JP5485117B2 - 接合体 - Google Patents
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Description
超硬合金焼結体を第1の被接合材とし、cBN焼結体を第2の被接合材とする接合体であって、前記第1の被接合材および第2の被接合材は、両者の間に設置されたチタン(Ti)を含有する接合材を介して、少なくとも、前記第2の被接合材の背面と底面からなる2面で接合されており、前記第2の被接合材と前記接合材との界面に、厚み10〜300nmの窒化チタン(TiN)化合物層が形成されていると共に、前記背面の接合層の厚みが、底面の接合層の厚みよりも薄いことを特徴とする接合体である。
前記背面の接合層の厚みをa、前記底面の接合層の厚みをbとした時、bは1〜50μmであり、かつ、aとbが、0.05<a/b<1の関係にあることを特徴とする請求項1に記載の接合体である。
前記接合材が、ジルコニウム(Zr)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、銀(Ag)、銅(Cu)から選ばれた1種または2種以上を含むことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の接合体である。
前記接合材が、チタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)、銅(Cu)、ニッケル(Ni)から構成されており、
Ti、Zr、Cuの各含有比率の合計をxvol%、
Niの含有比率を(100−x)vol%としたとき、
Tiの含有比率が(0.1〜0.4)xvol%、
Zrの含有比率が(0.1〜0.4)xvol%、
Cuの含有比率が(0.3〜0.7)xvol%
であることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の接合体である。
前記接合材に含まれるニッケル(Ni)の含有比率が、70vol%以下であることを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載の接合体である。
図1は、本実施の形態における接合体を模式的に示す図であって、(a)は側面図、(b)は平面図である。図1において、1は超硬合金焼結体により形成される第1の被接合材であり、2はcBN焼結体により形成される第2の被接合材であり、3は第1の被接合材1と第2の被接合材2との間に介在するTiを含有する接合材であり、第2の被接合材2と接合材3との界面には、厚み10〜300nmのTiN化合物層(図示省略)が形成されている。
次に、通電加圧接合法について、図2を用いて説明する。図2は、通電加圧接合における通電の一形態を説明する概念図である。図2において、34は電極であり、35は分割電極であり、36はアルミナ等で形成された水平方向加圧材である。
通電条件は、使用される被接合材1、2および接合材3の材質等により、適宜決定されるが、接合材3近傍以外で、被接合材1、2の材料の変形・溶融や、粒子の粗大化を招かないためには、1分以内、特に30秒以内程度が好ましい。
通電加圧接合を行う接合材3の形態としては、第1の被接合材1や第2の被接合材2の表面に粉末、箔、もしくはペースト状にして塗布する方法の他、めっき法や物理蒸着法で被覆する方法を採用することができる。めっき法や物理蒸着法で被覆する方法は、接合材3を被覆した後に被接合材1、2をハンドリングしやすく、接合工程の自動化に有利である他、被覆膜厚の制御も行いやすいため、接合強度を安定化させる上で特に好ましい。
加圧しながら通電加熱することで、接合材3は変形しやすくなり、接合材3と被接合材1、2の密着性は高まり、元素拡散しやすくなる。この結果、接合強度を飛躍的に高めることができる。特に、本発明の接合体を切削工具、例えば切削チップに適用する場合、基材である第1の被接合材1と第2の被接合材2の接合面は、上下方向と水平方向の2方向となり、両方向で第1の被接合材1と第2の被接合材2がしっかりと接合されることが必要となる。このような場合では、前記した通り2方向からの加圧を行うことが好ましい。
接合中の雰囲気は、被接合材1、2および接合材3のいずれとも金属を含むため、真空中あるいは不活性ガス中あるいは還元雰囲気中で行うことが望ましい。真空度は特に限定されないが、13.3Pa(0.1Torr)より高真空であることが望ましい。不活性ガスとしては、アルゴン、ヘリウム、窒素、あるいはこれらの混合ガスを挙げることができる。還元雰囲気としては、前記不活性ガスに水素ガスを若干割合混合したガス雰囲気や、被接合材3近傍に加熱した黒鉛を設置する方法を挙げることができる。
通電する電流の形態は、被接合材1、2および接合材3を適切な温度に加熱できるための電流を流すことができるのであれば直流電流、交流電流とも使用できる。特に、直流パルス電流はピーク電流値とパルスのON、OFF比を変えることができるため、接合界面の瞬間的な加熱と被接合体1、2の全体的な温度制御範囲を広げることができ、接合には有効である。
次に、接合材3の厚みについて、図1を用いて説明する。接合材3の厚みは、背面側の厚みaに比べて底面側の厚みbを厚く、好ましくは0.05<a/b<1と底面側の厚みbを厚く設定することにより、耐摩耗性が高く、かつ耐欠損性にも優れた接合体が得られる。
表1に示す各接合材3を用いて、各接合条件に従って、実施例1〜15および比較例1〜7の接合体を作製した。
表1による。
材質:1箇所にザグリを入れた超硬合金焼結体(台金)
形状:先端角90°、内接円12.7mm、厚み4.76mm、R0.8mm(JIS:SNGN120408)
材質:cBN(チップ)(cBN含有率90%)
形状:2mm×1mm、厚み1.2mm
表1の通りである。表1の接合材組成の欄は、接合された状態における接合材3の組成を示しており、EPMA法により調べた結果であり、この組成は出発材の接合材3の組成と一致していた。第1の被接合材のザグリに対して、第2の被接合材が底面1mm×1mmの範囲で接触し、かつ背面でも接触するようにセットし接合する。
(1)接合材の厚み
研磨を行った後、顕微鏡観察により底面接合材厚み(第2の被接合材2の底面側の接合材3の露出面での平均厚み)、背面接合材厚み(第2の被接合材2の背面側の接合材3の露出面での平均厚み)を測定した。結果を表1に示す。
接合界面をFIB加工した後、TEMによる観察およびEDX、EELSによる組成分析を行うことによりTiN化合物層の厚みを測定した。観察する倍率は、TiN化合物層の厚みにより適宜調整し、1視野内における厚みの平均値を求めた。結果を表1に示す。
図3は、基材温度の測定方法を説明する模式図である。図3において、44は、接合体の第1の被接合材1に照射されるレーザーのレーザースポットである。
図4に接合強度の測定方法を示す。接合体を紙面の上下から加圧した状態で、紙面に垂直な力を第2の被接合材2の第1の被接合材から出っ張った部分に加えることにより、接合材3にせん断力を与え、破断時の強度を接合強度とした。測定結果を表1に示す。
接合強度測定後の実施例および比較例の破断面をSEM・EDXにより観察した。また、接合面をTEMにより観察した。
表1より、TiN化合物層の厚みにより、接合強度は変動し、10〜300nmの範囲内にある場合には、高い接合強度が得られることが分かった。なお、実施例9については、底面にボイド(隙間)が発生しているため、接合強度が低下している。また、実施例12〜15は請求項4を満足する実施例である。
次に、実施例4で得られた接合体の底面、背面接合材厚みを調整した試料(実施例16〜21、および比較例8)を作製し、切削試験を行った。底面、背面接合厚みは横方向加圧力を適宜調整して作製した。切削条件は以下の通りである。
切削速度:1200m/min
切り込み:0.3mm
送り速さ:0.25mm/rev
切削時間:20min
被削材:FC300(湿式)
2 第2の被接合材
2a 底面
2b 背面
3 接合材
34 電極
35 分割電極
36 水平方向加圧材
44 レーザースポット
a 背面の接合総の厚み
b 底面の接合総の厚み
Claims (5)
- 超硬合金焼結体を第1の被接合材とし、cBN焼結体を第2の被接合材とする接合体であって、前記第1の被接合材および第2の被接合材は、両者の間に設置されたチタン(Ti)を含有する接合材を介して、少なくとも、前記第2の被接合材の背面と底面からなる2面で接合されており、前記第2の被接合材と前記接合材との界面に、厚み10〜300nmの窒化チタン(TiN)化合物層が形成されていると共に、前記背面の接合層の厚みが、底面の接合層の厚みよりも薄いことを特徴とする接合体。
- 前記背面の接合層の厚みをa、前記底面の接合層の厚みをbとした時、bは1〜50μmであり、かつ、aとbが、0.05<a/b<1の関係にあることを特徴とする請求項1に記載の接合体。
- 前記接合材が、ジルコニウム(Zr)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、銀(Ag)、銅(Cu)から選ばれた1種または2種以上を含むことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の接合体。
- 前記接合材が、チタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)、銅(Cu)、ニッケル(Ni)から構成されており、
Ti、Zr、Cuの各含有比率の合計をxvol%、
Niの含有比率を(100−x)vol%としたとき、
Tiの含有比率が(0.1〜0.4)xvol%、
Zrの含有比率が(0.1〜0.4)xvol%、
Cuの含有比率が(0.3〜0.7)xvol%
であることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の接合体。 - 前記接合材に含まれるニッケル(Ni)の含有比率が、70vol%以下であることを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載の接合体。
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