JP5555772B2 - ランダムに分枝したコポリマー、その調製及びコーティング材料中のレベリング剤としてのその使用 - Google Patents
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Description
(a)直鎖、分枝鎖又は環状のC1−C22アルキルモノアルコールの少なくとも1種のアクリル酸エステル10〜98.9モル%、
(b)少なくとも1種のポリエチレン性不飽和モノマー0.1〜10モル%、及び
(c)場合により、直鎖、分枝鎖又は環状のC1−C22アルキルモノアルコールのアクリル酸エステルと異なり且つ式(I)の化合物と異なるモノエチレン性不飽和モノマーの1種以上、
を、以下の存在下
(d)式(I)の少なくとも1種の化合物の1〜10モル%
H3C−CRaRc−CH2−CRb=CH2 (I)
(式中、Ra及びRbは互いに独立して、アリール、CN又はCOOR1(R1=H、アルキル、アリール又はアラルキル)であり、Rc=アルキル、アリール又はアラルキルである)、及び
フリーラジカル重合の少なくとも1種の開始剤の存在下で、フリーラジカル重合において反応させることを特徴とし、成分(a)、(b)、(c)、及び(d)の上記モル分率は合計で100モル%になり、かつ成分(b)のモル分率は成分(d)のモル分率を超えない方法により解決できることを見出した。
(a)直鎖、分枝鎖又は環状のC1−C22アルキルモノアルコールの少なくとも1種のアクリル酸エステル10〜98.9モル%、
(b)少なくとも1種のポリエチレン性不飽和モノマー0.1〜10モル%、及び
(c)任意に、直鎖、分枝鎖又は環状のC1−C22アルキルモノアルコールのアクリル酸エステルと異なり且つ式(I)の化合物と異なるモノエチレン性不飽和モノマー、
を、以下の存在下で
(d)式(I)の少なくとも1種の化合物1〜10モル%:
H3C−CRaRc−CH2−CRb=CH2 (I)
(式中、Ra及びRbは互いに独立して、アリール、CN又はCOOR1(R1=H、アルキル、アリール又はアラルキルである)であり、Rc=アルキル、アリール又はアラルキルである)、及び
少なくとも1種のフリーラジカル重合の開始剤の存在下で、フリーラジカル重合で反応させ、ここで成分(a)、(b)、(c)、及び(d)の上記モル分率は合計で100モル%であり、及び成分(b)のモル分率は成分(d)のモル分率を超えない。
1〜22個のC原子を含む直鎖又は分枝鎖のアルコールのメタクリル酸エステル、例えば
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n−ブチル及びイソブチルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、ベヘニルメタクリレート;脂環式メタクリレート、例えばシクロヘキシルメタクリレート及びイソボルニルメタクリレート;アラルキル(メタ)アクリレート、例えばベンジル(メタ)アクリレート;上記したアルキル,シクロアルキル又はアラルキル基を有するイタコン酸エステル及びマレイン酸エステルである。
アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、及びイタコン酸;
2〜36個のC原子を有する直鎖、分枝鎖又は脂環式のジオールのヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、例えば3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、3,4−ジヒドロキシブチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2,5−ジメチル−1,6−ヘキサンジオールモノメタクリレート;
5〜80個のC原子を有するエーテル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール又は混合ポリエチレン/プロピレングリコールの(メタ)アクリレート、例えばテトラヒドロフルフリルメタクリレート、メトキシエトキシエチルメタクリレート、1−ブトキシプロピルメタクリレート、1−メチル−(2−ビニルオキシ)エチルメタクリレート、シクロヘキシルオキシメチルメタクリレート、メトキシメトキシエチルメタクリレート、ベンジルオキシメチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、2−ブトキシエチルメタクリレート、2−エトキシエトキシメチルメタクリレート、2−エトキシエチルメタクリレート、1−エトキシブチルメタクリレート、メトキシメチルメタクリレート、1−エトキシエチルメタクリレート、エトキシメチルメタクリレート、ポリ(エチレングリコール)メチルエーテル(メタ)アクリレート、ポリ(プロピレングリコール)メチルエーテル(メタ)アクリレート;
グリシドキシプロピルメタクリレート;
220〜1200g/モルの平均分子量を有するカプロラクトン及び/又はバレロラクトン修飾ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートであって、ヒドロキシ(メタ)アクリレートが、好ましくは2〜8個のC原子を有する直鎖、分枝鎖又は脂環式のジオールに由来するもの;並びに
共重合に適する他のモノエチレン性不飽和モノマー、例えばスチレン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、及びビニルエーテル、例えばエチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、及びシクロヘキシルビニルエーテルを包含する。
H3C−CRaRc−CH2−CRb=CH2 (I)
(式中Ra及びRbは互いに独立して、アリール,CN又はCOOR1(R1=H、アルキル、アリール又はアラルキルである)であり、Rc=アルキル、アリール又はアラルキルである)。
式(I)の化合物の例は、2,4−ジシアノペンタ−1−エン、2,4−ジシアノ−4−メチルペンタ−1−エン、2,4−ジフェニル−4−メチルペンタ−1−エン、2−シアノ−4−メチル−4−フェニルペンタ−1−エン、ジメチル2,2−ジメチル−4−メチレンペンタン−1,5−ジオエート及びジブチル2,2−ジメチル−4−メチレンペンタン−1,5−ジオエートである。化合物(d)においては、2,4−ジフェニル−4−メチルペンタ−1−エンを用いることが好ましい。
スターラー、温度計、還流コンデンサー、滴下漏斗、及び窒素導入管を備えたガラスフラスコに100gのイソブタノールを入れる。反応中、内容物上に窒素を通過させる。反応温度が110℃まで上昇した後、7.6gの2,2’−アゾジ(2−メチルブチロニトリル)、9.3gの2,4−ジフェニル−4−メチルペンタ−1−エン、151.6gのn−ブチルアクリレート、28.5gのアクリル酸、及び4.7gのトリプロピレングリコールジアクリレートの混合物を150分にわたって均一な速度で計り入れる。添加終了後、反応温度をさらに120分間110℃に維持する。その後、0.5gの2,2’−アゾジ(2−メチルブチロニトリル)を30分間隔で3回添加する。添加終了後、反応温度をさらに120分間110℃に維持する。
その後、用いた溶媒をロータリーエバポレーターにて真空下での蒸留により除去する。固形分>98%である。
スターラー、温度計、還流コンデンサー、滴下漏斗、及び窒素導入管を備えたガラスフラスコに100gのイソブタノールを入れる。反応中、内容物上に窒素を通過させる。反応温度が110℃まで上昇した後、7.6gの2,2’−アゾジ(2−メチルブチロニトリル)、18.6gの2,4−ジフェニル−4−メチルペンタ−1−エン、151.6gのn−ブチルアクリレート、28.5gのアクリル酸、及び4.7gのトリプロピレングリコールジアクリレートの混合物を150分にわたって均一な速度で計り入れる。添加終了後、反応温度をさらに120分間110℃に維持する。その後、0.5gの2,2’−アゾジ(2−メチルブチロニトリル)を30分間隔で3回添加する。添加終了後、反応温度をさらに120分間110℃に維持する。
その後、用いた溶媒をロータリーエバポレーターにて真空下での蒸留により除去する。固形分>98%である。
スターラー、温度計、還流コンデンサー、滴下漏斗、及び窒素導入管を備えたガラスフラスコに5gの2,4−ジフェニル−4−メチルペンタ−1−エン及び41.6gの1−メトキシ−2−プロピルアセテートを入れる。反応中、内容物上に窒素を通過させる。反応温度が120℃まで上昇した後、4gの2,2’−アゾジ(2−メチルブチロニトリル)、51.6gのn−ブチルアクリレート、及び1.6gの1,6−ヘキサンジオールジアクリレートの混合物を120分にわたって均一な速度で計り入れる。添加終了後、反応温度をさらに120分間120℃に維持する。
固形分は60%である。
スターラー、温度計、分留塔、滴下漏斗、及び窒素導入管を備えたガラスフラスコに5gの2,4−ジフェニル−4−メチルペンタ−1−エン及び41.6gの1−メトキシ−2−プロピルアセテートを入れる。反応中、内容物上に窒素を通過させる。反応温度が120℃まで上昇した後、4gの2,2’−アゾジ(2−メチルブチロニトリル)、25.8gのn−ブチルアクリレート、及び1.6gの1,6−ヘキサンジオールジアクリレートの混合物を120分にわたって均一な速度で計り入れる。添加終了後、反応温度をさらに120分間120℃に維持する。
固形分は60%である。
スターラー、温度計、還流コンデンサー、滴下漏斗、及び窒素導入管を備えたガラスフラスコに100gのイソブタノールを投入する。反応中、内容物上に窒素を通過させる。反応温度が110℃まで上昇した後、)1.2gの2,2’−アゾジ(2−メチルブチロニトリル、3gの2,4−ジフェニル−4−メチルペンタ−1−エン、74.8gの2−エチルヘキシルアクリレート、103gのBISOMER(登録商標)MPEG550MA(数平均分子量628g/モルを有する Cognis から入手できるメタクリル酸のモノメチルポリエチレングリコールエステル)、2.25gのアクリル酸、及び0.6gのトリプロピレングリコールジアクリレートの混合物を180分にわたって均一な速度で計り入れる。添加終了後、反応温度をさらに120分間110℃に維持する。その後、0.5gの2,2’−アゾジ(2−メチルブチロニトリル)を30分間隔で3回添加する。添加終了後、反応温度をさらに120分間110℃に維持する。
その後、用いた溶媒をロータリーエバポレーターにて真空下での蒸留により除去する。固形分>98%である。
スターラー、温度計、還流コンデンサー、滴下漏斗、及び窒素導入管を備えたガラスフラスコに5gの2,4−ジフェニル−4−メチルペンタ−1−エン及び41.6gの1−メトキシ−2−プロピルアセテートを入れる。反応中、内容物上に窒素を通過させる。反応温度が120℃まで上昇した後、4gの2,2’−アゾジ(2−メチルブチロニトリル)、51.6gのn−ブチルアクリレート、及び10gのジアクリレート官能基を有するポリジメチルシロキサンAB172305(製造元:ABCR、Mn=約1400g/モル)の混合物を120分にわたって均一な速度で計り入れる。添加終了後、反応温度をさらに120分間120℃に維持する。
固形分は60%である。
スターラー、温度計、還流コンデンサー、滴下漏斗、及び窒素導入管を備えたガラスフラスコに100gのイソブタノールを投入する。反応中、内容物上に窒素を通過させる。反応温度が110℃まで上昇した後、7.6gの2,2’−アゾジ(2−メチルブチロニトリル)、151.6gのn−ブチルアクリレート、及び28.5gのアクリル酸の混合物を150分にわたって均一な速度で計り入れる。添加終了後、反応温度をさらに270分間110℃に維持する。その後、0.5gの2,2’−アゾジ(2−メチルブチロニトリル)を30分間隔で3回添加する。添加終了後、反応温度をさらに120分間110℃に維持する。その後、用いた溶媒をロータリーエバポレーターにて真空下での蒸留により除去する。
固形分>98%である。
スターラー、温度計、還流コンデンサー、滴下漏斗、及び窒素導入管を備えたガラスフラスコに100gのイソブタノールを入れる。反応中、内容物上に窒素を通過させる。反応温度が110℃まで上昇した後、7.6gの2,2’−アゾジ(2−メチルブチロニトリル)、9.3gの2,4−ジフェニル−4−メチルペンタ−1−エン、151.6gのn−ブチルアクリレート、及び28.5gのアクリル酸の混合物を150分にわたって均一な速度で計り入れる。添加終了後、反応温度をさらに270分間110℃に維持する。その後、0.5gの2,2’−アゾジ(2−メチルブチロニトリル)を30分間隔で3回添加する。添加終了後、反応温度をさらに120分間110℃に維持する。その後、用いた溶媒をロータリーエバポレーターにて真空下での蒸留により除去する。
固形分>98%である。
スターラー、温度計、還流コンデンサー、滴下漏斗、及び窒素導入管を備えたガラスフラスコに119gのイソブタノールを投入する。反応中、内容物上に窒素を通過させる。反応温度が110℃まで上昇した後、1.2gの2,2’−アゾジ(2−メチルブチロニトリル)、74.8gの2−エチルヘキシルアクリレート、103gのBISOMER(登録商標)MPEG550MA、及び2.25gのアクリル酸の混合物を180分にわたって均一な速度で計り入れる。添加終了後、反応温度をさらに120分間110℃に維持する。その後、0.1gの2,2’−アゾジ(2−メチルブチロニトリル)を30分間隔で3回添加する。添加終了後、反応温度をさらに120分間110℃に維持する。その後、用いた溶媒をロータリーエバポレーターにて真空下での蒸留より除去する。
固形分>98%である。
スターラー、温度計、還流コンデンサー、滴下漏斗、及び窒素導入管を備えたガラスフラスコに118gのイソブタノールを入れる。反応中、内容物上に窒素を通過させる。反応温度が110℃まで上昇した後、1.2gの2,2’−アゾジ(2−メチルブチロニトリル)、1.5gの2,4−ジフェニル−4−メチルペンタ−1−エン、74.8gの2−エチルヘキシルアクリレート、103gのBISOMER(登録商標)MPEG550MA、及び2.25gのアクリル酸の混合物を180分にわたって均一な速度で計り入れる。添加終了後、反応温度をさらに120分間110℃に維持する。その後、0.5gの2,2’−アゾジ(2−メチルブチロニトリル)を30分間隔で3回添加する。添加終了後、反応温度をさらに120分間110℃に維持する。
その後、使用した溶媒をロータリーエバポレーターにて真空下での蒸留により除去する。固形分>98%である。
Liopur 2004-119 34.70g ポリウレタン分散液、製造元:Synthopol
BYK425(水中10%) 0.30g レオロジー調節剤、製造元:Byk
水 6.65g
ブチルグリコール 5.95g
BYK-093 0.40g 消泡剤、製造元:Byk
Liocryl AS-680 52.00g スチレン−アクリレート分散液、
入手元:Synthopol
100.00g
BYK-425(水中10%) 0.50g
Dowanol PnB 1.80g ブトキシプロパノール、製造元:Dow
Texanol 3.50g 融合助剤、製造元:Eastman
水 4.10g
BYK-028 0.40g 消泡剤、製造元:BykChemie
100.00g
溶媒含有白色ポリエステル/メラミン焼付けワニス
Uralac SN 831 16.7g ポリエステルバインダー、製造元:DSM
メトキシプロピルアセテート 5g
Disperbyk 174 0.9g 湿潤分散剤、製造元:Byk
Byk-057 0.5g 消泡剤、製造元:Byk
Aerosil R972 0.3g 溶融シリカ、製造元:Degussa
TI-pure R 960 30g 二酸化チタン、製造元:DuPont
ミルベース:ガラスビーズ1:1
Uralac SN 831 33.3g
Cymel 303 7.5g メラミン誘導体、製造元:Cytec
Dynapol Catalyst 1203 1.9g ブロックスルホン酸誘導体(Evonik)
Solvesso 150 2.1g 溶媒、製造元:ExxonMobil
ブチルジグリコールアセテート 1.8g
以下の表の通りコポリマー/レベリング剤0.3又は0.7g、各々レベリング剤の固形分に対して計算(即ち用いるレベリング剤の量を、0.3又は0.7gのコポリマーをそれぞれ含有するように選択した)。
Uralac P5127 28.5g ポリエステル樹脂、DSM
DER 663 UE 28.5g エポキシ樹脂、Dow
Kronos 2160 28.5g ニ酸化チタン、Kronos
Blanc fixe 14.2g 硫酸バリウム、Sachtleben
ベンゾイン 0.3g DSM
レベリング剤 0.15g 以下の表の通り、各レベリング剤の固形分に対して計算
次に得られた粉末コーティング混合物をアルミパネル(サイズ:152mm×76mm、厚さ0.5mm)に静電塗装し、コーティングされたパネルを11分間190℃で硬化させた。
膜厚: 80〜90μm 60〜70μm
レベリング剤:
比較例3 3 3
実施例3 1 2
実施例4 1 1
1=クレーター無しの表面
2=僅かにクレーターを有する表面
3=一部は基板にまで達する明らかなクレーターを有する表面
Uralac P865 94.1g ポリエステル樹脂、DSM
Primid XL-552 4.9g ヒドロキシアルキルアミド架橋剤、EMS-Chemie
ベンゾイン 0.5g DSM
レベリング剤 0.5g
レベリングを、BYK-Gardner から入手したウエーブスキャンDOIを用いて、長波及び短波の測定により測定した。
Claims (18)
- 以下の成分:
(a)直鎖、分枝鎖又は環状のC1−C22アルキルモノアルコールの少なくとも1種のアクリル酸エステル10〜98.9モル%、
(b)少なくとも1種のポリエチレン性不飽和モノマー0.1〜10モル%、及び
(c)任意に、直鎖、分枝鎖又は環状のC1−C22アルキルモノアルコールのアクリル酸エステルと異なりかつ式(I)の化合物とは異なる1種以上のモノエチレン性不飽和モノマー、
を、
(d)式(I):
H3C−CRaRc−CH2−CRb=CH2 (I)
(式中、Ra及びRbは互いに独立してアリール、CN又はCOOR1(但しR1=H、アルキル、アリール又はアラルキル)、Rc=アルキル、アリール又はアラルキルである)の少なくとも1種の化合物1〜10モル%の存在下、及び少なくとも1種のフリーラジカル重合開始剤の存在下で、フリーラジカル重合において反応させ、ここで成分(a)、(b)、(c)、及び(d)の前記モル分率は合計で100モル%になり、かつ成分(b)のモル分率は成分(d)のモル分率を超えないことを特徴とするランダムに分枝したコポリマーを調製する方法。 - 前記成分(a)のモル分率が40〜98.8モル%であることを特徴とする請求項1記載の方法。
- 前記成分(b)のモル分率が0.1〜5モル%であることを特徴とする請求項1及び2のいずれかに記載の方法。
- 前記成分(c)のモル分率が0.1〜50モル%であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の方法。
- 前記成分(d)のモル分率が1〜5モル%であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の方法。
- 2,4−ジフェニル−4−メチルペンタ−1−エンを成分(d)に用いることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の方法。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の方法により調製できるランダムに分枝したコポリマー。
- 前記コポリマーの数平均分子量が1500〜200000g/モルであることを特徴とする請求項7記載のコポリマー。
- 前記コポリマーの数平均分子量が5000〜75000g/モルであることを特徴とする請求項7記載のコポリマー。
- 前記コポリマーの数平均分子量が7500〜50000g/モルであることを特徴とする請求項7記載のコポリマー。
- コーティング材料中のレベリング剤としての請求項7〜10のいずれかに記載のコポリマーの使用。
- 前記コポリマーを、コーティング材料中、各々の場合において総コーティング材料に基づいて0.01〜5重量%の割合で用いることを特徴とする請求項11記載の使用。
- 前記コポリマーを、コーティング材料中、各々の場合において総コーティング材料に基づいて0.05〜2重量%の割合で用いることを特徴とする請求項11記載の使用。
- 前記コポリマーを、コーティング材料中、各々の場合において総コーティング材料に基づいて0.1〜1重量%の割合で用いることを特徴とする請求項11記載の使用。
- 前記コーティング材料が粉末コーティング材料であることを特徴とする請求項11〜14のいずれかに記載の使用。
- 請求項7〜10のいずれかに記載の少なくとも1種のコポリマーを含むコーティング材料。
- コーティング材料が粉末コーティング材料であることを特徴とする請求項16に記載のコーティング材料。
- 請求項7〜10のいずれかに記載の少なくとも1種のコポリマーを含むコーティング材料のためのレベリング剤。
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