[go: up one dir, main page]

JP5377785B1 - Bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal and method for producing the same - Google Patents

Bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal and method for producing the same Download PDF

Info

Publication number
JP5377785B1
JP5377785B1 JP2013068852A JP2013068852A JP5377785B1 JP 5377785 B1 JP5377785 B1 JP 5377785B1 JP 2013068852 A JP2013068852 A JP 2013068852A JP 2013068852 A JP2013068852 A JP 2013068852A JP 5377785 B1 JP5377785 B1 JP 5377785B1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
single crystal
rig
rare earth
bismuth
amount
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2013068852A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2014189472A (en
Inventor
悟 中川
一志 白井
Original Assignee
株式会社グラノプト
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社グラノプト filed Critical 株式会社グラノプト
Priority to JP2013068852A priority Critical patent/JP5377785B1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5377785B1 publication Critical patent/JP5377785B1/en
Priority to CN201410124127.4A priority patent/CN104073879B/en
Publication of JP2014189472A publication Critical patent/JP2014189472A/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

【課題】Pb量及びPt量の両方の含有量が少なく、結晶性に優れ、環境影響が少ないRIGが望まれている。
【解決手段】液相エピタキシャル法にて育成したビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶であって、組成式あたり0.010以上0.100以下のCa、組成式あたり0より大きく0.005以下のPb、及び組成式あたり0より大きく0.010未満のPtを含む、ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶。
【選択図】図1
There is a need for a RIG that has a low content of both Pb and Pt, excellent crystallinity, and little environmental impact.
A bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal grown by a liquid phase epitaxial method, wherein 0.010 or more and 0.100 or less of Ca per composition formula, Pb greater than 0 and 0.005 or less per composition formula, And a bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal comprising more than 0 and less than 0.010 Pt per composition formula.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、光アイソレータや光サーキュレータなどのファラデー回転子に用いられる、ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal used for a Faraday rotator such as an optical isolator or an optical circulator, and a method for producing the same.

近年、光ファイバ通信や光計測の発展はめざましいものがある。この光ファイバ通信や光計測では多くの場合、信号源として半導体レーザが使用されている。しかし、半導体レーザは、光ファイバ端面などから反射し、再び半導体レーザ自身に戻る反射戻り光があると、発振が不安定になりやすい。そのため半導体レーザの出射側に光アイソレータを設けて、反射戻り光を遮断し、半導体レーザの発振を安定化させることが行われている。   In recent years, the development of optical fiber communication and optical measurement has been remarkable. In this optical fiber communication and optical measurement, a semiconductor laser is often used as a signal source. However, if there is reflected return light that is reflected from the end face of the optical fiber and returns to the semiconductor laser itself, the semiconductor laser tends to be unstable. Therefore, an optical isolator is provided on the emission side of the semiconductor laser to block the reflected return light and stabilize the oscillation of the semiconductor laser.

光アイソレータは、主に、偏光子、検光子、ファラデー回転子、及びファラデー回転子を磁気的に飽和させるための永久磁石から構成される。光アイソレータの中心的な機能を担うファラデー回転子には、液相エピタキシャル(以下、LPEと略す)法で育成されるビスマス置換希土類鉄ガーネット(以下、RIGと適宜略す)単結晶が使われるのが一般的である。   The optical isolator mainly includes a polarizer, an analyzer, a Faraday rotator, and a permanent magnet for magnetically saturating the Faraday rotator. For the Faraday rotator that plays a central role in the optical isolator, a bismuth-substituted rare earth iron garnet (hereinafter abbreviated as RIG) single crystal grown by a liquid phase epitaxial (hereinafter abbreviated as LPE) method is used. It is common.

LPE法を用いたRIG単結晶の育成においては、一般的に、PbO−B23−Bi23がフラックス成分として用いられ、このフラックスとRIG成分である希土類酸化物、酸化鉄(Fe23)等を混合し、Ptるつぼ中に溶かした融液が用いられる。 In the growth of RIG single crystals using the LPE method, PbO—B 2 O 3 —Bi 2 O 3 is generally used as a flux component, and this flux and the RIG component rare earth oxide, iron oxide (Fe A melt obtained by mixing 2 O 3 ) or the like and dissolved in a Pt crucible is used.

この融液を、飽和温度以上に昇温して撹拌し、RIG単結晶が析出する過飽和温度に冷却して、融液に浸漬させた単結晶基板を基点として、RIG単結晶を育成することができる。   The RIG single crystal can be grown from the single crystal substrate immersed in the melt after the melt is heated to the saturation temperature or higher, stirred, cooled to the supersaturation temperature at which the RIG single crystal is deposited. it can.

酸化鉛(PbO)は融点が低く粘度も低いことから、フラックス成分として一般的に用いられている。しかしながら、PbOを含むフラックスを用いてRIG単結晶を育成すると、PbがRIG育成結晶中に不純物として取り込まれてしまう。   Lead oxide (PbO) is generally used as a flux component because of its low melting point and low viscosity. However, when a RIG single crystal is grown using a flux containing PbO, Pb is incorporated as an impurity in the RIG grown crystal.

Pbは中枢神経系機能障害やガンを引き起こし得る物質であり、環境影響を有するため、例えば、RoHS指令「電気電子機器に含まれる特定有害物質の使用制限に関する欧州議会および理事会指令」での指定物質であり、その最大許容量は0.1質量%と定められている。   Pb is a substance that can cause central nervous system dysfunction and cancer and has an environmental impact. For example, it is specified in the RoHS Directive “European Parliament and Council Directive on Restriction of Use of Specific Hazardous Substances in Electrical and Electronic Equipment” It is a substance, and its maximum allowable amount is defined as 0.1% by mass.

これに対して、RIG中のPb混入量を少なく抑えるために、Pbの成分比が少ないフラックスを用いたり、別法では、酸化カルシウム(CaO)を融液に添加することによって、育成RIG単結晶への鉛(Pb)の混入を抑制する方法が提案されている(特許文献1)。特許文献1には、Pb含有量を低減させるためには、CaOの融液組成への添加量が所定範囲で多いほど良いことが示されている。   On the other hand, in order to suppress the amount of Pb mixed in RIG to a small amount, a grown RIG single crystal can be obtained by using a flux with a small Pb component ratio or, alternatively, by adding calcium oxide (CaO) to the melt. A method for suppressing the mixing of lead (Pb) into the body has been proposed (Patent Document 1). Patent Document 1 shows that in order to reduce the Pb content, the larger the amount of CaO added to the melt composition, the better.

また、LPE法によるRIG単結晶の育成において、白金(Pt)るつぼが一般的に用いられている。   In addition, platinum (Pt) crucibles are generally used in the growth of RIG single crystals by the LPE method.

特開2007−153696号公報JP 2007-153696 A

Ptは、融点が高く、また、Zrなどを微量添加することで強度を高くすることができるため、上記のように、LPE法にRIG単結晶の育成に用いられるるつぼの材料として、一般的に用いられている。   Since Pt has a high melting point and can increase the strength by adding a small amount of Zr or the like, as described above, as a crucible material used for growing RIG single crystals in the LPE method, It is used.

従来、Pbの成分比が多いフラックスであれば、フラックスに溶け込んだPtがRIGに取り込まれても、特に大きな問題にはならなかった。ところが、本発明者らの検討によれば、育成RIGへのPb混入量を減らすためにPb量が少ないフラックスを用いると、RIG育成結晶にピットと呼ばれる結晶欠陥が発生しやすいことが分かった。さらに、その原因について鋭意調査したところ、Ptるつぼの成分であるPtは融液中に溶け出してRIG育成結晶中に混入し得るが、Pb量が少ないフラックスを用いた場合に、この混入したPtがRIG育成結晶中のピット発生の原因となることが分かった。   Conventionally, if the flux has a high Pb component ratio, even if Pt dissolved in the flux is taken into the RIG, there has been no particular problem. However, according to the study by the present inventors, it has been found that if a flux with a small amount of Pb is used to reduce the amount of Pb mixed in the grown RIG, crystal defects called pits are likely to occur in the RIG grown crystal. Furthermore, as a result of earnest investigation on the cause, Pt, which is a component of the Pt crucible, can be dissolved into the melt and mixed into the RIG-grown crystal. However, when using a flux with a small amount of Pb, this mixed Pt Was found to cause pits in the RIG-grown crystal.

ピットは、RIG結晶育成後に研磨を行っても、完全に除去することができない。特に、Ptが起点となるピットは、RIG結晶の育成初期の段階で発生しやすく、形状が大きいため、ピットが発生した部分は光学部品としての使用に適さない。   Even if the pits are polished after the RIG crystal growth, the pits cannot be completely removed. In particular, pits starting from Pt are likely to occur at the initial stage of RIG crystal growth and have a large shape. Therefore, the portion where the pits are generated is not suitable for use as an optical component.

