JP5422607B2 - ガスバリアフィルムの製造方法 - Google Patents
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Description
本願発明に係るガスバリアフィルムの製造方法及び該製造方法により得られるガスバリアフィルムに関して、第1の実施の形態として説明する。
本実施の形態において樹脂層を構成する樹脂は前述の通りポリシラザン系樹脂とシラン化合物系樹脂との混合物であるものとするが必ずしもこれに限定されるものではないことを断っておく。
まず樹脂層積層体をそのまま真空蒸着装置にセットする。
ついで以下に示す条件の下、樹脂層表面にSiOxを蒸着する。
・ 蒸発源:SiO
・ 圧力:到達真空度→4×10−3Pa
成膜真空度(ガス導入時)→2×10−2Pa
・ 加熱方式:EB(エレクトロンビーム)加熱
* 尚、加熱方式はここではEBを採用しているが、これ以外の方式、例えば抵抗加熱方式や高周波誘導加熱方式であっても良いものとする。
・ 導入ガス:水蒸気
* 厚みが50nm以下であるとバリア性を確保出来ず、350nm以上であると膜応力によってクラックが入る。よってこの範囲内とする。
樹脂層における加水分解のメカニズムは次のように考えられる。
まずPHPSは大気中の水分により加水分解し、セラミックス化したSiO2構造へと変化する。しかしこの際、PHPSにはシラン化合物(ジアルコキシシラン)が添加されており、この存在がPHPSがSiO2構造へと変化することをある程度抑制する。
このコーティング液は、PHPS(AZエレクトロニクスマテリアルズ社製、NL110A−20)を主剤として、これに添加剤として各種のシラン化合物(いずれも信越化学工業株式会社製)をPHPSに対する重量比で所定量加えた組成とし、乾燥膜厚が1000nmとなるようにキシレンで溶液を希釈して調製した。
Claims (3)
- 基材の表面に、
ポリシラザン系樹脂とシラン化合物系樹脂との混合物であり、かつ前記混合物におけるシラン化合物の含有率は、ポリシラザン系樹脂に対する重量比で0.005〜0.3である樹脂を用いてなる樹脂層を形成してなる樹脂層形成工程と、
前記樹脂層形成工程終了後樹脂層を乾燥させる乾燥工程と、
前記乾燥工程終了後、前記樹脂層表面に酸化珪素を蒸着させる蒸着工程と、
前記蒸着工程と並行して、前記蒸着工程を実施中の系において、前記酸化珪素の蒸着Rate 1g/minに対する比で、0.58〜0.71g/minの水蒸気を噴霧する水蒸気噴霧工程と、
よりなること、
を特徴とする、ガスバリアフィルムの製造方法。 - 請求項1に記載のガスバリアフィルムの製造方法であって、
前記樹脂が、パーヒドロポリシラザンとジアルコキシシランとの混合物であること、
を特徴とする、ガスバリアフィルムの製造方法。 - 請求項2に記載のガスバリアフィルムの製造方法であって、
前記ジアルコキシシランが、少なくとも、
ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、
の群の中の1つ以上を含むものであること、
を特徴とする、ガスバリアフィルムの製造方法。
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