JP5607522B2 - オルガノポリシロキサン系組成物および硬化物 - Google Patents
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- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 title claims description 191
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 116
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 187
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 121
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 98
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 claims description 25
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 24
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 23
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 21
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims description 19
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 18
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims description 18
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims description 17
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 16
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 12
- 239000000565 sealant Substances 0.000 claims description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 6
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 6
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 3
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 claims 1
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 38
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- 239000000463 material Substances 0.000 description 33
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 28
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 27
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 23
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 21
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 18
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 17
- 239000010408 film Substances 0.000 description 17
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 13
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 13
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 12
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 12
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 10
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 10
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 10
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- QYLFHLNFIHBCPR-UHFFFAOYSA-N 1-ethynylcyclohexan-1-ol Chemical compound C#CC1(O)CCCCC1 QYLFHLNFIHBCPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 7
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 7
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 6
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 6
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 6
- LDCRTTXIJACKKU-ARJAWSKDSA-N dimethyl maleate Chemical compound COC(=O)\C=C/C(=O)OC LDCRTTXIJACKKU-ARJAWSKDSA-N 0.000 description 6
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 6
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 6
- VLNRSEGRGSDKLS-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[4-[ethenyl(dimethyl)silyl]phenyl]-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)C1=CC=C([Si](C)(C)C=C)C=C1 VLNRSEGRGSDKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 6
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 5
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 5
- VEJOYRPGKZZTJW-FDGPNNRMSA-N (z)-4-hydroxypent-3-en-2-one;platinum Chemical compound [Pt].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O VEJOYRPGKZZTJW-FDGPNNRMSA-N 0.000 description 4
- SEWOCJPRTFAESZ-UHFFFAOYSA-N C[Si](C)(C=C)OC1CCC(CC1)O[Si](C)(C)C=C Chemical compound C[Si](C)(C=C)OC1CCC(CC1)O[Si](C)(C)C=C SEWOCJPRTFAESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 206010040954 Skin wrinkling Diseases 0.000 description 4
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 4
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 4
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 4
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 4
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 4
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 4
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UPRLGOHJDWABMJ-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1CCC(CC1)[Si](C)(C)C=C)(C)C Chemical compound C(=C)[Si](C1CCC(CC1)[Si](C)(C)C=C)(C)C UPRLGOHJDWABMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YBDKAVSEENCEFH-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC1=CC2=CC=C(C=C2C=C1)O[Si](C)(C)C=C)(C)C Chemical compound C(=C)[Si](OC1=CC2=CC=C(C=C2C=C1)O[Si](C)(C)C=C)(C)C YBDKAVSEENCEFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BZODXSQSKHLMRG-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C)(C)OC1=CC=CC(O[Si](C)(C)C=C)=C1 Chemical compound C=C[Si](C)(C)OC1=CC=CC(O[Si](C)(C)C=C)=C1 BZODXSQSKHLMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 3
- QRHCILLLMDEFSD-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)C=C QRHCILLLMDEFSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- JCDJGBUVIXYPDE-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[3-[ethenyl(dimethyl)silyl]phenyl]-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)C1=CC=CC([Si](C)(C)C=C)=C1 JCDJGBUVIXYPDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NPGHSQOXGSIRJX-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[4-[ethenyl(dimethyl)silyl]oxyphenoxy]-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)OC1=CC=C(O[Si](C)(C)C=C)C=C1 NPGHSQOXGSIRJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYOGJYPGNGISFO-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[6-[ethenyl(dimethyl)silyl]naphthalen-2-yl]-dimethylsilane Chemical compound C1=C([Si](C)(C)C=C)C=CC2=CC([Si](C)(C=C)C)=CC=C21 RYOGJYPGNGISFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002657 fibrous material Substances 0.000 description 3
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 3
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 3
- 229920001843 polymethylhydrosiloxane Polymers 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 3
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 3
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 3
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 description 3
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- IONKZVNPEZORGX-UHFFFAOYSA-N 1,2,4,5-tetrakis(ethenyl)benzene Chemical compound C=CC1=CC(C=C)=C(C=C)C=C1C=C IONKZVNPEZORGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WEERVPDNCOGWJF-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(ethenyl)benzene Chemical compound C=CC1=CC=C(C=C)C=C1 WEERVPDNCOGWJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001731 2-cyanoethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C#N 0.000 description 2
- KIZQNNOULOCVDM-UHFFFAOYSA-M 2-hydroxyethyl(trimethyl)azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)CCO KIZQNNOULOCVDM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 241001212038 Arcola Species 0.000 description 2
- MUQTZBZMARQGAK-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]C1=CC2=CC(=CC=C2C=C1)[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]C1=CC2=CC(=CC=C2C=C1)[SiH2]C(C=C)C=C MUQTZBZMARQGAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGYKQWMNEJWMBS-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]C1=CC2=CC=C(C=C2C=C1)[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]C1=CC2=CC=C(C=C2C=C1)[SiH2]C(C=C)C=C BGYKQWMNEJWMBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YKCAMAJNRPCQHQ-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]OC1=CC2=CC=C(C=C2C=C1)O[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]OC1=CC2=CC=C(C=C2C=C1)O[SiH2]C(C=C)C=C YKCAMAJNRPCQHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTLIPPZODXKRFB-UHFFFAOYSA-N C(=C)C1=CC=CC2=CC3=CC=C(C=C3C=C12)C=C Chemical compound C(=C)C1=CC=CC2=CC3=CC=C(C=C3C=C12)C=C YTLIPPZODXKRFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YZGDJYMGTHCRGC-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](C1=CC(=CC=C1)[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)CC1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[SiH](C1=CC(=CC=C1)[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)CC1=CC=CC=C1 YZGDJYMGTHCRGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WROUXVJSUYLRHS-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](C1=CC2=CC=C(C=C2C=C1)[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 Chemical compound C(=C)[SiH](C1=CC2=CC=C(C=C2C=C1)[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 WROUXVJSUYLRHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JQPGAAHAYOZKCS-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](CC1CCCCC1)C=C Chemical compound C(=C)[SiH](CC1CCCCC1)C=C JQPGAAHAYOZKCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPOGDAIYEKYTRF-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](OC1=CC2=CC(=CC=C2C=C1)O[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 Chemical compound C(=C)[SiH](OC1=CC2=CC(=CC=C2C=C1)O[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 PPOGDAIYEKYTRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZNXKXBLBFFPPW-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](OC1=CC2=CC=C(C=C2C=C1)O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)CC1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[SiH](OC1=CC2=CC=C(C=C2C=C1)O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)CC1=CC=CC=C1 TZNXKXBLBFFPPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GCDOGWVXCPCWCS-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](OC1=CC2=CC=C(C=C2C=C1)O[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 Chemical compound C(=C)[SiH](OC1=CC2=CC=C(C=C2C=C1)O[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 GCDOGWVXCPCWCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHZCVIBPGOLFK-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](OC1=CC=C(C=C1)O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)CC1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[SiH](OC1=CC=C(C=C1)O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)CC1=CC=CC=C1 HCHZCVIBPGOLFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UOFLONFJJATCLS-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1=CC(=CC=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C(=C)[Si](C1=CC(=CC=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C UOFLONFJJATCLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIAPTZYNAUPOCC-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1=CC2=CC(=CC=C2C=C1)[Si](C)(C)C=C)(C)C Chemical compound C(=C)[Si](C1=CC2=CC(=CC=C2C=C1)[Si](C)(C)C=C)(C)C LIAPTZYNAUPOCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLDWVHUBHCLGSN-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1=CC2=CC(=CC=C2C=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[Si](C1=CC2=CC(=CC=C2C=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 JLDWVHUBHCLGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FWTAZXDTEQMSTL-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1=CC2=CC(=CC=C2C=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C(=C)[Si](C1=CC2=CC(=CC=C2C=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C FWTAZXDTEQMSTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SHBNIZWXGWBKRQ-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1=CC2=CC(=CC=C2C=C1)[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C Chemical compound C(=C)[Si](C1=CC2=CC(=CC=C2C=C1)[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C SHBNIZWXGWBKRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CWOZWULXPOYBRF-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1=CC2=CC=C(C=C2C=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[Si](C1=CC2=CC=C(C=C2C=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 CWOZWULXPOYBRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMQOXHWGRUGJNC-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1=CC=C(C=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C(=C)[Si](C1=CC=C(C=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C IMQOXHWGRUGJNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYMKHFXBZMLRNL-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1CC(CCC1)[Si](C)(C)C=C)(C)C Chemical compound C(=C)[Si](C1CC(CCC1)[Si](C)(C)C=C)(C)C GYMKHFXBZMLRNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HZFLKHAMNXQYDR-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1CC(CCC1)[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C Chemical compound C(=C)[Si](C1CC(CCC1)[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C HZFLKHAMNXQYDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JREVKIWHGYZDIZ-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC1=CC(=CC=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C(=C)[Si](OC1=CC(=CC=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C JREVKIWHGYZDIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IINLSGOFBLHERB-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC1=CC2=CC(=CC=C2C=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[Si](OC1=CC2=CC(=CC=C2C=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 IINLSGOFBLHERB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YPXDTRNVWYEVSP-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC1=CC2=CC(=CC=C2C=C1)O[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C Chemical compound C(=C)[Si](OC1=CC2=CC(=CC=C2C=C1)O[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C YPXDTRNVWYEVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OUCMMFBJDBKBEY-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC1=CC2=CC=C(C=C2C=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C(=C)[Si](OC1=CC2=CC=C(C=C2C=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C OUCMMFBJDBKBEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NEDMKGBMSQPDGA-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC1=CC2=CC=C(C=C2C=C1)O[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C Chemical compound C(=C)[Si](OC1=CC2=CC=C(C=C2C=C1)O[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C NEDMKGBMSQPDGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTAVFERZEOQQNJ-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC1=CC=C(C=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[Si](OC1=CC=C(C=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 YTAVFERZEOQQNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BKQBMGATVNWMSA-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC1=CC=C(C=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C(=C)[Si](OC1=CC=C(C=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C BKQBMGATVNWMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZYSNQKZAUPPZMD-UHFFFAOYSA-N C1(CCCCC1)[Si](C=C)(C=C)C1CCCCC1 Chemical compound C1(CCCCC1)[Si](C=C)(C=C)C1CCCCC1 ZYSNQKZAUPPZMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HYJGBGQLZJLPAE-UHFFFAOYSA-N C=CC(C=C)[SiH2]C(CC1)CCC1[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C=CC(C=C)[SiH2]C(CC1)CCC1[SiH2]C(C=C)C=C HYJGBGQLZJLPAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VOULHGZYRFXMMM-UHFFFAOYSA-N C=CC(C=C)[SiH2]C(CCC1)CC1[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C=CC(C=C)[SiH2]C(CCC1)CC1[SiH2]C(C=C)C=C VOULHGZYRFXMMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNGHYTKFISCFAB-UHFFFAOYSA-N C=CC(C=C)[SiH2]OC(CC1)CCC1O[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C=CC(C=C)[SiH2]OC(CC1)CCC1O[SiH2]C(C=C)C=C XNGHYTKFISCFAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GVGNLITXVCIMII-UHFFFAOYSA-N C=CC(C=C)[SiH2]OC(CCC1)CC1O[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C=CC(C=C)[SiH2]OC(CCC1)CC1O[SiH2]C(C=C)C=C GVGNLITXVCIMII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEZAAJBERRHXKD-UHFFFAOYSA-N C=CC(C=C)[SiH2]OC1=CC2=CC(O[SiH2]C(C=C)C=C)=CC=C2C=C1 Chemical compound C=CC(C=C)[SiH2]OC1=CC2=CC(O[SiH2]C(C=C)C=C)=CC=C2C=C1 PEZAAJBERRHXKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SXHJNOKCQYNXOQ-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)C(CC1)CCC1[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)C(CC1)CCC1[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C SXHJNOKCQYNXOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LOXWRTGDTJWWLJ-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)C(CCC1)CC1[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)C(CCC1)CC1[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C LOXWRTGDTJWWLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RAQQMCBRLODWJW-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)C1=CC=C(C=CC([SiH](CC2=CC=CC=C2)C=C)=C2)C2=C1 Chemical compound C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)C1=CC=C(C=CC([SiH](CC2=CC=CC=C2)C=C)=C2)C2=C1 RAQQMCBRLODWJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YZRJJXHQHIFEQL-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)OC(CC1)CCC1O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)OC(CC1)CCC1O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C YZRJJXHQHIFEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YWMKWGDNPHNPEK-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)OC(CCC1)CC1O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)OC(CCC1)CC1O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C YWMKWGDNPHNPEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNOBQKYAZDLOKN-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)OC1=CC=C(C=CC(O[SiH](CC2=CC=CC=C2)C=C)=C2)C2=C1 Chemical compound C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)OC1=CC=C(C=CC(O[SiH](CC2=CC=CC=C2)C=C)=C2)C2=C1 WNOBQKYAZDLOKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSGIGXURFHRRGJ-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1CCCCC1)C(C=C1)=CC=C1[SiH](CC1CCCCC1)C=C Chemical compound C=C[SiH](CC1CCCCC1)C(C=C1)=CC=C1[SiH](CC1CCCCC1)C=C WSGIGXURFHRRGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HZQXXTZIBZMWAC-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1CCCCC1)C(CCC1)CC1[SiH](CC1CCCCC1)C=C Chemical compound C=C[SiH](CC1CCCCC1)C(CCC1)CC1[SiH](CC1CCCCC1)C=C HZQXXTZIBZMWAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLGDUDSAVFHLDK-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1CCCCC1)OC(C=C1)=CC=C1O[SiH](CC1CCCCC1)C=C Chemical compound C=C[SiH](CC1CCCCC1)OC(C=C1)=CC=C1O[SiH](CC1CCCCC1)C=C GLGDUDSAVFHLDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JTMIMVCEXQZXHK-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1CCCCC1)OC(CCC1)CC1O[SiH](CC1CCCCC1)C=C Chemical compound C=C[SiH](CC1CCCCC1)OC(CCC1)CC1O[SiH](CC1CCCCC1)C=C JTMIMVCEXQZXHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRWGUKZICHAIBZ-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1CCCCC1)OC1=CC=CC(O[SiH](CC2CCCCC2)C=C)=C1 Chemical compound C=C[SiH](CC1CCCCC1)OC1=CC=CC(O[SiH](CC2CCCCC2)C=C)=C1 GRWGUKZICHAIBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MJSYCJHKPHPZMD-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C1=CC=CC=C1)(C2=CC=CC=C2)OC3=CC(=CC=C3)O[Si](C=C)(C4=CC=CC=C4)C5=CC=CC=C5 Chemical compound C=C[Si](C1=CC=CC=C1)(C2=CC=CC=C2)OC3=CC(=CC=C3)O[Si](C=C)(C4=CC=CC=C4)C5=CC=CC=C5 MJSYCJHKPHPZMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDIRBHLEFRANSO-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C1=CC=CC=C1)(C2=CC=CC=C2)OC3CCC(CC3)O[Si](C=C)(C4=CC=CC=C4)C5=CC=CC=C5 Chemical compound C=C[Si](C1=CC=CC=C1)(C2=CC=CC=C2)OC3CCC(CC3)O[Si](C=C)(C4=CC=CC=C4)C5=CC=CC=C5 FDIRBHLEFRANSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AYRCZMBKOAKQNQ-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C1CCC(CC1)[Si](C=C)(C2=CC=CC=C2)C3=CC=CC=C3)(C4=CC=CC=C4)C5=CC=CC=C5 Chemical compound C=C[Si](C1CCC(CC1)[Si](C=C)(C2=CC=CC=C2)C3=CC=CC=C3)(C4=CC=CC=C4)C5=CC=CC=C5 AYRCZMBKOAKQNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PHTFDJHECQHRPL-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)OC2CCC(CC2)O[Si](C=C)(C=C)C3=CC=CC=C3 Chemical compound C=C[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)OC2CCC(CC2)O[Si](C=C)(C=C)C3=CC=CC=C3 PHTFDJHECQHRPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YHUSZTLTDFTFCC-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)OC2CCCC(C2)O[Si](C=C)(C=C)C3=CC=CC=C3 Chemical compound C=C[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)OC2CCCC(C2)O[Si](C=C)(C=C)C3=CC=CC=C3 YHUSZTLTDFTFCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXJQOXIDRDCJQV-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C=C)(C1CCC(CC1)[Si](C=C)(C=C)C2=CC=CC=C2)C3=CC=CC=C3 Chemical compound C=C[Si](C=C)(C1CCC(CC1)[Si](C=C)(C=C)C2=CC=CC=C2)C3=CC=CC=C3 KXJQOXIDRDCJQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVTFHQFNBQVWPP-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C=C)(C1CCCC(C1)[Si](C=C)(C=C)C2=CC=CC=C2)C3=CC=CC=C3 Chemical compound C=C[Si](C=C)(C1CCCC(C1)[Si](C=C)(C=C)C2=CC=CC=C2)C3=CC=CC=C3 SVTFHQFNBQVWPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IXAMVDVMGRLKGR-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C=C)(C=C)OC1=CC(=CC=C1)O[Si](C=C)(C=C)C=C Chemical compound C=C[Si](C=C)(C=C)OC1=CC(=CC=C1)O[Si](C=C)(C=C)C=C IXAMVDVMGRLKGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYPBLNWKCAMISS-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C=C)(C=C)OC1=CC=C(C=C1)O[Si](C=C)(C=C)C=C Chemical compound C=C[Si](C=C)(C=C)OC1=CC=C(C=C1)O[Si](C=C)(C=C)C=C FYPBLNWKCAMISS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZKKBSGUYRGMLCD-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C=C)(C=C)OC1CCCC(C1)O[Si](C=C)(C=C)C=C Chemical compound C=C[Si](C=C)(C=C)OC1CCCC(C1)O[Si](C=C)(C=C)C=C ZKKBSGUYRGMLCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SLQBSQWBOFNCTJ-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](c1ccccc1)(c1ccccc1)c1ccc(cc1)[Si](C=C)(c1ccccc1)c1ccccc1 Chemical compound C=C[Si](c1ccccc1)(c1ccccc1)c1ccc(cc1)[Si](C=C)(c1ccccc1)c1ccccc1 SLQBSQWBOFNCTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTGQPAFGSSSBGX-UHFFFAOYSA-N C[Si](C)(C=C)OC1=CC=C(C=C1)C2=CC=C(C=C2)O[Si](C)(C)C=C Chemical group C[Si](C)(C=C)OC1=CC=C(C=C1)C2=CC=C(C=C2)O[Si](C)(C)C=C RTGQPAFGSSSBGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZZLZUSBHBZUUHK-UHFFFAOYSA-N C[Si](C)(C=C)OC1CCCC(C1)O[Si](C)(C)C=C Chemical compound C[Si](C)(C=C)OC1CCCC(C1)O[Si](C)(C)C=C ZZLZUSBHBZUUHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N Carbamic acid Chemical group NC(O)=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIEXFJVOIMVETD-UHFFFAOYSA-N P([O-])([O-])[O-].[Pt+3] Chemical compound P([O-])([O-])[O-].[Pt+3] UIEXFJVOIMVETD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101150003085 Pdcl gene Proteins 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKFZANBRNAIQGJ-UHFFFAOYSA-N [3,5-bis[ethenyl(dimethyl)silyl]phenyl]-ethenyl-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)C1=CC([Si](C)(C)C=C)=CC([Si](C)(C)C=C)=C1 DKFZANBRNAIQGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229940045985 antineoplastic platinum compound Drugs 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SSNSDFOIUUHKQX-UHFFFAOYSA-N benzyl-[4-[benzyl(ethenyl)silyl]phenyl]-ethenylsilane Chemical compound C=C[SiH](Cc1ccccc1)c1ccc(cc1)[SiH](Cc1ccccc1)C=C SSNSDFOIUUHKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IZSGMAKYHFLKDG-UHFFFAOYSA-N benzyl-bis(ethenyl)silane Chemical compound C=C[SiH](C=C)CC1=CC=CC=C1 IZSGMAKYHFLKDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- JRMHUZLFQVKRNB-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-diphenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=C)(C=C)C1=CC=CC=C1 JRMHUZLFQVKRNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N chloro-ethenyl-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C=C XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 2
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960001231 choline Drugs 0.000 description 2
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 2
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- XNLPWCXWJIJUPW-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[3-[ethenyl(diphenyl)silyl]phenyl]-diphenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=C(C=CC=1)[Si](C=C)(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)(C=C)C1=CC=CC=C1 XNLPWCXWJIJUPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DBVRDDFZKPZFEG-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[4-[4-[ethenyl(dimethyl)silyl]phenyl]phenyl]-dimethylsilane Chemical group C1=CC([Si](C)(C=C)C)=CC=C1C1=CC=C([Si](C)(C)C=C)C=C1 DBVRDDFZKPZFEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 2
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 2
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical group OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 125000000250 methylamino group Chemical group [H]N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 150000002898 organic sulfur compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000002903 organophosphorus compounds Chemical class 0.000 description 2
- NBJRBNNRIYZQSD-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-dien-3-yl-(3-penta-1,4-dien-3-ylsilylphenyl)silane Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]C1=CC(=CC=C1)[SiH2]C(C=C)C=C NBJRBNNRIYZQSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZPMSYKYCRTNKV-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-dien-3-yl-(4-penta-1,4-dien-3-ylsilylphenyl)silane Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]C1=CC=C(C=C1)[SiH2]C(C=C)C=C LZPMSYKYCRTNKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PKELYQZIUROQSI-UHFFFAOYSA-N phosphane;platinum Chemical compound P.[Pt] PKELYQZIUROQSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003058 platinum compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 2
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UZIAQVMNAXPCJQ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)COC(=O)C(C)=C UZIAQVMNAXPCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WDUXKFKVDQRWJN-UHFFFAOYSA-N triethoxysilylmethyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)COC(=O)C=C WDUXKFKVDQRWJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000725 trifluoropropyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C(F)(F)F 0.000 description 2
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UOKUUKOEIMCYAI-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)COC(=O)C(C)=C UOKUUKOEIMCYAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JPPHEZSCZWYTOP-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilylmethyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)COC(=O)C=C JPPHEZSCZWYTOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 2
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- UMXTZXZRJFRQJE-UHFFFAOYSA-N tris(ethenyl)-[3-tris(ethenyl)silylphenyl]silane Chemical compound C=C[Si](C=C)(C=C)C1=CC=CC([Si](C=C)(C=C)C=C)=C1 UMXTZXZRJFRQJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MXEBCOAOBBULPZ-UHFFFAOYSA-N tris(ethenyl)-[4-tris(ethenyl)silylphenyl]silane Chemical compound C=C[Si](C=C)(C=C)C1=CC=C([Si](C=C)(C=C)C=C)C=C1 MXEBCOAOBBULPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MZZZELGSTUVIIP-UHFFFAOYSA-N tris(ethenyl)-[6-tris(ethenyl)silylnaphthalen-2-yl]silane Chemical compound C1=C([Si](C=C)(C=C)C=C)C=CC2=CC([Si](C=C)(C=C)C=C)=CC=C21 MZZZELGSTUVIIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N (dimethyl-$l^{3}-silanyl)oxy-dimethylsilicon Chemical compound C[Si](C)O[Si](C)C KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIMZZXKRNKNPAS-UHFFFAOYSA-N 1,2,4,5-tetrakis(ethenyl)cyclohexane Chemical compound C=CC1CC(C=C)C(C=C)CC1C=C GIMZZXKRNKNPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTRQRAQRHBLCSQ-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-tris(ethenyl)cyclohexane Chemical compound C=CC1CCC(C=C)C(C=C)C1 KTRQRAQRHBLCSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARKHCBWJALMQJO-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)cyclohexane Chemical compound C=CC1CCCCC1C=C ARKHCBWJALMQJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQVDTVNAMGYHDQ-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(prop-2-enyl)benzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1CC=C PQVDTVNAMGYHDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYENRPHLJLKTED-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(ethenyl)benzene Chemical compound C=CC1=CC(C=C)=CC(C=C)=C1 SYENRPHLJLKTED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(prop-2-enyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound C=CCN1C(=O)N(CC=C)C(=O)N(CC=C)C1=O KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEIHRCIDUUJQCQ-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(ethenyl)cyclohexane Chemical compound C=CC1CCCC(C=C)C1 PEIHRCIDUUJQCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCBVELLBUAKUNE-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(prop-2-enyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound C=CCN1C(=O)NC(=O)N(CC=C)C1=O UCBVELLBUAKUNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIABNQHWGHBJEE-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(ethenyl)cyclohexane Chemical compound C=CC1CCC(C=C)CC1 QIABNQHWGHBJEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVTMVUFBBYUSKS-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(prop-2-enyl)benzene Chemical compound C=CCC1=CC=C(CC=C)C=C1 JVTMVUFBBYUSKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQKOWSFGWIKBDS-UHFFFAOYSA-N 1,5-bis(ethenyl)naphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C=C)=CC=CC2=C1C=C JQKOWSFGWIKBDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRJNFASAVJETMT-UHFFFAOYSA-N 1,6-bis(ethenyl)naphthalene Chemical compound C=CC1=CC=CC2=CC(C=C)=CC=C21 NRJNFASAVJETMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOLTUABUSJWLJP-UHFFFAOYSA-N 1,7-bis(ethenyl)naphthalene Chemical compound C1=CC=C(C=C)C2=CC(C=C)=CC=C21 BOLTUABUSJWLJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTWZQMXXQZFXCG-UHFFFAOYSA-N 1,8-bis(ethenyl)anthracene Chemical compound C(=C)C1=CC=CC2=CC3=CC=CC(=C3C=C12)C=C BTWZQMXXQZFXCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTUDIUREWUBVKL-UHFFFAOYSA-N 1,8-bis(ethenyl)naphthalene Chemical compound C1=CC(C=C)=C2C(C=C)=CC=CC2=C1 FTUDIUREWUBVKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGZXITREQAKVBL-UHFFFAOYSA-N 1,9-bis(ethenyl)anthracene Chemical compound C1=CC=C2C(C=C)=C3C(C=C)=CC=CC3=CC2=C1 RGZXITREQAKVBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAZQIRAEJMLXFV-UHFFFAOYSA-N 2,6-bis(ethenyl)naphthalene Chemical compound C1=C(C=C)C=CC2=CC(C=C)=CC=C21 JAZQIRAEJMLXFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZNDNJFUESZPKE-UHFFFAOYSA-N 2,7-bis(ethenyl)naphthalene Chemical compound C1=CC(C=C)=CC2=CC(C=C)=CC=C21 WZNDNJFUESZPKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEBKHWWANWSNTI-UHFFFAOYSA-N 2-methylbut-3-yn-2-ol Chemical compound CC(C)(O)C#C CEBKHWWANWSNTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSLSOBUAIFEGLT-UHFFFAOYSA-N 2-phenylbut-3-yn-2-ol Chemical compound C#CC(O)(C)C1=CC=CC=C1 KSLSOBUAIFEGLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NECRQCBKTGZNMH-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethylhex-1-yn-3-ol Chemical compound CC(C)CC(C)(O)C#C NECRQCBKTGZNMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C=C XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INCOYDKBVWSWGX-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]C([SiH2]C(C=C)C=C)([SiH2]C(C=C)C=C)[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]C([SiH2]C(C=C)C=C)([SiH2]C(C=C)C=C)[SiH2]C(C=C)C=C INCOYDKBVWSWGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKUPXYMCTXGDQQ-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]C([SiH2]C(C=C)C=C)[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]C([SiH2]C(C=C)C=C)[SiH2]C(C=C)C=C IKUPXYMCTXGDQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUIDGIUTUATPAR-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]C1=C(C=C(C(=C1)[SiH2]C(C=C)C=C)[SiH2]C(C=C)C=C)[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]C1=C(C=C(C(=C1)[SiH2]C(C=C)C=C)[SiH2]C(C=C)C=C)[SiH2]C(C=C)C=C WUIDGIUTUATPAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROYYXYACUZWTNL-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]C1=C(C=C(C=C1)[SiH2]C(C=C)C=C)[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]C1=C(C=C(C=C1)[SiH2]C(C=C)C=C)[SiH2]C(C=C)C=C ROYYXYACUZWTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVMMHOZSAOHKKD-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]C1=CC(=CC(=C1)[SiH2]C(C=C)C=C)[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]C1=CC(=CC(=C1)[SiH2]C(C=C)C=C)[SiH2]C(C=C)C=C DVMMHOZSAOHKKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZXOQHFWMFOPSX-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]C1=CC2=CC3=C(C=CC=C3C=C2C=C1)[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]C1=CC2=CC3=C(C=CC=C3C=C2C=C1)[SiH2]C(C=C)C=C AZXOQHFWMFOPSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLVVUOVCZCWJCB-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]C1=CC2=CC3=CC(=CC=C3C=C2C=C1)[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]C1=CC2=CC3=CC(=CC=C3C=C2C=C1)[SiH2]C(C=C)C=C MLVVUOVCZCWJCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQTLVTHSZMJGEU-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]C1=CC=C(C=C1)C1=CC=C(C=C1)[SiH2]C(C=C)C=C Chemical group C(=C)C(C=C)[SiH2]C1=CC=C(C=C1)C1=CC=C(C=C1)[SiH2]C(C=C)C=C CQTLVTHSZMJGEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHPCAYZTHFOYJP-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]C=1C=C(C=CC1)C1=CC=C(C=C1)[SiH2]C(C=C)C=C Chemical group C(=C)C(C=C)[SiH2]C=1C=C(C=CC1)C1=CC=C(C=C1)[SiH2]C(C=C)C=C YHPCAYZTHFOYJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSUNRPASVUBRJG-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]CCCCC[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]CCCCC[SiH2]C(C=C)C=C LSUNRPASVUBRJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYJGUVHNNCQSHY-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]CCCC[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]CCCC[SiH2]C(C=C)C=C IYJGUVHNNCQSHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCGFLCOFYADYPD-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]CCC[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]CCC[SiH2]C(C=C)C=C FCGFLCOFYADYPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEGXPJQASXKGAQ-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]CC[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]CC[SiH2]C(C=C)C=C HEGXPJQASXKGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOZDJQUHLDJGOI-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]C[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]C[SiH2]C(C=C)C=C XOZDJQUHLDJGOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIZOYDPKEGRMGS-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]OC(O[SiH2]C(C=C)C=C)(O[SiH2]C(C=C)C=C)O[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]OC(O[SiH2]C(C=C)C=C)(O[SiH2]C(C=C)C=C)O[SiH2]C(C=C)C=C MIZOYDPKEGRMGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZVOGHSWSRIPNM-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]OC(O[SiH2]C(C=C)C=C)O[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]OC(O[SiH2]C(C=C)C=C)O[SiH2]C(C=C)C=C LZVOGHSWSRIPNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFZSWKFQIJAULM-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]OC1=C(C=C(C(=C1)O[SiH2]C(C=C)C=C)O[SiH2]C(C=C)C=C)O[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]OC1=C(C=C(C(=C1)O[SiH2]C(C=C)C=C)O[SiH2]C(C=C)C=C)O[SiH2]C(C=C)C=C OFZSWKFQIJAULM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFGSUVSBIKASRO-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]OC1=C(C=C(C=C1)O[SiH2]C(C=C)C=C)O[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]OC1=C(C=C(C=C1)O[SiH2]C(C=C)C=C)O[SiH2]C(C=C)C=C YFGSUVSBIKASRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJWSLGQCXWBRHU-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]OC1=CC(=CC(=C1)O[SiH2]C(C=C)C=C)O[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]OC1=CC(=CC(=C1)O[SiH2]C(C=C)C=C)O[SiH2]C(C=C)C=C LJWSLGQCXWBRHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFRMGZXYKZMSIJ-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]OC1=CC(=CC=C1)O[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]OC1=CC(=CC=C1)O[SiH2]C(C=C)C=C GFRMGZXYKZMSIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVALSAVEZXWOFO-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]OC1=CC2=CC3=CC(=CC=C3C=C2C=C1)O[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]OC1=CC2=CC3=CC(=CC=C3C=C2C=C1)O[SiH2]C(C=C)C=C KVALSAVEZXWOFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRRXRSAAFJOZGJ-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]OC1=CC=C(C=C1)C1=CC=C(C=C1)O[SiH2]C(C=C)C=C Chemical group C(=C)C(C=C)[SiH2]OC1=CC=C(C=C1)C1=CC=C(C=C1)O[SiH2]C(C=C)C=C CRRXRSAAFJOZGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPCJKGXNOSPUKM-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]OC1=CC=C(C=C1)O[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]OC1=CC=C(C=C1)O[SiH2]C(C=C)C=C QPCJKGXNOSPUKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHBJXRDREGZRNB-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]OC=1C=C(C=CC1)C1=CC=C(C=C1)O[SiH2]C(C=C)C=C Chemical group C(=C)C(C=C)[SiH2]OC=1C=C(C=CC1)C1=CC=C(C=C1)O[SiH2]C(C=C)C=C BHBJXRDREGZRNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWGKSCKYDICAQZ-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]OCCCC Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]OCCCC PWGKSCKYDICAQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFTQDWJFIJOSDC-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]OCCCCCO[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]OCCCCCO[SiH2]C(C=C)C=C BFTQDWJFIJOSDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXZWUGVCPSMLRQ-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]OCCCO[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]OCCCO[SiH2]C(C=C)C=C OXZWUGVCPSMLRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXIWVTSDFUMFGJ-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]OCCO[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]OCCO[SiH2]C(C=C)C=C OXIWVTSDFUMFGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKPKWYWSZJUKQY-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C=C)[SiH2]OCO[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]OCO[SiH2]C(C=C)C=C LKPKWYWSZJUKQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRVOQWJDSAJQRS-UHFFFAOYSA-N C(=C)C1=CC2=CC3=CC(=CC=C3C=C2C=C1)C=C Chemical compound C(=C)C1=CC2=CC3=CC(=CC=C3C=C2C=C1)C=C XRVOQWJDSAJQRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NONAEYQTCZZSJG-UHFFFAOYSA-N C(=C)C1=CC=CC2=CC3=CC(=CC=C3C=C12)C=C Chemical compound C(=C)C1=CC=CC2=CC3=CC(=CC=C3C=C12)C=C NONAEYQTCZZSJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MROLMRRHOIYIPQ-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](C1=C(C=C(C(=C1)[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)CC1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[SiH](C1=C(C=C(C(=C1)[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)CC1=CC=CC=C1 MROLMRRHOIYIPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVINIICQYKLIBW-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](C1=C(C=C(C(=C1)[SiH](CC1CCCCC1)C=C)[SiH](CC1CCCCC1)C=C)[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 Chemical compound C(=C)[SiH](C1=C(C=C(C(=C1)[SiH](CC1CCCCC1)C=C)[SiH](CC1CCCCC1)C=C)[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 BVINIICQYKLIBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHSVZCUZRKUCLF-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](C1=C(C=C(C=C1)[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)CC1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[SiH](C1=C(C=C(C=C1)[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)CC1=CC=CC=C1 MHSVZCUZRKUCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBHRUYPNVAGFPG-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](C1=C(C=C(C=C1)[SiH](CC1CCCCC1)C=C)[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 Chemical compound C(=C)[SiH](C1=C(C=C(C=C1)[SiH](CC1CCCCC1)C=C)[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 KBHRUYPNVAGFPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTXHIBKXYNOGNE-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](C1=CC(=CC(=C1)[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)CC1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[SiH](C1=CC(=CC(=C1)[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)CC1=CC=CC=C1 HTXHIBKXYNOGNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOGKNLNTNIECRS-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](C1=CC(=CC(=C1)[SiH](CC1CCCCC1)C=C)[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 Chemical compound C(=C)[SiH](C1=CC(=CC(=C1)[SiH](CC1CCCCC1)C=C)[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 UOGKNLNTNIECRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSGSOWRHGLQLNY-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](C1=CC(=CC=C1)[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 Chemical compound C(=C)[SiH](C1=CC(=CC=C1)[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 HSGSOWRHGLQLNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGDQVVHUCNOEGA-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](C1=CC2=CC(=CC=C2C=C1)[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 Chemical compound C(=C)[SiH](C1=CC2=CC(=CC=C2C=C1)[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 IGDQVVHUCNOEGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVFIDHCVXTXFCU-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](C1=CC2=CC3=C(C=CC=C3C=C2C=C1)[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 Chemical compound C(=C)[SiH](C1=CC2=CC3=C(C=CC=C3C=C2C=C1)[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 CVFIDHCVXTXFCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZNBIVVZRCQMBA-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](C1=CC2=CC3=CC(=CC=C3C=C2C=C1)[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)CC1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[SiH](C1=CC2=CC3=CC(=CC=C3C=C2C=C1)[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)CC1=CC=CC=C1 RZNBIVVZRCQMBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFQIGBXNDGLHBS-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](C1=CC2=CC3=CC(=CC=C3C=C2C=C1)[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 Chemical compound C(=C)[SiH](C1=CC2=CC3=CC(=CC=C3C=C2C=C1)[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 YFQIGBXNDGLHBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTQGYXKQCLINCS-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](C1=CC=C(C=C1)C1=CC=C(C=C1)[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)CC1=CC=CC=C1 Chemical group C(=C)[SiH](C1=CC=C(C=C1)C1=CC=C(C=C1)[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)CC1=CC=CC=C1 KTQGYXKQCLINCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLGQBRRFNHNZNB-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](C1=CC=C(C=C1)C1=CC=C(C=C1)[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 Chemical group C(=C)[SiH](C1=CC=C(C=C1)C1=CC=C(C=C1)[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 SLGQBRRFNHNZNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RROXDZLFZOVWID-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](C=1C=C(C=CC1)C1=CC=C(C=C1)[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 Chemical group C(=C)[SiH](C=1C=C(C=CC1)C1=CC=C(C=C1)[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 RROXDZLFZOVWID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYSFIIXETNRLCV-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](CC1=CC=CC=C1)C([SiH](C=C)CC1=CC=CC=C1)([SiH](C=C)CC1=CC=CC=C1)[SiH](C=C)CC1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[SiH](CC1=CC=CC=C1)C([SiH](C=C)CC1=CC=CC=C1)([SiH](C=C)CC1=CC=CC=C1)[SiH](C=C)CC1=CC=CC=C1 AYSFIIXETNRLCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APMVSAWEQBLZTP-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](CC1=CC=CC=C1)C([SiH](C=C)CC1=CC=CC=C1)[SiH](C=C)CC1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[SiH](CC1=CC=CC=C1)C([SiH](C=C)CC1=CC=CC=C1)[SiH](C=C)CC1=CC=CC=C1 APMVSAWEQBLZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNNXVSDGVOVDEV-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](CC1CCCCC1)C([SiH](C=C)CC1CCCCC1)([SiH](C=C)CC1CCCCC1)[SiH](C=C)CC1CCCCC1 Chemical compound C(=C)[SiH](CC1CCCCC1)C([SiH](C=C)CC1CCCCC1)([SiH](C=C)CC1CCCCC1)[SiH](C=C)CC1CCCCC1 GNNXVSDGVOVDEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMAWQCSBWRKRER-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](CC1CCCCC1)C([SiH](C=C)CC1CCCCC1)[SiH](C=C)CC1CCCCC1 Chemical compound C(=C)[SiH](CC1CCCCC1)C([SiH](C=C)CC1CCCCC1)[SiH](C=C)CC1CCCCC1 LMAWQCSBWRKRER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVLXRFNUDRFXMY-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](CC1CCCCC1)C[SiH](C=C)CC1CCCCC1 Chemical compound C(=C)[SiH](CC1CCCCC1)C[SiH](C=C)CC1CCCCC1 QVLXRFNUDRFXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYSZESWPAZAJOI-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](OC(O[SiH](C=C)CC1=CC=CC=C1)(O[SiH](C=C)CC1=CC=CC=C1)O[SiH](C=C)CC1=CC=CC=C1)CC1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[SiH](OC(O[SiH](C=C)CC1=CC=CC=C1)(O[SiH](C=C)CC1=CC=CC=C1)O[SiH](C=C)CC1=CC=CC=C1)CC1=CC=CC=C1 YYSZESWPAZAJOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXBISHNUPLGUNO-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](OC(O[SiH](C=C)CC1=CC=CC=C1)O[SiH](C=C)CC1=CC=CC=C1)CC1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[SiH](OC(O[SiH](C=C)CC1=CC=CC=C1)O[SiH](C=C)CC1=CC=CC=C1)CC1=CC=CC=C1 WXBISHNUPLGUNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDZFLZSZYWAYML-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](OC(O[SiH](C=C)CC1CCCCC1)(O[SiH](C=C)CC1CCCCC1)O[SiH](C=C)CC1CCCCC1)CC1CCCCC1 Chemical compound C(=C)[SiH](OC(O[SiH](C=C)CC1CCCCC1)(O[SiH](C=C)CC1CCCCC1)O[SiH](C=C)CC1CCCCC1)CC1CCCCC1 LDZFLZSZYWAYML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOJMOEBUMBSERU-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](OC(O[SiH](C=C)CC1CCCCC1)O[SiH](C=C)CC1CCCCC1)CC1CCCCC1 Chemical compound C(=C)[SiH](OC(O[SiH](C=C)CC1CCCCC1)O[SiH](C=C)CC1CCCCC1)CC1CCCCC1 FOJMOEBUMBSERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQICTCQYEJJCLI-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](OC1=C(C=C(C(=C1)O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)CC1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[SiH](OC1=C(C=C(C(=C1)O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)CC1=CC=CC=C1 FQICTCQYEJJCLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUMUTYMNXZWNPK-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](OC1=C(C=C(C(=C1)O[SiH](CC1CCCCC1)C=C)O[SiH](CC1CCCCC1)C=C)O[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 Chemical compound C(=C)[SiH](OC1=C(C=C(C(=C1)O[SiH](CC1CCCCC1)C=C)O[SiH](CC1CCCCC1)C=C)O[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 MUMUTYMNXZWNPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYMKOHCBFJNCGZ-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](OC1=CC(=CC(=C1)O[SiH](CC1CCCCC1)C=C)O[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 Chemical compound C(=C)[SiH](OC1=CC(=CC(=C1)O[SiH](CC1CCCCC1)C=C)O[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 GYMKOHCBFJNCGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFGLZJQGLDWALT-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](OC1=CC(=CC=C1)O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)CC1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[SiH](OC1=CC(=CC=C1)O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)CC1=CC=CC=C1 FFGLZJQGLDWALT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIINRZLUEDRFQR-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](OC1=CC2=CC3=C(C=CC=C3C=C2C=C1)O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)CC1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[SiH](OC1=CC2=CC3=C(C=CC=C3C=C2C=C1)O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)CC1=CC=CC=C1 BIINRZLUEDRFQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFUVCRLTSSNAPK-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](OC1=CC2=CC3=C(C=CC=C3C=C2C=C1)O[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 Chemical compound C(=C)[SiH](OC1=CC2=CC3=C(C=CC=C3C=C2C=C1)O[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 FFUVCRLTSSNAPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDVUZWCRNFNSKX-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](OC1=CC2=CC3=CC(=CC=C3C=C2C=C1)O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)CC1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[SiH](OC1=CC2=CC3=CC(=CC=C3C=C2C=C1)O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)CC1=CC=CC=C1 QDVUZWCRNFNSKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAHBEGWGMXGDKM-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](OC1=CC=C(C=C1)C1=CC=C(C=C1)O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)CC1=CC=CC=C1 Chemical group C(=C)[SiH](OC1=CC=C(C=C1)C1=CC=C(C=C1)O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)CC1=CC=CC=C1 HAHBEGWGMXGDKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFRQBSJGBFLWAT-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](OC1=CC=C(C=C1)C1=CC=C(C=C1)O[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 Chemical group C(=C)[SiH](OC1=CC=C(C=C1)C1=CC=C(C=C1)O[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 GFRQBSJGBFLWAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWTNKUXDYXZELP-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](OC=1C=C(C=CC1)C1=CC=C(C=C1)O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)CC1=CC=CC=C1 Chemical group C(=C)[SiH](OC=1C=C(C=CC1)C1=CC=C(C=C1)O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C)CC1=CC=CC=C1 IWTNKUXDYXZELP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEUAKNODSHAELP-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](OC=1C=C(C=CC1)C1=CC=C(C=C1)O[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 Chemical group C(=C)[SiH](OC=1C=C(C=CC1)C1=CC=C(C=C1)O[SiH](CC1CCCCC1)C=C)CC1CCCCC1 IEUAKNODSHAELP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBJNSJHUGOZDFO-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](OCO[SiH](C=C)CC1CCCCC1)CC1CCCCC1 Chemical compound C(=C)[SiH](OCO[SiH](C=C)CC1CCCCC1)CC1CCCCC1 QBJNSJHUGOZDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTXRAHUUQYCVJJ-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C)(C)C([Si](C=C)(C)C)([Si](C=C)(C)C)[Si](C=C)(C)C Chemical compound C(=C)[Si](C)(C)C([Si](C=C)(C)C)([Si](C=C)(C)C)[Si](C=C)(C)C KTXRAHUUQYCVJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZBGJWXJPRDKBO-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C)(C)C[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C(=C)[Si](C)(C)C[SiH2]C(C=C)C=C TZBGJWXJPRDKBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKEZAXHZPRZCCL-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C)(C)C[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C Chemical compound C(=C)[Si](C)(C)C[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C SKEZAXHZPRZCCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVDMZRWGIYPWOU-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1=C(C=C(C(=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[Si](C1=C(C=C(C(=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 IVDMZRWGIYPWOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNWCJOZTRUMVPM-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1=C(C=C(C(=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C(=C)[Si](C1=C(C=C(C(=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C QNWCJOZTRUMVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAXDVBGSZHSOTM-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1=C(C=C(C=C1)[Si](C)(C)C=C)[Si](C)(C)C=C)(C)C Chemical compound C(=C)[Si](C1=C(C=C(C=C1)[Si](C)(C)C=C)[Si](C)(C)C=C)(C)C MAXDVBGSZHSOTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMNWOMDHJABYQM-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1=C(C=C(C=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C(=C)[Si](C1=C(C=C(C=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C RMNWOMDHJABYQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URTBLZDGOWJXMK-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1=C(C=C(C=C1)[Si](C=C)(C=C)C=C)[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C Chemical compound C(=C)[Si](C1=C(C=C(C=C1)[Si](C=C)(C=C)C=C)[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C URTBLZDGOWJXMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RERJEBAMDGBDGS-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1=CC(=CC(=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[Si](C1=CC(=CC(=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 RERJEBAMDGBDGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYRWYGULYAGLIY-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1=CC(=CC(=C1)[Si](C=C)(C=C)C=C)[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C Chemical compound C(=C)[Si](C1=CC(=CC(=C1)[Si](C=C)(C=C)C=C)[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C RYRWYGULYAGLIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHNUNTASTDSLOE-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1=CC2=CC3=C(C=CC=C3C=C2C=C1)[Si](C)(C)C=C)(C)C Chemical compound C(=C)[Si](C1=CC2=CC3=C(C=CC=C3C=C2C=C1)[Si](C)(C)C=C)(C)C PHNUNTASTDSLOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQSFNWPYVLOCDT-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1=CC2=CC3=C(C=CC=C3C=C2C=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[Si](C1=CC2=CC3=C(C=CC=C3C=C2C=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 KQSFNWPYVLOCDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNTZSPQLLJZDGT-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1=CC2=CC3=C(C=CC=C3C=C2C=C1)[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C Chemical compound C(=C)[Si](C1=CC2=CC3=C(C=CC=C3C=C2C=C1)[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C KNTZSPQLLJZDGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLNYPSHHHYDFKJ-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1=CC2=CC3=CC(=CC=C3C=C2C=C1)[Si](C)(C)C=C)(C)C Chemical compound C(=C)[Si](C1=CC2=CC3=CC(=CC=C3C=C2C=C1)[Si](C)(C)C=C)(C)C SLNYPSHHHYDFKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPFMNKLDNLYMHP-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1=CC2=CC3=CC(=CC=C3C=C2C=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[Si](C1=CC2=CC3=CC(=CC=C3C=C2C=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 ZPFMNKLDNLYMHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMEXOHMUIMHGDC-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1=CC2=CC3=CC(=CC=C3C=C2C=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C(=C)[Si](C1=CC2=CC3=CC(=CC=C3C=C2C=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C QMEXOHMUIMHGDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDWPKQCEFWUBMJ-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1=CC2=CC3=CC(=CC=C3C=C2C=C1)[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C Chemical compound C(=C)[Si](C1=CC2=CC3=CC(=CC=C3C=C2C=C1)[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C LDWPKQCEFWUBMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXTKWFYLZDIDPA-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1=CC=C(C=C1)C1=CC=C(C=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical group C(=C)[Si](C1=CC=C(C=C1)C1=CC=C(C=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 LXTKWFYLZDIDPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVMYCOIFRLAZNF-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1=CC=C(C=C1)C1=CC=C(C=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C Chemical group C(=C)[Si](C1=CC=C(C=C1)C1=CC=C(C=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C LVMYCOIFRLAZNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVRQMGQOZASHBS-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C([Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)([Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C([Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)([Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 CVRQMGQOZASHBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJGXOEHXGXMGLA-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C([Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C([Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 NJGXOEHXGXMGLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKNWOQDOOWHITP-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C([Si](C=C)(C=C)C1=CC=CC=C1)([Si](C=C)(C=C)C1=CC=CC=C1)[Si](C=C)(C=C)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C([Si](C=C)(C=C)C1=CC=CC=C1)([Si](C=C)(C=C)C1=CC=CC=C1)[Si](C=C)(C=C)C1=CC=CC=C1 MKNWOQDOOWHITP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAVJVSQGJJTRAW-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C([Si](C=C)(C=C)C1=CC=CC=C1)[Si](C=C)(C=C)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C([Si](C=C)(C=C)C1=CC=CC=C1)[Si](C=C)(C=C)C1=CC=CC=C1 HAVJVSQGJJTRAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPOOQSDHOSLJHE-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C[Si](C=C)(C=C)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C[Si](C=C)(C=C)C1=CC=CC=C1 BPOOQSDHOSLJHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZPUYJZCWFOXIK-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1C(CC(C(C1)[Si](C)(C)C=C)[Si](C)(C)C=C)[Si](C)(C)C=C)(C)C Chemical compound C(=C)[Si](C1C(CC(C(C1)[Si](C)(C)C=C)[Si](C)(C)C=C)[Si](C)(C)C=C)(C)C GZPUYJZCWFOXIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTWODOZTFQDTNF-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1C(CC(CC1)[Si](C)(C)C=C)[Si](C)(C)C=C)(C)C Chemical compound C(=C)[Si](C1C(CC(CC1)[Si](C)(C)C=C)[Si](C)(C)C=C)(C)C PTWODOZTFQDTNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSNOSMYSIQISKY-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C1CCC(CC1)[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C Chemical compound C(=C)[Si](C1CCC(CC1)[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C PSNOSMYSIQISKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHNTUHGVPDQKCL-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C=1C=C(C=CC1)C1=CC=C(C=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical group C(=C)[Si](C=1C=C(C=CC1)C1=CC=C(C=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 KHNTUHGVPDQKCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXEZQYFWJQNJDU-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C=1C=C(C=CC1)C1=CC=C(C=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C Chemical group C(=C)[Si](C=1C=C(C=CC1)C1=CC=C(C=C1)[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C YXEZQYFWJQNJDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTXSMSVFMDZXSO-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C=1C=C(C=CC1)C1=CC=C(C=C1)[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C Chemical group C(=C)[Si](C=1C=C(C=CC1)C1=CC=C(C=C1)[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C HTXSMSVFMDZXSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVCZIHSCKSVHJD-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C=C)(C=C)C([Si](C=C)(C=C)C=C)([Si](C=C)(C=C)C=C)[Si](C=C)(C=C)C=C Chemical compound C(=C)[Si](C=C)(C=C)C([Si](C=C)(C=C)C=C)([Si](C=C)(C=C)C=C)[Si](C=C)(C=C)C=C TVCZIHSCKSVHJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKPRJJLGFYABTB-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](C=C)(C=C)C([Si](C=C)(C=C)C=C)[Si](C=C)(C=C)C=C Chemical compound C(=C)[Si](C=C)(C=C)C([Si](C=C)(C=C)C=C)[Si](C=C)(C=C)C=C AKPRJJLGFYABTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXFDDITWVCPVIF-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](CCCCC[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[Si](CCCCC[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 TXFDDITWVCPVIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJEHOIJRMAUQGP-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](CCCCC[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C(=C)[Si](CCCCC[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C VJEHOIJRMAUQGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVNLRRSBEOKKMK-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](CCCCC[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C Chemical compound C(=C)[Si](CCCCC[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C GVNLRRSBEOKKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDRMZOVHQHHOHA-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](CCCC[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[Si](CCCC[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 HDRMZOVHQHHOHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFJFQNPTHSRZNN-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](CCCC[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C(=C)[Si](CCCC[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C YFJFQNPTHSRZNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDXFBTJOCATEBE-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](CCCC[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C Chemical compound C(=C)[Si](CCCC[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C UDXFBTJOCATEBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFHRWGJEUNRIMK-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](CCC[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[Si](CCC[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 BFHRWGJEUNRIMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMFBGRWQXZDRGE-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](CCC[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C(=C)[Si](CCC[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C LMFBGRWQXZDRGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSNLUCOQFYSIFC-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](CC[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C(=C)[Si](CC[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C XSNLUCOQFYSIFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVKCEFHCHWPSKK-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC(O[Si](C=C)(C)C)O[Si](C=C)(C)C)(C)C Chemical compound C(=C)[Si](OC(O[Si](C=C)(C)C)O[Si](C=C)(C)C)(C)C HVKCEFHCHWPSKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDSOSBJFSCEHNU-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC(O[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)(O[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)O[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[Si](OC(O[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)(O[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)O[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 LDSOSBJFSCEHNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RAXKNDQOCNWBPG-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC(O[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)O[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[Si](OC(O[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)O[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 RAXKNDQOCNWBPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONMQUICAWQJZDF-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC(O[Si](C=C)(C=C)C1=CC=CC=C1)(O[Si](C=C)(C=C)C1=CC=CC=C1)O[Si](C=C)(C=C)C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C(=C)[Si](OC(O[Si](C=C)(C=C)C1=CC=CC=C1)(O[Si](C=C)(C=C)C1=CC=CC=C1)O[Si](C=C)(C=C)C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C ONMQUICAWQJZDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKFVAMJYWUSCCC-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC(O[Si](C=C)(C=C)C1=CC=CC=C1)O[Si](C=C)(C=C)C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C(=C)[Si](OC(O[Si](C=C)(C=C)C1=CC=CC=C1)O[Si](C=C)(C=C)C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C PKFVAMJYWUSCCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOHAFILNQVFXRB-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC(O[Si](C=C)(C=C)C=C)(O[Si](C=C)(C=C)C=C)O[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C Chemical compound C(=C)[Si](OC(O[Si](C=C)(C=C)C=C)(O[Si](C=C)(C=C)C=C)O[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C YOHAFILNQVFXRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWRGPPKXHLAAGU-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC(O[Si](C=C)(C=C)C=C)O[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C Chemical compound C(=C)[Si](OC(O[Si](C=C)(C=C)C=C)O[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C KWRGPPKXHLAAGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJDXFDVHXINZDD-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC1=C(C=C(C(=C1)O[Si](C)(C)C=C)O[Si](C)(C)C=C)O[Si](C)(C)C=C)(C)C Chemical compound C(=C)[Si](OC1=C(C=C(C(=C1)O[Si](C)(C)C=C)O[Si](C)(C)C=C)O[Si](C)(C)C=C)(C)C YJDXFDVHXINZDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZWCHEPUXUGUDI-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC1=C(C=C(C(=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[Si](OC1=C(C=C(C(=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 FZWCHEPUXUGUDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBUZHYKVCFCLAZ-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC1=C(C=C(C(=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C(=C)[Si](OC1=C(C=C(C(=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C XBUZHYKVCFCLAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOJSYRPIQRMIEI-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC1=C(C=C(C=C1)O[Si](C)(C)C=C)O[Si](C)(C)C=C)(C)C Chemical compound C(=C)[Si](OC1=C(C=C(C=C1)O[Si](C)(C)C=C)O[Si](C)(C)C=C)(C)C WOJSYRPIQRMIEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVEVUGNKEOZCAJ-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC1=C(C=C(C=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[Si](OC1=C(C=C(C=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 VVEVUGNKEOZCAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYVKODHNFGGEEH-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC1=C(C=C(C=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C(=C)[Si](OC1=C(C=C(C=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C XYVKODHNFGGEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMKOHSDXEXAPMO-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC1=C(C=C(C=C1)O[Si](C=C)(C=C)C=C)O[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C Chemical compound C(=C)[Si](OC1=C(C=C(C=C1)O[Si](C=C)(C=C)C=C)O[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C YMKOHSDXEXAPMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYEGSXJSQYFFAP-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC1=CC(=CC(=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[Si](OC1=CC(=CC(=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 DYEGSXJSQYFFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKCGVVCMTZIRCL-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC1=CC(=CC(=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C(=C)[Si](OC1=CC(=CC(=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C KKCGVVCMTZIRCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIGDTTSCVSAYGN-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC1=CC(=CC(=C1)O[Si](C=C)(C=C)C=C)O[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C Chemical compound C(=C)[Si](OC1=CC(=CC(=C1)O[Si](C=C)(C=C)C=C)O[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C RIGDTTSCVSAYGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPQEMZGMAVOGG-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC1=CC2=CC(=CC=C2C=C1)O[Si](C)(C)C=C)(C)C Chemical compound C(=C)[Si](OC1=CC2=CC(=CC=C2C=C1)O[Si](C)(C)C=C)(C)C OYPQEMZGMAVOGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRJYSNVRCVCMTE-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC1=CC2=CC(=CC=C2C=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C(=C)[Si](OC1=CC2=CC(=CC=C2C=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C IRJYSNVRCVCMTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCZHNARZCGWECU-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC1=CC2=CC3=C(C=CC=C3C=C2C=C1)O[Si](C)(C)C=C)(C)C Chemical compound C(=C)[Si](OC1=CC2=CC3=C(C=CC=C3C=C2C=C1)O[Si](C)(C)C=C)(C)C YCZHNARZCGWECU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVJQOLZBFGCAJM-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC1=CC2=CC3=CC(=CC=C3C=C2C=C1)O[Si](C)(C)C=C)(C)C Chemical compound C(=C)[Si](OC1=CC2=CC3=CC(=CC=C3C=C2C=C1)O[Si](C)(C)C=C)(C)C RVJQOLZBFGCAJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJLAZFWWVGMIGH-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC1=CC2=CC3=CC(=CC=C3C=C2C=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[Si](OC1=CC2=CC3=CC(=CC=C3C=C2C=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 HJLAZFWWVGMIGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKMXJTDXSCQSPX-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC1=CC2=CC3=CC(=CC=C3C=C2C=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C(=C)[Si](OC1=CC2=CC3=CC(=CC=C3C=C2C=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C RKMXJTDXSCQSPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UISZBQOGVBWHGK-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC1=CC2=CC=C(C=C2C=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[Si](OC1=CC2=CC=C(C=C2C=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 UISZBQOGVBWHGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMYGJUPPLWVXKX-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC1=CC=C(C=C1)C1=CC=C(C=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical group C(=C)[Si](OC1=CC=C(C=C1)C1=CC=C(C=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 UMYGJUPPLWVXKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTMBSNXBDMSPDO-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC1=CC=C(C=C1)C1=CC=C(C=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C Chemical group C(=C)[Si](OC1=CC=C(C=C1)C1=CC=C(C=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C RTMBSNXBDMSPDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GALVLMJOTDPFNS-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC=1C=C(C=CC1)C1=CC=C(C=C1)O[Si](C)(C)C=C)(C)C Chemical group C(=C)[Si](OC=1C=C(C=CC1)C1=CC=C(C=C1)O[Si](C)(C)C=C)(C)C GALVLMJOTDPFNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJZGGPBFFWGWTL-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC=1C=C(C=CC1)C1=CC=C(C=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical group C(=C)[Si](OC=1C=C(C=CC1)C1=CC=C(C=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 VJZGGPBFFWGWTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATMCHJJGDJSWHK-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC=1C=C(C=CC1)C1=CC=C(C=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C Chemical group C(=C)[Si](OC=1C=C(C=CC1)C1=CC=C(C=C1)O[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C ATMCHJJGDJSWHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INXYEXLARUAXSG-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OC=1C=C(C=CC1)C1=CC=C(C=C1)O[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C Chemical group C(=C)[Si](OC=1C=C(C=CC1)C1=CC=C(C=C1)O[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C INXYEXLARUAXSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZXFORPZJWDJMH-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OCCCCCO[Si](C)(C)C=C)(C)C Chemical compound C(=C)[Si](OCCCCCO[Si](C)(C)C=C)(C)C YZXFORPZJWDJMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JENYVEWJMFFZTR-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OCCCCCO[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[Si](OCCCCCO[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 JENYVEWJMFFZTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBQYVKSNWWEFAU-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OCCCCO[Si](C)(C)C=C)(C)C Chemical compound C(=C)[Si](OCCCCO[Si](C)(C)C=C)(C)C XBQYVKSNWWEFAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYHLVJAMKJQXSS-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OCCCCO[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[Si](OCCCCO[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 LYHLVJAMKJQXSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPSRFGNILWKBAZ-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OCCCCO[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C(=C)[Si](OCCCCO[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C IPSRFGNILWKBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRFNQYPSVPTUJD-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OCCCCO[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C Chemical compound C(=C)[Si](OCCCCO[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C RRFNQYPSVPTUJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAIMVHSTWDCLSR-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OCCCO[Si](C)(C)C=C)(C)C Chemical compound C(=C)[Si](OCCCO[Si](C)(C)C=C)(C)C MAIMVHSTWDCLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYJPWMZURYSVSM-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OCCCO[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)[Si](OCCCO[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 AYJPWMZURYSVSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDSSDVLHCMBZRX-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OCCCO[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C(=C)[Si](OCCCO[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C1=CC=CC=C1)C=C DDSSDVLHCMBZRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYUZRTSIQRISOL-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OCCCO[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C Chemical compound C(=C)[Si](OCCCO[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C FYUZRTSIQRISOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWDVYIKJLPAFEV-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OCO[SiH2]C(C=C)C=C)(C)C Chemical compound C(=C)[Si](OCO[SiH2]C(C=C)C=C)(C)C IWDVYIKJLPAFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICPAUAJSDBMJMP-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OCO[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C)C Chemical compound C(=C)[Si](OCO[Si](C1=CC=CC=C1)(C=C)C=C)(C)C ICPAUAJSDBMJMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQFZYOQKWDMIJD-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OCO[Si](C=C)(C=C)C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C(=C)[Si](OCO[Si](C=C)(C=C)C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C=C YQFZYOQKWDMIJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAJAIPJTDRLYBI-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si](OCO[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C Chemical compound C(=C)[Si](OCO[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C HAJAIPJTDRLYBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHQRHTYSZKMETB-UHFFFAOYSA-N C=CC(C=C)[SiH2]C(CC(C1)[SiH2]C(C=C)C=C)CC1[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C=CC(C=C)[SiH2]C(CC(C1)[SiH2]C(C=C)C=C)CC1[SiH2]C(C=C)C=C KHQRHTYSZKMETB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSYDQRDCADWNOS-UHFFFAOYSA-N C=CC(C=C)[SiH2]C(CCC1[SiH2]C(C=C)C=C)CC1[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C=CC(C=C)[SiH2]C(CCC1[SiH2]C(C=C)C=C)CC1[SiH2]C(C=C)C=C DSYDQRDCADWNOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAIXIKRMGUMFCJ-UHFFFAOYSA-N C=CC(C=C)[SiH2]C[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C=CC(C=C)[SiH2]C[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C MAIXIKRMGUMFCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUFXRUFTMIUHTD-UHFFFAOYSA-N C=CC(C=C)[SiH2]OC(CC(C(C1)O[SiH2]C(C=C)C=C)O[SiH2]C(C=C)C=C)C1O[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C=CC(C=C)[SiH2]OC(CC(C(C1)O[SiH2]C(C=C)C=C)O[SiH2]C(C=C)C=C)C1O[SiH2]C(C=C)C=C YUFXRUFTMIUHTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCTBJSAWXGJBEF-UHFFFAOYSA-N C=CC(C=C)[SiH2]OC(CC(C1)O[SiH2]C(C=C)C=C)CC1O[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C=CC(C=C)[SiH2]OC(CC(C1)O[SiH2]C(C=C)C=C)CC1O[SiH2]C(C=C)C=C ZCTBJSAWXGJBEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVKZXGGUNODHIB-UHFFFAOYSA-N C=CC(C=C)[SiH2]OC(CCC1O[SiH2]C(C=C)C=C)CC1O[SiH2]C(C=C)C=C Chemical compound C=CC(C=C)[SiH2]OC(CCC1O[SiH2]C(C=C)C=C)CC1O[SiH2]C(C=C)C=C IVKZXGGUNODHIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYFQUEAJRVAPPI-UHFFFAOYSA-N C=CC1=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C2C([SiH2]C2=CC=CC=C2)=C1C=C Chemical compound C=CC1=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C2C([SiH2]C2=CC=CC=C2)=C1C=C VYFQUEAJRVAPPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRMXLXBUJQRBKZ-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)C(C=CC1=CC2=CC=C3)=CC1=CC2=C3[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)C(C=CC1=CC2=CC=C3)=CC1=CC2=C3[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C RRMXLXBUJQRBKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSMYTOUHKWYOLM-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)C(CC(C1)[SiH](CC2=CC=CC=C2)C=C)CC1[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)C(CC(C1)[SiH](CC2=CC=CC=C2)C=C)CC1[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C JSMYTOUHKWYOLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DACLMQYJFRXOMZ-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)C1=CC=C(C=C(C=C2)[SiH](CC3=CC=CC=C3)C=C)C2=C1 Chemical compound C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)C1=CC=C(C=C(C=C2)[SiH](CC3=CC=CC=C3)C=C)C2=C1 DACLMQYJFRXOMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYMNYPLEBFWWQO-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)C1=CC=CC2=CC=CC=C12 Chemical compound C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)C1=CC=CC2=CC=CC=C12 TYMNYPLEBFWWQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADJXDRPKRJQMAW-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)C2CCCCC2 Chemical compound C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)C2CCCCC2 ADJXDRPKRJQMAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZONSLRTZKPQVSN-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)OC(C=C1)=CC(O[SiH](CC2=CC=CC=C2)C=C)=C1O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)OC(C=C1)=CC(O[SiH](CC2=CC=CC=C2)C=C)=C1O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C ZONSLRTZKPQVSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYNXODNUHNMLHV-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)OC(CC(C(C1)O[SiH](CC2=CC=CC=C2)C=C)O[SiH](CC2=CC=CC=C2)C=C)C1O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)OC(CC(C(C1)O[SiH](CC2=CC=CC=C2)C=C)O[SiH](CC2=CC=CC=C2)C=C)C1O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C ZYNXODNUHNMLHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUDFQQKLDYVPMH-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)OC(CC(C1)O[SiH](CC2=CC=CC=C2)C=C)CC1O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)OC(CC(C1)O[SiH](CC2=CC=CC=C2)C=C)CC1O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C WUDFQQKLDYVPMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOLGXVTUAOWLNG-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)OC(CCC1O[SiH](CC2=CC=CC=C2)C=C)CC1O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C Chemical compound C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)OC(CCC1O[SiH](CC2=CC=CC=C2)C=C)CC1O[SiH](CC1=CC=CC=C1)C=C OOLGXVTUAOWLNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXLVTPWVVOIRGJ-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)OC1=CC(O[SiH](CC2=CC=CC=C2)C=C)=CC(O[SiH](CC2=CC=CC=C2)C=C)=C1 Chemical compound C=C[SiH](CC1=CC=CC=C1)OC1=CC(O[SiH](CC2=CC=CC=C2)C=C)=CC(O[SiH](CC2=CC=CC=C2)C=C)=C1 VXLVTPWVVOIRGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVNBAUDYLJLLPD-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1CCCCC1)C(CC(C(C1)[SiH](CC2CCCCC2)C=C)[SiH](CC2CCCCC2)C=C)C1[SiH](CC1CCCCC1)C=C Chemical compound C=C[SiH](CC1CCCCC1)C(CC(C(C1)[SiH](CC2CCCCC2)C=C)[SiH](CC2CCCCC2)C=C)C1[SiH](CC1CCCCC1)C=C YVNBAUDYLJLLPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEAJIACLHDYSFY-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1CCCCC1)C(CC(C1)[SiH](CC2CCCCC2)C=C)CC1[SiH](CC1CCCCC1)C=C Chemical compound C=C[SiH](CC1CCCCC1)C(CC(C1)[SiH](CC2CCCCC2)C=C)CC1[SiH](CC1CCCCC1)C=C NEAJIACLHDYSFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBGOINULSZUIRD-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1CCCCC1)C(CC1)CCC1[SiH](CC1CCCCC1)C=C Chemical compound C=C[SiH](CC1CCCCC1)C(CC1)CCC1[SiH](CC1CCCCC1)C=C YBGOINULSZUIRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWLZTGAULVADQB-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1CCCCC1)C(CCC1[SiH](CC2CCCCC2)C=C)CC1[SiH](CC1CCCCC1)C=C Chemical compound C=C[SiH](CC1CCCCC1)C(CCC1[SiH](CC2CCCCC2)C=C)CC1[SiH](CC1CCCCC1)C=C NWLZTGAULVADQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEPYMZCGYWTNRJ-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1CCCCC1)C2CCCCC2 Chemical compound C=C[SiH](CC1CCCCC1)C2CCCCC2 WEPYMZCGYWTNRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWMKPORSXFJJOE-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1CCCCC1)OC(CC(C(C1)O[SiH](CC2CCCCC2)C=C)O[SiH](CC2CCCCC2)C=C)C1O[SiH](CC1CCCCC1)C=C Chemical compound C=C[SiH](CC1CCCCC1)OC(CC(C(C1)O[SiH](CC2CCCCC2)C=C)O[SiH](CC2CCCCC2)C=C)C1O[SiH](CC1CCCCC1)C=C KWMKPORSXFJJOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTBWOSDPQKBNTJ-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1CCCCC1)OC(CC(C1)O[SiH](CC2CCCCC2)C=C)CC1O[SiH](CC1CCCCC1)C=C Chemical compound C=C[SiH](CC1CCCCC1)OC(CC(C1)O[SiH](CC2CCCCC2)C=C)CC1O[SiH](CC1CCCCC1)C=C VTBWOSDPQKBNTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSTPSDLMAVEEFC-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1CCCCC1)OC(CC1)CCC1O[SiH](CC1CCCCC1)C=C Chemical compound C=C[SiH](CC1CCCCC1)OC(CC1)CCC1O[SiH](CC1CCCCC1)C=C NSTPSDLMAVEEFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXFFDWSSXVADGQ-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1CCCCC1)OC(CCC1O[SiH](CC2CCCCC2)C=C)CC1O[SiH](CC1CCCCC1)C=C Chemical compound C=C[SiH](CC1CCCCC1)OC(CCC1O[SiH](CC2CCCCC2)C=C)CC1O[SiH](CC1CCCCC1)C=C DXFFDWSSXVADGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSHMONVYAIPJBC-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1CCCCC1)OC1=CC=C(C=C(C=CC(O[SiH](CC2CCCCC2)C=C)=C2)C2=C2)C2=C1 Chemical compound C=C[SiH](CC1CCCCC1)OC1=CC=C(C=C(C=CC(O[SiH](CC2CCCCC2)C=C)=C2)C2=C2)C2=C1 GSHMONVYAIPJBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUHWIJCMLGSLSL-UHFFFAOYSA-N C=C[SiH](CC1CCCCC1)OC2CCCCC2 Chemical compound C=C[SiH](CC1CCCCC1)OC2CCCCC2 YUHWIJCMLGSLSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQDAAGHUAKZIMU-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C1=CC=CC=C1)(C2=CC=CC=C2)OC3CC(CC(C3)O[Si](C=C)(C4=CC=CC=C4)C5=CC=CC=C5)O[Si](C=C)(C6=CC=CC=C6)C7=CC=CC=C7 Chemical compound C=C[Si](C1=CC=CC=C1)(C2=CC=CC=C2)OC3CC(CC(C3)O[Si](C=C)(C4=CC=CC=C4)C5=CC=CC=C5)O[Si](C=C)(C6=CC=CC=C6)C7=CC=CC=C7 GQDAAGHUAKZIMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJXYRYRIXUHODO-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C1=CC=CC=C1)(C2=CC=CC=C2)OC3CCC(C(C3)O[Si](C=C)(C4=CC=CC=C4)C5=CC=CC=C5)O[Si](C=C)(C6=CC=CC=C6)C7=CC=CC=C7 Chemical compound C=C[Si](C1=CC=CC=C1)(C2=CC=CC=C2)OC3CCC(C(C3)O[Si](C=C)(C4=CC=CC=C4)C5=CC=CC=C5)O[Si](C=C)(C6=CC=CC=C6)C7=CC=CC=C7 HJXYRYRIXUHODO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQMHLYDNIPEHQX-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C1=CC=CC=C1)(C2=CC=CC=C2)OC3CCCC(C3)O[Si](C=C)(C4=CC=CC=C4)C5=CC=CC=C5 Chemical compound C=C[Si](C1=CC=CC=C1)(C2=CC=CC=C2)OC3CCCC(C3)O[Si](C=C)(C4=CC=CC=C4)C5=CC=CC=C5 LQMHLYDNIPEHQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSJJXOYIQCOKDC-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C1CC(C(CC1[Si](C=C)(C2=CC=CC=C2)C3=CC=CC=C3)[Si](C=C)(C4=CC=CC=C4)C5=CC=CC=C5)[Si](C=C)(C6=CC=CC=C6)C7=CC=CC=C7)(C8=CC=CC=C8)C9=CC=CC=C9 Chemical compound C=C[Si](C1CC(C(CC1[Si](C=C)(C2=CC=CC=C2)C3=CC=CC=C3)[Si](C=C)(C4=CC=CC=C4)C5=CC=CC=C5)[Si](C=C)(C6=CC=CC=C6)C7=CC=CC=C7)(C8=CC=CC=C8)C9=CC=CC=C9 DSJJXOYIQCOKDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZOBVIJIYRKVDP-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C1CC(CC(C1)[Si](C=C)(C2=CC=CC=C2)C3=CC=CC=C3)[Si](C=C)(C4=CC=CC=C4)C5=CC=CC=C5)(C6=CC=CC=C6)C7=CC=CC=C7 Chemical compound C=C[Si](C1CC(CC(C1)[Si](C=C)(C2=CC=CC=C2)C3=CC=CC=C3)[Si](C=C)(C4=CC=CC=C4)C5=CC=CC=C5)(C6=CC=CC=C6)C7=CC=CC=C7 PZOBVIJIYRKVDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXITZVMRWGOZMX-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C1CCC(C(C1)[Si](C=C)(C2=CC=CC=C2)C3=CC=CC=C3)[Si](C=C)(C4=CC=CC=C4)C5=CC=CC=C5)(C6=CC=CC=C6)C7=CC=CC=C7 Chemical compound C=C[Si](C1CCC(C(C1)[Si](C=C)(C2=CC=CC=C2)C3=CC=CC=C3)[Si](C=C)(C4=CC=CC=C4)C5=CC=CC=C5)(C6=CC=CC=C6)C7=CC=CC=C7 MXITZVMRWGOZMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWXWWPRLRIWARU-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC2=CC=CC=C12 Chemical compound C=C[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC2=CC=CC=C12 GWXWWPRLRIWARU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYKDNWQGLDLGSQ-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)C2=CC(=CC(=C2)[Si](C=C)(C=C)C3=CC=CC=C3)[Si](C=C)(C=C)C4=CC=CC=C4 Chemical compound C=C[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)C2=CC(=CC(=C2)[Si](C=C)(C=C)C3=CC=CC=C3)[Si](C=C)(C=C)C4=CC=CC=C4 PYKDNWQGLDLGSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYGLAWLCACOSQH-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)C2=CC3=C(C=C2)C=C(C=C3)[Si](C=C)(C=C)C4=CC=CC=C4 Chemical compound C=C[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)C2=CC3=C(C=C2)C=C(C=C3)[Si](C=C)(C=C)C4=CC=CC=C4 MYGLAWLCACOSQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIXVBBVZQZCXGP-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)OC1=CC=CC2=CC=CC=C12 Chemical compound C=C[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)OC1=CC=CC2=CC=CC=C12 QIXVBBVZQZCXGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKMUCUXVFMJSRJ-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)OC2CC(C(CC2O[Si](C=C)(C=C)C3=CC=CC=C3)O[Si](C=C)(C=C)C4=CC=CC=C4)O[Si](C=C)(C=C)C5=CC=CC=C5 Chemical compound C=C[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)OC2CC(C(CC2O[Si](C=C)(C=C)C3=CC=CC=C3)O[Si](C=C)(C=C)C4=CC=CC=C4)O[Si](C=C)(C=C)C5=CC=CC=C5 JKMUCUXVFMJSRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKSAOLHRRSHZGF-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)OC2CC(CC(C2)O[Si](C=C)(C=C)C3=CC=CC=C3)O[Si](C=C)(C=C)C4=CC=CC=C4 Chemical compound C=C[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)OC2CC(CC(C2)O[Si](C=C)(C=C)C3=CC=CC=C3)O[Si](C=C)(C=C)C4=CC=CC=C4 ZKSAOLHRRSHZGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJNHPXQBQGNPOP-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)OC2CCC(C(C2)O[Si](C=C)(C=C)C3=CC=CC=C3)O[Si](C=C)(C=C)C4=CC=CC=C4 Chemical compound C=C[Si](C=C)(C1=CC=CC=C1)OC2CCC(C(C2)O[Si](C=C)(C=C)C3=CC=CC=C3)O[Si](C=C)(C=C)C4=CC=CC=C4 VJNHPXQBQGNPOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AANCAWAQALVEPB-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C=C)(C1CC(CC(C1)[Si](C=C)(C=C)C2=CC=CC=C2)[Si](C=C)(C=C)C3=CC=CC=C3)C4=CC=CC=C4 Chemical compound C=C[Si](C=C)(C1CC(CC(C1)[Si](C=C)(C=C)C2=CC=CC=C2)[Si](C=C)(C=C)C3=CC=CC=C3)C4=CC=CC=C4 AANCAWAQALVEPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUQVWPUBMZAURP-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C=C)(C1CCC(C(C1)[Si](C=C)(C=C)C2=CC=CC=C2)[Si](C=C)(C=C)C3=CC=CC=C3)C4=CC=CC=C4 Chemical compound C=C[Si](C=C)(C1CCC(C(C1)[Si](C=C)(C=C)C2=CC=CC=C2)[Si](C=C)(C=C)C3=CC=CC=C3)C4=CC=CC=C4 SUQVWPUBMZAURP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXTPQXXQBLDBQJ-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C=C)(C=C)C1CC(C(CC1[Si](C=C)(C=C)C=C)[Si](C=C)(C=C)C=C)[Si](C=C)(C=C)C=C Chemical compound C=C[Si](C=C)(C=C)C1CC(C(CC1[Si](C=C)(C=C)C=C)[Si](C=C)(C=C)C=C)[Si](C=C)(C=C)C=C OXTPQXXQBLDBQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDCIMHHHVLCVLO-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C=C)(C=C)C1CC(CC(C1)[Si](C=C)(C=C)C=C)[Si](C=C)(C=C)C=C Chemical compound C=C[Si](C=C)(C=C)C1CC(CC(C1)[Si](C=C)(C=C)C=C)[Si](C=C)(C=C)C=C KDCIMHHHVLCVLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHJAUVZXMZIYLT-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C=C)(C=C)C1CCC(C(C1)[Si](C=C)(C=C)C=C)[Si](C=C)(C=C)C=C Chemical compound C=C[Si](C=C)(C=C)C1CCC(C(C1)[Si](C=C)(C=C)C=C)[Si](C=C)(C=C)C=C UHJAUVZXMZIYLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAGRMRWWTYQWCQ-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C=C)(C=C)OC1=CC2=CC3=C(C=CC(=C3)O[Si](C=C)(C=C)C=C)C=C2C=C1 Chemical compound C=C[Si](C=C)(C=C)OC1=CC2=CC3=C(C=CC(=C3)O[Si](C=C)(C=C)C=C)C=C2C=C1 UAGRMRWWTYQWCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNLHVJQXPXESAJ-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C=C)(C=C)OC1CC(CC(C1)O[Si](C=C)(C=C)C=C)O[Si](C=C)(C=C)C=C Chemical compound C=C[Si](C=C)(C=C)OC1CC(CC(C1)O[Si](C=C)(C=C)C=C)O[Si](C=C)(C=C)C=C PNLHVJQXPXESAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYZQVASSBSBCTB-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C=C)(C=C)OC1CCC(C(C1)O[Si](C=C)(C=C)C=C)O[Si](C=C)(C=C)C=C Chemical compound C=C[Si](C=C)(C=C)OC1CCC(C(C1)O[Si](C=C)(C=C)C=C)O[Si](C=C)(C=C)C=C GYZQVASSBSBCTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIJJQJBMRVLCKG-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C=C)(C=C)OC1CCC(CC1)O[Si](C=C)(C=C)C=C Chemical compound C=C[Si](C=C)(C=C)OC1CCC(CC1)O[Si](C=C)(C=C)C=C UIJJQJBMRVLCKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GINIMQRFYDFCSD-UHFFFAOYSA-N C=C[Si](C=C)(C=C)OC1CCCCC1 Chemical compound C=C[Si](C=C)(C=C)OC1CCCCC1 GINIMQRFYDFCSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMLIXWIQSYJPIN-UHFFFAOYSA-N CCCCC(O[SiH3])(O[SiH3])O[SiH3] Chemical compound CCCCC(O[SiH3])(O[SiH3])O[SiH3] UMLIXWIQSYJPIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CROIFIHGJNWWCG-UHFFFAOYSA-N C[Si](C)(C=C)C1CC(CC(C1)[Si](C)(C)C=C)[Si](C)(C)C=C Chemical compound C[Si](C)(C=C)C1CC(CC(C1)[Si](C)(C)C=C)[Si](C)(C)C=C CROIFIHGJNWWCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJELADZFZGKSFR-UHFFFAOYSA-N C[Si](C)(C=C)OC1CC(C(CC1O[Si](C)(C)C=C)O[Si](C)(C)C=C)O[Si](C)(C)C=C Chemical compound C[Si](C)(C=C)OC1CC(C(CC1O[Si](C)(C)C=C)O[Si](C)(C)C=C)O[Si](C)(C)C=C IJELADZFZGKSFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQVNYVJEZDZETH-UHFFFAOYSA-N [SiH3]OC=1C(=C(C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C1)O[SiH3])O[SiH3] Chemical compound [SiH3]OC=1C(=C(C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C1)O[SiH3])O[SiH3] OQVNYVJEZDZETH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- IEKYMCSIKFGEKH-UHFFFAOYSA-N bis[ethenyl(dimethyl)silyl]methyl-ethenyl-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)C([Si](C)(C)C=C)[Si](C)(C)C=C IEKYMCSIKFGEKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000071 blow moulding Methods 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910002026 crystalline silica Inorganic materials 0.000 description 1
