JP5383146B2 - 非対称膜及びこれを用いた空調システム - Google Patents
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Description
0.85<P(O2)/P(N2)<1 ・・・(1)
0.719<P(O2)/P(CO2)<1.70 ・・・(3)
図1は、非対称膜の一実施形態を示す断面図である。図1に示す非対称膜13は、多孔質層3と、多孔質層3に隣接する緻密層5とから構成される。緻密層5は、当該技術分野において一般に「スキン層」と称される場合がある層である。多孔質層3及び緻密層5は、同じ高分子材料によって一体に形成されている。多孔質層3内にはフィラーが分散している。非対称膜13は、多孔質層3及び緻密層5を有する非対称構造を形成している高分子材料と、フィラーとを主成分として含んでいるが、他の成分を更に含んでいてもよい。非対称膜13の厚さは0.1〜10μmであることが好ましい。
−SiR3 ・・・(10)
0.85<P(O2)/P(N2)<1 ・・・(1)
0.94≦P(O2)/P(N2)<1 ・・・(1a)
0.85<P(O2)/P(N2)≦0.93 ・・・(1b)
0.719<P(O2)/P(CO2)<1.70 ・・・(3)
1.17≦P(O2)/P(CO2)<1.70 ・・・(3a)
0.719<P(O2)/P(CO2)≦1.17 ・・・(3b)
上述の実施形態に係る非対称膜は、透過膜を介して空調対象空間への気体の供給及び/又は空調対象空間からの気体の排出を行う空調方法において、透過膜として好適に用いられる。本実施形態に係る空調システムは、空調対象空間への気体の供給及び/又は空調対象空間からの気体の排出を行う透過膜と、透過膜が設けられている開口を形成しながら空調対象空間を形成している隔壁とを備える。隔壁は、気体の透過が遮断されるように形成された単一又は複数の部材から構成される。透過膜として、上記実施形態に係る非対称膜が用いられる。
(合成例1)
攪拌子、温度計、冷却管を備えた500mL三つ口フラスコにノルボルネン−2−イルトリス(トリメチルシロキシ)シラン20g(0.51mmol)とトルエン180gとを混合し40℃に昇温した。これにビス(トリシクロヘキシルホスフィン)ベンジリデンルテニウム(IV)ジクロリド12mg(0.015mmol)をトルエン4gに溶解した溶液を添加して、40℃において重合反応を行った。重合反応開始後、徐々に溶液の粘度は上昇し、20分後エチルビニルエーテル1gを加えることで重合を停止した。重合溶液を大量のメタノールに注いで沈殿物を凝集させ、粉砕洗浄後、濾別し、70℃で5時間減圧乾燥して、白色固体のシリコーン変性シクロオレフィンポリマーを得た。得られたポリマーの収量は19gであり、数平均分子量(Mn)は550,000であった。これをシリコーン変性シクロオレフィンポリマーAとする。
合成例1で重合触媒であるビス(トリシクロヘキシルホスフィン)ベンジリデンルテニウム(IV)ジクロリドの添加量を12mgから8mg(0.010mmol)に変更した以外は合成例1と同様の操作を行い、白色固体のシリコーン変性シクロオレフィンポリマーを得た。得られたポリマーの収量は18.5gであり、Mnは810,000であった。これをシリコーン変性シクロオレフィンポリマーBとする。
合成例1で重合触媒であるビス(トリシクロヘキシルホスフィン)ベンジリデンルテニウム(IV)ジクロリドの添加量を12mgから4mg(0.0049mmol)に変更した以外は合成例1と同様の操作を行い、白色固体のシリコーン変性シクロオレフィンポリマーを得た。得られたポリマーの収量は18.0gであり、Mnは1,400,000であった。これをシリコーン変性シクロオレフィンポリマーCとする。
参考例1
高分子材料としてのポリ(1−トリメチルシリル−1−プロピン)(PTMSP)と、フィラーとしてのメソポーラスシリカ粒子(MPS)をテトラヒドロフラン(THF)に投入して、非対称膜作成用の混合液を準備した。PTMSP及びメソポーラスシリカ粒子の合計の濃度は混合液全体質量を基準として2.5質量%とした。また、MPSの質量比はPTMSP100質量部に対して100質量部とした。
