JP5447242B2 - Anti-counterfeit medium and method for manufacturing the same - Google Patents
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Description
本発明は、紙幣、有価証券、証明書等の偽造防止技術に関するものである。 The present invention relates to a technique for preventing forgery of banknotes, securities, certificates, and the like.
各国紙幣等の一部には光に透かして見ると、表の模様と裏の模様が重なって、完成された模様となって見えるものがある。これは一つの図柄を2分割して、一方を基材の表面に、他方を基材の裏面に印刷したもので、単純なパターンが多い。したがって、通常の複写機を用いても容易に再現でき、偽造防止効果が低かった。 Some banknotes from various countries, when viewed through the light, have a pattern that looks like a finished pattern, with the front and back patterns overlapping. In this method, one design is divided into two, one is printed on the surface of the base material and the other is printed on the back surface of the base material, and there are many simple patterns. Therefore, it can be easily reproduced even with a normal copying machine, and the effect of preventing forgery is low.
なお、印刷方式または印刷加工方式による偽造防止技術については、例えば特許文献1〜4に開示されている。
In addition, forgery prevention technology by a printing method or a printing processing method is disclosed in
本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、基材の両面にパターンを形成したものを光で透かして見たときに両面のパターンが合成されて出現する画像を確認することで真偽の判定ができる、偽造が困難な偽造防止媒体およびその製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is true / false by confirming an image that appears when a pattern on both sides of a base material is formed by seeing the pattern formed on both sides with light. It is an object of the present invention to provide a forgery-preventing medium that is difficult to forge and a method for manufacturing the same.
上記課題を解決するために、本発明は、基材と、上記基材の一方の面に設けられた第1パターンと、上記基材の他方の面に設けられた第2パターンとを有する偽造防止媒体であって、上記基材の一方の面を手前にして上記偽造防止媒体を光に透かして観察した状態にて、上記第1パターンと上記第2パターンとにより錯視を発現する偽造防止パターンが形成されるものであり、上記第2パターンが、上記基材の一方の面を手前にして上記偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分が計算されて設けられていることを特徴とする偽造防止媒体を提供する。 In order to solve the above problems, the present invention provides a counterfeit having a base material, a first pattern provided on one surface of the base material, and a second pattern provided on the other surface of the base material. An anti-counterfeiting pattern, wherein the anti-counterfeiting medium expresses an illusion with the first pattern and the second pattern in a state where the anti-counterfeiting medium is observed through light with one side of the substrate facing forward The second pattern is provided with a calculated decrease in density when the anti-counterfeit medium is watermarked with light on one side of the base material facing forward. A forgery prevention medium is provided.
本発明においては、第2パターンが、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分が計算されて設けられており、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かして観察すると、第2パターンは濃度が低下した状態で視認されるので、第1パターンおよび第2パターンで形成される偽造防止パターンでは、濃淡により錯視が発現する。通常の複写機では、第1パターンおよび第2パターンの高精度な位置合わせが困難である上に、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分を考慮して第2パターンを複写することも困難である。したがって本発明においては、高い偽造防止効果を達成することができる。 In the present invention, the second pattern is provided by calculating a decrease in density when the anti-counterfeit medium is watermarked with light on one side of the substrate in front, When the anti-counterfeit medium is observed through the light in front, the second pattern is visually recognized in a state where the density is lowered. Therefore, in the anti-counterfeit pattern formed by the first pattern and the second pattern, an illusion appears due to light and shade. To do. In a normal copying machine, it is difficult to align the first pattern and the second pattern with high accuracy, and the density decrease when the anti-counterfeit medium is watermarked in the light with one side of the substrate facing forward. It is also difficult to copy the second pattern in consideration of the above. Therefore, in the present invention, a high anti-counterfeit effect can be achieved.
上記発明においては、上記偽造防止パターンが、高濃度領域と、中濃度領域と、低濃度領域とを有することが好ましい。この場合、上記高濃度領域が上記第1パターンで構成され、上記中濃度領域が上記第2パターンで構成され、上記低濃度領域が上記基材の両面に上記第1パターンおよび上記第2パターンがいずれも設けられていない部分で構成されていることが好ましい。基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたとき、第2パターンは濃度が低下した状態で視認されるため、基材の両面に第1パターンおよび第2パターンがいずれも設けられていない部分で構成される低濃度領域と、第1パターンで構成される高濃度領域とに対して、中間の濃度となる中濃度領域を第2パターンで構成することができるからである。 In the said invention, it is preferable that the said forgery prevention pattern has a high concentration area | region, a medium concentration area | region, and a low concentration area | region. In this case, the high concentration region is configured by the first pattern, the medium concentration region is configured by the second pattern, and the low concentration region is formed on both surfaces of the base material by the first pattern and the second pattern. It is preferable that any part is provided. When the anti-counterfeit medium is watermarked with light on one side of the substrate in front, the second pattern is visually recognized in a state in which the density is lowered. Therefore, both the first pattern and the second pattern are formed on both surfaces of the substrate. This is because an intermediate density region having an intermediate density can be configured with the second pattern with respect to the low density region configured with the portion not provided and the high density region configured with the first pattern. .
さらに本発明は、基材と、上記基材の一方の面に設けられた第1パターンと、上記基材の他方の面に設けられた第2パターンとを有する偽造防止媒体の製造方法であって、上記偽造防止媒体は、上記基材の一方の面を手前にして上記偽造防止媒体を光に透かして観察した状態にて、上記第1パターンと上記第2パターンとにより錯視を発現する偽造防止パターンが形成されるものであり、上記基材の一方の面に第1パターンを形成する第1パターン形成工程と、上記基材の他方の面に、上記第2パターンを、上記基材の一方の面を手前にして上記偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分を計算して形成する第2パターン形成工程とを有することを特徴とする偽造防止媒体の製造方法を提供する。 Furthermore, the present invention is a method for producing an anti-counterfeit medium comprising a base material, a first pattern provided on one surface of the base material, and a second pattern provided on the other surface of the base material. The anti-counterfeit medium is a forgery exhibiting an illusion by the first pattern and the second pattern in a state where the one anti-counterfeit medium is facing forward and the anti-counterfeit medium is observed through light. A prevention pattern is formed, a first pattern forming step of forming a first pattern on one surface of the substrate, and the second pattern on the other surface of the substrate. And a second pattern forming step of calculating and forming a decrease in density when the anti-counterfeit medium is watermarked with light on one side in front of the anti-counterfeit medium. .
本発明においては、第2パターンを、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分を計算して形成することによって、上述したように優れた偽造防止効果を得ることができる。したがって、既存の材料および装置を用いて偽造防止媒体を作製することが可能である。 In the present invention, the second pattern is formed by calculating the amount of decrease in density when the anti-counterfeit medium is watermarked with light with one side of the substrate facing forward, and as described above, excellent forgery is achieved. The prevention effect can be obtained. Therefore, it is possible to produce an anti-counterfeit medium using existing materials and devices.
本発明においては、偽造防止媒体を光に透かして観察すると偽造防止パターンが出現し錯視が生じるので、偽造防止効果を向上させることが可能であるという効果を奏する。 In the present invention, when an anti-counterfeit medium is observed through light, an anti-counterfeit pattern appears and an optical illusion occurs, so that the effect of preventing forgery can be improved.
以下、本発明の偽造防止媒体およびその製造方法について詳細に説明する。 Hereinafter, the anti-counterfeit medium of the present invention and the manufacturing method thereof will be described in detail.
A.偽造防止媒体
本発明の偽造防止媒体は、基材と、上記基材の一方の面に設けられた第1パターンと、上記基材の他方の面に設けられた第2パターンとを有する偽造防止媒体であって、上記基材の一方の面を手前にして上記偽造防止媒体を光に透かして観察した状態にて、上記第1パターンと上記第2パターンとにより錯視を発現する偽造防止パターンが形成されるものであり、上記第2パターンが、上記基材の一方の面を手前にして上記偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分が計算されて設けられていることを特徴とするものである。
A. Anti-counterfeit medium The anti-counterfeit medium of the present invention includes a base material, a first pattern provided on one surface of the base material, and a second pattern provided on the other surface of the base material. An anti-counterfeit pattern, which is a medium and exhibits an optical illusion by the first pattern and the second pattern in a state where the one surface of the substrate is facing forward and the anti-counterfeit medium is observed through light, is observed. The second pattern is formed by calculating a decrease in density when the anti-counterfeit medium is watermarked with light on one side of the substrate facing forward. It is what.
本発明の偽造防止媒体について図面を参照しながら説明する。
図1(a)〜(c)は本発明の偽造防止媒体の一例を示す概略平面図および断面図であり、図1(a)は偽造防止媒体を基材の一方の面から見た平面図、図1(b)は偽造防止媒体を基材の他方の面から見た平面図、図1(c)は図1(a)、(b)のA−A線断面図である。図1(a)〜(c)に例示するように、偽造防止媒体1は、基材2と、基材2の一方の面に設けられた第1パターン3と、基材2の他方の面に設けられた第2パターン4とを有している。第1パターン3は、正方形が規則的に配列されたパターンであり、所定の色および濃度(例えば黒色)で印刷されている。第2パターン4は、第1パターン3の正方形と同じ大きさの正方形の開口部を有する格子のパターンで、さらに格子の交差部分に円形の開口部を有するパターンであり、所定の色および濃度(例えば黒色)で印刷されている。これらの第1パターン3および第2パターン4は、第1パターン3の正方形と、第2パターン4の格子の正方形の開口部とが合うように位置合わせされて印刷されている。
The anti-counterfeit medium of the present invention will be described with reference to the drawings.
1A to 1C are a schematic plan view and a cross-sectional view showing an example of the anti-counterfeit medium of the present invention, and FIG. 1A is a plan view of the anti-counterfeit medium viewed from one side of the substrate. 1B is a plan view of the anti-counterfeit medium viewed from the other side of the substrate, and FIG. 1C is a cross-sectional view taken along the line AA in FIGS. 1A and 1B. As illustrated in FIGS. 1A to 1C, the
図2は、図1(a)〜(c)に示す偽造防止媒体1を基材2の一方の面を手前にして光に透かして観察した状態を示す模式図である。偽造防止媒体1を基材2の一方の面を手前にして光に透かして観察すると、図2に例示するように、第1パターン3と第2パターン4とにより偽造防止パターン10が形成される。第1パターン3は、所定の色および濃度(例えば黒色)で印刷されており、基材2の一方の面を手前にしているので、濃度が維持された状態(例えば黒色)で視認される。第2パターン4は、所定の色および濃度(例えば黒色)で印刷されており、基材2の一方の面を手前にしているので、濃度が低下した状態(例えば灰色)で視認される。基材2の両面に第1パターン3および第2パターン4のいずれも印刷されていない部分(円形の部分)は、光が透過するので、基材2の色、濃度、透過率等に応じた状態(例えば白色)で視認される。そのため、偽造防止パターン10では、第1パターン3は高濃度領域11を構成し、第2パターン4は中濃度領域12を構成し、基材2の両面に第1パターン3および第2パターン4がいずれも印刷されていない部分は低濃度領域13を構成することになる。
FIG. 2 is a schematic diagram showing a state in which the
このように、偽造防止媒体を基材の一方の面を手前にして光に透かして観察した状態では、第2パターンは濃度が低下した状態で視認されるので、第2パターンは、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分が計算されて印刷されている。例えば図2において、偽造防止媒体1を基材2の一方の面を手前にして光に透かしたときに第2パターン4は濃度が低下した状態(例えば灰色)で視認されるので、図1(b)に示すように、第2パターン4は、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分に基づいて、所定の濃度(例えば黒色)で印刷されている。
Thus, in the state in which the anti-counterfeit medium is observed through the light with one side of the substrate facing forward, the second pattern is visually recognized in a state where the density is lowered. The amount of decrease in density when the anti-counterfeit medium is watermarked with light on one side is calculated and printed. For example, in FIG. 2, when the
本発明において、偽造防止パターンは錯視を発現するものである。図2に示す偽造防止パターン10では、格子の中濃度領域12(灰色)の交差部分にある円形の低濃度領域13(白色)の中に、黒っぽいものが現れたり、消えたりする。これは、実際にはないはずの黒い点がちらついて見えるものであり、きらめき格子錯視(Schrauf, Lingelbach and Wist, 1997)と呼ばれている。
In the present invention, the forgery-preventing pattern expresses an illusion. In the
なお、本発明において、「錯視」とは、濃淡により生じる錯視をいい、濃淡によって実際の図形とは異なる図形に見えることをいう。 In the present invention, the “illusion” means an illusion caused by shading, which means that the figure looks different from the actual figure due to the shading.
図1(a)〜(c)に示す偽造防止媒体1を基材2の一方の面から反射光によって見た場合には、偽造防止媒体を基材の一方の面から透過光によって見た場合と比較して、第2パターンはさらに濃度が低下して視認され難くなり、所定の濃淡が出ないために錯視は起こらず、偽造防止パターンは認識できない。また、図1(a)〜(c)に示す偽造防止媒体1を基材2の他方の面から反射光によって見た場合には、第1パターンは濃度が低下して視認され難くなり、所定の濃淡が出ないために錯視は起こらず、偽造防止パターンは認識できない。これに対し、図1(a)〜(c)に示す偽造防止媒体1を基材2の一方の面から透過光によって見た場合には、図2に例示するように、偽造防止パターン10が出現し、濃淡によって錯視が生じる。
When the
このように本発明においては、光に透かして見ると通常では認識できない偽造防止パターンが出現し、錯視が起こるので、偽造防止技術として有効である。通常の複写機では、第1パターンおよび第2パターンの高精度な位置合わせが困難である上に、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分を考慮して第2パターンを複写することも困難であるため、偽造防止パターンが出現し錯視が発現するように第1パターンおよび第2パターンを再現することは非常に難しい。したがって本発明においては、優れた偽造防止効果を得ることが可能である。 As described above, in the present invention, an anti-counterfeit pattern that cannot be normally recognized when viewed through light appears and an illusion occurs, which is effective as an anti-counterfeit technology. In a normal copying machine, it is difficult to align the first pattern and the second pattern with high accuracy, and the density decrease when the anti-counterfeit medium is watermarked in the light with one side of the substrate facing forward. Therefore, it is difficult to reproduce the first pattern and the second pattern so that the anti-counterfeit pattern appears and the illusion appears. Therefore, in the present invention, an excellent anti-counterfeit effect can be obtained.
以下、本発明の偽造防止媒体における各構成について説明する。 Hereinafter, each structure in the forgery prevention medium of this invention is demonstrated.
1.偽造防止パターン、第1パターン、第2パターン
本発明における偽造防止パターンは、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かして観察した状態にて、基材の一方の面に設けられた第1パターンと、基材の他方の面に設けられた第2パターンとにより形成されるものであり、錯視を発現するものである。
1. Anti-counterfeiting pattern, first pattern, second pattern The anti-counterfeiting pattern in the present invention is formed on one side of the base material in a state where the anti-counterfeit medium is observed through light with one side of the base side facing forward. It is formed by the provided first pattern and the second pattern provided on the other surface of the base material, and expresses an illusion.
偽造防止パターンは、濃淡により錯視を発現するものであり、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かして観察した状態にて、第1パターンと第2パターンとにより形成され得るものであれば特に限定されるものではない。濃淡により錯視を発現する錯視図形であればいずれも、偽造防止パターンとして用いることができる。 The anti-counterfeit pattern expresses an illusion due to shading, and is formed by the first pattern and the second pattern in a state where one side of the substrate is facing forward and the anti-counterfeit medium is observed through light. It will not specifically limit if it can obtain. Any illusion figure that expresses an illusion by shading can be used as a forgery prevention pattern.
例えば、上述したように、図1(a)に示す基材2の一方の面に所定の色および濃度(例えば黒色)で印刷された第1パターン3と、図1(b)に示す基材2の他方の面に所定の色および濃度(例えば黒色)で印刷された第2パターン4とにより、図2に示す偽造防止パターン10が形成される。この偽造防止パターン10では、上述したように、格子の中濃度領域12(灰色)の交差部分にある円形の低濃度領域13(白色)の中に、黒っぽいものが現れたり、消えたりする。これは、実際にはないはずの黒い点がちらついて見えるものであり、きらめき格子錯視(Schrauf, Lingelbach and Wist(1997))と呼ばれている。
For example, as described above, the
図3(a)、(b)は本発明の偽造防止媒体の他の例を示す概略平面図であり、図3(a)は偽造防止媒体を基材の一方の面から見た平面図、図3(b)は偽造防止媒体を基材の他方の面から見た平面図である。図4は、図3(a)、(b)に示す偽造防止媒体を基材の一方の面を手前にして光に透かして観察した状態を示す模式図である。
図3(a)に示す基材2の一方の面に所定の色および濃度(例えば黒色)で印刷された第1パターン3と、図3(b)に示す基材2の他方の面に所定の色および濃度(例えば黒色)で印刷された第2パターン4とにより、図4に示す偽造防止パターン10が形成される。第2パターン4は濃度が低下した状態で視認されるので、偽造防止パターン10は、第1パターン3で構成される高濃度領域11(例えば黒色)と、第2パターン4で構成される中濃度領域12(例えば灰色)と、基材2の両面に第1パターン3および第2パターン4のいずれも印刷されていない部分で構成される低濃度領域11(例えば白色)とを有している。この偽造防止パターン10では、中濃度領域12(灰色)の線が、左もしくは右に傾いて見える。これは、実際にはどれも水平で互いに平行な線が左もしくは右に傾いて見えるものであり、カフェウォール錯視(Fraser(1908)、Gregory and Heard(1979))と呼ばれている。
3 (a) and 3 (b) are schematic plan views showing other examples of the anti-counterfeit medium of the present invention, and FIG. 3 (a) is a plan view of the anti-counterfeit medium viewed from one surface of the substrate, FIG. 3B is a plan view of the anti-counterfeit medium viewed from the other side of the substrate. FIG. 4 is a schematic diagram showing a state in which the forgery prevention medium shown in FIGS. 3A and 3B is observed through one side of the base material facing through the light.
A
図5(a)、(b)は本発明の偽造防止媒体の他の例を示す概略平面図であり、図5(a)は偽造防止媒体を基材の一方の面から見た平面図、図5(b)は偽造防止媒体を基材の他方の面から見た平面図である。図6は、図5(a)、(b)に示す偽造防止媒体を基材の一方の面を手前にして光に透かして観察した状態を示す模式図である。
図5(a)に示す基材2の一方の面に所定の色および濃度(例えば薄い灰色および濃い灰色)で印刷された第1パターン3と、図5(b)に示す基材2の他方の面に所定の色および濃度(例えば黒色)で印刷された第2パターン4とにより、図6に示す偽造防止パターン10が形成される。第1パターン3は、濃い灰色の正方形3aと、薄い灰色の線3bとから構成されている。第2パターン4は濃度が低下した状態で視認されるので、第1パターン3の正方形3aと第2パターン4とは同程度の濃度で視認される。そのため、偽造防止パターン10は、第1パターン3の正方形3aと第2パターン4とで構成される高濃度領域11(例えば濃い灰色)と、第1パターン3の線3bで構成される中濃度領域12(例えば薄い灰色)と、基材2の両面に第1パターン3および第2パターン4のいずれも印刷されていない部分で構成される低濃度領域11(例えば白色)とを有している。この偽造防止パターン10では、中濃度領域12(薄い灰色)の線が、左もしくは右に傾いて見える。これも、実際にはどれも水平で互いに平行な線が左もしくは右に傾いて見えるものである。
5 (a) and 5 (b) are schematic plan views showing other examples of the forgery prevention medium of the present invention, and FIG. 5 (a) is a plan view of the anti-counterfeit medium viewed from one surface of the substrate, FIG. 5B is a plan view of the anti-counterfeit medium viewed from the other side of the substrate. FIG. 6 is a schematic diagram showing a state in which the anti-counterfeit medium shown in FIGS. 5A and 5B is observed through the light with one side of the substrate facing forward.
The
図5(a)、(b)および図6において、第1パターン3の正方形3aと線3bとは濃度が異なっているが、濃度は同じであってもよい。すなわち、偽造防止パターンにおいて、第1パターンの正方形と第1パターンの線と第2パターンの正方形とはすべて同じ濃度(例えば黒色)で視認されてもよい。この場合にも、同様に、線(黒色)が左もしくは右に傾いて見える。
5A, 5B, and 6, the density of the square 3a and the
図7(a)、(b)は本発明の偽造防止媒体の他の例を示す概略平面図であり、図7(a)は偽造防止媒体を基材の一方の面から見た平面図、図7(b)は偽造防止媒体を基材の他方の面から見た平面図である。図8は、図7(a)、(b)に示す偽造防止媒体を基材の一方の面を手前にして光に透かして観察した状態を示す模式図である。
図7(a)に示す基材2の一方の面に所定の色および濃度で印刷された第1パターン3と、図7(b)に示す基材2の他方の面に所定の色および濃度で印刷された第2パターン4とにより、図8に示す偽造防止パターン10が形成される。第1パターン3は濃度が連続的に変化する階調を有し、上3列の半円は紙面の左から右に向けて濃度が薄くなり、下3列の半円は紙面の左から右に向けて濃度が濃くなっている。また、第2パターン4も濃度が連続的に変化する階調を有し、上3列の半円は紙面の左から右に向けて濃度が薄くなり、下3列の半円は紙面の左から右に向けて濃度が濃くなっている。この場合、第2パターン4は濃度が低下した状態で視認されるので、第1パターン3と第2パターン4との境界部分で濃度が連続的に変化するように、第1パターン3および第2パターン4の階調が調整される。これにより、偽造防止パターン10も濃度が連続的に変化する階調を有するものとなる。偽造防止パターン10において、上3列の楕円は紙面の左から右に向けて濃度が薄くなり、下3列の楕円は紙面の左から右に向けて濃度が濃くなっている。この偽造防止パターン10では、上3列は左に、下3列は右にゆっくりと動いて見える。これは、コントラストの低い領域からコントラストの高い領域の方向に動いて見える錯視であり、中心ドリフト錯視(北岡明佳(2003))と呼ばれている。
7 (a) and 7 (b) are schematic plan views showing another example of the forgery prevention medium of the present invention, and FIG. 7 (a) is a plan view of the anti-counterfeit medium viewed from one surface of the substrate, FIG. 7B is a plan view of the anti-counterfeit medium viewed from the other side of the substrate. FIG. 8 is a schematic view showing a state in which the forgery prevention medium shown in FIGS. 7A and 7B is observed through one side of the base material in front of light.
The
本発明において、偽造防止パターンは、高濃度領域と、中濃度領域と、低濃度領域とを有することが好ましい。基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときに、第2パターンは濃度が低下した状態で視認されるため、基材の両面に第1パターンおよび第2パターンがいずれも設けられていない部分で構成される低濃度領域と、第1パターンで構成される高濃度領域とに対して、中間の濃度となる中濃度領域を第2パターンで構成することができるからである。また、錯視の発現にはコントラストが影響しており、高濃度領域および低濃度領域でコントラストの高い領域、中濃度領域および低濃度領域でコントラストの低い領域を形成することができる。 In the present invention, the forgery prevention pattern preferably has a high concentration region, a medium concentration region, and a low concentration region. When the anti-counterfeit medium is watermarked with light on one side of the substrate in front, the second pattern is visually recognized in a state where the density is lowered. Because the intermediate density region which is an intermediate density can be configured with the second pattern with respect to the low density region configured with the portion not provided and the high density region configured with the first pattern. is there. Further, contrast affects the expression of the illusion, and high-concentration regions and low-concentration regions can form high-contrast regions, and medium-concentration regions and low-concentration regions can form low-contrast regions.
偽造防止パターンが、高濃度領域と中濃度領域と低濃度領域とを有する場合、通常、低濃度領域は基材の両面に第1パターンおよび第2パターンがいずれも設けられていない部分で構成される。高濃度領域は、例えば、図2および図4に示すように第1パターンで構成されていてもよく、図6に示すように第1パターンの一部および第2パターンで構成されていてもよく、図示しないが第2パターンで構成されていてもよい。また、中濃度領域は、例えば、図2および図4に示すように第2パターンで構成されていてもよく、図6に示すように第1パターンの一部で構成されていてもよく、図示しないが第1パターンで構成されていてもよい。
中でも、高濃度領域は第1パターンで構成され、中濃度領域は第2パターンで構成され、低濃度領域は基材の両面に第1パターンおよび第2パターンがいずれも設けられていない部分で構成されていることが好ましい。上述したように、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときに、第2パターンは濃度が低下した状態で視認されるため、基材の両面に第1パターンおよび第2パターンがいずれも設けられていない部分で構成される低濃度領域と、第1パターンで構成される高濃度領域とに対して、中間の濃度となる中濃度領域を第2パターンで構成することは容易だからである。
When the anti-counterfeit pattern has a high concentration region, a medium concentration region, and a low concentration region, the low concentration region is usually configured by a portion where neither the first pattern nor the second pattern is provided on both surfaces of the substrate. The For example, the high concentration region may be configured by the first pattern as illustrated in FIGS. 2 and 4, and may be configured by a part of the first pattern and the second pattern as illustrated in FIG. 6. Although not shown, the second pattern may be used. Further, for example, the intermediate density region may be configured by the second pattern as shown in FIGS. 2 and 4, or may be configured by a part of the first pattern as shown in FIG. Although it does not, you may be comprised by the 1st pattern.
Among them, the high concentration region is composed of the first pattern, the medium concentration region is composed of the second pattern, and the low concentration region is composed of portions where neither the first pattern nor the second pattern is provided on both surfaces of the substrate. It is preferable that As described above, when the anti-counterfeit medium is watermarked with light on one side of the substrate in front, the second pattern is visually recognized in a state where the density is lowered. An intermediate density region having an intermediate density is configured by the second pattern with respect to the low density area configured by a portion where none of the second patterns is provided and the high density region configured by the first pattern. Because it is easy.
第1パターンおよび第2パターンの形状としては、目的とする偽造防止パターンの形状に応じて適宜選択されるものであり、第1パターンのみまたは第2パターンのみで、目的とする偽造防止パターンが発現する錯視を生じるものでなければ、特に限定されるものではない。通常、第1パターンおよび第2パターンの形状は、互いに重なる部分を有さず、隣接する部分を有するような形状とされる。例えば図1(a)、(b)において、第1パターン3は正方形が規則的に配列したパターンであり、第2パターン4は第1パターン3の正方形と同じ大きさの正方形の開口部を有する格子のパターンで、さらに格子の交差部分に円形の開口部を有するパターンである。そして、図1(a)〜(c)に例示するように、第1パターン3および第2パターン4は、第1パターン3の正方形と、第2パターン4の格子の正方形の開口部とが合うように位置合わせされて設けられている。第1パターン3および第1パターン4の形状は、第1パターン3と第2パターン4とが重ならず、第1パターン3の正方形と第2パターン4の格子とが隣接するような形状となっている。同様に、図3(a)、(b)、図5(a)、(b)、図7(a)、(b)においても、第1パターン3および第2パターン4の形状は、第1パターン3と第2パターン4とが重ならず、第1パターン3と第2パターン4とが隣接するような形状となっている。このような位置合わせを必要とする印刷技術は、通常の複写機を用いても容易に再現できるものではなく、偽造防止効果が高い。
The shapes of the first pattern and the second pattern are appropriately selected according to the shape of the target anti-counterfeit pattern, and the target anti-counterfeit pattern is expressed only by the first pattern or the second pattern. There is no particular limitation as long as it does not cause the optical illusion. Usually, the shapes of the first pattern and the second pattern do not have portions that overlap each other, but have shapes that are adjacent to each other. For example, in FIGS. 1A and 1B, the
第1パターンおよび第2パターンの色としては、目的とする偽造防止パターンの色に応じて適宜選択されるものであり、特に限定されるものではない。 The colors of the first pattern and the second pattern are appropriately selected according to the target color of the forgery prevention pattern, and are not particularly limited.
基材の一方の面に設けられる第1パターンの濃度は、目的とする偽造防止パターンの濃度に基づいて適宜調整される。
一方、第2パターンは、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときに、濃度が低下した状態で視認されることから、基材の他方の面に設けられる第2パターンの濃度は、目的とする偽造防止パターンの濃度と、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分とに基づいて、適宜調整される。すなわち、第2パターンは、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分が計算されて設けられている。濃度の低下分は、基材の透過率等に応じて異なるものとなる。
The density | concentration of the 1st pattern provided in the one surface of a base material is suitably adjusted based on the density | concentration of the target forgery prevention pattern.
On the other hand, since the second pattern is visually recognized in a state where the density is lowered when the forgery prevention medium is watermarked with light with one surface of the substrate facing forward, the second pattern is provided on the other surface of the substrate. The density of the two patterns is appropriately adjusted based on the density of the target anti-counterfeit pattern and the decrease in density when the anti-counterfeit medium is watermarked with light on one side of the substrate. In other words, the second pattern is provided by calculating a decrease in density when the forgery prevention medium is watermarked with light on one side of the substrate. The amount of decrease in density varies depending on the transmittance of the substrate.
2.基材
本発明における基材は、一方の面に第1パターンが設けられ、他方の面に第2パターンが設けられるものである。
2. Substrate In the substrate of the present invention, the first pattern is provided on one surface and the second pattern is provided on the other surface.
本発明においては、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かして観察することから、基材は光を透過する必要がある。一方、基材の光透過率が高いと、偽造防止媒体を光に透かさなくとも偽造防止パターンが視認されて錯視が生じてしまうおそれがある。したがって、基材の印刷不透明度は、25%〜95%の範囲内であることが好ましい。
ここで、印刷不透明度とは、基材に印刷した画像がその反対面から透き通って見えない程度のことをいう。印刷不透明度は、基材の白紙不透明度(単に不透明度ともいう。)の他にインキの浸透性の影響を受ける。基材の不透明度が高くとも、インキの浸透性が良ければインキが浸透した分だけ、印刷不透明度は低下する。
また、白紙不透明度とは、一枚の基材を透き通して、下の基材の画像が見えない程度のことをいう。
なお、基材の印刷不透明度は、不透明度測定器、ハンター白色度計等により測定することができる。
In the present invention, since the anti-counterfeit medium is observed through the light with one side of the substrate facing forward, the substrate needs to transmit light. On the other hand, if the light transmittance of the base material is high, the anti-counterfeit pattern may be visually recognized without causing the anti-counterfeit medium to pass through the light, and an illusion may occur. Therefore, the printing opacity of the substrate is preferably in the range of 25% to 95%.
Here, the printing opacity refers to an extent that an image printed on a base material cannot be seen through from the opposite side. The printing opacity is affected by the ink permeability in addition to the blank paper opacity (also simply referred to as opacity) of the substrate. Even if the opacity of the substrate is high, if the ink permeability is good, the printing opacity is reduced by the amount of ink penetration.
Further, the blank paper opacity refers to a level where an image of a lower substrate cannot be seen through a single substrate.
The printing opacity of the substrate can be measured with an opacity meter, a hunter whiteness meter, or the like.
また、基材は裏抜けしにくいものであることが好ましい。第2パターンが裏抜けすると、偽造防止媒体を光に透かさなくとも偽造防止パターンが視認されて錯視が生じてしまうおそれがあるからである。
ここで、裏抜けとは、インキが反対面に抜けることをいう。裏抜けは、基材の光学的特性ではなく、インキの浸透性に起因する。
なお、基材が裏抜けしにくいものであることは、例えば、基材の一方の面を手前にして反射光で見たときの第2パターンの濃度を測定することで、評価することができる。
Moreover, it is preferable that a base material is hard to penetrate through. This is because if the second pattern breaks through, the anti-counterfeit pattern may be visually recognized without causing the anti-counterfeit medium to pass through the light, and an illusion may occur.
Here, the back-through means that the ink escapes to the opposite surface. The strike-through is not due to the optical properties of the substrate, but due to the penetrability of the ink.
In addition, it can be evaluated that the base material is difficult to see through, for example, by measuring the density of the second pattern when viewed with reflected light with one surface of the base material facing forward. .
基材としては、上述の特性を満たすものであれば特に限定されるものではなく、例えば、紙、樹脂基材などを用いることができる。また、基材は、透明な樹脂基材上に、上述の特性を満たす下地層が形成されたものであってもよい。下地層の材料としては、上述の特性を満たすものであれば特に限定されるものではないが、中でも、透明な樹脂基材と密着性を有する材料であることが好ましく、例えば、酸化チタンを含有する白色コート剤、顔料インキ、染料インキ、第1パターンおよび第2パターンの印刷に用いられるインキを吸収し得るコーティング材料、多孔質層形成用コーティング材料等が挙げられる。 The substrate is not particularly limited as long as it satisfies the above-described characteristics. For example, paper, a resin substrate, or the like can be used. Further, the base material may be one in which a base layer satisfying the above-described characteristics is formed on a transparent resin base material. The material for the underlayer is not particularly limited as long as it satisfies the above-mentioned characteristics, but among them, a material having adhesion to a transparent resin base material is preferable, for example, containing titanium oxide. White coating agent, pigment ink, dye ink, coating material capable of absorbing ink used for printing the first pattern and the second pattern, a coating material for forming a porous layer, and the like.
