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JP5463972B2 - Hard coat substrate for touch panel and touch panel using the same - Google Patents

Hard coat substrate for touch panel and touch panel using the same Download PDF

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JP5463972B2 JP2010052864A JP2010052864A JP5463972B2 JP 5463972 B2 JP5463972 B2 JP 5463972B2 JP 2010052864 A JP2010052864 A JP 2010052864A JP 2010052864 A JP2010052864 A JP 2010052864A JP 5463972 B2 JP5463972 B2 JP 5463972B2
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Description

本発明は、抵抗膜式タッチパネル等に用いられるタッチパネル用ハードコート基材に係るものであり、詳しくは、タッチパネルを押圧した際に干渉縞の発生が抑制され、且つ透過性、視認性に優れたタッチパネル用ハードコート基材に関するものである。   The present invention relates to a hard coat substrate for a touch panel used for a resistive touch panel and the like, and more specifically, the generation of interference fringes is suppressed when the touch panel is pressed, and the transparency and visibility are excellent. The present invention relates to a hard coat substrate for a touch panel.

本発明は、抵抗膜式タッチパネル等に用いられるタッチパネル用ハードコート基材に係るものであり、詳しくは、タッチパネルを押圧した際に干渉縞の発生が抑制され、且つ透過性、視認性に優れたタッチパネル用ハードコート基材に関するものである。   The present invention relates to a hard coat substrate for a touch panel used for a resistive touch panel and the like, and more specifically, the generation of interference fringes is suppressed when the touch panel is pressed, and the transparency and visibility are excellent. The present invention relates to a hard coat substrate for a touch panel.

近年、CRTやLCDなどの表示装置上に配置されて表示を見ながら指やペン等で押さえることによりデータや指示・命令を入力できるタッチパネルが普及している。タッチパネルはその位置検出原理から静電容量式等の様々な方法に分類されるが、特に量産の容易さ等から抵抗膜式と呼ばれる方法が主流となっている。   2. Description of the Related Art In recent years, touch panels that are arranged on a display device such as a CRT or an LCD and can input data, instructions, and commands by pressing with a finger or a pen while watching the display have become widespread. The touch panel is classified into various methods such as a capacitance type based on its position detection principle, but a method called a resistance film type is mainly used because of its ease of mass production.

従来の抵抗膜式のタッチパネルの構成を図1に示す。上部基材(1)は絶縁性の透明な上部基板(11)と一方の面にハードコート層(12)、もう一方の面に透明導電膜(13)で構成された透明導電性シートからなり、下部基材(2)は絶縁性の透明な下部基板(21)と透明導電膜(22)で構成された透明導電性シートより成り立っている。両基材は絶縁スペーサー(3)を介して対向配置され、透明なタッチスイッチを構成している。このように構成されたタッチパネルをタッチペン又は指で押圧することにより、電極面同士が接触、導通し、その電気抵抗値の変化から位置検出が行われる。   The structure of a conventional resistive film type touch panel is shown in FIG. The upper substrate (1) comprises an insulating transparent upper substrate (11), a transparent conductive sheet comprising a hard coat layer (12) on one side and a transparent conductive film (13) on the other side. The lower substrate (2) is composed of a transparent conductive sheet composed of an insulating transparent lower substrate (21) and a transparent conductive film (22). Both base materials are arranged to face each other via an insulating spacer (3) to constitute a transparent touch switch. By pressing the touch panel configured in this way with a touch pen or a finger, the electrode surfaces come into contact with each other and are electrically connected, and position detection is performed from a change in the electrical resistance value.

前記上部基板および下部基板にはポリエチレンテレフタラートのような透明なプラスチックが用いられ、前記透明導電膜としてはインジウムと錫の複合酸化物(ITO)等の金属酸化物の薄膜などが用いられている。   A transparent plastic such as polyethylene terephthalate is used for the upper substrate and the lower substrate, and a thin film of metal oxide such as a composite oxide of indium and tin (ITO) is used as the transparent conductive film. .

タッチパネルは表示装置上に配置されるため、高い透明性が求められる。また、その入力面はボールペン等の形状に似せたプラスチック性入力ペンや爪の伸びた指等で押圧されるため、耐擦傷性や高い表面硬度(JIS−K5600−5−4における測定で3H以上)が必要とされる。一般的にハードコートの材質をアクリレートなどの紫外線硬化型樹脂とすることで十分な透明性と硬度を得ることが可能である。   Since the touch panel is disposed on the display device, high transparency is required. In addition, since the input surface is pressed by a plastic input pen resembling the shape of a ballpoint pen or the like, a finger with extended nails, etc., scratch resistance and high surface hardness (3H or more as measured by JIS-K5600-5-4) ) Is required. In general, sufficient transparency and hardness can be obtained by using an ultraviolet curable resin such as acrylate as the material of the hard coat.

このような抵抗膜式タッチパネルにおいて、タッチパネルを押圧すると構造上、上部基材と下部基材の間隔が押圧した点に向かって連続的に狭くなる。この際、上部基材の表面反射光と下部基材の表面反射光が干渉し合い、押圧した点を中心に干渉縞(ニュートンリング)が発生し、視認性が著しく低下するという問題があった。   In such a resistive film type touch panel, when the touch panel is pressed, the distance between the upper base material and the lower base material becomes narrower continuously toward the point where the press is made. At this time, the surface reflection light of the upper base material and the surface reflection light of the lower base material interfere with each other, and interference fringes (Newton rings) are generated around the pressed point, and there is a problem that visibility is remarkably lowered. .

このような干渉縞を抑制する方法として、例えば特許文献1、特許文献2または特許文献3のように、シリカ粒子等のフィラーを用いて表面を凹凸にした防干渉層を透明導電膜の下に設けた基材を用いる方法が知られている。その断面図を図2に示す。図2のように、防干渉性基材(4)は、基板(41)と、基板上に粒子(421)と樹脂(422)を含み凹凸形状を有する防干渉層(42)と、防干渉層表面に設けた透明導電膜(43)とからなる。このような基材を上部、下部のいずれかもしくは両方に用いることにより、基材の凹凸部位で光を散乱させ干渉縞を抑制することができる。   As a method of suppressing such interference fringes, for example, as in Patent Document 1, Patent Document 2, or Patent Document 3, an interference-proof layer having a surface that is uneven using a filler such as silica particles is placed under the transparent conductive film. A method using a provided base material is known. A cross-sectional view thereof is shown in FIG. As shown in FIG. 2, the anti-interference base material (4) includes a substrate (41), an anti-interference layer (42) having particles (421) and a resin (422) on the substrate and having an uneven shape, and an anti-interference It consists of a transparent conductive film (43) provided on the layer surface. By using such a base material for either or both of the upper part and the lower part, it is possible to scatter light at the uneven part of the base material and suppress interference fringes.

特開2004−151937号公報JP 2004-151937 A 特開2005−262597号公報JP 2005-262597 A 特開平11−296303号公報JP 11-296303 A

しかしながら、この凹凸形状が小さすぎると干渉縞が抑制されず、大きすぎると干渉縞の抑制はできるが膜面の曇値(ヘイズ値)が上昇しこれに伴い透過鮮明度が低下するという問題があった。さらに用いた粒子の凝集や分散により表面の凹凸形状が不均一な状態となり、ぎらつき(シンチレーション)と呼ばれる輝点が発生し、表示画面の視認性が低下するという問題があり、干渉縞抑制能と透明性、視認性を高いレベルで兼ね備えたタッチパネル用基材は得られていなかった。   However, if this uneven shape is too small, the interference fringes are not suppressed, and if it is too large, the interference fringes can be suppressed, but the haze value (haze value) of the film surface increases, and the transmission sharpness decreases accordingly. there were. Furthermore, the unevenness of the surface becomes uneven due to the aggregation and dispersion of the particles used, and there is a problem that a bright spot called scintillation is generated and the visibility of the display screen is lowered, and interference fringe suppression ability In addition, a base material for a touch panel having high levels of transparency and visibility has not been obtained.

本発明は上記の問題点に鑑み、干渉縞の発生が抑制され、且つ、透明性、視認性に優れたタッチパネル用ハードコート基材を提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the hard-coat base material for touchscreens in which generation | occurrence | production of the interference fringe was suppressed in view of said problem, and was excellent in transparency and visibility.

そこで本発明者は上記課題を鑑み鋭意検討を行った結果、防干渉層との屈折率の差が0.05以内であり、且つ粒径が異なる粒子を2種類用いてフィルム表面に凹凸加工を施すことで、粒子同士の凝集と局在化が抑えられ良好な凹凸形状となり、高い干渉縞抑制能と透明性、視認性が得られることを見いだし、本発明に至った。   Therefore, as a result of intensive studies in view of the above-mentioned problems, the present inventor performed uneven processing on the film surface using two types of particles having a difference in refractive index with respect to the anti-interference layer within 0.05 and having different particle sizes. By applying, it was found that aggregation and localization of the particles were suppressed to form a favorable concavo-convex shape, and high interference fringe suppressing ability, transparency and visibility were obtained, and the present invention was achieved.

即ち、請求項1に係る発明としては、フィルムの表面を第1面、裏面を第2面とし、該フィルムの第1面にハードコート層、第2面に粒子Aと粒子Bと樹脂とを有する防干渉層と透明導電層を積層したハードコートフィルムにおいて、前記防干渉層の平均膜厚が2.0μm以上5.0μm以下であり、前記粒子Aの屈折率と前記樹脂の屈折率との差が0.05以下であり、前記粒子Bの屈折率と前記樹脂の屈折率との差が0.05以下であり、前記粒子Aの平均粒子径を前記防干渉層の平均膜厚で除した値が0.5以上0.8以下であり、前記粒子Bの平均粒子径を前記防干渉層の平均膜厚で除した値が0.1以上0.3以下であり、前記粒子Aの平均粒子径は、前記粒子Bの平均粒子径より大きく、前記透明導電層表面の突起のうち、高さが0.3μm以上の突起間の平均距離が20μm以上100μm以下であり、前記突起の最大高さが0.5μm以上5μm以下であることを特徴とするタッチパネル用ハードコート基材である。
That is, in the invention according to claim 1, the front surface of the film is the first surface, the back surface is the second surface, the hard coating layer is formed on the first surface of the film, and the particles A, B and resin are formed on the second surface. In the hard coat film in which the interference preventing layer and the transparent conductive layer are laminated, the average film thickness of the interference preventing layer is 2.0 μm or more and 5.0 μm or less, and the refractive index of the particles A and the refractive index of the resin The difference is 0.05 or less, the difference between the refractive index of the particle B and the refractive index of the resin is 0.05 or less, and the average particle diameter of the particle A is divided by the average film thickness of the anti-interference layer. The value obtained by dividing the average particle diameter of the particles B by the average film thickness of the anti-interference layer is 0.1 or more and 0.3 or less . The average particle diameter is larger than the average particle diameter of the particles B , and the height of the protrusions on the surface of the transparent conductive layer is An average distance between protrusions of 0.3 μm or more is 20 μm or more and 100 μm or less, and the maximum height of the protrusions is 0.5 μm or more and 5 μm or less.

また、請求項2に係る発明としては、前記粒子Aおよび前記粒子Bにおいて、いずれか片方または両方に表面処理を施すことを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル用ハードコート基材である。   The invention according to claim 2 is the hard coat substrate for a touch panel according to claim 1, wherein either one or both of the particles A and the particles B are subjected to a surface treatment.

また、請求項3に係る発明としては、全光線透過率が90%以上であり、ヘイズが3%以下であることを特徴とする請求項1または2に記載のタッチパネル用ハードコート基材である。   The invention according to claim 3 is the hard coat substrate for a touch panel according to claim 1 or 2, wherein the total light transmittance is 90% or more and the haze is 3% or less. .

また、請求項4に係る発明としては、請求項1から3のいずれかに記載のタッチパネル用ハードコート基材を用いたタッチパネルである。   Moreover, as invention which concerns on Claim 4, it is a touch panel using the hard-coat base material for touch panels in any one of Claim 1 to 3.

上記構成のタッチパネル用ハードコートフィルムとすることにより、干渉縞の発生が抑制され、かつ透過性、視認性に優れたタッチパネル用ハードコート基材を得ることができる。   By setting it as the hard-coat film for touchscreens of the said structure, generation | occurrence | production of an interference fringe is suppressed and the hardcoat base material for touchscreens excellent in the permeability | transmittance and visibility can be obtained.

一般的な抵抗膜式タッチパネルの断面図である。It is sectional drawing of a general resistive film type touch panel. 従来法の防干渉性基材断面図である。It is a cross-sectional view of a conventional interference-proof substrate. 本発明のタッチパネル用ハードコート基材の断面図である。It is sectional drawing of the hard-coat base material for touchscreens of this invention.

以下、本発明のタッチパネル用ハードコート基材について図3を用いて説明する。
本発明のタッチパネル用ハードコート基材の断面模式図を図3に示した。本発明のタッチパネル用ハードコート基材(5)は透明樹脂基板(51)の一方の面にハードコート層(52)を有し、もう一方の面に防干渉層(53)と透明導電層(54)を有するものである。前記防干渉層(53)は、樹脂(530)と粒子A(53A)と粒子B(53B)を含むことを特徴としている。
Hereinafter, the hard-coat base material for touchscreens of this invention is demonstrated using FIG.
The cross-sectional schematic diagram of the hard-coat base material for touchscreens of this invention was shown in FIG. The hard-coat base material (5) for touchscreens of this invention has a hard-coat layer (52) on one side of a transparent resin substrate (51), and an interference prevention layer (53) and a transparent conductive layer ( 54). The anti-interference layer (53) includes a resin (530), particles A (53A), and particles B (53B).

粒子Aは主に表面の凹凸形状を形成するために用いられ、粒子Bは粒子Aの分散良化と表面の細かい凹凸形状形成のために用いられる。粒子Bを加えることにより、粒子A同士が接触する確率を減らすことができ、その結果、粒子Aの凝集を抑制することが可能となる。また、粒径の小さい粒子Bが防干渉層に加わることにより、さらに微細な凹凸が形成され干渉縞抑制能が向上する。これらの効果により、透明性と視認性を低下させることなく高い干渉縞抑制能を実現することができる。   The particle A is mainly used for forming a surface irregular shape, and the particle B is used for improving the dispersion of the particle A and forming a fine irregular shape on the surface. By adding the particles B, the probability that the particles A come into contact with each other can be reduced, and as a result, aggregation of the particles A can be suppressed. Further, when the particle B having a small particle diameter is added to the interference prevention layer, finer irregularities are formed and the interference fringe suppression ability is improved. By these effects, high interference fringe suppression ability can be realized without reducing transparency and visibility.

本発明において、前記粒子Aの屈折率と前記樹脂の屈折率との差が0.05以下であり、且つ前記粒子Bの屈折率と前記樹脂の屈折率との差が0.05以下であることが好ましい。屈折率の差が0.05を超えると、防干渉層内での内部ヘイズが大きくなり、透明性、視認性が低下してしまう。   In the present invention, the difference between the refractive index of the particle A and the refractive index of the resin is 0.05 or less, and the difference between the refractive index of the particle B and the refractive index of the resin is 0.05 or less. It is preferable. If the difference in refractive index exceeds 0.05, the internal haze in the interference-preventing layer increases, and transparency and visibility are deteriorated.

また、前記粒子Aの平均粒子径を前記防干渉層の平均膜厚で除した値は0.5以上0.8以下であることが好ましい。前記粒子Aの平均粒径を前記防干渉層の平均膜厚で除した値が0.5より小さい場合、形成される凹凸がそれほど大きくなく十分な干渉縞抑制能が得られない。一方、前記粒子Aの平均粒径を前記防干渉層の平均膜厚で除した値が0.8より大きい場合、形成される防干渉層の光学特性が防干渉層の膜厚変動に対して鋭敏に変化してしまい、外観不良等の発生確率が著しく上昇してしまう。   Moreover, it is preferable that the value which remove | divided the average particle diameter of the said particle | grains A by the average film thickness of the said interference prevention layer is 0.5 or more and 0.8 or less. When the value obtained by dividing the average particle diameter of the particles A by the average film thickness of the interference preventing layer is smaller than 0.5, the formed irregularities are not so large and sufficient interference fringe suppression ability cannot be obtained. On the other hand, when the value obtained by dividing the average particle diameter of the particles A by the average film thickness of the anti-interference layer is larger than 0.8, the optical characteristics of the anti-interference layer to be formed is It changes sharply, and the probability of appearance defects and the like significantly increases.

また、前記粒子Bの平均粒子径を前記防干渉層の平均膜厚で除した値は0.1以上0.3以下であることが好ましい。前記粒子Bの平均粒径を前記防干渉層の平均膜厚で除した値が0.1より小さい場合、粒子が小さすぎ粒子を加える効果が得られない。一方、0.3より大きい場合、粒子Aの凝集を防ぐことができない。   Moreover, it is preferable that the value which remove | divided the average particle diameter of the said particle | grains B by the average film thickness of the said interference prevention layer is 0.1 or more and 0.3 or less. When the value obtained by dividing the average particle diameter of the particles B by the average film thickness of the interference preventing layer is smaller than 0.1, the effect of adding the particles is not obtained because the particles are too small. On the other hand, when larger than 0.3, aggregation of the particles A cannot be prevented.