MPSに代えてナノポーラスシリカ粒子(NPS)を用いたことの他は参考例1と同様にして非対称膜を作製した。
MPSに代えて球状のシリカ粒子である「NanoTek SiO2」(登録商標、シーアイ化成社製、細孔なし、粒径(中心値):25nm、表面性状:親水性)を用い、その質量比をPTMSP100質量部に対して100質量部としたことの他は参考例1と同様にして非対称膜を作製した。
MPSに代えて球状シリル化シリカ粒子である「X−24−9163A」(信越化学工業社製、粒径(中心値):110nm)を用い、その質量比をPTMSP100質量部に対して100質量部としたことの他は参考例1と同様にして非対称膜を作製した。
MPSの質量比をPTMSP100質量部に対して300質量部としたことの他は参考例1と同様にして非対称膜を作製した。
「NanoTek SiO2」の質量比をPTMSP100質量部に対して300質量部とした他は参考例3と同様の非対称膜形成用の混合液を調製した。テフロン板上に厚さ540μmの枠を置き、その枠内にメッシュ体(材質:PET、開口率:45%、開口径:85μm)を敷き、そこに上記混合液をメッシュ体の厚みで流延した。その他は参考例1と同様にして非対称膜を作製した。
凝固溶媒として水に代えてメタノールを用いたことの他は参考例6と同様にして非対称膜を作製した。
凝固溶媒として水に代えてアセトンを用いたことの他は参考例6と同様にして非対称膜を作製した。
「NanoTek SiO2」に代えて「X−24−9163A」を用い、凝固溶媒として水に代えてメタノールを用いたことの他は参考例6と同様にして非対称膜を作製した。
「NanoTek SiO2」300質量部に代えて、「NanoTek SiO2」150質量部及び「X−24−9163A」150質量部を用い、凝固溶媒として水に代えてメタノールを用いたことの他は参考例6と同様にして非対称膜を作製した。
高分子材料としてのシリコーン変性シクロオレフィンポリマーAと、THF及びメチルアルコール(THFの15wt%)の混合溶媒で溶解して固形分3質量%に調整した溶液に、シリコーン変性シクロオレフィンポリマーA100質量部に対して、フィラーとしての「NanoTek SiO2」100質量部を配合し、非対称膜作成用の混合液を準備した。
シリコーン変性シクロオレフィンポリマーAに代えてシリコーン変性シクロオレフィンポリマーBを用いたことの他は実施例11と同様にして非対称膜を作製した。
シリコーン変性シクロオレフィンポリマーAに代えてシリコーン変性シクロオレフィンポリマーCを用いたことの他は実施例11と同様にして非対称膜を作製した。
「NanoTek SiO2」に代えて「NanoTek SiO2」をポリエチレングリコール(PEG)で処理したシリカ粒子を用いたことの他は実施例13と同様にして非対称膜を作製した。
「NanoTek SiO2」の質量比をシリコーン変性シクロオレフィンポリマーC100質量部に対して11質量部としたことの他は実施例13と同様にして非対称膜を作製した。
「NanoTek SiO2」の質量比をシリコーン変性シクロオレフィンポリマーC100質量部に対して25質量部としたことの他は実施例13と同様にして非対称膜を作製した。
「NanoTek SiO2」の質量比をシリコーン変性シクロオレフィンポリマーC100質量部に対して72質量部としたことの他は実施例13と同様にして非対称膜を作製した。
「NanoTek SiO2」の質量比をシリコーン変性シクロオレフィンポリマーC100質量部に対して300質量部としたことの他は実施例13と同様にして非対称膜を作製した。
「NanoTek SiO2」の質量比をシリコーン変性シクロオレフィンポリマーC100質量部に対して400質量部としたことの他は実施例13と同様にして非対称膜を作製した。
メソポーラスシリカ粒子を用いなかったことの他は参考例1と同様の混合液を準備した。そして、緻密層形成のための乾燥時間を比較例1では300秒、比較例2では120秒、比較例3では2秒としたことの他は参考例1と同様にして、非対称膜を形成させた。図24は比較例3の非対称膜の切断面を45°斜め上から観察したSEM像である。
「NanoTek SiO2」を用いなかったことの他は参考例7と同様にして非対称膜を作製した。
「NanoTek SiO2」を用いなかったことの他は実施例13と同様にして非対称膜を作製した。図25は比較例5の非対称膜の切断面を45°斜め上から観察したSEM像である。
*高分子材料100質量部に対する値
(1)気体透過係数
(差圧法)
上記で得られた非対称膜について、気体透過率測定装置(GTRテック社製、型番:GTR−20XAMDE)を用い、下記の測定条件で、酸素及び窒素についての気体透過係数(P(O2)及びP(N2))を測定した。得られた気体透過係数(P(O2)及びP(N2))を非対称膜の膜厚(L)で除して気体透過速度(P(O2)/L及びP(N2)/L)を算出した。また、分離比α(=(P(O2)/(P(N2))も算出した。得られた結果を表3及び4に示す。
測定条件
温度 :23±2℃
膜の下流の圧力:約0.0013atm
膜の上流の圧力:1.05〜1.20atm
膜間の圧力差 :1.05〜1.20atm
上記で得られた非対称膜について、等圧気体透過率測定装置(デンソー社製、図27参照)を用い、下記の測定条件で、酸素及び二酸化炭素についての気体透過係数(P(O2)及びP(CO2))を測定した。得られた気体透過係数(P(O2)及びP(CO2))を非対称膜の膜厚(L)で除して気体透過速度(P(O2)/L及びP(CO2)/L)を算出した。また、分離比α(=(P(O2)/(P(CO2))も算出した。得られた結果を表3及び4に示す。
測定条件
温度 :23±2℃
膜間の圧力差 :なし
膜間のガス分圧差:酸素0.0013〜0.0066atm、二酸化炭素0.0001〜0.0011atm
ナノ粒子発生装置(Palas社製、型番:GFG−1000)が接続されたA層と、粒子カウンター(TSI社製、型番:SMPS−3034)が接続されたB層とが、膜サンプルがセットされるホルダーを介して連結されている測定装置(図26参照)を用いて、以下の手順でSPM遮断率を測定した。
i)ナノ粒子発生装置により10〜500nmの粒径を有するカーボン粒子を発生させ、これをA層内に貯める。
ii)非対称膜のサンプルをサンプルホルダー(膜面積:最大で16cm2)にセットし、サンプルホルダーとB層の間のバルブV1を閉じ、A層とB層との差圧が1kPaとなるまでB層を減圧する。
iii)バルブV1を開き、B層内が大気圧に戻る際に透過するガスに乗せてカーボン粒子を膜に供給し、膜を透過したカーボン粒子をB層に貯める。
iv)B層内のカーボン粒子の濃度を、粒子カウンターを用いて計測する。
v)以下の式に基づいてSPM遮断率を算出する。
SPM遮断率[質量%] = 100×{(Cin−Cout)/Cin}
(Cin:A層での粒子濃度[μg/mL]、Cout:B層での粒子濃度[μg/mL])
Claims (6)
- 多孔質層及びこれに隣接する緻密層を有し前記多孔質層及び前記緻密層が高分子材料によって形成されている非対称膜であって、
前記多孔質層及び/又は前記緻密層がフィラーを含み、
前記高分子材料がシリコーン変性シクロオレフィンポリマーである、非対称膜。 - 前記フィラーの含有量が、当該非対称膜に含まれる高分子材料100質量部に対して11質量部以上である、請求項1記載の非対称膜。
- 23±2℃、膜間の圧力差1.05〜1.20atmにおける酸素透過係数P(O2)及び窒素透過係数P(N2)の比が下記式(1)を満足する、請求項1又は2に記載の非対称膜。
0.85<P(O2)/P(N2)<1 ・・・(1) - 23±2℃、膜間の圧力差がない条件における酸素透過係数P(O2)及び二酸化炭素透過係数P(CO2)の比が下記式(3)を満足する、請求項1〜3のいずれか一項に記載の非対称膜。
0.719<P(O2)/P(CO2)<1.70・・・(3) - 前記多孔質層及び前記緻密層のうち少なくとも一方が含浸されている、又は前記多孔質層上若しくは前記緻密層上に積層されているメッシュ体を有する、請求項1〜4のいずれか一項に記載の非対称膜。
- 空調対象空間への気体の供給及び/又は空調対象空間からの気体の排出が行われる膜として請求項1〜5のいずれか一項に記載の非対称膜を備える、空調システム。
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