JP5473784B2 - Surface acoustic wave device - Google Patents
Surface acoustic wave device Download PDFInfo
- Publication number
- JP5473784B2 JP5473784B2 JP2010122946A JP2010122946A JP5473784B2 JP 5473784 B2 JP5473784 B2 JP 5473784B2 JP 2010122946 A JP2010122946 A JP 2010122946A JP 2010122946 A JP2010122946 A JP 2010122946A JP 5473784 B2 JP5473784 B2 JP 5473784B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reference potential
- metal layer
- terminal
- region
- potential terminal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
Description
本発明は、弾性表面波(SAW:Surface Acoustic Wave)フィルタや分波器などの弾性表面波装置に関する。 The present invention relates to a surface acoustic wave device such as a surface acoustic wave (SAW) filter and a duplexer.
従来より、圧電基板をセラミックなどからなるパッケージに収容し、金属の蓋などで封止したSAW装置(例えば、特許文献1参照)や、圧電基板を平板状のセラミック基板にフリップチップ実装してなるCSP(Chip Size Package)型のSAW装置が知られている(例えば、特許文献2参照)。 Conventionally, a piezoelectric substrate is housed in a package made of ceramic or the like, and a SAW device (for example, see Patent Document 1) sealed with a metal lid or the like, or a piezoelectric substrate is flip-chip mounted on a flat ceramic substrate. A CSP (Chip Size Package) type SAW device is known (for example, see Patent Document 2).
また近年においては、SAW装置の全体構造をより小型化する構造として、圧電基板上に樹脂などからなる保護カバーをビルドアップにより形成したいわゆるWLP(Wafer Level size Package)型のSAW装置が提案されている。かかるWLP型のSAW装置は、圧電基板と、圧電基板に設けられたフィルタ部と、フィルタ部の振動空間を設けるようにして形成される保護カバーとを有するものである(例えば、特許文献3参照)。 In recent years, a so-called WLP (Wafer Level size Package) type SAW device in which a protective cover made of resin or the like is formed on a piezoelectric substrate by build-up has been proposed as a structure that further reduces the overall structure of the SAW device. Yes. Such a WLP-type SAW device has a piezoelectric substrate, a filter portion provided on the piezoelectric substrate, and a protective cover formed so as to provide a vibration space of the filter portion (see, for example, Patent Document 3). ).
ところで特定の周波数帯域の信号のみを通過させるフィルタリング機能を有するSAW装置においては、フィルタの特性を調整するためにインダクタパターンが設けられることがある。例えば、特許文献1のSAW装置では、ラダー型SAWフィルタを構成する並列共振子と基準電位部との間にインダクタパターンを設けることによりフィルタの通過帯域外の減衰量を大きくすることが開示されている。このようなインダクタパターンは、所定の大きさのインダクタンスを確保するために細長いパターンを比較的長く引き回す必要があり、通常、圧電基板が実装されるパッケージなどに設けられる。 By the way, in a SAW device having a filtering function that allows only a signal in a specific frequency band to pass, an inductor pattern may be provided to adjust the characteristics of the filter. For example, in the SAW device of Patent Document 1, it is disclosed that an attenuation pattern outside the passband of a filter is increased by providing an inductor pattern between a parallel resonator constituting a ladder-type SAW filter and a reference potential portion. Yes. Such an inductor pattern needs to draw a long and narrow pattern relatively long in order to ensure an inductance of a predetermined size, and is usually provided in a package or the like on which a piezoelectric substrate is mounted.
しかしながら、WLP型のSAW装置の場合は、圧電基板が実装されるパッケージがもはや存在せず、その全体構造が非常に小型であることから、インダクタパターンを形成するためのスペースが殆どない。すなわち、WLP型のSAW装置では、十分な大きさのインダクタンスを有するインダクタパターンを形成することが困難であり、ラダー型SAWフィルタの通過帯域外の減衰量を大きくすることが難しい状況にある。換言すれば、通過帯域外の減衰量を大きくすることができるWLP型SAW装置が望まれる。 However, in the case of a WLP type SAW device, there is no longer a package on which a piezoelectric substrate is mounted, and the entire structure is very small, so that there is almost no space for forming an inductor pattern. That is, in the WLP type SAW device, it is difficult to form an inductor pattern having a sufficiently large inductance, and it is difficult to increase the attenuation outside the passband of the ladder type SAW filter. In other words, a WLP-type SAW device that can increase the attenuation outside the passband is desired.
そこで本発明は、通過帯域外の減衰量を大きくすることができるWLP型のSAW装置を提供することを目的とする。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a WLP type SAW device capable of increasing the attenuation outside the passband.
本発明の一態様としての弾性表面波装置は、圧電基板と、該圧電基板に設けられた、複数の並列共振子を含むラダー型のフィルタ部と、前記複数の並列共振子を囲むようにして前記圧電基板の主面に配置された枠部および該枠部の開口を塞ぐ蓋部を有する保護カバーと、前記圧電基板に設けられ、前記複数の並列共振子に共通に接続された第1領域および該第1領域から延出された第2領域を有する基準電位配線と、該基準電位配線の前記第1領域に立てて設けられ、前記枠部および前記蓋部を貫通する第1基準電位端子と、前記基準電位配線の前記第2領域に立てて設けられ、前記枠部および前記蓋部を貫通する第2基準電位端子と、前記蓋部の主面に設けられ、前記第2基準電位端子に接続され、かつ前記第1基準電位端子には接続されない金属層と、を備えるものである。 A surface acoustic wave device according to an aspect of the present invention includes a piezoelectric substrate, a ladder-type filter unit including a plurality of parallel resonators provided on the piezoelectric substrate, and surrounding the plurality of parallel resonators. A protective cover having a frame portion disposed on a main surface of the substrate and a lid portion that closes an opening of the frame portion; a first region provided on the piezoelectric substrate and commonly connected to the plurality of parallel resonators; and A reference potential wiring having a second region extending from the first region; a first reference potential terminal provided standing in the first region of the reference potential wiring and penetrating through the frame portion and the lid portion; A second reference potential terminal provided upright in the second region of the reference potential wiring, penetrating the frame and the lid, and provided on a main surface of the lid, connected to the second reference potential terminal And connected to the first reference potential terminal. And have the metal layer, those comprising a.
上記の構成からなるSAW装置によれば、圧電基板に設けられ、複数の並列共振子に共通に接続された第1領域および該第1領域から延出された第2領域を有する基準電位配線と、該基準電位配線の前記第1領域に立てて設けられ、前記枠部および前記蓋部を貫通する第1基準電位端子と、前記基準電位配線の前記第2領域に立てて設けられ、前記枠部および前記蓋部を貫通する第2基準電位端子と、前記蓋部の主面に設けられ、前記第2基準電位端子に接続され、かつ前記第1基準電位端子には接続されない金属層とを備えた構成としたことから、基準電位配線の第2領域に形成されるインダクタを有効に利用することができるので、通過帯域外の減衰量を大きくすることができる。 According to the SAW device having the above structure, the reference potential wiring provided on the piezoelectric substrate and having a first region commonly connected to the plurality of parallel resonators and a second region extending from the first region; A first reference potential terminal provided in the first region of the reference potential wiring and penetrating the frame portion and the lid portion; and provided in a second region of the reference potential wiring; And a second reference potential terminal penetrating through the lid portion and a metal layer provided on the main surface of the lid portion and connected to the second reference potential terminal and not connected to the first reference potential terminal Since the configuration is provided, the inductor formed in the second region of the reference potential wiring can be used effectively, so that the attenuation outside the passband can be increased.