Ptるつぼに代えてAuるつぼを用いればPtによる影響をなくすことができるが、Pb量が少ないフラックスを用いた場合にAuるつぼを用いると、Auを起点としたピットが生じ易く、Ptよりも影響が大きいことが分かった。また、Auるつぼは、Ptるつぼに比べて強度が弱くて変形しやすいことや、融液をAuの融点である1064℃以上に上げることができず、実際、融液の飽和温度を融点よりもかなり低くしなければならないという制約等がある。そのため、Ptるつぼが一般的に用いられている。   If an Au crucible is used in place of the Pt crucible, the effect of Pt can be eliminated. However, if an Au crucible is used when a flux with a small amount of Pb is used, pits starting from Au are likely to occur, which is more affected than Pt. Was found to be large. In addition, the Au crucible is weaker than the Pt crucible and easily deforms, and the melt cannot be raised above the melting point of Au, 1064 ° C. In fact, the saturation temperature of the melt is higher than the melting point. There is a restriction that it must be considerably low. Therefore, a Pt crucible is generally used.

一方で、RIG育成結晶中へのPbの混入量を減少させるために、RIG育成結晶のCa含有量を多くすると、RIG育成結晶中で4価のFe量が増加して、光吸収が増大し挿入損失が大きくなることも分かっている。   On the other hand, when the Ca content of the RIG grown crystal is increased in order to reduce the amount of Pb mixed in the RIG grown crystal, the amount of tetravalent Fe increases in the RIG grown crystal and the light absorption increases. It has also been found that the insertion loss increases.

このように、LPE法で育成するRIG単結晶において、Pb量及びPt量の両方の含有量を安定して低減することが難しく、環境影響が少なく且つ結晶性に優れたRIG単結晶を得ることが困難であった。   As described above, in the RIG single crystal grown by the LPE method, it is difficult to stably reduce the contents of both the Pb amount and the Pt amount, and it is possible to obtain an RIG single crystal having little environmental influence and excellent crystallinity. It was difficult.

本発明者らは、上記課題に鑑みて鋭意研究を行い、Pt及びPbの含有量がともに少なく、環境影響が少なく、且つ結晶性に優れたRIG単結晶を見いだした。   The present inventors have conducted intensive research in view of the above problems, and have found a RIG single crystal having a low Pt and Pb content, little environmental impact, and excellent crystallinity.

本発明は、液相エピタキシャル法にて育成したビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶であって、
組成式あたり0.010以上0.100以下のCa、組成式あたり0より大きく0.005以下のPb、及び組成式あたり0より大きく0.010未満のPtを含む、
ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶である。
The present invention is a bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal grown by a liquid phase epitaxial method,
0.010 to 0.100 Ca per composition formula, Pb greater than 0 and 0.005 or less per composition formula, and Pt greater than 0 and less than 0.010 per composition formula,
Bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal.

本発明はまた、酸化鉛、酸化カルシウム、酸化ビスマス、及び酸化ホウ素を含むフラックス成分と、希土類酸化物及び酸化鉄を含むガーネット単結晶成分、とを含む融液原料をPtるつぼ内で加熱溶融させた融液に、単結晶基板を接触させて、液相エピタキシャル法により、単結晶基板上にビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶を育成する方法であって、
酸化カルシウムの添加量が、融液を構成する融液原料の全体量を基準として、0.007〜0.070質量%から選択される量であり、
酸化鉛の添加量が、融液を構成する融液原料の全体量を基準として、7〜14質量%から選択される量であり、
860℃〜905℃の範囲から選択される融液温度にて、ビスマス置換希土類鉄磁性ガーネット単結晶を育成すること、
を含む、製造方法である。
The present invention also heats and melts a melt raw material containing a flux component containing lead oxide, calcium oxide, bismuth oxide, and boron oxide and a garnet single crystal component containing rare earth oxide and iron oxide in a Pt crucible. A single crystal substrate is brought into contact with the melt, and a bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal is grown on the single crystal substrate by a liquid phase epitaxial method,
The amount of calcium oxide added is an amount selected from 0.007 to 0.070 mass% based on the total amount of the melt raw material constituting the melt,
The amount of lead oxide added is an amount selected from 7 to 14% by mass based on the total amount of the melt raw material constituting the melt,
Growing a bismuth-substituted rare earth iron magnetic garnet single crystal at a melt temperature selected from the range of 860 ° C. to 905 ° C .;
Is a manufacturing method.

本発明によれば、Pt及びPb含有量が少なく、環境影響が少なく且つ結晶性に優れたRIG単結晶を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a RIG single crystal having low Pt and Pb contents, little environmental impact, and excellent crystallinity.

実施例におけるRIG育成結晶の赤外顕微鏡観察写真である。It is an infrared-microscope observation photograph of the RIG growth crystal | crystallization in an Example. 比較例におけるRIG育成結晶の赤外顕微鏡観察写真である。It is an infrared microscope observation photograph of the RIG growth crystal in a comparative example.

本発明は、液相エピタキシャル法にて育成したビスマス置換希土類鉄ガーネット(RIG)単結晶であって、組成式あたり0.010以上0.100以下のCa、組成式あたり0より大きく0.005以下のPb、及び組成式あたり0より大きく0.010未満のPtを含む、RIG単結晶を対象とする。   The present invention is a bismuth-substituted rare earth iron garnet (RIG) single crystal grown by a liquid phase epitaxial method, wherein 0.010 or more and 0.100 or less of Ca per composition formula, and more than 0 and 0.005 or less per composition formula Rb single crystal containing Pb and Pt of greater than 0 and less than 0.010 per composition formula.

本発明に係るRIG単結晶に含まれるPb量の上限は、組成式あたり0.010以下、好ましくは0.005以下、より好ましくは0.004以下である。Pb量の下限は組成式あたり0より大きい範囲であり、それ以外は特に限定されないが、例えば0.001以上、0.002以上、または0.003以上である。RIG単結晶中の含有Pb量が上記範囲にあることにより、結晶欠陥が少なく結晶性が良好で、環境負荷が小さいRIG単結晶を提供することができる。   The upper limit of the amount of Pb contained in the RIG single crystal according to the present invention is 0.010 or less, preferably 0.005 or less, more preferably 0.004 or less per composition formula. The lower limit of the amount of Pb is a range larger than 0 per composition formula, and is not particularly limited otherwise, but is, for example, 0.001 or more, 0.002 or more, or 0.003 or more. When the amount of Pb contained in the RIG single crystal is in the above range, it is possible to provide a RIG single crystal with few crystal defects, good crystallinity, and low environmental load.

本発明に係るRIG単結晶に含まれるPt量は、組成式あたり0.010未満、好ましくは0.006以下、より好ましくは0.005以下である。RIG単結晶中に含有されるPtが上記の微量範囲であることによって、結晶欠陥が少なく結晶性に優れたRIG単結晶を得ることができる。Pt量の下限は組成式あたり0より大きい範囲であり、それ以外は特に限定されないが、例えば0.001以上、0.002以上、または0.004以上である。   The amount of Pt contained in the RIG single crystal according to the present invention is less than 0.010, preferably 0.006 or less, more preferably 0.005 or less per composition formula. When Pt contained in the RIG single crystal is in the above minute range, an RIG single crystal having few crystal defects and excellent crystallinity can be obtained. The lower limit of the amount of Pt is in a range larger than 0 per composition formula, and the others are not particularly limited, but for example, 0.001 or more, 0.002 or more, or 0.004 or more.

また、RIG単結晶に含まれるPt量が上記範囲内であることにより、光吸収が少なく挿入損失が小さいRIG単結晶を得ることができる。これは、RIG単結晶中の4価のPtの含有量を低減することにより、RIG単結晶中の2価のFe量が低減されるためである。   In addition, when the amount of Pt contained in the RIG single crystal is within the above range, it is possible to obtain a RIG single crystal with little light absorption and low insertion loss. This is because the amount of divalent Fe in the RIG single crystal is reduced by reducing the content of tetravalent Pt in the RIG single crystal.

さらには、RIG単結晶に含まれるPt量が上記範囲であることにより、ファラデー回転角の温度変化を小さく抑えることができ、広い温度範囲でファラデー回転子を使った光部品の性能を維持することができる。これは、RIG単結晶中に混入するPt量が少ないため、Ptによる鉄イオンの置換量が抑えられ、ファラデー回転角の温度変化が小さくなるためと考えられる。   Furthermore, since the amount of Pt contained in the RIG single crystal is in the above range, the temperature change of the Faraday rotation angle can be suppressed to be small, and the performance of the optical component using the Faraday rotator can be maintained in a wide temperature range. Can do. This is presumably because the amount of Pt mixed in the RIG single crystal is small, the amount of substitution of iron ions by Pt is suppressed, and the temperature change of the Faraday rotation angle becomes small.

