JP5530429B2 - 気体状の不飽和炭化水素のハイドロシリレーションプロセス - Google Patents
気体状の不飽和炭化水素のハイドロシリレーションプロセス Download PDFInfo
- Publication number
- JP5530429B2 JP5530429B2 JP2011516330A JP2011516330A JP5530429B2 JP 5530429 B2 JP5530429 B2 JP 5530429B2 JP 2011516330 A JP2011516330 A JP 2011516330A JP 2011516330 A JP2011516330 A JP 2011516330A JP 5530429 B2 JP5530429 B2 JP 5530429B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reagent
- reaction
- group
- hydrosilylation
- reaction zone
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 title claims description 56
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 52
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims description 40
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 title claims description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 97
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims description 41
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 claims description 41
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 37
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 37
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 35
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 35
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 31
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 30
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 claims description 27
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 24
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 23
- -1 alkene halide Chemical class 0.000 claims description 22
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 14
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 150000001345 alkine derivatives Chemical class 0.000 claims description 10
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 10
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 10
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 10
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 8
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 8
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KDKYADYSIPSCCQ-UHFFFAOYSA-N but-1-yne Chemical compound CCC#C KDKYADYSIPSCCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 6
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 claims description 5
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 claims description 5
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 claims description 5
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 claims description 5
- 239000008096 xylene Substances 0.000 claims description 5
- ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N 1-Heptene Chemical compound CCCCCC=C ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical compound CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N n-Octanol Natural products CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000010923 batch production Methods 0.000 claims description 3
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 claims description 3
- SWGZAKPJNWCPRY-UHFFFAOYSA-N methyl-bis(trimethylsilyloxy)silicon Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)O[Si](C)(C)C SWGZAKPJNWCPRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 3
- FPBWSPZHCJXUBL-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-1-fluoroethene Chemical group FC(Cl)=C FPBWSPZHCJXUBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CGHIBGNXEGJPQZ-UHFFFAOYSA-N 1-hexyne Chemical compound CCCCC#C CGHIBGNXEGJPQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IBXNCJKFFQIKKY-UHFFFAOYSA-N 1-pentyne Chemical compound CCCC#C IBXNCJKFFQIKKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FDMFUZHCIRHGRG-UHFFFAOYSA-N 3,3,3-trifluoroprop-1-ene Chemical compound FC(F)(F)C=C FDMFUZHCIRHGRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(methyl)silicon Chemical compound CO[Si](C)OC PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- UMIPWJGWASORKV-UHFFFAOYSA-N oct-1-yne Chemical compound CCCCCCC#C UMIPWJGWASORKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QMMOXUPEWRXHJS-UHFFFAOYSA-N pent-2-ene Chemical compound CCC=CC QMMOXUPEWRXHJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N propyne Chemical compound CC#C MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N trimethyl(methylsilyloxy)silane Chemical compound C[SiH2]O[Si](C)(C)C UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilane Chemical compound C[SiH](C)C PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical group CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N nonane Chemical compound CCCCCCCCC BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical group FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- JDSQBDGCMUXRBM-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-butoxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CCCCOC(C)COC(C)COC(C)CO JDSQBDGCMUXRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- PRBXPAHXMGDVNQ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]acetic acid Chemical compound OCCOCCOCC(O)=O PRBXPAHXMGDVNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 claims 1
- DMZWVCJEOLBQCZ-UHFFFAOYSA-N chloro(ethenyl)silane Chemical group Cl[SiH2]C=C DMZWVCJEOLBQCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 claims 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 1
- 229940094933 n-dodecane Drugs 0.000 claims 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 claims 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims 1
- LJZPPWWHKPGCHS-UHFFFAOYSA-N propargyl chloride Chemical group ClCC#C LJZPPWWHKPGCHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N tetraethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N undecane Chemical compound CCCCCCCCCCC RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 51
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 25
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 16
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 11
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 10
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 10
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 9
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 9
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 8
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 8
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 8
- XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N chloro-ethenyl-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C=C XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethenyl-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C=C YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 6
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 5
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 4
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000011027 product recovery Methods 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003134 recirculating effect Effects 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 3
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 3
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N diphenylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 description 2
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical compound [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WFLOTYSKFUPZQB-UHFFFAOYSA-N 1,2-difluoroethene Chemical group FC=CF WFLOTYSKFUPZQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000000475 acetylene derivatives Chemical group 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- GCSJLQSCSDMKTP-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C=C GCSJLQSCSDMKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C=C ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 1
- 239000002638 heterogeneous catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000002815 homogeneous catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N octamethylcyclotetrasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- PKELYQZIUROQSI-UHFFFAOYSA-N phosphane;platinum Chemical class P.[Pt] PKELYQZIUROQSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 239000002893 slag Substances 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1876—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0834—Compounds having one or more O-Si linkage
- C07F7/0838—Compounds with one or more Si-O-Si sequences
- C07F7/0872—Preparation and treatment thereof
- C07F7/0876—Reactions involving the formation of bonds to a Si atom of a Si-O-Si sequence other than a bond of the Si-O-Si linkage
- C07F7/0878—Si-C bond
- C07F7/0879—Hydrosilylation reactions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/14—Preparation thereof from optionally substituted halogenated silanes and hydrocarbons hydrosilylation reactions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
本出願は、2008年7月1日付けの米国出願第61/077,196号の優先権を主張するものであり、当該米国出願は、参照によりその全体がここに組み込まれる。
本発明は、オルガノシリコン化合物(有機ケイ素化合物)の調製のためのハイドロシリレーション法(ハイドロシリル化法、ヒドロシリル化法)に関する。より詳細には、本発明は、ハイドロシリレーション触媒の存在下での、気体状不飽和炭化水素と少なくとも1つのケイ素結合水素原子(ケイ素が結合している水素原子)を含むシラン又はシロキサンとの付加反応に関する。
(B)前記ハイドロシリレーション反応を完了させるために、ガスインリキッド分散液をプラグ流気泡反応ゾーンへ導き、それにより、有機ケイ素生成物が形成され、冷却装置によって反応熱が除去され、
(C)前記プラグ流気泡反応ゾーンから、前記ハイドロシリル化反応生成物を回収(recovering)する。
(A)不飽和の気体状炭化水素(試薬A)を、噴射エダクタを有する反応ゾーンに供給し、少なくとも1つのケイ素結合水素原子を含むシラン(試薬B)及び/又はシロキサン(試薬C)を前記同じ反応ゾーンに供給し、当該反応ゾーンにおいて、反応物を、ハイドロシリレーション触媒を含む高流量の液体反応媒体及び溶剤と接触させ、これにより、ガスインリキッド分散液を生成し、ハイドロシリレーション反応を開始させ、
(B)前記ハイドロシリレーション反応を完了させるために、前記ガスインリキッド分散液をプラグ流気泡反応ゾーンに導き、ハイドロシリル化反応生成物を形成し、
(C)前記プラグ流気泡反応ゾーンから前記ハイドロシリル化反応生成物を回収すること
を含む。
RaHbSiX4−a−b
[Rは、一価の炭化水素ラジカル又は置換された一価の炭化水素ラジカルを表し、1〜6個の炭素原子を有し;Xは、ハロゲン又は1〜4個の炭素原子を含むアルコキシ基を表し;bは1又は2であり;aは0、1、2又は3であり;(a+b)は4以下である]のものを含む。使用できるシランは、非限定的に、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、メチルジメトキシシラン、トリクロロシラン、メチルジクロロシラン、ジメチルクロロシラン、トリメチルシラン及びそれらの混合物を含む。アルコキシシラン中の特定の汚染物質は、好ましくは最小限化され、収率損失が回避される。例えば、アルキルアミン(窒素として測定される)及びイオン性塩化物汚染物質の全濃度は、好ましくは、凝集体中又はそれぞれアルコキシシラン中、約0.10重量パーセントを超えるべきではない。
R3Si(OSiR2)x(OSiHR)yOSiR3
のものを、
適切なジシロキサンは、一般式
HR2SiOSiR2H
[シロキサン及びジシロキサンについて、Rはアルキルラジカル又は置換された1〜8個の炭素原子を含有する炭化水素基若しくはアリール基であり、xは20未満であり、yは5以下である]のものを含む。適切なシロキサン及びジシロキサンは、非限定的に、ヘプタメチルトリシロキサン及びテトラメチルジシロキサンを含む。
アセチレンとハロシラン又はアルコキシシランとの連続反応(continuous reaction)(実施例1〜9)を、実験室規模の形態の泡反応器において行った。反応器は、直径1インチ×高さ24インチのガラス管を1/4インチBerlサドル型セラミックのランダムパッキングで約75%充填したものであった。泡反応器の温度を制御するため、2つのゾーンにおいて管を電熱テープで包み、熱電対を反応器の入口(底部)及び出口(上部)に設置した。底部の熱電対は、底部の熱テープゾーンを制御し、上部の熱電対は、反応器の上部の熱テープゾーンを制御するものであった。アセチレンは、約15psigで円筒から供給され、精製及び乾燥媒体を通過し、続いて流量計を通過させ、その後でシランと予混合させた。シランは、125ml側管付き滴下漏斗からアセチレン気体流中に圧力供給した。さらに、予混合された反応物を、泡反応器の底部に供給した。泡反応器の出口には、背圧弁及び圧力ゲージが設けられており、当該出口は、ドライアイスコンデンサへの管接続より接続した。
本発明のプロセスの統合された噴射エダクタ及び泡反応器システムについての実験室規模での実験を構築し行うことは難しいので、実施例1〜12の実験室規模の試験は、予混合されたアセチレン及びシラン反応物を用いて、システムの泡反応器部分のみにおいて行った。しかし、統合された噴射エダクタ及び泡反応器システム試験をより大きな規模で行う方がより容易である。表2のデータは、実施例13〜15についてのそのようなより大規模の試験によるものである。
統合システムでは、生成物選択性において約9パーセントのポイントの改善が見られる。実施例14及び15は、トリメトキシシランを、再循環ポンプの吸入側において非理想的な化学量論的にではなく、理想的な噴射エダクタの化学量論的に共供給することの効果を示す。より良好なシラン供給ポイントによって改善された生成物選択性に、約4パーセントポイントの相違がある。さらに、統合された噴射エダクタ及び泡反応器システムは、供給シランの生成物への優れた変換も示していた。
Claims (20)
- 気体状不飽和炭化水素をハイドロシリル化することによって有機シラン、有機ハロシラン、有機アルコキシシラン及び/又は有機シロキサンを製造するためのバッチ式又は連続式のプロセスであって、
(a)不飽和の気体状炭化水素(試薬A)を、噴射エダクタを有する反応ゾーンに供給し、少なくとも1つのケイ素結合水素原子を含むシラン(試薬B)及び/又はシロキサン(試薬C)を前記反応ゾーンに供給し、当該反応ゾーンにおいて、前記試薬A並びに前記試薬B及び/又は試薬Cを、ハイドロシリレーション触媒及び溶剤を含む液体反応媒体と接触させ、前記液体反応媒体を、噴射エダクタノズルを通じてポンピングして、前記試薬Aと前記試薬B及び/又は前記試薬Cとを含むガスインリキッド分散液を形成し、ハイドロシリレーション反応を開始させ、
(b)前記ガスインリキッド分散液をプラグ流気泡反応ゾーンに導き、5cm/s未満の気体速度を維持し、それにより、前記ハイドロシリレーション反応を完了させ、ハイドロシリル化反応生成物を形成し、
(c)前記プラグ流気泡反応ゾーンから前記ハイドロシリル化反応生成物を回収する
ことを含む、プロセス。 - 前記ハイドロシリレーション反応生成物が、気体若しくは液体又はそれらの混合物として前記反応ゾーンから除去される、請求項1に記載のプロセス。
- 前記試薬Aが、端部不飽和アルケン、1〜8個の炭素原子のハロゲン化アルケン、又はそれらの混合物である、請求項1に記載のプロセス。
- 前記端部不飽和アルケンが、エチレン、プロピレン、1−ブテン、ブタジエン、メチル−1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン及び1−オクテンからなる群から選択され、ハロゲン化アルケンが、1,1,1−トリフルオロプロペン、1,1−ジフルオロエチレン及び1−クロロ−1−フルオロエチレンからなる群から選択される、請求項3に記載のプロセス。
- 前記試薬Aが、端部不飽和アルキン、1〜8個の炭素原子のハロゲン化アルキン又はそれらの混合物である、請求項1に記載のプロセス。
- 前記端部不飽和アルキンが、アセチレン、プロピン、1−ブチン、1−ペンチン、1−ヘキシン及び1−オクチンからなる群から選択され、前記ハロゲン化アルキンが、3−クロロプロピン及び3−クロロ−1−ブチンからなる群から選択される、請求項5に記載のプロセス。
- 前記試薬Bが、一般式
RaHbSiX4−a−b
[Rが、一価の炭化水素ラジカル又は置換された一価の炭化水素ラジカルを表し、1〜6個の炭素原子を有し;Xが、ハロゲン又は1〜4個の炭素原子を含むアルコキシ基アルコキシ基を表し;bが1又は2であり;aが0、1、2又は3であり;(a+b)が1、2、3又は4である]を有する、請求項1に記載のプロセス。 - 前記試薬Bが、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、メチルジメトキシシラン、トリクロロシラン、メチルジクロロシラン、ジメチルクロロシラン、トリメチルシラン及びそれらの混合物からなる群から選択される、請求項7に記載のプロセス。
- 前記試薬Cが、一般式
R3Si(OSiR2)X(OSiHR)yOSiR3
のシロキサン、一般式
HR2SiOSiR2H
のジシロキサン、並びにこれらの混合物をからなる群から選択され、
上記の各式において、Rが独立して、1〜18個の炭素原子を含む置換された又は未置換の炭化水素基であり、xが20未満であり、yが5以下であり且つ1未満でない、請求項1に記載のプロセス。 - 前記試薬Cが、ヘプタメチルトリシロキサン、テトラメチルジシロキサン及びそれらの混合物から選択される、請求項9に記載のプロセス。
- 促進剤をさらに含む、請求項1に記載のプロセス。
- 前記溶剤が、ハイドロシリレーション反応生成物、シロキサン流体、有機シロキサン流体、アルカン、エチレングリコールのエーテル、ジエチレングリコールのエーテル、トリエチレングリコールのエーテル、テトラエチレングリコールのエーテル、プロピレングリコールのエーテル、クメン、トルエン、キシレン、o−ジクロロベンゼン及びそれらの混合物からなる群から選択される、請求項1に記載のプロセス。
- 前記ハイドロシリレーション反応生成物が、ビニルクロロシラン、ビニルアルコキシシラン、ビス(クロロシリル)アルカン、ビス(アルコキシシリル)アルカン又はそれらの混合物である、請求項12に記載のプロセス。
- 前記シロキサン流体溶剤が、直鎖ジメチルシロキサン及び環式ポリジメチルシロキサンからなる群から選択され、前記アルカンが、ヘプタン、n−オクタン、n−ノナン、n−デカン、n−ウンデカン、n−ドデカン及びそれらの混合物からなる群から選択される、請求項12に記載のプロセス。
- 前記シラン又はシロキサンを、前記噴射エダクタ反応ゾーンに供給する前に、気体状炭化水素と予混合された液体又は気体とする、請求項1に記載のプロセス。
- 前記シラン又はシロキサンを、前記噴射エダクタ反応ゾーンに導入する前に、反応媒体と予混合された液体又は気体とする、請求項1に記載のプロセス。
- 前記反応が、120℃〜180℃の温度で行われる、請求項1に記載のプロセス。
- 前記反応が、50℃〜130℃の温度で行われる、請求項1に記載のプロセス。
- 前記反応ゾーンが、41気圧ゲージ(600psig)未満の圧力にある、請求項1に記載のプロセス。
- 前記試薬B、又は前記試薬C、又は前記試薬B及び前記試薬Cの混合物に対する前記試薬Aの供給モル比を、前記試薬B又は前記試薬C上のケイ素結合水素原子サイト当たり1を超えるよう維持する、請求項1に記載のプロセス。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US7719608P | 2008-07-01 | 2008-07-01 | |
US61/077,196 | 2008-07-01 | ||
PCT/US2009/003865 WO2010002443A1 (en) | 2008-07-01 | 2009-06-30 | Hydrosilylation process for gaseous unsaturated hydrocarbons |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011526890A JP2011526890A (ja) | 2011-10-20 |
JP2011526890A5 JP2011526890A5 (ja) | 2012-08-16 |
JP5530429B2 true JP5530429B2 (ja) | 2014-06-25 |
Family
ID=41137870
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011516330A Expired - Fee Related JP5530429B2 (ja) | 2008-07-01 | 2009-06-30 | 気体状の不飽和炭化水素のハイドロシリレーションプロセス |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8420844B2 (ja) |
EP (1) | EP2324039B1 (ja) |
JP (1) | JP5530429B2 (ja) |
CN (1) | CN102076701B (ja) |
WO (1) | WO2010002443A1 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103113399B (zh) * | 2013-03-08 | 2015-12-23 | 嘉兴学院 | 一种制备二甲基乙烯基氯硅烷的方法 |
WO2015147920A1 (en) * | 2014-03-25 | 2015-10-01 | Dow Corning Corporation | Method of separating volatile siloxane from feed mixture |
US10035881B2 (en) | 2014-06-11 | 2018-07-31 | Dow Silicones Corporation | Method of forming an organosilicon product using a membrane contactor to react a gas and liquid |
CN106866970B (zh) * | 2017-03-17 | 2020-08-11 | 华东交通大学 | 一种常温下辛基硅油的无溶剂制备方法 |
SI25126A (sl) | 2017-04-26 | 2017-07-31 | C & G D.O.O. Ljubljana | Metoda za določitev dodatnih mehanskih obremenitev visokonapetostnega vodnika |
CN108017787B (zh) * | 2017-12-19 | 2021-04-27 | 江西海多化工有限公司 | 一种不饱和烃气相硅氢加成工艺 |
CN110420609B (zh) * | 2019-09-02 | 2024-02-20 | 杭州烃能科技研究有限公司 | 一种微纳尺度多相流过程强化反应装置 |
KR102656545B1 (ko) * | 2019-09-17 | 2024-04-09 | 아심켐 라이프 사이언스 (톈진) 컴퍼니, 리미티드 | 아세틸렌과 케톤계 화합물의 부가 반응 방법 |
CN110540489B (zh) * | 2019-09-17 | 2022-09-02 | 凯莱英生命科学技术(天津)有限公司 | 乙炔与酮类化合物进行加成反应的方法 |
CN115466281B (zh) * | 2021-06-11 | 2024-12-10 | 新特能源股份有限公司 | 一种乙烯基三氯硅烷及其生产方法和系统 |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL132148C (ja) | 1963-12-18 | |||
DE2131742C3 (de) | 1971-06-25 | 1974-11-14 | Wacker-Chemie Gmbh, 8000 Muenchen | Verfahren zur Herstellung von Alkenylsilanen |
US4138440A (en) * | 1974-08-14 | 1979-02-06 | Mobil Oil Corporation | Conversion of liquid alcohols and ethers with a fluid mass of ZSM-5 type catalyst |
DE2851456C2 (de) | 1978-11-28 | 1982-09-23 | Wacker-Chemie GmbH, 8000 München | Verfahren zur Herstellung von Organosiliciumverbindungen |
US4579965A (en) | 1985-01-24 | 1986-04-01 | Union Carbide Corporation | Process for preparing vinyl-tri-(tertiary substituted) alkoxysilanes |
JPH02311484A (ja) * | 1989-05-25 | 1990-12-27 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 有機ケイ素化合物の製造方法 |
US4898961A (en) | 1989-07-17 | 1990-02-06 | Dow Corning Corporation | Method for preparing alkenylsilanes |
US5041595A (en) * | 1990-09-26 | 1991-08-20 | Union Carbide Chemicals And Plastics Technology Corporation | Method for manufacturing vinylalkoxysilanes |
US5250490A (en) * | 1991-12-24 | 1993-10-05 | Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation | Noble metal supported on a base metal catalyst |
DE19619138C2 (de) * | 1996-05-11 | 2002-04-18 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von vinylierten Silicium-organischen Verbindungen |
JP4488582B2 (ja) * | 2000-04-13 | 2010-06-23 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 連続的ヒドロシリル化反応方法、変性された液状有機珪素化合物の連続的製造方法および連続的ヒドロシリル化反応装置 |
DE10034894A1 (de) | 2000-07-18 | 2002-01-31 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Vinylsilanen |
IL147949A (en) * | 2001-02-03 | 2004-12-15 | Degussa | Process for producing converted silanes profile in position 3 |
US7005532B2 (en) | 2001-09-14 | 2006-02-28 | Toagosei Co., Ltd. | Process of producing alkoxysilanes |
US6500977B1 (en) * | 2001-11-27 | 2002-12-31 | Dow Corning Corporation | Process for producing organosilanes |
US6897280B2 (en) * | 2002-09-23 | 2005-05-24 | General Electric Company | Continuous manufacture of silicone copolymers via multi-stage blade-mixed plug flow tubular reactor |
US7235682B2 (en) * | 2003-05-30 | 2007-06-26 | Gelest Inc. | Process for manufacturing organochlorosilanes and dipodal silanes |
DE102004027003A1 (de) * | 2004-06-03 | 2005-12-22 | Wacker-Chemie Gmbh | Hydrophile Siloxancopolymere und Verfahren zu deren Herstellung |
DE102004038125A1 (de) * | 2004-08-05 | 2006-03-16 | Linde-Kca-Dresden Gmbh | Trennapparat für Suspensionen |
DE102004058000A1 (de) * | 2004-12-01 | 2006-06-08 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur kontinuierlichen Hydrosilylierung |
CN101389693B (zh) * | 2006-03-31 | 2011-07-20 | 陶氏康宁公司 | 制备硅氧烷聚醚的方法 |
DE102006039191A1 (de) * | 2006-08-21 | 2008-03-20 | Wacker Chemie Ag | Kontinuierliche Herstellung von Organosilanen |
US20080075655A1 (en) * | 2006-09-21 | 2008-03-27 | Lev Davydov | Gas mixing device and methods of use |
DE102007007185A1 (de) * | 2007-02-09 | 2008-08-14 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Glycidyloxyalkyltrialkoxysilanen |
-
2009
- 2009-06-30 JP JP2011516330A patent/JP5530429B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2009-06-30 CN CN200980125467.6A patent/CN102076701B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2009-06-30 WO PCT/US2009/003865 patent/WO2010002443A1/en active Application Filing
- 2009-06-30 EP EP09773896.7A patent/EP2324039B1/en not_active Not-in-force
- 2009-06-30 US US12/459,315 patent/US8420844B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2010002443A1 (en) | 2010-01-07 |
US8420844B2 (en) | 2013-04-16 |
EP2324039B1 (en) | 2013-05-29 |
US20100004476A1 (en) | 2010-01-07 |
CN102076701B (zh) | 2014-11-26 |
CN102076701A (zh) | 2011-05-25 |
EP2324039A1 (en) | 2011-05-25 |
JP2011526890A (ja) | 2011-10-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5530429B2 (ja) | 気体状の不飽和炭化水素のハイドロシリレーションプロセス | |
EP0602922B1 (en) | Method for producing dicycloalkylsubstituted silanes | |
US5359111A (en) | Method for controlling hydrosilylation in a reaction mixture | |
JP2011526890A5 (ja) | ||
JP3771307B2 (ja) | ヒドロシリル化方法 | |
CN107365416B (zh) | 一种制备侧链改性聚硅氧烷的方法 | |
JPS6052760B2 (ja) | SiOC基を有するシラン又はSiOC基を有するポリシロキサンの連続的製造方法 | |
US4736049A (en) | Addition reaction method | |
EP0652222B1 (en) | Method for maintaining catalytic activity during a hydrosilylation reaction | |
JPH08208663A (ja) | 水素化アルコキシシランの製造法 | |
JP6689005B2 (ja) | シクロジエン添加剤を使用する白金触媒ヒドロシリル化反応 | |
JP3339886B2 (ja) | 反応混合物におけるヒドロシリル化の制御方法 | |
JP3753255B2 (ja) | オルガノシリコン化合物の製造方法 | |
EP0785202B1 (en) | Alkyne hydrosilation using cycloalkadiene as catalyst modifier | |
JP4150020B2 (ja) | Si−H基を有する直鎖状のオルガノポリシロキサンの製造方法 | |
US20120296106A1 (en) | Process for preparing organosilanes | |
JP4130489B2 (ja) | 触媒変性剤としてシクロアルケンを用いるアルキンのヒドロシリル化 | |
JP2016530277A (ja) | サイクロン微粒子からのオルガノハロシランのスラリー相直接合成 | |
KR20090132546A (ko) | 수소규소화 방법 | |
WO2024191514A1 (en) | Process and catalyst composition for preparing organosilicon compounds via isomerization of internal olefins and hydrosilylation |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120628 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120628 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130904 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130917 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20131212 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20131219 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20140114 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20140121 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20140217 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20140224 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140311 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140401 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140418 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5530429 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |