JP5668784B2 - Suspension board with support frame - Google Patents
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Description
本発明は、支持枠からサスペンション用基板を生産性良くカットでき、かつ、サスペンション用基板の設計自由度が高い支持枠付サスペンション用基板に関する。 The present invention relates to a suspension substrate with a support frame that can cut a suspension substrate from a support frame with high productivity and has a high degree of design freedom of the suspension substrate.
近年、インターネットの普及等によりパーソナルコンピュータの情報処理量の増大や情報処理速度の高速化が要求されてきており、それに伴って、パーソナルコンピュータに組み込まれているハードディスクドライブ(HDD)も大容量化や情報伝達速度の高速化が必要となってきている。 In recent years, due to the spread of the Internet and the like, there has been a demand for an increase in the amount of information processing of personal computers and an increase in information processing speed, and along with this, the capacity of hard disk drives (HDD) incorporated in personal computers has increased. Increasing information transmission speed is required.
HDDに用いられるサスペンション用基板(フレキシャ)は、通常、一方の先端部分に形成され、磁気ヘッドスライダ等の記録再生用素子を実装する記録再生用素子実装領域と、他方の先端部分に形成され、外部回路基板との接続を行う外部回路基板接続領域と、記録再生用素子実装領域および外部回路基板接続領域を接続する配線層とを有する。また、サスペンション用基板は、通常、金属支持基板、絶縁層および配線層がこの順に積層された基本構造を有する。 A suspension substrate (flexure) used in an HDD is usually formed at one end portion, formed at a recording / reproducing element mounting area for mounting a recording / reproducing element such as a magnetic head slider, and at the other end portion. It has an external circuit board connection area for connecting to the external circuit board, and a wiring layer for connecting the recording / reproducing element mounting area and the external circuit board connection area. The suspension substrate usually has a basic structure in which a metal support substrate, an insulating layer, and a wiring layer are laminated in this order.
例えば配線層の端子部の表面には、劣化防止や接続信頼性向上を目的として、めっき部を設けることが知られている。特許文献1には、めっきリード(めっき線)の一部をエッチングにより除去する、配線回路基板の製造方法が開示されている。一方、特許文献2には、第1の接地部において金属支持基板に電気的に接続されるようにベース絶縁層上に形成された配線パターンを有する配線回路基板であって、第1の接地部を金属支持基板の分離部に設けることが開示されている。また、特許文献3には、サスペンション用基板の長手方向に対して、配線層の端子部が横に配置されたサスペンション用基板が開示されている。
For example, it is known that a plated portion is provided on the surface of the terminal portion of the wiring layer for the purpose of preventing deterioration and improving connection reliability.
HDDの高機能化に伴い、サスペンション用基板に必要とされる配線層の数は増加傾向にある。そのため、端子部の数も増加し、端子部の配置に工夫が必要となる。一方、サスペンション用基板の製造では、後述するように、複数のサスペンション用基板と支持枠とが一体化しているシート(支持枠付サスペンション用基板)を作製する。その後、支持枠からサスペンション用基板をカットし、個片のサスペンション用基板を得る。例えば、端子部を後述する横配置とし、さらにめっき線を共通化すると、後述する共通めっき線含有構造体が変形しやすくなり、支持枠からサスペンション用基板を生産性良くカットできない場合がある。また、共通めっき線含有構造体の変形を防止するために、共通めっき線含有構造体の金属支持基板の幅を全体的に太くすることが想定されるが、その場合、サスペンション用基板の設計自由度が低くなる。 As the functionality of HDDs increases, the number of wiring layers required for a suspension board is increasing. For this reason, the number of terminal portions also increases, and it is necessary to devise arrangement of the terminal portions. On the other hand, in the manufacture of the suspension substrate, as will be described later, a sheet (suspension substrate with a support frame) in which a plurality of suspension substrates and a support frame are integrated is manufactured. Thereafter, the suspension substrate is cut from the support frame to obtain individual suspension substrates. For example, if the terminal portions are arranged in a horizontal manner to be described later and the plating wires are made common, the common plating wire-containing structure described later is likely to be deformed, and the suspension substrate may not be cut from the support frame with high productivity. In addition, in order to prevent deformation of the structure containing the common plating line, it is assumed that the width of the metal support board of the structure containing the common plating line is increased overall. The degree becomes lower.
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、支持枠からサスペンション用基板を生産性良くカットでき、かつ、サスペンション用基板の設計自由度が高い支持枠付サスペンション用基板を提供することを主目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a suspension substrate with a support frame that can cut the suspension substrate from the support frame with high productivity and has a high degree of design freedom of the suspension substrate. Main purpose.
上記課題を解決するために、本発明においては、サスペンション用基板と、支持枠とを有し、上記支持枠の内部開口領域で上記サスペンション用基板および上記支持枠が一体化している支持枠付サスペンション用基板であって、上記サスペンション用基板は、金属支持基板と、上記金属支持基板上に形成された絶縁層と、上記絶縁層上に形成された配線層とを有し、上記配線層は端子部を有し、複数の上記端子部の長手方向はそれぞれ上記サスペンション用基板の短手方向と一致し、かつ、上記複数の端子部は上記サスペンション用基板の長手方向に沿って並列配置され、上記支持枠は、上記金属支持基板と、上記金属支持基板上に形成された上記絶縁層と、上記絶縁層上に形成された導体層とを有し、上記内側開口領域に向って、上記支持枠から共通めっき線含有構造体が形成され、上記共通めっき線含有構造体は、上記金属支持基板と、上記金属支持基板上に形成された上記絶縁層と、上記絶縁層上に形成され、上記導体層から連続的に形成された共通めっき線部とを有し、上記共通めっき線部と上記複数の端子部とを接続するための接続用配線部が形成され、上記共通めっき線含有構造体の上記金属支持基板は、上記支持枠の上記金属支持基板から連続的に形成されたものであり、さらに、上記支持枠側に形成された根元部と、上記支持枠とは反対側に形成され上記根元部の幅よりも細い幅を有する先端部とを備えることを特徴とする支持枠付サスペンション用基板を提供する。 In order to solve the above problems, in the present invention, a suspension with a support frame has a suspension substrate and a support frame, and the suspension substrate and the support frame are integrated in an internal opening region of the support frame. The suspension substrate includes a metal support substrate, an insulating layer formed on the metal support substrate, and a wiring layer formed on the insulating layer, wherein the wiring layer is a terminal. Each of the plurality of terminal portions coincides with the short direction of the suspension substrate, and the plurality of terminal portions are arranged in parallel along the longitudinal direction of the suspension substrate. The support frame includes the metal support substrate, the insulating layer formed on the metal support substrate, and a conductor layer formed on the insulating layer, and supports the support toward the inner opening region. The common plated wire-containing structure is formed from the metal supporting substrate, the insulating layer formed on the metal supporting substrate, the insulating layer formed on the insulating layer, and the conductor. A common plating line portion formed continuously from the layer, a connection wiring portion for connecting the common plating line portion and the plurality of terminal portions is formed, and the common plating wire-containing structure The metal support substrate is formed continuously from the metal support substrate of the support frame, and further, a root portion formed on the support frame side and the opposite side of the support frame are formed on the side. Provided is a suspension substrate with a support frame, comprising a tip portion having a width narrower than a width of a root portion.
