JP5624020B2 - 縮合チオフェンおよびその製造方法と使用方法 - Google Patents
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Description
Xが芳香族求核置換離脱基であり;R1が水素、アルキル基、またはアリール基であり;Q1がカルボキシル保護基またはアルデヒド保護基である化合物に関する。
R1およびR2が、同じかまたは異なり、水素、アルキル、およびアリールから選択され;Q3およびQ4が、独立して、水素、カルボン酸、カルボン酸誘導体、アルキル基、アリール基、アルデヒド基、アルデヒド誘導体、ケトン基、ヒドロキシル基、未置換チオール基、置換チオール基、アルコキシ基、アクリレート基、アミノ基、ビニル基、ビニルエーテル基、またはハロゲン化物から選択され;Q2が、以下の式18,19,20,21Aまたは21B:
R15が、水素、アルキルおよびアリールから選択され;Q12が、水素、カルボン酸、カルボン酸誘導体、アルキル基、アリール基、アルデヒド基、アルデヒド誘導体、ケトン基、ヒドロキシル基、未置換チオール基、置換チオール基、アルコキシ基、アクリレート基、アミノ基、ビニル基、ビニルエーテル基、またはハロゲン化物から選択され;Q13が、式:
Xが芳香族求核置換離脱基であり;R1が水素、アルキル基、またはアリール基であり;Q1がカルボキシル保護基またはアルデヒド保護基である化合物に関する。
R1およびR2が、同じかまたは異なり、水素、アルキル、およびアリールから選択され;Q3およびQ4が、独立して、水素、カルボン酸、カルボン酸誘導体、アルキル基、アリール基、アルデヒド基、アルデヒド誘導体、ケトン基、ヒドロキシル基、未置換チオール基、置換チオール基、アルコキシ基、アクリレート基、アミノ基、ビニル基、ビニルエーテル基、またはハロゲン化物から選択され;Q2が、以下の式18,19,20,21Aまたは21B:
ここで、R10およびR11が、同じかまたは異なり、水素、アルキル(例えば、置換または未置換C1〜C8アルキル)、およびアリール(例えば、置換または未置換フェニル)、もしくはR10およびR11が、それらが結合する炭素原子と一緒になって、環(例えば、4−から8−員(5員、6員などの)同素環または複素環)を形成する場合におけるように、1,3−オキサゾリン−2−イル部分などのオキサゾリン部分であって差し支えない。実例として、R10およびR11は、R10およびR11が同じかまたは異なり、C1〜C6アルキルから選択される場合におけるように、同じまたは異なる低級アルキルであって差し支えない。ある実施の形態において、R10およびR11は、例えば、R10およびR11の各々がメチル基、エチル基、n−プロピル基、およびi−プロピル基などである場合におけるように、同じ低級アルキル基である。
ここで、R10およびR11が、同じかまたは異なり、水素、アルキル(例えば、置換または未置換C1〜C8アルキル)、およびアリール(例えば、置換または未置換フェニル)、もしくはR10およびR11が、それらが結合する炭素原子と一緒になって、環(例えば、4−から8−員(5員、6員などの)同素環または複素環)を形成する場合におけるように、1,3−オキサゾリン−2−イル部分などのオキサゾリン部分であって差し支えない。実例として、R10およびR11は、R10およびR11が同じかまたは異なり、C1〜C6アルキルから選択される場合におけるように、同じかまたは異なる低級アルキルであって差し支えない。ある実施の形態において、R10およびR11は、例えば、R10およびR11の各々がメチル基、エチル基、n−プロピル基、およびi−プロピル基などである場合におけるように、同じ低級アルキル基である。
先に記載した化合物および方法のある実施の形態は、例えば、以下に記載するような、縮合チオフェンの合成において遭遇した問題のいくつかまたは全てを克服するかまたは他の様式で対処するであろう。
図9は、先に記載された化合物および手法を用いた5員縮合チオフェン150の調製のための合成スキームを示している。この合成スキームに関する詳細が、以下の実施例2〜9に述べられている。
以下の手法を使用して、3,4−ジブロモチエニル−2−テトラデシル−ケトン(152)を調製した。0℃のCH2Cl2(400mL)中の3,4−ジブロモチオフェン(151)(36.30g、0.15モル)およびAlCl3(46.20g、0.345モル)の混合物に、窒素を流しながら、塩化ミリストイル(38.90g、0.16モル)を滴下した。これを、GC/MSにより出発材料が検出できなくなるまで、0.5時間に亘り撹拌した。次いで、この混合物をHCl(500mL、6M)中に注ぎ入れ、有機化合物をヘキサン(2×300mL)で抽出した。混合有機溶液を塩水(2×150mL)および水(150mL)で洗浄した。無水MgSO4上で乾燥させた後、溶媒を蒸発させた。低融点の固体を収集し、これは、さらに生成せずに使用できるほど十分に純粋であった(68.0g、100%)。Mp: 50-52 oC, GC-MS 453[M+], 1H NMR (300MHz, CD2Cl2 ) δ 7.64(s, 1H), 3.03(t, 2H), 1.71(t,2H), 1.27(m,22H), 0.88(t,3H)。
以下の手法を使用して、3−トリデシル−6−ブロモ−エチルチエノ[3,2−b]チオフェン−2−カルボキシレート(153)を調製した。冷却器および追加の漏斗を備えた三口フラスコ内で化合物152(68.0g、0.15モル)をK2CO3(82.80g、0.60モル)およびDMF(350mL)と混合した。この混合物に、メルカプト酢酸メチル(16.42mL、0.15モル)を60〜70℃で滴下した。触媒量の18−クラウン−6(20mg)を触媒として用いた。この混合物を、GC/MSにより出発材料が検出できなくなるまで、60〜70℃で一晩加熱した。次いで、この混合物を水(600mL)に注ぎ入れ、酢酸エチル(2×250mL)により抽出した。有機化合物を塩水(3×400mL)で洗浄し、MgSO4により乾燥させた。溶媒を蒸発させた後、茶色がかった粗製標的物が得られ、これが次の反応にとって十分に純粋であることが分かった(71.0g、100%)。GC/MS 473[M+]。
以下の手法を使用して、3−トリデシル−6−ブロモ−チエノ[3,2−b]チオフェン−2−カルボン酸(154)を調製した。化合物153(71.0g、0.15モル)を、THF(400mL)、メタノール(50mL)、およびLiOH(72mL、10%溶液)の混合物中に溶解させた。この混合物を一晩還流し、濃塩酸(300mL)中に注ぎ入れた。次いで、この酸混合物を水で1000mLに希釈した。固体を濾過し、水(3×500mL)で洗浄した。薄黄色の固体をメタノール(300mL)で洗浄し、真空下で一晩乾燥させた(46.40g、69.5%)。Mp: 88-90 oC. 1H NMR (300MHz, CD2Cl2) δ 7.55(s, 1H), 3.17(t, 2H), 1.75(t,2H), 1.26(m,20H), 0.87(t,3H)。
以下の手法を使用して、2−(3−トリデシル−6−ブロモ−チエノ[3,2−b]チエニル)−4,4−ジメチル−2−オキサゾリン(155)を調製した。100mlの塩化チオニルに3−トリデシル−6−ブロモ−チエノ[3,2−b]チオフェン−2−カルボン酸(154)(46.12g、0.10モル)を加え、この混合物を室温で24時間に亘り撹拌した。過剰の塩化チオニルを蒸留し、残りの黒っぽい油をロータリーエバポレータにより蒸留して、48.46g(100%)の酸塩化物を生成した。48.46g(0.10モル)の酸塩化物を100mlの塩化メチレン中に溶解させ、0℃の100mlの塩化メチレン中の18.51g(0.2モル)の2−アミノ−2−メチル−1−プロパノールの磁気撹拌された溶液に滴下した。この混合物を25℃で2時間に亘り撹拌した。溶媒を蒸発させた後、有機化合物を酢酸エチル(2×200mL)で抽出した。混合酸溶液を塩水(2×150mL)および水(150mL)で洗浄した。無水MgSO4上で乾燥させた後、溶媒を蒸発させて、油の粗生成物である47.37g(91.80%)のN−(2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピル)−3−トリデシル−6−ブロモ−チエノ[3,2−b]チエニルアミドを得た。このアミドを環化させために、塩化チエニル(43.67g、0.37モル)を43.37g(0.092モル)のアミドに撹拌しながら滴下した。活発な反応が治まったときに、黄色の溶液を150mlの水に注ぎ入れた。有機化合物を酢酸エチル(3×100mL)で抽出した。混合有機抽出物を塩水(2×100mL)および水(100mL)で洗浄した。無水MgSO4上で乾燥させた後、目的物質をシリカカラムクロマトグラフィーにより精製し、20%の酢酸エチル/ヘキサンで溶離した(43.00g、93.85%)。Mp: 37-39 oC. 1H NMR (300MHz, CD2Cl2) δ 7.39(s, 1H), 4.08(s, 2H), 3.16(t, 2H), 1.26-1.70(m, 28H), 0.86(t, 3H)。
以下の手法を使用して、ビス(2−(4,4−ジメチル−2−オキサゾリル)−3−トリデシル−チエノ[3,2−b]チエニル)スルフィド(156)を調製した。ビス(トリ−n−ブチルスズ)スルフィド(15.67g、0.0256ミリモル)およびPd(PPh3)4(2.25g、1.95×10-3モル)のトルエン溶液(40mL)に化合物(155)(24.25g、0.0487モル)を窒素雰囲気下で加えた。この混合物を圧力溶液内に入れ、125℃で60分間に亘り加熱した。濾過後、有機溶液をヘキサン(300mL)で希釈し、固体を沈殿させた。この固体をアセトンから再結晶化させて、156(11.5g、76.7%)を得た。Mp: 67-69 oC. 1H NMR (300MHz, CD2Cl2 ) δ 7.64(s, 2H), 4.08(s, 4H), 3.07(t, 4H), 1.25-1.66(m, 56H), 0.86(t, 6H)。
以下の手法を使用して、ビス(2−(4,4−ジメチル−2−オキサゾリル)−3−トリデシル)−ヘプタチエノアセン(157)を調製した。THF(100mL)中の化合物156(9.0g、10.4ミリモル)の溶液に、0℃でアルゴン雰囲気下でn−ブチルリチウム(10.4mL、ヘキサン中2.50M、25.90ミリモル)を滴下した。この混合物を0℃で30分間に亘り撹拌し、次いで、再度0℃に冷却する前に、2時間に亘り室温まで暖めた。この反応溶液に塩化銅(II)(3.50g)粉末を加えた。この混合物を一晩撹拌し、次いで、水(200mL)中に注ぎ入れた。この水溶液を沸騰するまで加熱し、固体を濾過した。固体を水(200mL)中に入れ、再度、加熱した。濾過後、固体を高温のアセトン(100mL)および高温のエタノール(100mL)で洗浄した。黄色の固体をトルエン(400mL)中で沸騰させ、高温濾過した。溶液を室温まで冷却して、黄色の固体として化合物157(6.00g、66.6%)を得た。Mp:116-118 oC. 1H NMR (300MHz, CD2Cl2 ) δ 4.34(s, 4H), 3.10(t, 4H), 1.26-1.75(m, 56H), 0.87(t, 6H)。
以下の手法を使用して、3,6−ジトリデシル−ヘプタチエノアセン−2,7−ジカルボン酸(158)を調製した。化合物157(6.00g、6.93ミリモル)をHCl(4N、10mL)およびTHF(50mL)と混合し、加熱して、30分間に亘り還流した。この混合物を濃HCl(30mL)で酸性化した。形成した固体を濾過し、水で数回洗浄し、次いで、アセトン(3×100mL)で洗浄した。この固体を真空下で乾燥させ、さらに精製せずに化合物(4.75g、90.2%)を得た。この化合物は、NMRにとって十分に可溶性ではなかった。Mp: 242-244 oC。
以下の手法を使用して、3,7−ジトリデシル−ヘプタチエノアセン(150)を調製した。化合物158(3.17g、4.2ミリモル)をキノリン(80mL)中で銅粉末(0.40g)と混合した。この混合物を、気泡が検出されなくなるまでウッズの金属浴(Woods-metal bath)中で240〜250℃に加熱した。この混合物を室温まで冷却し、高温のヘキサン(400mL)を加えた。次いで、この混合物をHCl(2N、4×50mL)で繰り返し洗浄した。次いで、ヘキサンをある程度蒸発させた。目的の化合物を濾過により収集し、ヘキサンから再結晶化させて、150(1.50g、53.5%)を得た。Mp: 66-67 oC. 1H NMR (300MHz, C6D6) δ 7.02 (s, 2H), 2.76(t, 4H), 1.26-1.81(m, 44H), 0.87(t, 6H)。
図6Aのスキームにしたがう3,4−ビス(トリブチルスタンニル)チオフェン(111)の合成 N2の保護下において−78℃で15mLの乾燥Et2O中の6.80g(28.11ミリモル)の3,4−ジブロモチオフェン(110)に、ヘキサン中の23.6mLの2.5Mのn−BuLi(59.02ミリモル)を滴下した。得られた溶液を−78℃で20分間に亘り撹拌した。次いで、この溶液に1.80g(56.13ミリモル)の硫黄華を加えて、濁った溶液を形成した。この溶液を−78℃で20分間に亘り撹拌した後、これに16.8mLのBu3SnCl(62.30ミリモル)を加えた。次いで、形成された透明な溶液を12時間に亘り還流した。これを室温まで暖めた後、この反応混合物に150mLのCH2Cl2および100mLの水を加えた。この混合物を10分間に亘り撹拌した後、有機相を収集し、飽和NaHCO3溶液(60mL)および塩水(50mL)で洗浄した。次いで、有機相を収集し、無水Na2SO4上で乾燥させた。これから溶媒を除去して、油状生成物を得て、これを8時間に亘りクーゲルロール真空中において150℃に保持して、油状残留物として化合物111(4.90g、24%)を得た。1H NMR (300 MHz, CD2Cl2): d 7.08 (s, 2 H), 1.62-0.83 (m, 54 H)。
図6Bのスキームにしたがう2,5−ビス(トリブチルスタンニル)チオフェン(113)の合成 N2の保護下において−78℃で90mLの乾燥Et2O中の3.22g(13.31ミリモル)の2,5−ジブロモチオフェン(112)に、ヘキサン中の10.6mLの2.5Mのn−BuLi(26.5ミリモル)を滴下した。得られた溶液を−78℃で20分間に亘り撹拌した。次いで、この溶液に0.86g(26.82ミリモル)の硫黄華を加えて、濁った溶液を形成した。この溶液を−78℃で20分間に亘り撹拌した後、これに7.36mLのBu3SnCl(27.29ミリモル)を加えた。次いで、形成された透明な溶液を12時間に亘り還流した。これを室温まで暖めた後、この反応混合物に150mLのヘキサンおよび100mLの水を加えた。この混合物を10分間に亘り撹拌した後、有機相を収集し、飽和NaHCO3溶液(60mL)および塩水(50mL)で洗浄した。有機相を収集し、無水Na2SO4上で乾燥させた。これから溶媒を除去して、化合物113の油状生成物を得て、これを8時間に亘りクーゲルロール真空中において150℃に保持して、油状残留物として化合物5(4.78g、49%)を得た。1H NMR (300 MHz, CD2Cl2): d 7.33 (s, 2 H), 1.62-0.83 (m, 54 H)。
図10のスキームにしたがう2−(6−(トリブチルスズ)スルファニル−3−デシル−チエノ[3,2−b]チオフェン−2−イル)−4,4−ジメチル−4,5−ジヒドロ−オキサゾール(160)の合成 N2の保護下において−78℃で10mLの乾燥Et2O中の940mg(2.1ミリモル)の真空乾燥した2−(6−ブロモスルファニル−3−デシル−チエノ[3,2−b]チオフェン−2−イル)−4,4−ジメチル−4,5−ジヒドロ−オキサゾール(159)に、ヘキサン中の0.83mLの2.5Mのn−BuLi(2.06ミリモル)を滴下した。得られた溶液を−78℃で20分間に亘り撹拌した。次いで、この溶液に66mg(2.06ミリモル)の硫黄華を加えて、濁った溶液を形成した。この溶液を0℃で40分間に亘り撹拌した後、これに0.61mLのBu3SnCl(2.26ミリモル)を加えた。次いで、形成された透明な溶液を6時間に亘り還流した。これを室温まで暖めた後、この反応混合物に60mLのCH2Cl2および50mLの水を加えた。この混合物を10分間に亘り撹拌した後、有機溶液を収集し、飽和NH4Cl溶液(2×20mL)および水(50mL)で洗浄した。この有機相を収集し、無水Na2SO4上で乾燥させた。これから溶媒を除去して、残留物をエタノールから結晶化させ、次いで、冷蔵庫内で冷却して、化合物160の湿った固体として0.91グラムの化合物2を得た(収率51%)。1H NMR (300 MHz, CD2Cl2): d 7.19 (s, 1 H), 4.06 (s, 2 H), 3.10 (t, 2 H), 1.77-1.07 (m, 55 H); HRMS (ESI) m/z calcd for [C46H60S7 + 1] 700.27, found 700.26。
図11のスキームにしたがう2−(6−(トリメチルスズ)スルファニル−3−デシル−チエノ[3,2−b]チオフェン−2−イル)−4,4−ジメチル−4,5−ジヒドロ−オキサゾール(161)の合成 N2の保護下において−78℃で10mLの乾燥Et2O中の2−(6−ブロモスルファニル−3−デシル−チエノ[3,2−b]チオフェン−2−イル)−4,4−ジメチル−4,5−ジヒドロ−オキサゾール(159)(1.34g、2.94ミリモル)に、ヘキサン中の1.29mLの2.5Mのn−BuLi(3.23ミリモル)を滴下した。得られた溶液を−78℃で1時間に亘り撹拌した後、この溶液に94mg(2.93ミリモル)の硫黄華を加えて、濁った溶液を形成した。この溶液を0℃で40分間に亘り撹拌した後、1MのMe3SnCl(3.23mL、3.23ミリモル)のTHF溶液を加えた。次いで、形成された透明な溶液を6時間に亘り還流した。これを室温まで暖めた後、この反応混合物に60mLのCH2Cl2および50mLの水を加えた。この混合物を10分間に亘り撹拌した後、有機相を収集し、飽和NaHCO3溶液(2×20mL)および塩水(50mL)で洗浄した。この有機相を収集し、無水Na2SO4上で乾燥させた。これから溶媒を除去して、湿った固体を成形し、これをメタノールから結晶化させ、次いで、冷蔵庫内で冷却して、固体として1.27gの化合物161を得た。HRMS (ESI) m/z calcd for [C46H60S7 + 1] 574.12, found 574.11。
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