基材を選択するに際しては、上述したように、偽造防止パターンが、高濃度領域と中濃度領域と低濃度領域とを有する場合、通常、低濃度領域は基材の両面に第1パターンおよび第2パターンがいずれも設けられていない部分で構成されることから、目的とする偽造防止パターンの低濃度領域に応じて、基材を選択することが好ましい。 When selecting the base material, as described above, when the anti-counterfeit pattern has a high density area, a medium density area, and a low density area, the low density area is usually the first pattern and the first pattern on both sides of the base material. Since the two patterns are composed of portions where none of them is provided, it is preferable to select a base material according to the low concentration region of the target anti-counterfeit pattern.
3.保護層
本発明においては、図9に例示するように、基材2の一方の面に第1パターン3を覆うように、第1パターン3を保護する保護層5が形成されていてもよい。また、図9に例示するように基材2の他方の面に第2パターン4を覆うように、第2パターン4を保護する保護層6が形成されていてもよい。
保護層の材料としては、透明性を有し、第1パターンおよび第2パターンを保護することができるものであれば特に限定されるものではなく、一般的な樹脂材料を用いることができる。
3. Protective layer In this invention, the protective layer 5 which protects the
The material of the protective layer is not particularly limited as long as it has transparency and can protect the first pattern and the second pattern, and a general resin material can be used.
4.用途
本発明の偽造防止媒体は、例えば、紙幣、商品券、株券、小切手、手形等の各種の有価証券、パスポート、カード等の各種の証明書、機密文書等に用いることができる。
4). Applications The anti-counterfeit medium of the present invention can be used for various securities such as banknotes, gift certificates, stock certificates, checks, bills, various certificates such as passports and cards, confidential documents, and the like.
B.偽造防止媒体の製造方法
本発明の偽造防止媒体の製造方法は、基材と、上記基材の一方の面に設けられた第1パターンと、上記基材の他方の面に設けられた第2パターンとを有する偽造防止媒体の製造方法であって、上記偽造防止媒体は、上記基材の一方の面を手前にして上記偽造防止媒体を光に透かして観察した状態にて、上記第1パターンと上記第2パターンとにより錯視を発現する偽造防止パターンが形成されるものであり、上記基材の一方の面に第1パターンを形成する第1パターン形成工程と、上記基材の他方の面に、上記第2パターンを、上記基材の一方の面を手前にして上記偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分を計算して形成する第2パターン形成工程とを有することを特徴とするものである。
B. Method for Producing Anti-Counterfeit Medium The method for producing an anti-counterfeit medium of the present invention includes a base material, a first pattern provided on one surface of the base material, and a second pattern provided on the other surface of the base material. The anti-counterfeit medium has a pattern, wherein the anti-counterfeit medium has the first pattern in a state where the anti-counterfeit medium is observed through light with one side of the base material facing forward. And the second pattern form an anti-counterfeit pattern that develops an illusion, and forms a first pattern on one surface of the substrate, and the other surface of the substrate. A second pattern forming step of forming the second pattern by calculating a decrease in density when the anti-counterfeit medium is watermarked with light on one side of the substrate. It is a feature.
本発明の偽造防止媒体の製造方法について図面を参照しながら説明する。ここでは、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときに、偽造防止パターンとして図10に例示する錯視図形20が出現する場合を例として挙げる。
図10に例示する錯視図形20は、高濃度領域21(例えば黒色)、中濃度領域22(例えば灰色)および低濃度領域23(例えば白色)の三つの領域を有している。まず、図10に示す錯視図形20を、図11(a)、(b)に示すように、高濃度領域21からなる第1要素20a(図11(a))と、中濃度領域22および低濃度領域23からなる第2要素20b(図11(b))との二つに分解する。次いで、第1要素20aおよび第2要素20bのいずれを基材の他方の面に印刷するかを決める。第2パターンは、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときに濃度が低下した状態で視認されるので、ここでは、中濃度領域22および低濃度領域23からなる第2要素20bを基材の他方の面に印刷し、高濃度領域21からなる第1要素20aを基材の一方の面に印刷することにする。
The manufacturing method of the forgery prevention medium of this invention is demonstrated referring drawings. Here, as an example, an illusion figure 20 illustrated in FIG. 10 appears as an anti-counterfeit pattern when the anti-counterfeit medium is watermarked with light on one side of the substrate.
The illusion figure 20 illustrated in FIG. 10 has three regions, a high concentration region 21 (for example, black), a medium concentration region 22 (for example, gray), and a low concentration region 23 (for example, white). First, as shown in FIGS. 11A and 11B, the illusion figure 20 shown in FIG. 10 is converted into a
次に、実際に基材上に印刷される第1パターンおよび第2パターンの濃度を算出する。
基材の一方の面に印刷される第1パターンの濃度は、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの第1パターンの濃度と、錯視図形の高濃度領域の濃度とが同程度となるように、調整される。例えば図10および図11(a)において錯視図形の高濃度領域21が黒色である場合、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの第1パターンも黒色となるように、基材の一方の面に印刷される第1パターンは黒色とされる。
一方、基材の他方の面に印刷される第2パターンの濃度は、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの第2パターンの濃度と、錯視図形の中濃度領域の濃度とが同程度となるように、調整される。このとき、第2パターンは、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときに濃度が低下するので、第2パターンの濃度は、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分を計算して、設定される。例えば図10および図11(b)において錯視図形の中濃度領域22が灰色である場合、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの第2パターンも灰色となるように、基材の他方の面に印刷される第2パターンは黒色とされる。
Next, the densities of the first pattern and the second pattern that are actually printed on the substrate are calculated.
The density of the first pattern printed on one side of the substrate is the density of the first pattern when the forgery prevention medium is watermarked with light with one side of the substrate facing forward, and the high density region of the illusion figure. The density is adjusted to be approximately the same. For example, in FIG. 10 and FIG. 11A, when the
On the other hand, the density of the second pattern printed on the other surface of the base material is the same as the density of the second pattern when the anti-counterfeit medium is watermarked with light on one side of the base material in front, The density is adjusted so that the density in the density area is approximately the same. At this time, since the density of the second pattern decreases when one side of the base material is facing forward and the anti-counterfeit medium is watermarked with light, the density of the second pattern is one side of the base material facing forward. The amount of decrease in density when the anti-counterfeit medium is watermarked with light is calculated and set. For example, in FIG. 10 and FIG. 11B, when the
次いで、図11(a)に示す第1要素20aを、図1(a)に示すように基材2の一方の面に予め算出した濃度(例えば黒色)で第1パターン3として印刷する(第1パターン形成工程)。続いて、図11(b)に示す第2要素20bを、図1(b)に示すように基材2の他方の面に予め算出した濃度(例えば黒色)で第2パターン4として印刷する(第2パターン形成工程)。この際、第1パターン3および第2パターン4は互いに位置が合うように印刷される。
Next, the
図2は、図1(a)、(b)に示す偽造防止媒体1を基材2の一方の面を手前にして光に透かして観察した状態を示す模式図である。図1(a)、(b)においては、上述したように、第2パターン4が基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分を計算して印刷されているので、図2に示すように基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの第2パターン4(中濃度領域12)の濃度は、図10に示す錯視図形20の中濃度領域22の濃度と同程度になる。また、図2に示すように基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの第1パターン3(高濃度領域11)の濃度は、図10に示す錯視図形20の高濃度領域21の濃度と同程度になる。さらに、図2に示すように基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの基材の両面に第1パターンおよび第2パターンがいずれも印刷されていない部分(低濃度領域13)の濃度は、図10に示す錯視図形20の低濃度領域23の濃度と同程度になる。
したがって、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かした状態では、元の錯視図形が再現され、偽造防止パターンが出現し、錯視が発現する。
FIG. 2 is a schematic diagram showing a state in which the
Therefore, in a state where one side of the substrate is facing forward and the anti-counterfeit medium is watermarked with light, the original illusion figure is reproduced, an anti-counterfeit pattern appears, and an illusion appears.
本発明においては、第1パターンおよび第2パターンを形成するに際して、位置合わせの印刷技術については高い精度が必要とされるが、既存の材料や装置を利用して偽造防止媒体を作製することが可能である。 In the present invention, when forming the first pattern and the second pattern, high accuracy is required for the alignment printing technique, but it is possible to produce a forgery prevention medium using existing materials and apparatuses. Is possible.
なお、偽造防止パターンについては、上記「A.偽造防止媒体」の項に詳しく記載したので、ここでの説明は省略する。
以下、本発明の偽造防止媒体の製造方法における各工程について説明する。
The anti-counterfeit pattern has been described in detail in the above section “A. Anti-counterfeit medium”, and will not be described here.
Hereinafter, each process in the manufacturing method of the forgery prevention medium of this invention is demonstrated.
1.第1パターン形成工程
本発明における第1パターン形成工程は、基材の一方の面に第1パターンを形成する工程である。
1. First pattern forming step The first pattern forming step in the present invention is a step of forming the first pattern on one surface of the substrate.
第1パターンの形成方法としては、第1パターンおよび第2パターンを位置合わせして形成できる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、オフセット印刷、グラビア印刷、活版印刷、凹版印刷、スクリーン印刷、粉体電子写真方式のデジタル印刷、液体電子写真方式のデジタル印刷、インクジェット方式のデジタル印刷等の印刷法や、転写法が挙げられる。 The method for forming the first pattern is not particularly limited as long as the first pattern and the second pattern can be formed by alignment. For example, offset printing, gravure printing, letterpress printing, intaglio printing, screen Examples thereof include printing methods such as printing, powder electrophotographic digital printing, liquid electrophotographic digital printing, inkjet digital printing, and transfer methods.
第1パターンを形成するに際しては、第1パターンの濃度を、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの第1パターンの濃度と、目的とする錯視図形(偽造防止パターン)の高濃度領域の濃度とが同程度となるように、調整することが好ましい。濃度は、実際に測定して求めてもよく、シミュレーションにより求めてもよい。 When forming the first pattern, the density of the first pattern is determined based on the density of the first pattern when the anti-counterfeit medium is watermarked with light on one side of the substrate and the target illusion figure (forgery). It is preferable to adjust so that the density of the high density region of the (prevention pattern) is comparable. The concentration may be obtained by actual measurement or may be obtained by simulation.
なお、第1パターンについては、上記「A.偽造防止媒体」の項に記載したので、ここでの説明は省略する。 Since the first pattern is described in the above section “A. Anti-counterfeit medium”, description thereof is omitted here.
2.第2パターン形成工程
本発明における第2パターン形成工程は、基材の他方の面に、第2パターンを、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分を計算して形成する工程である。
2. Second Pattern Forming Step The second pattern forming step in the present invention is the concentration of the second pattern on the other side of the base material when the anti-counterfeit medium is watermarked with light on one side of the base side. This is a step of calculating and forming a decrease.
第2パターンの濃度は、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分を予め計算し、決定する。この濃度の低下分は、実際に測定して求めてもよく、検量線を用いて求めてもよく、シミュレーションにより求めてもよい。
検量線を用いる場合には、例えば次のように濃度の低下分を求めることができる。すなわち、まず、基材の他方の面に異なる濃度(少なくとも3種)にて複数のベタの測定用パターンを形成し、次に、基材の他方の面から反射による各測定用パターンの相対濃度(A)を計測し、さらに基材の一方の面から透過による各測定用パターンの相対濃度(B)を計測し、次いで、上記の相対濃度(A)と相対濃度(B)とにより検量線を作成する。この検量線を基に、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分を予測し、第2パターンの形成を施すことができる。同じ基材、同じインキを使用する場合には、作成した検量線を用いて、濃度の低下分を予測し、第2パターンの形成を施すことが可能である。
The density of the second pattern is determined by calculating in advance the decrease in density when the anti-counterfeit medium is watermarked with light facing one side of the substrate. The decrease in concentration may be obtained by actual measurement, may be obtained using a calibration curve, or may be obtained by simulation.
When using a calibration curve, for example, the decrease in concentration can be determined as follows. That is, first, a plurality of solid measurement patterns are formed at different concentrations (at least three) on the other surface of the substrate, and then the relative concentration of each measurement pattern by reflection from the other surface of the substrate. (A) is measured, and further, the relative concentration (B) of each measurement pattern by transmission is measured from one side of the base material, and then a calibration curve is obtained from the above relative concentration (A) and relative concentration (B). Create Based on this calibration curve, the second pattern can be formed by predicting the decrease in density when the anti-counterfeit medium is watermarked with light on one side of the substrate. When the same substrate and the same ink are used, it is possible to predict the decrease in density using the prepared calibration curve and form the second pattern.
なお、第2パターンの形成方法については、上記第1パターンの形成方法と同様であるので、ここでの説明は省略する。
また、第2パターンについては、上記「A.偽造防止媒体」の項に記載したので、ここでの説明は省略する。
The method for forming the second pattern is the same as the method for forming the first pattern, and a description thereof is omitted here.
The second pattern is described in the section “A. Anti-counterfeit medium”, and thus the description thereof is omitted here.
3.その他の工程
本発明においては、上記の第1パターン形成工程および第2パターン形成工程の前に、目的とする錯視図形を濃度に応じて2つのパターンに分解する画像処理工程を行ってもよい。
画像処理工程は、例えばコンピューターシステム上の画像処理ソフトウェアを用いて行うことができる。
3. Other Steps In the present invention, an image processing step for decomposing a target illusion figure into two patterns according to the density may be performed before the first pattern forming step and the second pattern forming step.
The image processing step can be performed using image processing software on a computer system, for example.
本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。 The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has any configuration that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and that exhibits the same effects. Are included in the technical scope.
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。
[実施例1](紙媒体きらめき格子錯視)
(画像処理)
CADシステム上にて、図10に示すように、1辺の長さが20mmの黒色の正方形(高濃度領域21)を縦横ともに5個、4mmの間隙をおいて配置し、幅4mmの間隙部分を灰色(中濃度領域22)とし、間隙の交差する部分には直径4mmの白色の円形(低濃度領域23)を配置した、きらめき格子錯視画像(錯視図形20)を作成した。
このきらめき格子錯視画像(錯視図形20)を、図11(a)、(b)に示すように、正方形部分(高濃度領域21からなる第1要素20a)と、その他の部分(中濃度領域22および低濃度領域23からなる第2要素20b)との、2つの画像に分割した。
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples.
[Example 1] (paper medium glitter lattice illusion)
(Image processing)
On the CAD system, as shown in FIG. 10, five black squares (high-concentration regions 21) each having a side length of 20 mm are arranged vertically and horizontally with a gap of 4 mm, and a gap portion having a width of 4 mm. Was made gray (medium density region 22), and a white circular shape (low density region 23) having a diameter of 4 mm was arranged at the intersection of the gaps to create a glittering lattice illusion image (illusion figure 20).
As shown in FIGS. 11 (a) and 11 (b), this glittering lattice illusion image (illusion figure 20) is divided into a square portion (
(印刷)
厚さ64g/m2の上質紙の両面に、オフセット印刷機にてブラックインクを用いて、きらめき格子錯視画像を分割した2つの画像をそれぞれ印刷した。上質紙の一方の面には、正方形部分を相対濃度D=1.50にて印刷した(図1(a))。また、上質紙の他方の面には、幅4mmの間隙の交差する部分に直径4mmの円形の開口部を有する間隙部分を相対濃度D=1.50にて印刷した(図1(b))。なお、ここでいう相対濃度は、直径4mmの円形部分の濃度をD=0とした場合の濃度をいう。この際、両面の画像の印刷位置は、上質紙を光に透かしたときに両面の画像が重なり、画像を2つに分割する前の画像が見える位置とした。
(printing)
Two images obtained by dividing the glittering lattice illusion image were printed on both surfaces of high-quality paper having a thickness of 64 g / m 2 by using black ink with an offset printer. On one surface of the fine paper, a square portion was printed at a relative density D = 1.50 (FIG. 1 (a)). On the other surface of the fine paper, a gap portion having a circular opening with a diameter of 4 mm was printed at a relative density D = 1.50 at a portion where the gap with a width of 4 mm intersected (FIG. 1B). . Here, the relative density is a density when the density of a circular part having a diameter of 4 mm is D = 0. At this time, the printing position of the double-sided image was set such that when the high-quality paper was watermarked with light, the double-sided image overlapped and the image before the image was divided into two was seen.
(透過検証)
作製した印刷物を、40Wの蛍光灯から2.0m離れた場所にて、一方の面から透かして見たところ、きらめき格子錯視が発現した。
光に透かして見た状態における印刷物の相対濃度は、正方形部分(高濃度領域11)がD=1.50、間隙部分(中濃度領域12)がD=0.30相当であった(図2)。なお、ここでいう相対濃度は、円形部分(低濃度領域13)の濃度をD=0とした場合の濃度をいう。
(Transparent verification)
When the printed matter produced was viewed through one side at a distance of 2.0 m from a 40 W fluorescent lamp, a glittering lattice illusion appeared.
The relative density of the printed matter in the state viewed through the light was equivalent to D = 1.50 in the square part (high density area 11) and D = 0.30 in the gap part (medium density area 12) (FIG. 2). ). The relative density referred to here is the density when the density of the circular portion (low density region 13) is D = 0.
(反射検証)
作製した印刷物を、一方の面および他方の面から反射光のみで見たところ、一方の面では正方形部分が相対濃度D=1.50、間隙部分が相対濃度D=0.05にて見え、他方の面では正方形部分が相対濃度D=0.05、間隙部分が相対濃度D=1.50にて見え、きらめき格子錯視は発現しなかった。なお、ここでいう相対濃度は、円形部分の濃度をD=0とした場合の濃度をいう。
印刷物は、光に透かして見ることによって、きらめき格子錯視を発現することを確認した。
(Reflection verification)
When the produced printed matter was viewed from one side and the other side only with the reflected light, the square part was seen on one side with a relative density D = 1.50, and the gap part was seen with a relative density D = 0.05. On the other side, the square portion was seen at a relative density D = 0.05, and the gap portion was seen at a relative density D = 1.50, and no glittering lattice illusion was developed. The relative density referred to here is the density when the density of the circular portion is D = 0.
It was confirmed that the printed material exhibited a glittering lattice illusion by seeing it through the light.
1 … 偽造防止媒体
2 … 基材
3 … 第1パターン
4 … 第2パターン
5,6 … 保護層
10 … 偽造防止パターン
11 … 高濃度領域
12 … 中濃度領域
13 … 低濃度領域
DESCRIPTION OF
Claims (4)
前記基材の一方の面を手前にして前記偽造防止媒体を光に透かして観察した状態にて、前記第1パターンと前記第2パターンとにより錯視を発現する偽造防止パターンが形成されるものであり、
前記第2パターンが、前記基材の一方の面を手前にして前記偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分が計算されて設けられていることを特徴とする偽造防止媒体。 An anti-counterfeit medium having a base material, a first pattern provided on one surface of the base material, and a second pattern provided on the other surface of the base material,
An anti-counterfeiting pattern that expresses an illusion is formed by the first pattern and the second pattern in a state in which the anti-counterfeit medium is observed through light with one side of the substrate facing forward. Yes,
The anti-counterfeit medium, wherein the second pattern is provided by calculating a decrease in density when the anti-counterfeit medium is watermarked with light on one side of the substrate.
前記偽造防止媒体は、前記基材の一方の面を手前にして前記偽造防止媒体を光に透かして観察した状態にて、前記第1パターンと前記第2パターンとにより錯視を発現する偽造防止パターンが形成されるものであり、
前記基材の一方の面に第1パターンを形成する第1パターン形成工程と、
前記基材の他方の面に、前記第2パターンを、前記基材の一方の面を手前にして前記偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分を計算して形成する第2パターン形成工程と
を有することを特徴とする偽造防止媒体の製造方法。 A method for producing an anti-counterfeit medium comprising a base material, a first pattern provided on one surface of the base material, and a second pattern provided on the other surface of the base material,
The anti-counterfeit medium is a forgery-preventing pattern that expresses an illusion with the first pattern and the second pattern in a state where the anti-counterfeit medium is observed through light with one side of the substrate facing forward. Is formed,
A first pattern forming step of forming a first pattern on one surface of the substrate;
The second pattern is formed on the other surface of the base material by calculating a decrease in density when the one surface of the base material is facing forward and the anti-counterfeit medium is watermarked with light. A method for producing a forgery prevention medium.
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