本発明によれば、共通めっき線含有構造体の金属支持基板が根元部を有することにより、共通めっき線含有構造体の変形を防止することができ、支持枠からサスペンション用基板を生産性良くカットできる。さらに、共通めっき線含有構造体の金属支持基板が、根元部の幅よりも細い幅を有する先端部を備えることから、サスペンション用基板の設計自由度を高くすることができる。 According to the present invention, since the metal support substrate of the common plating wire-containing structure has the root portion, the deformation of the common plating wire-containing structure can be prevented, and the suspension substrate can be cut from the support frame with high productivity. it can. Furthermore, since the metal support substrate of the common plated wire-containing structure includes a tip portion having a width smaller than the width of the root portion, the degree of freedom in designing the suspension substrate can be increased.
上記発明においては、上記接続用配線部に断線部が形成され、上記サスペンション用基板および上記共通めっき線含有構造体が分離していることが好ましい。サスペンション用基板の作製に必要なカット回数を低減することができるからである。 In the said invention, it is preferable that a disconnection part is formed in the said connection wiring part, and the said board | substrate for suspension and the said common plating wire containing structure are isolate | separated. This is because the number of cuts necessary for manufacturing the suspension substrate can be reduced.
本発明の支持枠付サスペンション用基板は、支持枠からサスペンション用基板を生産性良くカットでき、かつ、サスペンション用基板の設計自由度が高いという効果を奏する。 The suspension substrate with a support frame of the present invention has an effect that the suspension substrate can be cut from the support frame with high productivity and the design freedom of the suspension substrate is high.
以下、本発明の支持枠付サスペンション用基板について詳細に説明する。 Hereinafter, the suspension substrate with a support frame of the present invention will be described in detail.
本発明の支持枠付サスペンション用基板は、サスペンション用基板と、支持枠とを有し、上記支持枠の内部開口領域で上記サスペンション用基板および上記支持枠が一体化している支持枠付サスペンション用基板であって、上記サスペンション用基板は、金属支持基板と、上記金属支持基板上に形成された絶縁層と、上記絶縁層上に形成された配線層とを有し、上記配線層は端子部を有し、複数の上記端子部の長手方向はそれぞれ上記サスペンション用基板の短手方向と一致し、かつ、上記複数の端子部は上記サスペンション用基板の長手方向に沿って並列配置され、上記支持枠は、上記金属支持基板と、上記金属支持基板上に形成された上記絶縁層と、上記絶縁層上に形成された導体層とを有し、上記内側開口領域に向って、上記支持枠から共通めっき線含有構造体が形成され、上記共通めっき線含有構造体は、上記金属支持基板と、上記金属支持基板上に形成された上記絶縁層と、上記絶縁層上に形成され、上記導体層から連続的に形成された共通めっき線部とを有し、上記共通めっき線部と上記複数の端子部とを接続するための接続用配線部が形成され、上記共通めっき線含有構造体の上記金属支持基板は、上記支持枠の上記金属支持基板から連続的に形成されたものであり、さらに、上記支持枠側に形成された根元部と、上記支持枠とは反対側に形成され上記根元部の幅よりも細い幅を有する先端部とを備えることを特徴とするものである。 The suspension substrate with a support frame of the present invention includes a suspension substrate and a support frame, and the suspension substrate with a support frame in which the suspension substrate and the support frame are integrated in an internal opening region of the support frame. The suspension substrate includes a metal support substrate, an insulating layer formed on the metal support substrate, and a wiring layer formed on the insulating layer, and the wiring layer has a terminal portion. Each of the plurality of terminal portions coincides with the short direction of the suspension substrate, and the plurality of terminal portions are arranged in parallel along the longitudinal direction of the suspension substrate. Comprises the metal support substrate, the insulating layer formed on the metal support substrate, and a conductor layer formed on the insulating layer, and is formed from the support frame toward the inner opening region. A common plated wire-containing structure is formed, and the common plated wire-containing structure is formed on the metal support substrate, the insulating layer formed on the metal support substrate, and the conductor layer. A common plating line portion continuously formed from the connecting plating portion for connecting the common plating wire portion and the plurality of terminal portions, and the common plating wire-containing structure. The metal support substrate is formed continuously from the metal support substrate of the support frame, and further, a root portion formed on the support frame side, and a base portion formed on the opposite side of the support frame. And a tip portion having a width narrower than the width of the portion.
図1は、本発明の支持枠付サスペンション用基板の一例を示す概略平面図である。なお、便宜上、絶縁層およびカバー層の記載は省略している。図1に示される支持枠付サスペンション用基板200は、複数のサスペンション用基板100と支持枠110とを有し、支持枠110の内部開口領域120で、複数のサスペンション用基板100と支持枠110とが一体化しているものである。
FIG. 1 is a schematic plan view showing an example of a suspension frame-equipped suspension substrate according to the present invention. For convenience, the description of the insulating layer and the cover layer is omitted. A
図2は、本発明におけるサスペンション用基板の一例を示す模式図である。図2(a)はサスペンション用基板の概略平面図であり、図2(b)は図2(a)のA−A断面図である。なお、図2(a)では、便宜上、絶縁層およびカバー層の記載は省略している。図2(a)に示されるサスペンション用基板100は、一方の先端部分に形成された記録再生用素子実装領域101と、他方の先端部分に形成された外部回路基板接続領域102と、記録再生用素子実装領域101および外部回路基板接続領域102を電気的に接続する複数の配線層103a〜103dとを有する。配線層103aおよび配線層103bは一対の配線層であり、同様に、配線層103cおよび配線層103dも一対の配線層である。これらの2つの配線層は、一方が書込用配線層であり、他方が読取用配線層である。また、図2(b)に示すように、サスペンション用基板100は、金属支持基板1と、金属支持基板1上に形成された絶縁層2と、絶縁層2上に形成された配線層3と、配線層3を覆うように形成されたカバー層4とを有する。
FIG. 2 is a schematic view showing an example of a suspension substrate in the present invention. 2A is a schematic plan view of the suspension substrate, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 2A. In FIG. 2A, illustration of the insulating layer and the cover layer is omitted for convenience. A
図3は、本発明の支持枠付サスペンション用基板を説明する概略平面図であり、図4は、図3における金属支持基板のみを示した概略平面図である。なお、図3では、便宜上、カバー層の記載は省略している。図3に示すように、配線層は、素子接続用端子部(図示せず)に接続された引き回し部3aと、引き回し部3aに接続された端子部3b(例えば外部回路基板接続用端子部)とを有する。複数の端子部3bの長手方向xはそれぞれサスペンション用基板の短手方向Yと一致し、かつ、複数の端子部3bはサスペンション用基板の長手方向Xに沿って並列配置されている。また、内側開口領域に向って、支持枠110から共通めっき線含有構造体111が形成されている。また、図3、図4に示すように、共通めっき線含有構造体111は、金属支持基板1と、金属支持基板1上に形成された絶縁層2と、絶縁層2上に形成され、導体層3eから連続的に形成された共通めっき線部3dとを有する。また、図3に示すように、共通めっき線部3dと複数の端子部3bとを接続するための接続用配線部3cが形成されている。また、図4に示すように、共通めっき線含有構造体111の金属支持基板1は、支持枠110の金属支持基板1から連続的に形成されたものであり、さらに、支持枠110側に形成された根元部11aと、支持枠110とは反対側に形成され根元部11aの幅W1よりも細い幅W2を有する先端部11bとを備える。
FIG. 3 is a schematic plan view for explaining the suspension frame-equipped suspension substrate of the present invention, and FIG. 4 is a schematic plan view showing only the metal support substrate in FIG. In FIG. 3, the cover layer is not shown for convenience. As shown in FIG. 3, the wiring layer includes a
本発明によれば、共通めっき線含有構造体の金属支持基板が根元部を有することにより、共通めっき線含有構造体の変形を防止することができ、支持枠からサスペンション用基板を生産性良くカットできる。さらに、共通めっき線含有構造体の金属支持基板が、根元部の幅よりも細い幅を有する先端部を備えることから、サスペンション用基板の設計自由度を高くすることができる。 According to the present invention, since the metal support substrate of the common plating wire-containing structure has the root portion, the deformation of the common plating wire-containing structure can be prevented, and the suspension substrate can be cut from the support frame with high productivity. it can. Furthermore, since the metal support substrate of the common plated wire-containing structure includes a tip portion having a width smaller than the width of the root portion, the degree of freedom in designing the suspension substrate can be increased.
ここで、図5に示すように、従来の支持枠付サスペンション用基板では、複数の端子部3bに、複数のめっき線部3fがそれぞれ形成され、各々のめっき線部3fが、支持枠110の導体層3eに接続されていた。これに対して、図5における複数のめっき線部3fを、図6(a)のような共通めっき線部3dに変更することで、サスペンション用基板の小型化が可能になるという利点がある。一方、共通めっき線部3dを採用すると、複数の端子部3bを独立化するためのカット(CL1でのカット)、および、支持枠110からサスペンション用基板100を分離するためのカット(CL2でのカット)が必要になる。例えばCL1でのカットにより、複数の端子部3bと、共通めっき線部3dとは分離されるが、カット時の応力は、図6(b)に示す根元部11aに集中する。その結果、共通めっき線含有構造体111の金属支持基板1が厚さ方向(z軸方向)に飛び出すように変形する場合がある。この変形した金属支持基板1の存在により、カット時(例えばCL1でのカット時)に使用する金型に支持枠付サスペンション用基板を安定的に設置できず、生産性が低下する場合がある。
Here, as shown in FIG. 5, in the conventional suspension substrate with a support frame, a plurality of plating wire portions 3 f are respectively formed on the plurality of
これに対して、本発明においては、上述した図4に示すように、共通めっき線含有構造体111の金属支持基板1が、先端部11bの幅W2よりも太い幅W1を有する根元部11aを備えることから、共通めっき線含有構造体111の変形を防止することができ、支持枠110からサスペンション用基板100を生産性良くカットできる。なお、根元部11aおよび先端部11bの幅をともに太くすると、共通めっき線含有構造体111の変形自体は防止できるものの、共通めっき線含有構造体111が大型化し、サスペンション用基板の設計自由度が低くなるという問題がある。これに対して、共通めっき線含有構造体111の金属支持基板1は、根元部11aの幅W1よりも細い幅W2を有する先端部11bを備えるため、サスペンション用基板の設計自由度を高くすることができる。
On the other hand, in the present invention, as shown in FIG. 4 described above, the
また、本発明においては、共通めっき線部が形成されていることから、図5のように、複数のめっき線部3fを設ける場合に比べて、小型化が可能であるという利点がある。さらに、本発明における共通めっき線含有構造体は、カット後のサスペンション用基板には含まれず支持枠に残るため、この点においても、サスペンション用基板の小型化を図ることができる。 Further, in the present invention, since the common plated wire portion is formed, there is an advantage that the size can be reduced as compared with the case where a plurality of plated wire portions 3f are provided as shown in FIG. Furthermore, since the common plated wire-containing structure in the present invention is not included in the suspension substrate after cutting and remains in the support frame, the suspension substrate can be reduced in this respect as well.
また、本発明においては、上述した図3で例示するように、端子部3bの長手方向xとサスペンション用基板の短手方向Yとが一致するように、端子部3bが形成される。「サスペンション用基板の長手方向」とは、例えばサスペンション用基板の中心にある、複数の基準穴を結んだ中心線に平行な方向をいい、「サスペンション用基板の短手方向」とは、サスペンション用基板の長手方向に直交する方向をいう。本発明における「一致」とは、厳密な平行のみならず、ある程度の角度(例えば±30°の範囲内)で交差する場合も含む概念である。また、本発明においては、上述した図3で例示するように、複数の端子部3bは、サスペンション用基板の長手方向Xに沿って並列配置される(横配置)。本発明における「沿う」とは、厳密な平行のみならず、ある程度の角度(例えば±30°の範囲内)で交差する場合も含む概念である。
Further, in the present invention, as illustrated in FIG. 3 described above, the
上記のように、複数の端子部が横配置となることにより、配線層の数が増加しても、端子部の変形を防止できるという利点がある。HDDの高機能化に伴って、必要とされる配線層の数が増加し、その結果、端子部の数も増加する。なお、端子部の長手方向をサスペンション用基板の長手方向と一致させ、複数の端子部をサスペンション用基板の短手方向に沿って並列配置すると(縦配置)、端子部の数も増加に伴って、端子部の幅(短手方向の長さ)を小さくする必要が生じ、端子部の変形が生じやすいという問題が生じる。これに対して、本発明によれば、端子部の数の増加に伴ってサスペンション用基板が長手方向に多少長くなる可能性はあるものの、端子部の幅(短手方向の長さ)を十分に確保できることから、端子部の変形を防止できるという利点がある。
以下、本発明の支持枠付サスペンション用基板について、支持枠付サスペンション用基板の部材と、支持枠付サスペンション用基板の構成とに分けて説明する。
As described above, since the plurality of terminal portions are arranged horizontally, there is an advantage that deformation of the terminal portions can be prevented even if the number of wiring layers is increased. As the functionality of HDDs increases, the number of wiring layers required increases, and as a result, the number of terminal portions also increases. When the longitudinal direction of the terminal portion is made to coincide with the longitudinal direction of the suspension substrate and a plurality of terminal portions are arranged in parallel along the short direction of the suspension substrate (vertical arrangement), the number of terminal portions increases as the number of terminal portions increases. Therefore, it is necessary to reduce the width (length in the short direction) of the terminal portion, which causes a problem that the terminal portion is likely to be deformed. On the other hand, according to the present invention, the suspension board may be slightly longer in the longitudinal direction as the number of terminal parts is increased, but the width of the terminal part (the length in the short direction) is sufficient. Therefore, there is an advantage that deformation of the terminal portion can be prevented.
Hereinafter, the suspension substrate with a support frame of the present invention will be described separately for the member of the suspension substrate with a support frame and the configuration of the suspension substrate with a support frame.
1.支持枠付サスペンション用基板の部材
まず、本発明の支持枠付サスペンション用基板の部材について説明する。本発明の支持枠付サスペンション用基板は、サスペンション用基板および支持枠を有するものである。また、サスペンション用基板は、少なくとも金属支持基板、絶縁層、配線層および配線めっき部を有し、支持枠は、少なくとも金属支持基板、絶縁層および導体層を有する。
1. First, members of the suspension substrate with a support frame of the present invention will be described. The suspension substrate with a support frame of the present invention has a suspension substrate and a support frame. The suspension substrate has at least a metal support substrate, an insulating layer, a wiring layer, and a wiring plating portion, and the support frame has at least a metal support substrate, an insulating layer, and a conductor layer.
サスペンション用基板および支持枠における金属支持基板の材料は、ばね性を有する金属であることが好ましく、具体的にはステンレス鋼等を挙げることができる。また、金属支持基板の厚さは、その材料の種類により異なるものであるが、例えば10μm〜20μmの範囲内である。 The material of the metal support substrate in the suspension substrate and the support frame is preferably a metal having a spring property, and specific examples include stainless steel. Moreover, although the thickness of a metal support substrate changes with kinds of the material, it exists in the range of 10 micrometers-20 micrometers, for example.
サスペンション用基板および支持枠における絶縁層は、それぞれ、金属支持基板上に形成されるものである。絶縁層の材料は、絶縁性を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば樹脂を挙げることができる。上記樹脂としては、例えばポリイミド樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ポリベンゾイミダゾール樹脂、アクリル樹脂、ポリエーテルニトリル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂およびポリ塩化ビニル樹脂を挙げることができ、中でもポリイミド樹脂が好ましい。絶縁性、耐熱性および耐薬品性に優れているからである。また、絶縁層の材料は、感光性材料であっても良く、非感光性材料であっても良い。絶縁層の厚さは、例えば5μm〜30μmの範囲内であることが好ましく、5μm〜18μmの範囲内であることがより好ましく、5μm〜12μmの範囲内であることがさらに好ましい。 The insulating layers in the suspension substrate and the support frame are each formed on the metal support substrate. The material of the insulating layer is not particularly limited as long as it has insulating properties, and examples thereof include a resin. Examples of the resin include polyimide resin, polybenzoxazole resin, polybenzimidazole resin, acrylic resin, polyether nitrile resin, polyether sulfone resin, polyethylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin, and polyvinyl chloride resin. Of these, polyimide resin is preferred. It is because it is excellent in insulation, heat resistance and chemical resistance. In addition, the material of the insulating layer may be a photosensitive material or a non-photosensitive material. The thickness of the insulating layer is, for example, preferably in the range of 5 μm to 30 μm, more preferably in the range of 5 μm to 18 μm, and still more preferably in the range of 5 μm to 12 μm.
サスペンション用基板における配線層は、絶縁層上に形成されるものである。配線層の材料は、導電性を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば金属を挙げることができ、中でも銅(Cu)が好ましい。また、配線層の材料は、圧延銅であっても良く、電解銅であっても良い。配線層の厚さは、例えば5μm〜18μmの範囲内であることが好ましく、5μm〜12μmの範囲内であることがより好ましい。 The wiring layer in the suspension substrate is formed on the insulating layer. The material of the wiring layer is not particularly limited as long as it has conductivity, but for example, a metal can be cited, and copper (Cu) is particularly preferable. Moreover, the material of the wiring layer may be rolled copper or electrolytic copper. The thickness of the wiring layer is preferably in the range of 5 μm to 18 μm, for example, and more preferably in the range of 5 μm to 12 μm.
上記配線層としては、例えば書込用配線層、読取用配線層、熱アシスト用配線層、アクチュエータ素子用配線層、電源用配線層、フライトハイトコントロール用配線層、グランド用配線層、ノイズシールド用配線層、クロストーク防止用配線層等を挙げることができる。 Examples of the wiring layer include a writing wiring layer, a reading wiring layer, a heat assist wiring layer, an actuator element wiring layer, a power supply wiring layer, a flight height control wiring layer, a ground wiring layer, and a noise shield. Examples thereof include a wiring layer and a wiring layer for preventing crosstalk.
また、配線層の一部の表面には、めっき部が形成されていることが好ましい。めっき部を設けることにより、配線層の劣化(腐食等)を防止できるからである。特に、本発明においては、配線層の端子部にめっき部が形成されていることが好ましい。めっき部の種類は特に限定されるものではないが、例えば、Auめっき、Niめっき、Agめっき、Cuめっき等を挙げることができる。中でも、配線層の表面側からNiめっきおよびAuめっきが形成されていることが好ましい。めっき部の厚さは、例えば0.1μm〜4μmの範囲内である。 Moreover, it is preferable that the plating part is formed in the one part surface of a wiring layer. This is because the deterioration (corrosion or the like) of the wiring layer can be prevented by providing the plating portion. In particular, in the present invention, it is preferable that a plating portion is formed in the terminal portion of the wiring layer. Although the kind of plating part is not specifically limited, For example, Au plating, Ni plating, Ag plating, Cu plating etc. can be mentioned. Especially, it is preferable that Ni plating and Au plating are formed from the surface side of the wiring layer. The thickness of the plating portion is, for example, in the range of 0.1 μm to 4 μm.
支持枠における導体層は、絶縁層上に形成されるものである。導体層の材料は、通常、配線層と同一の材料から構成されるものである。導体層の厚さの好ましい範囲は、配線層の厚さの好ましい範囲と同様である。中でも、本発明においては、導体層の厚さと、配線層の厚さとが同じであることが好ましい。 The conductor layer in the support frame is formed on the insulating layer. The material of the conductor layer is usually composed of the same material as the wiring layer. The preferable range of the thickness of the conductor layer is the same as the preferable range of the thickness of the wiring layer. In particular, in the present invention, the thickness of the conductor layer and the thickness of the wiring layer are preferably the same.
本発明におけるサスペンション用基板は、配線層を覆うカバー層を有していることが好ましい。配線層の劣化(例えば腐食)を防止することができるからである。カバー層の材料は、例えば樹脂を挙げることができ、中でもポリイミド樹脂であることが好ましい。また、カバー層の材料は、感光性材料であっても良く、非感光性材料であっても良い。配線層上のカバー層の厚さは、例えば2μm〜30μmの範囲内であることが好ましく、2μm〜10μmの範囲内であることがより好ましい。また、本発明における支持枠は、導体層上に、カバー層を有するものであっても良い。 The suspension substrate in the present invention preferably has a cover layer covering the wiring layer. This is because deterioration (for example, corrosion) of the wiring layer can be prevented. Examples of the material for the cover layer include a resin, and among them, a polyimide resin is preferable. The material of the cover layer may be a photosensitive material or a non-photosensitive material. The thickness of the cover layer on the wiring layer is preferably in the range of 2 μm to 30 μm, for example, and more preferably in the range of 2 μm to 10 μm. Further, the support frame in the present invention may have a cover layer on the conductor layer.
2.支持枠付サスペンション用基板の構成
次に、本発明の支持枠付サスペンション用基板の構成について説明する。本発明における配線層は端子部を有し、複数の端子部の長手方向はそれぞれサスペンション用基板の短手方向と一致し、かつ、複数の端子部はサスペンション用基板の長手方向に沿って並列配置される。なお、これらの記載の定義については、上述した通りである。
2. Next, the configuration of the suspension substrate with a support frame according to the present invention will be described. The wiring layer according to the present invention has terminal portions, the longitudinal directions of the plurality of terminal portions respectively coincide with the short direction of the suspension substrate, and the plurality of terminal portions are arranged in parallel along the longitudinal direction of the suspension substrate. Is done. The definitions of these descriptions are as described above.
本発明における端子部は、外部回路基板の端子部と接続される端子部であることが好ましい。HDDの高機能化に伴い、外部回路基板に接続される端子の数が増加しているからである。なお、本発明における端子部は、サスペンション用基板の電気検査を行うための電極を接触させるテスト用端子部(テストパッド)であっても良い。端子部の形態としては、絶縁層とは反対側の表面のみが露出する形態、絶縁層側およびその反対側の両面が露出する形態(フライングリード)、絶縁層側の表面のみが露出する形態等を挙げることができる。端子部の形状は、特に限定されるものではないが、例えば正方形(長手方向および短手方向の長さが同一)および長方形等の矩形状を挙げることができる。例えば、端子部がフライングリードである場合、長手方向の長さは、例えば100μm〜600μmの範囲内であり、200μm〜500μmの範囲内であることが好ましい。一方、短手方向の長さは、例えば50μm〜300μmの範囲内であり、100μm〜200μmの範囲内であることが好ましい。また、端子部の数は、例えば4個〜12個の範囲内である。 It is preferable that the terminal part in this invention is a terminal part connected with the terminal part of an external circuit board. This is because the number of terminals connected to the external circuit board is increasing as the function of the HDD is increased. In addition, the terminal part in this invention may be a test terminal part (test pad) which contacts the electrode for performing the electrical test | inspection of the board | substrate for suspensions. As the form of the terminal portion, a form in which only the surface opposite to the insulating layer is exposed, a form in which both the insulating layer side and the opposite side are exposed (flying leads), a form in which only the surface on the insulating layer side is exposed, etc. Can be mentioned. Although the shape of a terminal part is not specifically limited, For example, rectangular shapes, such as a square (The length of a longitudinal direction and the short direction is the same) and a rectangle, can be mentioned. For example, when the terminal portion is a flying lead, the length in the longitudinal direction is, for example, in the range of 100 μm to 600 μm, and preferably in the range of 200 μm to 500 μm. On the other hand, the length in the short direction is, for example, in the range of 50 μm to 300 μm, and preferably in the range of 100 μm to 200 μm. Moreover, the number of terminal parts is in the range of 4 to 12, for example.
本発明においては、内側開口領域に向って、支持枠から共通めっき線含有構造体が形成される。この共通めっき線含有構造体は、通常、金属支持基板と、金属支持基板上に形成された絶縁層と、絶縁層上に形成され、導体層から連続的に形成された共通めっき線部とを有する。 In the present invention, the common plated wire-containing structure is formed from the support frame toward the inner opening region. This common plated wire-containing structure usually includes a metal support substrate, an insulating layer formed on the metal support substrate, and a common plated wire portion formed on the insulating layer and continuously formed from the conductor layer. Have.
共通めっき線含有構造体の金属支持基板は、支持枠の金属支持基板から連続的に形成されたものであり、さらに、支持枠側に形成された根元部と、支持枠とは反対側に形成され根元部の幅よりも細い幅を有する先端部とを備える。図4に示すように、根元部11aの幅をW1とし、先端部11bの幅をW2とした場合、W1は、例えば300μm以上であり、300μm〜1000μmの範囲内であることが好ましく、300μm〜800μmの範囲内であることがより好ましい。上記範囲であれば、共通めっき線含有構造体が、厚さ方向(z軸方向)飛び出すように変形することを防止できるからである。一方、W2は、例えば200μm以下であり、50μm〜150μmの範囲内であることが好ましく、60μm〜100μmの範囲内であることがより好ましい。上記範囲であれば、サスペンション用基板の設計自由度を高く維持できるからである。また、W1とW2との差は、例えば100μm以上であることが好ましく、100μm〜900μmの範囲内であることがより好ましい。
The metal support substrate of the structure containing the common plating wire is formed continuously from the metal support substrate of the support frame, and further, the base portion formed on the support frame side and the opposite side of the support frame are formed. And a tip portion having a width smaller than the width of the root portion. As shown in FIG. 4, the width of the
共通めっき線含有構造体の金属支持基板の平面視形状は、上述した根元部および先端部を有するものであれば特に限定されるものではない。上記平面視形状の一例としては、図7(a)に示すように、根元部11aから先端部11bに向かって、幅が連続的に減少する略三角形状を挙げることができる。また、根元部11aおよび先端部11bを結ぶ辺のなかで、サスペンション用基板100に対向する辺11xは、サスペンション用基板100の長手方向に沿って形成されていることが好ましい。また、上記平面視形状の他の例としては、図7(b)に示すように、根元部11aから先端部11bに向かって、幅が略同一に保持され、内角θが180°未満である変化点Pから、幅が連続的に減少する略台形形状を挙げることができる。上記平面視形状のさらに他の例としては、図7(c)に示すように、根元部11aから先端部11bに向かって、幅が連続的に減少し、内角θが180°未満である変化点Pを経て、再び幅が連続的に減少する略台形形状を挙げることができる。また、図7(d)に示すように、根元部11aから先端部11bに向かって、幅が連続的に減少し、内角θが180°より大きい変化点Pを経て、再び幅が連続的に減少する形状を挙げることができる。なお、本発明において、共通めっき線含有構造体の金属支持基板の幅は、連続的に減少しても良く、段階的に減少しても良い。また、変化点Pは二以上存在しても良い。
The planar view shape of the metal support substrate of the common plated wire-containing structure is not particularly limited as long as it has the above-described root portion and tip portion. As an example of the shape in plan view, as shown in FIG. 7A, a substantially triangular shape whose width continuously decreases from the
また、本発明におけるサスペンション用基板および支持枠は、任意の部材で連結されていることが好ましい。中でも、本発明においては、図8(a)に示すように、サスペンション用基板100の金属支持基板1と、支持枠110の金属支持基板1とが、金属支持基板1から構成される連結部1aで連結され、サスペンション用基板100の金属支持基板1と、共通めっき線含有構造体111の金属支持基板1とが連結されていないことが好ましい。例えば図6(a)におけるCL1でのカット(複数の端子部3bを独立化するためのカット)が容易になるからである。一方、変形防止を重要視する場合には、図8(b)に示すように、サスペンション用基板100の金属支持基板1と、共通めっき線含有構造体111の金属支持基板1とが、金属支持基板1から構成される連結部1bで連結されていても良い。また、サスペンション用基板の作製に必要なカット回数を低減することを重要視する場合は、図8(c)に示すように、サスペンション用基板100の金属支持基板1と、共通めっき線含有構造体111の金属支持基板1とが、金属支持基板1から構成される連結部1bで連結され、サスペンション用基板100の金属支持基板1と、支持枠110の金属支持基板1とが連結されていなくても良い。
In addition, the suspension substrate and the support frame in the present invention are preferably connected by an arbitrary member. Among them, in the present invention, as shown in FIG. 8A, a connecting
また、共通めっき線含有構造体は、通常、絶縁層および共通めっき線部を有する。絶縁層および共通めっき線部の平面視形状は特に限定されるものではないが、図3に示すように、共通めっき線含有構造体の金属支持基板と略同一形状または略相似形状であることが好ましい。根元部がより補強されるからである。 Moreover, the common plated wire containing structure usually has an insulating layer and a common plated wire portion. Although the planar view shape of the insulating layer and the common plating line portion is not particularly limited, as shown in FIG. 3, it may be substantially the same shape or substantially similar shape to the metal support substrate of the common plating wire-containing structure. preferable. This is because the root portion is further reinforced.
本発明においては、共通めっき線部と、複数の端子部とを接続するための接続用配線部が形成される。すなわち、接続用配線部および共通めっき線部により、複数の端子部のめっき線が共有化される。本発明においては、図3に示すように、接続用配線部3cがサスペンション用基板100の短手方向Yに沿って形成されていることが好ましい。また、接続用配線部3cは端子部3bの短辺と接続されていることが好ましい。
In the present invention, a connection wiring portion for connecting the common plating wire portion and the plurality of terminal portions is formed. That is, the plating wires of the plurality of terminal portions are shared by the connection wiring portion and the common plating wire portion. In the present invention, as shown in FIG. 3, the
本発明の支持枠付サスペンション用基板の具体例について、図9〜図11を用いて説明する。図9(a)は支持枠付サスペンション用基板の概略平面図であり、図9(b)は図9(a)のA−A断面図である。なお、図9(a)では、便宜上、カバー層の記載は省略している。これらの事項は、図10および図11でも同様である。図9では、サスペンション用基板100および共通めっき線含有構造体111を、接続用配線部3cおよび絶縁層2で連結している。図10では、サスペンション用基板100および共通めっき線含有構造体111を、接続用配線部3cのみで連結している。なお、図9(b)および図10(b)では、カバー層4に開口部が形成されているが、本発明においては、サスペンション用基板100および共通めっき線含有構造体111を、カバー層4で連結しても良い。また、図11では、接続用配線部3cに断線部3αが形成され、サスペンション用基板100および共通めっき線含有構造体111を、絶縁層2のみで連結している。
Specific examples of the suspension substrate with a support frame of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 9A is a schematic plan view of a suspension substrate with a support frame, and FIG. 9B is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 9A. In FIG. 9A, the cover layer is not shown for convenience. These matters are the same in FIG. 10 and FIG. In FIG. 9, the
また、本発明においては、接続用配線部に断線部が形成され、サスペンション用基板および共通めっき線含有構造体が分離していることが好ましい。サスペンション用基板の作製に必要なカット回数を低減することができるからである。「分離している」とは、分離のためのカットを要しない状態をいう。そのため、通常は、サスペンション用基板および共通めっき線含有構造体の間において、金属支持基板、絶縁層、カバー層も分離している。 In the present invention, it is preferable that a disconnection portion is formed in the connection wiring portion, and the suspension substrate and the common plating wire-containing structure are separated. This is because the number of cuts necessary for manufacturing the suspension substrate can be reduced. “Separated” means a state that does not require a cut for separation. Therefore, usually, the metal support substrate, the insulating layer, and the cover layer are also separated between the suspension substrate and the common plated wire-containing structure.
図12は、断線部を有する支持枠付サスペンション用基板を説明する模式図である。図12(a)は支持枠付サスペンション用基板の概略平面図であり、図12(b)は図12(a)のA−A断面図である。なお、図12(a)では、便宜上、カバー層の記載は省略している。図12(a)、(b)に示すように、接続用配線部3cに断線部3αが形成され、サスペンション用基板100および共通めっき線含有構造体111が分離している。そのため、支持枠110からサスペンション用基板100を分離するためのカット(CLでのカット)だけで、サスペンション用基板を得ることができ、サスペンション用基板の製造効率が向上するという利点がある。なお、このような断線部を設けた場合、図6(a)におけるCL1でのカットが不要になるため、CL1でのカットによる根元部11aへの応力集中は生じない。しかしながら、根元部11aの幅が小さいと、同様に、共通めっき線含有構造体111の金属支持基板1が、厚さ方向(z軸方向)に飛び出すように変形する場合があり、図12(a)におけるCLでのカット時に使用する金型に支持枠付サスペンション用基板を安定的に設置できず、生産性が低下する場合がある。これに対して、本発明においては、上述した図4に示すように、共通めっき線含有構造体111の金属支持基板1が、先端部11bの幅W2よりも太い幅W1を有する根元部11aを備えることから、共通めっき線含有構造体111の変形を防止することができ、支持枠110からサスペンション用基板100を生産性良くカットできる。
FIG. 12 is a schematic diagram illustrating a suspension substrate with a support frame having a disconnection portion. FIG. 12A is a schematic plan view of a suspension substrate with a support frame, and FIG. 12B is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. In FIG. 12A, the cover layer is not shown for convenience. As shown in FIGS. 12A and 12B, the disconnection portion 3α is formed in the
図13は、本発明における断線部を説明する模式図である。図13(a)は、本発明における断線部の概略平面図であり、図13(b)は図13(a)のA−A断面図である。図13(a)では、便宜上、カバー層およびめっき部の記載は省略している。図13(a)に示すように、断線部3αの長さをL1とした場合、L1は100μm以上であることが好ましく、100μm〜300μmの範囲内であることが好ましい。上記範囲であれば、端子部3bと共通めっき線部3dとを確実に断線できるからである。
FIG. 13 is a schematic diagram for explaining a disconnection portion in the present invention. Fig.13 (a) is a schematic plan view of the disconnection part in this invention, FIG.13 (b) is AA sectional drawing of Fig.13 (a). In FIG. 13A, the description of the cover layer and the plated portion is omitted for convenience. As shown in FIG. 13 (a), if the length of the disconnection unit 3α was L 1, it is preferable that L 1 is 100μm or more, preferably in the range of 100 m to 300 m. This is because the
また、図13(b)に示すように、断線部3αよりもサスペンション用基板100側の接続用配線部3c上には、カバー層4が形成されていることが好ましい。外部機器(図示せず)が接続用配線部3cに接触することを防止でき、外部機器の静電気が接続用配線部3cを介して記録再生用素子等の素子に伝わることを防止できるからである。
Further, as shown in FIG. 13B, the
さらに、断線部3αにおけるカバー層4の端部41は、断線部3αにおけるサスペンション用基板100側の接続用配線部3cの端部31よりも突出していることが好ましい。外部機器の静電気が接続用配線部3cを介して記録再生用素子等の素子に伝わることをさらに防止できるからである。カバー層4の端部41と、接続用配線部3cの端部31との距離をL2とした場合、L2は10μm以上であることが好ましく、20μm以上であることがより好ましく、30μm〜50μmの範囲内であることがさらに好ましい。また、断線部3αにおける絶縁層2の端部21は、断線部3αにおけるサスペンション用基板100側の接続用配線部3cの端部31よりも突出していることが好ましい。外部機器の静電気が接続用配線部3cを介して記録再生用素子等の素子に伝わることをさらに防止できるからである。絶縁層2の端部21と、接続用配線部3cの端部31との距離をL3とした場合、L3は20μm以上であることが好ましく、30μm以上であることがより好ましく、40μm〜80μmの範囲内であることがさらに好ましい。
Furthermore, it is preferable that the
本発明においては、支持枠が一つの内部開口領域を有するものであっても良く、支持枠が二以上の内部開口領域を有するものであっても良い。内部開口領域は、二以上のサスペンション用基板を有することが好ましい。 In the present invention, the support frame may have one internal opening region, or the support frame may have two or more internal opening regions. The internal opening region preferably has two or more suspension substrates.
次に、本発明の支持枠付サスペンション用基板の製造方法について説明する。本発明の支持枠付サスペンション用基板の製造方法は、上述した支持枠付サスペンション用基板を得ることができる方法であれば特に限定されるものではない。図14は、本発明の支持枠付サスペンション用基板の製造方法の一例を示す概略断面図である。なお、図14は、図12(b)と同様に図12(a)のA−A断面図に相当するものである。 Next, a method for manufacturing the suspension frame-equipped suspension substrate of the present invention will be described. The manufacturing method of the suspension frame-equipped suspension substrate of the present invention is not particularly limited as long as it is a method capable of obtaining the above-described suspension frame-equipped suspension substrate. FIG. 14 is a schematic cross-sectional view showing an example of a method for producing a suspension substrate with a support frame according to the present invention. Note that FIG. 14 corresponds to the AA cross-sectional view of FIG. 12A, similarly to FIG.
図14においては、まず、金属支持部材1A、絶縁部材2Aおよび導体部材3Aがこの順に積層された積層部材を準備する(図14(a))。次に、導体部材3Aに対して、ウェットエッチングによるパターニングを行い、パターン状の配線層3と、支持枠の導体層(図示せず)とを形成する(図14(b))。この際、金属支持基板1Aに対して、ウェットエッチングによるパターニングを同時に行い、断線部を形成するための開口部を有する金属支持基板1を形成する。次に、配線層3上にカバー層4を形成する(図14(c))。この際、サスペンション用基板および共通めっき線含有構造体を分離させるため、断線部が形成される位置には、カバー層4を形成しない。次に、絶縁部材2Aに対してウェットエッチングを行い、断線部を形成するための開口部を有する絶縁層2を形成する(図14(d))。次に、断線部が形成される位置の配線層3をレジスト7で保護し、配線層3からの給電により、めっき部5を形成する(図14(e))。次に、金属支持基板1および絶縁層2から露出する配線層3に対してウェットエッチングを行い、断線部3αを形成する(図14(f))。この際、金属支持基板1に対してウェットエッチングを行い、金属支持基板1の外形加工を同時に行うことが好ましい。これにより、支持枠付サスペンション用基板が得られる。
In FIG. 14, first, a laminated member in which the metal supporting member 1A, the insulating
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。 The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the technical idea described in the claims of the present invention has substantially the same configuration and exhibits the same function and effect regardless of the case. It is included in the technical scope of the invention.
以下、実施例を用いて、本発明をさらに具体的に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.
[実施例]
まず、厚さ18μmのSUS304(金属支持部材)、厚さ10μmのポリイミド樹脂層(絶縁部材)、厚さ9μmの電解銅層(導体部材)を有する積層部材を準備した(図14(a))。次に、ドライフィルムレジストを積層部材の両面にラミネートし、レジストパターンを形成した。次に、塩化第二鉄液を用いてエッチングし、エッチング後レジスト剥膜を行った。これにより、導体部材から配線層を形成し、金属支持部材から開口部を有する金属支持基板を形成した(図14(b))。
[Example]
First, a laminated member having SUS304 (metal support member) having a thickness of 18 μm, a polyimide resin layer (insulating member) having a thickness of 10 μm, and an electrolytic copper layer (conductor member) having a thickness of 9 μm was prepared (FIG. 14A). . Next, a dry film resist was laminated on both surfaces of the laminated member to form a resist pattern. Next, etching was performed using a ferric chloride solution, and a resist film was removed after the etching. Thereby, a wiring layer was formed from the conductor member, and a metal support substrate having an opening was formed from the metal support member (FIG. 14B).
その後、パターニングされた配線層上に、ポリイミド前駆体溶液をダイコーターでコーティングし、所定のパターニングによりカバー層を形成した(図14(c))。次に、絶縁部材をパターニングするために、レジスト製版し、露出する部位のポリイミド樹脂をウェットエッチングし、開口部を有する絶縁層を形成した(図14(d))。次に、開口部をレジストで保護し、配線層の端子部に、電解Auめっきによりめっき部を形成した(図14(e))。最後に、塩化第二鉄液を用いて、開口部から露出する配線層のエッチングと、金属支持基板の外形加工とを行った(図14(f))。これにより、支持枠付サスペンション用基板を得た。図4に示したW1およびW3を測定したところ、W1は450μmであり、W2は70μmであった。また、図13に示したL1、L2およびL3を測定したところ、L1は200μmであり、L2は40μmであり、L3は60μmであった。 Thereafter, a polyimide precursor solution was coated on the patterned wiring layer with a die coater, and a cover layer was formed by predetermined patterning (FIG. 14C). Next, in order to pattern the insulating member, resist plate-making was performed, and the exposed polyimide resin was wet-etched to form an insulating layer having an opening (FIG. 14D). Next, the opening was protected with a resist, and a plated portion was formed by electrolytic Au plating on the terminal portion of the wiring layer (FIG. 14E). Finally, using the ferric chloride solution, etching of the wiring layer exposed from the opening and external processing of the metal support substrate were performed (FIG. 14F). As a result, a suspension substrate with a support frame was obtained. When W 1 and W 3 shown in FIG. 4 were measured, W 1 was 450 μm and W 2 was 70 μm. Further, when L 1 , L 2 and L 3 shown in FIG. 13 were measured, L 1 was 200 μm, L 2 was 40 μm, and L 3 was 60 μm.
1…金属支持基板、1a…連結部、1b…連結部、 2…絶縁層、 3…配線層、 3α…断線部、 3a…引き回し部、 3b…端子部、 3c…接続用配線部、 3d…共通めっき線部、 3e…導体層、3f…めっき線部、 4…カバー層、 5…めっき部、 6…ビア部、 7…レジスト、 11a…根元部、 11b…先端部、 100…サスペンション用基板、 101…記録再生用素子実装領域、 102…外部回路基板接続領域、 103…配線層、 110…支持枠、 111…共通めっき線含有構造体、 120…内部開口領域
DESCRIPTION OF
Claims (4)
前記サスペンション用基板は、金属支持基板と、前記金属支持基板上に形成された絶縁層と、前記絶縁層上に形成された配線層とを有し、
前記配線層に接続された複数の端子部を有し、
前記支持枠は、前記金属支持基板と、前記金属支持基板上に形成された前記絶縁層と、前記絶縁層上に形成された導体層とを有し、
前記内側開口領域に向って、前記支持枠から共通めっき線含有構造体が形成され、
前記共通めっき線含有構造体は、前記金属支持基板と、前記金属支持基板上に形成された前記絶縁層と、前記絶縁層上に形成され、前記支持枠の前記導体層から連続的に形成された共通めっき線部とを有し、
前記共通めっき線部と前記複数の端子部とを接続するための接続用配線部が形成され、前記接続用配線部は、サスペンション用基板の短手方向に沿って形成され、
前記共通めっき線含有構造体の前記金属支持基板は、前記支持枠の前記金属支持基板から連続的に形成されたものであり、前記サスペンション用基板の長手方向に沿って形成され、さらに、前記支持枠側に形成された根元部と、前記支持枠とは反対側に形成され前記根元部の幅よりも細い幅を有する先端部とを備えることを特徴とする支持枠付サスペンション用基板。 A suspension substrate with a support frame, comprising a suspension substrate and a support frame, wherein the suspension substrate and the support frame are integrated in an internal opening region of the support frame;
The suspension substrate has a metal support substrate, an insulating layer formed on the metal support substrate, and a wiring layer formed on the insulating layer,
Having a plurality of terminal portions connected to the wiring layer;
The support frame includes the metal support substrate, the insulating layer formed on the metal support substrate, and a conductor layer formed on the insulating layer,
A common plated wire-containing structure is formed from the support frame toward the inner opening region,
The common plated wire-containing structure is formed on the metal support substrate, the insulating layer formed on the metal support substrate, the insulating layer, and continuously formed from the conductor layer of the support frame. A common plated wire portion,
A connection wiring portion for connecting the common plating wire portion and the plurality of terminal portions is formed, and the connection wiring portion is formed along a short direction of the suspension substrate,
The metal support substrate of the common plated wire-containing structure is formed continuously from the metal support substrate of the support frame, is formed along the longitudinal direction of the suspension substrate , and further, the support A suspension substrate with a support frame, comprising: a base portion formed on a frame side; and a tip portion formed on a side opposite to the support frame and having a width narrower than a width of the root portion.
前記サスペンション用基板は、金属支持基板と、前記金属支持基板上に形成された絶縁層と、前記絶縁層上に形成された配線層とを有し、
前記配線層は端子部を有し、
複数の前記端子部は前記サスペンション用基板の長手方向に沿って並列配置され、
前記支持枠は、前記金属支持基板と、前記金属支持基板上に形成された前記絶縁層と、前記絶縁層上に形成された導体層とを有し、
前記内側開口領域に向って、前記支持枠から共通めっき線含有構造体が形成され、
前記共通めっき線含有構造体は、前記金属支持基板と、前記金属支持基板上に形成された前記絶縁層と、前記絶縁層上に形成され、前記支持枠の前記導体層から連続的に形成された共通めっき線部とを有し、
前記共通めっき線部と前記複数の端子部とを接続するための接続用配線部が形成され、
前記共通めっき線含有構造体の前記金属支持基板は、前記支持枠の前記金属支持基板から連続的に形成されたものであり、前記サスペンション用基板の長手方向に沿って形成され、さらに、前記支持枠側に形成された根元部と、前記支持枠とは反対側に形成され前記根元部の幅よりも細い幅を有する先端部とを備えることを特徴とする支持枠付サスペンション用基板。 A suspension substrate with a support frame, comprising a suspension substrate and a support frame, wherein the suspension substrate and the support frame are integrated in an internal opening region of the support frame;
The suspension substrate has a metal support substrate, an insulating layer formed on the metal support substrate, and a wiring layer formed on the insulating layer,
The wiring layer has a terminal portion,
The plurality of terminal portions are arranged in parallel along the longitudinal direction of the suspension substrate,
The support frame includes the metal support substrate, the insulating layer formed on the metal support substrate, and a conductor layer formed on the insulating layer,
A common plated wire-containing structure is formed from the support frame toward the inner opening region,
The common plated wire-containing structure is formed on the metal support substrate, the insulating layer formed on the metal support substrate, the insulating layer, and continuously formed from the conductor layer of the support frame. A common plated wire portion,
A connection wiring portion for connecting the common plating wire portion and the plurality of terminal portions is formed,
The metal support substrate of the common plated wire-containing structure is formed continuously from the metal support substrate of the support frame, is formed along the longitudinal direction of the suspension substrate , and further, the support A suspension substrate with a support frame, comprising: a base portion formed on a frame side; and a tip portion formed on a side opposite to the support frame and having a width narrower than a width of the root portion.
前記サスペンション用基板の前記金属支持基板と、前記支持枠の前記金属支持基板とが連結されていないことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の支持枠付サスペンション用基板。 The metal support substrate of the suspension substrate and the metal support substrate of the common plated wire-containing structure are connected by a connecting portion configured from the metal support substrate,
The suspension substrate with a support frame according to claim 1 or 2, wherein the metal support substrate of the suspension substrate and the metal support substrate of the support frame are not connected to each other.
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