また、本発明において高さが0.3μm以上の突起間の平均距離は20μm以上100μm以下であることが好ましく、且つ突起の最大高さが0.5μm以上5μm以下であることが好ましい。ここで、突起とは、防干渉層に含まれる粒子Aおよび粒子Bにより形成される透明導電層表面の凸形状のことをいう。高さが0.3μm以上の突起間の平均距離が10μm未満の場合、フィルムの透過率が低下するため視認性が低くなり、一方、100μmを超えると干渉縞抑制能が得られない。また、突起の最大高さが5μmを越えると、きめが粗くなるため視認性が低くなり、一方、0.5μm未満であると干渉縞抑制能が得られない。   In the present invention, the average distance between protrusions having a height of 0.3 μm or more is preferably 20 μm or more and 100 μm or less, and the maximum height of the protrusions is preferably 0.5 μm or more and 5 μm or less. Here, the protrusion means a convex shape on the surface of the transparent conductive layer formed by the particles A and the particles B included in the interference preventing layer. When the average distance between protrusions having a height of 0.3 μm or more is less than 10 μm, the transmittance of the film is lowered, so that the visibility is lowered. On the other hand, when it exceeds 100 μm, the interference fringe suppressing ability cannot be obtained. On the other hand, when the maximum height of the protrusion exceeds 5 μm, the texture becomes rough and the visibility becomes low. On the other hand, when it is less than 0.5 μm, the interference fringe suppressing ability cannot be obtained.

突起の平均距離に関しては、触針粗さ計などで得られた粗面の粗さ曲線(JIS−B−0601)において、測定長L、所定の高さを超える突起の個数をNとしたとき、L/Nで表される。また、粗面の最大高さに関しては、JIS−B−0601に基づいて測定される。   Regarding the average distance of the protrusions, when the roughness curve (JIS-B-0601) of the rough surface obtained with a stylus roughness meter or the like is measured length L and the number of protrusions exceeding a predetermined height is N , L / N. In addition, the maximum height of the rough surface is measured based on JIS-B-0601.

本発明において粒子Aおよび粒子Bのいずれか、もしくは両方は疎水処理などの表面処理を施されていることが好ましい。これによって粒子同士の凝集を防ぐことができる。   In the present invention, either or both of the particles A and the particles B are preferably subjected to a surface treatment such as a hydrophobic treatment. Thereby, aggregation of particles can be prevented.

続いて本発明の製造方法について説明する。   Then, the manufacturing method of this invention is demonstrated.

本発明に使用する透明樹脂基材は、特に限定されるものではなく、公知のプラスチックフィルムの中から適宜選択して用いることができる。具体的には、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエステルフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、セロハン、ナイロンフィルム、ポリビニルアルコール系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリアセテートフィルム、ポリスチレンフィルム、アクリル系フィルム、耐熱性・エンプラ系フィルム、フッ素樹脂フィルム、トリアセチルセルロースフィルム等のプラスチックフィルムが挙げられる。   The transparent resin substrate used in the present invention is not particularly limited, and can be appropriately selected from known plastic films. Specifically, polyethylene film, polypropylene film, polyester film, polyvinyl chloride film, cellophane, nylon film, polyvinyl alcohol film, polycarbonate film, polyvinylidene chloride film, polyacetate film, polystyrene film, acrylic film, heat resistance -Plastic films such as engineering plastic films, fluororesin films, and triacetyl cellulose films.

前記透明樹脂基材の厚みは、特に限定はしないが、好ましくは50μm以上500μm以下であり、より好ましくは100μm以上400μm以下である。   Although the thickness of the said transparent resin base material is not specifically limited, Preferably they are 50 micrometers or more and 500 micrometers or less, More preferably, they are 100 micrometers or more and 400 micrometers or less.

本発明のハードコート層および防干渉層を形成するときに用いられるハードコート剤の主成分としては透明度や表面硬度の観点からアクリレートであることが好ましい。特に限定はしないが、透明導電層積層時の温度に耐え、透明性を維持できる樹脂が好ましい。さらに硬化後の機械特性及び透明性、耐薬品性、耐熱性はもちろんのこと、塗布加工時の低粘度化等の諸物性を考慮した場合、具体的には3次元架橋の期待出来る3官能以上のアクリレートを主成分とするモノマーもしくはオリゴマーを架橋して成る紫外線硬化性樹脂を用いてもよい。3官能以上のアクリレートとしては、トリメチロールプロパントリアクリレート、イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上併用しても構わない。これらの樹脂は、いずれのコート方法用いても工業的な製造を考慮すると5分以内で硬化できるものが望ましい。   The main component of the hard coat agent used when forming the hard coat layer and the interference prevention layer of the present invention is preferably an acrylate from the viewpoint of transparency and surface hardness. Although not particularly limited, a resin that can withstand the temperature during transparent conductive layer lamination and maintain transparency is preferable. In addition to the mechanical properties and transparency after curing, chemical resistance, and heat resistance, as well as various physical properties such as low viscosity during coating processing, specifically, more than three functionalities that can be expected to achieve three-dimensional crosslinking An ultraviolet curable resin obtained by crosslinking a monomer or oligomer mainly composed of acrylate may be used. Examples of the trifunctional or higher acrylate include trimethylolpropane triacrylate, isocyanuric acid EO-modified triacrylate, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. These resins are preferably those that can be cured within 5 minutes in consideration of industrial production regardless of which coating method is used.

ベースとなる硬化樹脂としては1分子中に少なくとも1個以上の架橋性二重結合を有する化合物が挙げられる。例えば、光硬化型樹脂としては、ポリウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリオールアクリレートなどのアクリル系樹脂が好ましい。具体的には、架橋性オリゴマー、単官能または多官能モノマー、光重合開始剤、光開始助剤などを含むものである。   Examples of the base curable resin include compounds having at least one crosslinkable double bond in one molecule. For example, the photocurable resin is preferably an acrylic resin such as polyurethane acrylate, epoxy acrylate, or polyol acrylate. Specifically, it contains a crosslinkable oligomer, a monofunctional or polyfunctional monomer, a photopolymerization initiator, a photoinitiator auxiliary agent, and the like.

架橋性オリゴマーとしては、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレート等のアクリルオリゴマーが好ましい。具体的にはポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA型エポキシアクリレート、ポリウレタンのジアクリレート、クレゾールノボラック型エポキシ(メタ)アクリレート等がある。   As the crosslinkable oligomer, acrylic oligomers such as polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyurethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, and silicone (meth) acrylate are preferable. Specific examples include polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, bisphenol A type epoxy acrylate, polyurethane diacrylate, cresol novolac type epoxy (meth) acrylate, and the like.

単官能または多官能モノマーとしては、(メタ)アクリル酸エステル等のアクリルモノマーが好ましい。具体的には2官能の(メタ)アクリル酸エステルとしてはトリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート等がある。3官能の(メタ)アクリル酸エステルとしてはトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等がある。4官能の(メタ)アクリル酸エステルとしてはテトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート等がある。6官能の(メタ)アクリル酸エステルとしてはジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等がある。   As the monofunctional or polyfunctional monomer, acrylic monomers such as (meth) acrylic acid esters are preferable. Specific examples of the bifunctional (meth) acrylic acid ester include tripropylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, and tetraethylene glycol di (meth) acrylate. Examples of the trifunctional (meth) acrylic acid ester include trimethylolpropane tri (meth) acrylate and pentaerythritol tri (meth) acrylate. Examples of tetrafunctional (meth) acrylic acid esters include tetramethylolmethane tetra (meth) acrylate and pentaerythritol tetra (meth) acrylate. Examples of hexafunctional (meth) acrylic acid esters include dipentaerythritol hexaacrylate.

また、防干渉層の平均膜厚は、透明樹脂基材を介して反対面に有るハードコート層のカールの強さや用いる粒子の粒径等を考慮し2.0μm以上5.0μm以下の厚みとすることが好ましい。   In addition, the average film thickness of the anti-interference layer is 2.0 μm or more and 5.0 μm or less in consideration of the curl strength of the hard coat layer on the opposite surface through the transparent resin substrate, the particle size of the particles used, etc. It is preferable to do.

本発明において、活性エネルギー線が紫外線である場合には、光増感剤(光重合開始剤)を添加する必要があり、ラジカル発生型の光重合開始剤としてベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルメチルケタールなどのベンゾインとそのアルキルエーテル類;アセトフェノン、2、2、−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、などのアセトフェノン類;メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−アミルアントラキノンなどのアントラキノン類;チオキサントン、2、4−ジエチルチオキサントン、2、4−ジイソプロピルチオキサントンなどのチオキサントン類;アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタールなどのケタール類;ベンゾフェノン、4、4−ビスメチルアミノベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類及びアゾ化合物などがある。これらは単独または2種以上の混合物として使用でき、さらにはトリエタノールアミン、メチルジエタノールアミンなどの第3級アミン;2−ジメチルアミノエチル安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸エチルなどの安息香酸誘導体等の光開始助剤などと組み合わせて使用することができる。   In the present invention, when the active energy ray is ultraviolet light, it is necessary to add a photosensitizer (photopolymerization initiator), and benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether are used as radical-generating photopolymerization initiators. Benzoins such as benzoin isopropyl ether and benzyl methyl ketal and their alkyl ethers; acetophenones such as acetophenone, 2,2, -dimethoxy-2-phenylacetophenone and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone; methyl anthraquinone and 2-ethylanthraquinone Anthraquinones such as 2-amylanthraquinone; thioxanthones such as thioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, and 2,4-diisopropylthioxanthone; acetophenone dimethyl ketal; Ketals such as emissions Jill dimethyl ketal; benzophenone, and the like 4,4-bis benzophenones such as methylamino benzophenone and azo compounds. These can be used alone or as a mixture of two or more thereof, and further, tertiary amines such as triethanolamine and methyldiethanolamine; benzoic acid derivatives such as 2-dimethylaminoethylbenzoic acid and ethyl 4-dimethylaminobenzoate, etc. It can be used in combination with a photoinitiator aid or the like.

前記光重合開始剤の添加量は主成分のアクリレートに対して0.1〜5重量部であり好ましくは0.5〜3重量部である。下限値未満ではハードコート層の硬化が不十分となり好ましくない。また、上限値を超える場合は、ハードコート層の黄変が生じたり、耐候性が低下したりするため好ましくない。   The addition amount of the photopolymerization initiator is 0.1 to 5 parts by weight, preferably 0.5 to 3 parts by weight with respect to the main component acrylate. Less than the lower limit is not preferable because the hard coat layer is insufficiently cured. Moreover, when exceeding an upper limit, since yellowing of a hard-coat layer arises or a weather resistance falls, it is unpreferable.

光硬化型樹脂を硬化させるのに用いる光は紫外線、電子線、あるいはガンマ線などであり、電子線あるいはガンマ線の場合、必ずしも光重合開始剤や光開始助剤を含有する必要はない。これらの線源としては高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプや加速電子などが使用できる。   The light used for curing the photocurable resin is ultraviolet rays, electron beams, or gamma rays, and in the case of electron beams or gamma rays, it is not always necessary to contain a photopolymerization initiator or a photoinitiating aid. As these radiation sources, high pressure mercury lamps, xenon lamps, metal halide lamps, accelerated electrons, and the like can be used.

溶剤については、前記の主成分のアクリレートを溶解するものであれば特に限定しない。具体的には、エタノール、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール、ベンゼン、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸イソアミル、乳酸エチル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、等が挙げられる。これらの溶剤は1種を単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。   The solvent is not particularly limited as long as it dissolves the main component acrylate. Specifically, ethanol, isopropyl alcohol, isobutyl alcohol, benzene, toluene, xylene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, n-butyl acetate, isoamyl acetate, ethyl lactate, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl Examples include cellosolve acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

本発明に用いられる粒子としては、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂といった有機粒子やシリカ、タルク、各種アルミノケイ酸塩、カオリンクレー、MgAlハイドロタルサイトなどの無機粒子から、用いる防干渉層の樹脂の屈折率との差が0.05以内に収まるのもが適宜選択される。これらは2種類以上のモノマーが共重合した共重合体であってもよい。また、粒子Aと粒子Bにおいては、上述の通り表面に疎水性処理などの表面処理をしたものを用いることが望ましい。   The particles used in the present invention include organic particles such as acrylic resin, polystyrene resin, polyester resin, polyolefin resin, polyamide resin, polycarbonate resin, polyurethane resin, silica, talc, various aluminosilicates, kaolin clay, MgAl hydrotalcite, etc. It is appropriately selected that the difference between the inorganic particles and the refractive index of the resin of the interference prevention layer to be used is within 0.05. These may be copolymers obtained by copolymerizing two or more types of monomers. Further, as described above, it is desirable to use particles A and particles B whose surfaces have been subjected to a surface treatment such as a hydrophobic treatment.

フィルム基材へのコーティング方法は、特に限定されるものではないが、実用的には、ダイコーター、カーテンフローコーター、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、スピンコーター、マイクログラビアコーター等によるコーティングが一般的である。   The coating method on the film substrate is not particularly limited, but practically a die coater, curtain flow coater, roll coater, reverse roll coater, gravure coater, knife coater, bar coater, spin coater, micro Coating with a gravure coater or the like is common.

透明導電層を形成する一般的な方式としては、スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等のPVD法、あるいはCVD法、塗工法、印刷法等がある。なお透明導電層の形成材としては特に制限されるものではなく、例えば、インジュウム・スズ複合酸化物(ITO)、スズ酸化物、銅、アルミニウム、ニッケル、クロムなどがあげられ、異なる形成材が重ねて形成されてもよい。密着性を向上させるために、上記アンダーコート層と基材フィルムとの間に単一の金属元素又は2種以上の金属元素の合金からなる金属層を設ける場合もある。金属層にはシリコン、チタン、錫及び亜鉛からなる群から選ばれた金属を用いることが望ましい。   As a general method for forming the transparent conductive layer, there are a PVD method such as a sputtering method, a vacuum deposition method, and an ion plating method, a CVD method, a coating method, a printing method, and the like. The material for forming the transparent conductive layer is not particularly limited, and examples thereof include indium-tin composite oxide (ITO), tin oxide, copper, aluminum, nickel, and chromium. May be formed. In order to improve adhesion, a metal layer made of a single metal element or an alloy of two or more metal elements may be provided between the undercoat layer and the base film. It is desirable to use a metal selected from the group consisting of silicon, titanium, tin and zinc for the metal layer.

以下に実施例および比較例を挙げて本発明について具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples.

[実施例1]
(1)ハードコート層の塗布
ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(帝人株式会社製、125μm厚)の一方の面に下記ハードコート層用塗布液をワイヤーバーにて塗布、乾燥し、高圧水銀灯での紫外線照射により厚み5μmのハードコート層を形成した。続いてもう一方の面を下記処方の防干渉層用塗布液をワイヤーバーにて塗布、乾燥し、高圧水銀灯での紫外線照射により厚み5μmの防干渉層を形成し、ハードコートフィルムを作製した。
[Example 1]
(1) Application of hard coat layer The following coating liquid for hard coat layer is applied to one surface of a polyethylene terephthalate (PET) film (manufactured by Teijin Ltd., 125 μm thick) with a wire bar, dried, and then irradiated with ultraviolet light using a high-pressure mercury lamp. A hard coat layer having a thickness of 5 μm was formed by irradiation. Subsequently, the other surface was coated with an anti-interference layer coating solution of the following formulation with a wire bar and dried, and an anti-interference layer having a thickness of 5 μm was formed by ultraviolet irradiation with a high-pressure mercury lamp to prepare a hard coat film.

〈ハードコート層用塗布液〉
電離放射線硬化型樹脂(アクリル系樹脂)
(紫光 UV−7605B:日本合成化学社:屈折率1.49) 49重量部
光重合開始材
(イルガキュア184:チバスペシャリティケミカルズ社) 2重量部
酢酸メチル 49重量部
<Coating liquid for hard coat layer>
Ionizing radiation curable resin (acrylic resin)
(Purple light UV-7605B: Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd .: refractive index 1.49) 49 parts by weight Photopolymerization initiator (Irgacure 184: Ciba Specialty Chemicals) 2 parts by weight Methyl acetate 49 parts by weight

〈防干渉層用塗布液〉
電離放射線硬化型樹脂(アクリル系樹脂)
(紫光 UV−7605B:日本合成化学社:屈折率1.49) 39重量部
光重合開始材
(イルガキュア184:チバスペシャリティケミカルズ社) 2重量部
アクリル樹脂
(MX−350:綜研化学社:粒径3.5μm:屈折率1.49) 10重量部
シリカ粒子
(SS50F:東ソーシリカ工業:粒径1.1μm:屈折率1.44) 10重量部
酢酸メチル 39重量部
<Coating solution for interference prevention layer>
Ionizing radiation curable resin (acrylic resin)
(Violet UV-7605B: Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd .: Refractive index 1.49) 39 parts by weight Photopolymerization initiator (Irgacure 184: Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 2 parts by weight Acrylic resin (MX-350: Soken Chemical Co., Ltd .: Particle size 3 0.5 μm: Refractive index 1.49) 10 parts by weight Silica particles (SS50F: Tosoh Silica Industry: Particle size 1.1 μm: Refractive index 1.44) 10 parts by weight Methyl acetate 39 parts by weight

(2)ITO成膜
前記ハードコートフィルムの防干渉層の面に、厚み20nmのITOの導電膜をスパッタリング法で形成し、本発明のタッチパネル用ハードコート基材を作製した。
(2) ITO film formation A 20 nm thick ITO conductive film was formed by sputtering on the surface of the hard coat film on the anti-interference layer to produce a hard coat substrate for a touch panel of the present invention.

[比較例1]
実施例1において、防干渉層に用いるシリカ粒子をスチレン樹脂(SX−350H:綜研化学社:粒径3.5μm:屈折率1.59)10重量部にした以外は実施例1と同様にして、比較例1のタッチパネル用ハードコート基材を作製した。
[Comparative Example 1]
In Example 1, the silica particles used in the anti-interference layer were the same as in Example 1 except that 10 parts by weight of styrene resin (SX-350H: Soken Chemical Co., Ltd .: particle size 3.5 μm: refractive index 1.59) was used. The hard-coat base material for touchscreens of the comparative example 1 was produced.

[比較例2]
実施例1において、防干渉層に用いる粒子をアクリル樹脂(MX−350:綜研化学社:粒径3.5μm:屈折率1.49)20重量部のみにした以外は実施例1と同様にして、比較例2のタッチパネル用ハードコート基材を作製した。
[Comparative Example 2]
In Example 1, the same procedure as in Example 1 was used except that the particles used for the anti-interference layer were 20 parts by weight of acrylic resin (MX-350: Soken Chemical Co., Ltd .: particle size 3.5 μm: refractive index 1.49). A hard coat substrate for a touch panel of Comparative Example 2 was produced.

[比較例3]
実施例1において、防干渉層に用いる粒子をシリカ粒子(SS50F:東ソーシリカ工業:粒径1.1μm:屈折率1.44)20重量部のみにした以外は実施例1と同様にして、比較例3のタッチパネル用ハードコート基材を作製した。
[Comparative Example 3]
In Example 1, the particles used for the anti-interference layer were the same as in Example 1 except that only 20 parts by weight of silica particles (SS50F: Tosoh Silica Industry: particle size 1.1 μm: refractive index 1.44) were compared. The hard coat substrate for touch panel of Example 3 was produced.

[比較例4]
実施例1において、防干渉層に粒子を含まないこと以外は実施例1と同様にして、比較例4のタッチパネル用ハードコート基材を作製した。
[Comparative Example 4]
In Example 1, the hard-coat base material for touchscreens of the comparative example 4 was produced like Example 1 except not containing particle | grains in an interference prevention layer.

実施例、比較例で得られたハードコートフィルム用いて、干渉縞防止能、透明性、視認性、表面粗さについて評価した。評価結果を表1に示す。   Using the hard coat films obtained in Examples and Comparative Examples, interference fringe prevention ability, transparency, visibility, and surface roughness were evaluated. The evaluation results are shown in Table 1.

(1)干渉縞抑制能
実施例および比較例のハードコートフィルム2枚を使用し、防干渉層面同士を密着させて1kg/25cmにて加圧し、干渉縞が生じなかったものを「○」、生じたものを「×」とした。
(1) Interference fringe suppression ability Two hard coat films of Examples and Comparative Examples were used, the interference-proof layer surfaces were brought into close contact with each other and pressurized at 1 kg / 25 cm 2 , and no interference fringes were generated. The resulting product was designated as “x”.

(2)透明性
実施例および比較例のハードコートフィルムのヘイズを、JIS−K7136:1997に基づいて、ヘイズメーター(NDH2000:日本電飾社)を用いて測定し、測定値が3.0%未満であったものを「○」、3.0%以上であったものを「×」とした。なお、測定は導電層を有する面から光を入射させた。
(2) Transparency The haze of the hard coat films of Examples and Comparative Examples was measured using a haze meter (NDH2000: Nippon Denshoku Co., Ltd.) based on JIS-K7136: 1997, and the measured value was 3.0%. What was less than "○" was assigned, and what was 3.0% or more was assigned "X". In the measurement, light was incident from the surface having the conductive layer.

また、実施例および比較例のハードコートフィルムの全光線透過率を、JIS−K7361:2000に基づいて、ヘイズメーター(NDH2000:日本電飾社)を用いて測定し、測定値が90%以上であったものを「○」、90%未満であったものを「×」とした。なお、測定は導電層を有する面から光を入射させた。   Moreover, the total light transmittance of the hard coat film of an Example and a comparative example is measured using a haze meter (NDH2000: Nippon Denshoku Co., Ltd.) based on JIS-K7361: 2000, and a measured value is 90% or more. What was there was “◯”, and what was less than 90% was “x”. In the measurement, light was incident from the surface having the conductive layer.

(3)視認性
実施例および比較例のハードコートフィルムについて、JIS−K7105に基づいて、写像性測定器(ICM−1DP:スガ試験機社)を用いて光学くし2.0mmの像鮮明度を測定し、測定値が90%以上であったものを「○」、90%未満であったものを「×」とした。なお、測定はハードコート層を有する面から光を入射させた。
(3) Visibility About the hard coat film of the example and the comparative example, based on JIS-K7105, using an image clarity measuring device (ICM-1DP: Suga Test Instruments Co., Ltd.), an optical comb image clarity of 2.0 mm is obtained. The measurement value was 90% or more, and “◯” was given, and the measurement value was less than 90% was taken as “X”. In the measurement, light was incident from the surface having the hard coat layer.

またCRTディスプレイの表示画面をグリーン100%に画像表示させ、実施例および比較例のハードコートフィルムのハードコート面を表示画面に密着させ、ぎらつきがなかったものを「○」、ぎらつきがあったものを「×」とした。   Also, the display screen of the CRT display is displayed in 100% green, and the hard coat surfaces of the hard coat films of the examples and comparative examples are brought into close contact with the display screen. "X" was used.

(4)表面粗さ
粗面の突起間の距離はJIS−B−0601に基づいて、表面粗さ計(小坂研究所SE30K)を用いて粗さ曲線を求め算出した。また粗面の最大高さはJIS−B−0601に基づいて同表面粗さ計を用いて測定した。
(4) Surface roughness The distance between the protrusions on the rough surface was calculated by obtaining a roughness curve using a surface roughness meter (Kosaka Laboratory SE30K) based on JIS-B-0601. The maximum height of the rough surface was measured using the same surface roughness meter based on JIS-B-0601.

Figure 0005463972
Figure 0005463972

表1から明らかな通り、実施例1のタッチパネル用ハードコート基材は防干渉層において十分な凹凸が形成され高い干渉縞抑制能と透明性、視認性をもつものであった。   As is clear from Table 1, the hard coat substrate for touch panel of Example 1 had sufficient interference fringe suppressing ability, transparency, and visibility, with sufficient irregularities formed in the anti-interference layer.

比較例1のハードコートフィルムは粒子Aと防干渉層の屈折率の差が0.10であるスチレン粒子を使用したため、像鮮明度が低いものであった。   Since the hard coat film of Comparative Example 1 used styrene particles having a refractive index difference of 0.10 between the particles A and the anti-interference layer, the image sharpness was low.

比較例2のハードコートフィルムは粒径の小さなシリカ粒子が入っていないため、アクリル粒子の分散が悪く、干渉縞防止能は高かったものの透明性や視認性に問題があるものであった。   Since the hard coat film of Comparative Example 2 did not contain silica particles having a small particle size, the dispersion of acrylic particles was poor and the interference fringe prevention ability was high, but there were problems with transparency and visibility.

比較例3のハードコートフィルムは粒径の小さなシリカ粒子のみを使用したため、十分な凹凸が形成されず干渉縞防止能が発現しなかった。   Since the hard coat film of Comparative Example 3 used only silica particles having a small particle size, sufficient irregularities were not formed and the interference fringe preventing ability was not exhibited.

比較例4のハードコートフィルムは、凹凸が形成されず干渉縞抑制能は発現しなかった。   The hard coat film of Comparative Example 4 did not have irregularities and did not exhibit interference fringe suppression ability.

本発明のハードコート基材は、タッチパネル用の上部基材もしくは下部基材として用いられる。   The hard coat substrate of the present invention is used as an upper substrate or a lower substrate for a touch panel.

1 上部基材
11 上部基板
12 ハードコート層
13 透明導電膜
2 下部電極
21 下部基板
22 透明導電膜
3 絶縁スペーサー
4 防干渉性基材
41 基板
42 防干渉層
421 粒子
422 樹脂
43 透明導電膜
5 タッチパネル用ハードコート基材
51 透明樹脂基板
52 ハードコート層
53 防干渉層
531 ハードコート樹脂
53A 粒子A
53B 粒子B
54 透明導電層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Upper base material 11 Upper substrate 12 Hard coat layer 13 Transparent conductive film 2 Lower electrode 21 Lower substrate 22 Transparent conductive film 3 Insulating spacer 4 Interference-proof base material 41 Substrate 42 Anti-interference layer 421 Particle 422 Resin 43 Transparent conductive film 5 Touch panel Hard coat substrate 51 Transparent resin substrate 52 Hard coat layer 53 Anti-interference layer 531 Hard coat resin 53A Particle A
53B Particle B
54 Transparent conductive layer

Claims (4)

フィルムの表面を第1面、裏面を第2面とし、該フィルムの第1面にハードコート層、第2面に粒子Aと粒子Bと樹脂とを有する防干渉層と透明導電層を積層したハードコートフィルムにおいて、
前記防干渉層の平均膜厚が2.0μm以上5.0μm以下であり、
前記粒子Aの屈折率と前記樹脂の屈折率との差が0.05以下であり、
前記粒子Bの屈折率と前記樹脂の屈折率との差が0.05以下であり、
前記粒子Aの平均粒子径を前記防干渉層の平均膜厚で除した値が0.5以上0.8以下であり、
前記粒子Bの平均粒子径を前記防干渉層の平均膜厚で除した値が0.1以上0.3以下であり、
前記粒子Aの平均粒子径は、前記粒子Bの平均粒子径より大きく、
前記透明導電層表面の突起のうち、高さが0.3μm以上の突起間の平均距離が20μm以上100μm以下であり、
前記突起の最大高さが0.5μm以上5μm以下である
ことを特徴とするタッチパネル用ハードコート基材。
The film surface was the first surface, the back surface was the second surface, a hard coat layer was laminated on the first surface of the film, and an anti-interference layer having particles A, particles B and a resin and a transparent conductive layer were laminated on the second surface. In hard coat film,
The average film thickness of the anti-interference layer is 2.0 μm or more and 5.0 μm or less,
The difference between the refractive index of the particle A and the refractive index of the resin is 0.05 or less,
The difference between the refractive index of the particle B and the refractive index of the resin is 0.05 or less,
A value obtained by dividing the average particle diameter of the particles A by the average film thickness of the interference preventing layer is 0.5 or more and 0.8 or less,
The value obtained by dividing the average particle diameter of the particles B by the average film thickness of the anti-interference layer is 0.1 or more and 0.3 or less,
The average particle size of the particles A is larger than the average particle size of the particles B,
Of the protrusions on the surface of the transparent conductive layer, the average distance between protrusions having a height of 0.3 μm or more is 20 μm or more and 100 μm or less,
The hard coat substrate for a touch panel, wherein the maximum height of the protrusion is 0.5 μm or more and 5 μm or less.
前記粒子Aおよび前記粒子Bにおいて、いずれか片方または両方に表面処理を施すことを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル用ハードコート基材。   The hard coat substrate for a touch panel according to claim 1, wherein one or both of the particles A and the particles B are subjected to a surface treatment. 全光線透過率が90%以上であり、ヘイズが3%以下であることを特徴とする請求項1または2に記載のタッチパネル用ハードコート基材。   The hard coat substrate for a touch panel according to claim 1 or 2, wherein the total light transmittance is 90% or more and the haze is 3% or less. 請求項1から3のいずれかに記載のタッチパネル用ハードコート基材を用いたタッチパネル。   The touch panel using the hard-coat base material for touchscreens in any one of Claim 1 to 3.
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