JP5365507B2

JP5365507B2 - Langmuir-Blodgett film transfer substrate jig, Langmuir-Blodgett film transfer apparatus and Langmuir-Blodgett film transfer method

Info

Publication number: JP5365507B2
Application number: JP2009295133A
Authority: JP
Inventors: 宏泰立花; 啓篠塚; 秀年橋場
Original assignee: Oji Holdings Corp; Oji Paper Co Ltd
Current assignee: New Oji Paper Co Ltd; Oji Holdings Corp
Priority date: 2009-12-25
Filing date: 2009-12-25
Publication date: 2013-12-11
Anticipated expiration: 2029-12-25
Also published as: JP2011131185A

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate implement for langmuir-Blodgett film transfer increasing the productivity of langmuir-Blodgett film transfer. SOLUTION: The substrate implement 10 for langmuir-Blodgett film transfer fixes the substrate A to which the langmuir-Blodgett film formed on a water surface is transferred to expose one face of the substrate A, and includes a thin and long shaped barrier part 11 with the longitudinal direction horizontally disposed when in use, and a substrate holding part 12 suspended at the longitudinal-direction center of the barrier part 11. The barrier part 11 has a barrier face 11b containing a side face along the longitudinal direction of the barrier 11, while the substrate holding part 12 is configured to hold the substrate A so that the exposed face faces to the direction reverse to the barrier face 11b. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、ラングミュア・ブロジェット膜を基板に転写する際に使用するラングミュア・ブロジェット膜転写用基板ジグ、ラングミュア・ブロジェット膜転写装置およびラングミュア・ブロジェット膜転写方法に関する。 The present invention relates to a Langmuir-Blodgett film transfer substrate jig, a Langmuir-Blodgett film transfer apparatus, and a Langmuir-Blodgett film transfer method used when transferring a Langmuir-Blodgett film to a substrate.

従来から、基板の表面に微細加工を施して、半導体素子、光学素子あるいは光学素子用のモールド原版などを作製することが知られている。基板表面の微細加工方法としては、基板の表面にレジスト膜を設け、そのレジスト膜をパターン露光し、現像し、エッチングするフォトリソグラフィ法が広く知られている。特許文献１には、レジスト膜として単粒子膜を用いること、基板の表面に単粒子膜を設ける際にラングミュア・ブロジェット法を利用することが開示されている。
ラングミュア・ブロジェット法により基板の表面に単粒子膜を設ける際には、ラングミュア・ブロジェット法により単分子膜を転写させる装置をそのまま適用することができる。以下、ラングミュア・ブロジェット法により得られる単粒子膜および単分子膜のことを総称して、ラングミュア・ブロジェット膜という。
特許文献２には、基板の表面にラングミュア・ブロジェット膜を転写するラングミュア・ブロジェット膜転写装置であって、基板を浸漬させる水槽と、水槽を引き上げる搬送ユニットと、水槽中の液の表面に形成したラングミュア・ブロジェット膜を基板に向けて押し動かす移動バリア部とを備えるものが開示されている。
特許文献２に記載のラングミュア・ブロジェット膜転写装置では、水槽に基板を浸漬させた後に水面にラングミュア・ブロジェット膜を形成し、搬送ユニットを用いて液中から基板を引き上げながら、移動バリア部を移動させることによってラングミュア・ブロジェット膜を基板に向けて押すことにより、基板にラングミュア・ブロジェット膜を転写させていた。 Conventionally, it is known that a surface of a substrate is subjected to fine processing to produce a semiconductor element, an optical element, or a mold original plate for the optical element. As a fine processing method of the substrate surface, a photolithography method is widely known in which a resist film is provided on the surface of the substrate, the resist film is subjected to pattern exposure, development, and etching. Patent Document 1 discloses that a single particle film is used as a resist film and that a Langmuir-Blodgett method is used when a single particle film is provided on the surface of a substrate.
When a single particle film is provided on the surface of a substrate by the Langmuir-Blodgett method, an apparatus for transferring a monomolecular film by the Langmuir-Blodgett method can be applied as it is. Hereinafter, single particle films and monomolecular films obtained by the Langmuir-Blodgett method are collectively referred to as Langmuir-Blodgett films.
Patent Document 2 discloses a Langmuir-Blodgett film transfer device that transfers a Langmuir-Blodgett film to the surface of a substrate, in which a water tank in which the substrate is immersed, a transport unit that lifts the water tank, and the surface of the liquid in the water tank. An apparatus including a moving barrier section that pushes a formed Langmuir-Blodgett film toward a substrate is disclosed.
In the Langmuir-Blodgett film transfer apparatus described in Patent Document 2, a Langmuir-Blodgett film is formed on the water surface after the substrate is immersed in the water tank, and the transfer barrier unit is used while pulling up the substrate from the liquid using the transport unit. The Langmuir-Blodgett film was transferred to the substrate by pushing the Langmuir-Blodgett film toward the substrate by moving the.

特開２００９−３４６３０号公報JP 2009-34630 A 特開昭６３−５４９３３号公報JP-A-63-54933

特許文献２に記載のラングミュア・ブロジェット膜転写装置においては、ラングミュア・ブロジェット膜を基板に転写させた後、移動バリア部を水面に沿って元の位置に戻していた。その際、水面が揺れないようにゆっくりと動かすため、移動バリア部を元に戻す時間が長かった。そのため、連続的にラングミュア・ブロジェット膜を転写させる場合、１サイクルの時間が長くなっていた。また、特許文献２に記載のラングミュア・ブロジェット膜転写装置では、ラングミュア・ブロジェット膜を基板に転写させた後に、移動バリア部および水槽を洗浄する必要があった。したがって、特許文献２に記載のラングミュア・ブロジェット膜転写装置では、ラングミュア・ブロジェット膜転写の生産性が低く、量産に適したものではなかった。
そこで、本発明は、ラングミュア・ブロジェット膜転写の生産性を向上させることができるラングミュア・ブロジェット膜転写用基板ジグ、ラングミュア・ブロジェット膜転写装置およびラングミュア・ブロジェット膜転写方法を提供することを目的とする。 In the Langmuir / Blodgett film transfer apparatus described in Patent Document 2, after the Langmuir / Blodgett film is transferred to the substrate, the moving barrier part is returned to the original position along the water surface. At that time, in order to move slowly so that the water surface does not shake, it took a long time to return the moving barrier. Therefore, when the Langmuir-Blodgett film is continuously transferred, the time for one cycle is long. Further, in the Langmuir / Blodgett film transfer apparatus described in Patent Document 2, it is necessary to clean the moving barrier unit and the water tank after the Langmuir / Blodgett film is transferred to the substrate. Therefore, the Langmuir / Blodgett film transfer apparatus described in Patent Document 2 has a low productivity of Langmuir / Blodgett film transfer and is not suitable for mass production.
Accordingly, the present invention provides a substrate jig for Langmuir-Blodgett film transfer, Langmuir-Blodgett film transfer apparatus, and Langmuir-Blodgett film transfer method that can improve the productivity of Langmuir-Blodgett film transfer. With the goal.

｛１］水面上にて形成されたラングミュア・ブロジェット膜が転写される基板を、該基板の片面が露出するように固定するラングミュア・ブロジェット膜転写用基板ジグであって、
細長形状で、使用時に長手方向が水平方向に配置され、水面を仕切るバリア部と、該バリア部の長手方向中央に垂下された基板保持部とを備え、
バリア部は、バリア部の長手方向に沿った側面からなるバリア面を有し、
基板保持部は、基板を、露出させる面がバリア面と反対側の方向に向くように保持するように構成され、
バリア面は、水面の上に形成されたラングミュア・ブロジェット膜を水面に沿って押圧する面であることを特徴とするラングミュア・ブロジェット膜転写用基板ジグ。
［２］複数のラングミュア・ブロジェット膜転写用基板ジグと水槽と第１搬送ユニットと第２搬送ユニットとを備え、
前記ラングミュア・ブロジェット膜転写用基板ジグは、［１］に記載のラングミュア・ブロジェット膜転写用基板ジグであり、
前記水槽は、上端が水平である一対の平行な側壁を有し、該側壁の上端に前記ラングミュア・ブロジェット膜転写用基板ジグのバリア部の長手方向の両端部が載せられた際に、前記基板保持部および該基板保持部に保持された基板の全体を浸漬可能な深さを有し、
第１搬送ユニットは、少なくとも、前記ラングミュア・ブロジェット膜転写用基板ジグを、前記水槽の側壁にバリア部の長手方向の両端部を載せた状態で、前記バリア面を移動方向前面として水平方向に搬送するものであり、
第２搬送ユニットは、前記第１搬送ユニットにより搬送されたラングミュア・ブロジェット膜転写用基板ジグおよび該ラングミュア・ブロジェット膜転写用基板ジグに固定された基板を、少なくとも、水槽よりも高い位置に引き上げるように鉛直方向の上方に搬送するものであり、
前記第２搬送ユニットが一のラングミュア・ブロジェット膜転写用基板ジグを鉛直方向の上方に搬送する際、前記第１搬送ユニットが、他のラングミュア・ブロジェット膜転写用基板ジグを、前記一のラングミュア・ブロジェット膜転写用ジグに向かうように水平方向に搬送するように構成されていることを特徴とするラングミュア・ブロジェット膜転写装置。
［３］水槽には、水面より下側になる位置に注水可能な注水部が設けられている［２］に記載のラングミュア・ブロジェット膜転写装置。
［４］ラングミュア・ブロジェット膜転写用基板ジグの基板保持部が金属製であり、
水槽の下側に、前記第１搬送ユニットにより水平方向に搬送されるラングミュア・ブロジェット膜転写用基板ジグに同期して水平方向に移動する磁性体を備える［２］または［３］に記載のラングミュア・ブロジェット膜転写装置。
［５］水面が形成された水槽に、各々基板を保持した一対の［１］に記載のラングミュア・ブロジェット膜転写用基板ジグを、バリア面が同一方向を向くように離間して配置させることにより、一対のバリア部で挟まれた水面領域を形成する工程と、
前記水面領域に、ラングミュア・ブロジェット膜形成用の物質を含む展開液を供給してラングミュア・ブロジェット膜を形成する工程と、
ラングミュア・ブロジェット膜を形成した後、一方のラングミュア・ブロジェット膜転写用基板ジグを鉛直方向の上方に引き上げながら、その引き上げ最中のラングミュア・ブロジェット膜転写用基板ジグに向けて他方のラングミュア・ブロジェット膜転写用基板ジグを水平方向に移動させる工程とを有することを特徴とするラングミュア・ブロジェット膜転写方法。
［６］前記一方のラングミュア・ブロジェット膜転写用基板ジグを水面上に引き上げた後、前記他方のラングミュア・ブロジェット膜転写用基板ジグの水平方向の移動を継続して、バリア部により水面上に残留したラングミュア・ブロジェット膜を水槽から押し出して除去する工程を有する［５］に記載のラングミュア・ブロジェット膜転写方法。
［７］前記一方のラングミュア・ブロジェット膜転写用基板ジグを水面上に引き上げた後、水面より下側に注水する［５］または［６］に記載のラングミュア・ブロジェット膜転写方法。 {1] A Langmuir-Blodgett film transfer substrate jig for fixing a substrate onto which the Langmuir-Blodgett film formed on the water surface is transferred, so that one side of the substrate is exposed,
In elongated, longitudinally disposed in a horizontal direction during use, comprising: a partition Ru barrier section the water, and a substrate holder which is suspended in the longitudinal center of the barrier section,
The barrier portion has a barrier surface composed of side surfaces along the longitudinal direction of the barrier portion,
The substrate holding unit is configured to hold the substrate so that the exposed surface faces in a direction opposite to the barrier surface ,
The substrate jig for Langmuir-Blodgett film transfer , wherein the barrier surface is a surface that presses the Langmuir-Blodgett film formed on the water surface along the water surface .
[2] A plurality of Langmuir-Blodgett film transfer substrate jigs, a water tank, a first transport unit, and a second transport unit,
The Langmuir-Blodgett film transfer substrate jig is the Langmuir-Blodgett film transfer substrate jig described in [1],
The water tank has a pair of parallel side walls whose upper ends are horizontal, and when both ends in the longitudinal direction of the barrier portion of the Langmuir-Blodgett film transfer substrate jig are placed on the upper ends of the side walls, A depth that allows the entire substrate holding unit and the substrate held by the substrate holding unit to be immersed;
The first transport unit is configured so that at least the Langmuir / Blodgett film transfer substrate jig is placed horizontally on the side wall of the water tank, with both ends in the longitudinal direction of the barrier part placed on the front side in the moving direction. Is to be transported,
The second transport unit is configured to place the Langmuir / Blodgett film transfer substrate jig transported by the first transport unit and the substrate fixed to the Langmuir / Blodgett film transfer substrate jig at least higher than the water tank. It is transported upward in the vertical direction so as to pull up,
When the second transport unit transports one Langmuir / Blodgett film transfer substrate jig vertically upward, the first transport unit transfers another Langmuir / Blodgett film transfer substrate jig to the one A Langmuir / Blodgett film transfer apparatus configured to be conveyed in a horizontal direction toward a Langmuir / Blodgett film transfer jig.
[3] The Langmuir-Blodgett membrane transfer device according to [2], wherein the water tank is provided with a water injection unit capable of water injection at a position below the water surface.
[4] The substrate holding portion of the substrate jig for Langmuir-Blodgett film transfer is made of metal,
[2] or [3], comprising a magnetic body that moves in a horizontal direction in synchronization with a Langmuir-Blodgett film transfer substrate jig conveyed in the horizontal direction by the first conveyance unit below the water tank. Langmuir / Blodgett membrane transfer system.
[5] A pair of Langmuir / Blodgett film transfer substrate jigs according to [1], each holding a substrate, are placed in a water tank having a water surface so that the barrier surfaces are oriented in the same direction. A step of forming a water surface region sandwiched between a pair of barrier portions;
Supplying a developing solution containing a Langmuir-Blodgett film-forming substance to the water surface region to form a Langmuir-Blodgett film;
After forming the Langmuir / Blodgett film, pull up one Langmuir / Blodgett film transfer substrate jig in the vertical direction and move the other Langmuir / Blodgett film transfer substrate jig toward the other Langmuir / Blodgett film transfer substrate jig. A method for transferring a Langmuir-Blodgett film, comprising a step of moving a substrate jig for transferring a Blodgett film in a horizontal direction.
[6] After the one Langmuir / Blodgett film transfer substrate jig is pulled up on the water surface, the other Langmuir / Blodgett film transfer substrate jig is continuously moved in the horizontal direction so that the barrier portion can The Langmuir-Blodgett film transfer method according to [5], which comprises a step of removing the Langmuir-Blodgett film remaining on the water tank by extruding it from the water tank.
[7] The Langmuir / Blodgett film transfer method according to [5] or [6], in which the one Langmuir / Blodgett film transfer substrate jig is pulled up on the water surface and then injected below the water surface.

本発明のラングミュア・ブロジェット膜転写用基板ジグ、ラングミュア・ブロジェット膜転写装置およびラングミュア・ブロジェット膜転写方法によれば、ラングミュア・ブロジェット膜転写の生産性を向上させることができる。 According to the Langmuir-Blodgett film transfer substrate jig, Langmuir-Blodgett film transfer apparatus and Langmuir-Blodgett film transfer method of the present invention, the productivity of Langmuir-Blodgett film transfer can be improved.

本発明のラングミュア・ブロジェット膜転写装置の一実施形態を示す模式図である。1 is a schematic view showing an embodiment of a Langmuir-Blodgett film transfer apparatus of the present invention. 図１のラングミュア・ブロジェット膜転写装置を構成する水槽および該水槽に配置されたラングミュア・ブロジェット膜転写用基板ジグを示す上面図である。FIG. 2 is a top view showing a water tank constituting the Langmuir / Blodgett film transfer apparatus of FIG. 1 and a Langmuir / Blodgett film transfer substrate jig arranged in the water tank. 図１のラングミュア・ブロジェット膜転写装置を構成するラングミュア・ブロジェット膜転写用基板ジグを示す正面図である。FIG. 2 is a front view showing a Langmuir / Blodgett film transfer substrate jig constituting the Langmuir / Blodgett film transfer apparatus of FIG. 1. 図１のラングミュア・ブロジェット膜転写装置を構成するラングミュア・ブロジェット膜転写用基板ジグを示す側面図である。FIG. 2 is a side view showing a Langmuir / Blodgett film transfer substrate jig constituting the Langmuir / Blodgett film transfer apparatus of FIG. 1. 本発明のラングミュア・ブロジェット膜転写方法の一実施形態の第１工程を示す図である。It is a figure which shows the 1st process of one Embodiment of the Langmuir-Blodgett film transfer method of this invention. 本発明のラングミュア・ブロジェット膜転写方法の一実施形態の第２工程を示す図である。It is a figure which shows the 2nd process of one Embodiment of the Langmuir | Blodgett film transfer method of this invention. 本発明のラングミュア・ブロジェット膜転写方法の一実施形態の第３工程を示す図である。It is a figure which shows the 3rd process of one Embodiment of the Langmuir | Blodgett film transfer method of this invention. 本発明のラングミュア・ブロジェット膜転写方法の一実施形態の第４工程を示す図である。It is a figure which shows the 4th process of one Embodiment of the Langmuir | Blodgett film transfer method of this invention. 本発明のラングミュア・ブロジェット膜転写方法の一実施形態の第５工程を示す図である。It is a figure which shows the 5th process of one Embodiment of the Langmuir | Blodgett film transfer method of this invention. 本発明のラングミュア・ブロジェット膜転写方法の一実施形態の第６工程を示す図である。It is a figure which shows the 6th process of one Embodiment of the Langmuir | Blodgett film transfer method of this invention. 本発明のラングミュア・ブロジェット膜転写方法の一実施形態の第７工程を示す図である。It is a figure which shows the 7th process of one Embodiment of the Langmuir | Blodgett film transfer method of this invention. 本発明のラングミュア・ブロジェット膜転写方法の一実施形態の第８工程を示す図である。It is a figure which shows the 8th process of one Embodiment of the Langmuir | Blodgett film transfer method of this invention. 本発明のラングミュア・ブロジェット膜転写方法の一実施形態の第９工程を示す図である。It is a figure which shows the 9th process of one Embodiment of the Langmuir | Blodgett film transfer method of this invention. 本発明のラングミュア・ブロジェット膜転写方法の一実施形態の第１０工程を示す図である。It is a figure which shows the 10th process of one Embodiment of the Langmuir | Blodgett film transfer method of this invention.

＜ＬＢ膜転写装置＞
本発明のラングミュア・ブロジェット膜（以下、「ＬＢ膜」と略す。）転写装置の一実施形態について説明する。
図１，２に、本実施形態のＬＢ膜転写装置を示す。本実施形態のＬＢ膜転写装置１は、水面上にて形成されたＬＢ膜を円盤状の基板Ａに転写するものであり、基板Ａを固定する複数のＬＢ膜転写用基板ジグ１０と、水Ｗが満たされる直方体状の水槽２０と、ＬＢ膜転写用基板ジグ１０を搬送する第１搬送ユニット３０および第２搬送ユニット４０と、水槽２０の水面Ｗ_１に展開液を供給する展開液供給用ノズル５０と、ＬＢ膜転写前の基板Ａを保持したＬＢ膜転写用基板ジグ１０が配置される第１ラック６０と、ＬＢ膜転写後の基板Ａを保持したＬＢ膜転写用基板ジグ１０が配置される第２ラック７０と、水槽２０の下側に、水槽２０の長手方向に沿って移動可能に設けられた磁性体８０とを備える。 <LB film transfer device>
An embodiment of a Langmuir-Blodgett film (hereinafter abbreviated as “LB film”) transfer apparatus of the present invention will be described.
1 and 2 show the LB film transfer apparatus of this embodiment. The LB film transfer apparatus 1 of the present embodiment transfers an LB film formed on a water surface to a disk-shaped substrate A, and includes a plurality of LB film transfer substrate jigs 10 for fixing the substrate A, water A cuboid water tank 20 filled with W, a first transport unit 30 and a second transport unit 40 for transporting the LB film transfer substrate jig 10, and a developing liquid supply for supplying a developing liquid to the water surface W ₁ of the water tank 20. The nozzle 50, the first rack 60 on which the LB film transfer substrate jig 10 holding the substrate A before LB film transfer is arranged, and the LB film transfer substrate jig 10 holding the substrate A after LB film transfer are arranged. And a magnetic body 80 provided below the water tank 20 so as to be movable along the longitudinal direction of the water tank 20.

（ジグ）
本実施形態例のＬＢ膜転写用基板ジグ１０は、図３，４に示すように、基板Ａを、基板Ａの片面が露出するように固定するものであり、四角柱状のバリア部１１と、バリア部１１の長手方向中央に垂下された矩形板状の基板保持部１２とを備える。 (Jig)
As shown in FIGS. 3 and 4, the substrate jig 10 for LB film transfer according to the present embodiment fixes the substrate A so that one surface of the substrate A is exposed. And a rectangular plate-like substrate holding part 12 that hangs down in the center in the longitudinal direction of the barrier part 11.

［バリア部］
バリア部１１は、水槽２０の内部に満たされた水Ｗの水面Ｗ_１を仕切るものである。
本実施形態のバリア部１１は、使用時に長手方向が水平方向に配置され、鉛直方向に対して平行でバリア部１１の長手方向に沿った略平面状の側面からなるバリア面１１ｂを有する。バリア面１１ｂは、ＬＢ膜を基板Ａに転写する際に、水面Ｗ_１の上に形成されたＬＢ膜を水面Ｗ_１に沿って押圧する面となる。 [Barrier section]
The barrier unit 11 partitions the water surface W ₁ of the water W filled in the water tank 20.
The barrier unit 11 according to the present embodiment has a barrier surface 11b which is arranged in a horizontal direction in use and is formed of a substantially planar side surface parallel to the vertical direction and extending along the longitudinal direction of the barrier unit 11. Barrier surface 11b, at the time of transferring the LB film on the substrate A, the pressing surfaces along the LB film formed on the water surface W ₁ on the surface of the water W _1.

バリア部１１の材質としては特に制限されず、例えば、金属（例えば、アルミニウム、ステンレス等）、樹脂（例えば、ポリ塩化ビニル、ポリオレフィン、アクリル樹脂、フッ素樹脂）などが挙げられるが、基板Ａに転写するＬＢ膜の欠陥を抑制できることから、表面張力が低い樹脂（例えば、フッ素樹脂等）で被覆されていることが好ましい。表面張力が低い樹脂で被覆される内側の材料は、金属であってもよいし、樹脂であってもよい。
また、バリア部１１は、水槽２０の両側壁の上端面２１ａ，２２ａと確実に密着させるために、バリア部１１を両側壁の上端面２１ａ，２２ａに掛け渡した際に撓まない程度に剛直であることが好ましい。 The material of the barrier unit 11 is not particularly limited, and examples thereof include metals (for example, aluminum, stainless steel, etc.), resins (for example, polyvinyl chloride, polyolefin, acrylic resin, fluororesin), etc., but are transferred to the substrate A. Since it is possible to suppress defects in the LB film, it is preferable that the LB film is covered with a resin having a low surface tension (for example, a fluorine resin). The inner material to be coated with the resin having a low surface tension may be a metal or a resin.
In addition, the barrier portion 11 is rigid to the extent that it does not bend when the barrier portion 11 is stretched over the upper end surfaces 21a, 22a of both side walls in order to securely contact the upper end surfaces 21a, 22a of the both side walls of the water tank 20. It is preferable that

［基板保持部］
基板保持部１２は、基板Ａの露出させる面Ａ_１が、バリア面１１ｂと反対側の方向に向くように、基板Ａを保持する部材である。本実施形態における基板保持部１２は、金属製で、基板Ａよりも面積が大きくされている。
また、基板保持部１２は、屈曲可能なものでもよいし、剛直なものでもよい。屈曲可能であると、水槽２０中を移動させた際に水の抵抗を小さくできる。 [Substrate holder]
Substrate holding portion 12, the surface A ₁ for exposing the substrate A is so oriented in a direction opposite to the barrier surface 11b, it is a member for holding a substrate A. The substrate holding part 12 in this embodiment is made of metal and has a larger area than the substrate A.
The substrate holding part 12 may be bendable or rigid. If it is bendable, the resistance of water can be reduced when the water tank 20 is moved.

基板保持部１２の鉛直方向の長さは水槽２０の深さに応じて適宜選択され、水平方向の長さは水槽２０の幅に応じて適宜選択される。すなわち、ＬＢ膜を水面Ｗ_１に沿って押圧する際、一部のＬＢ膜がバリア面１１ｂ側からその裏側の面１１ｃ（以下、「裏面１１ｃ」という。）側に廻り込むことを防止するという点では、基板保持部１２の鉛直方向および水平方向の長さはできるだけ長いことが好ましい。特に、水平方向は、水槽２０の両側壁間の距離とほぼ等しいことが好ましい。その一方で、基板保持部１２の鉛直方向および水平方向の双方の長さが長すぎると、水の抵抗が大きくなる。そのため、例えば、水槽２０の深さが２００ｍｍである場合には、基板保持部１２の鉛直方向の長さは１００〜１５０ｍｍとすることが好ましい。
また、基板保持部１２は貫通孔が設けられていないことが好ましい。基板保持部１２に貫通孔が設けられていると、一部のＬＢ膜が貫通孔を通ってバリア面１１ｂ側から裏面１１ｃ側に移動することがある。ＬＢ膜の一部がバリア面１１ｂから裏面１１ｃに移動すると、当該ＬＢ膜転写用基板ジグ１０が保持している基板Ａ（次にＬＢ膜を転写する基板Ａ）を汚染することがある。 The length in the vertical direction of the substrate holding unit 12 is appropriately selected according to the depth of the water tank 20, and the length in the horizontal direction is appropriately selected according to the width of the water tank 20. That is, when pressed along an LB film on the water surface W _1, the surface 11c of the rear side portion of the LB film is the barrier surface 11b side (hereinafter, referred to as "back surface 11c '.) That prevents sneaks to side In this respect, it is preferable that the vertical and horizontal lengths of the substrate holder 12 are as long as possible. In particular, the horizontal direction is preferably substantially equal to the distance between both side walls of the water tank 20. On the other hand, if both the vertical and horizontal lengths of the substrate holding part 12 are too long, the resistance of water increases. Therefore, for example, when the depth of the water tank 20 is 200 mm, the length of the substrate holding part 12 in the vertical direction is preferably 100 to 150 mm.
Moreover, it is preferable that the board | substrate holding | maintenance part 12 is not provided with the through-hole. If the substrate holding part 12 is provided with a through hole, a part of the LB film may move from the barrier surface 11b side to the back surface 11c side through the through hole. When a part of the LB film moves from the barrier surface 11b to the back surface 11c, the substrate A held by the LB film transfer substrate jig 10 (the substrate A to which the LB film is transferred next) may be contaminated.

基板保持部１２における基板Ａの保持方法としては、例えば、基板Ａの周面の複数箇所をスプリングによって押圧して挟む方法、基板Ａの周面の複数個所をネジによって押圧して挟む方法、基板Ａをスプリングやネジ等によって基板保持部１２に押し付ける方法などが挙げられる。 As a holding method of the substrate A in the substrate holding part 12, for example, a method of pressing a plurality of locations on the peripheral surface of the substrate A with a spring, a method of pressing a plurality of locations on the peripheral surface of the substrate A with a screw, and a substrate, For example, a method of pressing A against the substrate holding part 12 with a spring, a screw or the like may be used.

バリア部１１と基板保持部１２の総質量は、水の抵抗に逆らって移動させる際に、バリア部１１と水槽２０の両側壁の上端面２１ａ，２２ａとを確実に密着させるために、１００ｇ以上であることが好ましく、２００ｇ以上であることが好ましい。ただし、重すぎると、引き上げが困難になるから、１０００ｇ以下であることが好ましい。 When the total mass of the barrier unit 11 and the substrate holding unit 12 is moved against the resistance of water, the total mass of the barrier unit 11 and the upper end surfaces 21a and 22a of both side walls of the water tank 20 is 100 g or more. It is preferable that it is 200g or more. However, if it is too heavy, it will be difficult to pull it up, so it is preferably 1000 g or less.

（水槽）
本実施形態で使用される水槽２０は、図２に示すように、水平面とされた上端面２１ａ，２２ａが形成された一対の平行な第１側壁２１および第２側壁２２と、第１側壁２１および第２側壁２２に対して垂直な第３側壁２３および第４側壁２４とを有する。
第１側壁２１と第２側壁２２との間隔は、第１側壁２１および第２側壁２２の各上端面２１ａ，２２ａにバリア部１１の長手方向の端部１１ｄ，１１ｅが載る間隔にされている。
また、水槽２０は、上端面２１ａ，２２ａにＬＢ膜転写用基板ジグ１０のバリア部１１の長手方向の両端部１１ｄ，１１ｄが載せられた際に、基板保持部１２の全体を浸漬可能な深さを有する。
水槽２０に、溢れる限界まで水を入れた際には、表面張力によって、水面Ｗ_１は盛り上がって、第１側壁２１の上端面２１ａおよび第２側壁２２の上端面２２ａよりも高い位置となる。したがって、上端面２１ａ，２２ａにバリア部１１の長手方向の端部１１ｄ，１１ｅを載せた際には、バリア部１１の一部が水の中に入ることになる。そのため、バリア面１１ｂ側の水面Ｗ_１にＬＢ膜を形成した際には、バリア面１１ｂは、ＬＢ膜の高さ方向の全体に接触することが可能になる。 (Aquarium)
As shown in FIG. 2, the water tank 20 used in this embodiment includes a pair of parallel first and second side walls 21 and 22 formed with upper end surfaces 21 a and 22 a that are horizontal surfaces, and a first side wall 21. And a third side wall 23 and a fourth side wall 24 perpendicular to the second side wall 22.
The interval between the first side wall 21 and the second side wall 22 is set such that the end portions 11 d and 11 e in the longitudinal direction of the barrier portion 11 are placed on the upper end surfaces 21 a and 22 a of the first side wall 21 and the second side wall 22. .
Further, the water tank 20 has a depth that allows the entire substrate holding portion 12 to be immersed when both end portions 11d and 11d in the longitudinal direction of the barrier portion 11 of the LB film transfer substrate jig 10 are placed on the upper end surfaces 21a and 22a. Have
The tub 20, when filled with water until full limit, surface tension, water W ₁ is raised, a higher position than the upper end face 22a of the upper end surface 21a and the second side wall 22 of the first side wall 21. Therefore, when the end portions 11d and 11e in the longitudinal direction of the barrier portion 11 are placed on the upper end surfaces 21a and 22a, a part of the barrier portion 11 enters the water. Therefore, when forming the LB film on the water surface W ₁ of the barrier face 11b side, the barrier surface 11b, it becomes possible to contact the entire height of the LB film.

水槽２０の材質としては特に制限されず、例えば、樹脂、金属などが挙げられるが、表面については、基板に転写するＬＢ膜の欠陥を抑制できることから、表面張力が低い樹脂（例えば、フッ素樹脂等）で被覆されていることが好ましい。表面張力が低い樹脂で被覆される内側の材料は、樹脂であってもよいし、金属であってもよい。 The material of the water tank 20 is not particularly limited, and examples thereof include resins and metals. However, since the surface can suppress defects in the LB film transferred to the substrate, a resin having a low surface tension (for example, a fluororesin) ). The inner material to be coated with the resin having a low surface tension may be a resin or a metal.

本実施形態で使用される水槽２０においては、水面Ｗ_１より下側になる位置に注水可能な注水部２５および排水部２６が設けられている。
注水部２５は、開閉弁２５ｂが設置された水供給管２５ａと、水供給管２５ａに接続された水タンク２５ｃとを有する。
排水部２６は、開閉弁２６ｂが設置され、水槽２０の外部に接続された水排出管２６ａを有する。排水部２６は、水槽２０から水を抜く際に使用される。
また、水槽２０の下側には、水槽２０から溢れ出た水および展開液を受けるための、受け容器２７が配置されている。 In water tub 20 used in this embodiment, water injection can be water injection section 25 and the water drainage portions 26 in the position where the lower the water surface W ₁ is provided.
The water injection unit 25 includes a water supply pipe 25a in which an on-off valve 25b is installed, and a water tank 25c connected to the water supply pipe 25a.
The drainage unit 26 includes a water discharge pipe 26 a that is provided with an on-off valve 26 b and is connected to the outside of the water tank 20. The drainage part 26 is used when water is drained from the water tank 20.
Further, a receiving container 27 for receiving the water overflowing from the water tank 20 and the developing liquid is disposed below the water tank 20.

（第１搬送ユニット）
本実施形態で使用される第１搬送ユニット３０は、バリア部１１を把持する把持部３１と、把持部３１を水平方向および鉛直方向に動かすことが可能なアーム部３２とを有する。
第１搬送ユニット３０は、ＬＢ膜転写用基板ジグ１０を、第１ラック６０から水槽２０の第３側壁２３側に、バリア部１１の長手方向の端部１１ｄ，１１ｅが水槽２０の上端面２１ａ，２２ａに載るように搬送するようになっている。次に、水槽２０の上端面２１ａ，２２ａにバリア部１１の長手方向の端部１１ｄ，１１ｅが載せられたＬＢ膜転写用基板ジグ１０を、バリア面１１ｂを移動方向前面とし、バリア部１１が上端面２１ａ，２２ａを摺動するように水槽２０の第４側壁２４側に向けて搬送するようになっている。その後、ＬＢ膜転写用基板ジグ１０を水槽２０内に残して、第１ラック６０に戻り、次のＬＢ膜転写用基板ジグ１０を同様に搬送するようになっている。 (First transfer unit)
The first transport unit 30 used in the present embodiment includes a grip portion 31 that grips the barrier portion 11 and an arm portion 32 that can move the grip portion 31 in the horizontal direction and the vertical direction.
The first transport unit 30 is configured such that the LB film transfer substrate jig 10 is moved from the first rack 60 to the third side wall 23 side of the water tank 20, and the longitudinal ends 11 d and 11 e of the barrier section 11 are the upper end surface 21 a of the water tank 20. , 22a to be carried. Next, the LB film transfer substrate jig 10 in which the end portions 11d and 11e in the longitudinal direction of the barrier portion 11 are placed on the upper end surfaces 21a and 22a of the water tank 20, the barrier surface 11b is the front surface in the moving direction, and the barrier portion 11 is It conveys toward the 4th side wall 24 side of the water tank 20 so that upper end surface 21a, 22a may slide. Thereafter, the substrate jig 10 for LB film transfer is left in the water tank 20 and returned to the first rack 60, and the next substrate jig 10 for LB film transfer is similarly transported.

（第２搬送ユニット）
本実施形態で使用される第２搬送ユニット４０は、バリア部１１を把持する把持部４１と、把持部４１を水平方向および鉛直方向に動かすことが可能なアーム部４２とを有する。
第２搬送ユニット４０は、第１搬送ユニット３０により上記のように水平方向に搬送されたＬＢ膜転写用基板ジグ１０を、水槽２０よりも高い位置に引き上げるように鉛直方向の上方に搬送できるようになっている。次に、引き上げたＬＢ膜転写用基板ジグ１０を第２ラック７０に搬送できるようになっている。その後、第２ラック７０にＬＢ膜転写用基板ジグ１０を置いて、第１搬送ユニット３０により上記のように水平方向に搬送された次のＬＢ膜転写用基板ジグ１０を同様に搬送するようになっている。 (Second transport unit)
The second transport unit 40 used in the present embodiment includes a grip portion 41 that grips the barrier portion 11 and an arm portion 42 that can move the grip portion 41 in the horizontal direction and the vertical direction.
The second transport unit 40 can transport the LB film transfer substrate jig 10 transported in the horizontal direction by the first transport unit 30 as described above upward in the vertical direction so as to be lifted to a position higher than the water tank 20. It has become. Next, the pulled LB film transfer substrate jig 10 can be transported to the second rack 70. Thereafter, the LB film transfer substrate jig 10 is placed on the second rack 70, and the next LB film transfer substrate jig 10 conveyed in the horizontal direction by the first conveyance unit 30 is similarly conveyed. It has become.

第２搬送ユニット４０による第４側壁２４側のＬＢ膜転写用基板ジグ１０の上方への引き上げは、第１搬送ユニット３０による第３側壁２３側のＬＢ膜転写用基板ジグ１０の水平移動と同時に行われる。 The upward movement of the LB film transfer substrate jig 10 on the fourth side wall 24 side by the second transport unit 40 is performed simultaneously with the horizontal movement of the LB film transfer substrate jig 10 on the third side wall 23 side by the first transport unit 30. Done.

（展開液供給用ノズル）
本実施形態で使用される展開液供給用ノズル５０は、展開液供給用ノズル５０が１個の吐出口５１を有し、展開液供給配管５１ａを介して展開液タンク（図示せず）に接続されている。また、本実施形態で使用される展開液供給用ノズル５０は、展開液を供給する際には水面Ｗ_１の上側に配置され、展開液を供給しない際には水面Ｗ_１の上側から退避できるように移動可能になっている。 (Nozzle for developing solution supply)
The developing solution supply nozzle 50 used in the present embodiment has a single discharge port 51 connected to a developing solution tank (not shown) via the developing solution supply pipe 51a. Has been. Further, the developing liquid supply nozzle 50 used in this embodiment is disposed on the upper side of the water surface W ₁ is the time of supplying the developing solution, can be retracted from the upper side of the water surface W ₁ is when not supplying developing liquid So that it can move.

本実施形態で使用される展開液供給用ノズル５０は、吐出口５１から、水槽２０の上端面２１ａ，２２ａに、第１搬送ユニット３０に把持されたＬＢ膜転写用基板ジグ１０と、第２搬送ユニット４０に把持されたＬＢ膜転写用基板ジグ１０とを離間して配置させることにより形成された水面領域Ｒ（図２参照）の複数個所に、展開液を供給するようになっている。 The developing solution supply nozzle 50 used in the present embodiment includes an LB film transfer substrate jig 10 held by the first transport unit 30 from the discharge port 51 to the upper end surfaces 21 a and 22 a of the water tank 20, and a second one. The developing solution is supplied to a plurality of locations in the water surface region R (see FIG. 2) formed by disposing the LB film transfer substrate jig 10 held by the transport unit 40 apart from each other.

（第１ラック）
本実施形態で使用される第１ラック６０は、バリア部１１の長手方向の端部１１ｄ，１１ｅを載せるための２本のレール６１が平行に設けられ、第３側壁２３より外側の部分の上方にて水平に設置されている。 (First rack)
In the first rack 60 used in the present embodiment, two rails 61 for placing the end portions 11 d and 11 e in the longitudinal direction of the barrier portion 11 are provided in parallel, and above the portion outside the third side wall 23. Is installed horizontally.

（第２ラック）
本実施形態で使用される第２ラック７０は、バリア部１１の長手方向の端部１１ｄ，１１ｅを載せるための２本のレール７１が平行に設けられ、第４側壁２４より外側の部分の上方にて水平に設置されている。 (Second rack)
In the second rack 70 used in the present embodiment, two rails 71 for placing the end portions 11 d and 11 e in the longitudinal direction of the barrier portion 11 are provided in parallel, and above the portion outside the fourth side wall 24. Is installed horizontally.