本発明に係るRIG単結晶はCaを含む。RIG単結晶がCaを含むことによって、RIG単結晶中に混入するPb量を低減することができる。また、RIG単結晶中にCaを含むことによって、2価のFeの発生を抑制して、RIG単結晶の光吸収を低減することができる。   The RIG single crystal according to the present invention contains Ca. When the RIG single crystal contains Ca, the amount of Pb mixed in the RIG single crystal can be reduced. In addition, by including Ca in the RIG single crystal, generation of divalent Fe can be suppressed and light absorption of the RIG single crystal can be reduced.

RIG育成結晶中のCa含有量を多くするほど、RIG単結晶中に混入するPb量を低減することができるが、RIG育成結晶中のCa含有量が多すぎると、育成RIGの結晶性が低下しやすい。育成RIGの結晶性が低いと、結晶育成後の加工、例えば切断や鏡面研磨の際に、RIGがクラックを生じたり、割れることがある。   As the Ca content in the RIG grown crystal increases, the amount of Pb mixed in the RIG single crystal can be reduced. However, if the Ca content in the RIG grown crystal is too large, the crystallinity of the grown RIG decreases. It's easy to do. If the crystallinity of the grown RIG is low, the RIG may crack or break during processing after crystal growth, such as cutting or mirror polishing.

したがって、本発明に係るRIG単結晶に含まれるCa量は、好ましくは、組成式あたり0.010以上0.100以下、より好ましくは0.010以上0.050以下、さらに好ましくは0.015以上0.040以下、さらにより好ましくは0.015以上0.030以下である。   Therefore, the amount of Ca contained in the RIG single crystal according to the present invention is preferably 0.010 or more and 0.100 or less, more preferably 0.010 or more and 0.050 or less, more preferably 0.015 or more per composition formula. It is 0.040 or less, still more preferably 0.015 or more and 0.030 or less.

本発明に係るRIG単結晶はビスマス(Bi)を含む。RIG単結晶においてBiは希土類元素を置換し、ファラデー効果を大きくする効果がある。本発明に係るRIG単結晶において、組成式あたりのBi量は、好ましくは0.8以上である。ビスマス置換量が多いほどファラデー効果を高めることができ、必要な膜厚を薄くすることができるため上記範囲が好ましい。ただし、Bi量が大きすぎると、RIGを育成する単結晶基板との格子定数の差が大きくなり、育成RIGに加わる応力が大きくなるため、1.4以下が好ましい。   The RIG single crystal according to the present invention contains bismuth (Bi). In the RIG single crystal, Bi replaces rare earth elements and has the effect of increasing the Faraday effect. In the RIG single crystal according to the present invention, the amount of Bi per composition formula is preferably 0.8 or more. The above range is preferable because the Faraday effect can be enhanced as the amount of bismuth substitution increases, and the required film thickness can be reduced. However, if the amount of Bi is too large, the difference in lattice constant from the single crystal substrate on which the RIG is grown increases, and the stress applied to the grown RIG increases, so 1.4 or less is preferable.

本発明に係るRIG単結晶は希土類元素を含む。希土類元素は、RIG単結晶の光学特性と磁気特性を考慮し、また育成基板との格子定数の適合性等を考慮して選択することができる。希土類元素は好ましくは、Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、及びLuからなる群から選択される少なくとも1種類の元素を含むことができ、より好ましくは、Gd、Tb、Ho、及びYbからなる群から選択される少なくとも1種類の元素を含むことができる。本発明に係るRIG単結晶において、組成式あたりの希土類元素量は、好ましくは、組成式あたり3−(Bi量+Ca量+Pb量)である。   The RIG single crystal according to the present invention contains a rare earth element. The rare earth element can be selected in consideration of the optical characteristics and magnetic characteristics of the RIG single crystal and the suitability of the lattice constant with the growth substrate. The rare earth element preferably includes at least one element selected from the group consisting of Y, La, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu. More preferably, it may contain at least one element selected from the group consisting of Gd, Tb, Ho, and Yb. In the RIG single crystal according to the present invention, the rare earth element amount per composition formula is preferably 3- (Bi amount + Ca amount + Pb amount) per composition formula.

本発明に係るRIG単結晶は、所望によりFeサイトを置換する非磁性元素を含んでもよい。Feを置換する元素は、好ましくは、Ga、Al、Ge、及びSiからなる群から選択される少なくとも1種類の元素であり、より好ましくはGa及びAlから選択される少なくとも1種類の元素である。上記元素でFeを置換することによって、RIGの飽和磁界を下げることができるが、Fe置換元素量が1.0を超えるとファラデー回転の温度変化が大きくなりやすく、Fe置換元素量は1.0以下が好ましい。また、育成結晶中のピットを減らす観点では、Fe置換元素量は少ないほど好ましく、1.0以下が好ましく、0.5以下がより好ましく、0.1以下がさらに好ましく、実質的に0であることがさらにより好ましい。   The RIG single crystal according to the present invention may contain a nonmagnetic element that substitutes for an Fe site, if desired. The element substituting for Fe is preferably at least one element selected from the group consisting of Ga, Al, Ge, and Si, and more preferably at least one element selected from Ga and Al. . By substituting Fe with the above element, the saturation magnetic field of RIG can be lowered. However, when the amount of Fe-substituted element exceeds 1.0, the temperature change of Faraday rotation tends to increase, and the amount of Fe-substituted element is 1.0 The following are preferred. Further, from the viewpoint of reducing pits in the grown crystal, the smaller the amount of Fe-substituted element, the more preferable, 1.0 or less is preferable, 0.5 or less is more preferable, 0.1 or less is further preferable, and substantially 0. Even more preferred.

本発明に係るRIG単結晶は、Feを含む。RIG中に含まれるFeの量は、組成式あたり、好ましくは5−(Fe置換元素量+Pt量)である。   The RIG single crystal according to the present invention contains Fe. The amount of Fe contained in RIG is preferably 5- (Fe-substitution element amount + Pt amount) per composition formula.

本発明に係るRIG単結晶は、好ましくは、一般式:
(R3-x-a-bBixCaaPbb)(Fe5-y-cyPtc)O12
(式中、Rは、Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、及びLuから選択される少なくとも1種類の元素であり、Mは、Ga、Al、Ge、及びSiから選択される少なくとも1種類の元素であり、並びに0.8≦x≦1.4、0≦y≦1.0、0.010≦a≦0.100、0<b≦0.005、及び0<c<0.010である)で表される組成式を有することができる。
The RIG single crystal according to the present invention preferably has the general formula:
(R 3-xab Bi x Ca a Pb b) (Fe 5-yc M y Pt c) O 12
(In the formula, R is at least one element selected from Y, La, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu; Is at least one element selected from Ga, Al, Ge, and Si, and 0.8 ≦ x ≦ 1.4, 0 ≦ y ≦ 1.0, 0.010 ≦ a ≦ 0.100 , 0 <b ≦ 0.005, and 0 <c <0.010).

また、RIG単結晶の育成厚みが大きくなればなるほど、Ptによる結晶欠陥もその大きさが大きくなりやすく、結晶欠陥が、光学素子としての性能低下に及ぼす影響も大きくなる。特に、光通信波長用のファラデー回転子として必要な100μm以上の結晶を育成するときに、更に一般的な製品膜厚である約300μm〜600μm厚のRIG製品を製造する場合に、Ptによる結晶欠陥が問題になりやすいことが新たに判明した。   In addition, as the growth thickness of the RIG single crystal increases, the size of crystal defects caused by Pt tends to increase, and the influence of the crystal defects on performance degradation as an optical element increases. In particular, when growing a crystal having a thickness of 100 μm or more necessary as a Faraday rotator for optical communication wavelengths, a crystal defect caused by Pt is required when manufacturing a general RIG product having a thickness of about 300 μm to 600 μm. Was newly found to be problematic.

本発明に係るRIG単結晶の厚みは、好ましくは100μm以上、より好ましくは300μm以上、さらに好ましくは500μm以上の厚みを有する。本発明に係るRIG単結晶は上記範囲の厚みを有するため、光通信波長用のファラデー回転子として良好に機能することができる。RIG単結晶の厚みの上限は特に限定されないが、RIG単結晶を製品にしたときの光学素子としての必要性から、例えば1000μm以下、800μm以下、または600μm以下である。   The thickness of the RIG single crystal according to the present invention is preferably 100 μm or more, more preferably 300 μm or more, and even more preferably 500 μm or more. Since the RIG single crystal according to the present invention has a thickness in the above range, it can function well as a Faraday rotator for optical communication wavelengths. The upper limit of the thickness of the RIG single crystal is not particularly limited, but is, for example, 1000 μm or less, 800 μm or less, or 600 μm or less because of the necessity as an optical element when the RIG single crystal is used as a product.

本発明はまた、酸化鉛、酸化カルシウム、酸化ビスマス、及び酸化ホウ素を含むフラックス成分と、希土類酸化物及び酸化鉄を含むガーネット単結晶成分、とを含む融液原料をPtるつぼ内で加熱溶融させた融液に、単結晶基板を接触させて、液相エピタキシャル法により、単結晶基板上にビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶を育成する方法であって、酸化カルシウムの添加量が、融液を構成する融液原料の全体量を基準として、0.007〜0.070質量%から選択される量であり、酸化鉛の添加量が、融液を構成する融液原料の全体量を基準として、7〜12質量%から選択される量であり、860℃〜905℃の範囲から選択される融液温度にて、ビスマス置換希土類鉄磁性ガーネット単結晶を育成すること、を含む、製造方法を対象とする。   The present invention also heats and melts a melt raw material containing a flux component containing lead oxide, calcium oxide, bismuth oxide, and boron oxide and a garnet single crystal component containing rare earth oxide and iron oxide in a Pt crucible. A single crystal substrate is brought into contact with the melt and a bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal is grown on the single crystal substrate by liquid phase epitaxy, and the amount of calcium oxide added constitutes the melt The amount selected from 0.007 to 0.070 mass% based on the total amount of the melt raw material to be added, and the amount of lead oxide added is based on the total amount of the melt raw material constituting the melt, Growing a bismuth-substituted rare earth iron magnetic garnet single crystal at a melt temperature selected from a range of 860 ° C. to 905 ° C. in an amount selected from 7 to 12% by mass. Of interest.

本発明に係る方法に用いられる融液は、酸化鉛(PbO)、酸化ビスマス(Bi23)、酸化ほう素(B23)、酸化カルシウム(CaO)、酸化鉄(Fe23)、希土類酸化物を含む融液原料を用いて、Ptるつぼ内で調製することができる。 The melt used in the method according to the present invention includes lead oxide (PbO), bismuth oxide (Bi 2 O 3 ), boron oxide (B 2 O 3 ), calcium oxide (CaO), and iron oxide (Fe 2 O 3). ), And can be prepared in a Pt crucible using a melt raw material containing a rare earth oxide.

秤量した融液原料成分をPtるつぼに入れ、飽和温度以上、例えば1000℃以上に融液原料を加熱して融液を形成し、十分に撹拌して、融液を形成することができる。   The weighed melt raw material components are put in a Pt crucible, and the melt raw material is heated to a saturation temperature or higher, for example, 1000 ° C. or higher to form a melt and sufficiently stirred to form a melt.

酸化カルシウム(CaO)の添加量は、融液を構成する融液原料の全体量を基準として、0.007〜0.070質量%、好ましくは0.007〜0.022質量%、より好ましくは0.007〜0.013質量%である。この範囲の量のCaOを融液原料に添加することによって、育成するRIG中に混入するPb量を良好に低減しつつ、結晶性が優れたRIGを得ることができ、また、RIG中にCaを含むことによって、2価のFeの発生を抑制して、RIGの光吸収を低減することができる。   The addition amount of calcium oxide (CaO) is 0.007 to 0.070 mass%, preferably 0.007 to 0.022 mass%, more preferably based on the total amount of the melt raw material constituting the melt. It is 0.007-0.013 mass%. By adding an amount of CaO in this range to the melt raw material, it is possible to obtain an RIG having excellent crystallinity while favorably reducing the amount of Pb mixed in the RIG to be grown. By containing, the generation of divalent Fe can be suppressed and the light absorption of RIG can be reduced.

酸化鉛(PbO)の添加量は、融液を構成する融液原料の全体量を基準として、7〜14質量%、好ましくは7〜12質量%、より好ましくは8〜11質量%、さらに好ましくは8〜10質量%である。この範囲の量のPbOを融液原料に添加することによって、結晶欠陥が少なく結晶性が良好で、環境負荷が小さいRIG単結晶を育成することができる。   The amount of lead oxide (PbO) added is 7 to 14% by mass, preferably 7 to 12% by mass, more preferably 8 to 11% by mass, and still more preferably based on the total amount of the melt raw material constituting the melt. Is 8 to 10% by mass. By adding an amount of PbO in this range to the melt raw material, it is possible to grow a RIG single crystal with few crystal defects and good crystallinity and low environmental load.

本発明に係る製造方法において、融液原料は、酸化ビスマス(Bi23)を含む。酸化ビスマス(Bi23)の添加量は、融液を構成する融液原料の全体量を基準として、好ましくは41〜91質量%であり、例えば、育成RIGにおける組成式あたりのBi量が0.8以上1.4以下の範囲内に入るような量にすることができる。 In the production method according to the present invention, the melt raw material contains bismuth oxide (Bi 2 O 3 ). The addition amount of bismuth oxide (Bi 2 O 3 ) is preferably 41 to 91% by mass based on the total amount of the melt raw material constituting the melt. For example, the Bi amount per composition formula in the growing RIG is The amount can be in the range of 0.8 to 1.4.

本発明に係る製造方法において、融液原料は酸化ほう素(B23)を含む。酸化ほう素(B23)の添加量は、融液を構成する融液原料の全体量を基準として、好ましくは0.5〜3.5質量%である。 In the production method according to the present invention, the melt raw material contains boron oxide (B 2 O 3 ). The amount of boron oxide (B 2 O 3 ) added is preferably 0.5 to 3.5% by mass based on the total amount of the melt raw material constituting the melt.

本発明に係る製造方法において、融液原料は、希土類酸化物を含む。希土類酸化物は、好ましくは、Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、及びLuから選択される少なくとも1種類の元素の酸化物である。希土類酸化物の添加量は、希土類酸化物の種類及び必要とされるRIGの特性に応じて適宜調整することができ、例えば、育成RIGにおける組成式あたりの希土類元素の量が3−(Bi量+Ca量+Pb量)となるような量にすることができる。   In the production method according to the present invention, the melt raw material contains a rare earth oxide. The rare earth oxide is preferably an oxide of at least one element selected from Y, La, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu. It is. The addition amount of the rare earth oxide can be appropriately adjusted according to the kind of the rare earth oxide and the required RIG characteristics. For example, the amount of the rare earth element per composition formula in the grown RIG is 3- (Bi amount). + Ca amount + Pb amount).

本発明に係る製造方法において、融液原料は、所望によりRIG単結晶の鉄サイトを置換する非磁性元素の酸化物を含んでもよい。非磁性元素酸化物の添加量は、非磁性元素酸化物の種類及び必要とされるRIGの特性に応じて適宜調整することができ、例えば、育成RIGにおける組成式あたりの非磁性元素量が0以上1.0以下の範囲内に入るような量にすることができる。   In the production method according to the present invention, the melt raw material may include an oxide of a nonmagnetic element that substitutes the iron site of the RIG single crystal as desired. The addition amount of the nonmagnetic element oxide can be appropriately adjusted according to the kind of the nonmagnetic element oxide and the required RIG characteristics. For example, the amount of the nonmagnetic element per composition formula in the growth RIG is 0. The amount can be within the range of 1.0 or more and 1.0 or less.

本発明に係る製造方法において、融液原料は、酸化鉄(Fe23)を含む。Fe23の添加量は、融液を構成する融液原料の全体量を基準として、好ましくは4.2〜8.4質量%であり、例えば、育成RIGにおける組成式あたりのFe量が5−(非磁性元素量+Pt量)となるような量にすることができる。 In the production method according to the present invention, the melt raw material contains iron oxide (Fe 2 O 3 ). The amount of Fe 2 O 3 added is preferably 4.2 to 8.4% by mass based on the total amount of the melt raw material constituting the melt. For example, the amount of Fe per composition formula in the growing RIG is The amount can be set to 5- (nonmagnetic element amount + Pt amount).

LPE法では、飽和温度より低い過冷却温度で結晶育成する。本発明に係る方法においては、理由は明確ではないが、結晶育成温度を高くすることによって、RIG中へのPt混入を抑制することができる。   In the LPE method, crystals are grown at a supercooling temperature lower than the saturation temperature. In the method according to the present invention, although the reason is not clear, Pt mixing into RIG can be suppressed by increasing the crystal growth temperature.

したがって、結晶育成温度は、860℃以上、好ましくは865℃以上、より好ましくは880℃以上、さらに好ましくは890℃以上、さらにより好ましくは895℃以上である。一方で、単結晶基板と育成RIGとの熱膨張係数が異なるので、結晶育成温度が高いほど、また、育成RIGの厚みが厚いほど、室温に戻す過程で、単結晶基板と育成RIGとの熱膨張率差により育成結晶に応力がかかり割れやクラック等の欠陥等が発生し得るため、結晶育成温度は好ましくは905℃以下、より好ましくは900℃以下、さらに好ましくは895℃以下である。   Accordingly, the crystal growth temperature is 860 ° C. or higher, preferably 865 ° C. or higher, more preferably 880 ° C. or higher, still more preferably 890 ° C. or higher, and even more preferably 895 ° C. or higher. On the other hand, since the thermal expansion coefficients of the single crystal substrate and the grown RIG are different, the heat of the single crystal substrate and the grown RIG increases in the process of returning to room temperature as the crystal growth temperature is higher and the thickness of the grown RIG is larger. Since the growth crystal is stressed by the difference in expansion coefficient and defects such as cracks and cracks may occur, the crystal growth temperature is preferably 905 ° C. or lower, more preferably 900 ° C. or lower, and even more preferably 895 ° C. or lower.

上記温度範囲でRIG単結晶を育成することによって、RIG中へのPt混入を抑制しつつ、欠陥を低減することができる。   By growing the RIG single crystal in the above temperature range, it is possible to reduce defects while suppressing the mixing of Pt into the RIG.

結晶育成温度とは、融液の表面の温度であり、R熱電対、放射温度計等を用いて測定することができる。   The crystal growth temperature is the temperature of the surface of the melt and can be measured using an R thermocouple, a radiation thermometer, or the like.

また、RIG単結晶を育成する過程では、融液中のRIGの成分が育成結晶に取り込まれ、融液の成分が変化することがあり、また、上記の特に割れやクラックを防ぐために、温度を下げながら結晶育成してもよい。   In the process of growing the RIG single crystal, the component of the RIG in the melt may be taken into the grown crystal, and the component of the melt may change. The crystal may be grown while being lowered.

結晶育成温度に冷却した後、非磁性ガーネット単結晶を単結晶基板として、液面に接液して、RIG単結晶を育成することができる。   After cooling to the crystal growth temperature, the RIG single crystal can be grown by using the nonmagnetic garnet single crystal as a single crystal substrate and in contact with the liquid surface.

本発明に係る方法によれば、RIG中へのPt混入を抑制できるため結晶欠陥が発生しにくく、結晶育成速度を速くすることができる。   According to the method of the present invention, since Pt mixing into RIG can be suppressed, crystal defects are unlikely to occur, and the crystal growth rate can be increased.

したがって、結晶育成速度は、好ましくは0.20μm/分以上、より好ましくは0.25μm/分以上、さらに好ましくは0.30μm/分以上、さらにより好ましくは0.35μm/分以上、さらにより好ましくは0.40μm/分以上である。結晶育成速度は大きいほどコスト面に有利なため好ましいが、大きすぎると結晶欠陥が発生しやすいため0.60μm/分以下が好ましく、0.50μm/分以下がより好ましい。   Therefore, the crystal growth rate is preferably 0.20 μm / min or more, more preferably 0.25 μm / min or more, further preferably 0.30 μm / min or more, even more preferably 0.35 μm / min or more, and even more preferably. Is 0.40 μm / min or more. A larger crystal growth rate is preferable because it is advantageous in terms of cost. However, if it is too large, crystal defects are likely to occur.

本発明の方法に用いることができる単結晶基板としては、公知のものが使用でき、例えば、SGGG基板と称して市販されている格子定数が1.2490nm〜1.2515nmの非磁性ガーネット〔(GdCa)3(GaMgZr)512〕基板等を用いることができる。 As the single crystal substrate that can be used in the method of the present invention, a known substrate can be used. For example, a non-magnetic garnet [(GdCa) having a lattice constant of 1.2490 nm to 1.2515 nm that is commercially available as an SGGG substrate. ) 3 (GaMgZr) 5 O 12 ] substrate or the like can be used.

結晶育成中は、好ましくは単結晶基板を回転させ、より好ましくは40〜120rpmで回転させる。この回転速度で単結晶基板を回転させることによって、融液をより均一に拡散することができる。また、単結晶基板の回転方向を周期的に変えてもよい。   During crystal growth, the single crystal substrate is preferably rotated, and more preferably rotated at 40 to 120 rpm. By rotating the single crystal substrate at this rotational speed, the melt can be diffused more uniformly. Further, the rotation direction of the single crystal substrate may be periodically changed.

LPE法にてRIG単結晶を育成した後、室温に徐々に冷却して取り出すが、LPE法で用いる単結晶基板の熱膨張係数と、育成RIGとの熱膨張係数には違いがあり、この熱膨張係数の違いによって、育成RIGに反りや、内部応力が発生することがある。   After the RIG single crystal is grown by the LPE method, it is gradually cooled to room temperature and taken out. However, the thermal expansion coefficient of the single crystal substrate used in the LPE method is different from the thermal expansion coefficient of the grown RIG. Depending on the difference in expansion coefficient, warping of the growing RIG and internal stress may occur.

そこで、RIG単結晶を育成した後、育成RIGを、所定の大きさ、例えば11mm角程度の大きさに切断して、単結晶基板を削り取り、必要な膜厚に鏡面研磨してもよい。   Therefore, after growing the RIG single crystal, the grown RIG may be cut into a predetermined size, for example, a size of about 11 mm square, the single crystal substrate is scraped, and mirror-polished to a required film thickness.

RIG育成結晶の両面を鏡面研磨した後、反射防止膜を配置してRIG製品を作製することができる。反射防止膜は、誘電多層膜であり、例えばTa25/SiO2、TiO2/SiO2、またはAl23/SiO2であることができる。 After both surfaces of the RIG-grown crystal are mirror-polished, an antireflection film can be arranged to produce a RIG product. The antireflection film is a dielectric multilayer film, and can be, for example, Ta 2 O 5 / SiO 2 , TiO 2 / SiO 2 , or Al 2 O 3 / SiO 2 .

製造したRIG製品を所望の大きさに切断して、光アイソレータ等の光部品に組み込み使用することができる。   The manufactured RIG product can be cut into a desired size and used in an optical component such as an optical isolator.

本発明に係る方法によって育成したRIG単結晶を、窒素、水素、またはその混合ガスの還元雰囲気下で熱処理をしてもよい。本発明に係る方法によって育成したRIG単結晶を還元雰囲気下で加熱することによって4価のFeをさらに低減し、RIG単結晶の挿入損失をさらに低減することができる。好ましくは、還元雰囲気は水素及び所望により窒素を含む。   The RIG single crystal grown by the method according to the present invention may be heat-treated in a reducing atmosphere of nitrogen, hydrogen, or a mixed gas thereof. By heating the RIG single crystal grown by the method according to the present invention in a reducing atmosphere, tetravalent Fe can be further reduced and insertion loss of the RIG single crystal can be further reduced. Preferably the reducing atmosphere comprises hydrogen and optionally nitrogen.

(実施例1)
Ptるつぼ内で、融液原料の全体量基準で、80質量%の酸化ビスマス(Bi23)、0.9質量%の酸化ほう素(B23)、9.7質量%の酸化鉛(PbO)、0.013質量%の酸化カルシウム(CaO)、7.8質量%の酸化鉄(Fe23)、0.67質量%の酸化ガリウム(Ga23)、0.65質量%の酸化テルビウム(Tb47)、及び0.27質量%の酸化イッテリビウム(Yb23)を添加し、融液原料を調製した。
Example 1
In a Pt crucible, 80% by mass of bismuth oxide (Bi 2 O 3 ), 0.9% by mass of boron oxide (B 2 O 3 ), 9.7% by mass of oxidation based on the total amount of the melt raw material Lead (PbO), 0.013% by mass of calcium oxide (CaO), 7.8% by mass of iron oxide (Fe 2 O 3 ), 0.67% by mass of gallium oxide (Ga 2 O 3 ), 0.65 Mass% terbium oxide (Tb 4 O 7 ) and 0.27 mass% ytterbium oxide (Yb 2 O 3 ) were added to prepare a melt raw material.

調製した融液原料を入れたPtるつぼを、精密縦型管状電気炉内に配置し、1000℃に加熱溶融し、十分に攪拌することで均一に混合してRIG育成融液を形成した。次いで、融液の温度を飽和温度(905℃)以下の890℃まで低下させ、融液表面に、円盤状で、3インチの直径、760μmの厚み、及び1.2497nmの格子定数を有する(111)ガーネット単結晶[(GdCa)3(CaMgZr)512]基板の片面を接触させた。 The prepared Pt crucible containing the melt raw material was placed in a precision vertical tubular electric furnace, heated and melted to 1000 ° C., and thoroughly mixed to form an RIG growth melt. Next, the temperature of the melt is lowered to 890 ° C. below the saturation temperature (905 ° C.), and the surface of the melt has a disc shape, a diameter of 3 inches, a thickness of 760 μm, and a lattice constant of 1.2497 nm (111 ) One side of a garnet single crystal [(GdCa) 3 (CaMgZr) 5 O 12 ] substrate was brought into contact.

大気雰囲気中で、単結晶基板を60rpmで回転させ、2分間隔で周期的に回転方向を反転させながら、24時間、エピタキシャル成長を行い、RIG単結晶を育成した。育成したRIG単結晶は、3インチの直径及び530μmの膜厚を有していた。結晶育成速度は0.260μm/分であった。育成したRIG単結晶の全体の表面について顕微鏡観察したところ、8個の結晶欠陥が確認されたが、RIGに割れ等の破損はみられなかった。結晶欠陥は、直径が100μm以上のものについて個数を記録した。以下同様である。   In the air atmosphere, the single crystal substrate was rotated at 60 rpm, and the RIG single crystal was grown by performing epitaxial growth for 24 hours while reversing the rotation direction periodically at intervals of 2 minutes. The grown RIG single crystal had a diameter of 3 inches and a film thickness of 530 μm. The crystal growth rate was 0.260 μm / min. When the entire surface of the grown RIG single crystal was observed with a microscope, eight crystal defects were confirmed, but no damage such as cracks was found in the RIG. The number of crystal defects was recorded for those having a diameter of 100 μm or more. The same applies hereinafter.

育成したRIG単結晶を11mm角に切断して、単結晶基板を研削にて取り除き、化学機械研磨(CMP)法を用いて両面を鏡面研磨して、厚さ450μmのRIG単結晶を得た。   The grown RIG single crystal was cut into 11 mm square, the single crystal substrate was removed by grinding, and both surfaces were mirror-polished using a chemical mechanical polishing (CMP) method to obtain a RIG single crystal having a thickness of 450 μm.

鏡面研磨した11mm角のRIG単結晶について赤外顕微鏡にて内部のピット(結晶欠陥)を観察したところ、結晶欠陥は認められなかった。赤外顕微鏡観察写真を図1に示す。   When an internal pit (crystal defect) was observed with an infrared microscope for an 11 mm square RIG single crystal that had been mirror-polished, no crystal defect was observed. An infrared microscope observation photograph is shown in FIG.

鏡面研磨したRIG単結晶を、蛍光X線分析装置(日本電子株式会社製、JXA−8100)を用いて蛍光X線分析法により組成分析した結果、組成はTb1.2Yb0.53Bi1.2Ca0.015Pb0.004Fe4.3Ga0.7Pt0.00512であった。 As a result of analyzing the composition of the mirror-polished RIG single crystal by fluorescent X-ray analysis using an X-ray fluorescence analyzer (manufactured by JEOL Ltd., JXA-8100), the composition was Tb 1.2 Yb 0.53 Bi 1.2 Ca 0.015 Pb 0.004 Fe 4.3 was Ga 0.7 Pt 0.005 O 12.

また、鏡面研磨したRIG単結晶に、両面対空気の反射防止膜(Ta25/SiO2)を配置して、ファラデー回転角を測定した結果、1550nm波長にて45度であった。 In addition, as a result of measuring the Faraday rotation angle by disposing a double-sided anti-reflection film (Ta 2 O 5 / SiO 2 ) on the mirror-polished RIG single crystal, it was 45 degrees at a wavelength of 1550 nm.

(実施例2)
880℃でRIG単結晶を育成したこと以外は、実施例1と同様の条件で行った。
(Example 2)
The test was performed under the same conditions as in Example 1 except that the RIG single crystal was grown at 880 ° C.

育成したRIG単結晶は、3インチの直径及び530μmの膜厚を有していた。結晶育成速度は0.260μm/分であった。育成したRIG単結晶の全体の表面について顕微鏡観察したところ、9個の結晶欠陥が確認されたが、RIGに割れ等の破損はみられなかった。   The grown RIG single crystal had a diameter of 3 inches and a film thickness of 530 μm. The crystal growth rate was 0.260 μm / min. When the entire surface of the grown RIG single crystal was observed with a microscope, nine crystal defects were confirmed, but no damage such as cracks was found in the RIG.

育成したRIG単結晶を11mm角に切断して、基板を研削にて取り除き、化学機械研磨(CMP)法を用いて両面を鏡面研磨して、厚さ450μmのRIG単結晶を得た。   The grown RIG single crystal was cut into 11 mm square, the substrate was removed by grinding, and both surfaces were mirror-polished using a chemical mechanical polishing (CMP) method to obtain a RIG single crystal having a thickness of 450 μm.

鏡面研磨した11mm角のRIG単結晶について赤外顕微鏡にて内部のピット(結晶欠陥)を観察したところ、結晶欠陥は認められなかった。   When an internal pit (crystal defect) was observed with an infrared microscope for an 11 mm square RIG single crystal that had been mirror-polished, no crystal defect was observed.

鏡面研磨したRIG単結晶を蛍光X線分析法により組成分析した結果、組成はTb1.2Yb0.55Bi1.2Ca0.015Pb0.005Fe4.3Ga0.7Pt0.00512であった。 As a result of analyzing the composition of the mirror-polished RIG single crystal by X-ray fluorescence analysis, the composition was Tb 1.2 Yb 0.55 Bi 1.2 Ca 0.015 Pb 0.005 Fe 4.3 Ga 0.7 Pt 0.005 O 12 .

また、鏡面研磨したRIG単結晶に、両面対空気の反射防止膜を配置して、ファラデー回転角を測定した結果、1550nm波長にて45度であった。   In addition, as a result of measuring the Faraday rotation angle by disposing a double-sided anti-reflection film on the mirror-polished RIG single crystal, the angle was 45 degrees at a wavelength of 1550 nm.

(実施例3)
865℃でRIG単結晶を育成したこと以外は、実施例1と同様の条件で行った。
(Example 3)
The test was performed under the same conditions as in Example 1 except that the RIG single crystal was grown at 865 ° C.

育成したRIG単結晶は、3インチの直径及び530μmの膜厚を有していた。結晶育成速度は0.260μm/分であった。育成したRIG単結晶の全体の表面について顕微鏡観察したところ、10個の結晶欠陥が確認されたが、RIGに割れ等の破損はみられなかった。   The grown RIG single crystal had a diameter of 3 inches and a film thickness of 530 μm. The crystal growth rate was 0.260 μm / min. When the entire surface of the grown RIG single crystal was observed with a microscope, ten crystal defects were confirmed, but no damage such as cracks was found in the RIG.

育成したRIG単結晶を11mm角に切断して、基板を研削にて取り除き、化学機械研磨(CMP)法を用いて両面を鏡面研磨して、厚さ450μmのRIG単結晶を得た。   The grown RIG single crystal was cut into 11 mm square, the substrate was removed by grinding, and both surfaces were mirror-polished using a chemical mechanical polishing (CMP) method to obtain a RIG single crystal having a thickness of 450 μm.

鏡面研磨した11mm角のRIG単結晶について赤外顕微鏡にて内部のピット(結晶欠陥)を観察したところ、結晶欠陥は認められなかった。   When an internal pit (crystal defect) was observed with an infrared microscope for an 11 mm square RIG single crystal that had been mirror-polished, no crystal defect was observed.

鏡面研磨したRIG単結晶を蛍光X線分析法により組成分析した結果、組成はTb1.2Yb0.56Bi1.2Ca0.015Pb0.005Fe4.3Ga0.7Pt0.00512であった。 As a result of analyzing the composition of the mirror-polished RIG single crystal by X-ray fluorescence analysis, the composition was Tb 1.2 Yb 0.56 Bi 1.2 Ca 0.015 Pb 0.005 Fe 4.3 Ga 0.7 Pt 0.005 O 12 .

また、鏡面研磨したRIG単結晶に、両面対空気の反射防止膜を配置して、ファラデー回転角を測定した結果、1550nm波長にて45度であった。   In addition, as a result of measuring the Faraday rotation angle by disposing a double-sided anti-reflection film on the mirror-polished RIG single crystal, the angle was 45 degrees at a wavelength of 1550 nm.

(比較例1)
融液原料の全体量基準で0.022質量%の酸化カルシウム(CaO)を添加し、790℃でRIG単結晶を育成したこと以外は実施例1と同様の条件で行った。
(Comparative Example 1)
Except that 0.022% by mass of calcium oxide (CaO) was added based on the total amount of the melt raw material, and the RIG single crystal was grown at 790 ° C., the same conditions as in Example 1 were performed.

育成したRIG単結晶は、3インチの直径及び540μmの膜厚を有していた。結晶育成速度は0.265μm/分であった。育成したRIG単結晶の全体の表面について顕微鏡観察したところ、RIGに割れ等の破損はみられなかったが、75個の結晶欠陥が確認された。   The grown RIG single crystal had a diameter of 3 inches and a film thickness of 540 μm. The crystal growth rate was 0.265 μm / min. When the entire surface of the grown RIG single crystal was observed with a microscope, no damage such as cracks was found in the RIG, but 75 crystal defects were confirmed.

育成したRIG単結晶を11mm角に切断して、基板を研削にて取り除き、化学機械研磨(CMP)法を用いて両面を鏡面研磨して、厚さ440μmのRIG単結晶を得た。   The grown RIG single crystal was cut into 11 mm square, the substrate was removed by grinding, and both surfaces were mirror-polished using a chemical mechanical polishing (CMP) method to obtain a RIG single crystal having a thickness of 440 μm.

鏡面研磨した11mm角のRIG単結晶について赤外顕微鏡にて内部のピット(結晶欠陥)を観察したところ、V字状のスワールが発生した3個の結晶欠陥が認められた。赤外顕微鏡観察写真を図2に示す。   When the internal pits (crystal defects) of the 11 mm square RIG single crystal that had been mirror-polished were observed with an infrared microscope, three crystal defects with V-shaped swirls were observed. An infrared microscope observation photograph is shown in FIG.

鏡面研磨したRIG単結晶を蛍光X線分析法により組成分析した結果、組成はTb1.2Yb0.57Bi1.2Ca0.029Pb0.004Fe4.2Ga0.8Pt0.03012であった。 As a result of analyzing the composition of the mirror-polished RIG single crystal by X-ray fluorescence analysis, the composition was Tb 1.2 Yb 0.57 Bi 1.2 Ca 0.029 Pb 0.004 Fe 4.2 Ga 0.8 Pt 0.030 O 12 .

また、鏡面研磨したRIG単結晶に、両面対空気の反射防止膜を配置して、ファラデー回転角を測定した結果、1550nm波長にて45度であった。   In addition, as a result of measuring the Faraday rotation angle by disposing a double-sided anti-reflection film on the mirror-polished RIG single crystal, the angle was 45 degrees at a wavelength of 1550 nm.

(比較例2)
融液原料の全体量基準で38質量%の酸化鉛(PbO)を添加し、765℃でRIG単結晶を育成したこと以外は実施例1と同様の条件で行った。
(Comparative Example 2)
Except that 38% by mass of lead oxide (PbO) was added based on the total amount of the melt raw material, and the RIG single crystal was grown at 765 ° C., the same conditions as in Example 1 were performed.

育成したRIG単結晶は、3インチの直径及び540μmの膜厚を有していた。結晶育成速度は0.265μm/分であった。育成したRIG単結晶の全体の表面について顕微鏡観察したところ、2個の結晶欠陥が確認されたが、RIGに割れ等の破損はみられなかった。   The grown RIG single crystal had a diameter of 3 inches and a film thickness of 540 μm. The crystal growth rate was 0.265 μm / min. When the entire surface of the grown RIG single crystal was observed with a microscope, two crystal defects were confirmed, but no damage such as cracks was found in the RIG.

育成したRIGを11mm角に切断して、基板を研削にて取り除き、化学機械研磨(CMP)法を用いて両面を鏡面研磨して、厚さ450μmのRIG単結晶を得た。   The grown RIG was cut into 11 mm square, the substrate was removed by grinding, and both surfaces were mirror-polished using a chemical mechanical polishing (CMP) method to obtain a RIG single crystal having a thickness of 450 μm.

鏡面研磨した11mm角のRIG単結晶について赤外顕微鏡にて内部のピット(結晶欠陥)を観察したところ、結晶欠陥は認められなかった。   When an internal pit (crystal defect) was observed with an infrared microscope for an 11 mm square RIG single crystal that had been mirror-polished, no crystal defect was observed.

鏡面研磨したRIG単結晶を蛍光X線分析法により組成分析した結果、組成はTb1.2Yb0.46Bi1.2Ca0.019Pb0.037Fe4.2Ga0.8Pt0.06712であった。 As a result of analyzing the composition of the mirror-polished RIG single crystal by X-ray fluorescence analysis, the composition was Tb 1.2 Yb 0.46 Bi 1.2 Ca 0.019 Pb 0.037 Fe 4.2 Ga 0.8 Pt 0.067 O 12 .

また、鏡面研磨したRIG単結晶に、両面対空気の反射防止膜を配置して、ファラデー回転角を測定した結果、1550nm波長にて45度であった。   In addition, as a result of measuring the Faraday rotation angle by disposing a double-sided anti-reflection film on the mirror-polished RIG single crystal, the angle was 45 degrees at a wavelength of 1550 nm.

(比較例3)
融液原料にCaOを添加せず、800℃でRIG単結晶を育成したこと以外は、実施例1と同様の条件で行った。
(Comparative Example 3)
The process was performed under the same conditions as in Example 1 except that no CaO was added to the melt raw material and a RIG single crystal was grown at 800 ° C.

育成したRIG単結晶は、3インチの直径及び530μmの膜厚を有していた。結晶育成速度は0.260μm/分であった。育成したRIG単結晶の全体の表面について顕微鏡観察したところ、22個の結晶欠陥が確認されたが、RIGに割れ等の破損はみられなかった。   The grown RIG single crystal had a diameter of 3 inches and a film thickness of 530 μm. The crystal growth rate was 0.260 μm / min. When the entire surface of the grown RIG single crystal was observed with a microscope, 22 crystal defects were confirmed, but no damage such as cracks was found in the RIG.

育成したRIG単結晶を11mm角に切断して、基板を研削にて取り除き、化学機械研磨(CMP)法を用いて両面を鏡面研磨して、厚さ450μmのRIG単結晶を得た。   The grown RIG single crystal was cut into 11 mm square, the substrate was removed by grinding, and both surfaces were mirror-polished using a chemical mechanical polishing (CMP) method to obtain a RIG single crystal having a thickness of 450 μm.

鏡面研磨した11mm角のRIG単結晶について赤外顕微鏡にて内部のピット(結晶欠陥)を観察したところ、1個の結晶欠陥が認められた。   When an internal pit (crystal defect) was observed with an infrared microscope with respect to a mirror-polished 11 mm square RIG single crystal, one crystal defect was observed.

鏡面研磨したRIG単結晶を蛍光X線分析法により組成分析した結果、組成はTb0.9Yb0.91Bi1.2Pb0.020Fe4.1Ga0.9Pt0.03812であった。 As a result of analyzing the composition of the mirror-polished RIG single crystal by X-ray fluorescence analysis, the composition was Tb 0.9 Yb 0.91 Bi 1.2 Pb 0.020 Fe 4.1 Ga 0.9 Pt 0.038 O 12 .

また、鏡面研磨したRIG単結晶に、両面対空気の反射防止膜を配置して、ファラデー回転角を測定した結果、1550nm波長にて45度であった。   In addition, as a result of measuring the Faraday rotation angle by disposing a double-sided anti-reflection film on the mirror-polished RIG single crystal, the angle was 45 degrees at a wavelength of 1550 nm.

(比較例4)
790℃でRIG単結晶を育成したこと以外は、実施例1と同様の条件で行った。
(Comparative Example 4)
The process was performed under the same conditions as in Example 1 except that the RIG single crystal was grown at 790 ° C.

育成したRIG単結晶は、3インチの直径及び530μmの膜厚を有していた。結晶育成速度は0.260μm/分であった。育成したRIG単結晶の全体の表面について顕微鏡観察したところ、RIGに割れ等の破損はみられなかったが、49個の結晶欠陥が確認された。   The grown RIG single crystal had a diameter of 3 inches and a film thickness of 530 μm. The crystal growth rate was 0.260 μm / min. When the entire surface of the grown RIG single crystal was observed with a microscope, no damage such as cracks was found in the RIG, but 49 crystal defects were confirmed.

育成したRIG単結晶を11mm角に切断して、基板を研削にて取り除き、化学機械研磨(CMP)法を用いて両面を鏡面研磨して、厚さ450μmのRIG単結晶を得た。   The grown RIG single crystal was cut into 11 mm square, the substrate was removed by grinding, and both surfaces were mirror-polished using a chemical mechanical polishing (CMP) method to obtain a RIG single crystal having a thickness of 450 μm.

鏡面研磨した11mm角のRIG単結晶について赤外顕微鏡にて内部のピット(結晶欠陥)を観察したところ、2個の結晶欠陥が認められた。   When an internal pit (crystal defect) was observed with an infrared microscope with respect to a mirror-polished 11 mm square RIG single crystal, two crystal defects were observed.

鏡面研磨したRIG単結晶を蛍光X線分析法により組成分析した結果、組成はTb1.2Yb0.50Bi1.2Ca0.015Pb0.010Fe4.3Ga0.7Pt0.03612であった。 As a result of analyzing the composition of the mirror-polished RIG single crystal by X-ray fluorescence analysis, the composition was Tb 1.2 Yb 0.50 Bi 1.2 Ca 0.015 Pb 0.010 Fe 4.3 Ga 0.7 Pt 0.036 O 12 .

また、鏡面研磨したRIG単結晶に、両面対空気の反射防止膜を配置して、ファラデー回転角を測定した結果、1550nm波長にて45度であった。   In addition, as a result of measuring the Faraday rotation angle by disposing a double-sided anti-reflection film on the mirror-polished RIG single crystal, the angle was 45 degrees at a wavelength of 1550 nm.

実施例1〜3及び比較例1〜4で育成したRIG単結晶の組成式あたりのPt、Pb、及びCaの量、RIG表面の顕微鏡観察で観察した結晶欠陥の個数、及び赤外顕微鏡にて観察した内部のピットの個数を、表1に示す。   By the amount of Pt, Pb, and Ca per composition formula of the RIG single crystal grown in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4, the number of crystal defects observed by microscopic observation of the RIG surface, and an infrared microscope Table 1 shows the number of internal pits observed.

Claims (4)

液相エピタキシャル法にて育成したビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶であって、
組成式あたり0.010以上0.100以下のCa、組成式あたり0より大きく0.005以下のPb、及び組成式あたり0より大きく0.010未満のPtを含
100μm以上の厚みを有するビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶。
A bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal grown by a liquid phase epitaxial method,
Composition 0.010 or more per equation 0.100 of Ca, the composition more than 0 0.005 following Pb per formula, and Pt of greater than 0.010 than 0 per formula seen including,
Bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal having a thickness of 100 μm or more .
前記ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶が、一般式:
(R3-x-a-bBixCaaPbb)(Fe5-y-cyPtc)O12
(式中、Rは、Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、及びLuから選択される少なくとも1種類の元素であり、Mは、Ga、Al、Ge、及びSiから選択される少なくとも1種類の元素であり、並びに0.8≦x≦1.4、0≦y≦1.0、0.010≦a≦0.100、0<b≦0.005、及び0<c<0.010である)で表される、請求項1に記載のビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶。
The bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal has the general formula:
(R 3-xab Bi x Ca a Pb b) (Fe 5-yc M y Pt c) O 12
(In the formula, R is at least one element selected from Y, La, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu; Is at least one element selected from Ga, Al, Ge, and Si, and 0.8 ≦ x ≦ 1.4, 0 ≦ y ≦ 1.0, 0.010 ≦ a ≦ 0.100 The bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal according to claim 1, wherein 0 <b ≦ 0.005 and 0 <c <0.010.
酸化鉛、酸化カルシウム、酸化ビスマス、及び酸化ホウ素を含むフラックス成分と、希土類酸化物及び酸化鉄を含むガーネット単結晶成分、とを含む融液原料をPtるつぼ内で加熱溶融させた融液に、単結晶基板を接触させて、液相エピタキシャル法により、前記単結晶基板上にビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶を育成する方法であって、
前記酸化カルシウムの添加量が、前記融液を構成する融液原料の全体量を基準として、0.007〜0.070質量%から選択される量であり、
前記酸化鉛の添加量が、前記融液を構成する融液原料の全体量を基準として、7〜14質量%から選択される量であり、
860℃〜905℃の範囲から選択される融液温度にて、ビスマス置換希土類鉄磁性ガーネット単結晶を100μm以上の厚みに育成すること、
を含む、製造方法。
In a melt obtained by heating and melting a melt raw material containing a flux component containing lead oxide, calcium oxide, bismuth oxide and boron oxide, and a garnet single crystal component containing rare earth oxide and iron oxide in a Pt crucible, A method of growing a bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal on the single crystal substrate by liquid phase epitaxial method by contacting the single crystal substrate,
The amount of calcium oxide added is an amount selected from 0.007 to 0.070 mass% based on the total amount of the melt raw material constituting the melt,
The amount of the lead oxide added is an amount selected from 7 to 14% by mass based on the total amount of the melt raw material constituting the melt,
Growing a bismuth-substituted rare earth iron magnetic garnet single crystal to a thickness of 100 μm or more at a melt temperature selected from a range of 860 ° C. to 905 ° C .;
Manufacturing method.
0.25μm/分以上の育成速度でビスマス置換希土類鉄磁性ガーネット単結晶の育成を行うことを含む、請求項に記載の製造方法。 The production method according to claim 3 , comprising growing a bismuth-substituted rare earth iron magnetic garnet single crystal at a growth rate of 0.25 μm / min or more.
JP2013068852A 2013-03-28 2013-03-28 Bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal and method for producing the same Expired - Fee Related JP5377785B1 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013068852A JP5377785B1 (en) 2013-03-28 2013-03-28 Bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal and method for producing the same
CN201410124127.4A CN104073879B (en) 2013-03-28 2014-03-28 Bismuth displacement rare earth iron garnet single crystal and its manufacture method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013068852A JP5377785B1 (en) 2013-03-28 2013-03-28 Bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal and method for producing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP5377785B1 true JP5377785B1 (en) 2013-12-25
JP2014189472A JP2014189472A (en) 2014-10-06

Family

ID=49955023

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013068852A Expired - Fee Related JP5377785B1 (en) 2013-03-28 2013-03-28 Bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal and method for producing the same

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP5377785B1 (en)
CN (1) CN104073879B (en)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105319659A (en) * 2015-11-23 2016-02-10 西南科技大学 Novel single-fiber three-dimensional optical assembly device
CN110820045B (en) * 2019-12-11 2021-11-05 上海应用技术大学 A kind of preparation method of rare earth garnet single crystal
JP7246340B2 (en) * 2020-04-21 2023-03-27 信越化学工業株式会社 Bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal, Faraday rotator, optical isolator, and method for producing bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal
JP7246341B2 (en) * 2020-04-21 2023-03-27 信越化学工業株式会社 Bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal, Faraday rotator, optical isolator, and method for producing bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal
CN114150365A (en) * 2021-10-29 2022-03-08 中国科学院福建物质结构研究所 Preparation method of large-size yttrium iron garnet single crystal
CN114318536B (en) * 2021-12-30 2023-04-07 长飞光纤光缆股份有限公司 Bismuth-doped rare earth iron garnet single crystal film, preparation method thereof and optical device

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005008457A (en) * 2003-06-17 2005-01-13 Tdk Corp Production method for magnetic garnet single crystal membrane
JP2006290643A (en) * 2005-04-07 2006-10-26 Granopt Ltd Method for manufacturing bismuth-substituted magnetic garnet film
JP2007153696A (en) * 2005-12-07 2007-06-21 Granopt Ltd Method for producing bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal
JP2011011944A (en) * 2009-07-02 2011-01-20 Granopt Ltd Faraday rotator

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005008457A (en) * 2003-06-17 2005-01-13 Tdk Corp Production method for magnetic garnet single crystal membrane
JP2006290643A (en) * 2005-04-07 2006-10-26 Granopt Ltd Method for manufacturing bismuth-substituted magnetic garnet film
JP2007153696A (en) * 2005-12-07 2007-06-21 Granopt Ltd Method for producing bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal
JP2011011944A (en) * 2009-07-02 2011-01-20 Granopt Ltd Faraday rotator

Also Published As

Publication number Publication date
CN104073879B (en) 2015-10-07
JP2014189472A (en) 2014-10-06
CN104073879A (en) 2014-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5377785B1 (en) Bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal and method for producing the same
EP2492378B1 (en) Oxide and magneto-optical device
JP5715271B2 (en) Single crystal, manufacturing method thereof, optical isolator, and optical processing device using the same
JP4702090B2 (en) Magnetic garnet single crystal and optical element using the same
JPWO2004067813A1 (en) Magnetic garnet single crystal film forming substrate, optical element, and method for manufacturing the same
JP5337011B2 (en) Terbium oxide crystals for magneto-optic elements
JPWO2003000963A1 (en) Substrate for forming magnetic garnet single crystal film, optical element and method for manufacturing the same
JP2004269305A (en) Substrate for forming magnetic garnet single crystal film, its manufacturing method, optical element, and its manufacturing method
JPWO2004070091A1 (en) Magnetic garnet single crystal film forming substrate, manufacturing method thereof, optical element and manufacturing method thereof
TW524900B (en) Material for bismuth substituted garnet thick film and a manufacturing method thereof
JP4802995B2 (en) Magnetic garnet single crystal and optical element using the same
JP4942029B2 (en) Magnetic garnet single crystal and method for producing the same
JP3816591B2 (en) Method for producing bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal film
JP4720730B2 (en) Optical element manufacturing method
JP2001044027A (en) Magnetic garnet single crystal and faraday rotator using the same
JP5697209B2 (en) Paramagnetic garnet single crystal and method for producing the same
JP2011225400A (en) Single crystal for magnetooptical element, and device using the single crystal
JP2018095486A (en) Bismuth-substituted type rare earth iron garnet crystal film, production method thereof, and optical isolator
JP6887678B2 (en) Method for manufacturing magnetic garnet single crystal
JP6819862B2 (en) Method for growing bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal film and bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal film
JP2004269283A (en) Substrate for forming magnetic garnet single crystal film, its manufacturing method, optical element, and its manufacturing method
JP4432896B2 (en) Method for producing garnet single crystal
JP5717207B2 (en) Terbium oxide crystals for magneto-optic elements
JP2005314135A (en) Method for producing bismuth-substitution type magnetic garnet membrane, and membrane
JP2007308327A (en) Manufacturing method of bismuth-substituted rare earth iron garnet thick film single crystal

Legal Events

Date Code Title Description
TRDD Decision of grant or rejection written
A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130924

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5377785

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees