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JP5540971B2 - Contact, connecting jig, and method of manufacturing contact - Google Patents

Contact, connecting jig, and method of manufacturing contact Download PDF

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JP5540971B2 JP2010171763A JP2010171763A JP5540971B2 JP 5540971 B2 JP5540971 B2 JP 5540971B2 JP 2010171763 A JP2010171763 A JP 2010171763A JP 2010171763 A JP2010171763 A JP 2010171763A JP 5540971 B2 JP5540971 B2 JP 5540971B2
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Description

本発明は、対象物に予め設定される対象点と検査装置等とを電気的に接続する接続治具に用いられる絶縁被覆を有する接触子やこの接触子の製造方法に関する。   The present invention relates to a contactor having an insulating coating used for a connecting jig for electrically connecting a target point set in advance to an object and an inspection device, and a method for manufacturing the contactor.

接続治具は、接触子(プローブ、探針、接触ピン等)を備えていて、それらを経由して、対象物に予め設定される対象点に、検査装置等から電流或いは電気信号を供給するとともに、その対象点から電気信号を検出することによって、対象点間の電気的特性を検出して、導通検査やリーク検査や動作試験等をする。   The connection jig includes a contact (probe, probe, contact pin, etc.), and supplies a current or an electric signal from an inspection device or the like to a target point set in advance on the target via them. At the same time, by detecting an electrical signal from the target point, an electrical characteristic between the target points is detected, and a continuity test, a leak test, an operation test and the like are performed.

その対象物としては、例えば、プリント配線基板、フレキシブル基板、セラミック多層配線基板、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ用の電極板又は半導体パッケージ用のパッケージ基板やフィルムキャリアなど種々の基板や、半導体ウェハや半導体チップやCSP (chip size package)などの半導体装置(LSI(Large Scale Integration)など)が該当する。尚、この接触子は、上記の対象物と装置とを電気的に接続することを目的とすることもでき、更に、インターポーザやコネクタのように電極端と電極端とを接続する接続治具としても採用することができる。   Examples of such objects include printed wiring boards, flexible boards, ceramic multilayer wiring boards, electrode boards for liquid crystal displays and plasma displays, package boards for semiconductor packages and film carriers, semiconductor wafers and semiconductor chips. And semiconductor devices such as LSI (Large Scale Integration) such as CSP (chip size package). In addition, this contactor can also aim at electrically connecting said target object and apparatus, and also as a connection jig which connects an electrode end and an electrode end like an interposer and a connector. Can also be adopted.

本明細書では、上記の対象物を総称して「対象物」と称し、対象物に設定されるとともに接触子が当接して導通状態となる部位を単に「対象点」と称する。尚、対象点と対象点とで挟まれる部位は「対象点間」として設定されることになる。   In the present specification, the above-described objects are collectively referred to as “objects”, and a portion that is set as an object and is brought into a conductive state upon contact with a contactor is simply referred to as “object point”. Note that the portion sandwiched between the target points is set as “between target points”.

対象物が、LSIである場合には、LSIに形成される電子回路が対象部となり、この電子回路の表面パッドが夫々対象点となる。この場合には、LSIに形成される電子回路が所望の電気的特性を有していることを保証するために、対象点間の電気的特性を測定して、この電子回路の良否を判断する。   When the object is an LSI, an electronic circuit formed on the LSI is a target portion, and each surface pad of the electronic circuit is a target point. In this case, in order to ensure that the electronic circuit formed in the LSI has the desired electrical characteristics, the electrical characteristics between the target points are measured to judge the quality of the electronic circuit. .

また、対象物が、電気・電子部品を搭載する基板である場合には、基板に形成された配線が対象部となり、この配線の両端が対象点となる。この場合には、対象部となる配線が、それらに電気信号を正確に伝達できることを保証するため、電気・電子部品を実装する前の配線基板に形成された配線上の所定の対象点間の抵抗値やリーク電流等の電気的特性を測定して、その配線の良否を判断する。   Further, when the object is a substrate on which electric / electronic components are mounted, the wiring formed on the substrate is the target portion, and both ends of the wiring are the target points. In this case, in order to ensure that the wiring as the target part can accurately transmit the electrical signal to them, between the predetermined target points on the wiring formed on the wiring board before mounting the electric / electronic component. The electrical characteristics such as resistance value and leakage current are measured to judge the quality of the wiring.

具体的には、その配線の良否の判定は、各対象点に、電流供給用及び/又は電圧測定用の接触子の先端を当接させて、電流供給用の接触子から対象点に測定用電流を供給するとともに対象点に当接させた電圧測定用の接触子の先端間の配線に生じた電圧を測定し、それらの供給電流と測定した電圧とから所定の対象点間における配線の抵抗値を算出することによって行う。   Specifically, the judgment of the quality of the wiring is made by measuring the current supply contact point to the target point by bringing the tip of the current supply contact point and / or the voltage measurement contact point into contact with each target point. Measure the voltage generated in the wiring between the tips of the voltage measurement contacts that supply current and contact the target point, and determine the resistance of the wiring between the predetermined target points based on the supply current and the measured voltage. This is done by calculating the value.

例えば、基板検査装置を用いて上記のいずれかの基板の検査を行う場合には、治具移動手段によって基板接続治具の検査用の接触子を被検査基板の対象点まで移動させて、基板に当接させて対象物の所定の検査を行い、検査が終了すると、治具移動手段により治具を対象点から待機位置まで移動させる、という制御が行われる。   For example, when any of the above-described substrates is inspected using a substrate inspection apparatus, the substrate connecting jig inspection contact is moved to the target point of the substrate to be inspected by the jig moving means. When the inspection is completed, the jig is moved from the target point to the standby position by the jig moving means.

2004−115838号公報2004-115838 2008−25833号公報2008-25833 2009−160722号公報2009-160722

特許文献1は、線形素材の外周面に金めっき層を形成し、その上にさらにニッケルめっき層を形成した後に、線形素材を引っ張って線形素材の断面積を小さくする等によって、線形素材を除去することによって、ニッケル電鋳パイプを製造する方法を開示する。   In Patent Document 1, after forming a gold plating layer on the outer peripheral surface of a linear material and further forming a nickel plating layer thereon, the linear material is removed by pulling the linear material to reduce the cross-sectional area of the linear material. A method of manufacturing a nickel electroformed pipe is disclosed.

特許文献2は、SUS線の外周面に絶縁被覆を形成し、それにレーザによりらせん状の溝を形成してSUS線の外周面を露出させ、そこに絶縁被覆と同じ厚さのニッケル被膜を形成し、それから、絶縁被覆を除去するとともにSUS線を引きぬいてコイル状スプリング構造を一部に備えるニッケル電鋳パイプを製造する方法を開示する。   In Patent Document 2, an insulating coating is formed on the outer peripheral surface of the SUS wire, and a spiral groove is formed on the outer surface of the SUS wire to expose the outer peripheral surface of the SUS wire, and a nickel coating having the same thickness as the insulating coating is formed there. Then, a method of manufacturing a nickel electroformed pipe having a coil spring structure in part by removing the insulation coating and pulling off the SUS wire is disclosed.

特許文献3は、マイクロパイプを別に製造し、そのマイクロパイプの外周面にレジスト膜を形成し、そのレジスト膜に、例えば現像によりらせん状に感光部分を溶かしてらせんスペースパターンを形成するとともに、そのマイクロパイプを周回するスペースパターンを所定間隔で形成し、それをエッチング処理することによって、スペースパターンで分断された複数のマイクロコイルを同時に形成する方法を開示する。   Patent Document 3 separately manufactures a micropipe, forms a resist film on the outer peripheral surface of the micropipe, forms a helical space pattern on the resist film by, for example, developing a helical portion by dissolving the photosensitive portion in a spiral shape, Disclosed is a method of simultaneously forming a plurality of microcoils separated by a space pattern by forming a space pattern that circulates around a micropipe at predetermined intervals and etching it.

近年、LSIの形成プロセスが向上し、LSIの微細化が推進され、LSI検査用パッドの狭ピッチ化や多数化が進んだことにより、検査対象のLSIやそれを搭載する基板の複雑化や微細化がより進み、検査対象に設定される対象点がより狭く又は小さく形成されるようになったため、接触子がより細く形成されている。このため、多数の微細な接触子をより効率よく製造することが求められている。接触子には、隣接配置される接触子同士が接触して短絡することを防止するために、接触子表面に絶縁膜を形成することが好ましいが、接触子が微細になればなるほど、この絶縁膜を形成することも極めて困難となる。   In recent years, LSI formation processes have been improved, LSI miniaturization has been promoted, and LSI inspection pads have become narrower and more numerous, resulting in more complex and finer LSIs to be inspected and substrates on which they are mounted. Since the target point set as the inspection target is narrower or smaller, the contact is formed thinner. For this reason, it is required to manufacture a large number of fine contacts more efficiently. It is preferable to form an insulating film on the contact surface in order to prevent adjacent contacts from contacting each other and short-circuiting the contacts, but the smaller the contacts, the more this insulation becomes. It is also very difficult to form a film.

特許文献1及び2には、線形素材やSUS線を除去した段階で、微細なニッケル電鋳パイプやコイル状スプリング構造を一部に備えるニッケル電鋳パイプを製造する方法が開示されている。しかし、その製造されたニッケル電鋳パイプから接続治具に取り付けられる接触子を製造するためには、さらに、そのパイプを接触子に適した長さに切断したり、接続治具との係止部を形成したりする等の追加の工程が必要である。   Patent Documents 1 and 2 disclose a method of manufacturing a nickel electroformed pipe partially including a fine nickel electroformed pipe or a coiled spring structure at the stage where a linear material or SUS wire is removed. However, in order to manufacture a contact that can be attached to a connecting jig from the manufactured nickel electroformed pipe, the pipe is further cut to a length suitable for the contact or locked with the connecting jig. An additional process such as forming a part is required.

また、特許文献3には、特許文献1等によりマイクロパイプを製造した後に、追加の工程によってマイクロコイルを製造する方法が開示されている。そのマイクロコイルから接続治具に取り付けられる接触子を製造するためには、さらに、特許文献1及び2に関連して上述したような追加の工程が必要である。   Patent Document 3 discloses a method of manufacturing a microcoil through an additional process after manufacturing a micropipe according to Patent Document 1. In order to manufacture the contact attached to the connecting jig from the microcoil, an additional process as described above in connection with Patent Documents 1 and 2 is further required.

そこで、本発明は、線形素材やSUS線を取り除いた段階で、追加の工程を必要とすることなく製造される、絶縁膜を有する接続治具に取り付けられる接触子を提供することを目的とする。   Then, this invention aims at providing the contactor attached to the connection jig | tool which has an insulating film manufactured without requiring an additional process in the step which removed the linear material and the SUS wire. .

また、本発明は、線形素材やSUS線を取り除いた段階で、追加の工程を必要とすることなく接続治具に取り付けられる絶縁膜を有する接触子の製造方法を提供することを目的とする。   Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a contact having an insulating film that is attached to a connecting jig without requiring an additional process at the stage where a linear material or SUS wire is removed.

さらに、本発明は、線形素材やSUS線を取り除いた段階で、追加の工程を必要とすることなく接続治具に取り付けられる絶縁膜を有する接触子の高い量産性を有する製造方法を提供することを目的とする。   Furthermore, the present invention provides a manufacturing method having high mass productivity of a contact having an insulating film attached to a connecting jig without requiring an additional process at the stage of removing a linear material or SUS wire. With the goal.

請求項1記載の発明は、対象物に設けられる対象点に電気的に接続される接続治具に組み込まれる接触子であって、導電性材料のめっき層からなる円筒形状管を備え、前記円筒形状管が、両端から対向する向きに所定の長さにわたる先端部及び後端部と、前記先端部と後端部との間に形成された、長軸方向のらせん状の壁面を有するばね部と、前記ばね部が、前記らせん状の壁面に沿って形成される絶縁層を有し、前記ばね部に形成されるめっき層と前記絶縁層の境界面が段差無く形成され、前記ばね部に形成される絶縁層は、前記境界面上に端面が形成され、該円筒形状管の短軸方向外側に広がるテーパ形状を有していることを特徴とする接触子を提供する。
請求項2記載の発明は、前記ばね部に形成される絶縁層は、前記めっき層の端面に対しオーバーハングしていることを特徴とする請求項1記載の接触子を提供する。
請求項3記載の発明は、前記接触子は、前記ばね部の外径が30から100μmであることを特徴とする請求項1又は2に記載の接触子を提供する。
請求項4記載の発明は、前記接触子は、前記めっき層が金めっき層とニッケルめっき層の積層構造を有していることを特徴とする請求項1記載の接触子を提供する。
請求項5記載の発明は、対象物に設けられる対象点に電気的に接続される治具であって、請求項1乃至4いずれかに記載の複数の接触子と、前記複数の接触子の前記先端部が挿通される孔を有するとともに、該複数の接触子の前記後端部が挿通される孔を有するヘッドプレートと前記複数の接触子の前記後端部に電気的に接続するための電極を備えるベースプレートとを備える接続治具を提供する。
請求項6記載の発明は、対象物の対象部に電気的に接続される接続治具に組み込まれる接触子を製造する方法であって、芯材の周囲に非導電性材料の非導電性層を形成する工程と、前記非導電性層の一部を除去して、周回する周状突部を形成するとともに、隣り合う周状突部の間にらせん状のらせん状突部を形成する工程と、前記周状突部と前記らせん状突部が形成された前記芯材に、導電性材料のめっき層が形成される工程と、前記芯材の前記導電性材料のめっき層に絶縁膜を形成する工程と、前記周状突部と前記らせん状突部を除去する工程と、前記周状突部の端面から所定の距離にわたって前記絶縁膜を除去して導電性材料のめっき層を露出させる工程と、前記芯材を除去する工程とを含む、接触子を製造する方法を提供する。
請求項7記載の発明は、前記非導電性層の一部を除去して、周回する周状突部を形成するとともに、隣り合う周状突部の間にらせん状のらせん状突部を形成する工程において、レーザを用いて該非導電性層の一部を除去して、該周状突部と該らせん状突部を形成することを特徴とする請求項6記載の接触子を製造する方法を提供する。
請求項8記載の発明は、前記周状突部の端面から所定の距離にわたって前記絶縁膜を除去して導電性材料のめっき層を露出させる工程において、レーザを用いて前記絶縁膜を除去することを特徴とする請求項6記載の接触子を製造する方法を提供する。
請求項9記載の発明は、前記芯材を除去する工程が終了すると前記接触子が複数製造されることを特徴とする請求項6記載の接触子を製造する方法を提供する。
請求項10記載の発明は、前記らせん状の絶縁膜の端面と前記めっき層の端面が段差無く形成されていることを特徴とする請求項6の接触子を製造する方法を提供する。
請求項11記載の発明は、前記接触子の外径が、30から100μmであることを特徴とする請求項6記載の接触子を製造する方法を提供する。
The invention according to claim 1 is a contactor incorporated in a connection jig electrically connected to a target point provided on an object, comprising a cylindrical tube made of a plating layer of a conductive material, the cylinder A spring part having a helical tube wall surface in the long axis direction formed between the tip part and the rear end part of the tip part and the rear end part extending in a predetermined length in a direction in which the shape tube faces from both ends And the spring part has an insulating layer formed along the helical wall surface, and a boundary surface between the plating layer and the insulating layer formed on the spring part is formed without a step, and the spring part has The formed insulating layer has an end surface formed on the boundary surface, and has a tapered shape spreading outward in the minor axis direction of the cylindrical tube.
According to a second aspect of the present invention, there is provided the contact according to the first aspect, wherein an insulating layer formed on the spring portion is overhanging with respect to an end face of the plating layer.
The invention according to claim 3 provides the contactor according to claim 1 or 2, wherein the contactor has an outer diameter of 30 to 100 μm.
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the contact according to the first aspect, wherein the plating layer has a laminated structure of a gold plating layer and a nickel plating layer.
Invention of Claim 5 is a jig | tool electrically connected to the object point provided in a target object, Comprising: The some contactor in any one of Claims 1 thru | or 4, The said some contactor A head plate having a hole through which the front end portion is inserted, and a head plate having a hole through which the rear end portion of the plurality of contacts is inserted, and electrically connected to the rear end portion of the plurality of contacts. A connection jig including a base plate including electrodes is provided.
The invention according to claim 6 is a method for manufacturing a contactor incorporated in a connecting jig that is electrically connected to an object part of an object, wherein a nonconductive layer of a nonconductive material is provided around a core material. And a step of removing a part of the non-conductive layer to form a circumferential protrusion that circulates and forming a helical spiral protrusion between adjacent circumferential protrusions And a step of forming a plating layer of a conductive material on the core material on which the circumferential protrusion and the spiral protrusion are formed, and an insulating film on the plating layer of the conductive material of the core material A step of forming, a step of removing the circumferential projection and the spiral projection, and removing the insulating film over a predetermined distance from an end surface of the circumferential projection to expose a plating layer of a conductive material Provided is a method for manufacturing a contactor including a step and a step of removing the core material.
According to a seventh aspect of the present invention, a part of the non-conductive layer is removed to form a circumferential projection that circulates, and a spiral projection is formed between adjacent circumferential projections. The method of manufacturing the contact according to claim 6, wherein in the step of performing, the part of the non-conductive layer is removed using a laser to form the circumferential protrusion and the spiral protrusion. I will provide a.
According to an eighth aspect of the present invention, in the step of removing the insulating film over a predetermined distance from the end face of the circumferential protrusion to expose the plating layer of the conductive material, the insulating film is removed using a laser. A method for producing a contact according to claim 6 is provided.
A ninth aspect of the invention provides a method for manufacturing a contact according to the sixth aspect, wherein a plurality of the contacts are manufactured when the step of removing the core material is completed.
A tenth aspect of the present invention provides the method of manufacturing the contact according to the sixth aspect, wherein the end face of the spiral insulating film and the end face of the plating layer are formed without a step.
The invention described in claim 11 provides the method of manufacturing the contact according to claim 6, wherein the outer diameter of the contact is 30 to 100 μm.

本発明によって、線形素材やSUS線を取り除いた段階で、追加の工程を必要とすることなく製造され、絶縁被膜を有し、接続治具に取り付けられる、ばねの荷重の大きさが高められた接触子を提供することができる。
本発明によると、線形素材やSUS線を取り除いた段階で、接続治具に保持されるための係止部を備え、ばねの荷重の大きさが高められた接触子を提供することができる。
また、本発明によると、線形素材やSUS線を取り除いた段階で、追加の工程を必要とすることなく接続治具に取り付けることができ、絶縁被膜を有し、ばねの荷重の大きさが高められた、接触子の製造方法を提供することができる。
さらに、本発明によると、線形素材やSUS線を取り除いた段階で、追加の工程を必要とすることなく接続治具に取り付けることができ、絶縁被膜を有し、ばねの荷重の大きさが高められた接触子の高い量産性を有する製造方法を提供することができる。
According to the present invention, when the linear material and the SUS wire are removed, the spring is manufactured without an additional process, has an insulating coating, and is attached to the connecting jig, thereby increasing the magnitude of the spring load. A contact can be provided.
According to the present invention, it is possible to provide a contact having an engaging portion for being held by the connecting jig at the stage where the linear material and the SUS wire are removed, and having an increased spring load.
In addition, according to the present invention, when the linear material or SUS wire is removed, it can be attached to the connecting jig without the need for an additional process, has an insulating coating, and increases the load of the spring. The manufacturing method of the contactor made can be provided.
Furthermore, according to the present invention, when the linear material or the SUS wire is removed, it can be attached to the connecting jig without requiring an additional process, has an insulating coating, and increases the load of the spring. The manufacturing method which has high mass productivity of the made contactor can be provided.

本発明に係る接触子を製造する段階における金めっき層を形成する工程の一実施例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Example of the process of forming the gold plating layer in the step which manufactures the contactor which concerns on this invention. 本発明に係る接触子を製造する段階における非導電性層を形成する工程の一実施例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Example of the process of forming the nonelectroconductive layer in the step which manufactures the contactor which concerns on this invention. 本発明に係る接触子を製造する段階における非導電性層の一部を除去する工程の一実施例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Example of the process of removing a part of nonelectroconductive layer in the step which manufactures the contactor which concerns on this invention. 本発明に係る接触子を製造する段階におけるニッケルめっき層を形成する工程の一実施例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Example of the process of forming the nickel plating layer in the step which manufactures the contactor which concerns on this invention. 本発明に係る接触子を製造する段階における絶縁膜を形成する工程の一実施例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Example of the process of forming the insulating film in the step which manufactures the contactor which concerns on this invention. 本発明に係る接触子を製造する段階における非導電性層を除去する工程の一実施例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Example of the process of removing a nonelectroconductive layer in the step which manufactures the contactor which concerns on this invention. 本発明に係る接触子を製造する段階における絶縁膜の一部を除去する工程の一実施例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Example of the process of removing a part of insulating film in the step which manufactures the contactor which concerns on this invention. 本発明に係る接触子を製造する段階における金めっき層の一部を除去する工程の一実施例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Example of the process of removing a part of gold plating layer in the step which manufactures the contactor which concerns on this invention. 本発明に係る接触子を製造する段階における芯材の引き伸ばし工程の一実施例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Example of the extending process of the core material in the step which manufactures the contactor which concerns on this invention. 本発明に係る接触子を製造する段階における芯材の引き抜き工程の一実施例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Example of the drawing process of the core material in the step which manufactures the contactor which concerns on this invention. (A)は本発明に係る接触子の一実施形態を示す正面図であり、(B)は、本発明に係る接触子の他の実施形態を示す正面図である。(A) is a front view which shows one Embodiment of the contactor which concerns on this invention, (B) is a front view which shows other embodiment of the contactor which concerns on this invention. 本発明に係る一実施形態の接触子を一実施形態の接続治具に取り付けた状態を説明するための概略構成図である。It is a schematic block diagram for demonstrating the state which attached the contact of one Embodiment which concerns on this invention to the connecting jig of one Embodiment. 図2(B)に示す本発明に係る一実施形態の接触子を他の実施形態に係る接続治具に取り付けた状態を説明するための概略構成図である。It is a schematic block diagram for demonstrating the state which attached the contact of one Embodiment which concerns on this invention shown to FIG. 2 (B) to the connection jig which concerns on other embodiment. 図2(B)に示す本発明に係る一実施形態の接触子を他の実施形態に係る接続治具に取り付けた状態を説明するための概略構成図である。It is a schematic block diagram for demonstrating the state which attached the contact of one Embodiment which concerns on this invention shown to FIG. 2 (B) to the connection jig which concerns on other embodiment.

図1Aから図1Jまでは、本発明に係る一実施形態の接触子を製造するための各工程の一実施例を示す断面図である。なお、全図において、各部材の厚さ、長さ、形状、部材同士の間隔、隙間等は、理解の容易のために、適宜、拡大・縮小・変形・簡略化等をしている。図の説明の際の上下・左右の表現は、その図に向かった状態でのその図面の面に沿った方向を表すものとする。   1A to 1J are cross-sectional views showing an example of each process for manufacturing a contact according to an embodiment of the present invention. In all the drawings, the thickness, length, shape, spacing between members, gaps, and the like of each member are appropriately enlarged, reduced, deformed, simplified, etc. for easy understanding. In the description of the drawing, the vertical and horizontal expressions represent directions along the plane of the drawing in the state of facing the drawing.

図1Aは、芯材10の外周面上に金めっき層12を形成して製造した線材の断面図を示す。この芯材10は、例えば、外径が5μmから300μmの金属線や樹脂線を用いることができる。金属線としては、例えばSUS線を用いることができ、樹脂線としてはナイロン樹脂やポリエチレン樹脂等の合成樹脂線を用いることができる。
金めっき層12は、芯材10の外周面上に形成されており、この金めっき層12を形成することにより、最終工程での芯材10の抜き取りを容易にすることができる。なお、この金めっき層12は、芯材10の抜き取りを容易にするが、芯材10を容易に抜き取りすることができる場合には特に必要とされない。なお、金めっき層12の厚さは、0.1μmから1μmに形成される。
FIG. 1A shows a cross-sectional view of a wire manufactured by forming a gold plating layer 12 on the outer peripheral surface of a core material 10. For example, a metal wire or a resin wire having an outer diameter of 5 μm to 300 μm can be used for the core material 10. As the metal wire, for example, a SUS wire can be used, and as the resin wire, a synthetic resin wire such as nylon resin or polyethylene resin can be used.
The gold plating layer 12 is formed on the outer peripheral surface of the core material 10, and by forming the gold plating layer 12, the core material 10 can be easily extracted in the final process. The gold plating layer 12 facilitates extraction of the core material 10, but is not particularly required when the core material 10 can be easily extracted. The thickness of the gold plating layer 12 is formed from 0.1 μm to 1 μm.

この線材(芯材10と金めっき層12)の長さは、搬送作業の容易性等の観点から50cm以下が望ましいが、それに限定されるものではなく、切断することなく連続的に製造してもよい。   The length of the wires (core material 10 and gold plating layer 12) is preferably 50 cm or less from the viewpoint of ease of carrying work, etc., but is not limited thereto, and is manufactured continuously without being cut. Also good.

図1Bは、図1Aに示された線材の金めっき層12の外周面上に非導電性層14を形成したものを示す。この非導電性層14は、後述する導電性材料のめっき層16(後述するニッケルめっき層16)を形成する際の、導電性材料のめっき層16の位置を決める。この非導電性層14が存在する部位には、導電性材料のめっき層16が存在せず、非導電性層14が存在しない部位には、導電性材料のめっき層16が存在することになる。
この非導電性層14は、後述する工程で所望する形状となるように、レーザ照射による露光現像によりパターン形成することができる素材が好ましいが、レーザ照射により非導電性層14を直接蒸発若しくは分解によりパターン形成することができる素材を用いても良い。
この非導電性層14の厚みは、導電性材料のめっき層16と絶縁膜18の厚みに応じて適宜調整されるが、7μmから100μmに形成される。
FIG. 1B shows a non-conductive layer 14 formed on the outer peripheral surface of the gold plating layer 12 of the wire shown in FIG. 1A. The non-conductive layer 14 determines the position of the conductive material plating layer 16 when forming a conductive material plating layer 16 (to be described later) (a nickel plating layer 16 to be described later). The conductive material plating layer 16 does not exist in the portion where the non-conductive layer 14 exists, and the conductive material plating layer 16 exists in the portion where the non-conductive layer 14 does not exist. .
The non-conductive layer 14 is preferably made of a material that can be patterned by exposure and development by laser irradiation so that the non-conductive layer 14 has a desired shape in a process that will be described later. Alternatively, a material that can form a pattern may be used.
The thickness of the non-conductive layer 14 is appropriately adjusted according to the thicknesses of the plating layer 16 and the insulating film 18 of the conductive material, but is formed from 7 μm to 100 μm.

図1Cは、非導電性層14の一部を除去する工程の一実施例を示す断面図である。この図1Cで示される工程では、非導電性層14の一部を除去することにより、等間隔に周回する周状突部14aを形成するとともに、隣り合う周状突部14aの間にらせん状のらせん状突部14bが形成される。
図1Cで示される一実施例では、紙面に向かって、左から周状突部14a、らせん状突部14b、周状突部14a、らせん状突部14bと周状突部14aがこの順番に形成されている。この一実施例では、非導電性層14を例えば3mmから30mmの間隔を置いて所定の幅だけ残るように、非導電性層14を残して周状突部14aを形成している。
FIG. 1C is a cross-sectional view illustrating an example of a process of removing a part of the non-conductive layer 14. In the step shown in FIG. 1C, a part of the non-conductive layer 14 is removed to form a circumferential protrusion 14a that circulates at equal intervals, and a spiral shape is formed between adjacent circumferential protrusions 14a. A helical projection 14b is formed.
In the embodiment shown in FIG. 1C, the circumferential projection 14a, the spiral projection 14b, the circumferential projection 14a, the spiral projection 14b, and the circumferential projection 14a are arranged in this order from the left toward the paper surface. Is formed. In this embodiment, the circumferential protrusion 14a is formed leaving the non-conductive layer 14 so that the non-conductive layer 14 remains with a predetermined width, for example, with an interval of 3 mm to 30 mm.

らせん状突部14bは、周状突部14aと周状突部14aの間に非導電性層14がらせん状の形状を有するように、非導電性層14が除去されることになる。なお、実際に、非導電性層14に周状突部14aとらせん状突部14bが形成される場合には、線材(芯材10と金めっき層12)に形成される順番(例えば、図1Cなら左から順番)に沿って形成されることになる。なお、非導電性層14が除去された部分(周状突部14aとらせん状突部14b以外の部分)では、金めっき層12が露出することになる。   The non-conductive layer 14 is removed from the spiral protrusion 14b so that the non-conductive layer 14 has a spiral shape between the peripheral protrusion 14a and the peripheral protrusion 14a. In addition, when the circumferential projection 14a and the spiral projection 14b are actually formed on the non-conductive layer 14, the order in which the wires (core material 10 and the gold plating layer 12) are formed (for example, FIG. If it is 1C, it is formed along the order from the left). Note that the gold plating layer 12 is exposed at a portion where the non-conductive layer 14 is removed (a portion other than the circumferential protrusion 14a and the spiral protrusion 14b).

これらの周状突部14aとらせん状突部14bは、非導電性層14を有する線材にレーザービームを照射して、不要な非導電性層14を除去する方法を採用することができる。この場合、芯材10を周方向に回転させながら、不要な非導電性層14の位置にレーザービームを直接照射し、その照射により非導電性層14を除去する。なお、この方法で使用するレーザービームの出力は、非導電性層14のみを除去することができ、且つ金めっき層12を損傷することがない出力に調整される。   The circumferential protrusion 14a and the spiral protrusion 14b can employ a method of irradiating a wire having the nonconductive layer 14 with a laser beam to remove the unnecessary nonconductive layer 14. In this case, while rotating the core material 10 in the circumferential direction, a laser beam is directly irradiated to an unnecessary position of the nonconductive layer 14, and the nonconductive layer 14 is removed by the irradiation. The output of the laser beam used in this method is adjusted so that only the non-conductive layer 14 can be removed and the gold plating layer 12 is not damaged.

図1Dは、ニッケルめっき層を形成する工程の一実施例を示す断面図である。図1Dの工程では、図1Cで形成される線材の外周にニッケルめっき層16が形成される。このニッケルめっき層16は、線材の非導電性層14が形成されていない部位、つまり、金めっき層12が表面に現れる部位にニッケルめっき層16が形成されることになる。このニッケルめっき層16の厚さは、5μmから50μmに形成される。   FIG. 1D is a cross-sectional view illustrating an example of a process for forming a nickel plating layer. In the process of FIG. 1D, the nickel plating layer 16 is formed on the outer periphery of the wire formed in FIG. 1C. In the nickel plating layer 16, the nickel plating layer 16 is formed in a portion where the non-conductive layer 14 of the wire is not formed, that is, in a portion where the gold plating layer 12 appears on the surface. The thickness of the nickel plating layer 16 is 5 μm to 50 μm.

図1Eは、絶縁膜を形成する工程の一実施例を示す断面図である。図1Eの工程では、図1Dで形成されるニッケルめっき層16を有する線材の外周に、絶縁膜18が形成される。この絶縁膜18は、線材の非導電性層14が形成されていない部位、つまり、ニッケルめっき層16が表面に現れる部位に絶縁膜18が形成されることになる。この絶縁膜18の形成方法は、特に限定されるものではないが、電着法により形成されることができる。このように電着法を用いることにより、ニッケルめっき層16の表面にのみ絶縁膜18を形成することができ、非導電性層14にはこの絶縁膜18が形成されることがない。この絶縁膜18の厚さは、2μmから50μmに形成される。   FIG. 1E is a cross-sectional view illustrating an example of a process for forming an insulating film. In the step of FIG. 1E, an insulating film 18 is formed on the outer periphery of the wire having the nickel plating layer 16 formed in FIG. 1D. The insulating film 18 is formed in a portion where the non-conductive layer 14 of the wire is not formed, that is, a portion where the nickel plating layer 16 appears on the surface. A method for forming the insulating film 18 is not particularly limited, but can be formed by an electrodeposition method. As described above, by using the electrodeposition method, the insulating film 18 can be formed only on the surface of the nickel plating layer 16, and the insulating film 18 is not formed on the non-conductive layer 14. The insulating film 18 is formed to have a thickness of 2 μm to 50 μm.

この絶縁膜18の膜厚は、上記の範囲に形成されるが、ニッケルめっき層16と積層された際に、周状突部14aとらせん状突部14bを形成する非導電性層14の表面よりも僅かに高く又は僅かに低く形成することができる。絶縁膜18が非導電性層14よりも高く形成される場合には、非導電性層14の表面へ絶縁膜18が乗り上げることになる。また、絶縁膜18が非導電性層14よりも低く形成される場合には、非導電性層14の側面に張り付くように形成される。   The thickness of the insulating film 18 is formed in the above range, but the surface of the nonconductive layer 14 that forms the circumferential protrusion 14a and the spiral protrusion 14b when laminated with the nickel plating layer 16 is formed. Can be made slightly higher or lower. When the insulating film 18 is formed higher than the nonconductive layer 14, the insulating film 18 runs on the surface of the nonconductive layer 14. When the insulating film 18 is formed lower than the nonconductive layer 14, it is formed so as to stick to the side surface of the nonconductive layer 14.

図1Fは、非導電性層を除去する工程の一実施例を示す断面図である。図1Fの工程では、図1Eで形成される絶縁膜18を有する線材の非導電性層14を除去する。この工程では、非導電性層14のみを、例えば有機溶剤を用いて除去する。
このように非導電性層14を除去することにより、線材の周状突部14aとらせん状突部14bの部位は、金めっき層12が露出することになる。このため、周状突部14aには、周状溝22aが形成され、らせん状突部14bには、らせん状溝22bが形成されることになる。
なお、らせん状溝22bの部分では、ニッケルめっき層16と絶縁膜18によりらせん状(後述するばね部)形状に形成されることになる。
FIG. 1F is a cross-sectional view showing an example of a step of removing the non-conductive layer. In the step of FIG. 1F, the non-conductive layer 14 of the wire having the insulating film 18 formed in FIG. 1E is removed. In this step, only the non-conductive layer 14 is removed using, for example, an organic solvent.
By removing the non-conductive layer 14 in this manner, the gold plating layer 12 is exposed at the portions of the circumferential protrusion 14a and the spiral protrusion 14b of the wire. For this reason, the circumferential groove 14a is formed in the circumferential protrusion 14a, and the spiral groove 22b is formed in the spiral protrusion 14b.
In addition, in the part of the helical groove | channel 22b, it forms in the shape of a spiral (spring part mentioned later) by the nickel plating layer 16 and the insulating film 18. FIG.

非導電性層14と絶縁膜18の夫々の厚み方向の高さは、下記のように形成されることになる。非導電性層14よりも高く絶縁膜18が形成される場合には、らせん状溝22bの部位では、絶縁膜18がニッケルめっき層16よりもオーバーハングして形成されていることになる。一方、非導電性層14よりも低く絶縁膜18が形成される場合には、らせん状溝22bの部位では、絶縁膜18とニッケルめっき層16の側面が面一に形成される。また、この場合、絶縁膜18は、非導電性層14の側面に沿って、線材の外方向に広がる湾曲面(盛り上がり状態のような形状)を有するように形成されるため、らせん状溝22bでは絶縁膜18が外側に広がる湾曲面を有していることになる。   The heights of the non-conductive layer 14 and the insulating film 18 in the thickness direction are formed as follows. When the insulating film 18 is formed higher than the nonconductive layer 14, the insulating film 18 is formed overhanging the nickel plating layer 16 in the portion of the spiral groove 22 b. On the other hand, when the insulating film 18 is formed lower than the non-conductive layer 14, the side surfaces of the insulating film 18 and the nickel plating layer 16 are formed flush with each other at the portion of the spiral groove 22b. Further, in this case, since the insulating film 18 is formed to have a curved surface (a shape like a raised state) that extends outward along the side surface of the non-conductive layer 14, the spiral groove 22b Then, the insulating film 18 has a curved surface that spreads outward.

図1Gは、絶縁膜の一部を除去する工程の一実施例を示す断面図である。図1Gの工程では、レーザービームを照射して、周状溝22aを形成している絶縁膜18を端面から所定の長さを除去して、ニッケルめっき層16を露出させる。その露出したニッケルめっき層16は、接続治具用の接触子に形成される際に、検査対象部に接触する先端部又は検査装置に接続される接続治具の電極に接触する後端部として機能する部分になり、接続治具の構造に応じて、それらの必要な長さが定まる。そのため、それらを考慮して絶縁膜18が除去される長さが決定されることになる。   FIG. 1G is a cross-sectional view illustrating an example of a process for removing a portion of the insulating film. In the process of FIG. 1G, the nickel plating layer 16 is exposed by irradiating a laser beam to remove a predetermined length from the end face of the insulating film 18 forming the circumferential groove 22a. When the exposed nickel plating layer 16 is formed on the contact for the connection jig, it is used as a front end part that contacts the inspection target part or a rear end part that contacts the electrode of the connection jig connected to the inspection apparatus. They become functional parts, and their required lengths are determined according to the structure of the connecting jig. Therefore, the length from which the insulating film 18 is removed is determined in consideration of them.

図1Hは、金めっき層の一部を除去する工程の一実施例を示す断面図である。図1Hの工程では、図1Gの状態で超音波洗浄を行って、図1Hに示すように、周状溝22aとらせん状溝22bに露出する金めっき層12を除去する。   FIG. 1H is a cross-sectional view showing an example of a step of removing a part of the gold plating layer. In the process of FIG. 1H, ultrasonic cleaning is performed in the state of FIG. 1G to remove the gold plating layer 12 exposed in the circumferential groove 22a and the spiral groove 22b as shown in FIG. 1H.

図1Iは、芯材の引き伸ばし工程の一実施例を示す断面図である。芯材10を白抜き矢印で示すように芯材10の両端を離れる方向に引っ張って、断面積が小さくなるように変形させる。一端を固定して他端のみを引っ張るようにしてもよい。芯材10が延伸してその断面積が小さくなると、芯材10の外周面を被覆していた金めっき層12がその外周面から剥離して、芯材10と金めっき層12との間に空間が形成されることになる。   FIG. 1I is a cross-sectional view showing an embodiment of a core stretching process. The core material 10 is pulled in a direction away from both ends of the core material 10 as indicated by the white arrows, and is deformed so that the cross-sectional area becomes small. One end may be fixed and only the other end may be pulled. When the core material 10 is stretched and its cross-sectional area is reduced, the gold plating layer 12 covering the outer peripheral surface of the core material 10 is peeled off from the outer peripheral surface, and between the core material 10 and the gold plating layer 12. A space will be formed.

図1Jは、芯材の引き抜き工程の一実施例を示す断面図である。図1Jの工程では、芯材10を抜き取ると、各周状溝22aによって隣り合う部分が離れて、接触子26と接触子28とが、別個のものとして形成されることになる。この図1Jに示すように、芯材10を抜き取った段階で、他の追加の工程を必要とすることなく絶縁膜を有する接触子を完成させることができる。なお、図1Aから図1Jは、簡略化して電鋳管の一部のみを示しているため、図1Jの工程では、2個の接触子のみが製造されたようになっているが、長い電鋳管を使用することによって、多数の接触子を一度に製造することができる。   FIG. 1J is a cross-sectional view showing an embodiment of the core material drawing process. In the process of FIG. 1J, when the core material 10 is extracted, the adjacent portions are separated by the circumferential grooves 22a, and the contact 26 and the contact 28 are formed separately. As shown in FIG. 1J, when the core material 10 is extracted, a contact having an insulating film can be completed without requiring another additional process. 1A to 1J show only a part of the electroformed pipe in a simplified manner. In the process of FIG. 1J, only two contacts are manufactured. By using a cast pipe, a large number of contacts can be manufactured at once.

図1Jに示すように、接触子26,28は、導電性材料の円筒形状のニッケルめっき層16を備え、その両端側には、ニッケルめっき層16が露出した先端部及び後端部が形成されており、また、先端部と後端部との間には、長軸方向のらせん状の壁面を有するばね部が形成されており、このらせん状の壁面に沿って絶縁層18が形成されている。   As shown in FIG. 1J, each of the contacts 26 and 28 includes a cylindrical nickel plating layer 16 made of a conductive material, and a front end portion and a rear end portion where the nickel plating layer 16 is exposed are formed on both ends thereof. In addition, a spring portion having a helical wall surface in the major axis direction is formed between the front end portion and the rear end portion, and an insulating layer 18 is formed along the helical wall surface. Yes.

本発明の接触子は、上記の如き寸法の条件下において製造することができるが、特に、外径が30から100μm、内径が20から90μm、絶縁膜の厚みが2〜15μmに形成される場合において、接続治具に用いられる接続端子として好適に用いることができる。   The contact according to the present invention can be manufactured under the conditions of the above dimensions. In particular, when the outer diameter is 30 to 100 μm, the inner diameter is 20 to 90 μm, and the thickness of the insulating film is 2 to 15 μm. Can be suitably used as a connection terminal used in a connection jig.

図2(A)は、上述の図1Aから図1Jの工程を用いて製造した円筒形状の接触子の一実施形態に係る接触子21を開示する。接触子21は、先端部21aと円筒形状のばね部21cと後端部21bとからなる。後端部21bは先端部21aよりも短い。また、図2(B)は、図2(A)の接触子21と同様に、上述の図1Aから図1Hの工程によって製造した円筒形状の接触子の他の実施形態に係る接触子20を開示する。ただし、図2(A)の接触子と図2(B)の接触子との製造工程の順序は同じであるが、図2(A)の接触子の製造段階の図1Eの工程において、隣り合う2つの溝22a,22bにおいて除去する絶縁層18の幅が異なるため、図2(A)の接触子21は上下が非対称に形成されている。一方、図2(B)の接触子20の両端部20aの長さは同じである。   FIG. 2A discloses a contact 21 according to an embodiment of a cylindrical contact manufactured using the steps of FIGS. 1A to 1J described above. The contactor 21 includes a front end portion 21a, a cylindrical spring portion 21c, and a rear end portion 21b. The rear end 21b is shorter than the front end 21a. 2B shows a contact 20 according to another embodiment of the cylindrical contact manufactured by the steps of FIGS. 1A to 1H described above, similarly to the contact 21 of FIG. 2A. Disclose. However, the order of the manufacturing process of the contact of FIG. 2A and the contact of FIG. 2B is the same, but in the process of FIG. 1E in the manufacturing stage of the contact of FIG. Since the width of the insulating layer 18 to be removed is different in the two grooves 22a and 22b that match, the contact 21 in FIG. On the other hand, the length of the both ends 20a of the contact 20 of FIG. 2 (B) is the same.

図2(A)の接触子21は、例えば、外径が約50μm、内径が約35μm、全長が約5mmであり、また、端部21aの長さが約1.5mmであるが、それらに限定されるものではない。   2A has an outer diameter of about 50 μm, an inner diameter of about 35 μm, an overall length of about 5 mm, and an end portion 21a having a length of about 1.5 mm. It is not limited.

図2(A)の接触子21の先端部21aは対象物の検査対象部に接触し、後端部21bは検査装置に接続される接続治具の電極に接続される。ばね部21cには、らせん形状の空隙(上述するらせん状溝)が形成されたばね部分が形成されていて、弾性力を発揮する。そのため、ばね部21cは伸縮することができ、その伸縮する変位の大きさに比例してばね荷重が定まる。図2(A)及び図2(B)に示すらせん形状のばね部分21c,20cは例示であり、それに限定されることなく、所定のばね荷重を発揮させる等のために、らせん部分を形成するばね部分の幅、ピッチ、厚み、巻数あるいは、ばね部分の形成位置、ばね部分の形成個数を変えることができる。   The tip 21a of the contact 21 in FIG. 2A is in contact with the inspection target portion of the object, and the rear end 21b is connected to an electrode of a connection jig connected to the inspection apparatus. The spring portion 21c is formed with a spring portion in which a spiral gap (the above-described spiral groove) is formed, and exerts an elastic force. Therefore, the spring portion 21c can expand and contract, and the spring load is determined in proportion to the magnitude of the expanding and contracting displacement. The spiral spring portions 21c and 20c shown in FIGS. 2 (A) and 2 (B) are merely examples, and the spiral portions are formed for the purpose of exerting a predetermined spring load without being limited thereto. The width, pitch, thickness, number of turns of the spring portion, the formation position of the spring portion, and the number of spring portions can be changed.

図2(B)の接触子20は、中央のばね部20cとそれの両側に位置する2つの同じ長さの端部20aとを備える。すなわち、この接触子20は上下対称である。そのため、その接触子20の端部20aの一方を対象物の検査対象部に接触する先端部として用いると、他方は検査装置に接続される接続治具の電極に接続される後端部となる。   The contact 20 of FIG. 2 (B) includes a central spring portion 20c and two end portions 20a having the same length located on both sides thereof. That is, the contact 20 is vertically symmetric. Therefore, when one of the end portions 20a of the contact 20 is used as a tip portion that contacts the inspection target portion of the object, the other becomes a rear end portion connected to the electrode of the connecting jig connected to the inspection apparatus. .

図2(A)の接触子21の先端部21a及び後端部21bの長さと、図2(B)の接触子20の2つの端部20aの長さとは、図1Gの工程において、絶縁膜18を端面から除去するニッケルめっきを露出させたその長さによって定まる。   The lengths of the front end portion 21a and the rear end portion 21b of the contactor 21 in FIG. 2A and the lengths of the two end portions 20a of the contactor 20 in FIG. It is determined by the length of the exposed nickel plating that removes 18 from the end face.

図2(B)の接触子20のように、同じ長さの2つの端部20aを有する接触子を用いると、2つの端部が同一形状で、機能が特定されず、先端部又は後端部のどちらにも利用可能なため、接続治具に組み込む際に上下の認定が不要になり、組立が容易になる。   When a contact having two end portions 20a having the same length is used like the contact 20 of FIG. 2B, the two end portions have the same shape, the function is not specified, and the front end portion or the rear end Since it can be used for either of the parts, it is not necessary to certify the upper and lower sides when assembling into the connection jig, and assembly is facilitated.

図3(A)は、一実施例に係る接続治具32に取り付けられた接触子21の状態を説明するために、接続治具の一部のみを示す一部断面図である。この実施形態では、複数の接触子21を保持するために、ヘッドプレート38と支持プレート36とベースプレート35とを備える。それらのプレートは、棒状又は枠状の図示せぬ支持部によって一定の距離離隔して保持されている。このため、この実施形態では、ヘッドプレート38と支持プレート36の間に空間が形成されることになる。   FIG. 3A is a partial cross-sectional view showing only a part of the connection jig in order to explain the state of the contact 21 attached to the connection jig 32 according to one embodiment. In this embodiment, a head plate 38, a support plate 36, and a base plate 35 are provided to hold the plurality of contacts 21. These plates are held at a predetermined distance apart by a support portion (not shown) in the form of a rod or a frame. For this reason, in this embodiment, a space is formed between the head plate 38 and the support plate 36.

ヘッドプレート38には貫通孔38hが形成されていて、各接触子21の先端部21aが貫通挿通され、この先端部21aを検査点へ案内する。貫通孔38hの内径は、先端部21aの外径より大きく、絶縁膜16の外径よりも小さい。そのため、絶縁膜16の部分がヘッドプレート38に係止され、接触子21が貫通孔38hから抜け出ることはない。複数の貫通孔38hは、対象点の形成されている位置に対応するように高密度になるように接近して形成されるが、隣り合う接触子21が接触しない程度の距離を置く必要がある。支持プレート36には、貫通孔36hが形成されていて、各接触子21の後端部21bが貫通挿入され、この後端部21bを電極40へ案内される。この貫通孔36hの内径は、接触子21の絶縁膜16の外径よりも僅かに大きく形成されている。なお、この支持プレート36の貫通孔36hは、その内部にばね部20cを収容しない程度の長さを有していることが好ましい。これは、ばね部20cの収縮運動時に、貫通孔36hを形成する支持プレート36に接触して、接触子21が破損しないようにするためである。支持プレート36は、ベースプレート35と当接するように配置される。
ここで、本発明に係る接触子では絶縁膜が外周に形成されているため、かなりの高密度で接触子を取り付けるように複数の貫通孔を接近させて形成することができる。
また、図3(A)に示すように、ベースプレート35には、ヘッドプレート38の貫通孔38hに対向する位置に電極40が固定されている。ベースプレート35が無いとすると、接触子21は、自然長において、後端部21bが、ベースプレート35の固定される位置よりも少し突出する程度の長さに設定されているため、図3(A)に示す状態では、後端部21bが電極40に衝突し、ばね部21cが、少し縮んで電極を押す付勢力を発揮している。そのため、電極40と接触子21とが確実に接触する状態を保持している。また、接触子21は、絶縁膜16の下端部が貫通孔38hの周囲のヘッドプレート38に係止されているため、先端部21aの突出量が変動することがなく、対象点に対する押圧力を一定に保つことができる。
A through hole 38h is formed in the head plate 38, and the distal end portion 21a of each contactor 21 is penetrated and guided to the inspection point. The inner diameter of the through hole 38h is larger than the outer diameter of the tip portion 21a and smaller than the outer diameter of the insulating film 16. Therefore, the portion of the insulating film 16 is locked to the head plate 38, and the contact 21 does not come out of the through hole 38h. The plurality of through-holes 38h are formed close to each other so as to have a high density so as to correspond to the positions where the target points are formed, but it is necessary to set a distance so that adjacent contactors 21 do not contact each other. . A through hole 36 h is formed in the support plate 36, and the rear end portion 21 b of each contactor 21 is inserted through the support plate 36, and the rear end portion 21 b is guided to the electrode 40. The inner diameter of the through hole 36h is slightly larger than the outer diameter of the insulating film 16 of the contactor 21. The through hole 36h of the support plate 36 preferably has a length that does not accommodate the spring portion 20c therein. This is to prevent the contact 21 from being damaged by contacting the support plate 36 forming the through hole 36h during the contraction movement of the spring portion 20c. The support plate 36 is disposed so as to contact the base plate 35.
Here, since the insulating film is formed on the outer periphery of the contact according to the present invention, a plurality of through holes can be formed close to each other so as to attach the contact at a considerably high density.
As shown in FIG. 3A, the electrode 40 is fixed to the base plate 35 at a position facing the through hole 38h of the head plate 38. If the base plate 35 is not provided, the contactor 21 is set to a natural length so that the rear end 21b protrudes slightly from the position where the base plate 35 is fixed. In the state shown in FIG. 2, the rear end portion 21b collides with the electrode 40, and the spring portion 21c is contracted slightly to exert a biasing force that pushes the electrode. Therefore, the state which the electrode 40 and the contactor 21 contact reliably is hold | maintained. Further, since the lower end portion of the insulating film 16 is locked to the head plate 38 around the through hole 38h, the contactor 21 does not change the protruding amount of the distal end portion 21a, and the pressing force to the target point is not changed. Can be kept constant.

図3(B)は、一実施例に係る接続治具30に取り付けられた接触子20の状態を説明するために、接続治具の一部のみを示す一部断面図である。接続治具30は、支持プレート36及びヘッドプレート38を備える。それらは樹脂材料やセラミックス等の絶縁材料からなる。支持プレート36は、ヘッドプレート38をベースプレート35から所定の距離離隔させて保持する。   FIG. 3B is a partial cross-sectional view showing only a part of the connection jig in order to explain the state of the contact 20 attached to the connection jig 30 according to one embodiment. The connection jig 30 includes a support plate 36 and a head plate 38. They are made of insulating materials such as resin materials and ceramics. The support plate 36 holds the head plate 38 at a predetermined distance from the base plate 35.

ヘッドプレート38には貫通孔38hが形成されていて、接触子20の先端部20aが挿通されている。その際、貫通孔38hの内径は、先端部20aの外周を覆うニッケルめっき層16(図1J参照)の外径より大きいが、絶縁膜18の外径よりも小さい。   A through hole 38h is formed in the head plate 38, and the tip 20a of the contact 20 is inserted therethrough. At that time, the inner diameter of the through hole 38h is larger than the outer diameter of the nickel plating layer 16 (see FIG. 1J) covering the outer periphery of the tip portion 20a, but smaller than the outer diameter of the insulating film 18.

また、支持プレート36には貫通孔36hが形成されていて、その貫通孔36hは、内径が、絶縁膜18の外径よりも僅かに大きく形成され、接触子20を貫通保持する。
貫通孔38hの内径が接触子20の絶縁膜18の外径よりも小さい結果、絶縁膜18の部分がヘッドプレート38に係止されるため、接触子20が貫通孔38hから抜け出ることがない。
Further, a through hole 36 h is formed in the support plate 36, and the through hole 36 h has an inner diameter slightly larger than the outer diameter of the insulating film 18, and holds the contact 20 through.
As a result of the inner diameter of the through hole 38h being smaller than the outer diameter of the insulating film 18 of the contact 20, the portion of the insulating film 18 is locked to the head plate 38, so that the contact 20 does not come out of the through hole 38h.

図3(B)に示すように、電極40を保持するベースプレート35が、支持プレート36の貫通孔36hの開口部に対向するように固定されている。ベースプレート35がないとすると、接触子20は、自然長において、後端部20aが、支持プレート36の貫通孔36hの上方の開口部分から少し突出する程度の長さに設定されているため、図3(B)に示す状態では、後端部20aが電極40に衝突し、ばね部20cが、少し縮んで電極を押す付勢力を発揮している。そのため、電極40と接触子20とが確実に接触する状態を維持している。また、接触子20は、絶縁膜16の下端部が貫通孔38hの周囲のヘッドプレート38に係止されているため、先端部20aの突出量が変動することがなく、検査対象に対する押圧力を一定に保つことができる。   As shown in FIG. 3B, the base plate 35 holding the electrode 40 is fixed so as to face the opening of the through hole 36h of the support plate 36. If the base plate 35 is not provided, the contact 20 has a natural length and the rear end 20a is set to a length that slightly protrudes from the opening above the through hole 36h of the support plate 36. In the state shown in FIG. 3B, the rear end portion 20a collides with the electrode 40, and the spring portion 20c is contracted a little to exert a biasing force that pushes the electrode. Therefore, the state which the electrode 40 and the contactor 20 contact reliably is maintained. Further, since the lower end portion of the insulating film 16 is locked to the head plate 38 around the through hole 38h, the contact 20 does not change the protruding amount of the distal end portion 20a, and the pressing force against the inspection target is not changed. Can be kept constant.

図3(C)は、他の実施例に係る接続治具31に接触子20が取り付けられた状態を説明するために、その接続治具の一部のみを示す一部断面図である。接続治具31は、接続治具30とは、接続治具30の支持プレート36に相当する部分が、2つの支持プレート36a,36bからなる点が異なる。支持プレート36bでは、貫通孔36hにテーパ形状の傾斜面34iが形成されていて、ベースプレート35の電極40に向かう開口部分の内径が、接触子20の絶縁膜18の外径よりも小さい。   FIG. 3C is a partial cross-sectional view illustrating only a part of the connection jig in order to explain a state in which the contact 20 is attached to the connection jig 31 according to another embodiment. The connection jig 31 is different from the connection jig 30 in that a portion corresponding to the support plate 36 of the connection jig 30 includes two support plates 36a and 36b. In the support plate 36 b, a tapered inclined surface 34 i is formed in the through hole 36 h, and the inner diameter of the opening portion toward the electrode 40 of the base plate 35 is smaller than the outer diameter of the insulating film 18 of the contact 20.

接触子20を接続治具31に組み込む際には、ヘッドプレート38に支持プレート36aを取り付けたものに、接触子20の先端部20aを上方から支持プレート36aの貫通孔36hを経由してヘッドプレート38の貫通孔38hに挿入する。挿入された先端部20aは、支持プレート36aに沿って貫通孔38hに入り込むが、ばね部20cの絶縁膜18の外径は貫通孔38hの内径よりも大きいため、その絶縁膜18の下端部は、貫通孔38hの周囲のヘッドプレート38に係止され、それにより、接触子20がヘッドプレート38に保持される。   When assembling the contact 20 into the connection jig 31, the head plate 38 is attached to the support plate 36a, and the head 20 is connected to the head 20 from above through the through hole 36h of the support plate 36a. 38 is inserted into the through hole 38h. The inserted tip 20a enters the through hole 38h along the support plate 36a. However, since the outer diameter of the insulating film 18 of the spring part 20c is larger than the inner diameter of the through hole 38h, the lower end of the insulating film 18 is The contact 20 is held by the head plate 38 by being locked to the head plate 38 around the through hole 38h.

次に、接触子20をヘッドプレート38に保持させた後に、支持プレート36b及びベースプレート35を接続治具31に取り付けるために、広い開口部分を下方にして支持プレート36b及びベースプレート35を支持プレート36a上端部上に載せる。その際、後端部20aを支持プレート36bの貫通孔36hの広い開口部分に位置決めして挿入する。支持プレート36bの貫通孔36hは、傾斜面34iに沿って徐々に狭くなるため、後端部20aはその傾斜面34iに案内されて上方の狭い開口部分まで導かれる。そのように、貫通孔36hが、広い開口部分から狭い開口部分につながる傾斜面34iを有するように形成されているため、接触子20の後端部20aの端面が貫通孔36hを形成する支持プレート36bに引っかかることがなく、その支持プレート36bの貫通孔36hへの接触子20の後端部20aの挿入が容易であり、さらに、傾斜面34iに沿って、確実に、接触子20の後端部20aを貫通孔36hの狭い開口部分まで導くことができ、接触子20の後端部20aと電極40を精度良く位置決め固定することができる。   Next, after the contactor 20 is held on the head plate 38, the support plate 36b and the base plate 35 are placed on the upper end of the support plate 36a with the wide opening portion facing downward in order to attach the support plate 36b and the base plate 35 to the connection jig 31. Place it on the club. At that time, the rear end portion 20a is positioned and inserted into a wide opening portion of the through hole 36h of the support plate 36b. Since the through hole 36h of the support plate 36b is gradually narrowed along the inclined surface 34i, the rear end portion 20a is guided to the inclined surface 34i and guided to the upper narrow opening. As described above, since the through hole 36h is formed to have the inclined surface 34i that leads from the wide opening portion to the narrow opening portion, the support plate in which the end surface of the rear end portion 20a of the contact 20 forms the through hole 36h. 36b, the rear end 20a of the contact 20 can be easily inserted into the through hole 36h of the support plate 36b, and the rear end of the contact 20 is surely provided along the inclined surface 34i. The portion 20a can be guided to the narrow opening portion of the through hole 36h, and the rear end portion 20a of the contact 20 and the electrode 40 can be positioned and fixed with high accuracy.

接触子20の後端部20aは、狭い開口部分まで到達すると、検査装置に電気的に接続された電極40と当接する。なお、電極40がないとすると、接触子20は、自然長において、後端部20aが、支持プレート36bの貫通孔36hの狭い開口部分から少し突出する程度の長さに設定されているため、図3(C)においては、後端部20aが、電極40に衝突し、ばね部20cが少し縮んで電極40を押す付勢力を発揮している。そのため、図3(B)に示す接続治具30と同様に、この接続治具31においても電極40と接触子20との確実な接触状態を維持することができる。また、接触子20は、絶縁膜16の下端部が貫通孔38hの周囲のヘッドプレート38に係止されているため、先端部20aの突出量が変動することがなく、検査対象に対する押圧力を一定に保つことができる。   When the rear end 20a of the contact 20 reaches a narrow opening, the contact 20 comes into contact with the electrode 40 electrically connected to the inspection apparatus. If the electrode 40 is not provided, the contact 20 has a natural length, and the rear end 20a is set to a length that slightly protrudes from the narrow opening of the through hole 36h of the support plate 36b. In FIG. 3C, the rear end portion 20 a collides with the electrode 40, and the spring portion 20 c is slightly contracted to exert an urging force that pushes the electrode 40. Therefore, similarly to the connection jig 30 shown in FIG. 3B, the connection jig 31 can maintain a reliable contact state between the electrode 40 and the contact 20. Further, since the lower end portion of the insulating film 16 is locked to the head plate 38 around the through hole 38h, the contact 20 does not change the protruding amount of the distal end portion 20a, and the pressing force against the inspection target is not changed. Can be kept constant.