以下、本発明の実施形態に係る弾性表面波装置(SAW装置)について、図面を参照して説明する。なお、以下の説明で用いられる図は模式的なものであり、図面上の寸法比率等は現実のものとは必ずしも一致していない。 Hereinafter, a surface acoustic wave device (SAW device) according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. Note that the drawings used in the following description are schematic, and the dimensional ratios and the like on the drawings do not necessarily match the actual ones.
図1は、本発明の実施形態に係るSAW装置1の外観斜視図、図2は図1のII−II線における断面図である。 1 is an external perspective view of a SAW device 1 according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II-II in FIG.
SAW装置1は、圧電基板3の上に樹脂からなる保護カバーにより振動空間を確保するようにしたいわゆるWLP型のSAW装置である。SAW装置1は、圧電基板3と、圧電基板3に固定された保護カバー5と、保護カバー5の主面17aに設けられた金属層14と、保護カバー5から露出する複数の端子(入力信号端子6、出力信号端子7、第1基準電位端子8)と、を有している。 The SAW device 1 is a so-called WLP type SAW device in which a vibration space is secured on a piezoelectric substrate 3 by a protective cover made of resin. The SAW device 1 includes a piezoelectric substrate 3, a protective cover 5 fixed to the piezoelectric substrate 3, a metal layer 14 provided on the main surface 17a of the protective cover 5, and a plurality of terminals (input signals) exposed from the protective cover 5. Terminal 6, output signal terminal 7, and first reference potential terminal 8).
SAW装置1は、入力信号端子6から信号の入力がなされる。入力された信号は、圧電基板3に設けられたフィルタ部12によりフィルタリングされる。そして、SAW装置1は、フィルタリングした信号を出力信号端子7から出力する。 The SAW device 1 receives a signal from the input signal terminal 6. The input signal is filtered by the filter unit 12 provided on the piezoelectric substrate 3. Then, the SAW device 1 outputs the filtered signal from the output signal terminal 7.
SAW装置1は、例えば、保護カバー5側の面を不図示の外部の回路基板等の実装面に対向させて当該実装面に載置された状態で全体を樹脂封止されることにより、複数の端子を実装面上の端子に接続した状態で実装される。 The SAW device 1 is, for example, a plurality of resin-sealed parts that are placed on the mounting surface with the surface on the protective cover 5 side facing a mounting surface such as an external circuit board (not shown). It is mounted in a state where the terminal of is connected to the terminal on the mounting surface.
圧電基板3は、例えば、タンタル酸リチウム単結晶、ニオブ酸リチウム単結晶等の圧電性を有する直方体状の単結晶基板である。圧電基板3は、主面3aと、その背面側の主面3bとを有している。圧電基板3の平面形状は適宜に設定されてよいが、例えば、所定方向(Y方向)を長手方向とする矩形である。圧電基板3の大きさは適宜に設定されてよいが、例えば、厚さは0.2mm〜0.5mm、1辺の長さは0.5mm〜2mmである。 The piezoelectric substrate 3 is a rectangular parallelepiped single crystal substrate having piezoelectricity, such as a lithium tantalate single crystal or a lithium niobate single crystal. The piezoelectric substrate 3 has a main surface 3a and a main surface 3b on the back side. The planar shape of the piezoelectric substrate 3 may be appropriately set. For example, the piezoelectric substrate 3 is a rectangle having a predetermined direction (Y direction) as a longitudinal direction. The size of the piezoelectric substrate 3 may be set as appropriate. For example, the thickness is 0.2 mm to 0.5 mm, and the length of one side is 0.5 mm to 2 mm.
図3は、圧電基板3の主面3aにおける配線構造を示す模式的な平面図である。 FIG. 3 is a schematic plan view showing a wiring structure on the main surface 3 a of the piezoelectric substrate 3.
圧電基板3には、信号をフィルタリングする機能を有するフィルタ部12が設けられている。図3において破線で囲った領域がフィルタ部12である。フィルタ部12は、第1〜第4直列共振子19a〜19d(以下、これらをまとめて直列共振子19と称することがある)と第1〜第3並列共振子21a〜21c(以下、これらをまとめて並列共振子21と称することがある)とをラダー型に配置してなるラダー型フィルタである。なお、図3の模式図では直列共振子19と並列共振子21をわかりやすくするために、それらに斜線を引いている。 The piezoelectric substrate 3 is provided with a filter unit 12 having a function of filtering a signal. A region surrounded by a broken line in FIG. The filter unit 12 includes first to fourth series resonators 19a to 19d (hereinafter, these may be collectively referred to as a series resonator 19) and first to third parallel resonators 21a to 21c (hereinafter, these are referred to as a series resonator 19). (Which may be collectively referred to as parallel resonators 21) is a ladder type filter. In the schematic diagram of FIG. 3, the series resonator 19 and the parallel resonator 21 are hatched for easy understanding.
直列共振子19と並列共振子21とは、例えば、複数の電極指を有する一対の櫛歯状電極同士を互いの電極指が噛み合うようにして配置されたIDT(InterDigital Transducer)電極と、IDT電極の、弾性表面波の伝搬方向(X方向)両側に配置された2つの反射器電極から構成される。各共振子のIDT電極は、直列共振子19と並列共振子21のそれぞれに要求される共振特性に基づいて、その交差幅、電極幅、電極指本数、電極指間のピッチ等が定められる。 The series resonator 19 and the parallel resonator 21 are, for example, an IDT (InterDigital Transducer) electrode arranged such that a pair of comb-like electrodes having a plurality of electrode fingers mesh with each other, and an IDT electrode The surface acoustic wave propagation direction (X direction) is composed of two reflector electrodes. The IDT electrode of each resonator has its intersection width, electrode width, number of electrode fingers, pitch between electrode fingers, and the like based on the resonance characteristics required for each of the series resonator 19 and the parallel resonator 21.
圧電基板3の主面3aには、直列共振子19および並列共振子21の他にも、入力信号パッド13a、出力信号パッド13b、第1基準電位パッド13c、第2基準電位パッド13d、第3基準電位パッド13e、第4基準電位パッド13fが設けられており、これらのパッドは、直列共振子19および並列共振子21のいずれかに各種配線により電気的に接続されている。具体的には、入力信号パッド13aは、入力信号配線22により第1直列共振子19aと接続されている。出力信号パッド13bは、出力信号配線23により第4直列共振子19dと接続されている。第1〜第4基準電位パッド13c〜13fは、基準電位配線24により並列共振子13に接続されている。本実施形態において基準電位配線24は、第1領域24aおよび第2領域24bの2つの領域に分けて考えることができる。第1領域24aは、基準電位配線24のうち第1〜第3の並列共振子21a〜21cに共通に接続される領域であり、第2領域24bは、基準電位配線のうち第1領域24aから延出される領域である。第1領域24aと第2領域24bの境界を一点鎖線Bで示す。基準電位配線24の第2領域24bは、圧電基板3の主面3aの外周に沿って略C字状に形成されている。換言すれば、第2領域24bは、全体が圧電基板3の主面3aの外周に沿って形成されるとともに、両端が接続されないようにギャップを有している。このように第2領域24bを形成することによって、第2領域には比較的大きなインダクタンスが形成されることになる。 In addition to the series resonator 19 and the parallel resonator 21, the main surface 3a of the piezoelectric substrate 3 includes an input signal pad 13a, an output signal pad 13b, a first reference potential pad 13c, a second reference potential pad 13d, and a third A reference potential pad 13e and a fourth reference potential pad 13f are provided, and these pads are electrically connected to either the series resonator 19 or the parallel resonator 21 by various wirings. Specifically, the input signal pad 13 a is connected to the first series resonator 19 a by the input signal wiring 22. The output signal pad 13b is connected to the fourth series resonator 19d by the output signal wiring 23. The first to fourth reference potential pads 13 c to 13 f are connected to the parallel resonator 13 by a reference potential wiring 24. In the present embodiment, the reference potential wiring 24 can be divided into two regions, a first region 24a and a second region 24b. The first region 24a is a region that is commonly connected to the first to third parallel resonators 21a to 21c in the reference potential wiring 24, and the second region 24b is from the first region 24a of the reference potential wiring. This is an extended area. A boundary between the first region 24a and the second region 24b is indicated by a one-dot chain line B. The second region 24 b of the reference potential wiring 24 is formed in a substantially C shape along the outer periphery of the main surface 3 a of the piezoelectric substrate 3. In other words, the entire second region 24b is formed along the outer periphery of the main surface 3a of the piezoelectric substrate 3, and has a gap so that both ends are not connected. By forming the second region 24b in this way, a relatively large inductance is formed in the second region.
また第1直列共振子19a、第2直列共振子19bおよび第1並列共振子21aは、第1中間配線25aにより互いに接続されている。第2直列共振子19b、第3直列共振子19cおよび第2並列共振子21bは第2中間配線25bにより互いに接続されている。第3直列共振子19c、第4直列共振子19dおよび第3並列共振子21cは、第3中間配線25cにより互いに接続されている。 The first series resonator 19a, the second series resonator 19b, and the first parallel resonator 21a are connected to each other by a first intermediate wiring 25a. The second series resonator 19b, the third series resonator 19c, and the second parallel resonator 21b are connected to each other by a second intermediate wiring 25b. The third series resonator 19c, the fourth series resonator 19d, and the third parallel resonator 21c are connected to each other by a third intermediate wiring 25c.
圧電基板3の主面3a上に形成された各種の配線、電極およびパッドは、例えば、Al−Cu合金等のAl合金により形成されており、その厚さは、例えば、100〜200nmである。またこれら各種の配線、電極およびパッドは、異なる金属材料を積層した構造としてもよく、例えば、Ti/Al、Cr/Ni/Au、Ni/Auといった組み合わせからなる金属を積層させることにより形成してもよい。 Various wirings, electrodes, and pads formed on the main surface 3a of the piezoelectric substrate 3 are made of, for example, an Al alloy such as an Al—Cu alloy, and the thickness thereof is, for example, 100 to 200 nm. These various wirings, electrodes, and pads may have a structure in which different metal materials are laminated. For example, the wiring, electrodes, and pads may be formed by laminating a metal made of a combination of Ti / Al, Cr / Ni / Au, Ni / Au. Also good.
直列共振子19および並列共振子21は、図2の断面図に示すように保護層26によって覆われている。保護層26は、主に直列共振子19および並列共振子21を構成する電極の酸化防止等に寄与するものである。保護層26は、例えば、絶縁性を有するとともに、SAWの伝搬に影響を与えない程度に質量の軽い材料、例えば、酸化珪素(SiO2など)、窒化珪素、シリコンなどにより形成されている。保護層26の厚さは、例えば、10〜50nmである。 The series resonator 19 and the parallel resonator 21 are covered with a protective layer 26 as shown in the cross-sectional view of FIG. The protective layer 26 mainly contributes to the oxidation prevention of the electrodes constituting the series resonator 19 and the parallel resonator 21. The protective layer 26 is formed of, for example, a material having an insulating property and a mass that is light enough not to affect the propagation of the SAW, such as silicon oxide (SiO 2 or the like), silicon nitride, silicon, or the like. The thickness of the protective layer 26 is, for example, 10 to 50 nm.
このようなフィルタ部12の直列共振子19および並列共振子21の振動空間51を確保するようにして保護カバー5が設けられている。保護カバー5の平面形状は、例えば、圧電基板3の平面形状と同様である。保護カバー5は、例えば、主面3aと概ね同等の広さを有し、主面3aの概ね全面を覆っている。 The protective cover 5 is provided so as to secure such a vibration space 51 of the series resonator 19 and the parallel resonator 21 of the filter unit 12. The planar shape of the protective cover 5 is the same as the planar shape of the piezoelectric substrate 3, for example. The protective cover 5 has, for example, a width approximately the same as that of the main surface 3a and covers substantially the entire surface of the main surface 3a.
保護カバー5は、主面3aに積層される枠部15と、枠部15に積層される蓋部17とを有している。枠部15には開口が形成されており、この開口が蓋部17により塞がれることによって、主面3aと保護カバー5との間に振動空間51が形成される。 The protective cover 5 includes a frame portion 15 stacked on the main surface 3 a and a lid portion 17 stacked on the frame portion 15. An opening is formed in the frame portion 15, and the opening is closed by the lid portion 17, whereby a vibration space 51 is formed between the main surface 3 a and the protective cover 5.
枠部15は、概ね一定の厚さの層により構成されている。枠部15の厚さは、例えば、数μm〜30μmである。蓋部17は、概ね一定の厚さの層により構成されている。蓋部17の厚さは、例えば、数μm〜30μmである。 The frame portion 15 is configured by a layer having a substantially constant thickness. The thickness of the frame portion 15 is, for example, several μm to 30 μm. The lid portion 17 is composed of a layer having a substantially constant thickness. The thickness of the lid portion 17 is, for example, several μm to 30 μm.
枠部15および蓋部17は、例えば、感光性の樹脂により形成されている。感光性の樹脂は、例えば、アクリル基やメタクリル基などのラジカル重合により硬化する、ウレタンアクリレート系、ポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系の樹脂である。 The frame portion 15 and the lid portion 17 are made of, for example, a photosensitive resin. The photosensitive resin is, for example, a urethane acrylate-based, polyester acrylate-based, or epoxy acrylate-based resin that is cured by radical polymerization of an acryl group or a methacryl group.
枠部15および蓋部17は、同一の材料により形成されていてもよいし、互いに異なる材料により形成されていてもよい。本願では、説明の便宜上、枠部15と蓋部17との境界線を明示しているが、実際の製品においては、枠部15と蓋部17とが同一材料により形成され、一体的に形成されていてもよい。 The frame portion 15 and the lid portion 17 may be formed of the same material or may be formed of different materials. In the present application, for convenience of explanation, the boundary line between the frame portion 15 and the lid portion 17 is clearly shown. However, in an actual product, the frame portion 15 and the lid portion 17 are formed of the same material and are integrally formed. May be.
このような枠部15および蓋部17を貫くようにして複数の端子が形成されている。本実施形態では、6個の端子が形成されている。具体的には、入力信号端子6、出力信号端子7、第1基準電位端子8、第2基準電位端子9、第3基準電位端子10、第4基準電位端子11である。入力信号端子6は、図3において示した入力信号パッド13aに立てられ、出力信号端子7は出力信号パッド13bに立てられる。また第1基準電位端子8は第1基準電位パッド13cに、第2基準電位端子9は第2基準電位パッド13dに、第3基準電位端子10は第3基準電位パッド13eに、第4基準電位端子11は第4基準電位パッド13fに、それぞれ立てられる。 A plurality of terminals are formed so as to penetrate the frame portion 15 and the lid portion 17. In the present embodiment, six terminals are formed. Specifically, the input signal terminal 6, the output signal terminal 7, the first reference potential terminal 8, the second reference potential terminal 9, the third reference potential terminal 10, and the fourth reference potential terminal 11. The input signal terminal 6 stands on the input signal pad 13a shown in FIG. 3, and the output signal terminal 7 stands on the output signal pad 13b. The first reference potential terminal 8 is connected to the first reference potential pad 13c, the second reference potential terminal 9 is connected to the second reference potential pad 13d, the third reference potential terminal 10 is connected to the third reference potential pad 13e, and the fourth reference potential is connected. The terminals 11 are respectively set on the fourth reference potential pads 13f.
これらの端子のうち入力信号端子6、出力信号端子7、第1基準電位端子8は、保護カバー5の上面(圧電基板3とは反対側の面)から露出しており、後述する金属層14とは離されている。一方、第2基準電位端子9、第3基準電位端子10、第4基準電位端子11は金属層14に接続されている。図2には金属層14と第4基準電位端子11とが接続される態様が示されている。第2、第3基準電位端子9、10も図2に示される第4基準電位端子11と同様に金属層14に接続されている。 Among these terminals, the input signal terminal 6, the output signal terminal 7, and the first reference potential terminal 8 are exposed from the upper surface of the protective cover 5 (surface opposite to the piezoelectric substrate 3), and a metal layer 14 described later. And are separated. On the other hand, the second reference potential terminal 9, the third reference potential terminal 10, and the fourth reference potential terminal 11 are connected to the metal layer 14. FIG. 2 shows an aspect in which the metal layer 14 and the fourth reference potential terminal 11 are connected. The second and third reference potential terminals 9 and 10 are also connected to the metal layer 14 in the same manner as the fourth reference potential terminal 11 shown in FIG.
第1基準電位端子8は、図2の断面図に示すように、保護カバー5を貫通する部分である柱部8aと、柱部8aの保護カバー5からの露出部に接続されるランド8bとを有している。ランド8bは、保護カバー5の上面に積層されるフランジを有している。入力信号端子6および出力信号端子7も第1基準電位端子8と同様に、保護カバー5を貫通する部分である柱部と、柱部の保護カバー5からの露出部に接続されるランドをそれぞれ有している。 As shown in the cross-sectional view of FIG. 2, the first reference potential terminal 8 includes a column portion 8a that is a portion that penetrates the protective cover 5, and a land 8b that is connected to an exposed portion of the column portion 8a from the protective cover 5. have. The land 8 b has a flange laminated on the upper surface of the protective cover 5. Similarly to the first reference potential terminal 8, the input signal terminal 6 and the output signal terminal 7 have a pillar portion that is a portion penetrating the protective cover 5 and a land connected to the exposed portion of the pillar portion from the protective cover 5. Have.
一方、第4基準電位端子11は図2の断面図に示すように、保護カバー5を貫通する部分である柱部を有するがランドは有していない。第2基準電位端子9および第3基準電位端子10も同様に柱部は有するがランドは有していない。 On the other hand, as shown in the cross-sectional view of FIG. 2, the fourth reference potential terminal 11 has a pillar portion that is a portion penetrating the protective cover 5 but does not have a land. Similarly, the second reference potential terminal 9 and the third reference potential terminal 10 have column portions but do not have lands.
これらの端子は、例えば、銅めっきなどにより形成され、端子と保護カバー5との間にはめっき下地層35が形成されている。 These terminals are formed by, for example, copper plating, and a plating base layer 35 is formed between the terminals and the protective cover 5.
蓋部17の主面17aには金属層14が形成されている。金属層14は、例えば、銅めっきなどにより先に述べた端子と同じプロセスで形成することができる。 A metal layer 14 is formed on the main surface 17 a of the lid portion 17. The metal layer 14 can be formed by the same process as that of the terminal described above by, for example, copper plating.
金属層14は、ほぼ全体が薄い絶縁膜18で覆われている。金属層14を絶縁膜18で覆うことにより、SAW装置1を外部の回路基板などに実装する際、金属層14と保護カバー5から露出している端子(入力信号端子6、出力信号端子7、第1基準電位端子8とが、半田などの実装用の接合材によって短絡するのを防止することができる。絶縁膜18は、例えば、SiO2などからなる。また絶縁膜18の一部には図1に示されるように窓部18aが設けられている。本実施形態では、第2基準電位端子9、第3基準電位端子10、第4基準電位端子11の直上に対応する部分に3個の窓部18aが設けられている。このような窓部18aを設けることによって、金属層14の窓部18aから露出する部分と、SAW装置1が実装される外部の回路基板の端子とを半田などの接合材で接続することができる。すなわち、金属層14の窓部18aから露出する部分を外部の回路基板への接合用のランドとして使用することができる。 The metal layer 14 is almost entirely covered with a thin insulating film 18. By covering the metal layer 14 with the insulating film 18, when the SAW device 1 is mounted on an external circuit board or the like, terminals exposed from the metal layer 14 and the protective cover 5 (input signal terminal 6, output signal terminal 7, It is possible to prevent the first reference potential terminal 8 from being short-circuited by a mounting bonding material such as solder, etc. The insulating film 18 is made of, for example, SiO 2, etc. 1, the window 18a is provided, and in this embodiment, three windows are provided at portions corresponding to the second reference potential terminal 9, the third reference potential terminal 10, and the fourth reference potential terminal 11. By providing such a window portion 18a, a portion exposed from the window portion 18a of the metal layer 14 and a terminal of an external circuit board on which the SAW device 1 is mounted are soldered. Connect with bonding materials such as That is, a portion exposed from the window portion 18a of the metal layer 14 can be used as a land for bonding to an external circuit board.
次に、図4を用いて金属層14と振動空間51との位置関係を説明する。図4は、SAW装置1を保護カバー5側から見たときのSAW装置1の平面図であり、振動空間51の外周縁を一点鎖線で示している。なお、図4では絶縁膜18を省略するとともに各基準電位端子の柱部を二点鎖線で示している。 Next, the positional relationship between the metal layer 14 and the vibration space 51 will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a plan view of the SAW device 1 when the SAW device 1 is viewed from the protective cover 5 side, and the outer peripheral edge of the vibration space 51 is indicated by a one-dot chain line. In FIG. 4, the insulating film 18 is omitted and the column portion of each reference potential terminal is indicated by a two-dot chain line.
同図に示すように金属層14は、その外周縁が振動空間51の外周縁より一回り大きくなるように形成されている。換言すれば、金属層14は、平面透視したときに枠部15の開口を覆うようにして設けられている。このような金属層14を設けることにより、例えば、SAW装置1全体を樹脂モールドする際などの高温、高圧の環境下においても、振動空間51が大きく変形するのを防止することができる。金属層14の厚みは、例えば、35μm〜55μmに設定される。このように比較的厚く金属層14を形成することによって、振動空間51の変形防止の効果をより高めることができる。 As shown in the figure, the metal layer 14 is formed so that its outer peripheral edge is slightly larger than the outer peripheral edge of the vibration space 51. In other words, the metal layer 14 is provided so as to cover the opening of the frame portion 15 when seen in a plan view. By providing such a metal layer 14, it is possible to prevent the vibration space 51 from being greatly deformed even in a high temperature and high pressure environment such as when the entire SAW device 1 is resin-molded. The thickness of the metal layer 14 is set to 35 μm to 55 μm, for example. By forming the metal layer 14 relatively thick as described above, the effect of preventing the vibration space 51 from being deformed can be further enhanced.
本発明者等は、この金属層14に着目し、金属層14の形状等によって通過帯域外の減衰量を改善することができないか鋭意研究を重ね、この金属層14と特定の基準電位端子とを切り離すことによってフィルタの通過帯域外の減衰量を大きくすることができることを見出した。 The inventors pay attention to the metal layer 14 and intensively research whether the shape of the metal layer 14 can improve the attenuation outside the passband. The metal layer 14 and a specific reference potential terminal It has been found that the amount of attenuation outside the passband of the filter can be increased by separating.
図6乃至図9は、金属層14と各基準電位端子との接続と、通過帯域外の減衰特性との関係についてシミュレーションにより調べた結果を示す図である。シミュレーションは、図3に示す構成からなるフィルタについて行ったものであり、その通過帯域周波数は、GPS(Global Positioning System)用の通過帯域周波数(1574MHz〜1576MHz)である。 6 to 9 are diagrams showing the results of examining the relationship between the connection between the metal layer 14 and each reference potential terminal and the attenuation characteristics outside the passband by simulation. The simulation was performed on a filter having the configuration shown in FIG. 3, and the passband frequency is a passband frequency (1574 MHz to 1576 MHz) for GPS (Global Positioning System).
図5は、すべての基準電位端子を金属層14に接続した比較パターンFのSAW装置の平面図であり、図6(a)は、基準電位端子のうち第1基準電位端子8を金属層14から切り離し、第2基準電位端子9、第3基準電位端子10および第4基準電位端子11を金属層14に接続したパターンAのSAW装置の平面図である。 FIG. 5 is a plan view of the SAW device of the comparative pattern F in which all reference potential terminals are connected to the metal layer 14. FIG. 6A shows the first reference potential terminal 8 among the reference potential terminals as the metal layer 14. FIG. 6 is a plan view of a SAW device having a pattern A in which a second reference potential terminal 9, a third reference potential terminal 10, and a fourth reference potential terminal 11 are connected to a metal layer 14.
図6(b)は、パターンAの減衰特性と比較パターンFの減衰特性とを比較したものであり、実線がパターンAの減衰特性、破線がパターンFの減衰特性をそれぞれ示している。同図に示されるように、GPS用のフィルタに要求される2GHz近傍の通過帯域外減衰量が比較パターンFよりもパターンAの方が大きくなっていることがわかる。すなわち、すべての基準電位端子が金属層14に接続されている場合よりも、ラダー型フィルタを構成する複数の並列共振子に共通に接続された基準電位配線の第1領域に立てられた第1基準電位端子8を金属層14から切り離すことによって帯域外減衰が顕著に改善されていることがわかる。 FIG. 6B compares the attenuation characteristics of the pattern A and the attenuation characteristics of the comparison pattern F. The solid line indicates the attenuation characteristics of the pattern A, and the broken line indicates the attenuation characteristics of the pattern F. As shown in the figure, it can be seen that the pattern A has a larger amount of attenuation outside the passband in the vicinity of 2 GHz required for the GPS filter than the comparison pattern F. That is, as compared with the case where all the reference potential terminals are connected to the metal layer 14, the first set up in the first region of the reference potential wiring connected in common to the plurality of parallel resonators constituting the ladder filter. It can be seen that the out-of-band attenuation is significantly improved by separating the reference potential terminal 8 from the metal layer 14.
図7(a)は、基準電位端子のうち第3基準電位端子10を金属層14から切り離し、第1基準電位端子8、第2基準電位端子9および第4基準電位端子11を金属層14に接続したパターンBのSAW装置の平面図である。 7A, the third reference potential terminal 10 is separated from the metal layer 14 among the reference potential terminals, and the first reference potential terminal 8, the second reference potential terminal 9, and the fourth reference potential terminal 11 are connected to the metal layer 14. FIG. It is a top view of the SAW device of connected pattern B.
図7(b)は、パターンBの減衰特性と比較パターンFの減衰特性とを比較したものであり、実線がパターンBの減衰特性、破線がパターンFの減衰特性をそれぞれ示している。同図に示されるように、パターンBと比較パターンFとでは帯域外減衰特性に違いがほとんど現れなかった。すなわち、ラダー型フィルタを構成する複数の並列共振子に共通に接続された基準電位配線の第2領域に立てられた第3基準電位端子10を金属層14から切り離しても、すべての基準電位端子が金属層14に接続されている場合と比較して帯域外減衰の顕著な改善は見られない。 FIG. 7B compares the attenuation characteristics of the pattern B and the attenuation characteristics of the comparison pattern F. The solid line indicates the attenuation characteristics of the pattern B, and the broken line indicates the attenuation characteristics of the pattern F. As shown in the figure, there is almost no difference in out-of-band attenuation characteristics between the pattern B and the comparison pattern F. That is, even if the third reference potential terminal 10 standing in the second region of the reference potential wiring commonly connected to the plurality of parallel resonators constituting the ladder filter is separated from the metal layer 14, all the reference potential terminals As compared with the case where is connected to the metal layer 14, no significant improvement in out-of-band attenuation is observed.
図8(a)は、基準電位端子のうち第1基準電位端子8、第3基準電位端子10および第4基準電位端子11を金属層14から切り離し、第2基準電位端子9を金属層14に接続したパターンCのSAW装置の平面図である。 FIG. 8A shows that the first reference potential terminal 8, the third reference potential terminal 10, and the fourth reference potential terminal 11 are separated from the metal layer 14 among the reference potential terminals, and the second reference potential terminal 9 is connected to the metal layer 14. It is a top view of the SAW device of the connected pattern C.
図8(b)は、パターンCの減衰特性と比較パターンFの減衰特性とを比較したものであり、実線がパターンCの減衰特性、破線がパターンFの減衰特性をそれぞれ示している。同図に示されるように、GPS用のフィルタに要求される2GHz近傍の通過帯域外減衰量が比較パターンFよりもパターンCの方が大きくなっていることがわかる。すなわち、すべての基準電位端子が金属層14に接続されている場合よりも、ラダー型フィルタを構成する複数の並列共振子に共通に接続された基準電位配線の第1領域に立てられた第1基準電位端子8、基準電位配線の第2領域に立てられた第3基準電位端子10および第4基準電位端子11を金属層14から切り離すことによって帯域外減衰が顕著に改善されている。この結果は、パターンAの結果とほぼ同じである。 FIG. 8B compares the attenuation characteristic of the pattern C and the attenuation characteristic of the comparison pattern F, where the solid line indicates the attenuation characteristic of the pattern C and the broken line indicates the attenuation characteristic of the pattern F. As shown in the figure, it can be seen that the amount of attenuation outside the passband in the vicinity of 2 GHz required for the GPS filter is larger in the pattern C than in the comparison pattern F. That is, as compared with the case where all the reference potential terminals are connected to the metal layer 14, the first set up in the first region of the reference potential wiring connected in common to the plurality of parallel resonators constituting the ladder filter. By separating the reference potential terminal 8, the third reference potential terminal 10 and the fourth reference potential terminal 11 standing in the second region of the reference potential wiring from the metal layer 14, the out-of-band attenuation is remarkably improved. This result is almost the same as the result of pattern A.
図9(a)は、すべての基準電位端子を金属層14から切り離したパターンDのSAW装置の平面図である。 FIG. 9A is a plan view of a SAW device having a pattern D in which all reference potential terminals are separated from the metal layer 14.
図9(b)は、パターンDの減衰特性と比較パターンFの減衰特性とを比較したものであり、実線がパターンFの減衰特性、破線がパターンFの減衰特性をそれぞれ示している。同図に示されるように、比較パターンFと比較してパターンDの減衰特性に顕著な改善は見られず、逆に1800MHz付近の通過帯域外の減衰量が比較パターンFよりもパターンDの方が若干小さくなっている。すなわち、すべての基準電位端子を金属層14から切り離しても、全ての基準電位端子が金属層14に接続されている場合と比較して通過帯域外の減衰特性に顕著な改善は見られない。 FIG. 9B compares the attenuation characteristic of the pattern D and the attenuation characteristic of the comparison pattern F, where the solid line indicates the attenuation characteristic of the pattern F and the broken line indicates the attenuation characteristic of the pattern F. As shown in the figure, there is no significant improvement in the attenuation characteristics of the pattern D compared to the comparative pattern F, and conversely, the attenuation amount outside the passband near 1800 MHz is higher in the pattern D than in the comparative pattern F. Is slightly smaller. That is, even if all the reference potential terminals are disconnected from the metal layer 14, no significant improvement is observed in the attenuation characteristics outside the passband as compared to the case where all the reference potential terminals are connected to the metal layer 14.
