[go: up one dir, main page]

JP5519572B2 - 磁気力顕微鏡用カンチレバー - Google Patents

磁気力顕微鏡用カンチレバー Download PDF

Info

Publication number
JP5519572B2
JP5519572B2 JP2011104151A JP2011104151A JP5519572B2 JP 5519572 B2 JP5519572 B2 JP 5519572B2 JP 2011104151 A JP2011104151 A JP 2011104151A JP 2011104151 A JP2011104151 A JP 2011104151A JP 5519572 B2 JP5519572 B2 JP 5519572B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cantilever
probe
force microscope
magnetic force
magnetic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2011104151A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2012233845A (ja
Inventor
開鋒 張
丈師 廣瀬
正浩 渡辺
哲也 松井
恒夫 中込
照明 徳冨
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi High Technologies Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi High Technologies Corp filed Critical Hitachi High Technologies Corp
Priority to JP2011104151A priority Critical patent/JP5519572B2/ja
Priority to US13/462,845 priority patent/US8621659B2/en
Priority to CN2012101404535A priority patent/CN102778589A/zh
Publication of JP2012233845A publication Critical patent/JP2012233845A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5519572B2 publication Critical patent/JP5519572B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q60/00Particular types of SPM [Scanning Probe Microscopy] or microscopes; Essential components thereof
    • G01Q60/24AFM [Atomic Force Microscopy] or apparatus therefor, e.g. AFM probes
    • G01Q60/36DC mode
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q60/00Particular types of SPM [Scanning Probe Microscopy] or microscopes; Essential components thereof
    • G01Q60/50MFM [Magnetic Force Microscopy] or apparatus therefor, e.g. MFM probes
    • G01Q60/54Probes, their manufacture, or their related instrumentation, e.g. holders
    • G01Q60/56Probes with magnetic coating
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q60/00Particular types of SPM [Scanning Probe Microscopy] or microscopes; Essential components thereof
    • G01Q60/24AFM [Atomic Force Microscopy] or apparatus therefor, e.g. AFM probes
    • G01Q60/38Probes, their manufacture, or their related instrumentation, e.g. holders
    • G01Q60/42Functionalisation
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q60/00Particular types of SPM [Scanning Probe Microscopy] or microscopes; Essential components thereof
    • G01Q60/50MFM [Magnetic Force Microscopy] or apparatus therefor, e.g. MFM probes
    • G01Q60/54Probes, their manufacture, or their related instrumentation, e.g. holders
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q70/00General aspects of SPM probes, their manufacture or their related instrumentation, insofar as they are not specially adapted to a single SPM technique covered by group G01Q60/00
    • G01Q70/08Probe characteristics
    • G01Q70/14Particular materials
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q70/00General aspects of SPM probes, their manufacture or their related instrumentation, insofar as they are not specially adapted to a single SPM technique covered by group G01Q60/00
    • G01Q70/08Probe characteristics
    • G01Q70/10Shape or taper
    • G01Q70/12Nanotube tips
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q70/00General aspects of SPM probes, their manufacture or their related instrumentation, insofar as they are not specially adapted to a single SPM technique covered by group G01Q60/00
    • G01Q70/16Probe manufacture

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Radiology & Medical Imaging (AREA)
  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
  • Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)

Description

本発明は、磁気力顕微鏡用カンチレバーに関し、特にカンチレバーの先端の保護に関するものである。
原子間力顕微鏡(Atomic Force Microscope:AFM)は、先端の鋭い探針を搭載するカンチレバーを用いて、試料表面をなぞるか、または試料表面と一定の間隔を保ってトレースし、試料と探針の原子間力によるカンチレバーの上下方向への変位を計測することで試料表面形状の評価を行う。
ここで、具体的に原子間力顕微鏡(AFM)構成の一例を示す。図6は原子間力顕微鏡(AFM)構成の一例を説明するための説明図である。
図6において、原子間力顕微鏡(AFM)の最も基本的な構成としては、原子間力顕微鏡(AFM)の測定部が除振台101の上に設置されている。
まず、先端に細い探針が付いているカンチレバー1に加振部102により加振する。次に光学顕微鏡103を利用し、カンチレバー1を観察したい所の上方に移動する。このとき、Zステージ104を徐々に上昇させ、試料台107に載せられている試料108にカンチレバー1を接近させる。
十分接近すると、カンチレバー1の先端の探針と試料表面間に作用する原子間力(引力・斥力)はカンチレバー1の振動に影響するようになり、探針と試料間がある一定の距離(標準位置)であると、カンチレバー1の振動に影響する力は一定であり、振動しているカンチレバー1のたわみも一定である。
このとき、原子間力顕微鏡(AFM)はカンチレバー1のたわみから検知する構成で、カンチレバー1の先端に照射したレーザー109からの光線の反射スポットを位置検出器110で検出している。この光学検出系は「光てこ法」を利用したもので、カンチレバー1の微小な変位を位置検出器110上に拡大投影して検出している。位置検出器110には例えば、図6に示すような4分割フォトダイオードの検出器を使用し、それぞれの検出信号量の差を演算回路によって演算することで位置情報を得ている。
つまり、カンチレバー1の先端が上下に変位し反射スポットの位置がずれると検出信号量の差の演算結果に変化が生じる。差動アンプ111はこの結果を受けて基準位置からの差が最小となる、つまりカンチレバーのたわみ量が一定になるように探針・試料間距離をフィードバック制御できる出力を圧電素子駆動電源(Zステージ104にある)に送っている。
このフィードバック回路112によって、例えばカンチレバー1が上方に変位した場合にはZステージ104にある圧電素子が縮み、カンチレバーの姿勢が元の位置に戻る。
このように原子間力顕微鏡(AFM)は探針と試料間に作用する原子間力を一定に保持するフィードバック制御下で試料表面上を走査し、このときのZステージ駆動電圧を距離換算したデータに基づいて、さらに試料のX、Y方向の移動を同一のコンピュータ113からXY駆動回路114に指令を出して、Xステージ105とYステージ106を制御することにより、3次元の凹凸情報としてコンピュータ113において画像化している。
原子間力顕微鏡(AFM)の空間分解能はカンチレバー1の先端の探針の曲率半径に依存し、普通は数nmオーダーの分解能を持っている。
また、原子間力顕微鏡(AFM)検査技術に基づいて、カンチレバー1に磁性材料を蒸着した物を用いて、被測定物の表面から、一定の高さにリフトアップし、被測定物の上方(約10〜30nm)において、材料表面から発生する磁界を測定するものは、磁気力顕微鏡(Magnetic Force Microscope:MFM)と呼ばれている。
この磁気力顕微鏡の構成の一例を図7に示す。図7は磁気力顕微鏡(MFM)構成の一例を説明するための説明図である。
図7において、図6に示す原子間力顕微鏡(AFM)との違いは、カンチレバー1が被測定物の表面から、一定の高さにリフトアップし、被測定物の上方において、材料表面から発生する磁界を測定するの他、カンチレバー1の先端の探針が磁性材料付加探針になっている点である。
一般に磁界の検出空間分解能は、原子間力顕微鏡(AFM)と同様に探針の曲率半径などに依存しているが、実際に探針に付加する磁性体の形状に直接関係することは実験で判明している。
ここで、磁気力顕微鏡(MFM)を使用して測定を行う場合の異物の影響について図8により説明する。図8は磁気力顕微鏡(MFM)を使用して測定を行う場合の異物の影響を説明するための説明図である。
磁気力顕微鏡(MFM)のカンチレバー1は試料108の上方に一定の高さにおいて、スキャンしているので、図8に示すように、被測定磁界302を発生する被測定物の表面に異物303が存在すれば、高速スキャン中のカンチレバー1の先端の探針と衝突すると、探針は破損する可能性が高い。
このような磁気力顕微鏡(MFM)用として、カンチレバー先端の探針に磁性膜のような機能膜を付加するものとして、例えば、特開2003−215020号公報(特許文献1)に記載された技術があった。
特開2003−215020号公報
現行多数の磁気力顕微鏡(MFM)は被測定物の表面で、各測定ラインにおいて、まずAFMモードで高さ情報を収集してから、カンチレバー1は被測定物の上方の一定の高さにリフトアップし、MFMモードでスキャンを行う。
この場合、AFMモードのスキャンを行うため、測定時間を短縮するのが難しい。高速MFMを実現するために、被測定物の表面は均一な高さを持つことを前提として、測定最初の1ラインか数ラインの高さ情報をAFMモードで測定するだけで、その後ずっとMFMモードで高速スキャンを行うこととなる。
この際、高さ情報未入手のエリアに異物が存在すれば、高速スキャン中のカンチレバー先端の探針は異物と衝突し、探針は破損する可能性が極めて高い。探針が異物と衝突する際、探針破損の確率を最小限にするのは課題となっている。
また、磁気力顕微鏡用のカンチレバー1の先端の探針に付加する磁性膜が一般的に酸化しやすい材料であるため、時間が経つと、探針の磁性材料が酸化することにより、探針の体積と磁気特性が変化することも課題となる。
例えば特許文献1では、わざわざ細く製作された探針に保護膜を追加することは報告されていないため、この探針の磁性材料が酸化する恐れがある。
また、磁気力顕微鏡用のカンチレバー1を製作するとき、磁性膜と保護膜の付け方によって、磁気力顕微鏡用のカンチレバー1の性能が随分変わる。例えば、磁性膜の厚さと膜が存在する場所は測定の空間分解能に影響する。また、保護膜は探針の先端部と先端部でない所の膜厚も区別がないとカンチレバー1は磁気力顕微鏡用として働かない可能性も高い。つまり先端部の保護膜が厚すぎると、探針に付く磁性体と被測定磁界の距離が遠くなり、磁界を感受できなくなる。従って、磁気力顕微鏡用のカンチレバー1の製作方法も課題である。
本発明の目的は、この2点の問題を解決するために、磁気力顕微鏡用カンチレバー1の空間分解能が磁気力顕微鏡用カンチレバー1の探針の先端に付加された磁性体の形状のみ依存することを利用し、磁性膜が付加された探針の外にさらに保護膜を成膜することにより高耐久性の磁気力顕微鏡用カンチレバーを製造することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次の通りである。
すなわち、代表的なものの概要は、磁気力顕微鏡用カンチレバーの先端の探針に磁性膜を成膜した後、磁気力顕微鏡用カンチレバーの探針の周囲に非磁性硬質膜を付加するものである。
本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以下の通りである。
すなわち、代表的なものによって得られる効果は、磁気力顕微鏡用のカンチレバーの空間分解能を保証する上で、先端の探針の高剛性、耐衝突、耐磨耗化を実現でき、酸化しやすい磁性膜の保護も可能となる。
本発明の実施の形態1に係る磁気力顕微鏡用カンチレバーの構成を示す構成図である。 本発明の実施の形態1に係る磁気力顕微鏡用カンチレバーの製造方法を示す図である。 本発明の実施の形態2に係る磁気力顕微鏡用カンチレバーの構成を示す構成図である。 本発明の実施の形態2に係る磁気力顕微鏡用カンチレバーの製造方法を示す図である。 本発明の実施の形態3に係る磁気力顕微鏡用カンチレバーの製造方法を示す図である。 原子間力顕微鏡(AFM)構成の一例を説明するための説明図である。 磁気力顕微鏡(MFM)構成の一例を説明するための説明図である。 磁気力顕微鏡(MFM)を使用して測定を行う場合の異物の影響を説明するための説明図である。
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一の部材には原則として同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。
(実施の形態1)
図1により、本発明の実施の形態1に係る磁気力顕微鏡用カンチレバーの構成について説明する。図1は本発明の実施の形態1に係る磁気力顕微鏡用カンチレバーの構成を示す構成図である。
図1において、磁気力顕微鏡用カンチレバー1は、四面体構造をしている探針401を持つカンチレバー1と、探針401の前面に付加されている磁性膜2と、磁性膜2が付加された探針401の正面と裏面に付加されている非磁性硬質保護膜3とを備え、高耐久性の磁気力顕微鏡用カンチレバー1を構成している。
本実施の形態における磁気力顕微鏡用カンチレバー1の各部分の役割は以下の通りである。
磁気力顕微鏡用カンチレバー1は、カンチレバーの構成としては一般的な原子間力顕微鏡におけるものと同様であるが、磁気力顕微鏡用カンチレバー1の先端の探針401に付着する磁性膜2が磁気力顕微鏡用カンチレバー1の空間分解能を決め、磁気力顕微鏡の測定時に被測定物の磁場を感受する。
非磁性硬質保護膜3は硬質かつ厚く(数10nm〜300nm程度)成膜しているため、探針401の剛性を向上することが、高速スキャン時の探針が異物に衝突する際の破損確率を抑えている。また磁性膜2が一般的に酸化しやすい材料であるため、磁性材料が酸化を防止することも可能である。
次に、図2により、本発明の実施の形態1に係る磁気力顕微鏡用カンチレバーの製造方法について説明する。図2は本発明の実施の形態1に係る磁気力顕微鏡用カンチレバーの製造方法を示す図である。
まず、四面体構造をしている探針401を持つ磁気力顕微鏡用カンチレバー1の真正面から、磁性膜2をコーティングする(図2(a))。磁性膜の成膜量は実際測定対象の磁界強度とサイズにより決めるが、一般的に5nm〜40nmである。磁性体の材料は測定目的によって、Ni、NiFe、CoFe等の軟磁性材料を選べるし、Co、Al−Ni−Co、Fe−Pt等の硬磁性材料も選べる。
さらに、磁気力顕微鏡用カンチレバー1の先端突起部に非磁性硬質保護膜3を付加する。非磁性硬質保護膜3は先に磁気力顕微鏡用カンチレバー1の正面から付加するが、探針の先端の回りこみ量を最大限に抑えるために、角度(15°−45°)をつけて、成膜する(図2(b))。
続けて、突起部の裏面に成膜するが、磁気力顕微鏡用カンチレバー1のレバー部が存在するため、正面と同じく成膜するのは不可能である。そのため、(図2(c))のように、斜後方の2方向から、角度(15°−30°)をつけて、成膜することとなる。非磁性硬質保護膜の最大膜厚は300nm程度である。
但し、探針の先端部の非磁性硬質保護膜の厚さは2〜3nmに抑える必要がある。材料はDLC、TiN、TiC、TiCN、CrNCN等または貴金属のような硬質非磁性材料である。但し、磁性膜の酸化を防止するため、Niのような磁性金属材料を使用することもある。
このように磁気力顕微鏡用カンチレバー1を製造することにより、非磁性硬質保護膜3が付加された磁気力顕微鏡用カンチレバー1を容易に製造することができる。
(実施の形態2)
実施の形態2は、シリコン探針の先端にカーボンナノファイバ探針(CNF探針)またはカーボンナノチューブ探針(CNT探針)が形成されているカンチレバーに非磁性硬質保護膜を付加したものである。
図3により、本発明の実施の形態2に係る磁気力顕微鏡用カンチレバーの構成について説明する。図3は本発明の実施の形態2に係る磁気力顕微鏡用カンチレバーの構成を示す構成図である。
図3において、磁気力顕微鏡用カンチレバー1は、シリコン探針の先端に形成されたカーボンナノファイバ探針(CNF探針)またはカーボンナノチューブ探針(CNT探針)からなる探針601と、この探針601の正面に付加された磁性膜2と、磁性膜2が付加された探針の正面と裏面に付加する非磁性硬質保護膜3とを備え、高耐久性の磁気力顕微鏡用カンチレバー1を構成している。
本実施の形態における磁気力顕微鏡用カンチレバー1の各部分の役割は実施の形態1と同様である。
次に、図4により、本発明の実施の形態2に係る磁気力顕微鏡用カンチレバーの製造方法について説明する。図4は本発明の実施の形態2に係る磁気力顕微鏡用カンチレバーの製造方法を示す図である。
まず、探針601を持つ磁気力顕微鏡用カンチレバー1の真正面から、磁性膜2をコーティングする(図4(a))。探針601は長が200nm以上、径が10nm〜30nmである棒状物であるため、磁性膜2をコーティングする際は、スパッタ装置の選択は1つのポイントであり、廻りこみを抑えるために、ターゲットとカンチレバー間の距離は比較的大きいほうが良い。
さらに、探針601に非磁性硬質保護膜3を付加する。非磁性硬質保護膜3は正面と裏面の2方向、角度無しで、コーティングするが(図4(b))、非磁性硬質保護膜3を成膜する際に、膜の回りこみで探針601の全体を保護するため、探針縦方向一周に非磁性硬質保護膜3を付加できるように、成膜ターゲットと試料間の距離は比較的短いほうが良い。
一方、探針の先端部の非磁性硬質保護膜の厚さは2nm〜3nmに抑えるために、探針先端部の前約20nmの所、探針先頭の所の非磁性硬質保護膜3が厚くならないように、遮蔽物701を設置し、要求した膜厚になったら、また遮蔽物701を取り除き、さらに底面から非磁性硬質保護膜を2nm〜3nm成膜する(図4(c))。
このように磁気力顕微鏡用カンチレバー1を製造することにより、非磁性硬質保護膜3が付加された磁気力顕微鏡用カンチレバー1を容易に製造することができる。
(実施の形態3)
実施の形態3は、実施の形態2において、非磁性硬質保護膜3の付加を磁気力顕微鏡用カンチレバー1を回転させながら行うようにしたものである。磁気力顕微鏡用カンチレバー1の構成は実施の形態2と同様である。
次に、図5により、本発明の実施の形態3に係る磁気力顕微鏡用カンチレバーの製造方法について説明する。図5は本発明の実施の形態3に係る磁気力顕微鏡用カンチレバーの製造方法を示す図である。
まず、探針601を持つ磁気力顕微鏡用カンチレバー1の真正面から、磁性膜をコーティングする(図5(a))。
その後、すぐに非磁性硬質保護膜3を付加することなく、探針601の先端に径と同程度、または若干大きい微粒子802(径:10nm〜40nm)を先に着け、その後、磁気力顕微鏡用カンチレバー1に探針を軸として回転させ、カンチレバー1の探針側の斜方から非磁性硬質保護膜を成膜する(図5(b))。
非磁性硬質保護膜3の要求膜厚になったら、微粒子802を取り除き、さらに底面から非磁性硬質保護膜を2〜3nm成膜する(図5(c))。
このように磁気力顕微鏡用カンチレバー1を製造することにより、非磁性硬質保護膜3が付加された磁気力顕微鏡用カンチレバー1を容易に製造することができる。
以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
本発明は、磁気力顕微鏡に使用されるカンチレバーに広く適用可能である。
1…磁気力顕微鏡用カンチレバー、2…磁性膜、3…非磁性硬質保護膜、101…除振台、102…加振部、103…光学顕微鏡、104…Zステージ、105…Xステージ、106…Yステージ、107…試料台、108…試料、109…レーザー、110…位置検出器、111…差動アンプ、112…フィードバック回路、113…コンピュータ、114…XY駆動回路、302…被測定物、303…異物、401、601…探針、701…遮蔽物、802…微粒子。

Claims (6)

  1. 磁気力顕微鏡の測定に使用される磁気力顕微鏡用カンチレバーであって、
    前記磁気力顕微鏡用カンチレバーの先端の探針に付加された磁性膜と、
    前記探針の周囲に付加された非磁性硬質保護膜とを備え、
    前記磁気力顕微鏡用カンチレバーの先端の探針は、CNF探針またはCNT探針であり、
    前記CNF探針または前記CNT探針の片面は、前記磁性膜の成膜ターゲットと前記CNF探針または前記CNT探針との間の距離を廻り込みを押さえる距離に設定することにより磁性膜が形成されており
    前記CNF探針または前記CNT探針の周囲は、廻り込みにより前記CNF探針または前記CNT探針の全体を成膜する距離に設定することにより非磁性硬質保護膜が形成されていることを特徴とする磁気力顕微鏡用カンチレバー。
  2. 請求項1に記載の磁気力顕微鏡用カンチレバーにおいて、
    前記磁性膜の形状により、前記磁気力顕微鏡用カンチレバーで磁界を測定する際の空間分解能を決めることを特徴とする磁気力顕微鏡用カンチレバー。
  3. 請求項1に記載の磁気力顕微鏡用カンチレバーにおいて、
    前記磁性膜は、Ni、NiFe、CoFeの軟磁性材料、またはCo、Al−Ni−C、Fe−Ptの硬磁性材料であることを特徴とする磁気力顕微鏡用カンチレバー。
  4. 請求項1に記載の磁気力顕微鏡用カンチレバーにおいて、
    前記非磁性硬質保護膜は、DLC、TiN、TiC、TiCN、CrNCN、または貴金属膜であることを特徴とする磁気力顕微鏡用カンチレバー。
  5. 請求項1に記載の磁気力顕微鏡用カンチレバーにおいて、
    前記CNF探針または前記CNT探針の周囲前記非磁性硬質保護膜は、前記CNF探針または前記CNT探針の先端部分に、遮蔽物を一定時間設置することにより成膜されたものであることを特徴とする磁気力顕微鏡用カンチレバー。
  6. 請求項1に記載の磁気力顕微鏡用カンチレバーにおいて、
    前記CNF探針または前記CNT探針の周囲前記非磁性硬質保護膜は、前記非磁性硬質保護膜を成膜する前に、前記CNF探針または前記CNT探針の先端部分に、その径と同程度、または若干大きい微粒子を着け、その後、前記磁気力顕微鏡用カンチレバーを前記CNF探針または前記CNT探針を軸に回転させ、斜下方から前記非磁性硬質保護膜を成膜し、前記微粒子を取り除いた後、さらに底面から前記非磁性硬質保護膜を成膜することにより形成されたものであることを特徴とする磁気力顕微鏡用カンチレバー。
JP2011104151A 2011-05-09 2011-05-09 磁気力顕微鏡用カンチレバー Active JP5519572B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011104151A JP5519572B2 (ja) 2011-05-09 2011-05-09 磁気力顕微鏡用カンチレバー
US13/462,845 US8621659B2 (en) 2011-05-09 2012-05-03 Cantilever for magnetic force microscope and method of manufacturing the same
CN2012101404535A CN102778589A (zh) 2011-05-09 2012-05-08 磁力显微镜用悬臂及其制造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011104151A JP5519572B2 (ja) 2011-05-09 2011-05-09 磁気力顕微鏡用カンチレバー

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012233845A JP2012233845A (ja) 2012-11-29
JP5519572B2 true JP5519572B2 (ja) 2014-06-11

Family

ID=47123561

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011104151A Active JP5519572B2 (ja) 2011-05-09 2011-05-09 磁気力顕微鏡用カンチレバー

Country Status (3)

Country Link
US (1) US8621659B2 (ja)
JP (1) JP5519572B2 (ja)
CN (1) CN102778589A (ja)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5519572B2 (ja) * 2011-05-09 2014-06-11 株式会社日立ハイテクノロジーズ 磁気力顕微鏡用カンチレバー
EP2869071A1 (en) * 2013-10-29 2015-05-06 Imec Probe configuration and method of fabrication thereof
WO2017006397A1 (ja) * 2015-07-03 2017-01-12 国立大学法人名古屋工業大学 カンチレバー
US9568496B1 (en) * 2015-11-17 2017-02-14 International Business Machines Corporation Scanning probe sensor with a ferromagnetic fluid
CN107782918A (zh) * 2016-08-29 2018-03-09 苏州泰岩新材料有限公司 一种采用磁性纳米线的磁学原子力显微镜探针
CN108931667A (zh) * 2017-05-24 2018-12-04 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 兼具电学和磁学信号获取功能的扫描显微镜探针及其制备方法
EP3770591A4 (en) 2018-03-22 2021-12-22 National Institutes for Quantum and Radiological Science and Technology METHOD OF OBSERVATION OF A MAGNETIC BODY AND ASSOCIATED DEVICE
CN109900929B (zh) * 2019-03-18 2021-09-03 南京理工大学 基于matlab的fib制备三维原子探针样品过程的模拟方法
CN110333372A (zh) * 2019-07-18 2019-10-15 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 一种磁性扫描显微镜探针及其制备方法
CN110954714B (zh) * 2019-12-20 2021-10-19 江苏集萃微纳自动化系统与装备技术研究所有限公司 一种原子力显微镜的探针的刚度实时调节方法
CN111089988B (zh) * 2019-12-27 2023-01-31 季华实验室 一种高均匀性磁性探针及其制备方法

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06249933A (ja) * 1993-03-01 1994-09-09 Seiko Instr Inc 磁気力顕微鏡用カンチレバー
JPH0821870A (ja) * 1994-07-06 1996-01-23 Hitachi Ltd 走査表面磁気検出装置
JPH09152474A (ja) * 1995-11-30 1997-06-10 Sumitomo Metal Ind Ltd 磁気プローブ及びその製造方法
US5968677A (en) * 1996-12-18 1999-10-19 Hitachi, Ltd. Ferromagnetic material and magnetic apparatus employing the ferromagnetic material
US5892223A (en) * 1997-06-30 1999-04-06 Harris Corporation Multilayer microtip probe and method
JP2003215020A (ja) 2002-01-21 2003-07-30 Toshiba Corp 磁気力顕微鏡用プローブ装置
JP2004340741A (ja) * 2003-05-15 2004-12-02 Fujitsu Ltd 磁性プローブ及びその製造方法
US20080098805A1 (en) * 2004-10-06 2008-05-01 Sungho Jin Nanotube-Based Nanoprobe Structure and Method for Making the Same
JP4452827B2 (ja) * 2004-12-28 2010-04-21 独立行政法人産業技術総合研究所 走査型磁気力顕微鏡用探針およびその製造方法並びにカーボンナノチューブ用強磁性合金成膜方法
WO2007078316A2 (en) * 2005-05-10 2007-07-12 The Regents Of The University Of California Tapered probe structures and fabrication
US7637149B2 (en) * 2005-06-17 2009-12-29 Georgia Tech Research Corporation Integrated displacement sensors for probe microscopy and force spectroscopy
US8245318B2 (en) * 2006-07-27 2012-08-14 The Regents Of The University Of California Sidewall tracing nanoprobes, method for making the same, and method for use
JP4462444B2 (ja) * 2007-02-27 2010-05-12 国立大学法人秋田大学 磁気力顕微鏡用探針の製造方法
JP2010175534A (ja) * 2009-01-05 2010-08-12 Hitachi High-Technologies Corp 磁気デバイス検査装置および磁気デバイス検査方法
JP5460386B2 (ja) * 2010-03-09 2014-04-02 株式会社日立ハイテクノロジーズ 磁気ヘッド検査方法及び磁気ヘッド製造方法
JP2012047539A (ja) * 2010-08-25 2012-03-08 Hitachi High-Technologies Corp Spmプローブおよび発光部検査装置
JP5519572B2 (ja) * 2011-05-09 2014-06-11 株式会社日立ハイテクノロジーズ 磁気力顕微鏡用カンチレバー
JP5832374B2 (ja) * 2011-10-13 2015-12-16 株式会社日立ハイテクノロジーズ 走査プローブ顕微鏡のカンチレバー及びその製造方法、並びに熱アシスト磁気ヘッド素子の検査方法及びその装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2012233845A (ja) 2012-11-29
CN102778589A (zh) 2012-11-14
US8621659B2 (en) 2013-12-31
US20120291161A1 (en) 2012-11-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5519572B2 (ja) 磁気力顕微鏡用カンチレバー
US7109482B2 (en) Object inspection and/or modification system and method
US8300221B2 (en) Minute measuring instrument for high speed and large area and method thereof
JP4096303B2 (ja) 走査型プローブ顕微鏡
JPH11166937A (ja) 交流型磁気力顕微鏡システム
JP2009525466A (ja) 可変密度走査関連出願の相互参照本出願は、2006年1月31日に出願された米国仮特許出願60/763,659の優先権を主張し、2006年11月28日に出願された、米国特許出願11/563,822(発明の名称「可変密度走査」)に関連しその優先権を主張するものであり、引用によりその全体を本明細書に包含する。
CN105793776A (zh) 扫描探针纳米光刻系统和方法
JP2006343213A (ja) 微細構造体、カンチレバー、走査型プローブ顕微鏡及び微細構造体の変形量測定方法
JP2013101099A (ja) 走査プローブ顕微鏡のカンチレバー及びその製造方法、並びに熱アシスト磁気ヘッド素子の検査方法及びその装置
US6121771A (en) Magnetic force microscopy probe with bar magnet tip
CN1877246A (zh) 用原子力显微镜确定样品的材料界面和计量信息的方法
JP2009133730A (ja) 表面形状測定用触針式段差計を用いた段差測定方法及び装置
CN102194467A (zh) 磁头检查方法以及磁头制造方法
JP4739121B2 (ja) 走査型プローブ顕微鏡
Tsunemi et al. Development of multi-environment dual-probe atomic force microscopy system using optical beam deflection sensors with vertically incident laser beams
JP2009198202A (ja) 異物除去装置および異物除去方法
Yasutake et al. Critical dimension measurement using new scanning mode and aligned carbon nanotube scanning probe microscope tip
JP4485393B2 (ja) 磁気力測定方法
JPH10247118A (ja) マイクロダンパ、及び該マイクロダンパを有するセンサ、アクチュエータ、プローブ、並びに該プローブを有する走査型プローブ顕微鏡、加工装置、情報処理装置
JP2008096251A (ja) 高帯域原子間力顕微鏡装置
JP2010038856A (ja) 走査プローブ顕微鏡
JP5852445B2 (ja) 高速走査プローブ顕微鏡
JP3992139B2 (ja) 走査型ローレンツ力プローブ顕微鏡およびこれを用いた情報記録再生装置
Ruiz-Perez et al. Scanning Probe Microscopy: Tipping
Hussain et al. Atomic force microscopy based micro and nano sidewall imaging

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130313

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130612

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130618

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130809

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130917

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140311

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140403

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5519572

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250