し、耐摩耗性に優れる硬化物を与える光半導体ケース形成用白色熱硬化性シリコーン樹脂組成物及び該組成物の硬化物からなるLED用等の光半導体ケースに関する。   The present invention relates to a white thermosetting silicone resin composition for forming an optical semiconductor case that provides a cured product with improved strength and excellent wear resistance, and an optical semiconductor case for an LED or the like comprising the cured product of the composition.

LED(Light Emitting Diode)等の光半導体素子は、街頭ディスプレイや自動車ランプ、住宅用照明など種々のインジケータや光源として利用されるようになっている。LED等の半導体・電子機器装置の材料のひとつとして、ポリフタルアミド樹脂(PPA)が現在広く使用されている。しかしながら、近年の光半導体装置の高出力化及び短波長化が進み、PPAでは光半導体素子の周辺に使用する樹脂としては劣化が激しく、光出力低下等を引き起こすので適していない。   Optical semiconductor elements such as LEDs (Light Emitting Diodes) are used as various indicators and light sources such as street displays, automobile lamps, and residential lighting. Polyphthalamide resin (PPA) is currently widely used as one of materials for semiconductor and electronic equipment devices such as LEDs. However, with the recent increase in output and shortening of the wavelength of optical semiconductor devices, PPA is not suitable as a resin used in the periphery of an optical semiconductor element because it causes severe deterioration and causes a decrease in optical output.

特開平02−189958号公報(特許文献1)には、光半導体封止用樹脂組成物として、エポキシ樹脂、硬化剤及び硬化促進剤を構成成分とするBステージ状の光半導体封止用エポキシ樹脂組成物であって、上記構成成分が分子レベルで均一に混合されている樹脂組成物の硬化体で構成されていることを特徴とする光半導体装置が記載されている。この場合、エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂又はビスフェノールF型エポキシ樹脂が主として用いられ、トリグリシジルイソシアネート等を使用し得ることも記載されているが、トリグリシジルイソシアネートは、実施例においてビスフェノール型エポキシ樹脂に少量添加使用されているもので、本発明者らの検討によれば、このBステージ状半導体封止用エポキシ樹脂組成物は、特に高温・長時間の放置で黄変するという問題がある。
また、特開2000−196151号公報、特開2003−224305号公報、及び特開2005−306952号公報(特許文献2〜4)には、発光素子封止用エポキシ樹脂組成物においてトリアジン誘導体エポキシ樹脂の使用について記載しているが、いずれも高温・長時間の放置で黄変するという問題解決が十分ではなかった。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 02-189958 (Patent Document 1) discloses a B-stage-shaped epoxy resin for encapsulating an optical semiconductor comprising an epoxy resin, a curing agent and a curing accelerator as constituents as an optical semiconductor encapsulating resin composition. An optical semiconductor device is described, which is a composition, and is composed of a cured body of a resin composition in which the above constituent components are uniformly mixed at a molecular level. In this case, as the epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin or bisphenol F type epoxy resin is mainly used, and it is also described that triglycidyl isocyanate or the like can be used, but triglycidyl isocyanate is a bisphenol type in Examples. A small amount is added to the epoxy resin, and according to the study by the present inventors, this epoxy resin composition for B-stage semiconductor encapsulation has a problem that it turns yellow particularly when left at high temperature for a long time. is there.
In addition, JP-A 2000-196151, JP-A 2003-224305, and JP-A 2005-306952 (Patent Documents 2 to 4) disclose triazine derivative epoxy resins in epoxy resin compositions for sealing light-emitting elements. However, in all cases, the problem of yellowing after standing at high temperature for a long time has not been solved sufficiently.

更に、特開2006−77234号公報(特許文献5)には、耐紫外線性に優れるオルガノポリシロキサン及び縮合触媒を含有するLED素子封止用樹脂組成物について記載しているが、該組成物は、リフレクター等の白色顔料を用いる用途よりも、高い透明性が要求される用途向けである。   Furthermore, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-77234 (Patent Document 5) describes a resin composition for sealing an LED element containing an organopolysiloxane excellent in ultraviolet resistance and a condensation catalyst. It is for applications that require higher transparency than applications using white pigments such as reflectors.

ところで、近年、MAP(Matrix Array Package)方式等の成形パッケージサイズが大型化しており、封止樹脂が硬化することにより反りが大きな問題となっている。これは、反りが大きいとパッケージの搬送工程や切断工程での不具合が生じるからである。上記各組成物は、この点においても満足いくものではない。   Incidentally, in recent years, the size of a molded package such as a MAP (Matrix Array Package) method has been increased, and warping has become a major problem as the sealing resin is cured. This is because if the warpage is large, defects in the package transporting process and the cutting process occur. Each of the above compositions is not satisfactory in this respect.

更に、MAP方式等でパッケージを成形する際に、バリが生じてしまい、そのバリを除去する工程も必要とする。バリ取り工程には水酸化ナトリウムや水酸化カリウム等のアルカリ水溶液で洗浄する方法(アルカリ水洗処理)と水とシリカで照射する方法(ブラスト処理)がある。アルカリ水洗処理を行う場合は、シリコーン樹脂の特性からオルガノポリシロキサンが溶出してしまうため、同処理は不可能である。一方、ブラスト処理を行う場合は、シリコーン樹脂の特性から樹脂成形物の表面が大きく削れてしまうことが多く、光出力低下等を引き起こす可能性があり、問題となっている。   Furthermore, when a package is molded by the MAP method or the like, burrs are generated, and a process for removing the burrs is also required. The deburring process includes a method of washing with an alkaline aqueous solution such as sodium hydroxide or potassium hydroxide (alkaline water washing treatment) and a method of irradiating with water and silica (blast treatment). When the alkaline water washing treatment is performed, the organopolysiloxane is eluted due to the characteristics of the silicone resin, so that the treatment is impossible. On the other hand, when the blasting is performed, the surface of the resin molded product is often greatly scraped due to the characteristics of the silicone resin, which may cause a decrease in light output and the like.

特開平02−189958号公報Japanese Patent Laid-Open No. 02-189958 特開2000−196151号公報JP 2000-196151 A 特開2003−224305号公報JP 2003-224305 A 特開2005−306952号公報JP 2005-306952 A 特開2006−77234号公報JP 2006-77234 A

本発明は上記事情に鑑みなされたもので、強度が向上し、耐摩耗性に優れる硬化物を与える光半導体ケース形成用白色熱硬化性シリコーン樹脂組成物及び該組成物の硬化物からなるLED用等の光半導体ケースを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and for LEDs comprising a white thermosetting silicone resin composition for forming an optical semiconductor case that gives a cured product with improved strength and excellent wear resistance, and a cured product of the composition. An object of the present invention is to provide an optical semiconductor case.

本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、
(A)下記式(1)で表され、GPCによるポリスチレン換算の重量平均分子量が500〜20,000のレジン状オルガノポリシロキサン: 100質量部、
(CH3aSi(OR1b(OH)c(4-a-b-c)/2 (1)
(式中、R1は同一又は異種の炭素数1〜4のアルキル基を示し、a、b、cは0.8≦a≦1.5、0≦b≦0.3、0.001≦c≦0.5、0.801≦a+b+c<2を満たす数であるが、T単位(CH 3 SiO 3/2 )の含有モル数の比率が70モル%以上である。)
(B)線径0.05〜100μmのチタン酸カリウム:
組成物全体の0.001〜20質量%、
(C)希土類酸化物を含有してなる白色顔料: 3〜200質量部、
(D)無機充填剤(但し、チタン酸カリウム及び白色顔料を除く):
400〜1,000質量部、
(E)有機金属触媒: 0.01〜10質量部、
(F)下記式(2)で表される構造を全シロキサン単位の50モル%以上含むオルガノポリシロキサン: 2〜50質量部

Figure 0005728961
(式中、R2及びR3は水酸基、又は炭素数1〜3のアルキル基、シクロヘキシル基、ビニル基、フェニル基及びアリル基から選ばれる一価炭化水素基であるが、R2、R3は同時に水酸基ではない。mは5〜50を満たす数である。)
を必須成分とすることを特徴とする光半導体ケース形成用白色熱硬化性シリコーン樹脂組成物が、強度を向上させ、耐摩耗性に優れる硬化物を与えるので、LED用等の光半導体ケースに有用であることを見出し、本発明をなすに至った。 As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have
(A) Resinous organopolysiloxane represented by the following formula (1) and having a polystyrene-reduced weight average molecular weight of 500 to 20,000 by GPC: 100 parts by mass
(CH 3 ) a Si (OR 1 ) b (OH) c O (4-abc) / 2 (1)
(Wherein R 1 represents the same or different alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and a, b, and c are 0.8 ≦ a ≦ 1.5, 0 ≦ b ≦ 0.3, 0.001 ≦ (C ≦ 0.5, 0.801 ≦ a + b + c <2, but the ratio of the number of moles of the T unit (CH 3 SiO 3/2 ) is 70 mol% or more .)
(B) Potassium titanate having a wire diameter of 0.05 to 100 μm:
0.001-20% by weight of the total composition,
(C) White pigment containing a rare earth oxide: 3-200 parts by mass,
(D) Inorganic filler (except potassium titanate and white pigment):
400 to 1,000 parts by mass,
(E) Organometallic catalyst: 0.01 to 10 parts by mass,
(F) Organopolysiloxane containing 50 mol% or more of the total siloxane unit in the structure represented by the following formula (2): 2 to 50 parts by mass
Figure 0005728961
(Wherein, R 2 and R 3 are hydroxyl, or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a cyclohexyl group, a vinyl group, is a monovalent hydrocarbon group selected from a phenyl group and an allyl group, R 2, R 3 Are not hydroxyl groups at the same time, m is a number satisfying 5-50.)
A white thermosetting silicone resin composition for forming an optical semiconductor case characterized by having an essential component as an essential component provides a cured product with improved strength and excellent wear resistance, so it is useful for optical semiconductor cases for LEDs, etc. As a result, the present invention has been made.

従って、本発明は、下記光半導体ケース形成用白色熱硬化性シリコーン樹脂組成物及び光半導体ケースを提供する。
請求項1:
(A)下記式(1)で表され、GPCによるポリスチレン換算の重量平均分子量が500〜20,000のレジン状オルガノポリシロキサン: 100質量部、
(CH3aSi(OR1b(OH)c(4-a-b-c)/2 (1)
(式中、R1は同一又は異種の炭素数1〜4のアルキル基を示し、a、b、cは0.8≦a≦1.5、0≦b≦0.3、0.001≦c≦0.5、0.801≦a+b+c<2を満たす数であるが、T単位(CH 3 SiO 3/2 )の含有モル数の比率が70モル%以上である。)
(B)線径0.05〜100μmのチタン酸カリウム:
組成物全体の0.001〜20質量%、
(C)希土類酸化物を含有してなる白色顔料: 3〜200質量部、
(D)無機充填剤(但し、チタン酸カリウム及び白色顔料を除く):
400〜1,000質量部、
(E)有機金属触媒: 0.01〜10質量部、
(F)下記式(2)で表される構造を全シロキサン単位の50モル%以上含むオルガノポリシロキサン: 2〜50質量部

Figure 0005728961
(式中、R2及びR3は水酸基、又は炭素数1〜3のアルキル基、シクロヘキシル基、ビニル基、フェニル基及びアリル基から選ばれる一価炭化水素基であるが、R2、R3は同時に水酸基ではない。mは5〜50を満たす数である。)
を必須成分とすることを特徴とする光半導体ケース形成用白色熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
請求項2:
請求項1記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物の硬化物からなる光半導体ケース。 Accordingly, the present invention provides the following white thermosetting silicone resin composition for forming an optical semiconductor case and an optical semiconductor case.
Claim 1:
(A) Resinous organopolysiloxane represented by the following formula (1) and having a polystyrene-reduced weight average molecular weight of 500 to 20,000 by GPC: 100 parts by mass
(CH 3 ) a Si (OR 1 ) b (OH) c O (4-abc) / 2 (1)
(Wherein R 1 represents the same or different alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and a, b, and c are 0.8 ≦ a ≦ 1.5, 0 ≦ b ≦ 0.3, 0.001 ≦ (C ≦ 0.5, 0.801 ≦ a + b + c <2, but the ratio of the number of moles of the T unit (CH 3 SiO 3/2 ) is 70 mol% or more .)
(B) Potassium titanate having a wire diameter of 0.05 to 100 μm:
0.001-20% by weight of the total composition,
(C) White pigment containing a rare earth oxide: 3-200 parts by mass,
(D) Inorganic filler (except potassium titanate and white pigment):
400 to 1,000 parts by mass,
(E) Organometallic catalyst: 0.01 to 10 parts by mass,
(F) Organopolysiloxane containing 50 mol% or more of the total siloxane unit in the structure represented by the following formula (2): 2 to 50 parts by mass
Figure 0005728961
(Wherein, R 2 and R 3 are hydroxyl, or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a cyclohexyl group, a vinyl group, is a monovalent hydrocarbon group selected from a phenyl group and an allyl group, R 2, R 3 Are not hydroxyl groups at the same time, m is a number satisfying 5-50.)
A white thermosetting silicone resin composition for forming an optical semiconductor case, comprising:
Claim 2:
An optical semiconductor case comprising a cured product of the thermosetting silicone resin composition according to claim 1.

本発明によれば、強度が向上し、耐摩耗性に優れる硬化物を与える光半導体ケース形成用白色熱硬化性シリコーン樹脂組成物及び該組成物の硬化物からなるLED用等の光半導体ケースを提供することができる。   According to the present invention, a white thermosetting silicone resin composition for forming an optical semiconductor case that provides a cured product with improved strength and excellent wear resistance, and an optical semiconductor case for an LED or the like comprising the cured product of the composition. Can be provided.

以下、本発明につき更に詳しく説明する。
(A)オルガノポリシロキサン
(A)成分であるオルガノポリシロキサンは、下記式(1)で表され、例えば、トルエン等を展開溶媒とするゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算の重量平均分子量が500〜20,000のレジン状(即ち、分岐状又は三次元網状構造の)オルガノポリシロキサンであり、後述する(E)成分の有機金属触媒の存在下で、架橋構造を形成する。
(CH3aSi(OR1b(OH)c(4-a-b-c)/2 (1)
(式中、R1は同一又は異種の炭素数1〜4の有機基を示し、a、b、cは0.8≦a≦1.5、0≦b≦0.3、0.001≦c≦0.5、0.801≦a+b+c<2を満たす数である。)
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
(A) Organopolysiloxane The organopolysiloxane (A) component is represented by the following formula (1). For example, the weight average molecular weight in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC) using toluene or the like as a developing solvent. Is a resinous (that is, branched or three-dimensional network structure) organopolysiloxane having a molecular weight of 500 to 20,000, and forms a cross-linked structure in the presence of an organometallic catalyst as the component (E) described later.
(CH 3 ) a Si (OR 1 ) b (OH) c O (4-abc) / 2 (1)
(In the formula, R 1 represents the same or different organic group having 1 to 4 carbon atoms, and a, b and c are 0.8 ≦ a ≦ 1.5, 0 ≦ b ≦ 0.3, 0.001 ≦ (C ≦ 0.5 and 0.801 ≦ a + b + c <2)

メチル基の含有量(即ち、分子中のケイ素原子数に対するモル比。以下、同様。)を示すaが0.8未満のオルガノポリシロキサンは、これを含むシリコーン樹脂組成物の硬化物が硬すぎて、耐クラック性に乏しい等の問題が生じやすくなり、好ましくない。一方、aが1.5を超える樹脂は固形化しない。好ましくは、0.9≦a≦1.2、より好ましくは0.9≦a≦1.1である。   An organopolysiloxane having a methyl group content (that is, a molar ratio to the number of silicon atoms in the molecule; the same shall apply hereinafter) having an a of less than 0.8 is too hard to be cured of a silicone resin composition containing the organopolysiloxane. Therefore, problems such as poor crack resistance tend to occur, which is not preferable. On the other hand, a resin in which a exceeds 1.5 is not solidified. Preferably, 0.9 ≦ a ≦ 1.2, more preferably 0.9 ≦ a ≦ 1.1.

アルコキシ基等のオルガノオキシ基の含有量を示すbが0.3を超えると、分子量が小さくなり、耐クラック性が低下することが多い。好ましくは0.001≦b≦0.2であり、より好ましくは0.01≦b≦0.1である。   When b which shows content of organooxy groups, such as an alkoxy group, exceeds 0.3, molecular weight will become small and crack resistance will fall in many cases. Preferably it is 0.001 <= b <= 0.2, More preferably, it is 0.01 <= b <= 0.1.

Si原子に結合したヒドロキシル基の含有量を示すcが0.5を超えたオルガノポリシロキサンは、加熱硬化時の縮合反応、及び/又は、後述する(F)成分との縮合反応により、高い硬度を示す一方で耐クラック性に乏しい硬化物を与える。一方、cが0.001未満のオルガノポリシロキサンは、融点が高くなる傾向があり、作業性に問題が生じる場合がある。また、後述する(F)成分との結合生成が全くなくなると、硬化物内に固定化されない結果、硬化物の硬度が低く、耐溶剤性が悪い傾向がある。好ましくは0.01≦c≦0.3であり、より好ましくは0.05≦c≦0.2である。cを制御する条件としては、原料のアルコキシ基等のオルガノオキシ基の完全縮合率を86〜96%にすることが好ましく、86%未満では、融点が低くなり、96%を超えると融点が高くなりすぎる傾向となる。   Organopolysiloxane with c exceeding 0.5 indicating the content of hydroxyl group bonded to Si atom has high hardness due to condensation reaction during heat curing and / or condensation reaction with component (F) described later. On the other hand, it gives a cured product with poor crack resistance. On the other hand, organopolysiloxanes with c less than 0.001 tend to have a high melting point, which may cause problems in workability. Further, when there is no bond formation with the component (F) described later, the cured product is not fixed in the cured product. As a result, the hardness of the cured product tends to be low and the solvent resistance tends to be poor. Preferably 0.01 ≦ c ≦ 0.3, and more preferably 0.05 ≦ c ≦ 0.2. As a condition for controlling c, it is preferable that the complete condensation rate of the organooxy group such as an alkoxy group as a raw material is 86 to 96%. If it is less than 86%, the melting point is low, and if it exceeds 96%, the melting point is high. It tends to be too much.

以上のことから、好ましくは0.911≦a+b+c≦1.8であり、より好ましくは1.0≦a+b+c≦1.5である。   From the above, preferably 0.911 ≦ a + b + c ≦ 1.8, and more preferably 1.0 ≦ a + b + c ≦ 1.5.

上記式(1)中、R1は炭素数1〜4の有機基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基等のアルケニル基が挙げられ、原料の入手が容易である点で、アルキル基が好ましく、特にメチル基及びイソプロピル基が好ましい。 In the above formula (1), R 1 is an organic group having 1 to 4 carbon atoms, such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, an isobutyl group, an alkyl group such as a tert- butyl group, An alkenyl group such as a vinyl group and an allyl group can be used, and an alkyl group is preferable, and a methyl group and an isopropyl group are particularly preferable in terms of easy availability of raw materials.

(A)成分は、溶剤としてトルエンを用いたGPC測定したポリスチレン標準で換算した重量平均分子量が500〜20,000、好ましくは1,000〜10,000、より好ましくは2,000〜8,000である。分子量が500未満のオルガノポリシロキサンでは、固形化しにくく、分子量が20,000を超えるものでは、粘度が高くなりすぎて流動性が低下して成形性が悪くなることがある。   The component (A) has a weight average molecular weight of 500 to 20,000, preferably 1,000 to 10,000, more preferably 2,000 to 8,000, as converted by polystyrene standard measured by GPC using toluene as a solvent. It is. Organopolysiloxanes having a molecular weight of less than 500 are difficult to solidify, and those having a molecular weight of more than 20,000 may have a too high viscosity, resulting in poor fluidity and poor moldability.

(A)成分は、一般にQ単位(SiO4/2)、T単位(CH3SiO3/2)から選ばれる分岐状単位、及びD単位((CH32SiO2/2)の組み合わせで表現することができる。(A)成分をこの表現法で示した時、全シロキサン単位の総モル数に対して、T単位の含有モル数の比率が70モル%以上、望ましくは75モル%以上、特に80モル%以上であることが好ましい。該T単位が70モル%未満では、硬度、密着性、概観等の総合的なバランスが崩れる場合がある。なお、残部はD,Q単位でよく、これらが30モル%以下であることが好ましい。 The component (A) is a combination of a Q unit (SiO 4/2 ), a branched unit selected from T units (CH 3 SiO 3/2 ), and a D unit ((CH 3 ) 2 SiO 2/2 ). Can be expressed. When the component (A) is represented by this expression, the ratio of the number of moles of T units to the total number of moles of all siloxane units is 70 mole% or more, desirably 75 mole% or more, particularly 80 mole% or more. It is preferable that If the T unit is less than 70 mol%, the overall balance of hardness, adhesion, and appearance may be lost. The balance may be D and Q units, and these are preferably 30 mol% or less.

(A)成分は、下記式(3)で示されるオルガノシランの加水分解縮合物として得ることができる。
(CH3nSiX4-n (3)
(式中、Xは塩素原子等のハロゲン原子又は炭素数1〜4のアルコキシ基で、nは0、1、2のいずれかであるが、T単位を70モル%以上になるようにするため、n=1のオルガノシランを主成分(70モル%以上)として用いることが好ましい。)
この場合、Xとしては、固体状のオルガノポリシロキサンを得る点からは、ハロゲン原子、特に塩素原子であることが好ましい。
The component (A) can be obtained as a hydrolytic condensate of organosilane represented by the following formula (3).
(CH 3 ) n SiX 4-n (3)
(In the formula, X is a halogen atom such as a chlorine atom or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and n is 0, 1, or 2, in order to make the T unit 70 mol% or more. , N = 1 organosilane is preferably used as the main component (70 mol% or more).
In this case, X is preferably a halogen atom, particularly a chlorine atom, from the viewpoint of obtaining a solid organopolysiloxane.

上記式(3)で示されるシラン化合物においてn=1のシラン化合物としては、例えばメチルトリクロロシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン等が挙げられ、n=0のシラン化合物としては、テトラクロロシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、n=2のシラン化合物としては、ジメチルジクロロシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン等が挙げられる。   In the silane compound represented by the above formula (3), examples of the silane compound with n = 1 include methyltrichlorosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, and the like. Examples of the silane compound with n = 0 include tetrachlorosilane. , Tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and n = 2 silane compounds include dimethyldichlorosilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, and the like.

上記の加水分解性基を有するシラン化合物の加水分解及び縮合は、通常の方法で行えばよいが、例えば酢酸、塩酸、硫酸等の酸触媒、又は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等のアルカリ触媒の存在下で行うことが好ましい。例えば、加水分解性基としてクロロ基を含有するシランを使用する場合は、水添加によって発生する塩化水素ガス及び塩酸を触媒として、目的とする適切な分子量の加水分解縮合物を得ることができる。   Hydrolysis and condensation of the above-mentioned silane compound having a hydrolyzable group may be carried out by a usual method. For example, an acid catalyst such as acetic acid, hydrochloric acid or sulfuric acid, or sodium hydroxide, potassium hydroxide or tetramethylammonium hydroxy It is preferable to carry out in the presence of an alkali catalyst such as copper. For example, when a silane containing a chloro group as a hydrolyzable group is used, a desired hydrolysis condensate having an appropriate molecular weight can be obtained using hydrogen chloride gas and hydrochloric acid generated by addition of water as a catalyst.

加水分解及び縮合の際に使用される水の量、上記加水分解性基を有するシラン化合物中の加水分解性基(例としてクロロ基の場合)の合計量が1モルであれば、一般的には0.9〜1.6モルであり、好ましくは1.0〜1.3モルである。この添加量が0.9〜1.6モルの範囲を満たすと、後述の組成物は作業性に優れ、その硬化物は強靭性に優れたものとなる。   If the total amount of water used during hydrolysis and condensation and the total amount of hydrolyzable groups (for example, chloro group) in the silane compound having hydrolyzable groups is 1 mol, generally Is 0.9 to 1.6 mol, preferably 1.0 to 1.3 mol. When this addition amount satisfies the range of 0.9 to 1.6 mol, the composition described later is excellent in workability, and the cured product is excellent in toughness.

上記加水分解性基を有するシラン化合物は、通常、アルコール類、ケトン類、エステル類、セロソルブ類、芳香族化合物類等の有機溶剤中で加水分解して使用することが好ましい。具体的には、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール、n−ブタノール、2−ブタノール等のアルコール類、芳香族化合物としてトルエン、キシレンが好ましく、組成物の硬化性及び硬化物の強靭性が優れたものとなるので、イソプロピルアルコールやトルエン、イソプロピルアルコール・トルエン併用系がより好ましい。   The silane compound having a hydrolyzable group is usually preferably used after being hydrolyzed in an organic solvent such as alcohols, ketones, esters, cellosolves, and aromatic compounds. Specifically, for example, alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, isobutyl alcohol, n-butanol and 2-butanol, and toluene and xylene are preferred as aromatic compounds, and the curability of the composition and the toughness of the cured product are preferred. Therefore, isopropyl alcohol, toluene, and isopropyl alcohol / toluene combined system are more preferable.

加水分解及び縮合の反応温度は、好ましくは10〜120℃、より好ましくは20〜100℃である。反応温度がかかる範囲を満たすと、ゲル化することなく、次の工程に使用可能な固体の加水分解縮合物が得られる。   The reaction temperature for hydrolysis and condensation is preferably 10 to 120 ° C, more preferably 20 to 100 ° C. When the reaction temperature satisfies this range, a solid hydrolysis condensate that can be used in the next step is obtained without gelation.

(B)チタン酸カリウム
本発明のシリコーン樹脂組成物には、(B)成分であるチタン酸カリウムを配合する。このようなチタン酸カリウムは、ウィスカーが好ましく、成形物の強度、靭性を高めるだけでなく、ブラスト処理等に対する耐摩耗性を向上させるために配合するものである。但し、優れた高強度を得るのは、単結晶ウィスカーが好適である。
(B) Potassium titanate The silicone resin composition of the present invention contains potassium titanate as the component (B). Such potassium titanate is preferably a whisker and is added not only to increase the strength and toughness of the molded product, but also to improve the wear resistance against blasting and the like. However, single crystal whiskers are suitable for obtaining excellent high strength.

チタン酸カリウムの平均繊維径は、0.05〜100μm、より好ましくは0.1〜1.0μmであり、平均繊維長は、0.1〜1,000μm、より好ましくは1.0〜100μmである。平均繊維径が0.05μmに満たないと十分な強度、靭性が得られず、100μmを超えると表面の平滑性が悪くなる傾向がみられ、更にはウィスカーの微視的な均一分散性が損なわれやすくなる傾向がある。また、平均繊維長が1,000μmを超えると他成分と分散せず、十分な流動性が得られない場合がある。   The average fiber diameter of potassium titanate is 0.05 to 100 μm, more preferably 0.1 to 1.0 μm, and the average fiber length is 0.1 to 1,000 μm, more preferably 1.0 to 100 μm. is there. If the average fiber diameter is less than 0.05 μm, sufficient strength and toughness cannot be obtained, and if it exceeds 100 μm, the smoothness of the surface tends to deteriorate, and the microscopic uniform dispersibility of the whisker is impaired. There is a tendency to become easily. On the other hand, if the average fiber length exceeds 1,000 μm, it does not disperse with other components, and sufficient fluidity may not be obtained.

樹脂の種類によっては、チタン酸カリウムのアルカリ性について考慮する必要がある。例えば、シリコーン樹脂の場合では、アルカリ性が強すぎると成形性、流動性が顕著に劣る場合が多い。これはシリコーン樹脂がチタン酸カリウムのアルカリ性によって硬化が促進されるためである。   Depending on the type of resin, it is necessary to consider the alkalinity of potassium titanate. For example, in the case of a silicone resin, if the alkalinity is too strong, the moldability and fluidity are often significantly inferior. This is because the silicone resin is cured by the alkalinity of potassium titanate.

チタン酸カリウムの配合量は、組成物全体、特には(A)〜(F)成分の合計(あるいは(A)〜(H)成分の合計)に対して、0.001〜20質量%、好ましくは0.01〜15質量%である。配合量が0.001質量%に満たないと十分な強度、靭性は得られず、一方、20質量%を超えると顕著に流動性が劣る場合がある。   The compounding quantity of potassium titanate is 0.001-20 mass% with respect to the whole composition, especially the sum total of (A)-(F) component (or the sum total of (A)-(H) component), Preferably Is 0.01-15 mass%. If the blending amount is less than 0.001% by mass, sufficient strength and toughness cannot be obtained. On the other hand, if it exceeds 20% by mass, the fluidity may be remarkably inferior.

(C)白色顔料
本発明のシリコーン樹脂組成物には、光半導体装置のリフレクター(反射板)等の用途向けに硬化物の白色度を高めるために(C)成分である白色顔料を配合する。白色顔料としては、二酸化チタン、アルミナ、酸化イットリウム等の希土類酸化物、硫酸亜鉛、酸化亜鉛、酸化マグネシウム等を1種単独で又は2種以上の白色顔料を併用して用いることができる。これらのうち、例えば、350〜400nmという短波長域での高い反射率を確保できるという関点から、(C)成分としては希土類酸化物を含有するものであることが好ましい。
(C) White pigment The silicone resin composition of the present invention is blended with a white pigment as component (C) in order to increase the whiteness of the cured product for applications such as reflectors (reflecting plates) of optical semiconductor devices. As the white pigment, rare earth oxides such as titanium dioxide, alumina, yttrium oxide, zinc sulfate, zinc oxide, magnesium oxide and the like can be used alone or in combination of two or more white pigments. Among these, it is preferable that the component (C) contains a rare earth oxide from the viewpoint that a high reflectance in a short wavelength region of 350 to 400 nm can be secured.

白色顔料の平均粒径は、0.05〜10μm、好ましくは0.1〜5.0μm、より好ましくは0.1〜1.0μmである。上記白色顔料は、上記(A)成分、後述する(F)成分の樹脂成分や(D)成分の無機充填剤との相溶性、分散性を高めるため、アルミナやシリカ等の無機物(金属酸化物等)やシランカップリング剤等の有機ケイ素化合物等の有機物などで予め表面処理してもよい。なお、平均粒径は、レーザー光回折法による粒度分布測定における累積質量平均値D50(又はメジアン径)として求めることができる。 The average particle diameter of the white pigment is 0.05 to 10 μm, preferably 0.1 to 5.0 μm, more preferably 0.1 to 1.0 μm. The white pigment is an inorganic substance (metal oxide) such as alumina or silica in order to improve compatibility and dispersibility with the component (A), the resin component (F) described later, and the inorganic filler (D). Etc.) or an organic substance such as an organosilicon compound such as a silane coupling agent. The average particle diameter can be determined as a cumulative weight average value D 50 (or median diameter) in particle size distribution measurement by laser diffraction method.

白色顔料の配合量は、(A)成分100質量部に対し、3〜200質量部、好ましくは5〜150質量部である。3質量部未満では十分な白色度が得られない場合がある。また、200質量部を超えると機械的強度向上の目的で添加する他成分の割合が少なくなるだけでなく、成形性が著しく低下することがある。なお、この白色顔料の配合量は、白色熱硬化性シリコーン樹脂組成物全体、特に(A)〜(F)成分の合計(又は(A)〜(H)成分の合計)に対して好ましくは1〜50質量%であり、より好ましくは3〜30質量%の範囲である。   The compounding quantity of a white pigment is 3-200 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component, Preferably it is 5-150 mass parts. If the amount is less than 3 parts by mass, sufficient whiteness may not be obtained. On the other hand, when the amount exceeds 200 parts by mass, not only the ratio of other components added for the purpose of improving the mechanical strength is decreased, but also the moldability may be significantly lowered. In addition, the compounding amount of the white pigment is preferably 1 with respect to the entire white thermosetting silicone resin composition, in particular, the sum of the components (A) to (F) (or the sum of the components (A) to (H)). It is -50 mass%, More preferably, it is the range of 3-30 mass%.

(D)無機充填剤
本発明のシリコーン樹脂組成物には、更に(D)成分として上記(B),(C)成分以外の無機充填剤を配合する。このような無機充填剤としては、通常エポキシ樹脂組成物に配合されるものを使用することができる。例えば、溶融シリカ、結晶性シリカ等のシリカ類、アルミナ、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、ボロンナイトライド、三酸化アンチモン等が挙げられるが、上記した(B)成分のチタン酸カリウム、及び(C)成分の白色顔料(白色着色剤)は除かれる。これら無機充填剤の平均粒径や形状は特に限定されないが、平均粒径は通常3〜40μmである。なお、平均粒径は、レーザー光回折法による粒度分布測定における累積質量平均値D50(又はメジアン径)として求めることができる。
(D) Inorganic filler In the silicone resin composition of the present invention, an inorganic filler other than the components (B) and (C) is further blended as the component (D). As such an inorganic filler, what is normally mix | blended with an epoxy resin composition can be used. Examples include silicas such as fused silica and crystalline silica, alumina, silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, antimony trioxide, and the like, but the above-described component (B) potassium titanate and component (C) White pigments (white colorants) are excluded. Although the average particle diameter and shape of these inorganic fillers are not particularly limited, the average particle diameter is usually 3 to 40 μm. The average particle diameter can be determined as a cumulative weight average value D 50 (or median diameter) in particle size distribution measurement by laser diffraction method.

特に、溶融シリカ、溶融球状シリカ等のシリカ系無機充填剤が好適に用いられ、その粒径は特に限定されるものではないが、成形性、流動性からみて、平均粒径は4〜40μm、特には7〜35μmが好ましい。また、高流動化を得るには、0.1〜3μmの微細領域、4〜8μmの中粒径領域、10〜40μmの粗領域のものを組み合わせて使用するのが好ましい。   In particular, silica-based inorganic fillers such as fused silica and fused spherical silica are preferably used, and the particle size is not particularly limited, but the average particle size is 4 to 40 μm in terms of moldability and fluidity, In particular, 7 to 35 μm is preferable. Moreover, in order to obtain high fluidization, it is preferable to use a combination of a fine region of 0.1 to 3 μm, a medium particle size region of 4 to 8 μm, and a coarse region of 10 to 40 μm.

上記(B),(C)成分以外の無機充填剤は、(A)成分及び後述する(F)成分等の樹脂成分や、(C)成分の白色顔料との結合強度を強くするため、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤等のカップリング剤で予め表面処理したものを配合してもよい。
このようなカップリング剤としては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のエポキシ官能性アルコキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ官能性アルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト官能性アルコキシシランなどを用いることが好ましい。なお、表面処理に用いるカップリング剤の配合量及び表面処理方法については特に制限されるものではないが、150℃以上に放置した場合に処理フィラーが変色しないものが好ましい。
Inorganic fillers other than the above components (B) and (C) are silane in order to increase the bond strength between the resin component such as the component (A) and the component (F) described later, and the white pigment of the component (C). You may mix | blend what was surface-treated beforehand with coupling agents, such as a coupling agent and a titanate coupling agent.
Examples of such a coupling agent include epoxy functions such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, and β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane. Functional alkoxysilanes such as N-β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, and γ-mercapto It is preferable to use a mercapto functional alkoxysilane such as propyltrimethoxysilane. The amount of the coupling agent used for the surface treatment and the surface treatment method are not particularly limited, but those that do not discolor the treated filler when left at 150 ° C. or higher are preferred.

(B),(C)成分以外の無機充填剤の配合量は、(A)シリコーン樹脂総量100質量部に対し、400〜1,000質量部、特に600〜950質量部が好ましい。400質量部未満では、十分な強度を得ることができないおそれがあり、1,000質量部を超えると、増粘による未充填不良や柔軟性が失われることで、素子内の剥離等の不良が発生する場合がある。なお、この(B),(C)成分以外の無機充填剤の配合量は、組成物全体の10〜90質量%、特に20〜80質量%の範囲で含有することが好ましい。   The blending amount of the inorganic filler other than the components (B) and (C) is preferably 400 to 1,000 parts by mass, particularly 600 to 950 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the (A) silicone resin. If the amount is less than 400 parts by mass, sufficient strength may not be obtained. If the amount exceeds 1,000 parts by mass, unfilled defects due to thickening and flexibility are lost, resulting in defects such as peeling in the element. May occur. In addition, it is preferable to contain the compounding quantity of inorganic fillers other than this (B) and (C) component in 10-90 mass% of the whole composition, especially 20-80 mass%.

(E)有機金属触媒
(E)成分である有機金属触媒は、上記(A)成分の硬化に用いるための縮合触媒であり、(A)成分の安定性、被膜の硬度、無黄変性、硬化性等を考慮して選択される。このような有機金属触媒として、例えば、有機酸亜鉛、ルイス酸触媒、有機アルミニウム化合物、有機チタニウム化合物等が好適に用いられ、具体的には安息香酸亜鉛、オクチル酸亜鉛、p−tert−ブチル安息香酸亜鉛、ラウリン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、塩化アルミニウム、過塩素酸アルミニウム、リン酸アルミニウム、アルミニウムトリイソプロポキシド、アルミニウムアセチルアセトナート、エチルアセトアセテートアルミニウムジ(ノルマルブチレート)、アルミニウム−n−ブトキシジエチルアセト酢酸エステル、テトラブチルチタネート、テトライソプロピルチタネート、オクチル酸錫、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸錫等が例示される。中でも、安息香酸亜鉛が好ましく利用される。
(E) Organometallic catalyst The organometallic catalyst (E) component is a condensation catalyst for use in curing the component (A), and the stability of the component (A), the hardness of the coating, non-yellowing, and curing. It is selected in consideration of sex and the like. As such an organometallic catalyst, for example, an organic acid zinc, a Lewis acid catalyst, an organoaluminum compound, an organic titanium compound and the like are preferably used. Specifically, zinc benzoate, zinc octylate, p-tert-butylbenzoate Zinc acid, zinc laurate, zinc stearate, aluminum chloride, aluminum perchlorate, aluminum phosphate, aluminum triisopropoxide, aluminum acetylacetonate, ethyl acetoacetate aluminum di (normal butyrate), aluminum-n-butoxy Examples include diethyl acetoacetate, tetrabutyl titanate, tetraisopropyl titanate, tin octylate, cobalt naphthenate, tin naphthenate and the like. Of these, zinc benzoate is preferably used.

有機金属触媒の添加量は、上記高分子量オルガノポリシロキサン100質量部に対して、0.01〜10質量部、好ましくは0.1〜1.6質量部である。添加量がかかる範囲を満たすと、硬化性が良好であり、安定したものとなる。   The addition amount of the organometallic catalyst is 0.01 to 10 parts by mass, preferably 0.1 to 1.6 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the high molecular weight organopolysiloxane. When the added amount satisfies this range, the curability is good and stable.

(F)オルガノポリシロキサン
(F)成分であるオルガノポリシロキサンは、下記式(2)で表される2官能性シロキサン単位(D単位)の繰り返しからなる構造を含むオルガノポリシロキサンである。

Figure 0005728961
(F) Organopolysiloxane The organopolysiloxane (F) component is an organopolysiloxane having a structure composed of repeating bifunctional siloxane units (D units) represented by the following formula (2).
Figure 0005728961

式中、R2及びR3は、互いに独立に、水酸基、又はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等の炭素数1〜3のアルキル基、シクロヘキシル基、ビニル基、フェニル基及びアリル基から選ばれる基(但し、R2、R3は同時に水酸基ではない)であり、好ましくはメチル基等のアルキル基及びフェニル基である。mは5〜50、好ましくは8〜40、より好ましくは10〜35の整数である。mが5未満では、硬化物の耐クラック性に乏しく、ケースの反りを起こす場合がある。一方、mが50を超えると、機械的強度が不足する傾向にある。 In the formula, R 2 and R 3 are independently of each other a hydroxyl group or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a cyclohexyl group, a vinyl group, a phenyl group, and an allyl group. (Wherein R 2 and R 3 are not hydroxyl groups at the same time), preferably an alkyl group such as a methyl group and a phenyl group. m is an integer of 5 to 50, preferably 8 to 40, more preferably 10 to 35. If m is less than 5, the cured product has poor crack resistance and may cause warping of the case. On the other hand, when m exceeds 50, the mechanical strength tends to be insufficient.

(F)成分は、上記式(2)で示されるD単位(R23SiO2/2)に加えて、M単位(R3SiO1/2)、T単位(RSiO3/2)を含んでいてよい。それらのモル比はそれぞれ、D単位:M単位:T単位のモル比で90〜24:75〜0:50〜1、特に70〜28:70〜20:10〜2(但し、下記のQ単位を含まない場合、合計で100)であることが硬化物特性から好ましい。ここでRは水酸基、メチル基、エチル基、プロピル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ビニル基、又はアリル基を示す。()成分には場合によっては、任意にQ単位(SiO2)を含んでいてよい。 The component (F) includes M units (R 3 SiO 1/2 ) and T units (RSiO 3/2 ) in addition to the D units (R 2 R 3 SiO 2/2 ) represented by the above formula (2). May contain. These molar ratios are 90-24: 75-0: 50-1, particularly 70-28: 70-20: 10-2 (provided that the following Q units: When it is not included, a total of 100) is preferable from the properties of the cured product. Here, R represents a hydroxyl group, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group, a vinyl group, or an allyl group. In some cases, the ( F ) component may optionally contain Q units (SiO 2 ).

(F)オルガノポリシロキサン成分中の全シロキサン単位当り、好ましくは30モル%以上、特には50モル%以上が分子中でかかる上記式(2)で表される直鎖状ジオルガノポリシロキサン構造を形成しているD単位(R23SiO2/2)であることが好ましい。なお、上限に特に制限はないが、通常99.5モル%以下、好ましくは99モル%以下、より好ましくは95モル%以下程度でよい。また、(F)成分のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算重量平均分子量は3,000〜100,000であることが好ましく、より好ましくは10,000〜100,000である。この範囲にあると、該ポリマーは固体もしくは半固体状であり、作業性、硬化性等から好適である。 (F) The linear diorganopolysiloxane structure represented by the above formula (2) is preferably 30 mol% or more, particularly 50 mol% or more in the molecule per total siloxane unit in the organopolysiloxane component. The D unit (R 2 R 3 SiO 2/2 ) is preferably formed. In addition, although there is no restriction | limiting in particular in an upper limit, Usually, 99.5 mol% or less, Preferably it is 99 mol% or less, More preferably, about 95 mol% or less may be sufficient. Moreover, it is preferable that the polystyrene conversion weight average molecular weights by the gel permeation chromatography (GPC) of (F) component are 3,000-100,000, More preferably, it is 10,000-100,000. Within this range, the polymer is solid or semi-solid, which is preferable from the viewpoint of workability and curability.

(F)成分は、上記各単位の原料となる化合物を、生成ポリマー中で所要のモル比となるように組み合わせ、例えば酸の存在下で加水分解して縮合を行うことによって合成することができる。 The component (F) can be synthesized by combining the compounds used as raw materials for the above units in the resulting polymer so as to have a required molar ratio, for example, hydrolysis and condensation in the presence of an acid. .

ここで、T単位(RSiO3/2)の原料としては、MeSiCl3、EtSiCl3、PhSiCl3、プロピルトリクロロシラン、シクロヘキシルトリクロロシラン等のクロロシラン類、これらそれぞれのクロロシラン類に対応するメトキシシラン類等のアルコキシシラン類などを例示できる。なお、Meはメチル基、Etはエチル基、Phはフェニル基を示す。 Here, as a raw material of the T unit (RSiO 3/2 ), chlorosilanes such as MeSiCl 3 , EtSiCl 3 , PhSiCl 3 , propyltrichlorosilane, cyclohexyltrichlorosilane, and methoxysilanes corresponding to these chlorosilanes are used. Examples include alkoxysilanes. Me represents a methyl group, Et represents an ethyl group, and Ph represents a phenyl group.

上記式(2)のD単位(R23SiO2/2)の原料としては、

Figure 0005728961
As a raw material of the D unit (R 2 R 3 SiO 2/2 ) of the above formula (2),
Figure 0005728961

Figure 0005728961
Figure 0005728961

Figure 0005728961
Figure 0005728961

ここで、mは3〜48の整数(平均値)、nは0〜45の整数(平均値)、かつm+nが3〜48(平均値)等を例示することができる。なお、Meはメチル基、Etはエチル基、Phはフェニル基を示す。   Here, m is an integer of 3 to 48 (average value), n is an integer of 0 to 45 (average value), and m + n is 3 to 48 (average value). Me represents a methyl group, Et represents an ethyl group, and Ph represents a phenyl group.

また、M単位、T単位等の原料としては、Me2PhSiCl、Me2ViSiCl、MePhSiCl2、MeViSiCl2、Ph2MeSiCl、Ph2ViSiCl、PhViSiCl2等のクロロシラン類、これらのクロロシランのそれぞれに対応するメトキシシラン類等のアルコキシシラン類などを例示することができる。なお、Meはメチル基、Etはエチル基、Phはフェニル基、Viはビニル基を示す。 Moreover, as raw materials for M units, T units, etc., chlorosilanes such as Me 2 PhSiCl, Me 2 ViSiCl, MePhSiCl 2 , MeViSiCl 2 , Ph 2 MeSiCl, Ph 2 ViSiCl, PhViSiCl 2 , and these chlorosilanes, respectively. Examples include alkoxysilanes such as methoxysilanes. Me represents a methyl group, Et represents an ethyl group, Ph represents a phenyl group, and Vi represents a vinyl group.

これらの原料となる化合物を、所定のモル比で組合せて、例えば以下の反応で得ることができる。フェニルメチルジクロロシラン100質量部、フェニルトリクロロシラン1,900質量部、Si数21個の両末端クロルジメチルシリコーンオイル2,400質量部、トルエン3,000質量部を投入混合し、水11,000質量部中に混合シランを滴下し30〜50℃で1時間共加水分解する。その後、50℃で1時間熟成後、水を入れて洗浄し、その後共沸脱水、濾過、減圧ストリップをする。   These raw materials can be combined in a predetermined molar ratio and obtained, for example, by the following reaction. 100 parts by weight of phenylmethyldichlorosilane, 1,900 parts by weight of phenyltrichlorosilane, 2,400 parts by weight of chlorodimethylsilicone oil having both ends of 21 Si, and 3,000 parts by weight of toluene are mixed in, and 11,000 parts by weight of water. The mixed silane is dropped into the part and co-hydrolyzed at 30 to 50 ° C. for 1 hour. Thereafter, after aging at 50 ° C. for 1 hour, water is added for washing, followed by azeotropic dehydration, filtration, and vacuum stripping.

なお、上記共加水分解及び縮合により製造する際に、シラノール基を有するシロキサン単位が含まれ得る。()成分のオルガノポリシロキサンは、かかるシラノール基含有シロキサン単位を、通常、全シロキサン単位に対して0.5〜10モル、好ましくは1〜5モル程度含有することが好ましい。上記シラノール基含有シロキサン単位としては、例えば、R(HO)SiO2/2単位、R(HO)2SiO1/2単位、R2(HO)SiO1/2単位が挙げられる(Rはヒドロキシル基ではない)。該オルガノポリシロキサンはシラノール基を含有するので、(A)成分の硬化性ポリオルガノシロキサンと反応する。 In addition, when manufacturing by the said cohydrolysis and condensation, the siloxane unit which has a silanol group may be contained. The organopolysiloxane of component ( F ) usually contains such a silanol group-containing siloxane unit in an amount of usually 0.5 to 10 mol, preferably about 1 to 5 mol, based on all siloxane units. Examples of the silanol group-containing siloxane units include R (HO) SiO 2/2 units, R (HO) 2 SiO 1/2 units, and R 2 (HO) SiO 1/2 units (R is a hydroxyl group). is not). Since the organopolysiloxane contains a silanol group, it reacts with the curable polyorganosiloxane of component (A).

(F)成分の配合量は、(A)成分100質量部に対して、2〜50質量部、好ましくは3〜30質量部である。配合量が少ないと連続成形性の向上効果が少なく、また低反り性を達成することができない。添加量が多いと、組成物の粘度が上昇し成形に支障をきたすことがある。   (F) The compounding quantity of a component is 2-50 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component, Preferably it is 3-30 mass parts. If the blending amount is small, the effect of improving the continuous moldability is small, and low warpage cannot be achieved. When the addition amount is large, the viscosity of the composition increases, which may hinder molding.

本発明は、上記成分に加え、下記の成分を配合できる。
(G)離型剤
本発明のシリコーン樹脂組成物には、(G)成分として、必要に応じて、任意に内部離型剤を配合することができる。(G)成分は、成形時の離型性を高めるために配合するものであり、全組成に対して0〜5.0質量%、好ましくは0.2〜5.0質量%含有するように添加するものである。内部離型剤としては、天然ワックス、酸ワックス、ポリエチレンワックス、脂肪酸ワックスを代表とする合成ワックス等があるが、中でも融点が120〜140℃であるステアリン酸カルシウムを用いることが望ましい。
In addition to the above components, the present invention can contain the following components.
(G) Mold Release Agent The silicone resin composition of the present invention can optionally contain an internal mold release agent as the component (G) as necessary. The component (G) is blended in order to improve the releasability at the time of molding, and is 0 to 5.0% by mass, preferably 0.2 to 5.0% by mass with respect to the total composition. It is to be added. As the internal mold release agent, there are natural wax, acid wax, polyethylene wax, synthetic wax typified by fatty acid wax, etc., among which calcium stearate having a melting point of 120 to 140 ° C. is preferably used.

(H)カップリング剤
本発明のシリコーン樹脂組成物には、(H)成分として、樹脂と無機充填剤との結合強度を強くするため、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤等のカップリング剤を必要に応じて、任意に配合することができる。
このようなカップリング剤としては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のエポキシ官能性アルコキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ官能性アルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト官能性アルコキシシランなどを用いることが好ましい。なお、表面処理に用いるカップリング剤の配合量及び表面処理方法については特に制限されるものではない。
(H) Coupling agent In the silicone resin composition of the present invention, as the component (H), a coupling agent such as a silane coupling agent or a titanate coupling agent is used to increase the bond strength between the resin and the inorganic filler. Can be optionally blended as necessary.
Examples of such a coupling agent include epoxy functions such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, and β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane. Functional alkoxysilanes such as N-β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, and γ-mercapto It is preferable to use a mercapto functional alkoxysilane such as propyltrimethoxysilane. The amount of coupling agent used for the surface treatment and the surface treatment method are not particularly limited.

(H)成分を配合する場合には、その配合量は、(A)成分100質量部に対して、0.1〜8.0質量部、好ましくは0.5〜6.0質量部である。0.1質量部未満であると、基材への接着効果が十分でない場合があり、また8.0質量部を超えると、粘度が極端に低下して、ボイドの原因になる可能性がある。   (B) When mix | blending (H) component, the compounding quantity is 0.1-8.0 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component, Preferably it is 0.5-6.0 mass parts. . If the amount is less than 0.1 parts by mass, the adhesion effect to the substrate may not be sufficient, and if it exceeds 8.0 parts by mass, the viscosity may be extremely reduced, which may cause voids. .

その他の添加剤
本発明のシリコーン樹脂組成物には、更に必要に応じて各種の添加剤を配合することができる。例えば、樹脂の性質を改善する目的で種々のシリコーンパウダー、熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー、有機合成ゴム等の添加剤を本発明の効果を損なわない範囲で添加配合することができる。
Other Additives Various additives can be further blended in the silicone resin composition of the present invention as necessary. For example, additives such as various silicone powders, thermoplastic resins, thermoplastic elastomers, and organic synthetic rubbers can be added and blended within the range not impairing the effects of the present invention for the purpose of improving the properties of the resin.

組成物の製造方法
本発明の光半導体ケース形成用白色熱硬化性シリコーン組成物の製造方法としては、上記(A)〜(F)成分、必要に応じて(G),(H)成分、及びその他の添加物を所定の組成比で配合し、これをミキサー等によって十分均一に混合した後、熱ロール、ニーダー、エクストルーダー等による溶融混合処理を行い、次いで冷却固化させ、適当な大きさに粉砕してシリコーン樹脂組成物の成形材料とすることができる。
Manufacturing method of composition As a manufacturing method of the white thermosetting silicone composition for optical semiconductor case formation of this invention, said (A)-(F) component, (G), (H) component as needed, and After blending other additives at a predetermined composition ratio and mixing them sufficiently uniformly with a mixer, etc., perform a melt mixing process with a hot roll, a kneader, an extruder, etc., and then cool and solidify to an appropriate size. It can grind | pulverize and it can be set as the molding material of a silicone resin composition.

光半導体ケース
このようにして得られる上記組成物は、LED等の光半導体のリフレクターとしてのケースの形成に用いられる。
このようなリフレクターの最も一般的な成形方法としては、トランスファー成形法や圧縮成形法が挙げられる。トランスファー成形法では、トランスファー成形機を用い、成形圧力5〜20N/mm2、成形温度120〜190℃で成形時間30〜500秒、特に成形温度150〜185℃で成形時間30〜180秒で行うことが好ましい。また、圧縮成形法では、コンプレッション成形機を用い、成形温度は120〜190℃で成形時間30〜600秒、特に成形温度130〜160℃で成形時間120〜300秒で行うことが好ましい。更に、いずれの成形法においても、後硬化を150〜185℃で2〜20時間行ってよい。
なお、このようにして得られる上記組成物の硬化物は、ガラス転移温度超の線膨張係数が30ppm/K以下、好ましくは25ppm/K以下であることが好ましい。
Optical semiconductor case The composition obtained in this way is used to form a case as a reflector of an optical semiconductor such as an LED.
The most common molding method for such a reflector includes a transfer molding method and a compression molding method. In the transfer molding method, using a transfer molding machine, the molding pressure is 5 to 20 N / mm 2 , the molding temperature is 120 to 190 ° C., the molding time is 30 to 500 seconds, and the molding temperature is 150 to 185 ° C., and the molding time is 30 to 180 seconds. It is preferable. In the compression molding method, a compression molding machine is used, and the molding temperature is preferably 120 to 190 ° C., the molding time is 30 to 600 seconds, and the molding temperature is preferably 130 to 160 ° C. and the molding time is 120 to 300 seconds. Further, in any molding method, post-curing may be performed at 150 to 185 ° C. for 2 to 20 hours.
The cured product of the composition obtained in this way has a linear expansion coefficient exceeding the glass transition temperature of 30 ppm / K or less, preferably 25 ppm / K or less.

このようにして得られるリフレクターの波長450nmでの光反射率は、初期値で70%以上、特に75%以上、とりわけ80%以上である。光反射率が、70%未満であると、例えば、LED用半導体素子リフレクターとしての耐用時間が短くなる。なお、反射率の測定方法は、例えば50mm×50mm×0.35mm(厚さ)の正方形状の硬化物サンプルを作製し、エス・デイ・ジー(株)製の分光光度計X−rite 8200等を用いて測定することができる。   The light reflectance at a wavelength of 450 nm of the reflector thus obtained is 70% or more, particularly 75% or more, particularly 80% or more as an initial value. When the light reflectance is less than 70%, for example, the service life as an LED semiconductor element reflector is shortened. In addition, the measuring method of a reflectance produces the square-shaped hardened | cured material sample of 50 mm x 50 mm x 0.35 mm (thickness), for example, the spectrophotometer X-rite 8200 by SDG Co., Ltd., etc. Can be measured.

以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not restrict | limited to the following Example.

実施例、比較例で使用した原料を以下に示す。
(A)オルガノポリシロキサン
[合成例1]
メチルトリクロロシラン100質量部、トルエン200質量部を1Lのフラスコに入れ、氷冷下で水8質量部、イソプロピルアルコール60質量部の混合液を液中滴下した。内温は−5〜0℃で5〜20時間かけて滴下し、その後加熱して還流温度で20分間撹拌した。それから室温まで冷却し、水12質量部を30℃以下、30分間で滴下し、20分間撹拌した。更に水25質量部を滴下後、40〜45℃で60分間撹拌した。その後水200部をいれて有機層を分離した。この有機層を中性になるまで洗浄し、その後共沸脱水、濾過、減圧ストリップをすることにより、下記式で示される(CH3)SiO3/2単位を基本構造とする無色透明の固体(融点76℃,重量平均分子量3,600)36.0質量部の熱硬化性オルガノポリシロキサン(A−1)を得た。
(CH31.0Si(OC370.07(OH)0.101.4
The raw materials used in Examples and Comparative Examples are shown below.
(A) Organopolysiloxane [Synthesis Example 1]
100 parts by mass of methyltrichlorosilane and 200 parts by mass of toluene were placed in a 1 L flask, and a mixed liquid of 8 parts by mass of water and 60 parts by mass of isopropyl alcohol was added dropwise to the solution under ice cooling. The internal temperature was dropped at -5 to 0 ° C over 5 to 20 hours, then heated and stirred at reflux temperature for 20 minutes. Then, the mixture was cooled to room temperature, 12 parts by mass of water was added dropwise at 30 ° C. or lower for 30 minutes, and stirred for 20 minutes. Further, 25 parts by mass of water was added dropwise, followed by stirring at 40 to 45 ° C. for 60 minutes. Thereafter, 200 parts of water was added to separate the organic layer. The organic layer was washed until neutral, then azeotropically dehydrated, filtered, and stripped under reduced pressure to give a colorless and transparent solid having a basic structure of (CH 3 ) SiO 3/2 units represented by the following formula ( A thermosetting organopolysiloxane (A-1) having a melting point of 76 ° C. and a weight average molecular weight of 3,600) of 36.0 parts by mass was obtained.
(CH 3 ) 1.0 Si (OC 3 H 7 ) 0.07 (OH) 0.10 O 1.4

(B)無機物ウィスカー
下記無機物ウィスカー(B−1)、(B−2)を用意した。
B−1:チタン酸カリウム(ティスモN:大塚化学(株)製商品名、線径0.5μm、長さ10μm)
B−2:ガラス繊維(FMT−25F:福島窯業(株)製商品名、線径10μm、長さ260μm)
(B) Inorganic whiskers The following inorganic whiskers (B-1) and (B-2) were prepared.
B-1: Potassium titanate (Tismo N: trade name, manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd., wire diameter 0.5 μm, length 10 μm)
B-2: Glass fiber (FMT-25F: Fukushima Ceramic Co., Ltd. trade name, wire diameter 10 μm, length 260 μm)

(C)白色顔料
[合成例2]
平均粒径が5μmの酸化イットリウム粒子(信越化学工業(株)製)を水と混合して、水酸化ナトリウムを用いてpH10に調整し、酸化イットリウムの質量として300g/1Lのスラリーを調整した。このスラリーを80℃で撹拌し、アルミン酸ナトリウムをアルミナとして酸化イットリウム粒子の質量に対して2質量%添加し、次いで1時間かけて1規定の硫酸を用いてpH7近辺に中和し、酸化イットリウム粒子の表面にアルミナの被覆を形成した。アルミナ被覆層を形成した酸化イットリウム粒子を濾別、水洗し、120℃、16時間乾燥し、ボールミルにて30分粉砕することで酸化イットリウム顔料(C−1)を得た。
(C) White pigment [Synthesis Example 2]
Yttrium oxide particles having an average particle size of 5 μm (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) were mixed with water and adjusted to pH 10 using sodium hydroxide, to prepare a slurry of 300 g / 1 L as the mass of yttrium oxide. The slurry is stirred at 80 ° C., 2% by mass of sodium aluminate as alumina is added to the mass of the yttrium oxide particles, and then neutralized to about pH 7 with 1N sulfuric acid over 1 hour. A coating of alumina was formed on the surface of the particles. The yttrium oxide particles on which the alumina coating layer was formed were separated by filtration, washed with water, dried at 120 ° C. for 16 hours, and pulverized with a ball mill for 30 minutes to obtain an yttrium oxide pigment (C-1).

(D)無機充填剤
下記無機充填剤(D−1)を用意した。
D−1:溶融球状シリカ:MSR−4500TN(龍森(株)製)
(E)有機金属触媒
下記有機金属触媒(E−1)を用意した。
E−1:安息香酸亜鉛(和光純薬工業(株)製)
(D) Inorganic filler The following inorganic filler (D-1) was prepared.
D-1: Fused spherical silica: MSR-4500TN (manufactured by Tatsumori Co., Ltd.)
(E) Organometallic catalyst The following organometallic catalyst (E-1) was prepared.
E-1: Zinc benzoate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)

(F)オルガノポリシロキサン
[合成例3]
フェニルメチルジクロロシラン100g(4.4モル%)、フェニルトリクロロシラン2,100g(83.2モル%)、Si数21個の両末端クロルジメチルシリコーンオイル2,400g(12.4モル%)、トルエン3,000gを混合し、水11,000g中に混合した上記シラン、シリコーンオイルを滴下し30〜50℃で1時間共加水分解した。50℃で1時間熟成後、水を入れて洗浄し、その後共沸脱水、濾過、減圧ストリップをすることにより、(C65)(CH3)SiO2/2単位、(C65)SiO3/2単位及び

Figure 0005728961
単位からなる150℃での溶融粘度5Pa・s、無色透明のオルガノポリシロキサン(F−1)を得た。 (F) Organopolysiloxane [Synthesis Example 3]
Phenylmethyldichlorosilane 100 g (4.4 mol%), phenyltrichlorosilane 2,100 g (83.2 mol%), chlorodimethylsilicone oil 2,400 g (12.4 mol%) having 21 Si atoms, toluene 3,000 g was mixed, and the above silane and silicone oil mixed in 11,000 g of water were added dropwise and co-hydrolyzed at 30-50 ° C. for 1 hour. After aging at 50 ° C. for 1 hour, water was added for washing, followed by azeotropic dehydration, filtration, and vacuum stripping to obtain (C 6 H 5 ) (CH 3 ) SiO 2/2 units, (C 6 H 5 ) SiO 3/2 units and
Figure 0005728961
A colorless and transparent organopolysiloxane (F-1) having a melt viscosity of 5 Pa · s at 150 ° C. composed of units was obtained.

(G)離型剤
下記離型剤(G−1)を用意した。
G−1:ステアリン酸カルシウム(和光純薬工業(株)製)
(G) Release agent The following release agent (G-1) was prepared.
G-1: Calcium stearate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)

参考例1〜3、比較例1]
表1に示す配合(質量部)で、(A)オルガノポリシロキサン、(B)無機物ウィスカー、(C)白色顔料、(D)無機充填剤、(E)有機金属触媒、(F)オルガノポリシロキサン、(G)離型剤を配合し、二本ロールにて製造し、冷却、粉砕して白色シリコーン樹脂組成物を得た。
[ Reference Examples 1 to 3, Comparative Example 1]
In the formulation (parts by mass) shown in Table 1, (A) organopolysiloxane, (B) inorganic whisker, (C) white pigment, (D) inorganic filler, (E) organometallic catalyst, (F) organopolysiloxane , (G) A release agent was blended, produced with a two-roll, cooled and pulverized to obtain a white silicone resin composition.

これらの組成につき、以下の諸特性を測定した。結果を表1に示す。成形はすべてトランスファー成形機で、成形温度175℃、成形圧力6.9N/mm2、成形時間120秒の条件で行った。 The following properties were measured for these compositions. The results are shown in Table 1. All moldings were performed by a transfer molding machine under the conditions of a molding temperature of 175 ° C., a molding pressure of 6.9 N / mm 2 , and a molding time of 120 seconds.

スパイラルフロー値
EMMI規格に準じた金型を使用して、成形温度175℃、成形圧力6.9N/mm2、成形時間120秒の条件で行った。
Using a mold conforming to the spiral flow value EMMI standard, the molding temperature was 175 ° C., the molding pressure was 6.9 N / mm 2 , and the molding time was 120 seconds.

溶融粘度
高化式フローテスターを用い、25kgf/cm2の加圧下、直径1mmのノズルを用い、温度175℃で粘度を測定した。
Using a melt viscosity increasing flow tester, the viscosity was measured at a temperature of 175 ° C. using a nozzle having a diameter of 1 mm under a pressure of 25 kgf / cm 2 .

曲げ強度、曲げ弾性率
JIS−K6911規格に準じた金型を使用して、成形温度175℃、成形圧力6.9N/mm2、成形時間120秒の条件で成形した試験片を室温(25℃)にて、曲げ強度を測定した。
Bending strength and flexural modulus Using a mold conforming to the JIS-K6911 standard, a test piece molded under conditions of a molding temperature of 175 ° C., a molding pressure of 6.9 N / mm 2 and a molding time of 120 seconds is room temperature (25 ° C. ) To measure the bending strength.

光反射率
成形温度175℃、成形圧力6.9N/mm2、成形時間120秒の条件で、1辺50mm、厚さ0.35mmの正方形の硬化物を作製し、エス・デイ・ジー(株)製X−rite 8200を使用して400及び450nmの光反射率を測定した。
A square cured product having a side of 50 mm and a thickness of 0.35 mm was produced under conditions of a light reflectance molding temperature of 175 ° C., a molding pressure of 6.9 N / mm 2 , and a molding time of 120 seconds. ) 400 and 450 nm light reflectivities were measured using an X-rite 8200.

線膨脹係数
成形温度175℃、成形圧力6.9N/mm2、成形時間120秒の条件で、5mm×5mm×15mmの硬化物を成形し、180℃、4時間ポストキュアーした。その後、理学製TMA8140Cで昇温スピード5℃/minの条件で線膨脹係数を測定した。
A cured product of 5 mm × 5 mm × 15 mm was molded under conditions of a linear expansion coefficient molding temperature of 175 ° C., a molding pressure of 6.9 N / mm 2 and a molding time of 120 seconds, and post-cured at 180 ° C. for 4 hours. Thereafter, the linear expansion coefficient was measured with a TMA8140C manufactured by Rigaku under the condition of a heating rate of 5 ° C./min.

バリ取り差測定
成形温度175℃、成形圧力6.9N/mm2、成形時間120秒の条件で、1辺50mm、厚さ0.35mmの正方形の硬化物を作製し、水、シリカを噴射することでブラスト処理を行い、バリ取り差を測定した。
Deburring difference measurement Under the conditions of a molding temperature of 175 ° C., a molding pressure of 6.9 N / mm 2 and a molding time of 120 seconds, a square cured product having a side of 50 mm and a thickness of 0.35 mm is produced, and water and silica are injected. Thus, blasting was performed, and the deburring difference was measured.

Figure 0005728961
Figure 0005728961

表1に示すように、チタン酸カリウムを添加することで曲げ強度の数値が上がることがわかった。参考例2のチタン酸カリウムと比較例1のガラス繊維量は同体積量であり、このことからもチタン酸カリウムの添加による強度の向上が確認できた。また、チタン酸カリウムの添加によってブラスト処理時のバリ取り差が減少していることから耐摩耗性が向上していることも確認できた。従って、参考例の組成物は光半導体ケースに有用であることが確認できた。
As shown in Table 1, it was found that the addition of potassium titanate increases the bending strength. Potassium titanate of Reference Example 2 and the amount of glass fiber of Comparative Example 1 were the same volume, and this also confirmed the improvement in strength due to the addition of potassium titanate. It was also confirmed that the wear resistance was improved because the deburring difference during the blasting treatment was reduced by the addition of potassium titanate. Therefore, it was confirmed that the composition of the reference example was useful for the optical semiconductor case.

Claims (2)

(A)下記式(1)で表され、GPCによるポリスチレン換算の重量平均分子量が500〜20,000のレジン状オルガノポリシロキサン: 100質量部、
(CH3aSi(OR1b(OH)c(4-a-b-c)/2 (1)
(式中、R1は同一又は異種の炭素数1〜4のアルキル基を示し、a、b、cは0.8≦a≦1.5、0≦b≦0.3、0.001≦c≦0.5、0.801≦a+b+c<2を満たす数であるが、T単位(CH 3 SiO 3/2 )の含有モル数の比率が70モル%以上である。)
(B)線径0.05〜100μmのチタン酸カリウム:
組成物全体の0.001〜20質量%、
(C)希土類酸化物を含有してなる白色顔料: 3〜200質量部、
(D)無機充填剤(但し、チタン酸カリウム及び白色顔料を除く):
400〜1,000質量部、
(E)有機金属触媒: 0.01〜10質量部、
(F)下記式(2)で表される構造を全シロキサン単位の50モル%以上含むオルガノポリシロキサン: 2〜50質量部
Figure 0005728961
(式中、R2及びR3は水酸基、又は炭素数1〜3のアルキル基、シクロヘキシル基、ビニル基、フェニル基及びアリル基から選ばれる一価炭化水素基であるが、R2、R3は同時に水酸基ではない。mは5〜50を満たす数である。)
を必須成分とすることを特徴とする光半導体ケース形成用白色熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
(A) Resinous organopolysiloxane represented by the following formula (1) and having a polystyrene-reduced weight average molecular weight of 500 to 20,000 by GPC: 100 parts by mass
(CH 3 ) a Si (OR 1 ) b (OH) c O (4-abc) / 2 (1)
(Wherein R 1 represents the same or different alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and a, b, and c are 0.8 ≦ a ≦ 1.5, 0 ≦ b ≦ 0.3, 0.001 ≦ (C ≦ 0.5, 0.801 ≦ a + b + c <2, but the ratio of the number of moles of the T unit (CH 3 SiO 3/2 ) is 70 mol% or more .)
(B) Potassium titanate having a wire diameter of 0.05 to 100 μm:
0.001-20% by weight of the total composition,
(C) White pigment containing a rare earth oxide: 3-200 parts by mass,
(D) Inorganic filler (except potassium titanate and white pigment):
400 to 1,000 parts by mass,
(E) Organometallic catalyst: 0.01 to 10 parts by mass,
(F) Organopolysiloxane containing 50 mol% or more of the total siloxane unit in the structure represented by the following formula (2): 2 to 50 parts by mass
Figure 0005728961
(Wherein, R 2 and R 3 are hydroxyl, or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a cyclohexyl group, a vinyl group, is a monovalent hydrocarbon group selected from a phenyl group and an allyl group, R 2, R 3 Are not hydroxyl groups at the same time, m is a number satisfying 5-50.)
A white thermosetting silicone resin composition for forming an optical semiconductor case, comprising:
請求項1記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物の硬化物からなる光半導体ケース。   An optical semiconductor case comprising a cured product of the thermosetting silicone resin composition according to claim 1.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5728960B2 (en) * 2011-01-17 2015-06-03 信越化学工業株式会社 White thermosetting silicone resin composition for optical semiconductor case formation and optical semiconductor case
JP2015040238A (en) * 2013-08-21 2015-03-02 信越化学工業株式会社 Thermosetting silicone resin composition for forming optical semiconductor casing
JP5797717B2 (en) * 2013-10-16 2015-10-21 台湾太陽油▲墨▼股▲分▼有限公司 White thermosetting resin composition, cured product thereof, and display member using the same
JP6194853B2 (en) * 2014-06-06 2017-09-13 信越化学工業株式会社 White thermosetting silicone resin composition for optical semiconductor device and case for mounting optical semiconductor element

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002117778A (en) * 2000-10-10 2002-04-19 Toray Ind Inc Substrate for display, member for display and display
WO2006013899A1 (en) * 2004-08-03 2006-02-09 Tokuyama Corporation Package for storing light emitting element and method for producing package for storing light emitting element
JP4386361B2 (en) * 2005-01-18 2009-12-16 信越化学工業株式会社 Silicone rubber composition for electrode protection
WO2007034955A1 (en) * 2005-09-26 2007-03-29 Tokuyama Corporation Sintered ceramics for mounting light emitting element
JP4623322B2 (en) * 2007-12-26 2011-02-02 信越化学工業株式会社 White thermosetting silicone resin composition for forming optical semiconductor case, optical semiconductor case and molding method thereof
JP2009212134A (en) * 2008-02-29 2009-09-17 Toshiba Corp Aluminum nitride package, light-emitting device, backlight, and lighting equipment
JP4678415B2 (en) * 2008-03-18 2011-04-27 信越化学工業株式会社 White thermosetting silicone resin composition for forming optical semiconductor case and optical semiconductor case
JP2010106243A (en) * 2008-09-30 2010-05-13 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Silicone resin composition for optical semiconductor device
JP5545246B2 (en) * 2010-03-30 2014-07-09 信越化学工業株式会社 Resin composition, reflector for light emitting semiconductor element, and light emitting semiconductor device
JP5728960B2 (en) * 2011-01-17 2015-06-03 信越化学工業株式会社 White thermosetting silicone resin composition for optical semiconductor case formation and optical semiconductor case
TW201247782A (en) * 2011-05-25 2012-12-01 Daxin Materials Corp White thermocurable siloxane resin composition

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