例えば、基板等の検査時には、接触子20の先端部20aの先端面を対象点に当接させる。その当接した際の押圧力による抗力によって先端部20aが後退するため、それに応じてばね部20cのばね部分が収縮し、そのばね部分が元に戻ろうという力によって、先端部20aの先端面と検査対象との接触が確実になる。その状態で、検査対象の抵抗値を検出したり導通の有無を判断したりすることができる。尚、このようにばね部20cを有していることにより、接触子20の長さや対象物の高さにばらつきがある場合でも、対象点に圧接される際にはばね部20cが適宜に収縮して、接触子20の端部20aが対象点に圧接されることができ、対象点が損傷したりすることを防止することができる。   For example, when inspecting a substrate or the like, the tip surface of the tip portion 20a of the contact 20 is brought into contact with the target point. Since the tip portion 20a is retracted by the drag force caused by the pressing force, the spring portion of the spring portion 20c contracts accordingly, and the tip portion of the tip portion 20a is retracted by the force of returning the spring portion. And contact with the object to be inspected. In this state, the resistance value to be inspected can be detected and the presence or absence of conduction can be determined. In addition, by having the spring part 20c in this way, even when the length of the contactor 20 and the height of the object vary, the spring part 20c contracts appropriately when pressed against the target point. And the edge part 20a of the contact 20 can be press-contacted to an object point, and it can prevent that an object point is damaged.

以上、本発明に係る接続治具用の接触子のいくつかの実施形態について説明したが、本発明はそれらの実施形態に拘束されるものではなく、当業者が容易になしえる追加、削除、改変等は、本発明に含まれるものであり、また、本発明の技術的範囲は、添付の特許請求の範囲の記載によって定められることを承知されたい。   As described above, some embodiments of the contact for a connecting jig according to the present invention have been described, but the present invention is not limited to those embodiments, and additions, deletions, and the like that can be easily made by those skilled in the art. It should be understood that modifications and the like are included in the present invention, and that the technical scope of the present invention is defined by the description of the appended claims.

10・・・芯材
12・・・金めっき層
14・・・非導電性層
14a・・周状突部
14b・・らせん状突部
16・・・ニッケルめっき層
18・・・絶縁膜
20,21・・・接触子
20a,21a,21b・・・端部
20c,21c・・・ばね部
22a・・・周状溝
22b・・・らせん状溝
30・・・接続治具
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Core material 12 ... Gold plating layer 14 ... Nonelectroconductive layer 14a ... Circumferential protrusion 14b ... Spiral protrusion 16 ... Nickel plating layer 18 ... Insulating film 20, 21 ... Contacts 20a, 21a, 21b ... Ends 20c, 21c ... Spring part 22a ... Surround groove 22b ... Helix groove 30 ... Connection jig

Claims (11)

対象物に設けられる対象点に電気的に接続される接続治具に組み込まれる接触子であって、
導電性材料のめっき層からなる円筒形状管を備え、
前記円筒形状管が、
両端から対向する向きに所定の長さにわたる先端部及び後端部と、
前記先端部と後端部との間に形成された、長軸方向のらせん状の壁面を有するばね部と、
前記ばね部が、前記らせん状の壁面に沿って形成される絶縁層を有し、
前記ばね部に形成されるめっき層と前記絶縁層の境界面が段差無く形成され、
前記ばね部に形成される絶縁層は、前記境界面上に端面が形成され、該円筒形状管の短軸方向外側に広がるテーパ形状を有していることを特徴とする接触子。
A contactor incorporated in a connecting jig electrically connected to a target point provided on the object,
Provided with a cylindrical tube made of a conductive material plating layer,
The cylindrical tube is
A front end and a rear end extending over a predetermined length in opposite directions from both ends;
A spring portion formed between the front end portion and the rear end portion and having a helical wall surface in the long axis direction;
The spring portion has an insulating layer formed along the spiral wall surface;
A boundary surface between the plating layer formed on the spring portion and the insulating layer is formed without a step,
An insulating layer formed on the spring portion has a tapered shape in which an end surface is formed on the boundary surface and extends outward in the minor axis direction of the cylindrical tube.
前記ばね部に形成される絶縁層は、前記めっき層の端面に対しオーバーハングしていることを特徴とする請求項1記載の接触子。  The contact according to claim 1, wherein the insulating layer formed on the spring portion is overhanging with respect to an end face of the plating layer. 前記接触子は、前記ばね部の外径が30から100μmであることを特徴とする請求項1又は2に記載の接触子。  The contactor according to claim 1, wherein the contactor has an outer diameter of 30 to 100 μm. 前記接触子は、前記めっき層が金めっき層とニッケルめっき層の積層構造を有していることを特徴とする請求項1記載の接触子。  The contact according to claim 1, wherein the plating layer has a laminated structure of a gold plating layer and a nickel plating layer. 対象物に設けられる対象点に電気的に接続される治具であって、  A jig that is electrically connected to a target point provided on an object,
請求項1乃至4いずれかに記載の複数の接触子と、  A plurality of contacts according to any one of claims 1 to 4,
前記複数の接触子の前記先端部が挿通される孔を有するとともに、該複数の接触子の前記後端部が挿通される孔を有するヘッドプレートと  A head plate having a hole through which the front end portions of the plurality of contacts are inserted, and a hole through which the rear end portions of the plurality of contacts are inserted;
前記複数の接触子の前記後端部に電気的に接続するための電極を備えるベースプレートとを備える接続治具。  A connection jig comprising a base plate including an electrode for electrically connecting to the rear end portions of the plurality of contacts.
対象物の対象部に電気的に接続される接続治具に組み込まれる接触子を製造する方法であって、  A method of manufacturing a contact incorporated in a connection jig that is electrically connected to a target portion of an object,
芯材の周囲に非導電性材料の非導電性層を形成する工程と、  Forming a non-conductive layer of non-conductive material around the core material;
前記非導電性層の一部を除去して、周回する周状突部を形成するとともに、隣り合う周状突部の間にらせん状のらせん状突部を形成する工程と、  Removing a part of the non-conductive layer, forming a circumferential protrusion that circulates, and forming a helical protrusion between adjacent circumferential protrusions;
前記周状突部と前記らせん状突部が形成された前記芯材に、導電性材料のめっき層が形成される工程と、  A step of forming a plating layer of a conductive material on the core member on which the circumferential protrusion and the spiral protrusion are formed;
前記芯材の前記導電性材料のめっき層に絶縁膜を形成する工程と、  Forming an insulating film on the plating layer of the conductive material of the core material;
前記周状突部と前記らせん状突部を除去する工程と、  Removing the circumferential protrusion and the helical protrusion;
前記周状突部の端面から所定の距離にわたって前記絶縁膜を除去して導電性材料のめっき層を露出させる工程と、  Removing the insulating film over a predetermined distance from an end face of the circumferential protrusion to expose a plating layer of a conductive material;
前記芯材を除去する工程とを含む、接触子を製造する方法。  And a step of removing the core material.
前記非導電性層の一部を除去して、周回する周状突部を形成するとともに、隣り合う周状突部の間にらせん状のらせん状突部を形成する工程において、レーザを用いて該非導電性層の一部を除去して、該周状突部と該らせん状突部を形成することを特徴とする請求項6記載の接触子を製造する方法。  In the step of removing a part of the non-conductive layer to form a circumferential protrusion that circulates, and forming a helical spiral protrusion between adjacent circumferential protrusions, a laser is used. The method of manufacturing a contact according to claim 6, wherein a part of the non-conductive layer is removed to form the circumferential protrusion and the spiral protrusion. 前記周状突部の端面から所定の距離にわたって前記絶縁膜を除去して導電性材料のめっき層を露出させる工程において、レーザを用いて前記絶縁膜を除去することを特徴とする請求項6記載の接触子を製造する方法。  7. The step of removing the insulating film over a predetermined distance from the end face of the circumferential protrusion to expose the plating layer of a conductive material, wherein the insulating film is removed using a laser. Of manufacturing a contactor. 前記芯材を除去する工程が終了すると前記接触子が複数製造されることを特徴とする請求項6記載の接触子を製造する方法。  The method of manufacturing a contact according to claim 6, wherein a plurality of the contacts are manufactured when the step of removing the core material is completed. 前記らせん状の絶縁膜の端面と前記めっき層の端面が段差無く形成されていることを特徴とする請求項6の接触子を製造する方法。  The method of manufacturing a contact according to claim 6, wherein an end face of the spiral insulating film and an end face of the plating layer are formed without a step. 前記接触子の外径が、30から100μmであることを特徴とする請求項6記載の接触子を製造する方法。  The method of manufacturing a contact according to claim 6, wherein an outer diameter of the contact is 30 to 100 μm.
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