（磁性体）
磁性体８０は、金属で形成された基板保持部１２の下端を磁気的に吸引して、移動中の水の抵抗でＬＢ膜転写用基板ジグ１０が傾くことを防止し、バリア部１１と水槽２０の上端面２１ａ，２２ａとの密着性を向上させるものである。
本実施形態では、磁性体８０は、例えば、ボールねじ等を有する水平運動機構に取り付けられて、第１搬送ユニット３０により水平方向に搬送されるＬＢ膜転写用基板ジグ１０に同期して水平方向に移動可能になっている。 (Magnetic material)
The magnetic body 80 magnetically attracts the lower end of the substrate holding portion 12 made of metal to prevent the LB film transfer substrate jig 10 from being tilted by the resistance of the moving water, and the barrier portion 11 and the water tank. The adhesiveness with 20 upper end surfaces 21a and 22a is improved.
In the present embodiment, the magnetic body 80 is attached to a horizontal movement mechanism having, for example, a ball screw or the like, and is synchronized with the LB film transfer substrate jig 10 conveyed in the horizontal direction by the first conveyance unit 30 in the horizontal direction. Can be moved to.

＜ＬＢ膜転写方法＞
本実施形態のＬＢ膜転写方法について説明する。
本実施形態のＬＢ膜転写方法は、ＬＢ膜転写装置１を用いたＬＢ膜転写方法であり、下記（ａ）〜（ｄ）の工程を有する。
（ａ）各々基板を保持した一対のＬＢ膜転写用基板ジグ１０，１０を、バリア面１１ｂが同一方向を向くように離間して配置させることにより、一対のバリア部１１，１１で挟まれた水面領域を形成する工程（水面領域形成工程）
（ｂ）水面領域Ｒに展開液を供給してＬＢ膜を形成する工程（ＬＢ膜形成工程）
（ｃ）ＬＢ膜形成後、第４側壁２４側のＬＢ膜転写用基板ジグを鉛直方向の上方に引き上げながら、その引き上げ最中のＬＢ膜転写用基板ジグ１０に向けて第３側壁２３側のＬＢ膜転写用基板ジグ１０を水平方向に移動させる工程（転写工程）
（ｄ）第４側壁２４側のＬＢ膜転写用基板ジグ１０を水面Ｗ_１上に引き上げた後、第３側壁２３側からのＬＢ膜転写用基板ジグ１０の水平方向の移動を継続して、バリア部１１により水面Ｗ１上に残留したＬＢ膜を水槽２０から押し出して除去する工程（洗浄工程）
以下に、上記（ａ）〜（ｄ）の工程を有するＬＢ膜転写方法の一例を示す。
本例は、下記の第１工程Ｓ１〜第１０工程Ｓ１０を繰り返すＬＢ膜転写方法であり、第４工程が（ａ）の工程、第５工程が（ｂ）の工程、第６工程が（ｃ）の工程、第７工程が（ｄ）の工程となっている。 <LB film transfer method>
The LB film transfer method of this embodiment will be described.
The LB film transfer method of this embodiment is an LB film transfer method using the LB film transfer apparatus 1 and includes the following steps (a) to (d).
(A) A pair of LB film transfer substrate jigs 10 and 10 each holding a substrate are arranged so as to be spaced apart so that the barrier surface 11b faces the same direction, thereby being sandwiched between the pair of barrier portions 11 and 11. Process for forming water surface area (water surface area forming process)
(B) A step of supplying a developing solution to the water surface region R to form an LB film (LB film forming step)
(C) After the LB film is formed, the LB film transfer substrate jig on the fourth side wall 24 side is lifted upward in the vertical direction, while the LB film transfer substrate jig 10 being lifted is moved toward the third side wall 23 side. Step of moving the LB film transfer substrate jig 10 in the horizontal direction (transfer step)
(D) after pulling the LB film transfer substrate jig 10 of the fourth side wall 24 side on the water surface W _1, and continues to move in the horizontal direction of the LB film transfer substrate jig 10 from the third side wall 23 side, A process of removing the LB film remaining on the water surface W1 by the barrier unit 11 by pushing it out of the water tank 20 (cleaning process).
Below, an example of the LB film | membrane transfer method which has the process of said (a)-(d) is shown.
This example is an LB film transfer method in which the following first step S1 to tenth step S10 are repeated. The fourth step is the step (a), the fifth step is the step (b), and the sixth step is (c ) And the seventh step are the steps (d).

（第１工程Ｓ１）
［第１搬送ユニット］
第１ラック６０には、あらかじめ複数のＬＢ膜転写用基板ジグ１０を、バリア面１１ｂが第２ラック７０側に向くように配置しておく。
図５に示すように、そのうちの１つのＬＢ膜転写用基板ジグ１０のバリア部１１を把持部３１により把持する。
［第２搬送ユニット］
ＬＢ膜転写用基板ジグ１０を把持していない把持部４１を、アーム部４２によって鉛直方向の上方に動かして第２ラック７０から少し上昇させる。 (First step S1)
[First transport unit]
In the first rack 60, a plurality of LB film transfer substrate jigs 10 are arranged in advance so that the barrier surface 11b faces the second rack 70 side.
As shown in FIG. 5, the barrier portion 11 of one of the LB film transfer substrate jigs 10 is gripped by the grip portion 31.
[Second transport unit]
The grip portion 41 that does not grip the LB film transfer substrate jig 10 is moved upward in the vertical direction by the arm portion 42 and slightly lifted from the second rack 70.

［第４側壁側のＬＢ膜転写用基板ジグ］
水槽２０の第４側壁２４側には、後述する第６工程Ｓ６にて搬送され、第７〜第１０工程Ｓ７〜Ｓ１０にて動かされなかったＬＢ膜転写用基板ジグ１０がそのまま配置されている。 [Substrate jig for LB film transfer on the fourth side wall]
On the fourth side wall 24 side of the water tank 20, the substrate jig 10 for LB film transfer that has been transported in the sixth step S6 described later and not moved in the seventh to tenth steps S7 to S10 is arranged as it is. .

（第２工程Ｓ２）
［第１搬送ユニット］
図６に示すように、ＬＢ膜転写用基板ジグ１０を把持した把持部３１を、アーム部３２によって鉛直方向の上方に動かして第１ラック６０から少し上昇させる。これにより、ＬＢ膜転写用基板ジグ１０を第１ラック６０から少し持ち上げる。
［第２搬送ユニット］
把持部４１を第２ラック７０から少し上昇させた状態のまま待機する。 (Second step S2)
[First transport unit]
As shown in FIG. 6, the grip portion 31 that grips the LB film transfer substrate jig 10 is moved upward in the vertical direction by the arm portion 32 and slightly lifted from the first rack 60. As a result, the LB film transfer substrate jig 10 is slightly lifted from the first rack 60.
[Second transport unit]
It waits in the state where the grip 41 is slightly raised from the second rack 70.

（第３工程Ｓ３）
［第１搬送ユニット］
図７に示すように、ＬＢ膜転写用基板ジグ１０を把持した把持部３１をアーム部３２によって第２ラック７０側に水平に動かして、ＬＢ膜転写用基板ジグ１０を水槽２０の第３側壁２３側の上方に配置する。
［第２搬送ユニット］
把持部４１を、アーム部４２によって水平方向に動かして、水槽２０の第４側壁２４側の上方に配置する。 (Third step S3)
[First transport unit]
As shown in FIG. 7, the grip portion 31 that grips the LB film transfer substrate jig 10 is moved horizontally to the second rack 70 side by the arm portion 32, and the LB film transfer substrate jig 10 is moved to the third side wall of the water tank 20. It is arranged above the 23 side.
[Second transport unit]
The grip portion 41 is moved in the horizontal direction by the arm portion 42 and is disposed above the fourth side wall 24 side of the water tank 20.

（第４工程Ｓ４）
［第１搬送ユニット］
ＬＢ膜転写用基板ジグ１０を把持した把持部３１を、アーム部３２によって鉛直方向の下方に動かして、ＬＢ膜転写用基板ジグ１０を、水槽２０の第３側壁２３側に向けて下降させる。これにより、バリア部１１の長手方向の各端部１１ｄ，１１ｅを上端面２１ａおよび上端面２２ａ（図２参照）に載せ、図８に示すように、基板保持部１２の全体を水中に浸漬させる。このとき、水面Ｗ_１は表面張力により上端面より盛り上がっているため、バリア部１１の一部も水の中に入る。
上記のようにＬＢ膜転写用基板ジグ１０を搬送することにより、該ＬＢ膜転写用基板ジグ１０と、第４側壁２４側に配置されたＬＢ膜転写用基板ジグ１０とが、バリア面１１ｂが同一方向を向くように離間して配置される。また、一対のバリア部１１，１１によって水面領域Ｒが形成される。
［第２搬送ユニット］
把持部４１を、アーム部４２によって鉛直方向の下方に動かして、水槽２０に向けて下降させる。次いで、把持部４１によって、水槽２０の第４側壁２４側に配置されたＬＢ膜転写用基板ジグ１０を把持する。 (Fourth step S4)
[First transport unit]
The grip portion 31 that grips the LB film transfer substrate jig 10 is moved downward in the vertical direction by the arm portion 32, and the LB film transfer substrate jig 10 is lowered toward the third side wall 23 of the water tank 20. Thus, the end portions 11d and 11e in the longitudinal direction of the barrier unit 11 are placed on the upper end surface 21a and the upper end surface 22a (see FIG. 2), and the entire substrate holding unit 12 is immersed in water as shown in FIG. . At this time, since the water surface W ₁ is raised from the upper surface by the surface tension, a part of the barrier section 11 enters into the water.
By transporting the LB film transfer substrate jig 10 as described above, the LB film transfer substrate jig 10 and the LB film transfer substrate jig 10 arranged on the fourth side wall 24 side have a barrier surface 11b. They are spaced apart so as to face the same direction. Further, a water surface region R is formed by the pair of barrier portions 11 and 11.
[Second transport unit]
The grip part 41 is moved downward in the vertical direction by the arm part 42 and lowered toward the water tank 20. Next, the holding part 41 holds the LB film transfer substrate jig 10 arranged on the fourth side wall 24 side of the water tank 20.

（第５工程Ｓ５）
［第１搬送ユニット］
図９に示すように、把持部３１からＬＢ膜転写用基板ジグ１０のバリア部１１を開放する。
［第２搬送ユニット］
把持部４１によってＬＢ膜転写用基板ジグ１０を把持したまま待機する。
［展開液の供給］
展開液供給用ノズル５０を用いて、展開液を展開液タンクから、水面領域Ｒの上に供給してＬＢ膜を形成する。
展開液は、ＬＢ膜ができるだけ均一になるように水面領域Ｒに供給することが好ましい。展開液供給用ノズル５０を用いた展開液の供給では、均一な供給にならないこともある。展開液が均一に供給されない場合には、水面Ｗ_１上のＬＢ膜に欠陥部が生じるおそれがあるため、水面Ｗ_１上のＬＢ膜の欠陥部をセンサにより検知し、欠陥部が生じた場合には、展開液を追加供給することが好ましい。
また、展開液の供給速度は、各ＬＢ膜形成用物質が２次元に最密充填したＬＢ膜が得られやすいことから、０．００１〜０．０１ｍｌ／秒とすることが好ましい。 (5th process S5)
[First transport unit]
As shown in FIG. 9, the barrier portion 11 of the LB film transfer substrate jig 10 is opened from the grip portion 31.
[Second transport unit]
The holding unit 41 stands by while holding the LB film transfer substrate jig 10.
[Supply of developing solution]
Using the developing solution supply nozzle 50, the developing solution is supplied from the developing solution tank onto the water surface region R to form an LB film.
The developing solution is preferably supplied to the water surface region R so that the LB film is as uniform as possible. The supply of the developing liquid using the developing liquid supply nozzle 50 may not be a uniform supply. When the developing liquid is not uniformly supplied, there is a possibility that defect occurs in the LB film on the water surface W _1, a defect of the LB film on the water surface W ₁ is detected by a sensor, when a defective portion is generated It is preferable to additionally supply a developing solution.
Further, the supply rate of the developing solution is preferably 0.001 to 0.01 ml / second because an LB film in which each LB film forming substance is two-dimensionally closely packed can be easily obtained.

（第６工程Ｓ６）
［第１搬送ユニット］
図１０に示すように、アーム部３２を第４側壁２４側に水平方向に動かし、把持部３１によって裏面１１ｃを押すことにより、第３側壁２３側のＬＢ膜転写用基板ジグ１０を、第１側壁２１の上端面２１ａおよび第２側壁２２の上端面２２ａ（図２参照）に沿って、第４側壁２４側に向けて搬送する。また、ＬＢ膜転写用基板ジグ１０の移動に同期するように磁性体８０を移動させる。
このときのＬＢ膜転写用基板ジグ１０の移動速度は、膜の欠陥を防止する点では、できるだけ遅いことが好ましい。しかし、移動速度が遅すぎると、生産性が低下するおそれがある。このようなことから、ＬＢ膜転写用基板ジグ１０の移動速度は、具体的には、１〜１００ｍｍ／分とすることが好ましい。
［第２搬送ユニット］
第４側壁２４側のＬＢ膜転写用基板ジグ１０を把持した把持部４１を、アーム部４２によって鉛直方向の上方に動かして、ＬＢ膜転写用基板ジグ１０を水槽２０の上に引き上げる。
このときのＬＢ膜転写用基板ジグ１０の移動速度は、膜の欠陥を防止する点では、できるだけ遅いことが好ましい。しかし、移動速度が遅すぎると、生産性が低下するおそれがある。このようなことから、ＬＢ膜転写用基板ジグ１０の移動速度は、具体的には、１〜１００ｍｍ／分とすることが好ましい。
［第６工程Ｓ６での作用］
第６工程Ｓ６では、第２搬送ユニット４０により引き上げ最中の第４側壁２４側のＬＢ膜転写用基板ジグ１０に向けて、第３側壁２３側のＬＢ膜転写用基板ジグ１０を水平方向に搬送することにより、引き上げ最中の基板Ａに、第５工程Ｓ５にて形成したＬＢ膜を、第３側壁２３側のＬＢ膜転写用基板ジグ１０のバリア部１１によって押圧して付着させることができる。したがって、基板ＡにＬＢ膜を転写させることができる。
また、ＬＢ膜転写用基板ジグ１０に移動に同期する磁性体８０の磁力の作用によって、金属製の基板保持部１２の揺れを抑えることができる。そのため、水面Ｗ_１の振動を防止でき、ＬＢ膜の欠陥をより防止できる。 (6th process S6)
[First transport unit]
As shown in FIG. 10, the arm part 32 is moved horizontally to the fourth side wall 24 side, and the back surface 11c is pushed by the holding part 31, whereby the LB film transfer substrate jig 10 on the third side wall 23 side is moved to the first side. It conveys toward the 4th side wall 24 side along the upper end surface 21a of the side wall 21, and the upper end surface 22a (refer FIG. 2) of the 2nd side wall 22. As shown in FIG. Further, the magnetic body 80 is moved so as to synchronize with the movement of the LB film transfer substrate jig 10.
At this time, the moving speed of the LB film transfer substrate jig 10 is preferably as slow as possible in terms of preventing film defects. However, if the moving speed is too slow, the productivity may decrease. Therefore, specifically, the moving speed of the LB film transfer substrate jig 10 is preferably set to 1 to 100 mm / min.
[Second transport unit]
The holding part 41 that holds the LB film transfer substrate jig 10 on the fourth side wall 24 side is moved upward in the vertical direction by the arm part 42, and the LB film transfer substrate jig 10 is pulled up onto the water tank 20.
At this time, the moving speed of the LB film transfer substrate jig 10 is preferably as slow as possible in terms of preventing film defects. However, if the moving speed is too slow, the productivity may decrease. Therefore, specifically, the moving speed of the LB film transfer substrate jig 10 is preferably set to 1 to 100 mm / min.
[Operation in the sixth step S6]
In the sixth step S6, the LB film transfer substrate jig 10 on the third side wall 23 side is horizontally moved toward the LB film transfer substrate jig 10 on the fourth side wall 24 side being pulled up by the second transport unit 40. By carrying, the LB film formed in the fifth step S5 can be pressed and adhered to the substrate A being pulled by the barrier portion 11 of the LB film transfer substrate jig 10 on the third side wall 23 side. it can. Therefore, the LB film can be transferred to the substrate A.
Further, the swing of the metal substrate holder 12 can be suppressed by the action of the magnetic force of the magnetic body 80 synchronized with the movement of the LB film transfer substrate jig 10. Therefore, it is possible to prevent vibration of the water surface W _1, it can be further prevented defects LB film.

（第７工程Ｓ７）
［第１搬送ユニット］
図１１に示すように、第６工程Ｓ６に引き続き、ＬＢ膜転写用基板ジグ１０を、第１側壁２１の上端面２１ａおよび第２側壁２２の上端面２２ａに沿って移動させて、ＬＢ膜転写用基板ジグ１０のバリア部１１が第４側壁２４側の端部に達するまで搬送する。
［第２搬送ユニット］
第６工程Ｓ６に引き続き、ＬＢ膜転写用基板ジグ１０を引き上げて、ＬＢ膜転写用基板ジグ１０のバリア部１１が第２ラック７０よりも少し高い位置になるまで搬送する。さらに、把持部４１をアーム部４２によって第２ラック７０側の水平方向に動かして、ＬＢ膜転写用基板ジグ１０を第２ラック７０側に移動させる。
［注水］
上記のようにＬＢ膜転写用基板ジグ１０を搬送すると同時に、水供給管２５ａの開閉弁２５ｂを開いて水タンク２５ｃより、水面Ｗ_１より下側に注水する。
［第７工程Ｓ７での作用］
第７工程Ｓ７では、ＬＢ膜転写用基板ジグ１０のバリア部１１によって、ＬＢ膜転写用基板ジグ１０より第４側壁２４側の水面Ｗ_１を、水槽２０の第１側壁２１、第２側壁２２および第４側壁２４側から押し流すことができる。したがって、基板Ａに転写されずに水面Ｗ_１上に残留したＬＢ膜を水面Ｗ_１から押し流すことができる。また、注水部２５を用いて水面Ｗ_１より下側に注水するため、水面Ｗ_１上から流し出すことができる。これらのことから、残留したＬＢ膜を水面Ｗ_１上から除去することができる。
なお、水槽２０から流れ出た水およびＬＢ膜は受け容器２７により受け留められる。 (Seventh step S7)
[First transport unit]
As shown in FIG. 11, following the sixth step S6, the LB film transfer substrate jig 10 is moved along the upper end surface 21a of the first side wall 21 and the upper end surface 22a of the second side wall 22 to transfer the LB film transfer. The substrate jig 10 is transported until the barrier portion 11 reaches the end on the fourth side wall 24 side.
[Second transport unit]
Subsequent to the sixth step S 6, the LB film transfer substrate jig 10 is lifted and conveyed until the barrier portion 11 of the LB film transfer substrate jig 10 is positioned slightly higher than the second rack 70. Further, the grip portion 41 is moved in the horizontal direction on the second rack 70 side by the arm portion 42 to move the LB film transfer substrate jig 10 to the second rack 70 side.
[Water injection]
At the same time conveying the LB film transfer substrate jig 10 as described above, by opening the on-off valve 25b of the water supply pipe 25a from a water tank 25c, to water injection below the water surface W _1.
[Operation in the seventh step S7]
In the seventh step S 7, the barrier portion 11 of the LB film transfer substrate jig 10 changes the water surface W ₁ on the fourth side wall 24 side from the LB film transfer substrate jig 10 to the first side wall 21 and the second side wall 22 of the water tank 20. And it can be swept away from the 4th side wall 24 side. Therefore, the LB film remaining on the water surface W ₁ without being transferred to the substrate A can be pushed away from the water surface W ₁ . Further, in order to water injection below the water surface W ₁ with water injection unit 25, it can be flushed out from the top surface of the water W _1. From these, it is possible to remove the residual LB film from above the water surface W _1.
The water and the LB film flowing out from the water tank 20 are received by the receiving container 27.

（第８工程Ｓ８）
［第１搬送ユニット］
図１２に示すように、把持部３１を、アーム部３２によって鉛直方向の上方に動かして、第１ラック６０よりも高い位置まで搬送する。
［第２搬送ユニット］
把持部４１を、アーム部４２によって第２ラック７０側の水平方向に動かして、ＬＢ膜転写用基板ジグ１０を第２ラック７０の上に達するまで搬送する。 (Eighth step S8)
[First transport unit]
As shown in FIG. 12, the grip portion 31 is moved upward in the vertical direction by the arm portion 32 and is transported to a position higher than the first rack 60.
[Second transport unit]
The grip portion 41 is moved in the horizontal direction on the second rack 70 side by the arm portion 42, and the LB film transfer substrate jig 10 is conveyed until it reaches the second rack 70.

（第９工程Ｓ９）
［第１搬送ユニット］
図１３に示すように、把持部３１を、アーム部３２によって第１ラック６０側の水平方向に動かし、第１ラック６０に配置されたＬＢ膜転写用基板ジグ１０の上方に達するまで搬送する。
［第２搬送ユニット］
把持部４１をアーム部４２によって鉛直方向の下方に動かして、ＬＢ膜転写用基板ジグ１０を、バリア部１１が第２ラック７０に載るまで搬送する。 (9th step S9)
[First transport unit]
As shown in FIG. 13, the gripping portion 31 is moved in the horizontal direction on the first rack 60 side by the arm portion 32 and conveyed until reaching the upper side of the LB film transfer substrate jig 10 arranged in the first rack 60.
[Second transport unit]
The grip part 41 is moved downward in the vertical direction by the arm part 42, and the LB film transfer substrate jig 10 is conveyed until the barrier part 11 is placed on the second rack 70.

（第１０工程Ｓ１０）
［第１搬送ユニット］
図１４に示すように、把持部３１を、アーム部３２によって鉛直方向の下方に動かして、次にＬＢ膜の転写に使用されるＬＢ膜転写用基板ジグ１０のバリア部１１に達するまで搬送する。
［第２搬送ユニット］
把持部４１からＬＢ膜転写用基板ジグ１０のバリア部１１を開放する。 (10th step S10)
[First transport unit]
As shown in FIG. 14, the grip portion 31 is moved downward in the vertical direction by the arm portion 32, and is then conveyed until it reaches the barrier portion 11 of the LB film transfer substrate jig 10 used for transferring the LB film. .
[Second transport unit]
The barrier portion 11 of the LB film transfer substrate jig 10 is opened from the grip portion 41.

上記第１工程〜第１０工程Ｓ１〜Ｓ１０を経ることにより、ＬＢ膜転写用基板ジグ１０に固定された基板ＡにＬＢ膜を転写することができる。また、第１工程〜第１０工程Ｓ１０を繰り返すことにより、基板ＡへのＬＢ膜の転写を連続的に行うことができる。 Through the first to tenth steps S1 to S10, the LB film can be transferred to the substrate A fixed to the substrate jig 10 for LB film transfer. Further, by repeating the first to tenth steps S10, the transfer of the LB film to the substrate A can be continuously performed.

（基板）
上記製造方法で使用される基板の材質としては、例えば、ガラス、石英、マイカ、サファイヤ、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロースなどが挙げられる。 (substrate)
Examples of the material of the substrate used in the above production method include glass, quartz, mica, sapphire, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and triacetyl cellulose.

（展開液）
展開液は、ＬＢ膜形成用の物質と、水よりも比重が小さい有機溶剤とを含む液である。
有機溶剤は疎水性のものが好ましい。また、高い揮発性を有するものが好ましい。具体的には、クロロホルム、メタノール、エタノール、メチルエチルケトン、又はこれらの混合物が挙げられる。
ＬＢ膜形成用の物質としては、ＬＢ膜形成用の粒子、ＬＢ膜形成用の化合物（両親媒性物質）が挙げられる。
物質ＬＢ膜形成用の粒子の材質としては、Ａｌ、Ａｕ、Ｔｉ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｎｉなどの金属、Ｓｉなどの半金属、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、ＭｇＯ_２、ＣａＯ_２などの酸化物、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレートなどの有機高分子などが挙げられる。
粒子は、表面が疎水性であるものが好ましい。上記例示のうち、ポリスチレンなどの有機高分子の粒子は表面が疎水性であるため、そのまま使用できるが、金属粒子や金属酸化物粒子においては表面を疎水化剤により疎水性にすることにより使用できる。疎水化剤としては、例えば、界面活性剤、金属アルコキシシランなどが挙げられる。
展開液の粒子濃度は、各粒子が高精度で２次元に最密充填したＬＢ膜がより得られやすいことから、０．１〜１０質量％であることが好ましい。 (Developing solution)
The developing liquid is a liquid containing a substance for forming an LB film and an organic solvent having a specific gravity smaller than that of water.
The organic solvent is preferably hydrophobic. Moreover, what has high volatility is preferable. Specific examples include chloroform, methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or a mixture thereof.
Examples of the substance for forming the LB film include particles for forming the LB film and compounds for forming the LB film (amphiphilic substance).
As the material of the particles for forming the substance LB film, metals such as Al, Au, Ti, Pt, Ag, Cu, Cr, Fe, and Ni, semimetals such as Si, SiO ₂ , Al ₂ O ₃ , TiO ₂ , Examples thereof include oxides such as MgO ₂ and CaO ₂ and organic polymers such as polystyrene and polymethyl methacrylate.
The particles preferably have a hydrophobic surface. Among the above examples, particles of organic polymer such as polystyrene can be used as they are because the surface is hydrophobic, but in metal particles and metal oxide particles, the surface can be used by making the surface hydrophobic with a hydrophobizing agent. . Examples of the hydrophobizing agent include surfactants and metal alkoxysilanes.
The particle concentration of the developing solution is preferably 0.1 to 10% by mass because an LB film in which each particle is two-dimensionally closely packed with high accuracy can be obtained more easily.

ＬＢ膜形成用の物質としては粒子だけでなく、両親媒性物質も使用できる。すなわち、分子構造中に親水性部分と疎水性部分を併せ持つ両親媒性物質であれば、水面にＬＢ膜を形成できる。このような特性を備える物質としては、例えば、ステアリン酸、アラキン酸、カルボン酸、チオール類、アゾベンゼン類、ポリイミド系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂などが挙げられるが、ＬＢ膜を形成できる両親媒性物質であれば、特に限定されるものではない。 As the substance for forming the LB film, not only particles but also an amphiphilic substance can be used. That is, an LB film can be formed on the water surface if it is an amphiphilic substance having both a hydrophilic part and a hydrophobic part in its molecular structure. Examples of substances having such characteristics include stearic acid, arachidic acid, carboxylic acid, thiols, azobenzenes, polyimide resins, silicone resins, fluorine resins, and the like. There is no particular limitation as long as it is a medium substance.

（作用効果）
本実施形態のＬＢ膜転写装置１およびＬＢ膜転写方法によれば、第１搬送ユニット３０により搬送するＬＢ膜転写用基板ジグ１０のバリア面１１ｂにより、水面領域ＲのＬＢ膜を、第２搬送ユニット４０により引き上げ最中のＬＢ膜転写用基板ジグ１０に固定した基板Ａに押圧して転写させることができる。
さらに、バリアとして機能させるために第１搬送ユニット３０により第４側壁側に移動させたＬＢ膜転写用基板ジグ１０を、次いで、第２搬送ユニットにより引き上げることにより、当該ＬＢ膜転写用基板ジグ１０に保持した基板ＡにＬＢ膜を転写させることができる。したがって、バリアを後退させることなく、複数の基板ＡへのＬＢ膜の転写を連続的に行うことができる。
また、水面Ｗ_１はＬＢ膜転写用基板ジグ１０のバリア部１１によって仕切られているため、基板Ａに転写せずに残留したＬＢ膜が、次の転写のために水面Ｗ_１に形成されたＬＢ膜に混合して汚染することが防止されている。
さらに、上記ＬＢ膜転写装置１およびＬＢ膜転写方法では、第４側壁２４側のＬＢ膜転写用基板ジグ１０を水面Ｗ_１上に引き上げた後、第１搬送ユニット３０を用いることにより第３側壁２３側からのＬＢ膜転写用基板ジグ１０の水平方向の移動を継続して、水面Ｗ_１上に残留したＬＢ膜を水槽２０から押し出して除去することができるようになっている。したがって、水面Ｗ_１に残留するＬＢ膜をほぼ無くすことができる。
そのため、転写を終えた毎にＬＢ膜転写用基板ジグ１０および水槽２０を洗浄することを省略できる。
上記のように、上記ＬＢ膜転写装置１およびＬＢ膜転写方法では、連続的なＬＢ膜の転写が可能で、ＬＢ膜転写用基板ジグ１０および水槽２０の洗浄を省略できるため、ＬＢ膜転写の生産性を向上させることができる。 (Function and effect)
According to the LB film transfer apparatus 1 and the LB film transfer method of the present embodiment, the LB film in the water surface region R is second transported by the barrier surface 11b of the LB film transfer substrate jig 10 transported by the first transport unit 30. The unit 40 can be pressed and transferred to the substrate A fixed to the LB film transfer substrate jig 10 being pulled up.
Further, the LB film transfer substrate jig 10 moved to the fourth side wall side by the first transfer unit 30 to function as a barrier is then lifted by the second transfer unit, whereby the LB film transfer substrate jig 10 is pulled up. The LB film can be transferred to the substrate A held on the substrate. Therefore, the transfer of the LB film to the plurality of substrates A can be continuously performed without retracting the barrier.
Further, since the water surface W ₁ is partitioned by the barrier portions 11 of the LB film transfer substrate jig 10, LB film remaining without transferring to the substrate A is formed on the water surface W ₁ for the next transfer It is prevented that the LB film is mixed and contaminated.
Further, in the LB film transfer apparatus 1 and the LB film transfer method, the third side wall is formed by using the first transport unit 30 after the LB film transfer substrate jig 10 on the fourth side wall 24 side is lifted onto the water surface W _1. It continues to move in the horizontal direction of the LB film transfer substrate the jig 10 from the 23 side, has a LB film remaining on the water surface W ₁ to be able to remove extruded from the water bath 20. Therefore, it is possible to substantially eliminate the LB film remaining on the water surface W _1.
Therefore, it is possible to omit cleaning the LB film transfer substrate jig 10 and the water tank 20 every time the transfer is completed.
As described above, in the LB film transfer apparatus 1 and the LB film transfer method, continuous LB film transfer is possible, and cleaning of the LB film transfer substrate jig 10 and the water tank 20 can be omitted. Productivity can be improved.

＜他の実施形態＞
なお、本発明は上記実施形態に限定されない。
ＬＢ膜転写用基板ジグ１０においては、バリア部１１の形状が四角柱状でなくてもよく、例えば、三角柱状、五角柱状、六角柱状等であっても構わない。ただし、四角柱状以外であっても、バリア面１１ｂは、略平面状で、鉛直方向と平行に配置されることが好ましい。
基板保持部１２は、下端が基板Ａの下端よりも上側にされていてもよい。その場合、水槽２０は、基板保持部１２に保持された基板Ａの全体を浸漬可能な深さとする。
ＬＢ膜転写用基板ジグ１０においては、第１搬送ユニット３０および第２搬送ユニット４０による把持を容易にするために、バリア部１１の上部に掴み代を設けてもよい。
ＬＢ膜転写用基板ジグ１０に固定される基板Ａの形状は円盤状でなくてもよく、例えば、楕円形状、四角形状等であっても構わない。
水槽２０の第１側壁２１および第２側壁２２の上端は水平になっていれば、面になっていなくてもよい。例えば、第１側壁２１および第２側壁２２の上部が上に凸の形状になっており、上端が直線状であってもよい。
水槽２０の第３側壁２３および第４側壁２４は、第１側壁２１および第２側壁２２に垂直でなく、例えば、湾曲していてもよいし、屈曲していてもよい。 <Other embodiments>
In addition, this invention is not limited to the said embodiment.
In the LB film transfer substrate jig 10, the shape of the barrier portion 11 may not be a quadrangular prism shape, and may be, for example, a triangular prism shape, a pentagonal prism shape, a hexagonal prism shape, or the like. However, even if it is other than a quadrangular prism shape, the barrier surface 11b is preferably substantially planar and arranged in parallel with the vertical direction.
The substrate holding unit 12 may have a lower end above the lower end of the substrate A. In this case, the water tank 20 has a depth that allows the entire substrate A held by the substrate holding unit 12 to be immersed.
In the LB film transfer substrate jig 10, a grip allowance may be provided above the barrier unit 11 in order to facilitate gripping by the first transport unit 30 and the second transport unit 40.
The shape of the substrate A fixed to the LB film transfer substrate jig 10 may not be a disk shape, and may be an elliptical shape, a square shape, or the like.
If the upper end of the 1st side wall 21 and the 2nd side wall 22 of the water tank 20 is horizontal, it does not need to be a surface. For example, the upper part of the first side wall 21 and the second side wall 22 may be convex upward, and the upper end may be linear.
The third side wall 23 and the fourth side wall 24 of the water tank 20 are not perpendicular to the first side wall 21 and the second side wall 22, and may be curved or bent, for example.

展開液供給用ノズル５０の吐出口５１は２つ以上でもよい。吐出口５１が２つ以上であると、短時間で水面Ｗ_１に展開液を供給できる。吐出口が２つ以上の場合の吐出口の配置としては、例えば、水槽２０の幅方向に沿って吐出口が直線状に並ぶ配置などが挙げられ、マルチピペットを使用できる。 The number of discharge ports 51 of the developing solution supply nozzle 50 may be two or more. When the discharge port 51 is 2 or more, it can be supplied to the developing buffer to the water surface W ₁ in a short time. Examples of the arrangement of the discharge ports when there are two or more discharge ports include an arrangement in which the discharge ports are arranged in a straight line along the width direction of the water tank 20, and a multipipette can be used.

ＬＢ膜転写装置１においては、注水部２５を有していなくてもよい。注水部２５を有さない場合、残留したＬＢ膜を除去するためには、例えば、ＬＢ膜が形成された水面Ｗ_１を吸引器で吸引する方法などを適用すればよい。
また、ＬＢ膜転写装置１においては、磁性体８０を有していなくてもよい。磁性体８０を有さない場合には、基板保持部１２を金属製とせず、樹脂製としても構わない。 The LB film transfer apparatus 1 may not have the water injection unit 25. If no water injection unit 25, in order to remove residual LB film, for example, may be applied a method of sucking the water surface W ₁ of LB film is formed by aspirator.
Further, the LB film transfer apparatus 1 may not have the magnetic body 80. If the magnetic body 80 is not provided, the substrate holding part 12 may be made of resin instead of metal.

本発明のＬＢ膜転写用基板ジグ、ＬＢ膜転写装置およびＬＢ膜転写方法は、基板の表面に、例えば、レジスト膜、有機脂質分子の機能膜、光学材料、機能素子を形成する際に好適に利用できる。 The substrate jig for LB film transfer, the LB film transfer apparatus, and the LB film transfer method of the present invention are suitable for forming, for example, a resist film, a functional film of organic lipid molecules, an optical material, and a functional element on the surface of the substrate. Available.

１ＬＢ膜転写装置
１０ＬＢ膜転写用基板ジグ
１１バリア部
１１ａ下面
１１ｂバリア面
１１ｃ裏面
１１ｄ，１１ｅ長手方向の端部
１２基板保持部
２０水槽
２１第１側壁
２１ａ上端面
２２第２側壁
２２ａ上端面
２３第３側壁
２４第４側壁
２５注水部
２６排水部
２７受け容器
３０第１搬送ユニット
３１把持部
３２アーム部
４０第２搬送ユニット
４１把持部
４２アーム部
５０展開液供給用ノズル
５１吐出口
６０第１ラック
６１レール
７０第２ラック
７１レール
８０磁性体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 LB film transfer apparatus 10 LB film transfer substrate jig 11 Barrier portion 11a Lower surface 11b Barrier surface 11c Back surface 11d, 11e Longitudinal end 12 Substrate holding portion 20 Water tank 21 First side wall 21a Upper end surface 22 Second side wall 22a Upper end surface 23 3rd side wall 24 4th side wall 25 Water injection part 26 Drainage part 27 Receiving container 30 1st conveyance unit 31 Grip part 32 Arm part 40 2nd conveyance unit 41 Gripping part 42 Arm part 50 Nozzle for developing liquid supply 51 Discharge port 60 1st 1 rack 61 rail 70 second rack 71 rail 80 magnetic body

Claims

A Langmuir-Blodgett film transfer substrate jig for fixing a substrate to which a Langmuir-Blodgett film formed on the water surface is transferred, so that one side of the substrate is exposed,
In elongated, longitudinally disposed in a horizontal direction during use, comprising: a partition Ru barrier section the water, and a substrate holder which is suspended in the longitudinal center of the barrier section,
The barrier portion has a barrier surface composed of side surfaces along the longitudinal direction of the barrier portion,
The substrate holding unit is configured to hold the substrate so that the exposed surface faces in a direction opposite to the barrier surface ,
The substrate jig for Langmuir-Blodgett film transfer , wherein the barrier surface is a surface that presses the Langmuir-Blodgett film formed on the water surface along the water surface .

A plurality of Langmuir-Blodgett film transfer substrate jigs, a water tank, a first transport unit and a second transport unit;
The Langmuir-Blodgett film transfer substrate jig is the Langmuir-Blodgett film transfer substrate jig according to claim 1,
The water tank has a pair of parallel side walls whose upper ends are horizontal, and when both ends in the longitudinal direction of the barrier portion of the Langmuir-Blodgett film transfer substrate jig are placed on the upper ends of the side walls, A depth that allows the entire substrate holding unit and the substrate held by the substrate holding unit to be immersed;
The first transport unit is configured so that at least the Langmuir / Blodgett film transfer substrate jig is placed horizontally on the side wall of the water tank, with both ends in the longitudinal direction of the barrier part placed on the front side in the moving direction. Is to be transported,
The second transport unit is configured to place the Langmuir / Blodgett film transfer substrate jig transported by the first transport unit and the substrate fixed to the Langmuir / Blodgett film transfer substrate jig at least higher than the water tank. It is transported upward in the vertical direction so as to pull up,
When the second transport unit transports one Langmuir / Blodgett film transfer substrate jig vertically upward, the first transport unit transfers another Langmuir / Blodgett film transfer substrate jig to the one A Langmuir / Blodgett film transfer apparatus configured to be conveyed in a horizontal direction toward a Langmuir / Blodgett film transfer jig.

The Langmuir-Blodgett membrane transfer device according to claim 2, wherein the water tank is provided with a water injection unit capable of injecting water at a position below the water surface.

The substrate holder of the Langmuir / Blodgett film transfer substrate jig is made of metal,
4. The Langmuir • of claim 2, further comprising a magnetic body that moves in a horizontal direction in synchronization with a substrate jig for transferring a Langmuir / Blodgett film transferred in the horizontal direction by the first transfer unit. Blojet film transfer device.

A pair of Langmuir-Blodgett film transfer substrate jigs according to claim 1 each holding a substrate in a water tank in which a water surface is formed, and arranged so as to be separated so that the barrier surfaces face the same direction. Forming a water surface region sandwiched between the barrier portions,
Supplying a developing solution containing a Langmuir-Blodgett film-forming substance to the water surface region to form a Langmuir-Blodgett film;
After forming the Langmuir / Blodgett film, pull up one Langmuir / Blodgett film transfer substrate jig in the vertical direction and move the other Langmuir / Blodgett film transfer substrate jig toward the other Langmuir / Blodgett film transfer substrate jig. A method for transferring a Langmuir-Blodgett film, comprising a step of moving a substrate jig for transferring a Blodgett film in a horizontal direction.

After the one Langmuir / Blodgett film transfer substrate jig is pulled up on the water surface, the other Langmuir / Blodgett film transfer substrate jig continues to move in the horizontal direction and remains on the water surface by the barrier portion. The Langmuir-Blodgett film transfer method according to claim 5, further comprising a step of extruding and removing the Langmuir-Blodgett film from the water tank.

The Langmuir-Blodgett film transfer method according to claim 5 or 6, wherein after the one Langmuir-Blodgett film transfer substrate jig is pulled up on the water surface, water is injected below the water surface.