以上のシミュレーション結果から、ラダー型フィルタを構成する複数の並列共振子に接続された基準電位配線の第1領域に立てられた第1基準電位端子8を金属層14から切り離し、基準電位配線のうち第1領域から延出された第2領域に立てられた第2基準電位端子9、第3基準電位端子10および第4基準電位端子11の少なくとも1つを金属層14に接続しておくことによって、SAW装置の通過帯域外の減衰量を改善することができることを確認できた。 From the above simulation results, the first reference potential terminal 8 set up in the first region of the reference potential wiring connected to the plurality of parallel resonators constituting the ladder type filter is separated from the metal layer 14, and the reference potential wiring By connecting at least one of the second reference potential terminal 9, the third reference potential terminal 10 and the fourth reference potential terminal 11 standing in the second region extending from the first region to the metal layer 14. It was confirmed that the attenuation outside the pass band of the SAW device can be improved.
このように所定の基準電位端子を金属層から切り離し、所定の基準電位端子を金属層に接続させておくことによって通過帯域外の減衰特性を改善することができるのは以下の理由によるものと考えられる。 The reason why the attenuation characteristic outside the passband can be improved by separating the predetermined reference potential terminal from the metal layer and connecting the predetermined reference potential terminal to the metal layer is as follows. It is done.
図10はSAW装置の等価回路図であり、(a)はすべての基準電位端子が金属層14に接続されている場合の等価回路図、(b)は第1基準電位端子8が金属層14から切り離され、第2基準電位端子9が金属層14に接続されている場合の等価回路図をそれぞれ表している。なお、説明の簡略化のため第3基準電位端子10および第4基準電位端子11を省略した等価回路図としている。 10A and 10B are equivalent circuit diagrams of the SAW device. FIG. 10A is an equivalent circuit diagram when all the reference potential terminals are connected to the metal layer 14, and FIG. 10B is a diagram illustrating the first reference potential terminal 8 of the metal layer 14. The equivalent circuit diagrams in the case where the second reference potential terminal 9 is connected to the metal layer 14 are shown. For simplification of description, an equivalent circuit diagram in which the third reference potential terminal 10 and the fourth reference potential terminal 11 are omitted is shown.
図10においてL(24a)は基準電位配線24の第1領域24aに形成されるインダクタ、L(24b)は基準電位配線24の第2領域24bに形成されるインダクタ、L(8)は第1基準電位端子8に形成されるインダクタ、L(9)は第2基準電位端子9に形成されるインダクタ、L(14)は金属層14に形成されるインダクタをそれぞれ表している。 In FIG. 10, L (24a) is an inductor formed in the first region 24a of the reference potential wiring 24, L (24b) is an inductor formed in the second region 24b of the reference potential wiring 24, and L (8) is the first. An inductor formed at the reference potential terminal 8, L (9) represents an inductor formed at the second reference potential terminal 9, and L (14) represents an inductor formed at the metal layer 14.
図10(a)に示されるように第1基準電位端子8と第2基準電位端子9がともに金属層14に接続されている場合、金属層14を介して第1基準電位端子8と第2基準電位端子9とがその末端で接続されることになり、この接続部分にインダクタL(14)が形成されると考えられる。 As shown in FIG. 10A, when both the first reference potential terminal 8 and the second reference potential terminal 9 are connected to the metal layer 14, the first reference potential terminal 8 and the second reference potential terminal 8 are connected via the metal layer 14. The reference potential terminal 9 is connected at the end thereof, and it is considered that the inductor L (14) is formed at this connection portion.
ここで、インダクタL(24b)、インダクタL(8)、インダクタL(9)、インダクタL(14)のそれぞれの大小関係について考えると、インダクタL(24b)は、インダクタL(8)、インダクタL(9)およびインダクタL(14)よりも十分大きいインダクタンスを有する。インダクタL(24b)は、圧電基板上で引き回された薄くて長い配線(基準電位配線の第2領域24b)によって形成されるため、そのインダクタンスが比較的大きくなるのに対し、インダクタL(8)、インダクタL(9)およびインダクタL(14)は、それが形成される部分の長さが短く、直径や厚みが大きい金属部分に形成されるものであり、それらのインダクタンスは比較的小さくなるからである。 Here, considering the magnitude relationship among the inductor L (24b), the inductor L (8), the inductor L (9), and the inductor L (14), the inductor L (24b) includes the inductor L (8) and the inductor L. (9) It has a sufficiently larger inductance than the inductor L (14). Since the inductor L (24b) is formed by a thin and long wiring (second region 24b of the reference potential wiring) drawn on the piezoelectric substrate, its inductance becomes relatively large, whereas the inductor L (8 ), The inductor L (9) and the inductor L (14) are formed in a metal part having a short length and a large diameter and thickness, and their inductance is relatively small. Because.
このようなインダクタンスの大小関係を前提として、図10(a)の回路についてみてみると、インダクタL(24b)側の経路の先に、インダクタL(24b)よりも大きさが非常に小さいインダクタL(14)が形成されているために、インダクタL(24a)を通過した信号のほとんどは、インダクタL(8)側に流れると考えられる。換言すれば、インダクタL(24a)を通過した信号は、インダクタL(24b)にはほとんど流れない。したがって、図10(a)の等価回路図の場合、大きなインダクタンスが得られないと考えられる。 Assuming such a magnitude relationship of the inductance, when looking at the circuit of FIG. 10 (a), the inductor L that is much smaller than the inductor L (24b) at the end of the path on the inductor L (24b) side. Since (14) is formed, it is considered that most of the signal that has passed through the inductor L (24a) flows to the inductor L (8) side. In other words, the signal that has passed through the inductor L (24a) hardly flows to the inductor L (24b). Therefore, it is considered that a large inductance cannot be obtained in the case of the equivalent circuit diagram of FIG.
一方、図10(b)の回路の場合、第1基準電位端子8が金属層14と切り離されていることによって、インダクタンスの小さいバイパス経路(インダクタL(14))が形成されないため、インダクタL(24a)を通過した信号は、ある程度インダクタンスの大きいインダクタL(24b)を通過するようになる。これにより図10(b)の等価回路図では、比較的大きなインダクタンスを得ることができるものと考えられる。 On the other hand, in the case of the circuit of FIG. 10B, since the first reference potential terminal 8 is disconnected from the metal layer 14, a bypass path (inductor L (14)) having a small inductance is not formed. The signal that has passed through 24a) passes through the inductor L (24b) having a certain degree of inductance. Accordingly, it is considered that a relatively large inductance can be obtained in the equivalent circuit diagram of FIG.
ただし、すべての基準電位端子を金属層14から切り離すと、金属層14が電気的に浮いた状態となり、この金属層14とフィルタ部を構成する各種電極との間に不要な容量が発生し、パターンDのSAW装置で示したシミュレーション結果のようにフィルタ特性が劣化するものと考えられる。 However, when all the reference potential terminals are separated from the metal layer 14, the metal layer 14 is in an electrically floating state, and unnecessary capacitance is generated between the metal layer 14 and various electrodes constituting the filter unit. It is considered that the filter characteristics are deteriorated as in the simulation result shown in the pattern D SAW device.
次に、図11〜図13を用いて、端子と金属層14とを切り離す場合の金属層14の形状の好適な例について説明する。 Next, a preferred example of the shape of the metal layer 14 when the terminal and the metal layer 14 are separated will be described with reference to FIGS.
図11は図6に示したSAW装置の平面図に対応するものであり、図6のものとは金属層14の形状が異なっている。具体的には、図6に示すSAW装置1では、金属層14が、この金属層14を平面視したときに、金属層14とは接続されない入力信号端子6、出力信号端子7および第1基準電位端子8に対し、これらの端子の略半分だけ囲うようにした状態で形成されていたのに対し、図11に示すSAW装置1では、金属層14が、これらの端子の全体を囲むようにして形成されている。別の見方をすれば、図11に示すSAW装置1において、金属層14は、入力信号端子6、出力信号端子7および第1基準電位端子8が配置される箇所に、入力信号端子6、出力信号端子7および第1基準電位端子8よりも一回り大きい円状の窓部を有した状態で、蓋部17の上面の略全面にわたって形成されている。 11 corresponds to the plan view of the SAW device shown in FIG. 6, and the shape of the metal layer 14 is different from that of FIG. Specifically, in the SAW device 1 shown in FIG. 6, when the metal layer 14 is viewed in plan, the input signal terminal 6, the output signal terminal 7, and the first reference that are not connected to the metal layer 14. Whereas the potential terminal 8 is formed so as to surround approximately half of these terminals, in the SAW device 1 shown in FIG. 11, the metal layer 14 is formed so as to surround the entire terminals. Has been. From another point of view, in the SAW device 1 shown in FIG. 11, the metal layer 14 is disposed at the location where the input signal terminal 6, the output signal terminal 7, and the first reference potential terminal 8 are arranged. It is formed over substantially the entire upper surface of the lid portion 17 with a circular window portion that is slightly larger than the signal terminal 7 and the first reference potential terminal 8.
図11に示すような形状で金属層14を形成することによって、蓋部17、特に金属層14とは接続されない端子の周辺部にクラックが発生するのを抑制することができる。これは、金属層14の形状の違いによる蓋部17に発生する応力の変化の様子をシミュレーションによって調べた結果から確かめられたものである。 By forming the metal layer 14 in the shape as shown in FIG. 11, it is possible to suppress the generation of cracks in the lid portion 17, particularly the peripheral portion of the terminal that is not connected to the metal layer 14. This is confirmed from the result of examining the state of change of the stress generated in the lid portion 17 due to the difference in the shape of the metal layer 14 by simulation.
図12は、シミュレーションのモデルに使用したSAW装置1の平面図であり、(a)は金属層14がダミー端子31を囲まないようにして形成されたもの、(b)は金属層14がダミー端子31を囲むようにして形成されたものである。図12の(a)のモデルと(b)のモデルとでは、金属層14の形状以外の条件はすべて同じとした。具体的には、圧電基板3はLiTaO3、保護カバー5は感光性のアクリレート系樹脂、金属層14およびダミー端子31はCuからなるものとした。なお、モデルはSAW装置1を半分の状態にしたものである。 12A and 12B are plan views of the SAW device 1 used in the simulation model. FIG. 12A is a diagram in which the metal layer 14 is formed so as not to surround the dummy terminals 31, and FIG. 12B is a diagram in which the metal layer 14 is a dummy. It is formed so as to surround the terminal 31. In the model of FIG. 12A and the model of (b), all the conditions other than the shape of the metal layer 14 were the same. Specifically, the piezoelectric substrate 3 is made of LiTaO 3 , the protective cover 5 is made of a photosensitive acrylate resin, and the metal layer 14 and the dummy terminal 31 are made of Cu. The model is obtained by halving the SAW device 1.
図12のモデルについて行ったシミュレーション結果を図13に示す。図13の(a)は、図12(a)のモデルに対応する蓋部17に発生した応力の様子を示すものであり、図13(b)は、図12(b)のモデルに対応する蓋部17に発生した応力の様子を示すものであ。シミュレーションは、図12に示したモデルからなるSAW装置1を他の基板に半田実装した状態において、温度荷重を−125℃に設定して行った。なお、ここで用いたシミュレーションは、有限要素法による熱応力シミュレーションである。 FIG. 13 shows the result of simulation performed on the model of FIG. FIG. 13 (a) shows the state of stress generated in the lid portion 17 corresponding to the model of FIG. 12 (a), and FIG. 13 (b) corresponds to the model of FIG. 12 (b). The state of the stress generated in the lid portion 17 is shown. The simulation was performed by setting the temperature load to −125 ° C. in a state where the SAW device 1 having the model shown in FIG. 12 is solder-mounted on another substrate. The simulation used here is a thermal stress simulation by a finite element method.
図13において、応力の大きさが色の濃淡によって表されており、色が濃い部分ほど大きい応力が発生していることを示す。この図13に示す結果から明らかなように、(a)の場合はダミー端子31の周辺に比較的大きな応力が発生しているのに対し、(b)の場合は(a)のものに比べてダミー端子31の周辺に発生する応力が小さくなっている。また、(a)の場合には発生した応力の最大値が28.11MPaであったのに対し、(b)の場合には発生した応力の最大値が23.14MPaであり、約18%低減されていた。 In FIG. 13, the magnitude of the stress is represented by color shading, and the darker the color, the greater the stress that is generated. As is apparent from the results shown in FIG. 13, in the case of (a), a relatively large stress is generated around the dummy terminal 31, whereas in the case of (b), compared with that of (a). Thus, the stress generated around the dummy terminal 31 is reduced. In the case of (a), the maximum value of the generated stress was 28.11 MPa, whereas in the case of (b), the maximum value of the generated stress was 23.14 MPa, which was reduced by about 18%. It had been.
以上の結果から、金属層14を図11に示すように端子を囲むようにして形成することによって、カバー5を構成する蓋部17においてクラックの発生を抑制することができるといえる。 From the above results, it can be said that by forming the metal layer 14 so as to surround the terminals as shown in FIG. 11, it is possible to suppress the occurrence of cracks in the lid portion 17 constituting the cover 5.
したがって、図11に示したSAW装置1によれば、蓋部17にクラックが発生するのを抑制することができるため、クラックの発生に起因して振動空間51の雰囲気の状態が変化するのを抑えることができ、SAW装置1の電気特性を安定化させることができる。なお、入力信号端子6および出力信号端子7は本発明の信号端子の一態様である。また金属層14によって囲まれる端子の種類は、信号端子に限られず、金属層14と蓋部17の上面において接続されない各種の端子(例えば、基準電位端子、あるいは電気的にフローティング状態とされたダミー端子など)においても、それらの端子を囲むようにして金属層14を形成することによって、その周囲においてクラックの発生を抑制することができることはいうまでもない。 Therefore, according to the SAW device 1 shown in FIG. 11, since it is possible to suppress the occurrence of cracks in the lid portion 17, the state of the atmosphere of the vibration space 51 changes due to the occurrence of cracks. The electrical characteristics of the SAW device 1 can be stabilized. The input signal terminal 6 and the output signal terminal 7 are one embodiment of the signal terminal of the present invention. The type of terminal surrounded by the metal layer 14 is not limited to the signal terminal, and various terminals (for example, a reference potential terminal or an electrically floating dummy that is not connected to the upper surface of the metal layer 14 and the lid portion 17). It is needless to say that the occurrence of cracks can be suppressed around the terminals, etc. by forming the metal layer 14 so as to surround the terminals.
本発明は、以上の実施形態および変形例に限定されず、種々の態様で実施されてよい。 The present invention is not limited to the above embodiments and modifications, and may be implemented in various ways.
上述した実施形態では、第1基準電位端子8を金属層14から切り離し、その他の基準電位端子を金属層14に接続するようにしたが、基準電位端子と金属層14との接続および切り離しの態様はこれに限らず、基準電位配線24の第1領域24aに立てられた基準電位端子が金属層14に接続され、基準電位配線24の第2領域24bに立てられた基準電位端子が金属層14から切り離されていればどのような態様であってもよい。例えば、上述した実施形態において、第2基準電位端子9、第3基準電位端子10、第4基準電位端子11のうち少なくとも1つを金属層14に接続しておけば、他の基準電位端子を金属層14から切り離してもよい。ただし、基準電位配線24の第2領域24bに形成されるインダクタを有効に利用するためには、第2領域24bの終端部に配置された第2基準電位端子9を金属層14に接続しておくことが好ましい。 In the above-described embodiment, the first reference potential terminal 8 is disconnected from the metal layer 14 and the other reference potential terminals are connected to the metal layer 14. However, the reference potential terminal and the metal layer 14 are connected and disconnected. The reference potential terminal raised in the first region 24 a of the reference potential wiring 24 is connected to the metal layer 14, and the reference potential terminal raised in the second region 24 b of the reference potential wiring 24 is connected to the metal layer 14. Any aspect may be used as long as it is separated from the above. For example, in the above-described embodiment, if at least one of the second reference potential terminal 9, the third reference potential terminal 10, and the fourth reference potential terminal 11 is connected to the metal layer 14, the other reference potential terminals are connected. It may be separated from the metal layer 14. However, in order to effectively use the inductor formed in the second region 24 b of the reference potential wiring 24, the second reference potential terminal 9 disposed at the terminal portion of the second region 24 b is connected to the metal layer 14. It is preferable to keep it.
また上述した実施形態では、振動空間51が1個設けられていたが、振動空間51を複数に区画するようにしてもよい。換言すれば、振動空間を複数個設けるようにしてもよい。この場合には、1つの振動空間が小さくなり耐モールド性が向上する。 In the above-described embodiment, one vibration space 51 is provided. However, the vibration space 51 may be divided into a plurality of sections. In other words, a plurality of vibration spaces may be provided. In this case, one vibration space is reduced and mold resistance is improved.
1・・・弾性表面波装置
3・・・圧電基板
5・・・保護カバー
6・・・入力信号端子
7・・・出力信号端子
8・・・第1基準電位端子
9・・・第2基準電位端子
10・・・第3基準電位端子
11・・・第4基準電位端子
12・・・フィルタ部
14・・・金属層
15・・・枠部
17・・・蓋部
18・・・絶縁膜
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... SAW device 3 ... Piezoelectric substrate 5 ... Protective cover 6 ... Input signal terminal 7 ... Output signal terminal 8 ... First reference potential terminal 9 ... Second reference Potential terminal 10 ... third reference potential terminal 11 ... fourth reference potential terminal 12 ... filter portion 14 ... metal layer 15 ... frame portion 17 ... lid portion 18 ... insulating film
Claims (5)
該圧電基板に設けられた、複数の並列共振子を含むラダー型のフィルタ部と、
前記複数の並列共振子を囲むようにして前記圧電基板の主面に配置された枠部および該枠部の開口を塞ぐ蓋部を有する保護カバーと、
前記圧電基板に設けられ、前記複数の並列共振子に共通に接続された第1領域および該第1領域から延出された第2領域を有する基準電位配線と、
該基準電位配線の前記第1領域に立てて設けられ、前記枠部および前記蓋部を貫通する第1基準電位端子と、
前記基準電位配線の前記第2領域に立てて設けられ、前記枠部および前記蓋部を貫通する第2基準電位端子と、
前記蓋部の主面に設けられ、前記第2基準電位端子に接続され、かつ前記第1基準電位端子には接続されない金属層と、
を備える弾性表面波装置。 A piezoelectric substrate;
A ladder-type filter unit including a plurality of parallel resonators provided on the piezoelectric substrate;
A protective cover having a frame portion arranged on the main surface of the piezoelectric substrate so as to surround the plurality of parallel resonators and a lid portion that closes an opening of the frame portion;
A reference potential wiring having a first region provided on the piezoelectric substrate and connected in common to the plurality of parallel resonators and a second region extending from the first region;
A first reference potential terminal provided upright in the first region of the reference potential wiring and penetrating the frame portion and the lid portion;
A second reference potential terminal provided upright in the second region of the reference potential wiring and penetrating the frame portion and the lid portion;
A metal layer provided on the main surface of the lid, connected to the second reference potential terminal and not connected to the first reference potential terminal;
A surface acoustic wave device comprising:
該信号端子は、前記枠部および前記蓋部を貫通しており、
前記金属層は、前記金属層を平面視したときに、前記信号端子を囲い、かつ該信号端子から離間して形成されている請求項1乃至4のいずれかに記載の弾性表面波装置。 A signal terminal for inputting or outputting a signal to the filter unit;
The signal terminal passes through the frame portion and the lid portion,
5. The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein the metal layer surrounds the signal terminal and is spaced apart from the signal terminal when the metal layer is viewed in plan.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010122946A JP5473784B2 (en) | 2010-02-26 | 2010-05-28 | Surface acoustic wave device |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010042752 | 2010-02-26 | ||
JP2010042752 | 2010-02-26 | ||
JP2010122946A JP5473784B2 (en) | 2010-02-26 | 2010-05-28 | Surface acoustic wave device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011199823A JP2011199823A (en) | 2011-10-06 |
JP5473784B2 true JP5473784B2 (en) | 2014-04-16 |
Family
ID=44877406
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010122946A Active JP5473784B2 (en) | 2010-02-26 | 2010-05-28 | Surface acoustic wave device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5473784B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107210729A (en) * | 2015-03-16 | 2017-09-26 | 株式会社村田制作所 | Acoustic surface wave device |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017110994A1 (en) * | 2015-12-25 | 2017-06-29 | 株式会社村田製作所 | High frequency module |
WO2018110057A1 (en) * | 2016-12-16 | 2018-06-21 | 株式会社村田製作所 | Acoustic wave device, high-frequency front-end circuit, and communication device |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2501039B1 (en) * | 2006-01-18 | 2015-04-15 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Surface acoustic wave device and boundary acoustic wave device |
JP4894927B2 (en) * | 2008-06-16 | 2012-03-14 | 株式会社村田製作所 | Boundary acoustic wave device |
-
2010
- 2010-05-28 JP JP2010122946A patent/JP5473784B2/en active Active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107210729A (en) * | 2015-03-16 | 2017-09-26 | 株式会社村田制作所 | Acoustic surface wave device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011199823A (en) | 2011-10-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6651643B2 (en) | Elastic wave filter, duplexer and communication device | |
JP5024388B2 (en) | Surface wave device and duplexer | |
JP6453913B2 (en) | Elastic wave device, duplexer and communication device | |
JP6806776B2 (en) | Elastic wave devices and communication devices | |
JP6288111B2 (en) | Elastic wave filter device | |
EP2290817A1 (en) | Elastic boundary wave device | |
JP7132944B2 (en) | Acoustic wave filters, demultiplexers and communication devices | |
CN103415995A (en) | Electronic component | |
US7944329B2 (en) | Acoustic wave filter device with branched ground wiring sandwiching the IDT area | |
JP4758197B2 (en) | Surface acoustic wave device and communication device | |
JP6868025B2 (en) | Receive filter, demultiplexer and communication device | |
JP5473784B2 (en) | Surface acoustic wave device | |
CN110663178B (en) | Electronic component and module provided with same | |
JP2004153580A (en) | Surface acoustic wave device | |
JP2021190908A (en) | Bandwidth blocking filter, compound filter and communication device | |
JP4454410B2 (en) | Surface acoustic wave device, method of manufacturing the same, and communication device | |
JP3948550B2 (en) | Surface acoustic wave device | |
KR101706257B1 (en) | Acoustic wave device | |
CN110089031B (en) | Elastic wave device, demultiplexer, and communication device | |
JP6642385B2 (en) | Surface acoustic wave filter | |
JP6298861B2 (en) | Elastic wave filter and module | |
JP5596970B2 (en) | Elastic wave device and manufacturing method thereof | |
JP2003243964A (en) | Surface acoustic wave filter device | |
KR100905875B1 (en) | Surface acoustic wave device and method of manufacturing the same | |
JP6166545B2 (en) | Acoustic wave device and method of manufacturing acoustic wave device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130415 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131216 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140107 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140204 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5473784 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |