JP5364943B2 - 位相差フィルム、その製造方法、及び画像表示装置 - Google Patents
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Description
本発明の他の目的は、高い複屈折率を有し且つ機械的強度に優れた位相差フィルムの製造方法を提供することである。
本発明の好ましい位相差フィルムは、前記エポキシ樹脂硬化物が、ビスフェノール型のエポキシ樹脂硬化物及び高分子量型のエポキシ樹脂硬化物から選ばれる少なくとも1種を含んでいる。
本発明の他の好ましい位相差フィルムは、波長590nmにおける面内の複屈折率が、0.002以上、波長590nmにおける厚み方向の複屈折率が0.002以上である。
本発明の位相差フィルムの製造方法は、硬化させることにより、波長590nmにおける面内の複屈折率が、0.001以上、波長590nmにおける厚み方向の複屈折率が0.001以上であるエポキシ樹脂硬化物が得られるエポキシ化合物を含む組成物を基材上に塗工することによって、基材上に塗工層を形成する工程と、前記塗工層に光を照射することにより、前記塗工層を硬化させて前記基材上に硬化層を形成する工程と、を有する。
本発明の他の好ましい位相差フィルムの製造方法は、前記硬化層の延伸方向が、一軸方向であり、その延伸倍率が、1.01倍〜2.0倍である。
本発明の他の好ましい位相差フィルムの製造方法は、前記エポキシ化合物が、非液晶性である。
本発明の画像表示装置は、上記いずれかの位相差フィルムを有する。
さらに、本発明の位相差フィルムは、キャスト法によって製造することも可能である。
本発明の位相差フィルムの製造方法によれば、高い複屈折率を有し、且つ機械的強度に優れた位相差フィルムを得ることができる。さらに、本発明の位相差フィルムの製造方法によれば、フィルムの厚みの制御も容易に行え、表面平滑性に優れた位相差フィルムを得ることができる。
本発明の位相差フィルムは、エポキシ樹脂硬化物及びエポキシ(メタ)アクリレート樹脂硬化物の少なくとも何れか一方を含む。従って、本発明の位相差フィルムは、エポキシ樹脂硬化物又はエポキシ(メタ)アクリレート樹脂硬化物を含む、或いは、エポキシ樹脂硬化物及びエポキシ(メタ)アクリレート樹脂硬化物の双方を含む。
なお、本明細書において、「エポキシ樹脂硬化物及びエポキシ(メタ)アクリレート樹脂硬化物」を纏めて表現するときに、「エポキシ硬化物」と記す場合がある。
本明細書において、「A〜B」という記載は、「A以上B以下」を意味する。
前記ビスフェノール型のエポキシ化合物は、ビスフェノールAなどのビスフェノール類とエピクロルヒドリンとの縮合反応から得られるグリシジルエーテル系エポキシであり、ビスフェノール類とエピクロルヒドリンの縮合単位が複数繰り返し導入されていてもよい。高分子量型のエポキシ化合物としては、例えば、前記ビスフェノール類とエピクロルヒドリンの縮合単位が複数繰り返し導入されたフェノキシ型などが挙げられる。
前記エポキシ化合物の分子量(重量平均分子量)は、特に限定されないが、好ましくは200〜70,000である。本発明においては、重量平均分子量が200〜600のビスフェノール型のエポキシ化合物、又は、重量平均分子量が10,000〜50,000の高分子量型のエポキシ化合物を用いることが好ましい。これらのエポキシ化合物を用いることにより、硬化物の可撓性及び透明性が向上するという効果がある。
前記重量平均分子量は、テトラヒドロフラン溶媒によるゲル・パーミエーション・クロマトグラフ法(ポリスチレン標準)に準じて測定できる。
また、前記ビスフェノール型のエポキシ化合物のエポキシ当量は、好ましくは100〜300g/eqである。前記高分子量型のエポキシ化合物のエポキシ当量は、好ましくは5,000〜25,000g/eqである。