- HZGKWJZRNRZJIC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl-tris(ethenyl)silane Chemical compound C=C[Si](C=C)(C=C)C1CCCCC1 HZGKWJZRNRZJIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFZSMODLJJCVPP-UHFFFAOYSA-N dibenzothiazol-2-yl disulfide Chemical compound C1=CC=C2SC(SSC=3SC4=CC=CC=C4N=3)=NC2=C1 AFZSMODLJJCVPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLLFKUHHDPMQFR-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](O)(O)C1=CC=CC=C1 OLLFKUHHDPMQFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLQTWNAJXFHMHM-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](C)(OC)OC)CCC2OC21 SLQTWNAJXFHMHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- ZDSFBVVBFMKMRF-UHFFFAOYSA-N dimethyl-bis(prop-2-enyl)silane Chemical compound C=CC[Si](C)(C)CC=C ZDSFBVVBFMKMRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUNMPGNGSSIWFP-UHFFFAOYSA-N dimethylaminopropylamine Chemical compound CN(C)CCCN IUNMPGNGSSIWFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZODWTWYKYYGSFS-UHFFFAOYSA-N diphenyl-bis(prop-2-enyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](CC=C)(CC=C)C1=CC=CC=C1 ZODWTWYKYYGSFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N dipotassium dioxido(oxo)titanium Chemical compound [K+].[K+].[O-][Ti]([O-])=O NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- DBJMPYDAUYGUEY-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[2-[ethenyl(dimethyl)silyl]oxyethoxy]-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)OCCO[Si](C)(C)C=C DBJMPYDAUYGUEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAOUCIAPXRFNKQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[2-[ethenyl(diphenyl)silyl]ethyl]-diphenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(C=C)CC[Si](C=C)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 OAOUCIAPXRFNKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTZZSLVTGIFMDR-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[2-[ethenyl(diphenyl)silyl]oxyethoxy]-diphenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(C=C)OCCO[Si](C=C)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 JTZZSLVTGIFMDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJHFHOMPCZWRLC-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[3-[4-[ethenyl(dimethyl)silyl]phenyl]phenyl]-dimethylsilane Chemical group C(=C)[Si](C=1C=C(C=CC1)C1=CC=C(C=C1)[Si](C)(C)C=C)(C)C QJHFHOMPCZWRLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGVOOQYVJDIBGI-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[4-[ethenyl(dimethyl)silyl]butyl]-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)CCCC[Si](C)(C)C=C KGVOOQYVJDIBGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHOHSCJSHRIPGX-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[5-[ethenyl(dimethyl)silyl]pentyl]-dimethylsilane Chemical compound C[Si](CCCCC[Si](C=C)(C)C)(C=C)C VHOHSCJSHRIPGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSVRFYAAMRUWPZ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[[ethenyl(dimethyl)silyl]methyl]-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)C[Si](C)(C)C=C KSVRFYAAMRUWPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CATTYGKUZIKPSW-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[[ethenyl(dimethyl)silyl]oxymethoxy]-dimethylsilane Chemical compound C(=C)[Si](OCO[Si](C=C)(C)C)(C)C CATTYGKUZIKPSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[ethenyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C=C BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUSSQPVKYDXYGR-UHFFFAOYSA-N ethenyl-dimethyl-[2,4,5-tris[ethenyl(dimethyl)silyl]phenyl]silane Chemical compound C(=C)[Si](C1=C(C=C(C(=C1)[Si](C)(C)C=C)[Si](C)(C)C=C)[Si](C)(C)C=C)(C)C NUSSQPVKYDXYGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZIAHKRKUGGUPX-UHFFFAOYSA-N ethenyl-dimethyl-[tris[[ethenyl(dimethyl)silyl]oxy]methoxy]silane Chemical compound C=C[Si](C)(C)OC(O[Si](C)(C)C=C)(O[Si](C)(C)C=C)O[Si](C)(C)C=C QZIAHKRKUGGUPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHNBACKYOQMSBS-UHFFFAOYSA-N ethoxy-ethyl-methyl-[1-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-3-yl)ethoxy]silane Chemical compound O1C2CC(CCC21)C(C)O[Si](OCC)(C)CC MHNBACKYOQMSBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N ethoxysilane Chemical compound CCO[SiH3] CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000010097 foam moulding Methods 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTFTWJYRQNTCHI-UHFFFAOYSA-N hex-1-yn-3-ol Chemical compound CCCC(O)C#C LTFTWJYRQNTCHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGGUMTNPIYCTSF-UHFFFAOYSA-N hexylsilane Chemical compound CCCCCC[SiH3] QGGUMTNPIYCTSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010903 husk Substances 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 150000002688 maleic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011656 manganese carbonate Substances 0.000 description 1
- 229940093474 manganese carbonate Drugs 0.000 description 1
- 235000006748 manganese carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000016 manganese(II) carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- XMWCXZJXESXBBY-UHFFFAOYSA-L manganese(ii) carbonate Chemical compound [Mn+2].[O-]C([O-])=O XMWCXZJXESXBBY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- IKPUOBYSZKPWGX-UHFFFAOYSA-N methoxy(penta-1,4-dien-3-yl)silane Chemical compound C(=C)C(C=C)[SiH2]OC IKPUOBYSZKPWGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHZRFQFGSXWZPT-UHFFFAOYSA-N methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]-silylsilane Chemical compound C(C1CO1)OCCC[SiH]([SiH3])C OHZRFQFGSXWZPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAJJSUOVZDTQET-UHFFFAOYSA-N methyl-phenyl-bis(prop-2-enyl)silane Chemical compound C=CC[Si](C)(CC=C)C1=CC=CC=C1 HAJJSUOVZDTQET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFCCVNTYPIUJDJ-UHFFFAOYSA-N methyl-tris(prop-2-enyl)silane Chemical compound C=CC[Si](C)(CC=C)CC=C JFCCVNTYPIUJDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001393 microlithography Methods 0.000 description 1
- LDIPAUVCWRHLAM-UHFFFAOYSA-N n',n'-dibutylbutane-1,4-diamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCCN LDIPAUVCWRHLAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWNDYKKNXVKQJO-UHFFFAOYSA-N n',n'-dibutylethane-1,2-diamine Chemical compound CCCCN(CCN)CCCC PWNDYKKNXVKQJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDGSVBYJWHOHNN-UHFFFAOYSA-N n',n'-diethylethane-1,2-diamine Chemical compound CCN(CC)CCN UDGSVBYJWHOHNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DILRJUIACXKSQE-UHFFFAOYSA-N n',n'-dimethylethane-1,2-diamine Chemical compound CN(C)CCN DILRJUIACXKSQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIHKMUNUGQVFES-UHFFFAOYSA-N n,n,n',n'-tetraethylethane-1,2-diamine Chemical compound CCN(CC)CCN(CC)CC DIHKMUNUGQVFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 1
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- QFCLQSLLAYLBCU-UHFFFAOYSA-N phenyl-tris(prop-2-enyl)silane Chemical compound C=CC[Si](CC=C)(CC=C)C1=CC=CC=C1 QFCLQSLLAYLBCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N tert-butyl benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHILTCGAOPTOV-UHFFFAOYSA-N tetrakis(ethenyl)silane Chemical compound C=C[Si](C=C)(C=C)C=C UFHILTCGAOPTOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKRQMTFHUVDMIL-UHFFFAOYSA-N tetrakis(prop-2-enyl)silane Chemical compound C=CC[Si](CC=C)(CC=C)CC=C AKRQMTFHUVDMIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC2OC21 UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical group CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006227 trimethylsilylation reaction Methods 0.000 description 1
- ISQPYTOJCDIYBW-UHFFFAOYSA-N tris(ethenyl)-[2-tris(ethenyl)silylethyl]silane Chemical compound C=C[Si](C=C)(C=C)CC[Si](C=C)(C=C)C=C ISQPYTOJCDIYBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDAAIMMKWHLFOW-UHFFFAOYSA-N tris(ethenyl)-[2-tris(ethenyl)silyloxyethoxy]silane Chemical compound C=C[Si](C=C)(C=C)OCCO[Si](C=C)(C=C)C=C HDAAIMMKWHLFOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INGLHTWLYUUCBH-UHFFFAOYSA-N tris(ethenyl)-[4-[4-tris(ethenyl)silylphenyl]phenyl]silane Chemical group C(=C)[Si](C1=CC=C(C=C1)C1=CC=C(C=C1)[Si](C=C)(C=C)C=C)(C=C)C=C INGLHTWLYUUCBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOORWDVSMBQQME-UHFFFAOYSA-N tris(ethenyl)-[tris(ethenyl)silylmethyl]silane Chemical compound C=C[Si](C=C)(C=C)C[Si](C=C)(C=C)C=C XOORWDVSMBQQME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKRKCDBTXBGLKV-UHFFFAOYSA-N tris(ethenyl)-methylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C=C)C=C PKRKCDBTXBGLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUJPAQRDHMJPBB-UHFFFAOYSA-N tris(ethenyl)-phenylsilane Chemical compound C=C[Si](C=C)(C=C)C1=CC=CC=C1 FUJPAQRDHMJPBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 238000000870 ultraviolet spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Description
上記のように、ポリシロキサンを用いた材料の開示は見られるが、成型加工性、透明性、耐熱・耐光性に加え、ガスバリア性に優れた材料の例は見られず、新たな材料の開発が求められていた。
(A)アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物(a)同士をヒドロシリル化して得られるポリシロキサン化合物(b)に、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物(c)をヒドロシリル化反応させて得られるヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体、
(B)アルケニル基を2個以上含有する化合物、
からなるオルガノポリシロキサン系組成物により、上記課題を解決できることを見出し、本発明に至った。すなわち、本発明は以下の構成を有するものである。
(B)アルケニル基を2個以上含有する化合物、
からなるオルガノポリシロキサン系組成物であって、
前記(B)成分が、一般式(1)で表される化合物、一般式(2)で表される化合物、一般式(3)で表される化合物、一般式(4)で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とするオルガノポリシロキサン系組成物。
一般式(1)
RI aRII (1)
(RIはアルケニル基、RIIは2価以上の脂環式炭化水素基、または2価以上の芳香族炭化水素基、a≧2)
一般式(2)
RI aRIII bSi (2)
(RIはアルケニル基、RIIIはアルケニル基以外の1価の脂肪族炭化水素基、または1価の脂環式炭化水素基、または1価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、a≧2、b=0〜2の整数、a+b=4)
一般式(3)
(RI aRIII bSi)n(RI cRIII dSi)mRIV (3)
(RIはアルケニル基、RIIIはアルケニル基以外の1価の脂肪族炭化水素基、または1価の脂環式炭化水素基、または1価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、RIVは2価以上の炭化水素基、a≧1、c≧1、b=0〜2の整数、d=0〜2の整数、a+b=c+d=3、n+m≧2)
一般式(4)
(RI aRIII bSiO)n(RI cRIII dSiO)mRIV (4)
(RIはアルケニル基、RIIIはアルケニル基以外の1価の脂肪族炭化水素基、または1価の脂環式炭化水素基、または1価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、RIVは2価以上の炭化水素基、a≧1、c≧1、b=0〜2の整数、d=0〜2の整数、a+b=c+d=3、n+m≧2)
(2). 前記(B)成分が、平均分子量2000以下の化合物であることを特徴とする(1)に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
本発明の(A)成分であるヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体は、アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物(a)同士をヒドロシリル化して得られるポリシロキサン化合物(b)に、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物(c)をヒドロシリル化させて得ることができる。本発明の(A)成分であるヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体の製造においては、アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物(a)同士を分子間でヒドロシリル化反応させてポリシロキサン化合物(b)を得た後、さらにヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物(c)をヒドロシリル化反応させることにより、(A)成分であるヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体を得ることができる。
本発明における(a)成分は、多面体構造を形成するSi原子上に直接、または間接的にアルケニル基およびヒドロシリル基が結合したポリシロキサン系化合物であればよく、特に限定されない。
(i)[アルケニル基の数]−[ヒドロシリル基の数]>2、もしくは、
(ii)[ヒドロシリル基の数]−[アルケニル基の数]>2、
であることが好ましい。
本発明におけるポリシロキサン化合物(b)は、アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物(a)同士を直接ヒドロシリル化反応により結合させて得ることができる。本発明におけるポリシロキサン化合物(b)は、(a)由来のアルケニル基およびヒドロシリル基の反応により、アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物(a)の分子同士が直接結合することで、例えば、ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体(A)を用いて得られる硬化物の強度やガスバリア性、ダイシング性(切削加工性)を向上させることが可能となる。ここで、アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物(a)由来のアルケニル基およびヒドロシリル基のヒドロシリル化反応において、アルケニル基またはヒドロシリル基のどちらか一方が残留していることが、ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体(A)を用いて得られる硬化物の硬度や強度、ガスバリア性やダイシング性(切削加工性)の観点から好ましい。ここで、前記、アルケニル基またはヒドロシリル基のどちらか一方が残留した状態とは、アルケニル基もしくはヒドロシリル基の一方が実質的に消失してポリシロキサン化合物(b)の1分子中に、平均して0.5個以下、好ましくは、0.2個以下、さらに好ましくは0個の状態となり、他方、残留する置換基の数がポリシロキサン化合物(b)1分子中に、平均して、1.5個、好ましくは2個、さらに好ましくは、2.5個以上の状態となることをさす。このとき、ガスバリア性の観点からは、残留する置換基の数がさらに多くなることがより好ましい。
本発明におけるヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物(c)は、分子中にヒドロシリル基またはアルケニル基を平均して1個以上含有する化合物であれば特に制限はないが、ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体(A)のハンドリング性、成形加工性、透明性、あるいは、ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体(A)を用いて得られる硬化物の透明性、耐熱性、耐光性の観点から、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基を含有するシロキサン化合物、さらには、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基を有する環状シロキサン、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基を有する直鎖状シロキサン、特には、耐青色レーザー性やガスバリア性等の観点から、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基を有する環状シロキサンが好ましいものとして例示される。
前記ヒドロシリル基を有する直鎖状シロキサンの具体例としては、ジメチルシロキサン単位とメチルハイドロジェンシロキサン単位及び末端トリメチルシロキシ単位との共重合体、ジフェニルシロキサン単位とメチルハイドロジェンシロキサン単位及び末端トリメチルシロキシ単位との共重合体、メチルフェニルシロキサン単位とメチルハイドロジェンシロキサン単位及び末端トリメチルシロキシ単位との共重合体、ジメチルハイドロジェンシリル基で末端が封鎖されたポリシロキサン、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、などが例示される。
本発明における(B)成分であるアルケニル基を2個以上含有する化合物は、前記(A)成分とヒドロシリル化反応により硬化する。本発明における(B)成分は(A)成分との相溶性が良く、(A)成分および(B)成分を用いたオルガノポリシロキサン系組成物は、成型加工性に優れている。また、(A)成分および(B)成分を用いたオルガノポリシロキサン系組成物を硬化させることで、皺による硬化ムラがなく、透明で、耐熱・耐光性がよく、高いガスバリア性を持つ硬化物が得られる。
一般式(1)
RI aRII (1)
(RIはアルケニル基、RIIは2価以上の脂環式炭化水素基、または2価以上の芳香族炭化水素基、a≧2)
一般式(2)
RI aRIII bSi (2)
(RIはアルケニル基、RIIIはアルケニル基以外の1価の脂肪族炭化水素基、または1価の脂環式炭化水素基、または1価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、a≧2、b=0〜2の整数、a+b=4)
一般式(3)
(RI aRIII bSi)n(RI cRIII dSi)mRIV (3)
(RIはアルケニル基、RIIIはアルケニル基以外の1価の脂肪族炭化水素基、または1価の脂環式炭化水素基、または1価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、RIVは2価以上の炭化水素基、a≧1、c≧1、b=0〜2の整数、d=0〜2の整数、a+b=c+d=3、n+m≧2)
一般式(4)
(RI aRIII bSiO)n(RI cRIII dSiO)mRIV (4)
(RIはアルケニル基、RIIIはアルケニル基以外の1価の脂肪族炭化水素基、または1価の脂環式炭化水素基、または1価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、RIVは2価以上の炭化水素基、a≧1、c≧1、b=0〜2の整数、d=0〜2の整数、a+b=c+d=3、n+m≧2)
これらは、単独で用いても良く、2種類以上併用して用いてもよい。
RI aRII (1)
(RIはアルケニル基、RIIは2価以上の脂環式炭化水素基、または2価以上の芳香族炭化水素基、a≧2)で表される化合物の場合、具体的に例えば、1,2−ジビニルベンゼン、1,4−ジビニルベンゼン、1,3,5−トリビニルベンゼン、1,2,4,5−テトラビニルベンゼン、1,2−ジアリルベンゼン、1,4−ジアリルベンゼン、1,3,5−トリアリルベンゼン、1,2,4,5−テトラアリルベンゼン、1,5−ジビニルナフタレン、1,6−ジビニルナフタレン、1,7−ジビニルナフタレン、1,8−ジビニルナフタレン、2,6−ジビニルナフタレン、2,7−ジビニルナフタレン、1,5−ジアリルナフタレン、1,6−ジアリルナフタレン、1,7−ジアリルナフタレン、1,8−ジアリルナフタレン、2,6−ジアリルナフタレン、2,7−ジアリルナフタレン、1,6−ジビニルアントラセン、1,7−ジビニルアントラセン、1,8−ジビニルアントラセン、1,9−ジビニルアントラセン、2,7−ジビニルアントラセン、2,8−ジビニルアントラセン、1,6−ジアリルアントラセン、1,7−ジアリルアントラセン、1,8−ジアリルアントラセン、1,9−ジアリルアントラセン、2,7−ジアリルアントラセン、2,8−ジアリルアントラセン、1,2−ジビニルシクロヘキサン、1,3−ジビニルシクロヘキサン、1,4−ジビニルシクロヘキサン、1,2−ジアリルシクロヘキサン、1,3−ジアリルシクロヘキサン、1,4−ジアリルシクロヘキサン、1,2,4−トリビニルシクロヘキサン、1,3,5−トリビニルシクロヘキサン、1,2,4−トリアリルシクロヘキサン、1,3,5−トリアリルシクロヘキサン、1,2,4,5−テトラビニルシクロヘキサン、1,2,4,5−テトラアリルシクロヘキサン等が挙げられる。
RI aRIII bSi (2)
(RIはアルケニル基、RIIIはアルケニル基以外の1価の脂肪族炭化水素基、または1価の脂環式炭化水素基、または1価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、a≧2、b=0〜2の整数、a+b=4)で表される化合物の場合、具体的に例えば、ジビニルジメチルシラン、ジビニルシクロヘキシルメチルシラン、ジビニルフェニルメチルシラン、ジビニルジシクロヘキシルシラン、ジビニルジフェニルシラン、ジアリルジメチルシラン、ジアリルシクロヘキシルメチルシラン、ジアリルフェニルメチルシラン、ジアリルジシクロヘキシルシラン、ジアリルジフェニルシラン、トリビニルメチルシラン、トリビニルシクロヘキシルシラン、トリビニルフェニルシラン、トリアリルメチルシラン、トリアリルシクロヘキシルシラン、トリアリルフェニルシラン、テトラビニルシラン、テトラアリルシラン等が挙げられる。
(RI aRIII bSi)n(RI cRIII dSi)mRIV (3)
(RIはアルケニル基、RIIIはアルケニル基以外の1価の脂肪族炭化水素基、または1価の脂環式炭化水素基、または1価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、RIVは2価以上の炭化水素基、a≧1、c≧1、b=0〜2の整数、d=0〜2の整数、a+b=c+d=3、n+m≧2)で表される化合物の場合、
RIVが2価以上の脂肪族炭化水素基では、具体的に例えば、ビス(ビニルジメチルシリル)メタン、トリス(ビニルジメチルシリル)メタン、テトラキス(ビニルジメチルシリル)メタン、ビス(ビニルフェニルメチルシリル)メタン、トリス(ビニルフェニルメチルシリル)メタン、テトラキス(ビニルフェニルメチルシリル)メタン、ビス(ビニルシクロヘキシルメチルシリル)メタン、トリス(ビニルシクロヘキシルメチルシリル)メタン、テトラキス(ビニルシクロヘキシルメチルシリル)メタン、ビス(ビニルジフェニルシリル)メタン、トリス(ビニルジフェニルシリル)メタン、テトラキス(ビニルジフェニルシリル)メタン、(ビニルジメチルシリル)(ジビニルメチルシリル)メタン、(ビニルフェニルメチルシリル)(ジビニルメチルシリル)メタン、(ビニルジメチルシリル)(ジビニルフェニルシリル)メタン、ビス(ジビニルメチルシリル)メタン、トリス(ジビニルメチルシリル)メタン、テトラキス(ジビニルメチルシリル)メタン、ビス(ジビニルフェニルシリル)メタン、トリス(ジビニルフェニルシリル)メタン、テトラキス(ジビニルフェニルシリル)メタン、ビス(トリビニルシリル)メタン、トリス(トリビニルシリル)メタン、テトラキス(トリビニルシリル)メタン、1,2−ビス(ビニルジメチルシリル)エタン、1,2−ビス(ビニルジフェニルシリル)エタン、1,2−ビス(ジビニルメチルシリル)エタン、1,2−ビス(ジビニルフェニルシリル)エタン、1,2−ビス(トリビニルシリル)エタン、1,3−ビス(ビニルジメチルシリル)プロパン、1,3−ビス(ビニルジフェニルシリル)プロパン、1,3−ビス(ジビニルメチルシリル)プロパン、1,3−ビス(ジビニルフェニルシリル)プロパン、1,3−ビス(トリビニルシリル)プロパン、1,4−ビス(ビニルジメチルシリル)ブタン、1,4−ビス(ビニルジフェニルシリル)ブタン、1,4−ビス(ジビニルメチルシリル)ブタン、1,4−ビス(ジビニルフェニルシリル)ブタン、1,4−ビス(トリビニルシリル)ブタン、1,5−ビス(ビニルジメチルシリル)ペンタン、1,5−ビス(ビニルジフェニルシリル)ペンタン、1,5−ビス(ジビニルメチルシリル)ペンタン、1,5−ビス(ジビニルフェニルシリル)ペンタン、1,5−ビス(トリビニルシリル)ペンタン等が挙げられる。
RIVは2価以上の炭化水素基であれば特に問題ないが、RIVが、下記構造で表される2価の炭化水素基であることが耐熱、耐光性の観点から、より好ましい例として挙げられる。
中でも、(A)成分との相溶性、硬化物の透明性、ガスバリア性、耐熱性、耐光性の観点から、1,4−ビス(ビニルジメチルシリル)シクロヘキサン、1,3−ビス(ビニルジメチルシリル)シクロヘキサン、1,4−ビス(ビニルジメチルシリル)ベンゼン、1,3−ビス(ビニルジメチルシリル)ベンゼン、2,6−ビス(ビニルジメチルシリル)ナフタレン、4,4’−ビス(ビニルジメチルシリル)ビフェニル、2,2−ビス(4−ビニルジメチルシリルフェニレン)プロパンが、さらに好ましい例として挙げられる。
(RI aRIII bSiO)n(RI cRIII dSiO)mRIV (4)
(RIはアルケニル基、RIIIはアルケニル基以外の1価の脂肪族炭化水素基、または1価の脂環式炭化水素基、または1価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、RIVは2価以上の炭化水素基、a≧1、c≧1、b=0〜2の整数、d=0〜2の整数、a+b=c+d=3、n+m≧2)で表される化合物の場合、
RIVが2価以上の脂肪族炭化水素基では、具体的に例えば、ビス(ビニルジメチルシロキシ)メタン、トリス(ビニルジメチルシロキシ)メタン、テトラキス(ビニルジメチルシロキシ)メタン、ビス(ビニルフェニルメチルシロキシ)メタン、トリス(ビニルフェニルメチルシロキシ)メタン、テトラキス(ビニルフェニルメチルシロキシ)メタン、ビス(ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ)メタン、トリス(ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ)メタン、テトラキス(ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ)メタン、ビス(ビニルジフェニルシロキシ)メタン、トリス(ビニルジフェニルシロキシ)メタン、テトラキス(ビニルジフェニルシロキシ)メタン、(ビニルジメチルシロキシ)(ジビニルメチルシロキシ)メタン、(ビニルフェニルメチルシロキシ)(ジビニルメチルシロキシ)メタン、(ビニルジメチルシロキシ)(ジビニルフェニルシロキシ)メタン、ビス(ジビニルメチルシロキシ)メタン、トリス(ジビニルメチルシロキシ)メタン、テトラキス(ジビニルメチルシロキシ)メタン、ビス(ジビニルフェニルシロキシ)メタン、トリス(ジビニルフェニルシロキシ)メタン、テトラキス(ジビニルフェニルシロキシ)メタン、ビス(トリビニルシロキシ)メタン、トリス(トリビニルシロキシ)メタン、テトラキス(トリビニルシロキシ)メタン、1,2−ビス(ビニルジメチルシロキシ)エタン、1,2−ビス(ビニルジフェニルシロキシ)エタン、1,2−ビス(ジビニルメチルシロキシ)エタン、1,2−ビス(ジビニルフェニルシロキシ)エタン、1,2−ビス(トリビニルシロキシ)エタン、1,3−ビス(ビニルジメチルシロキシ)プロパン、1,3−ビス(ビニルジフェニルシロキシ)プロパン、1,3−ビス(ジビニルメチルシロキシ)プロパン、1,3−ビス(ジビニルフェニルシロキシ)プロパン、1,3−ビス(トリビニルシロキシ)プロパン、1,4−ビス(ビニルジメチルシロキシ)ブタン、1,4−ビス(ビニルジフェニルシロキシ)ブタン、1,4−ビス(ジビニルメチルシロキシ)ブタン、1,4−ビス(ジビニルフェニルシロキシ)ブタン、1,4−ビス(トリビニルシロキシ)ブタン、1,5−ビス(ビニルジメチルシロキシ)ペンタン、1,5−ビス(ビニルジフェニルシロキシ)ペンタン、1,5−ビス(ジビニルメチルシロキシ)ペンタン、1,5−ビス(ジビニルフェニルシロキシ)ペンタン、1,5−ビス(トリビニルシロキシ)ペンタン等が挙げられる。
これらは、単独で用いても良く、2種類以上併用して用いてもよい。
本発明では、オルガノポリシロキサン系組成物を硬化させる際に、ヒドロシリル化触媒を用いる。
硬化遅延剤は、本発明のオルガノポリシロキサン系組成物の保存安定性を改良あるいは、硬化過程でのヒドロシリル化反応の反応性を調整するための成分である。本発明においては、硬化遅延剤としては、ヒドロシリル化触媒による付加型硬化性組成物で用いられている公知のものが使用でき、具体的には脂肪族不飽和結合を含有する化合物、有機リン化合物、有機イオウ化合物、窒素含有化合物、スズ系化合物、有機過酸化物等が挙げられる。これらを単独使用、または2種以上併用してもよい。
<接着性付与剤>
接着性付与剤は本発明におけるオルガノポリシロキサン系組成物と基材との接着性を向上する目的で用いるものであり、その様な効果があるものであれば特に制限はないが、シランカップリング剤が好ましい例として例示できる。
本発明のオルガノポリシロキサン系組成物は、必要に応じて無機フィラーを添加することができる。
本発明のオルガノポリシロキサン系組成物は、ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体(A)に、アルケニル基を2個以上含有する化合物(B)、必要に応じて、ヒドロシリル化触媒、硬化遅延剤、接着性付与剤を加えることにより得ることができる。本発明のオルガノポリシロキサン系組成物は、液状樹脂組成物として取り扱うことが可能であり、成型加工性に優れる。この液状組成物を、型、パッケージ、基板等に流し込み、加熱して硬化させることで容易に成型体を得ることができる。本発明のオルガノポリシロキサン系組成物によって得られる成型体は、透明性、耐熱、耐光性、ガスバリア性に優れるに優れる。
本発明によるオルガノポリシロキサン系組成物から得られる成形体は、耐熱性、耐光性に優れ、光学材料用組成物として用いることができる。ここで言う光学材料とは、可視光、赤外線、紫外線、X線、レーザーなどの光をその材料中を通過させる用途に用いる材料一般を示す。
光コネクタ周辺の光ファイバー材料、フェルール、封止剤、接着剤などが例示される。
光受動部品、光回路部品ではレンズ、導波路、LED素子の封止剤、接着剤などが例示される。
光電子集積回路(OEIC)周辺の基板材料、ファイバー材料、素子の封止剤、接着剤などが例示される。
本発明のオルガノポリシロキサン系組成物を用いた硬化後の透湿度は30g/m2/24h以下であることがガスバリア性の観点から好ましい。
なお、透湿度とは以下の方法に従って算出することができる。
尚、ここに記載の試験体総重量とは、5cm角の板ガラス、および5cm角のポリイソブチレンゴムシート、および塩化カルシウム、および5cm角の評価用硬化物を含んだ総重量である。また、ここで使用したポリイソブチレンゴムは、同様の透湿度の試験の結果、0g/m2/24hであることが確認されている。
(組成物の相溶性)
オルガノポリシロキサン系組成物を配合後、30分間室温で放置しても分離することなく透明であるものは○、配合後、白濁し分離するものは×とした。
5cm角の板ガラス(0.5mm厚)の上部に、7cm角のシリコーンゴムシート(2mm厚、ロの字型になるように内部を5cm角に切り取ったもの)を固定した治具を作製した。そこにオルガノポリシロキサン系組成物を流し込み、対流式オーブンで80℃×2時間、100℃×1時間、150℃×6時間熱硬化させることで、2mm厚の硬化物を作成した。得られた硬化物形状を目視で確認し、透明で皺による硬化ムラのないものは○、皺による硬化ムラがあるものは×とした。
10cm×10cmの板ガラス2枚を純粋で洗浄し、乾燥させた。その後、フッ素系離型剤(ダイキン工業社製ダイフリー、GA6010)でスプレーし、キムワイプで均一に塗布した後、余剰分を除去した。コの字型に切った2mm厚のシリコーンゴムにテフロン(登録商標)シールを巻いた素ペーサーを2枚の上記板ガラスで挟んでクリップで固定し、150℃、1h加熱乾燥してガラスセルを作成した。
このガラスセルにオルガノポリシロキサン系組成物を流し込み、対流式オーブンで80℃×2時間、100℃×1時間、150℃×6時間熱硬化させることで、2mm厚の硬化物を作成した。
耐光性の指標として、ガラスセルで作成した2mm厚の硬化物を、さらにUV照射(メタリングウエザーメーター、30MJ/m2、100℃)を行った。この硬化物を放冷後、目視により、硬化物が着色せず透明であるものは○、着色や透明でないものは×とした。
10cm×10cmの板ガラス2枚を純水で洗浄し、乾燥させた。その後、フッ素系離型剤(ダイキン工業社製ダイフリー、GA6010)でスプレーし、キムワイプで均一に塗布した後、余剰分を除去した。コの字型に切った2mm厚のシリコーンゴムにテフロン(登録商標)シールを巻いた素ペーサーを2枚の上記板ガラスで挟んでクリップで固定し、150℃、1h加熱乾燥してガラスセルを作成した。
オルガノポリシロキサン系組成物を型に5cm角の型に充填し、対流式オーブンで80℃×2時間、100℃×1時間、150℃×6時間熱硬化させて5cm角の評価用硬化物(2mm厚)の試料を作成した。この硬化物を室温25℃、湿度55%RHの状態で24時間養生した。
本発明における透湿度とは以下の方法に従って算出したものである。
尚、ここに記載の試験体総重量とは、5cm角の板ガラス、および5cm角のポリイソブチレンゴムシート、および塩化カルシウム、および5cm角の評価用硬化物を含んだ総重量である。また、ここで使用したポリイソブチレンゴムは、同様の透湿度の試験の結果、0g/m2/24hであることが確認されている。
多面体構造を有するポリシロキサンの合成方法として、48%トリメチル−2ヒドロキシエチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液(コリン水溶液)1288gにテトラアルコキシシラン1042gを加え、室温で3時間激しく攪拌した。反応系内が発熱し、
均一溶液になった段階で、攪拌を緩め、さらに12時間反応させた。次に、反応系内に生成した固形物に、メタノール750mLを加え均一溶液とした。ジメチルビニルクロロシラン588g、トリメチルクロロシラン554g、ジメチルクロロシラン132g、ヘキサン750mLの溶液を攪拌しながら、得られた均一溶液をゆっくりと滴下した。滴下終了後、1時間反応させた後、有機層を抽出、濃縮することにより、固形物を得た。次に、生成した固形物をメタノール中で攪拌し洗浄した後、ろ別することによりアルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物601gを得た。1H−NMRより、ビニル基とトリメチルシリル基、ヒドロシリル基が、3.1:3.9:1.0の割合で導入している事を確認した。
製造例1で得られたアルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物40g、トルエン200gの混合溶液に、白金ビニルシロキサン錯体(3%白金、キシレン溶液)10.1μL、トルエン10gの混合溶液を滴下し、105℃で1時間加温したのち、室温まで冷却した。1H−NMRより、ポリシロキサン由来のヒドロシリル基が消失している事を確認した。
多面体構造を有するポリシロキサンの合成方法として、48%トリメチル−2ヒドロキシエチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液(コリン水溶液)1288gにテトラアルコキシシラン1042gを加え、室温で3時間激しく攪拌した。反応系内が発熱し、
均一溶液になった段階で、攪拌を緩め、さらに12時間反応させた。次に、反応系内に生成した固形物に、メタノール750mLを加え均一溶液とした。ジメチルビニルクロロシラン85g、トリメチルクロロシラン380g、ジメチルクロロシラン600g、ヘキサン750mLの溶液を攪拌しながら、得られた均一溶液をゆっくりと滴下した。滴下終了後、1時間反応させた後、有機層を抽出、濃縮することにより、固形物を得た。次に、生成した固形物をメタノール中で攪拌し洗浄した後、ろ別することによりアルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物601gを得た。1H−NMRより、ビニル基とトリメチルシリル基、ヒドロシリル基が、0.5:2.7:4.8の割合で導入している事を確認した。
製造例3で得られたアルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物60g、トルエン300gの混合溶液に、白金ビニルシロキサン錯体(3%白金、キシレン溶液)3.0μL、トルエン10gの混合溶液を滴下し、105℃で1時間加温したのち、室温まで冷却した。1H−NMRより、ポリシロキサン由来のビニル基が消失している事を確認した。
製造例2で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体5.00gに、1,2−ジビニルベンゼン(重量平均分子量130)0.64gを加え、さらに、エチニルシクロヘキサノールを0.21μl、マレイン酸ジメチルを0.1μl添加し撹拌した後、遊星式攪拌脱泡機にて攪拌・脱泡を行い、オルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表1に記載した。
製造例2で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体5.00gに、ジビニルジメチルシラン(重量平均分子量112)0.55gを加え、さらに、エチニルシクロヘキサノールを0.21μl、マレイン酸ジメチルを0.1μl添加し撹拌した後、遊星式攪拌脱泡機にて攪拌・脱泡を行い、オルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表1に記載した。
製造例2で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体5.00gに、1,4−ビス(ビニルジメチルシリル)ベンゼン(重量平均分子量248)1.21gを加え、良く混合することによりオルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表1に記載した。
製造例2で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体5.00gに、2,2−ビス(4−ビニルジメチルシロキシフェニレン)プロパン(重量平均分子量398)1.94g、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(東レダウコーニング製、SH6040)0.18g加え、撹拌した。さらに、エチニルシクロヘキサノールを0.15μl、マレイン酸ジメチルを0.07μl添加し撹拌した後、遊星式攪拌脱泡機にて攪拌・脱泡を行い、オルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表1に記載した。
製造例2で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体5.00gに、1,4−ビス(ビニルジメチルシロキシ)ベンゼン(重量平均分子量280)1.36g、を加え、良く混合することによりオルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表1に記載した。
製造例2で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体5.00gに、1,4−ビス(ビニルジメチルシロキシ)シクロヘキサン(重量平均分子量284)1.39g、を加え、良く混合することによりオルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表1に記載した。
製造例2で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体5.00gに、1,4−ビス(ビニルジメチルシリル)ベンゼン(重量平均分子量248)1.21gを加え混合した。そこに、一次平均粒径7nmでBET比表面積が260(m2/g)であるヒュームドシリカ(日本アエロジル社製、商品名アエロジルR812)0.62gを加え攪拌した後、遊星式攪拌脱泡機にて攪拌・脱泡を行い、ポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表1に記載した。
製造例4で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体5.00gに、1,4−ビス(ビニルジメチルシリル)ベンゼン(重量平均分子量248)0.91gを加え、良く混合することによりオルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表1に記載した。
製造例2で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体5.00gに、トリアリルイソシアヌレート(重量平均分子量249)0.81gを加え、さらに、エチニルシクロヘキサノールを0.21μl、マレイン酸ジメチルを0.1μl添加し撹拌した後、遊星式攪拌脱泡機にて攪拌・脱泡を行い、ポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られた組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表1に記載した。
製造例2で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体5.00gに、ジアリルイソシアヌレート(重量平均分子量223)1.09gを加え、さらに、エチニルシクロヘキサノールを0.21μl、マレイン酸ジメチルを0.1μl添加し撹拌した後、遊星式攪拌脱泡機にて攪拌・脱泡を行い、ポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られた組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表1に記載した。
製造例2で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体5.00gに、ビニル基を両末端に含有する直鎖状ポリジメチルシロキサン(重量平均分子量780)3.81gを加え、良く混合することによりポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られた組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表1に記載した。
Claims (18)
- (A)アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物(a)同士をヒドロシリル化して得られるポリシロキサン化合物(b)に、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物(c)をヒドロシリル化反応させて得られる、ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体、
(B)アルケニル基を2個以上含有する化合物、
からなるオルガノポリシロキサン系組成物であって、
前記(A)成分において、前記(c)成分がヒドロシリル基もしくはアルケニル基を含有するシロキサン化合物であり、
前記(B)成分が、一般式(1)で表される化合物、一般式(2)で表される化合物、一般式(3)で表される化合物、一般式(4)で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とするオルガノポリシロキサン系組成物。
一般式(1)
RI aRII (1)
(RIはアルケニル基、RIIは2価以上の脂環式炭化水素基、または2価以上の芳香族炭化水素基、a≧2)
一般式(2)
RI aRIII bSi (2)
(RIはアルケニル基、RIIIはアルケニル基以外の1価の脂肪族炭化水素基、または1価の脂環式炭化水素基、または1価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、a≧2、b=0〜2の整数、a+b=4)
一般式(3)
(RI aRIII bSi)n(RI cRIII dSi)mRIV (3)
(RIはアルケニル基、RIIIはアルケニル基以外の1価の脂肪族炭化水素基、または1価の脂環式炭化水素基、または1価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、RIVは2価以上の炭化水素基、a≧1、c≧1、b=0〜2の整数、d=0〜2の整数、a+b=c+d=3、n+m≧2)
一般式(4)
(RI aRIII bSiO)n(RI cRIII dSiO)mRIV (4)
(RIはアルケニル基、RIIIはアルケニル基以外の1価の脂肪族炭化水素基、または1価の脂環式炭化水素基、または1価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、RIVは2価以上の炭化水素基、a≧1、c≧1、b=0〜2の整数、d=0〜2の整数、a+b=c+d=3、n+m≧2) - 前記(B)成分が、平均分子量2000以下の化合物であることを特徴とする請求項1に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
- 前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体(A)のポリシロキサン化合物(b)において、アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物(a)由来のアルケニル基もしくはヒドロシリル基のどちらか一方が残留していることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
- 前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体(A)が、温度20℃において、液状であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
- 前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体(A)の分子中に少なくとも3個のヒドロシリル基を有する事を特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
- 前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体(A)のアルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物(a)のアルケニル基が、ビニル基であることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
- 前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体(A)において、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物(c)成分が、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基を有する環状シロキサンであることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
- 前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体(A)において、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物(c)成分が、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基を有する直鎖状シロキサンであることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
- 前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体(A)が、アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物(a)同士をヒドロシリル化させて得られるポリシロキサン化合物(b)を得た後、さらにヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物(c)とをヒドロシリル化反応させて得られることを特徴とする、請求項1〜9のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
- ヒドロシリル化触媒を含有することを特徴とする、請求項1〜10のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
- 硬化遅延剤を含有することを特徴とする、請求項1〜11のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
- 接着性付与剤を含有することを特徴とする、請求項1〜12のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
- 無機フィラーを含有することを特徴とする、請求項1〜13のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
- 請求項1〜14のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物を硬化して得られる硬化物。
- 請求項1〜14のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物を用いてなる光素子封止剤。
- 請求項16に記載の光素子封止剤を用いてなる光学デバイス。
- 該光素子封止剤の硬化後の透湿度が30g/m2/24h以下であることを特徴とする請求項17に記載の光学デバイス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010286356A JP5607522B2 (ja) | 2010-12-22 | 2010-12-22 | オルガノポリシロキサン系組成物および硬化物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010286356A JP5607522B2 (ja) | 2010-12-22 | 2010-12-22 | オルガノポリシロキサン系組成物および硬化物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012131935A JP2012131935A (ja) | 2012-07-12 |
JP5607522B2 true JP5607522B2 (ja) | 2014-10-15 |
Family
ID=46647905
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010286356A Active JP5607522B2 (ja) | 2010-12-22 | 2010-12-22 | オルガノポリシロキサン系組成物および硬化物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5607522B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5972544B2 (ja) * | 2011-09-09 | 2016-08-17 | 株式会社カネカ | オルガノポリシロキサン系組成物および硬化物 |
CN113185751A (zh) * | 2021-04-23 | 2021-07-30 | 艾蒙特成都新材料科技有限公司 | 一种无卤硅系阻燃型乙烯基树脂及其制备方法和在覆铜板中的应用 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5204394B2 (ja) * | 2006-02-20 | 2013-06-05 | パナソニック株式会社 | 半導体光装置及び透明光学部材 |
JP5204393B2 (ja) * | 2006-02-20 | 2013-06-05 | パナソニック株式会社 | 半導体光装置及び透明光学部材 |
WO2007119627A1 (ja) * | 2006-04-10 | 2007-10-25 | Ube Industries, Ltd. | 硬化性組成物、シルセスキオキサン硬化物、及びこれらの製造方法 |
US8399592B2 (en) * | 2007-04-17 | 2013-03-19 | Kaneka Corporation | Polyhedral polysiloxane modified product and composition using the modified product |
JP5322491B2 (ja) * | 2008-05-07 | 2013-10-23 | 学校法人神奈川大学 | 含ケイ素ポリマーおよびその製造方法並びに光学材料 |
JP5329904B2 (ja) * | 2008-10-16 | 2013-10-30 | 株式会社カネカ | ポリシロキサン系組成物およびそれから得られる硬化物 |
-
2010
- 2010-12-22 JP JP2010286356A patent/JP5607522B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012131935A (ja) | 2012-07-12 |
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A621 | Written request for application examination |
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