JP5564028B2 - Sealant for liquid crystal dropping method, vertical conduction material, and liquid crystal display element - Google Patents
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Description
本発明は、滴下工法による液晶表示素子の製造において、光が直接照射されない箇所があっても充分に硬化させることができ、また、硬化させる際に照射する紫外線により液晶が劣化することがなく、液晶表示素子の高表示品位及び高信頼性を実現することができる液晶滴下工法用シール剤、上下導通材料、及び、これらを用いてなる液晶表示素子に関する。 In the production of a liquid crystal display element by the dropping method, the present invention can be sufficiently cured even if there is a portion where light is not directly irradiated, and the liquid crystal is not deteriorated by ultraviolet rays irradiated when it is cured, The present invention relates to a liquid crystal dropping method sealing agent capable of realizing high display quality and high reliability of a liquid crystal display element, a vertical conduction material, and a liquid crystal display element using these.
従来、液晶表示セル等の液晶表示素子は、2枚の電極付き透明基板を、所定の間隔をおいて対向させ、その周囲をシール剤で封着してセルを形成し、その一部に設けられた液晶注入口からセル内に液晶を注入し、その液晶注入口をシール剤又は封口剤を用いて封止することにより作製されていた。
この方法では、まず、2枚の電極付き透明基板のいずれか一方に、スクリーン印刷により熱硬化性シール剤を用いた液晶注入口を設けたシールパターンを形成し、60〜100℃でプリベイクを行いシール剤中の溶剤を乾燥させる。次いで、スペーサーを挟んで2枚の基板を対向させてアライメントを行い貼り合わせ、110〜220℃で10〜90分間熱プレスを行いシール近傍のギャップを調整した後、オーブン中で110〜220℃で10〜120分間加熱しシール剤を本硬化させる。次いで、液晶注入口から液晶を注入し、最後に封口剤を用いて液晶注入口を封止して、液晶表示素子を作製していた。
Conventionally, a liquid crystal display element such as a liquid crystal display cell is formed by forming a cell by facing two transparent substrates with electrodes facing each other at a predetermined interval and sealing the periphery with a sealing agent. The liquid crystal was injected into the cell from the liquid crystal injection port, and the liquid crystal injection port was sealed using a sealing agent or a sealing agent.
In this method, first, a seal pattern provided with a liquid crystal injection port using a thermosetting sealant is formed on one of two transparent substrates with electrodes by screen printing, and prebaked at 60 to 100 ° C. Dry the solvent in the sealant. Next, alignment is performed with the two substrates facing each other with a spacer interposed therebetween, and the gap in the vicinity of the seal is adjusted by performing hot pressing at 110 to 220 ° C. for 10 to 90 minutes, and then at 110 to 220 ° C. in an oven. Heat for 10 to 120 minutes to fully cure the sealant. Next, liquid crystal was injected from the liquid crystal injection port, and finally, the liquid crystal injection port was sealed using a sealing agent to produce a liquid crystal display element.
しかし、この作製方法によると、熱歪により位置ズレ、ギャップのバラツキ、シール剤と基板との密着性の低下等が発生する;残留溶剤が熱膨張して気泡が発生しキャップのバラツキやシールパスが発生する;シール硬化時間が長い;プリベイクプロセスが煩雑;溶剤の揮発によりシール剤の使用可能時間が短い;液晶の注入に時間がかかる等の問題があった。とりわけ、近年の大型の液晶表示装置にあっては、液晶の注入に非常に時間がかかることが大きな問題となっていた。 However, according to this manufacturing method, the positional displacement, gap variation, decrease in adhesion between the sealing agent and the substrate, etc. occur due to thermal strain; residual solvent thermally expands to generate bubbles, resulting in cap variation and seal path. The seal curing time is long; the prebaking process is complicated; the usable time of the sealant is short due to the volatilization of the solvent; and it takes time to inject liquid crystal. In particular, in a large liquid crystal display device in recent years, it takes a very long time to inject liquid crystal.
これに対して、硬化型の樹脂組成物からなるシール剤を用いた滴下工法と呼ばれる液晶表示素子の製造方法が検討されている。滴下工法では、まず、2枚の電極付き透明基板の一方に、スクリーン印刷により長方形状のシールパターンを形成する。次いで、シール剤未硬化の状態で液晶の微小滴を透明基板の枠内全面に滴下塗布し、すぐに他方の透明基板を重ねあわせ、シール部に紫外線を照射して仮硬化を行う。その後、必要に応じて液晶アニール時に加熱して更に硬化を行い、液晶表示素子を作製する。基板の貼り合わせを減圧下で行うようにすれば、極めて高い効率で液晶表示素子を製造することができる。今後はこの滴下工法が液晶表示装置の製造方法の主流となると期待されている。 On the other hand, a manufacturing method of a liquid crystal display element called a dripping method using a sealing agent made of a curable resin composition has been studied. In the dropping method, first, a rectangular seal pattern is formed on one of the two transparent substrates with electrodes by screen printing. Next, fine droplets of liquid crystal are dropped and applied to the entire surface of the transparent substrate frame in an uncured state of the sealant, and the other transparent substrate is immediately overlaid, and the seal portion is irradiated with ultraviolet rays for temporary curing. Then, if necessary, it is heated at the time of liquid crystal annealing and further cured to produce a liquid crystal display element. If the substrates are bonded together under reduced pressure, a liquid crystal display element can be manufactured with extremely high efficiency. In the future, this dripping method is expected to become the mainstream of liquid crystal display manufacturing methods.
従来工法に用いられるシール剤としては、例えば、特許文献1に、ビスフェノールA型エポキシ樹脂の部分(メタ)アクリル化物を主成分とする接着剤が開示されている。この他にも同様のシール剤が、特許文献2、特許文献3、特許文献4又は特許文献5等に開示されている。また、特許文献6には、(メタ)アクリレートを主成分とする液晶シール剤が開示されている。 As a sealing agent used in a conventional construction method, for example, Patent Document 1 discloses an adhesive mainly composed of a partial (meth) acrylate of a bisphenol A type epoxy resin. In addition, similar sealing agents are disclosed in Patent Document 2, Patent Document 3, Patent Document 4, or Patent Document 5, and the like. Patent Document 6 discloses a liquid crystal sealant mainly composed of (meth) acrylate.
しかしながら、このような滴下工法による液晶表示素子の製造では、未硬化の状態のシール剤が直接液晶と接するため、シール剤成分が液晶中に溶出して液晶を汚染するという問題があった。
とりわけ、近年、携帯電話、携帯ゲーム機等、各種液晶パネル付きモバイル機器の普及に伴った装置の小型化を目的とした液晶表示部の狭額縁化により、基板上に形成されるシール剤パターンがブラックマトリックス(BM)等と液晶セルの厚さ方向に重なる位置となるようになってきているが、このようなBM等と重なる位置に形成されたシール剤は、紫外線等の光を照射した後にも硬化しない部分が残るため、この未硬化の部分から液晶中にシール剤成分が溶出して更に液晶が汚染されるという問題があった。
However, in the production of the liquid crystal display element by such a dripping method, since the uncured sealant directly contacts the liquid crystal, there is a problem that the sealant component is eluted into the liquid crystal and contaminates the liquid crystal.
In particular, in recent years, with the narrowing of the frame of the liquid crystal display part for the purpose of miniaturization of devices accompanying the widespread use of mobile devices with various liquid crystal panels such as mobile phones and portable game machines, the sealant pattern formed on the substrate is Although it has become a position that overlaps with the black matrix (BM) etc. in the thickness direction of the liquid crystal cell, the sealing agent formed at such a position overlapping with the BM etc. is irradiated with light such as ultraviolet rays. However, since the uncured portion remains, there is a problem in that the sealant component is eluted from the uncured portion into the liquid crystal to further contaminate the liquid crystal.
このような問題に対して、例えば、基板の裏面、すなわちアレイ側から光を照射する方法が考えられる。しかし、アレイ基板上にも金属配線、トランジスタ等が存在するため、シール剤に光の当たらない部分ができ、光を照射した後にも硬化しない部分が残る。特に光の当たらない部分が50μm以上になれば、シール剤が硬化しない部分ができやすくなり、この部分が液晶と接触すれば、やはり液晶が汚染され、液晶表示ムラは起こりやすくなるという問題があった。 To solve such a problem, for example, a method of irradiating light from the back surface of the substrate, that is, the array side is conceivable. However, since metal wiring, transistors, and the like are also present on the array substrate, a portion that does not receive light on the sealant is formed, and a portion that does not harden after irradiation with light remains. In particular, if the part not exposed to light is 50 μm or more, a part where the sealant does not harden is likely to be formed, and if this part comes into contact with the liquid crystal, the liquid crystal is contaminated and liquid crystal display unevenness is likely to occur. It was.
一方、従来のシール剤を用いて滴下工法により液晶表示素子を製造する場合、シール剤を充分に硬化させるためには、波長の短い高いエネルギーを有する紫外線を照射する必要があった。
しかしながら、滴下工法による液晶表示素子の製造では、シール剤を硬化させるために照射する紫外線が液晶にも少なからず照射されるため、波長が短く高エネルギーの紫外線によりシール剤を硬化させると、同時に液晶の劣化も発生し、液晶表示素子の表示品位を著しく低下させ、信頼性を低下させるという問題もあった。
On the other hand, when a liquid crystal display element is manufactured by a dropping method using a conventional sealing agent, it is necessary to irradiate ultraviolet rays having a short wavelength and high energy in order to sufficiently cure the sealing agent.
However, in the manufacture of liquid crystal display elements by the dripping method, since the ultraviolet rays irradiated to cure the sealing agent are also irradiated to the liquid crystal, when the sealing agent is cured with ultraviolet rays having a short wavelength and high energy, the liquid crystal is simultaneously emitted. There is also a problem that the display quality of the liquid crystal display element is remarkably lowered and the reliability is lowered.
本発明は、上記現状に鑑み、滴下工法による液晶表示素子の製造において、液晶滴下工法用シール剤に光が直接照射されない箇所があっても充分に硬化させることができ、また、硬化させる際に照射する紫外線により液晶が劣化することがなく、液晶表示素子の高表示品位及び高信頼性を実現することができる液晶滴下工法用シール剤、上下導通材料、及び、これらを用いてなる液晶表示素子を提供することを目的とする。 In view of the above-mentioned present situation, the present invention can be sufficiently cured even when there is a portion where light is not directly irradiated on the sealing agent for liquid crystal dropping method in the production of a liquid crystal display element by the dropping method, Liquid crystal is not deteriorated by the irradiated ultraviolet rays, and a liquid crystal display element sealing agent capable of realizing a high display quality and high reliability of the liquid crystal display element, a vertical conduction material, and a liquid crystal display element using the same The purpose is to provide.
本発明は、光を照射することによって活性ラジカルを発生するラジカル開始剤、硬化性樹脂及び固形の有機酸ヒドラジドを含有する液晶滴下工法用シール剤であって、前記ラジカル開始剤は、アセトニトリル中で測定した350nmにおけるモル吸光係数が100〜10万M−1・cm−1であり、前記硬化性樹脂に含まれる反応性官能基の60mol%以上が(メタ)アクリロイル基である液晶滴下工法用シール剤である。
以下に本発明を詳述する。
The present invention is a liquid crystal dropping method sealing agent containing a radical initiator that generates active radicals upon irradiation with light, a curable resin, and a solid organic acid hydrazide, wherein the radical initiator is in acetonitrile. molar absorption coefficient at the measured 350nm is 100 to 100,000 M -1 · cm -1, more 60 mol% of the reactive functional groups contained in the curing resin (meth) liquid crystal dropping process for sealing an acryloyl group It is an agent.
The present invention is described in detail below.
本発明者らは、鋭意検討した結果、液晶滴下工法用シール剤が、波長350nm程度の長波長の紫外線で硬化する性質を有するものであれば、滴下工法に用いた際に、ブラックマトリックス(BM)等で紫外線の照射が遮蔽される部分であっても、充分に硬化させることができ、また、紫外線の有するエネルギーが低いため液晶を劣化させることもないことを見出し、本発明を完成させた。 As a result of intensive studies, the present inventors have found that when the sealing agent for liquid crystal dropping method has a property of being cured by ultraviolet rays having a long wavelength of about 350 nm, the black matrix (BM) ) Etc., even if it is a part where the irradiation of ultraviolet rays is shielded, it was found that it can be cured sufficiently and that the liquid crystal is not deteriorated because the energy of ultraviolet rays is low, and the present invention was completed. .
本発明の液晶滴下工法用シール剤(以下、本発明のシール剤ともいう)は、ラジカル重合開始剤、硬化性樹脂及び固形の有機酸ヒドラジドを含有する。
上記ラジカル重合開始剤は、アセトニトリル中で測定した350nmにおけるモル吸光係数の下限が100M−1・cm−1、上限が10万M−1・cm−1である。100M−1・cm−1未満であると、本発明のシール剤に波長350nm程度の紫外線が直接照射される部分、及び、ブラックマトリックス(BM)等で紫外線の照射が遮蔽されている部分がある場合における当該遮蔽部分のいずれも迅速かつ充分に硬化させることができなくなる。10万M−1・cm−1を超えると、本発明のシール剤に波長350nm程度の紫外線を照射したときに直接照射される部分の表面が先に硬化してしまい、内部を充分に硬化させることができず、また、BM等で紫外線が遮蔽されている部分も充分に硬化させることができない。
好ましい下限は200M−1・cm−1、好ましい上限は1万M−1・cm−1であり、より好ましい下限は300M−1・cm−1、より好ましい上限は3000M−1・cm−1である。
The sealing agent for liquid crystal dropping method of the present invention (hereinafter also referred to as the sealing agent of the present invention) contains a radical polymerization initiator, a curable resin, and a solid organic acid hydrazide.
The radical polymerization initiator has a lower limit of the molar extinction coefficient at 350 nm measured in acetonitrile of 100 M −1 · cm −1 and an upper limit of 100,000 M −1 · cm −1 . When it is less than 100 M −1 · cm −1 , there are a portion where the sealing agent of the present invention is directly irradiated with ultraviolet rays having a wavelength of about 350 nm, and a portion where ultraviolet irradiation is blocked by a black matrix (BM) or the like. None of the shielding parts in the case can be cured quickly and sufficiently. When it exceeds 100,000 M −1 · cm −1 , the surface of the portion directly irradiated when the sealing agent of the present invention is irradiated with ultraviolet rays having a wavelength of about 350 nm is cured first, and the inside is sufficiently cured. In addition, the portion where the ultraviolet rays are shielded by BM or the like cannot be sufficiently cured.
The preferred lower limit is 200 M −1 · cm −1 , the preferred upper limit is 10,000 M −1 · cm −1 , the more preferred lower limit is 300 M −1 · cm −1 , and the more preferred upper limit is 3000 M −1 · cm −1 . is there.
上記ラジカル重合開始剤は、アセトニトリル中で測定した450nmにおけるモル吸光係数が100M−1・cm−1以下であることが好ましい。100M−1・cm−1を超えると、可視光域の波長の光により活性ラジカルが発生することとなり、取扱い性が非常に悪くなる。 The radical polymerization initiator preferably has a molar extinction coefficient at 450 nm measured in acetonitrile of 100 M −1 · cm −1 or less. If it exceeds 100 M −1 · cm −1 , active radicals are generated by light having a wavelength in the visible light range, and handling becomes very poor.
なお、本明細書において、上記モル吸光係数とは、下記式(1)に示す上記ラジカル重合開始剤を含むアセトニトリル溶液についてのランバート・ベールの式によって定められるε(M−1・cm−1)の値を意味する。 In the present specification, the molar extinction coefficient is ε (M −1 · cm −1 ) defined by the Lambert-Beer formula for the acetonitrile solution containing the radical polymerization initiator shown in the following formula (1). Means the value of
上記式(1)中、Iは透過光の強度、Ioはアセトニトリル純溶媒の透過光の強度、cはモル濃度(M)、dは溶液層の厚み(cm)を表し、log(Io/I)は吸光度を表す。 In the above formula (1), I is the intensity of transmitted light, Io is the intensity of transmitted light of the acetonitrile pure solvent, c is the molar concentration (M), d is the thickness (cm) of the solution layer, and log (Io / I ) Represents absorbance.
このように、上記ラジカル重合開始剤は、波長350nm程度の長波長の紫外線におけるモル吸光係数が高く、波長350nm程度の長波長の紫外線が照射されることにより充分に本発明のシール剤を硬化させることができる。また、このような波長350nm程度の長波長の紫外線は、本発明のシール剤上にブラックマトリックス(BM)等の透過を妨げる遮蔽物が存在している場合であっても、該遮蔽物の裏側に回り込む(回折する)性質が大きいため、本発明のシール剤は、BM等の遮蔽物により遮蔽されて直接に紫外線等が照射されない部分であっても、波長350nm程度の紫外線を照射することで充分に硬化させることができる。従って、本発明のシール剤は、滴下工法による液晶表示素子の製造を狭額縁設計で行う際に特に好適に用いることができる。
更に、本発明のシール剤は、波長350nm程度のエネルギーの低い紫外線で充分に硬化させることかできるため、滴下工法による液晶表示素子の製造に用いた場合であっても、紫外線が直接照射されることによる液晶の劣化が生じることもない。
As described above, the radical polymerization initiator has a high molar extinction coefficient in long-wavelength ultraviolet light having a wavelength of about 350 nm, and sufficiently cures the sealing agent of the present invention when irradiated with long-wavelength ultraviolet light having a wavelength of about 350 nm. be able to. Further, even when such a long wavelength ultraviolet ray having a wavelength of about 350 nm is present on the sealing agent of the present invention, there is a shielding material that obstructs the transmission of black matrix (BM) or the like. Since the sealing agent of the present invention is shielded by a shielding material such as BM and is not directly irradiated with ultraviolet rays, the sealing agent of the present invention is irradiated with ultraviolet rays having a wavelength of about 350 nm. It can be cured sufficiently. Therefore, the sealing agent of the present invention can be particularly suitably used when manufacturing a liquid crystal display element by a dropping method with a narrow frame design.
Furthermore, since the sealing agent of the present invention can be sufficiently cured with ultraviolet rays having a wavelength of about 350 nm and low energy, even when it is used for manufacturing a liquid crystal display device by a dropping method, the ultraviolet rays are directly irradiated. Therefore, the liquid crystal is not deteriorated.
上記ラジカル重合開始剤としては、上記モル吸光係数を満足するものであれば特に限定されず、例えば、カルボニル基、イオウ含有基、アゾ基、有機過酸化物含有基等のラジカル重合開始基を有するものが挙げられるが、なかでも、下記一般式(1)〜(4)で表わされる構造を有する基等が好適である。 The radical polymerization initiator is not particularly limited as long as it satisfies the molar extinction coefficient. For example, the radical polymerization initiator has a radical polymerization initiation group such as a carbonyl group, a sulfur-containing group, an azo group, or an organic peroxide-containing group. Among them, groups having structures represented by the following general formulas (1) to (4) are preferable.
上記一般式(1)〜(4)中、R1、R2及びR3は各々独立的に、炭素原子数1〜6のアルキル基、水素原子、水酸基、炭素原子数1〜6のアルコキシル基、(メタ)アクリル基、フェニル基を表し、
なかでも、活性ラジカルの発生効率の面から上記一般式(1)で表される構造を有する基がより好ましい。 Of these, a group having a structure represented by the general formula (1) is more preferable from the viewpoint of the generation efficiency of active radicals.
また、上記ラジカル重合開始剤から発生した活性ラジカルで消費される(メタ)アクリル基(アクリル基の転化率)は、90%以上であることが好ましい。90%未満であると、本発明のシール剤を用いて液晶表示素子を製造する際に、液晶再配向時の加熱でシール剤中の未重合又は未架橋成分が液晶中に溶出して液晶の配向が阻害され、色むらが生じる原因の一つになることがある。 Moreover, it is preferable that the (meth) acryl group (conversion rate of an acrylic group) consumed by the active radical generated from the radical polymerization initiator is 90% or more. When it is less than 90%, when a liquid crystal display element is produced using the sealant of the present invention, unpolymerized or uncrosslinked components in the sealant are eluted into the liquid crystal due to heating during liquid crystal realignment, and the liquid crystal Orientation may be hindered, which may be one of the causes of color unevenness.
上記ラジカル重合開始剤は、水素結合性官能基を含有することが好ましい。
上記水素結合性官能基としては、水素結合性を有する官能基又は残基等であれば特に限定されず、例えば、OH基、NH2基、NHR基(Rは、芳香族又は脂肪族炭化水素、及びこれらの誘導体を表す)、COOH基、CONH2基、NHOH基等や、分子内にNHCO結合、NH結合、CONHCO結合、NH−NH結合等の残基を有する基等が挙げられる。
このような水素結合性官能基を有することにより、未硬化の本発明のシール剤が液晶に接した場合であっても上記ラジカル重合開始剤が溶出しにくくなり、液晶汚染がより生じにくくなる。
The radical polymerization initiator preferably contains a hydrogen bonding functional group.
The hydrogen bonding functional group is not particularly limited as long as it is a functional group or a residue having hydrogen bonding properties, for example, OH group, NH 2 group, NHR group (R is an aromatic or aliphatic hydrocarbon) And COOH groups, CONH 2 groups, NHOH groups, and the like, and groups having residues such as NHCO bonds, NH bonds, CONHCO bonds, and NH—NH bonds in the molecule.
By having such a hydrogen bonding functional group, even when the uncured sealing agent of the present invention is in contact with the liquid crystal, the radical polymerization initiator is less likely to elute and liquid crystal contamination is less likely to occur.
上記ラジカル重合開始剤は、更に、後述する硬化性樹脂と反応して結合し得る反応性官能基を有することが好ましい。
上記反応性官能基としては、重合反応により硬化性樹脂と結合できる官能基であれば特に限定されず、例えば、エポキシ基やオキセタニル基等の環状エーテル基、(メタ)アクリル基、スチリル基等が挙げられる。なかでも、(メタ)アクリル基又はエポキシ基が好適である。
このような反応性官能基を分子中に有することにより、上記ラジカル重合開始剤自体が、硬化性樹脂と共重合体を形成して固定されることから、重合終了後にも重合開始剤の残渣体が液晶中に溶出することがなく、また、液晶再配向時の加熱によってアウトガスになることもない。
The radical polymerization initiator preferably further has a reactive functional group capable of reacting with and binding to the curable resin described later.
The reactive functional group is not particularly limited as long as it is a functional group that can be bonded to the curable resin by a polymerization reaction, and examples thereof include cyclic ether groups such as epoxy groups and oxetanyl groups, (meth) acrylic groups, styryl groups, and the like. Can be mentioned. Of these, a (meth) acryl group or an epoxy group is preferred.
By having such a reactive functional group in the molecule, the radical polymerization initiator itself is fixed by forming a copolymer with the curable resin. Is not eluted into the liquid crystal, and is not outgassed by heating during liquid crystal realignment.
また、光を照射することによりラジカル重合開始基が解離して2つの活性ラジカルを発生するラジカル重合開始剤では、発生した活性ラジカルが、(メタ)アクリル基等のラジカル重合性官能基に付加する前に水素引き抜き等で活性ラジカルが失活すると、液晶中への溶出が発生したり、硬化後にアウトガスになったりすることがある。そのため、上記ラジカル重合開始剤は、ラジカル重合開始基が光を吸収して2つの活性ラジカルに解離したときに、それぞれ少なくとも1つの水素結合性官能基と反応性官能基とを有することが好ましい。即ち、上記反応性官能基は、光を照射することにより上記ラジカル重合開始基が解離して2つの活性ラジカルが生じた場合に、いずれの活性ラジカルも少なくとも1つの水素結合性官能基と反応性官能基とを有するように分子中に配置されていることが好ましい。これにより、生じた全ての活性ラジカルが硬化性樹脂と共重合体を形成して固定されることから、重合終了後にもラジカル重合開始剤の残渣体が液晶中に溶出することがなく、また、ラジカル重合開始剤の残渣体は硬化後の硬化物に取り込まれるため、液晶再配向時の加熱によってアウトガスになることもない。 In addition, in a radical polymerization initiator that generates two active radicals by dissociating radical polymerization initiating groups when irradiated with light, the generated active radicals are added to radical polymerizable functional groups such as (meth) acrylic groups. If the active radicals are deactivated by hydrogen abstraction or the like, elution into the liquid crystal may occur, or outgassing may occur after curing. Therefore, the radical polymerization initiator preferably has at least one hydrogen-bonding functional group and a reactive functional group, respectively, when the radical polymerization initiating group absorbs light and dissociates into two active radicals. That is, the reactive functional group is reactive with at least one hydrogen bonding functional group when the radical polymerization initiating group is dissociated by irradiation with light to generate two active radicals. It is preferable to arrange | position in a molecule | numerator so that it may have a functional group. Thereby, since all the generated active radicals are fixed by forming a copolymer with the curable resin, the residue of the radical polymerization initiator does not elute into the liquid crystal even after the completion of the polymerization, Since the residue of the radical polymerization initiator is taken into the cured product after curing, it is not outgassed by heating during liquid crystal realignment.
上記ラジカル重合開始剤は、数平均分子量の好ましい下限は300である。300未満であると、ラジカル重合開始剤成分が液晶へ溶出し、液晶の配向を乱しやすくなることがある。好ましい上限は3000である。3000を超えると、本発明のシール剤の粘度の調整が困難になることがある。 The lower limit of the number average molecular weight of the radical polymerization initiator is preferably 300. If it is less than 300, the radical polymerization initiator component may elute into the liquid crystal, and the orientation of the liquid crystal may be easily disturbed. A preferable upper limit is 3000. If it exceeds 3000, it may be difficult to adjust the viscosity of the sealant of the present invention.
上記ラジカル重合開始剤の製造方法としては特に限定されず、従来公知の方法を用いることができ、例えば、(メタ)アクリル酸又は(メタ)アクリル酸クロリドを用いて、1分子中に、上記ラジカル重合開始基と水酸基とを有するアルコール誘導体を(メタ)アクリル酸エステル化する方法;1分子中に、上記ラジカル重合開始基と水酸基又はアミノ基とを有する化合物と、エポキシ基を分子内に2つ以上有する化合物の一方のエポキシ基とを反応させる方法;上記ラジカル重合開始基と水酸基又はアミノ基とを分子内に2つ以上有する化合物と、エポキシ基を分子内に2つ以上有する化合物の一方のエポキシ基とを反応させ、更に、残りのエポキシ基を(メタ)アクリル酸又は活性水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルモノマーやスチレンモノマー等と反応させる方法;上記ラジカル重合開始基と水酸基又はアミノ基とを分子内に2つ以上有する化合物と、環状エステル化合物又は水酸基を有するカルボン酸化合物等とを反応させ、更に、上記水酸基を(メタ)アクリル酸エステル化する方法;上記ラジカル重合開始基と水酸基又はアミノ基とを分子内に2つ以上有する化合物と、二官能イソシアネート誘導体とからウレタン誘導体を合成し、更に、もう一方のイソシアネートを(メタ)アクリル酸、グリシドール、水酸基を有する(メタ)アクリル酸エステルモノマー、スチレンモノマー等と反応させる方法等が挙げられる。 It does not specifically limit as a manufacturing method of the said radical polymerization initiator, A conventionally well-known method can be used, for example, the said radical is contained in 1 molecule using (meth) acrylic acid or (meth) acrylic acid chloride. (Meth) acrylic esterification of an alcohol derivative having a polymerization initiating group and a hydroxyl group; a compound having the above radical polymerization initiating group and a hydroxyl group or an amino group in one molecule, and two epoxy groups in the molecule A method of reacting one of the epoxy groups of the compound having one or more of the above: a compound having two or more radical polymerization initiating groups and a hydroxyl group or an amino group in the molecule, and one of the compounds having two or more epoxy groups in the molecule Reacting with an epoxy group, and further, the remaining epoxy group is a (meth) acrylic acid or (meth) acrylic acid ester monomer having an active hydrogen group, A method of reacting with a tylene monomer or the like; reacting a compound having two or more radical polymerization initiating groups and a hydroxyl group or an amino group in the molecule with a cyclic ester compound or a carboxylic acid compound having a hydroxyl group; A urethane derivative from a compound having two or more radical polymerization initiating groups and a hydroxyl group or an amino group in the molecule, and a bifunctional isocyanate derivative; Examples thereof include a method of reacting isocyanate with (meth) acrylic acid, glycidol, a (meth) acrylic acid ester monomer having a hydroxyl group, a styrene monomer, and the like.
上記エポキシ基を分子内に2つ以上有する化合物としては、例えば、二官能エポキシ樹脂化合物が挙げられる。
上記二官能エポキシ樹脂化合物としては特に限定されず、例えば、ビスフェノールA型エポキシ化合物、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂等、これらを水添加したエポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ウレタン変性エポキシ樹脂、メタキシレンジアミン等をエポキシ化した含窒素エポキシ樹脂、ポリブタジエン又はニトリルブタジエンゴム(NBR)等を含有するゴム変性エポキシ樹脂等を挙げることができる。これらの二官能エポキシ樹脂化合物は、固体状であってもよく、液体状であってもよい。
Examples of the compound having two or more epoxy groups in the molecule include a bifunctional epoxy resin compound.
The bifunctional epoxy resin compound is not particularly limited. For example, a bisphenol A type epoxy compound, a bisphenol F type epoxy resin, a bisphenol AD type epoxy resin, an epoxy resin obtained by adding these to water, a novolac type epoxy resin, a urethane-modified epoxy Examples thereof include a resin, a nitrogen-containing epoxy resin obtained by epoxidizing meta-xylenediamine and the like, a rubber-modified epoxy resin containing polybutadiene or nitrile butadiene rubber (NBR), and the like. These bifunctional epoxy resin compounds may be solid or liquid.
上記水酸基を有する(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては特に限定されず、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ポリエチレングリコール等の二価のアルコールのモノ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン等の三価のアルコールのモノ(メタ)アクリレート、ジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらは、単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。 The (meth) acrylic acid ester monomer having a hydroxyl group is not particularly limited, and examples thereof include ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, and polyethylene glycol. And mono (meth) acrylates of trivalent alcohols such as mono (meth) acrylates of trihydric alcohols, trimethylolethane, trimethylolpropane and glycerin, and di (meth) acrylates. These may be used independently and 2 or more types may be used together.
上記二官能イソシアネート誘導体としては、例えば、ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、トリレンジイソシネート(TDI)、キシレンジイソシアネート(XDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、ナフチレンジイソシアネート(NDI)、トリジンジイソシアネート(TPDI)、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート(HMDI)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート(TMHDI)等が挙げられる。
本発明のシール剤において、上述のラジカル重合開始剤は、単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
Examples of the bifunctional isocyanate derivative include diphenylmethane diisocyanate (MDI), tolylene diisocyanate (TDI), xylene diisocyanate (XDI), isophorone diisocyanate (IPDI), naphthylene diisocyanate (NDI), tolidine diisocyanate (TPDI), Examples include hexamethylene diisocyanate (HDI), dicyclohexylmethane diisocyanate (HMDI), and trimethylhexamethylene diisocyanate (TMHDI).
In the sealing agent of the present invention, the above radical polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
また、本発明のシール剤において、上記ラジカル重合開始剤は、市販されているものを使用することもできる。市販されている上記ラジカル重合開始剤としては、例えば、イルガキュア907、イルガキュア819、イルガキュア651、イルガキュア369(以上、いずれもチバ・スペシャリティーケミカルズ社製)、ベンソインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ルシリンTPO(BASF Japan社製)等が挙げられる。なかでも、イルガキュア907、イルガキュア651、BIPE及びルシリンTPOは、アセトニトリル中で測定した450nmにおけるモル吸光係数が100M−1・cm−1であり好適である。 Moreover, in the sealing agent of this invention, the said radical polymerization initiator can also use what is marketed. Examples of the radical polymerization initiators that are commercially available include Irgacure 907, Irgacure 819, Irgacure 651, Irgacure 369 (all of which are manufactured by Ciba Specialty Chemicals), benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl. Examples include ether and lucillin TPO (manufactured by BASF Japan). Among these, Irgacure 907, Irgacure 651, BIPE and Lucilin TPO are preferable because the molar extinction coefficient at 450 nm measured in acetonitrile is 100 M −1 · cm −1 .
本発明のシール剤における上記ラジカル重合開始剤の配合量の好ましい下限は、後述する硬化性樹脂100重量部に対して0.5重量部、好ましい上限は10重量部である。0.5重量部未満であると、本発明のシール剤を充分に硬化させることができないことがあり、10重量部を超えると、本発明のシール剤に光を照射したときに、シール剤の表面が先に硬化してしまい、内部を充分に硬化させることができず、また、BM等で遮蔽されている部分がある場合、該部分を充分に硬化させることができなくなることがある。また、硬化貯蔵安定性が低下することがある。 The preferable lower limit of the blending amount of the radical polymerization initiator in the sealant of the present invention is 0.5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the curable resin described later, and the preferable upper limit is 10 parts by weight. If the amount is less than 0.5 parts by weight, the sealing agent of the present invention may not be sufficiently cured. If the amount exceeds 10 parts by weight, when the sealing agent of the present invention is irradiated with light, If the surface is hardened first, the inside cannot be hardened sufficiently, and if there is a part shielded by BM or the like, the part may not be hardened sufficiently. Moreover, the curing storage stability may be reduced.
本発明のシール剤は、硬化性樹脂を含有する。
上記硬化性樹脂は、その分子中に(メタ)アクリロイル基を有するものであり、本発明のシール剤において、上記硬化性樹脂に含まれる反応性官能基の60mol%以上が(メタ)アクリロイル基である。
なお、本明細書において、「反応性官能基」とは、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基やオキセタニル基等の環状エーテル、スチリル基等を意味する。
The sealing agent of the present invention contains a curable resin.
The curable resin has a (meth) acryloyl group in its molecule, and in the sealing agent of the present invention, 60 mol% or more of the reactive functional group contained in the curable resin is a (meth) acryloyl group. is there.
In the present specification, the “reactive functional group” means a (meth) acryloyl group, a cyclic ether such as an epoxy group or an oxetanyl group, a styryl group, or the like.
上記(メタ)アクリロイル基が上記硬化性樹脂に含まれる反応性官能基の60mol%未満であると、光照射により充分に硬化せず液晶汚染が生じる。好ましい下限は75mol%である。なお、本明細書において、(メタ)アクリロイル基とは、アクリロイル基又はメタクリロイル基を意味する。 When the (meth) acryloyl group is less than 60 mol% of the reactive functional group contained in the curable resin, the resin is not sufficiently cured by light irradiation and liquid crystal contamination occurs. A preferred lower limit is 75 mol%. In the present specification, the (meth) acryloyl group means an acryloyl group or a methacryloyl group.
また、上記硬化性樹脂は、1分子中における(メタ)アクリロイル基数の好ましい上限は6である。6より多いと、硬化収縮が大きくなり、接着力低下の原因となることがある。 Moreover, the preferable upper limit of the number of (meth) acryloyl groups in one molecule of the curable resin is 6. When it is more than 6, curing shrinkage increases, which may cause a decrease in adhesive strength.
本発明のシール剤では、樹脂成分の液晶中への溶出の低減という観点から、上記硬化性樹脂は、1分子中に水素結合性官能基を有するものが好ましく、更に好ましくは水酸基やウレタン結合を有するものである。
更に、本発明のシール剤では、硬化後に未反応の樹脂をできるだけ残存させないために硬化性樹脂1分子中に付加反応性官能基を2つ以上有することが好ましい。この範囲にあることで、重合又は架橋反応後に、残存する未反応化合物が極めて少なくなり、本発明のシール剤を用いて液晶表示素子を製造した際に液晶を汚染することがない。
In the sealing agent of the present invention, from the viewpoint of reducing elution of the resin component into the liquid crystal, the curable resin preferably has a hydrogen bonding functional group in one molecule, and more preferably has a hydroxyl group or a urethane bond. It is what you have.
Furthermore, the sealing agent of the present invention preferably has two or more addition-reactive functional groups in one molecule of the curable resin so as not to leave as much unreacted resin as possible after curing. By being in this range, the remaining unreacted compound is extremely reduced after polymerization or crosslinking reaction, and the liquid crystal is not contaminated when the liquid crystal display element is produced using the sealing agent of the present invention.
本発明のシール剤において、上記含まれる反応性官能基の60mol%以上が(メタ)アクリロイル基である硬化性樹脂としては特に限定されず、例えば、(メタ)アクリル酸エステル、及び、反応性の官能基を変性して(メタ)アクリロイル基を分子中に保有するもの等が挙げられる。なかでも、紫外線の照射により発生した活性ラジカルで速やかに重合又は架橋が進行する点から(メタ)アクリル酸エステルが好適である。なお、本明細書において、(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味する。 In the sealing agent of the present invention, the curable resin in which 60 mol% or more of the reactive functional group included is a (meth) acryloyl group is not particularly limited. For example, (meth) acrylic acid ester and reactive Examples thereof include those having a (meth) acryloyl group in the molecule by modifying the functional group. Of these, (meth) acrylic acid esters are preferred from the viewpoint of rapid polymerization or crosslinking by active radicals generated by irradiation with ultraviolet rays. In the present specification, (meth) acrylic acid means acrylic acid or methacrylic acid.
上記(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば、(メタ)アクリル酸に水酸基を有する化合物を反応させることにより得られるエステル化合物、(メタ)アクリル酸とエポキシ化合物とを反応させることにより得られるエポキシ(メタ)アクリレート、イソシアネートに水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタン(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the (meth) acrylic acid ester include an ester compound obtained by reacting a compound having a hydroxyl group with (meth) acrylic acid, and an epoxy obtained by reacting (meth) acrylic acid with an epoxy compound ( Examples thereof include urethane (meth) acrylates obtained by reacting (meth) acrylates and isocyanates with (meth) acrylic acid derivatives having a hydroxyl group.
上記(メタ)アクリル酸に水酸基を有する化合物を反応させることにより得られるエステル化合物としては特に限定されず、1官能のものとしては、例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、エチルカルビトール(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、2,2,2,−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、1H,1H,5H,−オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、イミド(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n−オクチル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、2−ブトキシエチル(メタ)アクリレート、2−フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ビシクロペンテニル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイロキシエチルコハク酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチル2−ヒドロキシプロピルフタレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイロキシエチルホスフェート等が挙げられる。 The ester compound obtained by reacting the above (meth) acrylic acid with a compound having a hydroxyl group is not particularly limited. Examples of monofunctional compounds include 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate. 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate , Isobornyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, methoxyethylene glycol (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, tet Hydrofurfuryl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, ethyl carbitol (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, phenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, methoxy polyethylene glycol (meth) Acrylate, 2,2,2, -trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3, -tetrafluoropropyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 5H, -octafluoropentyl (meth) acrylate, imide (Meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, Rohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, isomyristyl (meth) acrylate, 2-butoxyethyl (meth) acrylate, 2-phenoxyethyl (meth) ) Acrylate, bicyclopentenyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, 2- (meth) acryloyl Roxyethyl hexahydrophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl 2-hydroxypropyl phthalate, glycidyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl phosphate, etc. It is done.
また、2官能のものとしては、例えば、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10−デカンジオールジ(メタ)アクリレート2−n−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド付加ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド付加ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド付加ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、ジメチロールジシクロペンタジエンルジ(メタ)アクリレート、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸ジ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイロキシプロピル(メタ)アクリレート、カーボネートジオールジ(メタ)アクリレート、ポリエーテルジオールジ(メタ)アクリレート、ポリエステルジオールジ(メタ)アクリレート、ポリカプロラクトンジオールジ(メタ)アクリレート、ポリブタジエンジオールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the bifunctional compound include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,3-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, and 1,9. -Nonanediol di (meth) acrylate, 1,10-decanediol di (meth) acrylate 2-n-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate , Tripropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, Pyrene oxide-added bisphenol A di (meth) acrylate, ethylene oxide-added bisphenol A di (meth) acrylate, ethylene oxide-added bisphenol F di (meth) acrylate, dimethylol dicyclopentadiene didi (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol di ( (Meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethylene oxide modified isocyanuric acid di (meth) acrylate, 2-hydroxy-3- (meth) acryloyloxypropyl (meth) acrylate, carbonate diol di (meth) acrylate, poly Ether diol di (meth) acrylate, polyester diol di (meth) acrylate, polycaprolactone diol di (meth) acrylate, polybutadiene geo Distearate (meth) acrylate.
また、3官能以上のものとしては、例えば、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド付加トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド付加トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド付加イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド付加グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリス(メタ)アクリロイルオキシエチルフォスフェート等が挙げられる。 Examples of the tri- or higher functional group include pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propylene oxide-added trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and ethylene oxide-added trimethylolpropane tri (meth). Acrylate, caprolactone-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide-added isocyanuric acid tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, Pentaerythritol tetra (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, propylene oxide-added glycerin Li (meth) acrylate, tris (meth) acryloyloxyethyl phosphate, and the like.
上記(メタ)アクリル酸とエポキシ化合物とを反応させることにより得られるエポキシ(メタ)アクリレートとしては特に限定されず、例えば、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸とを、常法に従って塩基性触媒の存在下で反応することにより得られるものが挙げられる。 The epoxy (meth) acrylate obtained by reacting the (meth) acrylic acid with an epoxy compound is not particularly limited. For example, an epoxy resin and (meth) acrylic acid are present in the presence of a basic catalyst according to a conventional method. What is obtained by reacting under is mentioned.
上記エポキシ(メタ)アクリレートを合成するための原料となるエポキシ化合物としては特に限定されず、市販されているものとしては、例えば、エピコート828EL、エピコート1004(いずれもジャパンエポキシレジン社製)等のビスフェノールA型エポキシ樹脂;エピコート806、エピコート4004(いずれもジャパンエポキシレジン社製)等のビスフェノールF型エポキシ樹脂;エピクロンEXA1514(大日本インキ社製)等のビスフェノールS型エポキシ樹脂;RE−810NM(日本化薬社製)等の2,2’−ジアリルビスフェノールA型エポキシ樹脂;エピクロンEXA7015(大日本インキ社製)等の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂;EP−4000S(旭電化社製)等のプロピレンオキシド付加ビスフェノールA型エポキシ樹脂;EX−201(ナガセケムテックス社製)等のレゾルシノール型エポキシ樹脂;エピコートYX−4000H(ジャパンエポキシレジン社製)等のビフェニル型エポキシ樹脂;YSLV−50TE(東都化成社製)等のスルフィド型エポキシ樹脂;YSLV−80DE(東都化成社製)等のエーテル型エポキシ樹脂;EP−4088S(旭電化社製)等のジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂;エピクロンHP4032、エピクロンEXA−4700(いずれも大日本インキ社製)等のナフタレン型エポキシ樹脂;エピクロンN−770(大日本インキ社製)等のフェノールノボラック型エポキシ樹脂;エピクロンN−670−EXP−S(大日本インキ社製)等のオルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂;エピクロンHP7200(大日本インキ社製)等のジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂;NC−3000P(日本化薬社製)等のビフェニルノボラック型エポキシ樹脂;ESN−165S(東都化成社製)等のナフタレンフェノールノボラック型エポキシ樹脂;エピコート630(ジャパンエポキシレジン社製)、エピクロン430(大日本インキ社製)、TETRAD−X(三菱ガス化学社製)等のグリシジルアミン型エポキシ樹脂;ZX−1542(東都化成社製)、エピクロン726(大日本インキ社製)、エポライト80MFA(共栄社化学社製)、デナコールEX−611、(ナガセケムテックス社製)等のアルキルポリオール型エポキシ樹脂;YR−450、YR−207(いずれも東都化成社製)、エポリードPB(ダイセル化学社製)等のゴム変性型エポキシ樹脂;デナコールEX−147(ナガセケムテックス社製)等のグリシジルエステル化合物;エピコートYL−7000(ジャパンエポキシレジン社製)等のビスフェノールA型エピスルフィド樹脂;その他YDC−1312、YSLV−80XY、YSLV−90CR(いずれも東都化成社製)、XAC4151(旭化成社製)、エピコート1031、エピコート1032(いずれもジャパンエポキシレジン社製)、EXA−7120(大日本インキ社製)、TEPIC(日産化学社製)等が挙げられる。 The epoxy compound as a raw material for synthesizing the epoxy (meth) acrylate is not particularly limited, and examples of commercially available products include bisphenols such as Epicoat 828EL and Epicoat 1004 (both manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.). A type epoxy resin; Bisphenol F type epoxy resin such as Epicoat 806 and Epicoat 4004 (both manufactured by Japan Epoxy Resin Co.); Bisphenol S type epoxy resin such as Epicron EXA1514 (Dainippon Ink Co.); RE-810NM (Nipponization) 2,2'-diallyl bisphenol A type epoxy resin such as Yakuhin Co., Ltd .; Hydrogenated bisphenol type epoxy resin such as Epicron EXA7015 (Dainippon Ink Co., Ltd.); Propylene oxide addition such as EP-4000S (Asahi Denka Co., Ltd.) Bisf Knoll A type epoxy resin; Resorcinol type epoxy resin such as EX-201 (manufactured by Nagase ChemteX); Biphenyl type epoxy resin such as Epicoat YX-4000H (manufactured by Japan Epoxy Resin); YSLV-50TE (manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.) Sulfide type epoxy resins such as YSLV-80DE (manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.); Dicyclopentadiene type epoxy resins such as EP-4088S (manufactured by Asahi Denka Co.); Epicron HP4032 and Epicron EXA-4700 (any Naphthalene-type epoxy resin such as Dainippon Ink Co .; phenol novolac epoxy resin such as Epicron N-770 (Dainippon Ink Co.); Epicron N-670-EXP-S (Dainippon Ink Co.) Orthocresol novolac epoxy resin; Dicyclopentadiene novolac type epoxy resin such as Piclon HP7200 (manufactured by Dainippon Ink &Co.); Biphenyl novolac type epoxy resin such as NC-3000P (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.); Naphthalene phenol such as ESN-165S (manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.) Novolac type epoxy resin; Glycidylamine type epoxy resin such as Epicote 630 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), Epiklon 430 (manufactured by Dainippon Ink and Co., Ltd.), TETRAD-X (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company); ZX-1542 (Tohto Kasei Co., Ltd.) ), Epiklon 726 (Dainippon Ink Co., Ltd.), Epolite 80MFA (Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Denacol EX-611, (Nagase ChemteX Co., Ltd.) and other alkyl polyol type epoxy resins; YR-450, YR-207 ( All are manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.) Rubber-modified epoxy resins such as Daicel Chemical Industries; glycidyl ester compounds such as Denacol EX-147 (manufactured by Nagase ChemteX); Bisphenol A type episulfide resins such as Epicoat YL-7000 (manufactured by Japan Epoxy Resin); Others YDC-1312, YSLV-80XY, YSLV-90CR (all manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.), XAC4151 (manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.), Epicoat 1031, Epicoat 1032 (all manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), EXA-7120 (Dainippon Ink) ), TEPIC (Nissan Chemical Co., Ltd.) and the like.
上記(メタ)アクリル酸とエポキシ化合物とを反応させることにより得られるエポキシ(メタ)アクリレートとしては、具体的には、例えば、レゾルシノール型エポキシ樹脂(EX−201、ナガセケムテックス社製)360重量部、重合禁止剤としてp−メトキシフェノール2重量部、反応触媒としてトリエチルアミン2重量部、アクリル酸210重量部を空気を送り込みながら、90℃で還流攪拌しながら5時間反応させることによって得ることができる。 Specific examples of the epoxy (meth) acrylate obtained by reacting the (meth) acrylic acid with the epoxy compound include, for example, resorcinol type epoxy resin (EX-201, manufactured by Nagase ChemteX Corporation) 360 parts by weight. In addition, 2 parts by weight of p-methoxyphenol as a polymerization inhibitor, 2 parts by weight of triethylamine as a reaction catalyst, and 210 parts by weight of acrylic acid can be obtained by reacting at 90 ° C. for 5 hours while stirring under reflux.
また、上記エポキシ(メタ)アクリレートの市販品としては、例えば、エベクリル3700、エベクリル3600、エベクリル3701、エベクリル3703、エベクリル3200、エベクリル3201、エベクリル3600、エベクリル3702、エベクリル3412、エベクリル860、エベクリルRDX63182、エベクリル6040、エベクリル3800(いずれもダイセルユーシービー社製)、EA−1020、EA−1010、EA−5520、EA−5323、EA−CHD、EMA−1020(いずれも新中村化学工業社製)、エポキシエステルM−600A、エポキシエステル40EM、エポキシエステル70PA、エポキシエステル200PA、エポキシエステル80MFA、エポキシエステル3002M、エポキシエステル3002A、エポキシエステル1600A、エポキシエステル3000M、エポキシエステル3000A、エポキシエステル200EA、エポキシエステル400EA(いずれも共栄社化学社製)、デナコールアクリレートDA−141、デナコールアクリレートDA−314、デナコールアクリレートDA−911(いずれもナガセケムテックス社製)等が挙げられる。 Moreover, as a commercial item of the said epoxy (meth) acrylate, for example, Evecri 3700, Evekril 3600, Evekril 3701, Evekrill 3703, Evekrill 3200, Evekrill 3201, Evekrill 3600, Evekrill 3702, Evekrill 3412, Evekril 860, Evekril RDX63182, 6040, Evekril 3800 (all manufactured by Daicel UCB), EA-1020, EA-1010, EA-5520, EA-5323, EA-CHD, EMA-1020 (all manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), epoxy ester M-600A, epoxy ester 40EM, epoxy ester 70PA, epoxy ester 200PA, epoxy ester 80MFA, epoxy ester 3002M, epoxy Steal 3002A, Epoxy ester 1600A, Epoxy ester 3000M, Epoxy ester 3000A, Epoxy ester 200EA, Epoxy ester 400EA (all manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Denacol acrylate DA-141, Denacol acrylate DA-314, Denacol acrylate DA- 911 (all manufactured by Nagase ChemteX Corporation).
上記イソシアネートに水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタン(メタ)アクリレートとしては、例えば、2つのイソシアネート基を有する化合物1当量に対して水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体2当量を、触媒量のスズ系化合物存在下で反応させることによって得ることができる。 Examples of the urethane (meth) acrylate obtained by reacting the above isocyanate with a (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group include, for example, a (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group with respect to 1 equivalent of a compound having two isocyanate groups. Two equivalents can be obtained by reacting in the presence of a catalytic amount of a tin-based compound.
上記イソシアネートに水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタン(メタ)アクリレートの原料となるイソシアネートとしては特に限定されず、例えば、イソホロンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート(MDI)、水添MDI、ポリメリックMDI、1,5−ナフタレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシネート、トリジンジイソシアネート、キシリレンジイオシアネート(XDI)、水添XDI、リジンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス(イソシアネートフェニル)チオフォスフェート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、1,6,10−ウンデカントリイソシアネート等が挙げられる。 It does not specifically limit as isocyanate used as the raw material of the urethane (meth) acrylate obtained by making the said isocyanate react with the (meth) acrylic acid derivative which has a hydroxyl group, For example, isophorone diisocyanate, 2, 4-tolylene diisocyanate, 2 , 6-tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4′-diisocyanate (MDI), hydrogenated MDI, polymeric MDI, 1,5-naphthalene diisocyanate, norbornane diisocyanate, tolidine diisocyanate, Xylylene diisocyanate (XDI), hydrogenated XDI, lysine diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, tris (isocyanate phenyl) Ofosufeto, tetramethyl xylene diisocyanate, 1,6,10- undecene country isocyanate.
また、上記イソシアネートに水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタン(メタ)アクリレートの原料となるイソシアネートとしては特に限定されず、例えば、エチレングリコール、グリセリン、ソルビトール、トリメチロールプロパン、(ポリ)プロピレングリコール、カーボネートジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリカプロラクトンジオール等のポリオールと過剰のイソシアネートとの反応により得られる鎖延長されたイソシアネート化合物も使用することができる。 Moreover, it does not specifically limit as isocyanate used as the raw material of the urethane (meth) acrylate obtained by making the said isocyanate react with the (meth) acrylic acid derivative which has a hydroxyl group, For example, ethylene glycol, glycerol, sorbitol, a trimethylol propane It is also possible to use chain-extended isocyanate compounds obtained by reaction of polyols such as (poly) propylene glycol, carbonate diol, polyether diol, polyester diol, polycaprolactone diol and excess isocyanate.
上記イソシアネートに水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタン(メタ)アクリレートの原料となる、水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体としては特に限定されず、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等の市販品やエチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ポリエチレングリコール等の二価のアルコールのモノ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン等の三価のアルコールのモノ(メタ)アクリレート又はジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA変性エポキシアクリレート等のエポキシアクリレート等が挙げられる。 The (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group, which is a raw material for the urethane (meth) acrylate obtained by reacting the isocyanate with a hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid derivative, is not particularly limited. For example, 2-hydroxy Commercial products such as ethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, Mono (meth) acrylates of trivalent alcohols such as mono (meth) acrylates of divalent alcohols such as 1,3-butanediol, 1,4-butanediol and polyethylene glycol, trimethylolethane, trimethylolpropane and glycerin Or di (meth) acrylate, epoxy acrylates such as bisphenol A-modified epoxy acrylate.
上記イソシアネートに水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタン(メタ)アクリレートとしては、具体的には、例えば、トリメチロールプロパン134重量部、重合禁止剤としてBHT0.2重量部、反応触媒としてジブチル錫ジラウリレート0.01重量部、イソホロンジイソシアネート666重量部を加え、60℃で還流攪拌しながら2時間反応させ、次に、2−ヒドロキシエチルアクリレート51重量部を加え、空気を送り込みながら90℃で還流攪拌しながら2時間反応させることにより得ることができる。 Specific examples of urethane (meth) acrylate obtained by reacting the isocyanate with a hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid derivative include, for example, 134 parts by weight of trimethylolpropane, and 0.2 part by weight of BHT as a polymerization inhibitor. Then, 0.01 parts by weight of dibutyltin dilaurate and 666 parts by weight of isophorone diisocyanate were added as reaction catalysts, and the mixture was reacted at 60 ° C. with stirring under reflux for 2 hours. Then, 51 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate was added, and air was fed. The mixture can be obtained by reacting at 90 ° C. with stirring under reflux for 2 hours.
上記ウレタン(メタ)アクリレートで市販されているものとしては、例えば、M−1100、M−1200、M−1210、M−1600(いずれも東亞合成社製)、エベクリル230、エベクリル270、エベクリル4858、エベクリル8402、エベクリル8804、エベクリル8803、エベクリル8807、エベクリル9260、エベクリル1290、エベクリル5129、エベクリル4842、エベクリル210、エベクリル4827、エベクリル6700、エベクリル220、エベクリル2220(いずれもダイセルユーシービー社製)、アートレジンUN−9000H、アートレジンUN−9000A、アートレジンUN−7100、アートレジンUN−1255、アートレジンUN−330、アートレジンUN−3320HB、アートレジンUN−1200TPK、アートレジンSH−500B(いずれも根上工業社製)、U−122P、U−108A、U−340P、U−4HA、U−6HA、U−324A、U−15HA、UA−5201P、UA−W2A、U−1084A、U−6LPA、U−2HA、U−2PHA、UA−4100、UA−7100、UA−4200、UA−4400、UA−340P、U−3HA、UA−7200、U−2061BA、U−10H、U−122A、U−340A、U−108、U−6H、UA−4000(いずれも新中村化学工業社製)、AH−600、AT−600、UA−306H、AI−600、UA−101T、UA−101I、UA−306T、UA−306I等が挙げられる。 Examples of commercially available urethane (meth) acrylates include M-1100, M-1200, M-1210, and M-1600 (all manufactured by Toagosei Co., Ltd.), Evecryl 230, Evekril 270, Evekril 4858, Evecryl 8402, Evecril 8804, Evecril 8803, Evecril 8807, Evecril 9260, Evecril 1290, Evecril 5842, Evecril 210, Evecril 4827, Evecril 6700, Evecril 220, Evecryl 2220 UN-9000H, Art Resin UN-9000A, Art Resin UN-7100, Art Resin UN-1255, Art Resin UN-330, Art Resin UN-3320 B, Art Resin UN-1200TPK, Art Resin SH-500B (all manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.), U-122P, U-108A, U-340P, U-4HA, U-6HA, U-324A, U-15HA, UA-5201P, UA-W2A, U-1084A, U-6LPA, U-2HA, U-2PHA, UA-4100, UA-7100, UA-4200, UA-4400, UA-340P, U-3HA, UA- 7200, U-2061BA, U-10H, U-122A, U-340A, U-108, U-6H, UA-4000 (all manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), AH-600, AT-600, UA- 306H, AI-600, UA-101T, UA-101I, UA-306T, UA-306I, and the like.
また、本発明のシール剤において、上記硬化性樹脂としては、例えば、1分子中にエポキシ基と(メタ)アクリロイル基とをそれぞれ少なくとも1つ有する化合物であってもよい。 In the sealing agent of the present invention, the curable resin may be, for example, a compound having at least one epoxy group and (meth) acryloyl group in one molecule.
上記1分子中にエポキシ基と(メタ)アクリロイル基とをそれぞれ少なくとも1つ有する化合物としては、例えば、2つ以上のエポキシ基を有する化合物の一部分のエポキシ基を(メタ)アクリル酸と反応させることによって得られる化合物や、2官能以上のイソシアネートに水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体、及び、グリシドールを反応させることにより得られる化合物等が挙げられる。 Examples of the compound having at least one epoxy group and (meth) acryloyl group in one molecule include, for example, reacting a part of the epoxy group having two or more epoxy groups with (meth) acrylic acid. And a compound obtained by reacting a bifunctional or higher isocyanate with a (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group and glycidol.
上記2つ以上のエポキシ基を有する化合物の一部分のエポキシ基を(メタ)アクリル酸と反応させることによって得られる化合物としては、例えば、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸とを、常法に従って塩基性触媒の存在下で反応することにより得られる。 Examples of the compound obtained by reacting a part of the epoxy group having two or more epoxy groups with (meth) acrylic acid include, for example, an epoxy resin and (meth) acrylic acid in a basic manner according to a conventional method. It is obtained by reacting in the presence of a catalyst.
上記2つ以上のエポキシ基を有する化合物の一部分のエポキシ基を(メタ)アクリル酸と反応させることによって得られる化合物の原料となるエポキシ化合物としては、例えば、エピコート828EL、エピコート1004(いずれもジャパンエポキシレジン社製)等のビスフェノールA型エポキシ樹脂;エピコート806、エピコート4004(いずれもジャパンエポキシレジン社製)等のビスフェノールF型エポキシ樹脂;エピクロンEXA1514(大日本インキ社製)等のビスフェノールS型エポキシ樹脂;RE−810NM(日本化薬社製)等の2,2’−ジアリルビスフェノールA型エポキシ樹脂、エピクロンEXA7015(大日本インキ社製)等の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂;EP−4000S(旭電化社製)等のプロピレンオキシド付加ビスフェノールA型エポキシ樹脂;EX−201(ナガセケムテックス社製)等のレゾルシノール型エポキシ樹脂;エピコートYX−4000H(ジャパンエポキシレジン社製)等のビフェニル型エポキシ樹脂;YSLV−50TE(東都化成社製)等のスルフィド型エポキシ樹脂;YSLV−80DE(東都化成社製)等のエーテル型エポキシ樹脂;EP−4088S(旭電化社製)等のジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂;エピクロンHP4032、エピクロンEXA−4700(いずれも大日本インキ社製)等のナフタレン型エポキシ樹脂;エピクロンN−770(大日本インキ社製)等のフェノールノボラック型エポキシ樹脂;エピクロンN−670−EXP−S(大日本インキ社製)等のオルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂;エピクロンHP7200(大日本インキ社製)等のジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂;NC−3000P(日本化薬社製)等のビフェニルノボラック型エポキシ樹脂;ESN−165S(東都化成社製)等のナフタレンフェノールノボラック型エポキシ樹脂;エピコート630(ジャパンエポキシレジン社製)、エピクロン430(大日本インキ社製)、TETRAD−X(三菱ガス化学社製)等のグリシジルアミン型エポキシ樹脂;ZX−1542(東都化成社製)、エピクロン726(大日本インキ社製)、エポライト80MFA(共栄社化学社製)、デナコールEX−611、(ナガセケムテックス社製)等のアルキルポリオール型エポキシ樹脂;YR−450、YR−207(いずれも東都化成社製)、エポリードPB(ダイセル化学社製)等のゴム変性型エポキシ樹脂;デナコールEX−147(ナガセケムテックス社製)等のグリシジルエステル化合物;エピコートYL−7000(ジャパンエポキシレジン社製)等のビスフェノールA型エピスルフィド樹脂;その他YDC−1312、YSLV−80XY、YSLV−90CR(いずれも東都化成社製)、XAC4151(旭化成社製)、エピコート1031、エピコート1032(いずれもジャパンエポキシレジン社製)、EXA−7120(大日本インキ社製)、TEPIC(日産化学社製)等が挙げられる。 Examples of the epoxy compound used as a raw material of the compound obtained by reacting a part of the epoxy group having two or more epoxy groups with (meth) acrylic acid include, for example, Epicoat 828EL and Epicoat 1004 (both Japan Epoxy Bisphenol A type epoxy resin such as Epicote 806 and Epicoat 4004 (both made by Japan Epoxy Resin Co.); Bisphenol S type epoxy resin such as Epicron EXA1514 (manufactured by Dainippon Ink and Co.) ; 2,2′-diallyl bisphenol A type epoxy resin such as RE-810NM (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), hydrogenated bisphenol type epoxy resin such as Epicron EXA7015 (manufactured by Dainippon Ink &Co.); EP-4000S (Asahi Denka Co., Ltd.) Etc.) Lopylene oxide-added bisphenol A type epoxy resin; Resorcinol type epoxy resin such as EX-201 (manufactured by Nagase ChemteX); Biphenyl type epoxy resin such as Epicoat YX-4000H (manufactured by Japan Epoxy Resin); YSLV-50TE (Tohto Kasei) Such as YSLV-80DE (manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.); dicyclopentadiene type epoxy resin such as EP-4088S (manufactured by Asahi Denka Co.); Epicron HP4032, Epicron EXA- Naphthalene type epoxy resin such as 4700 (all manufactured by Dainippon Ink Co.); Phenol novolac type epoxy resin such as Epicron N-770 (manufactured by Dainippon Ink Co.); Epicron N-670-EXP-S (manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.) ) Etc. Novolac type epoxy resin; dicyclopentadiene novolac type epoxy resin such as Epiklon HP7200 (manufactured by Dainippon Ink &Co.); biphenyl novolac type epoxy resin such as NC-3000P (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.); ESN-165S (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.) Naphthalenephenol novolak type epoxy resins such as Epicote 630 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), Epiklon 430 (manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.), TETRAD-X (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company), etc .; ZX- 1542 (manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), Epicron 726 (manufactured by Dainippon Ink & Co., Ltd.), Epolite 80MFA (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Denacol EX-611, (manufactured by Nagase ChemteX Corporation), etc .; YR-207 (East Rubber-modified epoxy resins such as Tokasei Co., Ltd., Epolide PB (manufactured by Daicel Chemical Industries), etc .; Glycidyl ester compounds such as Denacol EX-147 (manufactured by Nagase ChemteX Corporation); Epicoat YL-7000 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) Bisphenol A type episulfide resin such as YDC-1312, YSLV-80XY, YSLV-90CR (all manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), XAC4151 (manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.), Epicoat 1031 and Epicoat 1032 (all manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) EXA-7120 (Dainippon Ink Co., Ltd.), TEPIC (Nissan Chemical Co., Ltd.) and the like.
上記2つ以上のエポキシ基を有する化合物の一部分のエポキシ基を(メタ)アクリル酸と反応させることによって得られる化合物としては、具体的には、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂(ダウケミカル社製:D.E.N.431)1000重量部、重合禁止剤としてp−メトキシフェノール2重量部、反応触媒としてトリエチルアミン2重量部、アクリル酸200重量部を空気を送り込みながら、90℃で還流攪拌しながら5時間反応させることによって得ることができる(この場合50%部分アクリル化されている)。 Specific examples of the compound obtained by reacting a part of the epoxy group having two or more epoxy groups with (meth) acrylic acid include, for example, a phenol novolac type epoxy resin (manufactured by Dow Chemical Company): DEN 431) 1000 parts by weight, 2 parts by weight of p-methoxyphenol as a polymerization inhibitor, 2 parts by weight of triethylamine as a reaction catalyst, and 200 parts by weight of acrylic acid while stirring at 90 ° C. while refluxing. It can be obtained by reacting for 5 hours (in this case 50% partially acrylated).
上記2つ以上のエポキシ基を有する化合物の一部分のエポキシ基を(メタ)アクリル酸と反応させることによって得られる化合物のうち、市販品としては、例えば、エベクリル1561(ダイセルユーシービー社製)が挙げられる。 Among the compounds obtained by reacting a part of the epoxy groups having two or more epoxy groups with (meth) acrylic acid, a commercially available product is, for example, Evecryl 1561 (manufactured by Daicel UC Corporation). It is done.
上記2官能以上のイソシアネートに水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体及びグリシドールを反応させることにより得られる化合物は、例えば、2つのイソシアネート基を有する化合物1当量に対して水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体及びグリシドールそれぞれ1当量を、触媒量のスズ系化合物存在下で反応させることによって得ることができる。 The compound obtained by reacting the (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group with the bifunctional or higher isocyanate and glycidol is, for example, (meth) acrylic acid having a hydroxyl group with respect to 1 equivalent of the compound having two isocyanate groups. One equivalent each of the derivative and glycidol can be obtained by reacting in the presence of a catalytic amount of a tin-based compound.
上記2官能以上のイソシアネートに水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体及びグリシドールを反応させることにより得られる化合物の原料となる2官能以上のイソシアネートとしては特に限定されず、例えば、イソホロンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート(MDI)、水添MDI、ポリメリックMDI、1,5−ナフタレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシネート、トリジンジイソシアネート、キシリレンジイオシアネート(XDI)、水添XDI、リジンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス(イソシアネートフェニル)チオフォスフェート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、1,6,10−ウンデカントリイソシアネート等が挙げられる。 The bifunctional or higher isocyanate used as a raw material for the compound obtained by reacting the bifunctional or higher isocyanate with a (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group and glycidol is not particularly limited. For example, isophorone diisocyanate, 2, 4 -Tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4'-diisocyanate (MDI), hydrogenated MDI, polymeric MDI, 1,5-naphthalene diisocyanate, norbornane dii Sosinate, tolidine diisocyanate, xylylene diisocyanate (XDI), hydrogenated XDI, lysine diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, tris (isocyanate) Sulfonate phenyl) thiophosphate, tetramethylxylene diisocyanate, 1,6,10- undecene country isocyanate.
また、上記イソシアネートとしては、例えば、エチレングリコール、グリセリン、ソルビトール、トリメチロールプロパン、(ポリ)プロピレングリコール、カーボネートジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリカプロラクトンジオール等のポリオールと過剰のイソシアネートとの反応により得られる鎖延長されたイソシアネート化合物も使用することができる。 Examples of the isocyanate include, for example, a reaction between a polyol such as ethylene glycol, glycerin, sorbitol, trimethylolpropane, (poly) propylene glycol, carbonate diol, polyether diol, polyester diol, polycaprolactone diol and excess isocyanate. The resulting chain-extended isocyanate compound can also be used.
上記2官能以上のイソシアネートに水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体及びグリシドールを反応させることにより得られる化合物の原料となる、水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体としては特に限定されず、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等の市販品や、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ポリエチレングリコール等の二価のアルコールのモノ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン等の三価のアルコールのモノ(メタ)アクリレート又はジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA変性エポキシアクリレート等のエポキシアクリレート等が挙げられる。 The (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group, which is a raw material for the compound obtained by reacting a hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid derivative and glycidol with the bifunctional or higher isocyanate, is not particularly limited. -Commercial products such as hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, ethylene glycol, propylene glycol, 1,3- Mono (meth) acrylates of dihydric alcohols such as propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, polyethylene glycol, etc., monovalents of trivalent alcohols such as trimethylolethane, trimethylolpropane, glycerin ( Meta) Relate or di (meth) acrylate, epoxy acrylates such as bisphenol A-modified epoxy acrylate.
上記2官能以上のイソシアネートに水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体及びグリシドールを反応させることにより得られる化合物としては、具体的には、例えば、トリメチロールプロパン134重量部、重合開始剤としてBHT0.2重量部、反応触媒としてジブチル錫ジラウリレート0.01重量部、イソホロンジイソシアネート666重量部を加え、60℃で還流攪拌しながら2時間反応させ、次に、2−ヒドロキシエチルアクリレート25.5重量部及びグリシドール111重量部を加え、空気を送り込みながら90℃で還流攪拌しながら2時間反応させることにより得ることができる。 Specific examples of the compound obtained by reacting a (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group with a bifunctional or higher isocyanate and glycidol include, for example, 134 parts by weight of trimethylolpropane, and BHT0.2 as a polymerization initiator. Parts by weight, 0.01 parts by weight of dibutyltin dilaurate and 666 parts by weight of isophorone diisocyanate as reaction catalysts were added and reacted at 60 ° C. with stirring under reflux for 2 hours, followed by 25.5 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate and glycidol It can be obtained by adding 111 parts by weight and reacting at 90 ° C. while refluxing for 2 hours while feeding air.
本発明のシール剤では、上述した分子中に(メタ)アクリロイル基を有する硬化性樹脂のほかの硬化性樹脂を含有していてもよく、具体的には、例えば、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、エチレン誘導体、スチレン誘導体等が挙げられる。 The sealing agent of the present invention may contain a curable resin other than the curable resin having a (meth) acryloyl group in the molecule, specifically, for example, epoxy resin, oxetane resin, ethylene Derivatives, styrene derivatives and the like.
上記エポキシ樹脂としては特に限定されず、例えば、エピクロロヒドリン誘導体、環式脂肪族エポキシ樹脂、イソシアネートとグリシドールとの反応から得られる化合物等が挙げられる。 The epoxy resin is not particularly limited, and examples thereof include epichlorohydrin derivatives, cycloaliphatic epoxy resins, compounds obtained from the reaction of isocyanate and glycidol, and the like.
上記エピクロロヒドリン誘導体としては、例えば、エピコート828EL、エピコート1004(いずれもジャパンエポキシレジン社製)等のビスフェノールA型エポキシ樹脂;エピコート806、エピコート4004(いずれもジャパンエポキシレジン社製)等のビスフェノールF型エポキシ樹脂;エピクロンEXA1514(大日本インキ社製)等のビスフェノールS型エポキシ樹脂;RE−810NM(日本化薬社製)等の2,2’−ジアリルビスフェノールA型エポキシ樹脂;エピクロンEXA7015(大日本インキ社製)等の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂;EP−4000S(旭電化社製)等のプロピレンオキシド付加ビスフェノールA型エポキシ樹脂;EX−201(ナガセケムテックス社製)等のレゾルシノール型エポキシ樹脂;エピコートYX−4000H(ジャパンエポキシレジン社製)等のビフェニル型エポキシ樹脂;YSLV−50TE(東都化成社製)等のスルフィド型エポキシ樹脂;YSLV−80DE(東都化成社製)等のエーテル型エポキシ樹脂;EP−4088S(旭電化社製)等のジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂;エピクロンHP4032、エピクロンEXA−4700(いずれも大日本インキ社製)等のナフタレン型エポキシ樹脂;エピクロンN−770(大日本インキ社製)等のフェノールノボラック型エポキシ樹脂;エピクロンN−670−EXP−S(大日本インキ社製)等のオルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂;エピクロンHP7200(大日本インキ社製)等のジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂;NC−3000P(日本化薬社製)等のビフェニルノボラック型エポキシ樹脂;ESN−165S(東都化成社製)等のナフタレンフェノールノボラック型エポキシ樹脂;エピコート630(ジャパンエポキシレジン社製)、エピクロン430(大日本インキ社製)、TETRAD−X(三菱ガス化学社製)等のグリシジルアミン型エポキシ樹脂;ZX−1542(東都化成社製)、エピクロン726(大日本インキ社製)、エポライト80MFA(共栄社化学社製)、デナコールEX−611(ナガセケムテックス社製)等のアルキルポリオール型エポキシ樹脂、YR−450、YR−207(いずれも東都化成社製)、エポリードPB(ダイセル化学社製)等のゴム変性型エポキシ樹脂、デナコールEX−147(ナガセケムテックス社製)等のグリシジルエステル化合物;エピコートYL−7000(ジャパンエポキシレジン社製)等のビスフェノールA型エピスルフィド樹脂;その他YDC−1312、YSLV−80XY、YSLV−90CR(いずれも東都化成社製)、XAC4151(旭化成社製)、エピコート1031、エピコート1032(いずれもジャパンエポキシレジン社製)、EXA−7120(大日本インキ社製)、TEPIC(日産化学社製)等が挙げられる。 Examples of the epichlorohydrin derivative include bisphenol A type epoxy resins such as Epicoat 828EL and Epicoat 1004 (both manufactured by Japan Epoxy Resin Co.); bisphenols such as Epicoat 806 and Epicoat 4004 (both manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.). F type epoxy resin; Bisphenol S type epoxy resin such as Epicron EXA1514 (manufactured by Dainippon Ink &Co.); 2,2′-diallylbisphenol A type epoxy resin such as RE-810NM (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.); Epicron EXA7015 (large Hydrogenated bisphenol type epoxy resins such as Nippon Ink Co., Ltd .; Propylene oxide-added bisphenol A type epoxy resins such as EP-4000S (Asahi Denka Co.); Resorcinol type epoxy such as EX-201 (manufactured by Nagase ChemteX) Xylon resin; Biphenyl type epoxy resin such as Epicoat YX-4000H (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.); Sulfide type epoxy resin such as YSLV-50TE (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.); Ether type such as YSLV-80DE (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.) Epoxy resin; Dicyclopentadiene type epoxy resin such as EP-4088S (Asahi Denka); Naphthalene type epoxy resin such as Epicron HP4032, Epicron EXA-4700 (both manufactured by Dainippon Ink and Co.); Epicron N-770 (Large) Phenol novolac type epoxy resins such as Nippon Ink Co .; orthocresol novolac type epoxy resins such as Epicron N-670-EXP-S (Dainippon Ink Co.); dicyclo such as Epicron HP7200 (Dainippon Ink Co., Ltd.) Pentadiene novolac epoxy Fat; Biphenyl novolac type epoxy resin such as NC-3000P (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.); Naphthalene phenol novolac type epoxy resin such as ESN-165S (manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.); Epicoat 630 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) (Manufactured by Dainippon Ink, Inc.), glycidylamine type epoxy resins such as TETRAD-X (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc.); Chemical), Denacol EX-611 (manufactured by Nagase ChemteX), etc., alkyl polyol type epoxy resins, YR-450, YR-207 (all manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), Epolide PB (manufactured by Daicel Chemical) Rubber-modified epoxy resin, Denacol EX-147 (Nagase Chemtech) Glycidyl ester compounds such as Epicote YL-7000 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), etc .; other YDC-1312, YSLV-80XY, YSLV-90CR (all manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.), XAC4151 (made by Asahi Kasei Co., Ltd.), Epicoat 1031, Epicoat 1032 (all made by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), EXA-7120 (Dainippon Ink Co., Ltd.), TEPIC (Nissan Chemical Co., Ltd.), etc. are mentioned.
また、上記環式脂肪族エポキシ樹脂としては、例えば、セロキサイド2021、セロキサイド2080、セロキサイド3000、エポリードGT300、EHPE(いずれもダイセル化学社製)等が挙げられる。 Examples of the cycloaliphatic epoxy resin include Celoxide 2021, Celoxide 2080, Celoxide 3000, Epolide GT300, EHPE (all manufactured by Daicel Chemical Industries), and the like.
また、上記イソシアネートとグリシドールとの反応から得られる化合物としては、例えば、2つのイソシアネート基を有する化合物に対して2当量のグリシドールを触媒量のスズ系化合物存在下で反応させることによって得ることができる。 The compound obtained from the reaction between the isocyanate and glycidol can be obtained, for example, by reacting a compound having two isocyanate groups with 2 equivalents of glycidol in the presence of a catalytic amount of a tin compound. .
上記イソシアネートとしては例えばイソホロンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート(MDI)、水添MDI、ポリメリックMDI、1,5−ナフタレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシネート、トリジンジイソシアネート、キシリレンジイオシアネート(XDI)、水添XDI、リジンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス(イソシアネートフェニル)チオフォスフェート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、1,6,10−ウンデカントリイソシアネート等が挙げられる。 Examples of the isocyanate include isophorone diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4′-diisocyanate (MDI), hydrogenated MDI, and polymeric. MDI, 1,5-naphthalene diisocyanate, norbornane diisocyanate, tolidine diisocyanate, xylylene diisocyanate (XDI), hydrogenated XDI, lysine diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, tris (isocyanatophenyl) thiophosphate, tetramethylxylene diisocyanate 1,6,10-undecane triisocyanate and the like.
また、上記イソシアネートとしては、例えば、エチレングリコール、グリセリン、ソルビトール、トリメチロールプロパン、(ポリ)プロピレングリコール、カーボネートジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリカプロラクトンジオール等のポリオールと過剰のイソシアネートとの反応により得られる鎖延長されたイソシアネート化合物も使用することができる。 Examples of the isocyanate include, for example, a reaction between a polyol such as ethylene glycol, glycerin, sorbitol, trimethylolpropane, (poly) propylene glycol, carbonate diol, polyether diol, polyester diol, polycaprolactone diol and excess isocyanate. The resulting chain-extended isocyanate compound can also be used.
上記イソシアネートとグリシドールとの反応から得られる化合物の具体的な合成法としては、具体的には、例えば、トリメチロールプロパン134重量部、反応触媒としてジブチル錫ジラウリレート0.01重量部、イソホロンジイソシアネート666重量部を加え、60℃で還流攪拌しながら2時間反応させ、次に、グリシドール222重量部を加え、空気を送り込みながら90℃で還流攪拌しながら2時間反応させることにより得ることができる。 As a specific synthesis method of the compound obtained from the reaction of the isocyanate and glycidol, specifically, for example, 134 parts by weight of trimethylolpropane, 0.01 part by weight of dibutyltin dilaurate as a reaction catalyst, 666 parts by weight of isophorone diisocyanate The reaction mixture can be obtained by adding 2 parts and reacting at 60 ° C. with reflux stirring for 2 hours, and then adding 222 parts by weight of glycidol and reacting at 90 ° C. with reflux stirring for 2 hours while feeding air.
本発明のシール剤は、更に、固形の有機酸ヒドラジドを含有する。上記固形の有機酸ヒドラジドを含有することで、紫外線を照射することによる本発明のシール剤の硬化性が向上する。この理由は明確ではないが、以下の通りであると考えられる。
すなわち、本発明のシール剤中に含有さる固形の有機酸ヒドラジドが、照射された紫外線を本発明のシール剤中で散乱させることで、例えば、BM等で照射された紫外線が遮蔽された部分にも紫外線が回り込み、その結果、本発明のシール剤の硬化性が向上するものと考えられる。
The sealing agent of the present invention further contains a solid organic acid hydrazide. By containing the solid organic acid hydrazide, the curability of the sealing agent of the present invention by irradiation with ultraviolet rays is improved. The reason for this is not clear, but is thought to be as follows.
That is, the solid organic acid hydrazide contained in the sealing agent of the present invention scatters the irradiated ultraviolet light in the sealing agent of the present invention, so that, for example, the portion irradiated with ultraviolet light irradiated with BM or the like is shielded. It is considered that the ultraviolet rays circulate, and as a result, the curability of the sealing agent of the present invention is improved.
上記固形の有機酸ヒドラジドとしては特に限定されず、例えば、セバチン酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、その他アミキュアVDH、アミキュアUDH(いずれも、味の素ファインテクノ社製)、2MZA−PW(四国化成社製)、ADH(大塚化学社製)等が挙げられる。 The solid organic acid hydrazide is not particularly limited. For example, sebacic acid dihydrazide, isophthalic acid dihydrazide, adipic acid dihydrazide, other Amicure VDH, Amicure UDH (all manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.), 2MZA-PW (Shikoku Chemicals) And ADH (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.).
上記固形の有機酸ヒドラジドの配合量としては特に限定されないが、上記硬化性樹脂100重量部に対して、好ましい下限は1重量部、好ましい上限は50重量部である。1重量部未満であると、固形の有機酸ヒドラジドを配合することで本発明のシール剤の硬化性が向上する効果がほとんど得られず、50重量部を超えると、本発明のシール剤の粘度が高くなり、ハンドリング性を損ねる場合がある。より好ましい上限は、30重量部である。 Although it does not specifically limit as a compounding quantity of the said solid organic acid hydrazide, A preferable minimum is 1 weight part and a preferable upper limit is 50 weight part with respect to 100 weight part of said curable resins. If it is less than 1 part by weight, the effect of improving the curability of the sealant of the present invention is hardly obtained by blending solid organic acid hydrazide, and if it exceeds 50 parts by weight, the viscosity of the sealant of the present invention is not obtained. May become high and handling property may be impaired. A more preferred upper limit is 30 parts by weight.
また、上記固形の有機酸ヒドラジドは、通常、シール剤の熱硬化剤に使用されるものであるため、上記固形の有機酸ジヒドラジドを含有する場合、そのまま本発明のシール剤を熱により硬化させる熱硬化剤として作用させることができる。 In addition, since the solid organic acid hydrazide is usually used as a thermosetting agent for a sealing agent, when the solid organic acid dihydrazide is contained, heat for curing the sealing agent of the present invention by heat as it is. It can act as a curing agent.
本発明のシール剤には、上記固形の有機酸ヒドラジド以外の熱硬化剤が含有されていてもよく、例えば、熱硬化剤として、アミン化合物、多価フェノール系化合物、酸無水物等が含有されていてもよい。 The sealing agent of the present invention may contain a thermosetting agent other than the solid organic acid hydrazide. For example, as the thermosetting agent, an amine compound, a polyhydric phenol compound, an acid anhydride, or the like is contained. It may be.
本発明のシール剤は、更に、シランカップリング剤を含有することが好ましい。シランカップリング剤は、主にシール剤と液晶表示素子基板とを良好に接着するための接着助剤としての役割を有する。 The sealing agent of the present invention preferably further contains a silane coupling agent. The silane coupling agent mainly has a role as an adhesion assistant for favorably bonding the sealing agent and the liquid crystal display element substrate.
上記硬化性樹脂は、上記(メタ)アクリロイル基の他に、更に、エポキシ基やオキセタン基等の環状エーテル基等の熱反応性官能基を1分子中に有していてもよい。このような官能基を有する場合には、本発明のシール剤は、光硬化型と熱硬化型との併用タイプとなり滴下工法により液晶表示素子を作製する際に、予め光硬化で仮留めした後、熱硬化で完全に硬化させることができ、より高精度かつ容易な作業が可能になるほか、液晶の汚染も防止することができる。 In addition to the (meth) acryloyl group, the curable resin may further have a thermally reactive functional group such as an epoxy group or a cyclic ether group such as an oxetane group in one molecule. In the case of having such a functional group, the sealing agent of the present invention is a combination type of a photo-curing type and a thermo-curing type, and is temporarily fixed by photo-curing in advance when a liquid crystal display element is produced by a dropping method. In addition to being completely cured by heat curing, more accurate and easy work can be performed, and contamination of the liquid crystal can also be prevented.
上記1分子中に(メタ)アクリロイル基と熱反応性官能基を有する樹脂としては特に限定されず、例えば、部分(メタ)アクリル酸変性エポキシ樹脂、ウレタン変性(メタ)アクリルエポキシ樹脂等が挙げられる。 The resin having a (meth) acryloyl group and a heat-reactive functional group in one molecule is not particularly limited, and examples thereof include partial (meth) acrylic acid-modified epoxy resins and urethane-modified (meth) acrylic epoxy resins. .
上記部分(メタ)アクリル酸変性エポキシ樹脂としては、例えば、ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、トリス(ヒドロキシフェニル)アルキル型エポキシ樹脂、テトラキス(ヒドロキシフェニル)アルキル型エポキシ樹脂、環式脂肪族エポキシ樹脂等を部分(メタ)アクリル化した物等が挙げられる。 Examples of the partial (meth) acrylic acid-modified epoxy resin include novolak type epoxy resin, bisphenol type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, tris (hydroxyphenyl) alkyl type epoxy resin, and tetrakis (hydroxyphenyl). Examples include alkyl (epoxy) resins, cycloaliphatic epoxy resins and the like partially (meth) acrylated.
このような部分(メタ)アクリル酸変性エポキシ樹脂の原料エポキシ樹脂としては、例えば、ノボラック型として、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ビフェニルノボラック型、トリスフェノールノボラック型、ジシクロペンタジエンノボラック型等が挙げられ、ビスフェノール型としては、例えば、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、2,2’−ジアリルビスフェノールA型、水添ビスフェノール型、ポリオキシプロピレンビスフェノールA型環式脂肪族エポキシ等が挙げられる。 Examples of the raw material epoxy resin of such a partial (meth) acrylic acid-modified epoxy resin include novolak type, phenol novolak type, cresol novolak type, biphenyl novolak type, trisphenol novolak type, dicyclopentadiene novolak type and the like. Examples of the bisphenol type include bisphenol A type, bisphenol F type, 2,2′-diallyl bisphenol A type, hydrogenated bisphenol type, polyoxypropylene bisphenol A type cyclic aliphatic epoxy, and the like.
上記フェノールノボラック型エポキシ樹脂の市販品としては、例えば、エピクロンN−740、N−770、N−775(いずれも大日本インキ化学工業社製)、エピコート152、エピコート154(いずれもジャパンエポキシレジン社製)等が挙げられる。
上記クレゾールノボラック型エポキシ樹脂の市販品としては、例えば、エピクロンN−660、N−665、N−670、N−673、N−680、N−695、N−665−EXP、N−672−EXP(大日本インキ化学工業社製)等が挙げられる。
Examples of commercially available phenol novolac epoxy resins include Epicron N-740, N-770, N-775 (all manufactured by Dainippon Ink and Chemicals), Epicoat 152, and Epicoat 154 (all Japan Epoxy Resin Co., Ltd.). Manufactured) and the like.
As a commercial item of the said cresol novolak type epoxy resin, for example, Epicron N-660, N-665, N-670, N-673, N-680, N-695, N-665-EXP, N-672-EXP (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.).
上記ビスフェノールA型エポキシ樹脂の市販品としては、例えば、エピコート828、エピコート834、エピコート1001、エピコート1004(いずれもジャパンエポキシレジン社製)、エピクロン850、エピクロン860、エピクロン4055(いずれも大日本インキ化学工業社製)等が挙げられる。 Commercially available products of the bisphenol A type epoxy resin include, for example, Epicoat 828, Epicoat 834, Epicoat 1001, Epicoat 1004 (all manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), Epicron 850, Epicron 860, and Epicron 4055 (all Dainippon Ink and Chemicals). Manufactured by Kogyo Co., Ltd.).
上記ビスフェノールF型エポキシ樹脂の市販品としては、例えば、エピコート807(ジャパンエポキシレジン社製)、エピクロン830(大日本インキ化学工業社製)等が挙げられる。 As a commercial item of the said bisphenol F-type epoxy resin, Epikote 807 (made by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), Epicron 830 (made by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), etc. are mentioned, for example.
上記環式脂肪族エポキシ樹脂の市販品としては、例えば、セロキサイド2021、セロキサイド2080、セロキサイド3000(いずれもダイセル・ユーシービー社製)等が挙げられる。 As a commercial item of the said cycloaliphatic epoxy resin, Celoxide 2021, Celoxide 2080, Celoxide 3000 (all are Daicel UCB Co., Ltd.) etc. are mentioned, for example.
上記エポキシ樹脂の部分(メタ)アクリル化物は、例えば、上記エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸とを、常法に従って塩基性触媒の存在下で反応することにより得られる。
上記エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸との配合量を適宜変更することにより、所望のアクリル化率のエポキシ樹脂を得ることができる。上記エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸との配合量としては、好ましくは、エポキシ基1当量に対してカルボン酸の下限が0.1当量、上限が0.5当量であり、より好ましくは、エポキシ基1当量に対してカルボン酸の下限が0.2当量、上限が0.4当量である。
The partially (meth) acrylated product of the epoxy resin can be obtained, for example, by reacting the epoxy resin and (meth) acrylic acid in the presence of a basic catalyst according to a conventional method.
An epoxy resin having a desired acrylate ratio can be obtained by appropriately changing the blending amount of the epoxy resin and (meth) acrylic acid. As a compounding quantity of the said epoxy resin and (meth) acrylic acid, Preferably, the minimum of carboxylic acid is 0.1 equivalent with respect to 1 equivalent of epoxy groups, and an upper limit is 0.5 equivalent, More preferably, epoxy The lower limit of the carboxylic acid is 0.2 equivalent and the upper limit is 0.4 equivalent with respect to 1 equivalent of the group.
上記ウレタン変性(メタ)アクリルエポキシ樹脂は、例えば、以下の方法によって得られるものである。
ポリオールと2官能以上のイソシアネートとを反応させ、更にこれに水酸基を有する(メタ)アクリルモノマー及びグリシドールを反応させる方法;ポリオールを用いず、2官能以上のイソシアネートに水酸基を有する(メタ)アクリルモノマーやグリシドールを反応させる方法等によって得ることができる。
また、上記ウレタン変性(メタ)アクリルエポキシ樹脂は、イソシアネート基を有する(メタ)アクリレートモノマーにグリシドールを反応させる方法によっても得ることができる。具体的には、例えば、まず、トリメチロールプロパン1モルとイソホロンジイソシアネート3モルとを錫系触媒下反応させる。得られた化合物中に残るイソシアネート基と水酸基とを有するアクリルモノマーであるヒドロキシエチルアクリレート、及び、水酸基を有するエポキシであるグリシドールを反応させる方法が挙げられる。
The urethane-modified (meth) acrylic epoxy resin is obtained by the following method, for example.
A method of reacting a polyol with a bifunctional or higher functional isocyanate and further reacting a hydroxyl group-containing (meth) acrylic monomer and glycidol; It can be obtained by a method of reacting glycidol.
The urethane-modified (meth) acrylic epoxy resin can also be obtained by a method in which glycidol is reacted with a (meth) acrylate monomer having an isocyanate group. Specifically, for example, first, 1 mol of trimethylolpropane and 3 mol of isophorone diisocyanate are reacted under a tin-based catalyst. Examples thereof include a method of reacting hydroxyethyl acrylate which is an acrylic monomer having an isocyanate group and a hydroxyl group remaining in the obtained compound and glycidol which is an epoxy having a hydroxyl group.
上記ポリオールとしては特に限定されず、例えば、エチレングリコール、グリセリン、ソルビトール、トリメチロールプロパン、(ポリ)プロピレングリコール等が挙げられる。 It does not specifically limit as said polyol, For example, ethylene glycol, glycerol, sorbitol, a trimethylol propane, (poly) propylene glycol etc. are mentioned.
上記イソシアネートとしては、2官能以上であれば特に限定されず、例えば、ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、トリレンジイソシネート(TDI)、キシレンジイソシアネート(XDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、ナフチレンジイソシアネート(NDI)、トリジンジイソシアネート(TPDI)、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート(HMDI)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート(TMHDI)等が挙げられる。 The isocyanate is not particularly limited as long as it is bifunctional or higher. For example, diphenylmethane diisocyanate (MDI), tolylene diisocyanate (TDI), xylene diisocyanate (XDI), isophorone diisocyanate (IPDI), naphthylene diisocyanate (NDI) ), Tolidine diisocyanate (TPDI), hexamethylene diisocyanate (HDI), dicyclohexylmethane diisocyanate (HMDI), trimethylhexamethylene diisocyanate (TMHDI) and the like.
上記水酸基を有する(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては特に限定されず、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ポリエチレングリコール等の二価のアルコールのモノ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン等の三価のアルコールのモノ(メタ)アクリレート又はジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA変性エポキシアクリレート等のエポキシアクリレート等が挙げられる。これらは、単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。 The (meth) acrylic acid ester monomer having a hydroxyl group is not particularly limited, and examples thereof include ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, and polyethylene glycol. Mono (meth) acrylates of dihydric alcohols such as mono (meth) acrylates or di (meth) acrylates of trivalent alcohols such as trimethylolethane, trimethylolpropane and glycerin, epoxy acrylates such as bisphenol A-modified epoxy acrylate, etc. Is mentioned. These may be used independently and 2 or more types may be used together.
本発明のシール剤は、接着性をより向上させるために、更に、熱硬化性樹脂を含有してもよい。上記熱硬化性樹脂としては特に限定されず、例えば、エポキシ樹脂やオキセタン樹脂等が挙げられる。 The sealing agent of the present invention may further contain a thermosetting resin in order to further improve the adhesiveness. It does not specifically limit as said thermosetting resin, For example, an epoxy resin, an oxetane resin, etc. are mentioned.
上記エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型樹脂、クレゾールノボラック型樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、カテコール型エポキシ樹脂等が挙げられる。 Examples of the epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolac type resin, cresol novolac type resin, biphenyl type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, and catechol type epoxy resin.
上記硬化性樹脂が環状エーテル基を含有し熱硬化性を有する場合や、上記熱硬化性樹脂を含有する場合には、本発明のシール剤は、更に硬化剤を含有してもよい。上記硬化剤は、硬化物の接着性、耐湿性を向上させることができる。
上記硬化剤としては、融点が100℃以上の潜在性硬化剤が好適に用いられる。融点が100℃以下の硬化剤を使用すると保存安定性が著しく悪くなることがある。このような硬化剤としては、例えば、1,3−ビス[ヒドラジノカルボノエチル−5−イソプロピルヒダントイン]等のヒドラジド化合物、ジシアンジアミド、グアニジン誘導体、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、N−[2−(2−メチル−1−イミダゾリル)エチル]尿素、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、N,N’−ビス(2−メチル−1−イミダゾリルエチル)尿素、N,N’−(2−メチル−1−イミダゾリルエチル)−アジポアミド、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール等のイミダゾール誘導体、変性脂肪族ポリアミン、テトラヒドロ無水フタル酸、エチレングリコールービス(アンヒドロトリメリテート)等の酸無水物、各種アミンとエポキシ樹脂との付加生成物等が挙げられる。また、上記硬化剤としては、固体硬化剤粒子の表面が微粒子により被覆されている被覆硬化剤を用いてもよい。
When the curable resin contains a cyclic ether group and has thermosetting properties, or when the curable resin contains the thermosetting resin, the sealing agent of the present invention may further contain a curing agent. The said hardening | curing agent can improve the adhesiveness and moisture resistance of hardened | cured material.
As the curing agent, a latent curing agent having a melting point of 100 ° C. or higher is preferably used. When a curing agent having a melting point of 100 ° C. or lower is used, the storage stability may be remarkably deteriorated. Examples of such a curing agent include hydrazide compounds such as 1,3-bis [hydrazinocarbonoethyl-5-isopropylhydantoin], dicyandiamide, guanidine derivatives, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, N- [2 -(2-Methyl-1-imidazolyl) ethyl] urea, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine, N, N'-bis (2- Methyl-1-imidazolylethyl) urea, N, N ′-(2-methyl-1-imidazolylethyl) -adipamide, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxy Imidazole derivatives such as methylimidazole, modified aliphatic polyamines, tetrahydrophthalic anhydride, ethylene glycol And acid anhydrides such as bis (anhydrotrimellitate), addition products of various amines and epoxy resins, and the like. Further, as the curing agent, a coating curing agent in which the surface of the solid curing agent particles is coated with fine particles may be used.
上記硬化剤の配合量の好ましい下限は、上記硬化性樹脂100重量部に対して1重量部、好ましい上限は60重量部である。この範囲外であると、硬化物の接着性が低下し、高温高湿動作試験での液晶の特性劣化が早まることがある。より好ましい下限は5重量部、より好ましい上限は50重量部である。 The preferable lower limit of the amount of the curing agent is 1 part by weight with respect to 100 parts by weight of the curable resin, and the preferable upper limit is 60 parts by weight. If it is out of this range, the adhesiveness of the cured product is lowered, and the liquid crystal characteristic deterioration in the high temperature and high humidity operation test may be accelerated. A more preferred lower limit is 5 parts by weight, and a more preferred upper limit is 50 parts by weight.
本発明のシール剤は、更にシランカップリング剤を含有してもよい。シランカップリング剤は、ガラス基板等との接着性を向上させる接着助剤としての役割を有する。
上記シランカップリング剤としては特に限定されないが、ガラス基板等との接着性向上効果に優れ、硬化性樹脂と化学結合することにより液晶中への流出を防止するとができることから、例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン等や、スペーサー基を介してイミダゾール骨格とアルコキシシリル基とが結合した構造を有するイミダゾールシラン化合物からなるもの等が好適に用いられる。これらのシランカップリング剤は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
The sealing agent of the present invention may further contain a silane coupling agent. The silane coupling agent has a role as an adhesion aid that improves adhesion to a glass substrate or the like.
Although it does not specifically limit as said silane coupling agent, Since it is excellent in the adhesive improvement effect with a glass substrate etc., and it can prevent the outflow in a liquid crystal by chemically bonding with curable resin, for example, (gamma) -amino Propyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-isocyanatopropyltrimethoxysilane, etc., and a structure in which the imidazole skeleton and alkoxysilyl group are bonded via a spacer group What consists of the imidazole silane compound which has is used suitably. These silane coupling agents may be used alone or in combination of two or more.
本発明のシール剤は、応力分散効果による接着性の改善、線膨張率の改善等の目的にフィラーを含有してもよい。上記フィラーとしては特に限定されず、例えば、タルク、石綿、シリカ、珪藻土、スメクタイト、ベントナイト、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、アルミナ、モンモリロナイト、珪藻土、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化錫、酸化チタン、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、ガラスビーズ、窒化珪素、硫酸バリウム、石膏、珪酸カルシウム、タルク、ガラスビーズ、セリサイト活性白土、ベントナイト、窒化アルミニウム等の無機フィラーや、ポリエステル微粒子、ポリウレタン微粒子、ビニル重合体微粒子、アクリル重合体微粒子等の有機フィラーが挙げられる。 The sealing agent of the present invention may contain a filler for the purpose of improving the adhesiveness due to the stress dispersion effect and improving the linear expansion coefficient. The filler is not particularly limited, for example, talc, asbestos, silica, diatomaceous earth, smectite, bentonite, calcium carbonate, magnesium carbonate, alumina, montmorillonite, diatomaceous earth, zinc oxide, iron oxide, magnesium oxide, tin oxide, titanium oxide, Magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, glass beads, silicon nitride, barium sulfate, gypsum, calcium silicate, talc, glass beads, sericite activated clay, bentonite, aluminum nitride and other inorganic fillers, polyester fine particles, polyurethane fine particles, vinyl heavy Organic fillers such as coalesced fine particles and acrylic polymer fine particles can be mentioned.
本発明のシール剤は、更に、必要に応じて、粘度調整の為の反応性希釈剤、チクソ性を調整する揺変剤、パネルギャップ調整の為のポリマービーズ等のスペーサー、3−P−クロロフェニル−1,1−ジメチル尿素等の硬化促進剤、消泡剤、レベリング剤、重合禁止剤、その他添加剤等を含有してもよい。 The sealing agent of the present invention further includes a reactive diluent for adjusting the viscosity, a thixotropic agent for adjusting thixotropy, a spacer such as polymer beads for adjusting the panel gap, and 3-P-chlorophenyl, if necessary. A curing accelerator such as -1,1-dimethylurea, an antifoaming agent, a leveling agent, a polymerization inhibitor, and other additives may be contained.
本発明のシール剤は、上記ラジカル重合開始剤以外の成分のアセトニトリル中で測定した350nmにおけるモル吸光係数の上限が100M−1・cm−1であることが好ましい。100M−1・cm−1を超えると、本発明のシール剤に照射した紫外線のうち、上記ラジカル重合開始剤が吸収する量が少なくなり、該ラジカル重合開始剤が解離して硬化性樹脂を充分に重合させることが困難となることがある。 In the sealing agent of the present invention, the upper limit of the molar extinction coefficient at 350 nm measured in acetonitrile as a component other than the radical polymerization initiator is preferably 100 M −1 · cm −1 . When it exceeds 100 M −1 · cm −1 , the amount of the radical polymerization initiator absorbed in the ultraviolet rays irradiated to the sealing agent of the present invention decreases, and the radical polymerization initiator is dissociated to sufficiently dissipate the curable resin. It may be difficult to polymerize.
上記ラジカル重合開始剤のアセトニトリル中で測定した350nmにおけるモル吸光係数にラジカル重合開始剤の配合量(重量%)を掛けた値に対する、上記ラジカル重合開始剤以外の成分のアセトニトリル中で測定した350nmにおけるモル吸光係数にラジカル重合開始剤以外の配合量(重量%)を掛けた値が50以下であることが好ましい。50を超えると、上記ラジカル重合開始剤以外の成分の配合量が多くなりすぎ、本発明のシール剤に照射した紫外線のうち、上記ラジカル重合開始剤が吸収する量が少なくなりすぎ、ラジカル重合開始剤が解離して硬化性樹脂を充分に重合させることが困難になることがある。 For the value obtained by multiplying the molar extinction coefficient at 350 nm measured in acetonitrile of the radical polymerization initiator by the blending amount (% by weight) of the radical polymerization initiator at 350 nm measured in acetonitrile of components other than the radical polymerization initiator. The value obtained by multiplying the molar extinction coefficient by the blending amount (% by weight) other than the radical polymerization initiator is preferably 50 or less. If it exceeds 50, the amount of components other than the radical polymerization initiator is excessively increased, and the amount of the radical polymerization initiator absorbed in the ultraviolet rays irradiated to the sealing agent of the present invention becomes too small, and radical polymerization is initiated. The agent may dissociate and it may be difficult to sufficiently polymerize the curable resin.
本発明のシール剤は、ガラス基板を接着し、硬化させたときの接着強度が150N/cm2以上であることが好ましい。150N/cm2未満であると、得られる液晶表示素子の強度が不足することがある。
なお、上記接着強度は、例えば、本発明のシール剤を用いて2枚のガラス基板を接着し硬化させた後、2枚のガラス基板を剥離するのに要する引張強度から求めることができる。
The sealing agent of the present invention preferably has an adhesive strength of 150 N / cm 2 or more when the glass substrate is bonded and cured. If it is less than 150 N / cm 2 , the strength of the obtained liquid crystal display element may be insufficient.
In addition, the said adhesive strength can be calculated | required, for example from the tensile strength required to peel off two glass substrates, after adhering and hardening two glass substrates using the sealing compound of this invention.
本発明のシール剤は、硬化物の体積抵抗値が1×1013Ω・cm以上、100kHzにおける誘電率が3以上であることが好ましい。体積抵抗値が1×1013Ω・cm未満であると、本発明のシール剤がイオン性の不純物を含有していることを意味し、本発明のシール剤を用いて製造した液晶表示素子の通電時にイオン性不純物が液晶中に溶出し、液晶駆動電圧に影響を与え、表示ムラの原因となることがある。また、液晶の誘電率は、通常ε//(パラレル)が10、ε⊥(垂直)が3.5程度であることから、誘電率が3未満であると、硬化性樹脂が液晶中に溶出し、液晶駆動電圧に影響を与え、表示ムラの原因となることがある。 In the sealing agent of the present invention, it is preferable that the volume resistance value of the cured product is 1 × 10 13 Ω · cm or more and the dielectric constant at 100 kHz is 3 or more. When the volume resistance value is less than 1 × 10 13 Ω · cm, it means that the sealant of the present invention contains ionic impurities, and the liquid crystal display element manufactured using the sealant of the present invention When energized, ionic impurities are eluted into the liquid crystal, which affects the liquid crystal driving voltage and may cause display unevenness. The dielectric constant of the liquid crystal is usually about 10 for ε // (parallel) and about 3.5 for ε⊥ (vertical). Therefore, if the dielectric constant is less than 3, the curable resin is eluted in the liquid crystal. However, this may affect the liquid crystal driving voltage and cause display unevenness.
本発明のシール剤を製造する方法としては特に限定されず、例えば、上記硬化性樹脂、ラジカル重合開始剤及び必要に応じて配合される添加剤等を、従来公知の方法により混合する方法等が挙げられる。このとき、イオン性の不純物を除去するために層状珪酸塩鉱物等のイオン吸着性固体と接触させてもよい。 The method for producing the sealing agent of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include a method of mixing the curable resin, the radical polymerization initiator, an additive blended as necessary, and the like by a conventionally known method. Can be mentioned. At this time, in order to remove ionic impurities, it may be brought into contact with an ion-adsorbing solid such as a layered silicate mineral.
本発明のシール剤は、アセトニトリル中にて測定した350nmにおけるモル吸光係数の下限が100M−1・cm−1、上限が10万M−1・cm−1であるラジカル重合開始剤と、分子中に含まれる反応性官能基のうち60mol%以上が(メタ)アクリロイル基である硬化性樹脂とを含有するものであり、波長350nm程度の紫外線を照射することで充分に硬化させることができる。
このような波長350nm程度の長波長の紫外線は、被照射物上に透過を妨げる遮蔽物が存在している場合であっても、該遮蔽物の裏側に回り込む(回折する)性質が大きい。即ち、本発明のシール剤は、透明基板上に形成するシール剤パターンの一部が、ブラックマトリックス(BM)や配線等と液晶セルの厚さ方向に重なる位置に形成されて光が直接照射されない場合があっても、350nm程度の紫外線を照射することで、該紫外線がBM等の裏側に回り込み充分に硬化させることができる。従って、本発明のシール剤は、液晶表示パネルの製造を狭額縁設計で行う際に特に好適に用いることができる。
The sealant of the present invention comprises a radical polymerization initiator having a lower limit of a molar extinction coefficient at 350 nm measured in acetonitrile of 100 M −1 · cm −1 and an upper limit of 100,000 M −1 · cm −1 , 60% by mole or more of the reactive functional groups contained in the curable resin contains a curable resin having a (meth) acryloyl group, and can be sufficiently cured by irradiation with ultraviolet rays having a wavelength of about 350 nm.
Such a long-wavelength ultraviolet light having a wavelength of about 350 nm has a large property of going around (diffracting) to the back side of the shielding object even when there is a shielding object that prevents transmission on the irradiated object. That is, the sealant of the present invention is formed so that a part of the sealant pattern formed on the transparent substrate overlaps with the black matrix (BM), wiring, etc. in the thickness direction of the liquid crystal cell and is not directly irradiated with light. Even if there is a case, by irradiating with an ultraviolet ray of about 350 nm, the ultraviolet ray wraps around the back side of BM or the like and can be sufficiently cured. Therefore, the sealing agent of the present invention can be particularly suitably used when a liquid crystal display panel is manufactured with a narrow frame design.
また、本発明のシール剤は、硬化させる際に照射する紫外線の波長を350nm以上のエネルギーの低いものとすることができ、滴下工法により液晶表示素子を製造する際に液晶が劣化することもない。
従って、本発明のシール剤を用いて得られた液晶表示素子は、信頼性の高い品質を有し、事務機器、家電製品、自動車計器等の文字や記号の表示パネルとして好適に使用することができる。
In addition, the sealing agent of the present invention can reduce the wavelength of ultraviolet rays irradiated when it is cured to 350 nm or less, and the liquid crystal is not deteriorated when a liquid crystal display element is produced by a dropping method. .
Therefore, the liquid crystal display element obtained by using the sealant of the present invention has high reliability and can be suitably used as a display panel for characters and symbols of office equipment, home appliances, automobile meters and the like. it can.
このような本発明のシール剤に、導電性微粒子を配合することにより、上下導通材料を製造することができる。このような上下導通材料を用いれば、紫外線等の光が直接照射されない部分が存在しても、電極間を充分に導電接続することができる。
本発明の液晶滴下工法用シール剤と、導電性微粒子とを含有する上下導通材料もまた、本発明の1つである。
A vertical conduction material can be manufactured by mix | blending electroconductive fine particles with such a sealing agent of this invention. If such a vertical conduction material is used, even if there is a portion that is not directly irradiated with light such as ultraviolet rays, the electrodes can be sufficiently conductively connected.
The vertical conduction material containing the sealing agent for liquid crystal dropping method of the present invention and conductive fine particles is also one aspect of the present invention.
上記導電性微粒子としては特に限定されず、金属ボール、樹脂微粒子の表面に導電金属層を形成したもの等を用いることができる。なかでも、樹脂微粒子の表面に導電金属層を形成したものは、樹脂微粒子の優れた弾性により、透明基板等を損傷することなく導電接続が可能であることから好適である。 The conductive fine particles are not particularly limited, and metal balls, those obtained by forming a conductive metal layer on the surface of resin fine particles, and the like can be used. Among them, the one in which the conductive metal layer is formed on the surface of the resin fine particles is preferable because the conductive connection is possible without damaging the transparent substrate due to the excellent elasticity of the resin fine particles.
本発明のシール剤及び/又は本発明の上下導通材料を用いて液晶表示素子を製造する方法としては特に限定されず、例えば、以下の方法により製造することができる。
まず、ITO薄膜等の2枚の電極付き透明基板の一方に、本発明のシール剤及び/又は本発明の上下導通材料をスクリーン印刷、ディスペンサー塗布等により長方形状のシールパターンを形成する。次いで、シール剤未硬化の状態で液晶の微小滴を透明基板の枠内全面に滴下塗布し、すぐに他方の透明基板を重ねあわせ、シール部に紫外線を照射して硬化させる。本発明のシール剤等が熱硬化性を有する場合には、更に100〜200℃のオーブン中で1時間加熱硬化させて硬化を完了させ、液晶表示素子を作製する。
本発明のシール剤及び/又は本発明の上下導通材料を用いてなる液晶表示素子もまた、本発明の1つである。
更に、本発明の液晶表示素子の製造方法、すなわち、少なくとも、2枚の電極付き透明基板の一方に、本発明のシール剤及び/又は本発明の上下導通材料を塗布してシールパターンを形成する工程、本発明のシール剤及び/又は本発明の上下導通材料が未硬化の状態で液晶の微小滴を透明基板の枠内全面に滴下塗布し、すぐに他方の透明基板を重ねあわせ、シール部に紫外線を照射して硬化させる工程を有する液晶表示素子の製造方法もまた、本発明の1つである。
The method for producing a liquid crystal display element using the sealing agent of the present invention and / or the vertical conducting material of the present invention is not particularly limited, and for example, it can be produced by the following method.
First, a rectangular seal pattern is formed on one of two transparent substrates with electrodes such as an ITO thin film by screen printing, dispenser application or the like using the sealing agent of the present invention and / or the vertical conduction material of the present invention. Next, fine droplets of liquid crystal are dropped and applied to the entire surface of the transparent substrate frame in an uncured state of the sealant, and the other transparent substrate is immediately overlaid and cured by irradiating the seal portion with ultraviolet rays. When the sealant or the like of the present invention has thermosetting properties, it is further cured by heating in an oven at 100 to 200 ° C. for 1 hour to complete the curing, thereby producing a liquid crystal display element.
A liquid crystal display element using the sealing agent of the present invention and / or the vertical conduction material of the present invention is also one aspect of the present invention.
Furthermore, the manufacturing method of the liquid crystal display element of the present invention, that is, at least one of the two transparent substrates with electrodes is coated with the sealing agent of the present invention and / or the vertical conduction material of the present invention to form a seal pattern. In the process, the liquid crystal micro-droplet is dropped on the entire surface of the transparent substrate with the sealant and / or the vertical conducting material of the present invention in an uncured state, and the other transparent substrate is immediately overlapped to form a seal portion. A method for producing a liquid crystal display element having a step of curing by irradiating with ultraviolet rays is also one aspect of the present invention.
本発明の液晶表示素子は、液晶比抵抗の保持率が10%以上であることが好ましい。10%未満であると、液晶の配向が阻害されて色むらが生じる原因の一つとなることがある。より好ましくは50%以上である。なお、上記液晶比抵抗は、公知の液晶比抵抗測定装置等を使用することにより測定することができ、液晶比抵抗の保持率は、下記式により求めることができる。 The liquid crystal display element of the present invention preferably has a liquid crystal resistivity holding ratio of 10% or more. If it is less than 10%, the alignment of the liquid crystal may be hindered to cause color unevenness. More preferably, it is 50% or more. The liquid crystal specific resistance can be measured by using a known liquid crystal specific resistance measuring device or the like, and the retention ratio of the liquid crystal specific resistance can be obtained by the following equation.
また、本発明の液晶表示素子は、ネマティック−等方性液体転移点(N−I点)変化が3℃以下であることが好ましい。3℃を超えると、液晶の配向が阻害されて色むらが生じる原因の一つとなることがある。なお、上記ネマティック−等方性液体転移点(N−I点)は、公知の熱分析装置等を使用することにより測定することができ、ネマティック−等方性液体転移点(N−I点)変化は、下記の式により求めることができる。 The liquid crystal display element of the present invention preferably has a nematic-isotropic liquid transition point (NI point) change of 3 ° C. or less. If it exceeds 3 ° C., the alignment of the liquid crystal may be hindered to cause color unevenness. The nematic-isotropic liquid transition point (NI point) can be measured by using a known thermal analyzer or the like, and the nematic-isotropic liquid transition point (NI point). The change can be obtained by the following equation.
本発明によれば、滴下工法による液晶表示素子の製造において、液晶滴下工法用シール剤に光が直接照射されない箇所があっても充分に硬化させることができ、また、硬化させる際に照射する紫外線により液晶が劣化することがなく、液晶表示素子の高表示品位及び高信頼性を実現することができる液晶滴下工法用シール剤、上下導通材料、及び、これらを用いてなる液晶表示素子を提供することができる。
すなわち、本発明のシール剤は、波長350nm程度の長波長の紫外線で硬化する性質を有するものであり、このような波長350nm程度の長波長の紫外線は、被照射物上に透過を妨げる遮蔽物が存在している場合であっても、該遮蔽物の裏側に回り込む(回折する)性質が大きい。従って、本発明のシール剤を用いて透明基板上に形成するシール剤パターンの一部が、ブラックマトリックス(BM)や配線等と液晶セルの厚さ方向に重なる位置に形成されて光が直接照射されない場合があっても、350nm程度の紫外線を照射することで、該紫外線がBM等の裏側に回り込むことで充分に硬化させることができる。このような本発明のシール剤は、液晶表示パネルの製造を狭額縁設計で行う場合において、特に好適に用いることができる。
According to the present invention, in the production of a liquid crystal display element by the dropping method, the sealing agent for the liquid crystal dropping method can be sufficiently cured even if there is a portion where the light is not directly irradiated, and the ultraviolet ray irradiated when curing is performed. Provides a liquid crystal dropping method sealing agent capable of realizing high display quality and high reliability of the liquid crystal display element without deterioration of the liquid crystal, a vertical conduction material, and a liquid crystal display element using the same. be able to.
That is, the sealing agent of the present invention has a property of being cured by ultraviolet light having a long wavelength of about 350 nm, and such a long wavelength ultraviolet light having a wavelength of about 350 nm is a shield that prevents transmission on the irradiated object. Even in the presence of, there is a great property of wrapping around (diffracting) the back side of the shield. Therefore, a part of the sealant pattern formed on the transparent substrate using the sealant of the present invention is formed at a position where it overlaps the black matrix (BM), wiring, etc. in the thickness direction of the liquid crystal cell, and light is directly irradiated. Even if it is not done, it can be sufficiently cured by irradiating ultraviolet rays of about 350 nm so that the ultraviolet rays wrap around the back side of BM or the like. Such a sealant of the present invention can be particularly suitably used when a liquid crystal display panel is manufactured with a narrow frame design.
また、本発明のシール剤は、硬化させる際に照射する紫外線の波長を350nm以上のエネルギーの低いものとすることができるため、液晶に直接紫外線が照射されても液晶が劣化することもない。
従って、本発明のシール剤を用いて得られた液晶表示素子は、液晶汚染を生じさせることなく狭額縁設計とすることができ、また、信頼性の高い品質を有し、事務機器、家電製品、自動車計器などの文字や記号の表示パネルとして好適に使用することができる。
In addition, since the sealing agent of the present invention can make the wavelength of ultraviolet rays irradiated when it is cured have a low energy of 350 nm or more, the liquid crystal is not deteriorated even when the liquid crystal is directly irradiated with ultraviolet rays.
Therefore, the liquid crystal display element obtained using the sealing agent of the present invention can be designed with a narrow frame without causing liquid crystal contamination, and has a high quality, office equipment, and home appliances. Further, it can be suitably used as a display panel for characters and symbols of automobile meters and the like.
以下に実施例を挙げて本発明の態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例にのみ限定されるものではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.
(エポキシアクリレートの合成)
EX−201(レゾルシノール型エポキシ樹脂)120gをトルエン500mLに溶解させ、これにトリフェニルホスフィン0.1gを加え、均一な溶液とした。この溶液にアクリル酸70gを還流撹拌下2時間かけて滴下後、更に還流撹拌を8時間行った。
次に、トルエンを除去することによって、全てのエポキシ基をアクリロイル基に変成したエポキシ(メタ)アクリレート(EX−201変性品:粘度60Pa)を合成した。
(Synthesis of epoxy acrylate)
120 g of EX-201 (resorcinol type epoxy resin) was dissolved in 500 mL of toluene, and 0.1 g of triphenylphosphine was added thereto to obtain a uniform solution. To this solution, 70 g of acrylic acid was added dropwise over 2 hours with stirring under reflux, followed by further stirring under reflux for 8 hours.
Next, by removing toluene, an epoxy (meth) acrylate (EX-201 modified product: viscosity 60 Pa) in which all epoxy groups were converted to acryloyl groups was synthesized.
(実施例1)
EX−201変性品60重量部、エピコート828(ジャパンエポキシレジン社製)40重量部、イルガキュア651(チバ・スペシャリティーケミカルズ社製)2重量部、アミキュアVDH−J(味の素ファインテクノ社製)10重量部、KBM403(信越化学社製)3重量部、及び、SO−C1(アドマテックス社製)30重量部を遊星式撹拌機(あわとり練太郎:シンキー社製)を用いて混合後、更に3本ロールを用いて混合させることによりシール剤を調製した。
Example 1
60 parts by weight of EX-201 modified product, 40 parts by weight of Epicoat 828 (manufactured by Japan Epoxy Resin), 2 parts by weight of Irgacure 651 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals), 10 parts by weight of Amicure VDH-J (manufactured by Ajinomoto Fine Techno) 3 parts by weight of KBM403 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 30 parts by weight of SO-C1 (manufactured by Admatechs Co., Ltd.) using a planetary stirrer (Awatori Kentaro: manufactured by Shinky Corporation) A sealant was prepared by mixing using this roll.
ブラックマトリックス(BM)及び透明電極付き基板に、調製したシール剤を長方形の枠を描くようにディスペンサーで塗布した。続いて液晶(チッソ社製;JC−5004LA)の微小滴を透明基板の枠内全面に滴下塗布し、すぐに別の透明電極付き基盤(BM無し)を重ね合わせて、BM付き基板側からシール部に高圧水銀ランプを用い紫外線を50mW/cm2で20秒照射した。このとき、押しつぶされたシール剤の線幅は約1.2mmであり、そのうちの0.3mmはBMと重なるように描画した。その後、液晶アニールを120℃、1時間行い同時にシール剤を熱硬化させて液晶表示パネルを作製した。
なお、実施例1で調製したシール剤の硬化性樹脂中に存在する反応性官能基に占める(メタ)アクリロイル基は、60mol%であった。
The prepared sealing agent was applied to a black matrix (BM) and a substrate with a transparent electrode with a dispenser so as to draw a rectangular frame. Subsequently, a fine drop of liquid crystal (manufactured by Chisso Corporation; JC-5004LA) is dropped onto the entire surface of the transparent substrate frame, and another substrate with a transparent electrode (without BM) is immediately overlaid and sealed from the substrate side with BM. The part was irradiated with ultraviolet rays at 50 mW / cm 2 for 20 seconds using a high-pressure mercury lamp. At this time, the line width of the squeezed sealant was about 1.2 mm, and 0.3 mm was drawn so as to overlap with BM. Thereafter, liquid crystal annealing was performed at 120 ° C. for 1 hour, and at the same time, the sealant was thermally cured to produce a liquid crystal display panel.
In addition, the (meth) acryloyl group which occupies for the reactive functional group which exists in curable resin of the sealing agent prepared in Example 1 was 60 mol%.
(実施例2)
EX−201変性品80重量部、エピコート828(ジャパンエポキシレジン社製)20重量部、イルガキュア651(チバ・スペシャリティーケミカルズ社製)2重量部、アミキュアVDH−J(味の素ファインテクノ社製)10重量部、KBM403(信越化学社製)3重量部、及び、SO−C1(アドマテックス社製)30重量部を遊星式撹拌機(あわとり練太郎:シンキー社製)を用いて混合後、更に3本ロールを用いて混合させることによりシール剤を調製した。
調製した実施例2にかかるシール剤を用いた以外は、実施例1と同様にして液晶表示パネルを作製した。
なお、実施例2で調製したシール剤の硬化性樹脂中に存在する反応性官能基に占める(メタ)アクリロイル基は、80mol%であった。
(Example 2)
EX-201 modified product 80 parts by weight, Epicoat 828 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) 20 parts by weight, Irgacure 651 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 2 parts by weight, Amicure VDH-J (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.) 10 weights 3 parts by weight of KBM403 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 30 parts by weight of SO-C1 (manufactured by Admatechs Co., Ltd.) using a planetary stirrer (Awatori Kentaro: manufactured by Shinky Corporation) A sealant was prepared by mixing using this roll.
A liquid crystal display panel was produced in the same manner as in Example 1, except that the prepared sealing agent according to Example 2 was used.
In addition, the (meth) acryloyl group which occupies for the reactive functional group which exists in curable resin of the sealing compound prepared in Example 2 was 80 mol%.
(比較例3)
EX−201変性品100重量部、イルガキュア651(チバ・スペシャリティーケミカルズ社製)2重量部、アミキュアVDH−J(味の素ファインテクノ社製)10重量部、KBM403(信越化学社製)3重量部、及び、SO−C1(アドマテックス社製)30重量部を遊星式撹拌機(あわとり練太郎:シンキー社製)を用いて混合後、更に3本ロールを用いて混合させることによりシール剤を調製した。
その後、調製した比較例3にかかるシール剤を用いた以外は、実施例1と同様にして液晶表示パネルを作製した。
なお、比較例3で調製したシール剤の硬化性樹脂中に存在する反応性官能基に占める(メタ)アクリロイル基は、100mol%であった。
( Comparative Example 3 )
EX-201 modified product 100 parts by weight, Irgacure 651 (Ciba Specialty Chemicals) 2 parts, Amicure VDH-J (Ajinomoto Fine Techno Co.) 10 parts, KBM403 (Shin-Etsu Chemical Co.) 3 parts by weight, And after mixing 30 parts by weight of SO-C1 (manufactured by Admatechs) using a planetary stirrer (manufactured by Awatori Kentaro: manufactured by Sinky), a sealant is prepared by further mixing using three rolls. did.
Thereafter, a liquid crystal display panel was produced in the same manner as in Example 1 except that the prepared sealing agent according to Comparative Example 3 was used.
In addition, the (meth) acryloyl group which occupies for the reactive functional group which exists in curable resin of the sealing compound prepared in the comparative example 3 was 100 mol%.
(実施例4)
EX−201変性品80重量部、エピコート828(ジャパンエポキシレジン社製)20重量部、イルガキュア651(チバ・スペシャリティーケミカルズ社製)2重量部、2MZA−PW(四国化成社製)5重量部、KBM403(信越化学社製)3重量部、及び、SO−C1(アドマテックス社製)30重量部を遊星式撹拌機(あわとり練太郎:シンキー社製)を用いて混合後、更に3本ロールを用いて混合させることによりシール剤を調製した。
その後、調製した実施例4にかかるシール剤を用いた以外は、実施例1と同様にして液晶表示パネルを作製した。
なお、実施例4で調製したシール剤の硬化性樹脂中に存在する反応性官能基に占める(メタ)アクリロイル基は、80mol%であった。
(Example 4)
80 parts by weight of EX-201 modified product, 20 parts by weight of Epicoat 828 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), 2 parts by weight of Irgacure 651 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals), 5 parts by weight of 2MZA-PW (manufactured by Shikoku Chemicals), 3 parts by weight of KBM403 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 30 parts by weight of SO-C1 (manufactured by Admatechs) are mixed using a planetary stirrer (Awatori Kentaro: manufactured by Shinky Corporation), and further three rolls The sealant was prepared by mixing using
Thereafter, a liquid crystal display panel was produced in the same manner as in Example 1 except that the sealant according to Example 4 prepared was used.
In addition, the (meth) acryloyl group which occupies for the reactive functional group which exists in curable resin of the sealing compound prepared in Example 4 was 80 mol%.
(実施例5)
EX−201変性品80重量部、エピコート828(ジャパンエポキシレジン社製)20重量部、イルガキュア819(チバ・スペシャリティーケミカルズ社製)2重量部、アミキュアVDH−J(味の素ファインテクノ社製)10重量部、KBM403(信越化学社製)3重量部、及び、SO−C1(アドマテックス社製)30重量部を遊星式撹拌機(あわとり練太郎:シンキー社製)を用いて混合後、更に3本ロールを用いて混合させることによりシール剤を調製した。
調製した実施例5にかかるシール剤を用いた以外は、実施例1と同様にして液晶表示パネルを作製した。
なお、実施例5で調製したシール剤の硬化性樹脂中に存在する反応性官能基に占める(メタ)アクリロイル基は、80mol%であった。
(Example 5)
EX-201 modified 80 parts by weight, Epicoat 828 (Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) 20 parts by weight, Irgacure 819 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 2 parts by weight, Amicure VDH-J (Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.) 10 parts by weight 3 parts by weight of KBM403 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 30 parts by weight of SO-C1 (manufactured by Admatechs Co., Ltd.) using a planetary stirrer (Awatori Kentaro: manufactured by Shinky Corporation) A sealant was prepared by mixing using this roll.
A liquid crystal display panel was produced in the same manner as in Example 1 except that the prepared sealant according to Example 5 was used.
In addition, the (meth) acryloyl group which occupies for the reactive functional group which exists in curable resin of the sealing compound prepared in Example 5 was 80 mol%.
(実施例6)
EX−201変性品80重量部、エピコート828(ジャパンエポキシレジン社製)20重量部、イルガキュア651(チバ・スペシャリティーケミカルズ社製)2重量部、粉砕したADH(大塚化学社製)10重量部、KBM403(信越化学社製)3重量部、及び、SO−C1(アドマテックス社製)30重量部を遊星式撹拌機(あわとり練太郎:シンキー社製)を用いて混合後、更に3本ロールを用いて混合させることによりシール剤を調製した。
調製した実施例6にかかるシール剤を用いた以外は、実施例1と同様にして液晶表示パネルを作製した。
なお、実施例6で調製したシール剤の硬化性樹脂中に存在する反応性官能基に占める(メタ)アクリロイル基は、80mol%であった。
(Example 6)
80 parts by weight of EX-201 modified product, 20 parts by weight of Epicoat 828 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), 2 parts by weight of Irgacure 651 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals), 10 parts by weight of pulverized ADH (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.) 3 parts by weight of KBM403 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 30 parts by weight of SO-C1 (manufactured by Admatechs) are mixed using a planetary stirrer (Awatori Kentaro: manufactured by Shinky Corporation), and further three rolls The sealant was prepared by mixing using
A liquid crystal display panel was produced in the same manner as in Example 1 except that the prepared sealing agent according to Example 6 was used.
In addition, the (meth) acryloyl group which occupies for the reactive functional group which exists in curable resin of the sealing compound prepared in Example 6 was 80 mol%.
(比較例1)
EX−201変性品80重量部、エピコート828(ジャパンエポキシレジン社製)20重量部、イルガキュア2959(チバ・スペシャリティーケミカルズ社製)2重量部、アミキュアVDH−J(味の素ファインテクノ社製)10重量部、KBM403(信越化学社製)3重量部、及び、SO−C1(アドマテックス社製)30重量部を遊星式撹拌機(あわとり練太郎:シンキー社製)を用いて混合後、更に3本ロールを用いて混合させることによりシール剤を調製した。
調製した比較例1にかかるシール剤を用いた以外は、実施例1と同様にして液晶表示パネルを作製した。
なお、比較例1で調製したシール剤の硬化性樹脂中に存在する反応性官能基に占める(メタ)アクリロイル基は、80mol%であった。
(Comparative Example 1)
EX-201 modified product 80 parts by weight, Epicoat 828 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) 20 parts by weight, Irgacure 2959 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 2 parts by weight, Amicure VDH-J (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.) 10 weights 3 parts by weight of KBM403 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 30 parts by weight of SO-C1 (manufactured by Admatechs Co., Ltd.) using a planetary stirrer (Awatori Kentaro: manufactured by Shinky Corporation) A sealant was prepared by mixing using this roll.
A liquid crystal display panel was produced in the same manner as in Example 1 except that the prepared sealant according to Comparative Example 1 was used.
In addition, the (meth) acryloyl group which occupies for the reactive functional group which exists in curable resin of the sealing compound prepared in the comparative example 1 was 80 mol%.
(比較例2)
EX−201変性品40重量部、エピコート828(ジャパンエポキシレジン社製)60重量部、イルガキュア651(チバ・スペシャリティーケミカルズ社製)2重量部、アミキュアVDH−J(味の素ファインテクノ社製)10重量部、KBM403(信越化学社製)3重量部、及び、SO−C1(アドマテックス社製)30重量部を遊星式撹拌機(あわとり練太郎:シンキー社製)を用いて混合後、更に3本ロールを用いて混合させることによりシール剤を調製した。
調製した比較例2にかかるシール剤を用いた以外は、実施例1と同様にして液晶表示パネルを作製した。
なお、比較例2で調製したシール剤の硬化性樹脂中に存在する反応性官能基に占める(メタ)アクリロイル基は、40mol%であった。
(Comparative Example 2)
EX-201 modified product 40 parts by weight, Epicoat 828 (Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) 60 parts by weight, Irgacure 651 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 2 parts by weight, Amicure VDH-J (Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.) 10 parts by weight 3 parts by weight of KBM403 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 30 parts by weight of SO-C1 (manufactured by Admatechs Co., Ltd.) using a planetary stirrer (Awatori Kentaro: manufactured by Shinky Corporation) A sealant was prepared by mixing using this roll.
A liquid crystal display panel was produced in the same manner as in Example 1 except that the prepared sealant according to Comparative Example 2 was used.
In addition, the (meth) acryloyl group which occupies for the reactive functional group which exists in curable resin of the sealing compound prepared in the comparative example 2 was 40 mol%.
(評価)
作製した実施例1、2、4〜6及び比較例1〜3にかかるシール剤、及び、液晶表示素子について、以下の評価を行った。
(Evaluation)
The following evaluation was performed about the produced sealing agent concerning Examples 1, 2 , 4-6, and Comparative Examples 1-3 , and a liquid crystal display element.
(1)蛍光灯下安定性
得られたそれぞれのシール剤を蛍光灯の下12時間放置して粘度変化を調べた。
結果を表1に示す。なお、表2中、粘度変化が2倍以下のものを○、粘度変化が2倍以上のものを×と示した。
(1) Stability under fluorescent lamp Each of the obtained sealing agents was allowed to stand under a fluorescent lamp for 12 hours, and the change in viscosity was examined.
The results are shown in Table 1. In Table 2, those having a viscosity change of 2 times or less were shown as ◯, and those having a viscosity change of 2 times or more were shown as x.
(2)接着強度
得られたそれぞれのシール剤100重量部に対して、平均粒径5μmのポリマービーズ(積水化学工業株式会社製;ミクロパールSP)3重量部を遊星式撹拌装置によって分散させ均一な液とし、極微量をコーニングガラス1737(20mm×50mm×1.1mmt)の中央部に取り、同型のガラスをその上に重ね合わせてシール剤を押し広げ、紫外線を50mW/cm2で60秒照射した。その後120℃、1時間の加熱を行い、接着試験片を得た。この試験片についてテンションゲージを用いて接着強度を測定した(比較単位;N/cm2)。
結果を表1に示す。
(2) Adhesive strength 3 parts by weight of polymer beads having an average particle diameter of 5 μm (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd .; Micropearl SP) are dispersed with a planetary stirrer with respect to 100 parts by weight of each obtained sealant. A very small amount is placed in the center of Corning glass 1737 (20 mm x 50 mm x 1.1 mmt), and the same type of glass is placed on top of it to spread the sealant. Ultraviolet rays are applied at 50 mW / cm 2 for 60 seconds. Irradiated. Thereafter, heating was performed at 120 ° C. for 1 hour to obtain an adhesion test piece. The adhesive strength of this test piece was measured using a tension gauge (comparative unit: N / cm 2 ).
The results are shown in Table 1.
(3)UV照射後パターン下アクリロイル基転化率の測定(図1参照)
まず、コーニングガラス0.7mmtの半面をクロム蒸着した基板1と前面をクロム蒸着した基板2とを別途準備した(図1(a))。基板1の中央部Aにポリマービーズ入りシール剤を塗布し、基板2を貼り合わせてから充分に押しつぶす(図1(b))。
次に、合わせた基板に基板1面側から紫外線を50mW/cm2で60秒照射した後、カッターを用いて基板1、2を破がし、顕微IR法によってUV直接照射部(場所1)と直接照射部の際から100μm離れた点(場所2)、200μm離れた点(場所3)、300μm離れた点(場所4)上のシール剤のスペクトルを測定し、それぞれのスペクトルからシール剤中のアクリル官能基の転化率を求めた(図1(c))。
なお、アクリル官能基の定量は810m−1のピーク面積を用いた。
結果を表1に示す。
(3) Measurement of acryloyl group conversion under pattern after UV irradiation (see FIG. 1)
First, a substrate 1 on which a half surface of Corning glass 0.7 mmt was vapor-deposited with chromium and a substrate 2 on which the front surface was vapor-deposited with chromium were separately prepared (FIG. 1A). A sealant containing polymer beads is applied to the central portion A of the substrate 1 and the substrate 2 is bonded together and then sufficiently crushed (FIG. 1B).
Next, after irradiating the combined substrate with ultraviolet rays from the surface of the substrate 1 at 50 mW / cm 2 for 60 seconds, the substrates 1 and 2 were torn using a cutter, and the UV direct irradiation part (place 1) by the microscopic IR method. Measure the spectrum of the sealant at a point 100 μm away from the direct irradiation part (place 2), 200 μm away (place 3), and 300 μm away (place 4). The conversion rate of the acrylic functional group was determined (FIG. 1 (c)).
In addition, the quantification of the acrylic functional group used a peak area of 810 m −1 .
The results are shown in Table 1.
(4)パネル表示ムラ評価
実施例1、2、4〜6及び比較例1〜3で得られた液晶表示パネルについて、シール部周辺の液晶に生じる色むらを、下記の基準にて目視にて観察した。
◎(色むらが全くない)
○(色むらがほとんどない)
△(少し色むらがある)
×(色むらがかなりある)
結果を表1に示す。
(4) Panel display unevenness evaluation
For the liquid crystal display panels obtained in Examples 1, 2 , 4 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 , color unevenness generated in the liquid crystal around the seal portion was visually observed according to the following criteria.
◎ (No color irregularity)
○ (There is almost no uneven color)
△ (Slight color irregularity)
× (There is considerable color unevenness)
The results are shown in Table 1.
本発明によれば、滴下工法による液晶表示素子の製造において、液晶滴下工法用シール剤に光が直接照射されない箇所があっても充分に硬化させることができ、また、硬化させる際に照射する紫外線により液晶が劣化することがなく、液晶表示素子の高表示品位及び高信頼性を実現することができる液晶滴下工法用シール剤、上下導通材料、及び、これらを用いてなる液晶表示素子を提供することができる。 According to the present invention, in the production of a liquid crystal display element by the dropping method, the sealing agent for the liquid crystal dropping method can be sufficiently cured even if there is a portion where the light is not directly irradiated, and the ultraviolet ray irradiated when curing is performed. Provides a liquid crystal dropping method sealing agent capable of realizing high display quality and high reliability of the liquid crystal display element without deterioration of the liquid crystal, a vertical conduction material, and a liquid crystal display element using the same. be able to.
Claims (5)
前記ラジカル重合開始剤は、アセトニトリル中で測定した350nmにおけるモル吸光係数が100〜10万M −1 ・cm −1 であり、前記硬化性樹脂に含まれる反応性官能基の60mol%以上が(メタ)アクリロイル基であり、
前記硬化性樹脂は、(メタ)アクリル酸とレゾルシノール型エポキシ樹脂とを反応させることにより得られ、該レゾルシノール型エポキシ樹脂の全てのエポキシ基をアクリロイル基に変成したエポキシ(メタ)アクリレートを含有し、
前記硬化性樹脂は、エポキシ樹脂としてビスフェノールA型エポキシ樹脂を含有する
ことを特徴とする液晶滴下工法用シール剤。 A radical polymerization initiator that generates an active radical by irradiating light, a curable resin, and a sealing agent for liquid crystal dropping method containing a solid organic acid hydrazide,
The radical polymerization initiator has a molar extinction coefficient at 350 nm measured in acetonitrile of 100 to 100,000 M −1 · cm −1 , and 60 mol% or more of the reactive functional group contained in the curable resin (meta ) An acryloyl group,
The curable resin is obtained by reacting (meth) acrylic acid with a resorcinol type epoxy resin, and contains an epoxy (meth) acrylate in which all the epoxy groups of the resorcinol type epoxy resin are converted into acryloyl groups,
The curable resin, the liquid crystal dropping process sealant you wherein <br/> that contain bisphenol A type epoxy resin as an epoxy resin.
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