エポキシ(メタ)アクリレート化合物は、エポキシ化合物と(メタ)アクリル酸とのエステル化合物である。なお、前記エポキシ(メタ)アクリレートとは、エポキシアクリレート又はエポキシメタクリレートを意味し、前記(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味する。
前記エポキシ(メタ)アクリレート化合物のエポキシ化合物としては、前記エポキシ樹脂硬化物の欄で例示した各種のエポキシ化合物が挙げられる。中でも、前記エポキシ(メタ)アクリレート化合物のエポキシ化合物は、ビスフェノール型のエポキシ化合物が好ましい。
前記エポキシ(メタ)アクリレート化合物の分子量(重量平均分子量)は、特に限定されないが、好ましくは300〜700である。重量平均分子量が300〜700のエポキシ(メタ)アクリレート化合物を用いることにより、硬化物の可撓性及び透明性が向上するという効果がある。
非液晶性のエポキシ化合物及び/又は非液晶性のエポキシ(メタ)アクリレート化合物を含む位相差フィルムは、それを画像表示装置に実装したときに、該装置のコントラストの低下を招かない。液晶性化合物はその分子の動きに起因した揺らぎが生じ、この揺らぎによって偏光を僅かに解消するため、画像表示装置のコントラストの低下を招く。一方、非液晶性化合物は前述のような揺らぎを生じないので、これを用いれば、非画像表示装置のコントラストの低下を招かない位相差フィルムを得ることができる。
非液晶性とは、前記化合物を溶媒に溶解させた溶液状態で、該溶液の温度や濃度を変化させても、等方相−液晶相の相転移を起こさない性質をいう。
このため、本発明の位相差フィルムは、エポキシ樹脂硬化物を必須成分として含むことが好ましく、エポキシ樹脂硬化物のみを含むことがより好ましい。
また、本発明の位相差フィルムが、エポキシ樹脂硬化物及びエポキシ(メタ)アクリレート樹脂硬化物の双方を含む場合、両者の含有比は特に限定されないが、エポキシ樹脂硬化物がエポキシ(メタ)アクリレート樹脂硬化物よりも多量(質量換算)に含まれいることが好ましい。より高い複屈折率を有する位相差フィルムが得られるからである。
前記他の樹脂成分とは、前記エポキシ樹脂硬化物及びエポキシ(メタ)アクリレート樹脂硬化物(エポキシ硬化物)を除いた樹脂成分である。他の樹脂成分としては、アクリル系樹脂、ビニルアルコール系樹脂などの熱可塑性樹脂などが挙げられる。他の樹脂成分は、前記エポキシ硬化物と架橋していてもよいし、エポキシ硬化物と架橋していなくてもよい。
他の樹脂成分が含まれる場合、他の樹脂成分は、エポキシ硬化物に比して、少量含まれていることが好ましい。余りに他の樹脂成分が多いと、相対的にエポキシ硬化物が少なくなり、高い複屈折率を有し且つ機械的強度に優れた位相差フィルムを構成できないおそれがある。
かかる観点から、他の樹脂成分の含有比は、エポキシ硬化物100質量部に対して、0質量部〜5質量部が好ましく、0質量部〜3質量部がより好ましい。
光重合開始剤としては、エポキシ化合物又はエポキシ(メタ)アクリレート化合物の重合(架橋)を開始できる作用を有する限り、特に限定されず、公知の光重合開始剤を使用できる。代表的な光重合開始剤は、ラジカル重合を生じさせるラジカル重合開始剤、カチオン重合を生じさせるカチオン重合開始剤などが挙げられる。
前記ラジカル重合開始剤としては、2−メチル−1(4−メチルチオフェニル−2−モルフォリノプロパン−1−オンなどのα−アミノケトン類;2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オンなどのα−アミノアルキルフェノン類;2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オンなどのα−ヒドロキシアルキルフェノン類;ヒドロペルオキシド類などの有機過酸化物;などが挙げられる。
前記カチオン重合開始剤としては、アンチモン系や芳香族系のスルホニウム塩、同ホスホニウム塩、同アンモニウム塩、同ヨウドニウム塩、同ジアゾニウム塩などが挙げられる。
前記増感剤としては、キサンテン類、シアニン類、メロシアニン類、アクリジン類などが挙げられる。
本発明の位相差フィルムは、可視光領域(波長380nm〜780nm)において、複屈折性を示す。
本発明の位相差フィルムの波長590nmにおける面内の複屈折率(Δnxy[590])は、0.001以上であり、好ましくは0.0015以上であり、より好ましくは0.002以上である。また、前記位相差フィルムの波長590nmにおける厚み方向の複屈折率(Δnxz[590])は、0.001以上であり、好ましくは0.0015以上であり、より好ましくは0.002以上である。
本発明の位相差フィルムは、その屈折率楕円体がnx>ny>nz、nx>nz>ny、又はnx>ny=nzの何れかの関係を満たす。
本発明の位相差フィルムの面内位相差値(Re[590])は、好ましくは20nm〜300nmであり、厚み方向位相差値(Rth[590])は、好ましくは20nm〜300nmである。位相差フィルムの厚みを適宜設定することにより、前記範囲の位相差値を有する位相差フィルムを得ることができる。
また、前記位相差フィルムのNz係数は、好ましくは0〜10である。
本発明の位相差フィルムは、透明性に優れており、その透過率(T[550])は、好ましくは90%以上であり、より好ましくは92%以上である。
前記「波長590nmにおける面内の複屈折率(Δnxy[590])」は、23℃、波長590nmの光で測定した、位相差フィルムの面内における複屈折率である。前記Δnxy[590]は、式:Δnxy[590]=nx−nyによって求めることができる。
前記「波長590nmにおける厚み方向の複屈折率(Δnxz[590])」は、23℃、波長590nmの光で測定した、位相差フィルムの厚み方向における複屈折率である。前記Δnxz[590]は、式:Δnxz[590]=nx−nzによって求めることができる。
前記「面内位相差値(Re[590])は、23℃、波長590nmの光で測定した、位相差フィルムの面内の位相差値である。Re[590]は、位相差フィルムの厚みをd(nm)としたとき、式:Re[590]=(nx−ny)×dによって求めることができる。
前記「厚み方向位相差値」は、23℃、波長590nmの光で測定した、位相差フィルムの厚み方向の位相差値である。Rth[590]は、位相差フィルムの厚みをd(nm)としたとき、式:Rth[590]=(nx−nz)×dによって求めることができる。
これらの値は、例えば、位相差測定装置(王子計測機器株式会社製、製品名「KOBRA−WPR」)を用いて測定できる。
前記「透過率(T[550])」は、23℃、波長550nmの光で測定した、位相差ィルムの光線透過率である。前記透過率は、例えば、分光光度計(株式会社日立製作所製、製品名「U−4100」)を用いて測定できる。
本発明の位相差フィルムは、例えば、下記工程A及び工程Bを経て製造でき、さらに、工程Bの後、下記工程C及び工程Dを行ってもよい。
工程A:エポキシ化合物及びエポキシ(メタ)アクリレート化合物の少なくとも何れか一方を含む組成物を基材上に塗工することによって、基材上に塗工層を形成する工程。
工程B:工程Aで形成された前記塗工層に光を照射することにより、前記塗工層を硬化させて前記基材上に硬化層を形成する工程。
工程C:前記硬化層を延伸する工程。
工程D:前記延伸後の硬化層を、洗浄、乾燥する工程。
工程Aにおいては、エポキシ化合物及びエポキシ(メタ)アクリレート化合物の少なくとも何れか一方を含む組成物を調製する。好ましくは、前記組成物は、エポキシ化合物を必須成分として含む。エポキシ化合物及びエポキシ(メタ)アクリレート化合物が、光硬化型である場合、さらに、光重合開始剤を配合して組成物を調製する。前記光重合開始剤は、通常、エポキシ化合物等の100質量部に対して、0.1質量部〜5質量部程度配合すればよい。
エポキシ化合物、エポキシ(メタ)アクリレート化合物及び光重合開始剤としては、前記位相差フィルムの欄で例示した各種の化合物などが挙げられる。中でも、非液晶性のエポキシ化合物、及び非液晶性のエポキシ(メタ)アクリレート化合物を用いることが好ましい。
なお、組成物を調製するときに、必要に応じて、上述の他の樹脂成分及び添加剤を配合してもよい。
前記溶媒としては、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、エチルメチルケトンなどのケトン類、トルエンなどの芳香族炭化水素類、メチルセロソルブなどのエーテル類、酢酸エチルなどのエステル類などが挙げられる。
基材は、前記液状の組成物を均一に展開するために用いられる。基材の種類は、この目的に適していれば特に限定されず、例えば、合成樹脂フィルム(フィルムには、一般にシートと言われる材料を含む)、ガラス板などを用いることができる。
1つの実施形態では、基材は、合成樹脂フィルムである。他の実施形態では、基材は、その表面に配向層を有するフィルムである。
前記基材の厚みは、特に限定されず、例えば、30μm〜200μmである。
合成樹脂フィルムの具体例としては、トリアセチルセルロースなどのセルロース系フィルム、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアミド系フィルム、ポリノルボルネン系フィルム、ポリビニルアルコール系フィルム、ポリオレフィン系フィルム、アクリル系フィルムなどが挙げられる。
組成物を塗工した後、前記基材の表面上に、前記組成物からなる塗工層が形成される。
工程Bにおいては、前記塗工層に光を照射することにより、塗工層を硬化させる。
前記塗工層に含まれるエポキシ化合物及び/エポキシ(メタ)アクリレート化合物は重合(架橋)していないので、これを重合させるために光を照射する。
なお、前記液状の組成物に溶媒が含まれている場合には、光照射の前に、溶媒を揮発させておくことが好ましい。
紫外線の照射強度は、好ましくは、100〜1000mJ/cm2であり、より好ましくは、200〜800mJ/cm2である。
紫外線の発生装置としては、水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプなどが挙げられる。
紫外線を照射することにより、前記塗工層に含まれるエポキシ化合物及び/又はエポキシ(メタ)アクリレート化合物が重合し、これらがエポキシ樹脂硬化物及び/又はエポキシ(メタ)アクリレート樹脂硬化物(エポキシ硬化物)に変化する。よって、前記基材の表面上に、前記エポキシ硬化物を含む硬化層が形成される。
工程Cにおいては、工程Bで得られた硬化層を延伸する。
硬化層は、基材上に積層された状態で、延伸してもよい(つまり、基材と硬化層の積層体を延伸してもよい)。また、硬化層を基材から剥離した後、この硬化層を延伸してもよい。
硬化層を基材から剥離し、この硬化層を延伸することが好ましい。
このように硬化層のみを延伸することにより、基材が有する複屈折性や延伸性によって硬化層の延伸が制約されず、比較的高い複屈折率を有する位相差フィルムを得ることができる。
延伸処理は、前記硬化層を一軸方向に延伸することが好ましい。
一軸方向に硬化層を延伸することにより、前記硬化層に含まれるエポキシ硬化物が所定方向に配向する。このため、硬化層に大きな位相差を発現させることができる。
延伸倍率は、特に限定されないが、余りに小さいとエポキシ硬化物が配向しないため、延伸倍率は、1.01倍以上が好ましく、さらに、1.05倍以上がより好ましい。一方、延伸処理にも限界があるため、延伸倍率は、2.0倍以下が好ましい。
このように延伸処理して得られた硬化層が、本発明の位相差フィルムである。
工程Dにおいては、前記硬化層の表面を、洗浄及び乾燥する。
工程Dは、前記硬化層に付着している粉塵などを取り除くために、必要に応じて実施される。
例えば、延伸処理後の硬化層(位相差フィルム)を水又は洗浄液で洗浄した後、乾燥する。
なお、本発明の位相差フィルムの製造方法は、上記工程Aから工程D以外に、さらに、他の工程を有していてもよい。
従って、本発明の製造方法によれば、高い複屈折率を有し且つ機械的強度に優れ、さらい、厚みが均一で且つ表面が平滑な位相差フィルムが得られ得る。
本発明の位相差フィルムは、それ自身単体で使用できる。また、本発明の位相差フィルムは、他のフィルムと積層した状態で使用することもできる。
図1に示すように、1つの実施形態に係る光学フィルムは、本発明の位相差フィルム1と、この位相差フィルム1の一面に積層された保護フィルム2と、を有する。
また、他の実施形態に係る光学フィルムは、本発明の位相差フィルムと、この位相差フィルムの一面に積層された偏光フィルムと、を有する。
この光学フィルムは、図2に示すように、保護フィルム2,2が偏光フィルム3の両面にそれぞれ積層され、且つ、本発明の位相差フィルム1が前記一方の保護フィルム2の一面に積層されていてもよい。或いは、この光学フィルムは、図3に示すように、本発明の位相差フィルム1と偏光フィルム3が積層され、1つの保護フィルム2が前記位相差フィルム1の他面に積層され且つもう1つの保護フィルム2が前記偏光フィルム3の他面に積層されていてもよい。
前記保護フィルムは、好ましくは透明性に優れたフィルムが用いられる。前記保護フィルム基材としては、代表的には、トリアセチルセルロース系フィルムが挙げられる。
なお、本発明の位相差フィルムの製造時に使用される基材を、前記保護フィルムとして用いることもできる。
本発明の位相差フィルム及び前記光学フィルムを有する画像表示装置としては、液晶表示装置、有機ELディスプレイ、及びプラズマディスプレイなどが挙げられる。前記画像表示装置の好ましい用途はテレビである。
デジタルゲージ((株)尾崎製作所製、製品名「PEACOCK」)を用いて測定した。
位相差測定装置(王子計測機器株式会社製、製品名「KOBRA−WPR」)を用いて、23℃、波長590nmの光で、位相差フィルムの面内位相差値(Re[590])を測定した。
厚み方向位相差値(Rth[590])は、前記位相差測定装置を用いて、40度方向の位相差値(R40[590])を測定し、この位相差値をRthに換算することによって求めた。前記40度方向の位相差値(R40[590])は、位相差フィルムの法線から40度傾けた方向から、波長590nmの光を位相差フィルムに入射させて測定した。
位相差フィルムの面内の複屈折率(Δnxy[590])は、式:Re[590]/dに代入して求めた。
位相差フィルムの厚み方向の複屈折率(ΔnxZ[590])は、式:Rth[590]/dに代入して求めた。前記dは、位相差フィルムの厚み(nm)を表す。
(1)エポキシ化合物A:ジャパンエポキシレジン株式会社製、商品名「JER−806」。ビスフェノールF型のエポキシ化合物で、重量平均分子量は284.3、エポキシ当量は160〜170。
(2)エポキシ化合物B:ジャパンエポキシレジン株式会社製、商品名「YX8100BH30」。高分子量型(フェノキシ型)のエポキシ化合物で、重量平均分子量は38,000。
(3)エポキシ化合物C:ジャパンエポキシレジン株式会社製、商品名「YX6954BH30」。高分子量型(フェノキシ型)のエポキシ化合物で、重量平均分子量は39,000、エポキシ当量は10,000〜16,000。
(4)エポキシアクリレート化合物D:日本ユピカ株式会社製、商品名「ネオポール8328」。ビスフェノール型エポキシとアクリル酸からなるエポキシアクリレート化合物で、重量平均分子量は484.5。
(5)エポキシアクリレート化合物E:日本ユピカ株式会社製、商品名「ネオポール8313」。ビスフェノール型エポキシとアクリル酸からなるエポキシアクリレート化合物で、重量平均分子量は394.4。
(6)ウレタンアクリレートF:日本ユピカ株式会社製、商品名「ユピカ8975」。
(7)ウレタンアクリレートG:日本ユピカ株式会社製、商品名「ユピカ8976」。
(8)光重合開始剤H:サンアプロ株式会社製、商品名「CPI−101」。アンチモン系スルホニウム塩のカチオン重合開始剤。
(9)光重合開始剤I:長瀬産業株式会社製、商品名「イルガキュア907」。α−アミノケトン型のラジカル重合開始剤。
(10)基材J:厚み80μmのトリアセチルセルロースフィルム。
(11)メチルメタクリレート:(株)クラレ製、商品名「パラペット」。
20gのエポキシ化合物Aと0.6gの光重合開始剤Hとを混合し、さらに、この混合物を遠心分離機に入れて、混合脱泡させた。この混合物は、塗工に適した液状であった。この混合物を、アプリケーターを用いて、基材Jの表面に塗工することにより、基材上に塗工層を形成した。次に、この塗工層に対して、コンベア式紫外線照射装置を用いて、紫外線照射を行い(照射強度:300mJ/cm2)、塗工層を硬化させた。得られた硬化層を前記基材Jから剥離し、剥離した硬化層(フィルム)を、バッチ式二軸延伸機を用いて、130℃で1.1倍に一軸延伸した。なお、一軸延伸の方向は、前記混合物の塗工方向と平行な方向とした。延伸後のフィルムが、実施例1の位相差フィルムである。
実施例1の位相差フィルムの厚み及び諸物性を表1に示す。
20gのエポキシ化合物Bと0.18gの光重合開始剤Hとを混合し、さらに、この混合物を遠心分離機に入れて、混合脱泡させた。この混合物に、有機溶媒(メチルエチルケトンとシクロヘキサノンの混合溶媒)を加えた。有機溶媒を加えた混合物は、塗工に適した液状となった。この混合物を、実施例1と同様に、アプリケーターを用いて、基材Jの表面に塗工することにより、基材J上に塗工層を形成した。この塗工層を、乾燥オーブン内に入れ、80℃で5分間乾燥させた後、さらに、150℃で15分間乾燥させた。次に、乾燥後の塗工層に対して、コンベア式紫外線照射装置を用いて、紫外線照射を行い(照射強度:300mJ/cm2)、塗工層を硬化させた。得られた硬化層を前記基材Jから剥離し、剥離した硬化層(フィルム)を、バッチ式二軸延伸機を用いて、130℃で1.1倍に一軸延伸した。なお、一軸延伸の方向は、前記混合物の塗工方向と平行な方向とした。延伸後のフィルムが、実施例2の位相差フィルムである。
実施例2の位相差フィルムの厚み及び諸物性を表1に示す。
エポキシ化合物Bに代えてエポキシ化合物Cを用いたこと以外は、実施例2と同様にして、位相差フィルムを作製した。
実施例3の位相差フィルムの厚み及び諸物性を表1に示す。
エポキシ化合物Aに代えてエポキシアクリレート化合物Dを用いたこと、及び、光重合開始剤Hに代えて光重合開始剤Iを用いたこと以外は、実施例1と同様にして、位相差フィルムを作製した。
実施例4の位相差フィルムの厚み及び諸物性を表1に示す。
エポキシ化合物Aに代えてエポキシアクリレート化合物Eを用いたこと、及び、光重合開始剤Hに代えて光重合開始剤Iを用いたこと以外は、実施例1と同様にして、位相差フィルムを作製した。
実施例5の位相差フィルムの厚み及び諸物性を表1に示す。
20gのウレタンアクリレートFと0.6gの光重合開始剤Iとを混合し、さらに、この混合物を遠心分離機に入れて、混合脱泡させた。この混合物は、塗工に適した液状であった。この混合物を、アプリケーターを用いて、基材Jの表面に塗工することにより、基材上に塗工層を形成した。次に、この塗工層に対して、コンベア式紫外線照射装置を用いて、紫外線照射を行い(照射強度:300mJ/cm2)、塗工層を硬化させた。得られた硬化層と基材Jの積層体を、バッチ式二軸延伸機を用いて、140℃で1.1倍に一軸延伸した。なお、一軸延伸の方向は、前記混合物の塗工方向と平行な方向とした。延伸後、硬化層を基材Jから剥離した。剥離した硬化層(フィルム)が、比較例1の位相差フィルムである。
比較例1の位相差フィルムの厚み及び諸物性を表1に示す。
ウレタンアクリレートFに代えてウレタンアクリレートGを用いたこと以外は、比較例1と同様にして、位相差フィルムを作製した。
比較例2の位相差フィルムの厚み及び諸物性を表1に示す。
エポキシ化合物Aに代えてメチルメタクリレートを用いたこと、及び、光重合開始剤Hに代えて光重合開始剤Iを用いたこと以外は、実施例1と同様にして、基材J上に硬化層を形成した。この硬化層を基材Jから剥離しようとしたが、この硬化層は、非常に脆く、剥離できなかった。従って、比較例3のフィルムについては、Re[590]などを測定できなかった。
エポキシ化合物Aに代えてメチルメタクリレートを用いたこと、及び、光重合開始剤Hに代えて光重合開始剤Iを用いたこと以外は、実施例1と同様にして、基材J上に硬化層を形成した。この硬化層を基材Jから剥離しようとしたが、この硬化層は、非常に脆く、剥離できなかった。従って、比較例4のフィルムについては、Re[590]などを測定できなかった。
実施例1から実施例5の位相差フィルムは、比較例の位相差フィルムに比して、Δnxy[590]及びΔnxZ[590]が高かった。特に、実施例1から3の位相差フィルム(エポキシ樹脂硬化物を含む位相差フィルム)は、Δnxy[590]及びΔnxZ[590]がより高かった。
また、比較例1及び2は、基材から硬化層(フィルム)を剥離できたが、剥離時に一部に割れが生じた。一方、実施例1〜5は、基材から硬化層(フィルム)を剥離するときに、前記硬化層が損傷せず、さらに、前記剥離した硬化層を良好に延伸して、位相差フィルムを得ることができた。以上のことから、実施例1〜5の位相差フィルムは、機械的強度に優れている。
Claims (8)
- エポキシ樹脂硬化物を含み、波長590nmにおける面内の複屈折率が、0.001以上、波長590nmにおける厚み方向の複屈折率が0.001以上である位相差フィルム。
- 前記エポキシ樹脂硬化物が、ビスフェノール型のエポキシ樹脂硬化物及び高分子量型のエポキシ樹脂硬化物から選ばれる少なくとも1種を含んでいる請求項1に記載の位相差フィルム。
- 波長590nmにおける面内複屈折率が、0.002以上、波長590nmにおける厚み方向の複屈折率が0.002以上である請求項1又は2に記載の位相差フィルム。
- 硬化させることにより、波長590nmにおける面内の複屈折率が、0.001以上、波長590nmにおける厚み方向の複屈折率が0.001以上であるエポキシ樹脂硬化物が得られるエポキシ化合物を含む組成物を基材上に塗工することによって、基材上に塗工層を形成する工程と、
前記塗工層に光を照射することにより、前記塗工層を硬化させて前記基材上に硬化層を形成する工程と、を有する、位相差フィルムの製造方法。 - 前記硬化層を前記基材から剥離した後、前記硬化層を延伸する工程を有する、請求項4に記載の位相差フィルムの製造方法。
- 前記硬化層の延伸方向が、一軸方向であり、その延伸倍率が、1.01倍〜2.0倍である、請求項5に記載の位相差フィルムの製造方法。
- 前記エポキシ化合物が、非液晶性である、請求項4から6のいずれかに記載の位相差フィルムの製造方法。
- 請求項1から3のいずれかに記載の位相差フィルムを有する画像表示装置。
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