JP5358907B2 - Resin composition for color filter protective film and color filter - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、液晶表示装置(LCD)等に用いられるカラーフィルター保護膜用の硬化性樹脂組成物、および該硬化性樹脂組成物を硬化させてなるカラーフィルター保護膜に関する。 The present invention relates to a curable resin composition for a color filter protective film used for a liquid crystal display (LCD) or the like, and a color filter protective film obtained by curing the curable resin composition.
近年、パーソナルコンピューター用モニターやテレビ用に、カラー液晶表示装置が急速に普及してきている。カラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルターは、液晶表示装置の表示性能を左右する重要な部材である。カラーフィルターは保護膜と呼ばれる層を有しており、カラーフィルターの保護膜には、保護膜を形成する基材となるRGBレジストや、保護膜上に蒸着(スパッタ)形成される透明電極への密着性が良好であること、RGBレジスト層の凹凸を平滑にする能力が優れていること、可視光透過率が良好であること、そして高温高湿下において着色等の外観変化がないことなど、様々な性能が求められている。
カラーフィルターに用いられるRGBレジストには、光重合開始剤の分解物や界面活性剤、顔料や染料に由来するイオン性不純物が多く含まれている。これらの分解生成物やイオン性不純物が液晶層へ移行すると、液晶表示装置の信頼性を低下させてしまうという問題があった。
このためカラーフィルター保護膜の要求性能の中でも、特に分解生成物やイオン性不純物の液晶層への移行を抑制する高いバリア性能を有することが強く求められている。
さらに、液晶表示装置の技術の進歩に伴い、保護膜に対する要求性能も高度化してきている。特に、液晶表示装置をテレビとして使用する際には、信頼性、即ち長期間使用しても表示画質を低下させないことが求められている。このため先に述べたイオンバリア性に関しても、長期間、過酷な試験で評価されることが多くなった。
保護膜自身の中に未反応の物質が含まれる場合には、この未反応物質が液晶層へ移行すると、液晶層を汚染して液晶表示性能を低下させてしまうことがある。また、保護膜上に形成された透明電極を酸やアルカリ溶液によってエッチングし、パターンを形成する場合には、保護膜がこれらのエッチング工程条件によって劣化したり損傷したりすることがあれば、信頼性を低下させる原因となりうる。
In recent years, color liquid crystal display devices have been rapidly spread for personal computer monitors and televisions. The color filter used in the color liquid crystal display device is an important member that affects the display performance of the liquid crystal display device. The color filter has a layer called a protective film. The protective film of the color filter includes an RGB resist as a base material for forming the protective film, and a transparent electrode deposited (sputtered) on the protective film. Good adhesion, excellent ability to smooth the unevenness of the RGB resist layer, good visible light transmittance, and no change in appearance such as coloring under high temperature and high humidity, etc. Various performances are required.
The RGB resist used for the color filter is rich in ionic impurities derived from photopolymerization initiator decomposition products, surfactants, pigments and dyes. When these decomposition products and ionic impurities migrate to the liquid crystal layer, there is a problem that the reliability of the liquid crystal display device is lowered.
For this reason, among the required performance of the color filter protective film, it is strongly required to have high barrier performance that suppresses the migration of decomposition products and ionic impurities to the liquid crystal layer.
Furthermore, with the advancement of the technology of the liquid crystal display device, the required performance for the protective film has also been advanced. In particular, when a liquid crystal display device is used as a television, there is a demand for reliability, that is, display image quality that does not deteriorate even when used for a long time. For this reason, the above-mentioned ion barrier properties are often evaluated in a harsh test for a long period of time.
When an unreacted substance is contained in the protective film itself, when the unreacted substance moves to the liquid crystal layer, the liquid crystal layer may be contaminated to deteriorate the liquid crystal display performance. In addition, when the transparent electrode formed on the protective film is etched with an acid or alkali solution to form a pattern, if the protective film is deteriorated or damaged by these etching process conditions, it is reliable. It can cause a decrease in sex.
一方で、従来から様々なカラーフィルター保護膜用樹脂組成物が提案されている。例えば特許文献1では、グリシジル(メタ)アクリレートの重合体と多価カルボン酸または多価カルボン酸無水物を必須成分とした熱硬化性樹脂組成物が開示されているが、必須成分同士の相溶性が乏しいために、各成分の配合比が制限されることから、十分な架橋密度が得られず、イオンバリア性や耐薬品性に劣るものであった。
さらに特許文献2においては、重合体に含まれるカルボキシル基が(メタ)アクリロイルオキシ基含有ビニルエーテルによってブロックされた化合物を必須成分とする感光性樹脂組成物が開示されているが、(メタ)アクリロイルオキシ基の重合だけでは十分な架橋密度を得るのが難しい上に、カルボキシル基という極性の高い官能基を多量に含有するために、イオンバリア性や液晶汚染性、耐薬品性に劣るのが実状であった。
On the other hand, various resin compositions for color filter protective films have been conventionally proposed. For example, Patent Document 1 discloses a thermosetting resin composition containing a glycidyl (meth) acrylate polymer and a polyvalent carboxylic acid or polyvalent carboxylic acid anhydride as essential components. Since the compounding ratio of each component is limited due to the lack of a sufficient amount, a sufficient crosslinking density cannot be obtained, resulting in poor ion barrier properties and chemical resistance.
Further, Patent Document 2 discloses a photosensitive resin composition containing a compound in which a carboxyl group contained in a polymer is blocked with a (meth) acryloyloxy group-containing vinyl ether as an essential component, but (meth) acryloyloxy is disclosed. In addition, it is difficult to obtain a sufficient crosslink density only by polymerization of groups, and since it contains a large amount of highly polar functional groups such as carboxyl groups, it is actually inferior in ion barrier properties, liquid crystal contamination, and chemical resistance. there were.
これに対し、特許文献3および4では、アルキルビニルエーテルとカルボン酸とを反応させたカルボン酸誘導体とエポキシ樹脂を必須成分として含有する熱硬化性樹脂組成物が開示されている。この技術を用いることで、カルボン酸誘導体とエポキシ樹脂との相溶性が優れるために、適量の硬化剤を配合することが可能となり、架橋密度の高い硬化物を得ることができる。さらにこれらの開示技術を用いれば、架橋反応時にカルボン酸誘導体から脱離したビニルエーテルが、カルボン酸化合物とエポキシ化合物との反応によって生成する水酸基と反応するために、硬化物中に含まれる極性基の割合が少なくなり、比較的イオンバリア性が高く、液晶汚染性、耐薬品性の高い硬化物が得られる。
しかしながら、近年液晶表示装置がテレビ用途に用いられるようになり、液晶表示装置の更なる長寿命化が強く求められ、カラーフィルターの保護膜にはさらに高いイオンバリア性が求められるようになってきた。特許文献3および4における開示技術によれば、上述のように高いイオンバリア性を有する硬化物が得られるが、さらに架橋密度を上げるべく、カルボン酸誘導体中のカルボキシル基、エポキシ樹脂中のエポキシ基の割合を増やした場合、反応率が低下し、硬化物中に多くの未反応官能基が残存してしまうこととなり、結果としてイオンバリア性や液晶汚染性が低下してしまうことから、近年要求されているような優れた信頼性を得るのは困難であった。
In contrast, Patent Documents 3 and 4 disclose thermosetting resin compositions containing, as essential components, a carboxylic acid derivative obtained by reacting an alkyl vinyl ether and a carboxylic acid and an epoxy resin. By using this technique, since the compatibility between the carboxylic acid derivative and the epoxy resin is excellent, an appropriate amount of a curing agent can be blended, and a cured product having a high crosslinking density can be obtained. Furthermore, if these disclosed technologies are used, the vinyl ether released from the carboxylic acid derivative during the crosslinking reaction reacts with the hydroxyl group produced by the reaction between the carboxylic acid compound and the epoxy compound, so that the polar group contained in the cured product The ratio is reduced, and a cured product having a relatively high ion barrier property, liquid crystal contamination property and chemical resistance can be obtained.
However, in recent years, liquid crystal display devices have been used for television applications, and there has been a strong demand for longer life of liquid crystal display devices, and higher ion barrier properties have been required for color filter protective films. . According to the disclosed techniques in Patent Documents 3 and 4, a cured product having a high ion barrier property as described above can be obtained. In order to further increase the crosslinking density, a carboxyl group in a carboxylic acid derivative, an epoxy group in an epoxy resin When the ratio of the compound is increased, the reaction rate decreases, and many unreacted functional groups remain in the cured product. As a result, the ion barrier property and the liquid crystal contamination property are lowered. It has been difficult to obtain such excellent reliability.
本発明は上記実状に鑑みて成し遂げられたものであり、その第一の目的は、優れたバリア性、液晶汚染性、耐薬品性を有するカラーフィルター保護膜用樹脂組成物を提供することにある。
また、本発明の第二の目的は、前記の優れた保護膜特性を有するカラーフィルターを提供することにある。
The present invention has been accomplished in view of the above circumstances, and a first object thereof is to provide a resin composition for a color filter protective film having excellent barrier properties, liquid crystal contamination properties, and chemical resistance. .
The second object of the present invention is to provide a color filter having the above excellent protective film characteristics.
本発明者らは前記の課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、多価カルボン酸化合物のカルボキシル基と特定の(メタ)アクリロイルオキシ基含有ビニルエーテル化合物とを反応させた多価カルボン酸である特定のヘミアセタールエステル化合物(A)と、1分子中にエポキシ基またはオキセタニル基を2個以上有する化合物(B)を特定量比で配合したカラーフィルター保護膜用樹脂組成物が上記課題を解決するとの知見を得て、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have obtained a polyvalent carboxylic acid obtained by reacting a carboxyl group of a polyvalent carboxylic acid compound with a specific (meth) acryloyloxy group-containing vinyl ether compound. A resin composition for a color filter protective film in which a specific hemiacetal ester compound (A) and a compound (B) having two or more epoxy groups or oxetanyl groups in one molecule are blended in a specific amount ratio solves the above problems. As a result, the present invention was completed.
すなわち、本発明は次の〔1〕〜〔3〕である。
〔1〕下記の(A)および(B)成分を含有し、(A)成分の有するヘミアセタールエステル基と(B)成分の有するエポキシ基またはオキセタニル基のモル当量比[(A)/(B)]が2/10〜50/10であることを特徴とするカラーフィルター保護膜用樹脂組成物。
(A)下記式(1)で表されるヘミアセタールエステル化合物。
That is, the present invention includes the following [1] to [3].
[1] The following (A) and (B) components are contained, and the molar equivalent ratio of the hemiacetal ester group (A) component and the epoxy group or oxetanyl group (B) component [(A) / (B )] Is 2/10 to 50/10. A resin composition for a color filter protective film.
(A) A hemiacetal ester compound represented by the following formula (1).
(R1は炭素数3〜30のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、またはイソシアヌルトリアルキル基であり、nは2〜8の整数、mは1〜4の整数であり、R2は炭素数が1〜4のアルキレン基であり、R3は水素原子またはメチル基である。)
(B)1分子中にエポキシ基またはオキセタニル基を2個以上有する化合物。
〔2〕(C)熱または光によりラジカルを生じる化合物を(A)および(B)成分の合計100重量部に対して0.1〜10重量部含有することを特徴とする前記の〔1〕に記載のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物。
〔3〕前記の〔1〕または〔2〕に記載のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物を硬化させてなる硬化物の層を有するカラーフィルター。
(R 1 is an alkyl group having 3 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group, or an isocyanuric trialkyl group, n is an integer of 2 to 8, m is an integer of 1 to 4, and R 2 is carbon. The number is an alkylene group having 1 to 4, and R 3 is a hydrogen atom or a methyl group.)
(B) A compound having two or more epoxy groups or oxetanyl groups in one molecule.
[2] (C) 0.1 to 10 parts by weight of the compound that generates radicals by heat or light with respect to a total of 100 parts by weight of components (A) and (B) [1] The resin composition for color filter protective films as described in 2.
[3] A color filter having a cured product layer obtained by curing the resin composition for a color filter protective film according to [1] or [2].
本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物は、塗布し硬化させて用いることにより、イオンバリア性、液晶汚染性、および耐薬品性に著しく優れるカラーフィルターの保護膜を得ることができる。 When the resin composition for a color filter protective film of the present invention is applied, cured, and used, a color filter protective film that is remarkably excellent in ion barrier property, liquid crystal contamination property, and chemical resistance can be obtained.
以下において本発明を詳しく説明する。
1.カラーフィルター保護膜用樹脂組成物
本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物は、下記の(A)、(B)成分と、必要により(C)成分からなる。
(A)下記式(1)で表されるヘミアセタールエステル化合物。
The present invention is described in detail below.
1. Color Filter Protective Film Resin Composition The color filter protective film resin composition of the present invention comprises the following components (A) and (B) and, if necessary, component (C).
(A) A hemiacetal ester compound represented by the following formula (1).
(R1は炭素数3〜30のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、またはイソシアヌルトリアルキル基であり、nは2〜8の整数、mは1〜4の整数であり、R2は炭素数が1〜4のアルキレン基であり、R3は水素原子またはメチル基である。)
(B)1分子中にエポキシ基またはオキセタニル基を2個以上有する化合物。
(C)熱または光によりラジカルを生じる化合物
(R 1 is an alkyl group having 3 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group, or an isocyanuric trialkyl group, n is an integer of 2 to 8, m is an integer of 1 to 4, and R 2 is carbon. The number is an alkylene group having 1 to 4, and R 3 is a hydrogen atom or a methyl group.)
(B) A compound having two or more epoxy groups or oxetanyl groups in one molecule.
(C) Compound that generates radicals by heat or light
なお、本発明において、カラーフィルター保護膜とは、液晶表示装置(LCD)等に用いられるカラーフィルターの、RGB画素と、液晶配向膜、透明電極層、発光体、または受光体等との間に形成される有機層を意味する。 In the present invention, the color filter protective film is a color filter used in a liquid crystal display device (LCD) or the like between an RGB pixel and a liquid crystal alignment film, a transparent electrode layer, a light emitter, or a light receiver. It means the organic layer that is formed.
<ヘミアセタールエステル化合物(A)>
本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物におけるヘミアセタールエステル化合物(A)は、下記式(2)で表されるカルボン酸のヘミアセタールエステル結合を有する。
<Hemiacetal ester compound (A)>
The hemiacetal ester compound (A) in the resin composition for a color filter protective film of the present invention has a hemiacetal ester bond of a carboxylic acid represented by the following formula (2).
R2は炭素数が1〜4のアルキレン基であり、mは1〜4の整数、R3は水素原子またはメチル基である。
前記の式(1)で示されるヘミアセタールエステル化合物(A)は、加熱によって前記の式(2)で示されるカルボン酸のヘミアセタールエステル結合が解裂することによって下記式(3)で示される多価カルボン酸化合物(a1)と、下記式(4)で示されるビニルエーテル化合物(a2)とが生成される。
R 2 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, m is an integer of 1 to 4, and R 3 is a hydrogen atom or a methyl group.
The hemiacetal ester compound (A) represented by the above formula (1) is represented by the following formula (3) by cleaving the hemiacetal ester bond of the carboxylic acid represented by the above formula (2) by heating. A polyvalent carboxylic acid compound (a1) and a vinyl ether compound (a2) represented by the following formula (4) are produced.
(R1とnはそれぞれ、式(1)におけるものと同じである。) (R 1 and n are the same as those in formula (1).)
(m、R2、およびR3はそれぞれ、式(1)におけるものと同じである。)
前記式(3)で示される多価カルボン酸化合物は、1分子中にエポキシ基またはオキセタニル基を2個以上有する化合物とのエステル化反応により架橋構造を形成する。
さらに、前記式(4)で示されるビニルエーテル化合物は、先のエステル化反応によって生成した水酸基への付加反応により付加反応体を生成する。
(M, R 2 and R 3 are the same as those in formula (1).)
The polyvalent carboxylic acid compound represented by the formula (3) forms a crosslinked structure by an esterification reaction with a compound having two or more epoxy groups or oxetanyl groups in one molecule.
Further, the vinyl ether compound represented by the formula (4) generates an addition reactant by an addition reaction to a hydroxyl group generated by the esterification reaction.
前記式(4)で示されるビニルエーテル化合物はさらに、ラジカル重合性の(メタ)アクリロイルオキシ基を含有している。したがって前記の付加反応体はさらに、熱または光エネルギーを与えることによって重合体を生成する。 The vinyl ether compound represented by the formula (4) further contains a radically polymerizable (meth) acryloyloxy group. Thus, the addition reactant further produces a polymer by applying heat or light energy.
本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物を硬化して得られる硬化物は、これら一連の反応を用いて得られる架橋構造を有する。
本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物を硬化して得られる硬化物が形成している架橋構造は、多価カルボン酸とエポキシ反応によって生成された架橋構造に加えて、(メタ)アクリロイルオキシ基の重合体と共存した構造を形成している。さらには多価カルボン酸とエポキシとの反応によって生成した水酸基は、(メタ)アクリロイルオキシ基重合体とが結合した構造を形成している。
The cured product obtained by curing the resin composition for a color filter protective film of the present invention has a crosslinked structure obtained by using these series of reactions.
The crosslinked structure formed by the cured product obtained by curing the resin composition for a color filter protective film of the present invention includes (meth) acryloyloxy in addition to the crosslinked structure formed by the epoxy reaction with the polyvalent carboxylic acid. It forms a structure that coexists with the polymer of the group. Furthermore, the hydroxyl group produced | generated by reaction of polyhydric carboxylic acid and epoxy forms the structure which the (meth) acryloyloxy group polymer couple | bonded.
本発明に用いるヘミアセタール結合含有化合物(A)は、種々の有機溶剤に可溶であることによって、適量の硬化剤を配合することが可能であるということに加えて、多価カルボン酸とエポキシ反応によって生成された架橋構造と、(メタ)アクリロイルオキシ基の重合体とが共存した構造を形成し、さらにはカルボン酸/エポキシ反応によって生成した水酸基と(メタ)アクリロイルオキシ基重合体とが結合した構造を形成することによって、架橋密度が高く極性官能基の少ない硬化物を得ることが出来る。すなわち、バリア性や液晶汚染性、耐薬品性に優れた硬化物を得ることが出来る。 The hemiacetal bond-containing compound (A) used in the present invention is soluble in various organic solvents, so that an appropriate amount of a curing agent can be blended. A cross-linked structure generated by the reaction and a (meth) acryloyloxy group polymer coexist, and a hydroxyl group generated by a carboxylic acid / epoxy reaction and a (meth) acryloyloxy group polymer are combined. By forming such a structure, a cured product having a high crosslinking density and a small number of polar functional groups can be obtained. That is, a cured product having excellent barrier properties, liquid crystal contamination properties, and chemical resistance can be obtained.
前記の式(1)において、R1は炭素数3〜30のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、またはイソシアヌルトリアルキル基である。前記式(1)におけるR1は、本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物の硬化性や、得られる硬化物の機械物性、耐熱性および透明性に寄与する官能基である。このため十分な硬化性、硬化物として十分な機械物性、耐熱性および透明性を得るためには、前記のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、またはイソシアヌルトリアルキル基の中でも特に、炭素数が6〜8のアリール基、炭素数3〜6のシクロアルキル基、イソシアヌル基が好ましい。さらに、前記の式(1)においてnは2〜8の整数である。nの数は硬化物の機械物性、耐熱性及び硬化物と基材との密着性に寄与する部分であり、nが2よりも少ない場合は硬化剤としての機能を損なってしまい、十分な機械物性、耐熱性が得られない。また、nが8よりも多い場合は、得られた硬化物と下地との間に十分な密着性が得られない。 In the above formula (1), R 1 is an alkyl group having 3 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group, or an isocyanuric trialkyl group. R 1 in the formula (1) is a functional group that contributes to the curability of the resin composition for a color filter protective film of the present invention and the mechanical properties, heat resistance, and transparency of the resulting cured product. For this reason, in order to obtain sufficient curability, sufficient mechanical properties as a cured product, heat resistance and transparency, among the above-mentioned alkyl group, cycloalkyl group, aryl group, or isocyanuric trialkyl group, the number of carbon atoms is particularly large. A 6-8 aryl group, a C3-C6 cycloalkyl group, and an isocyanuric group are preferable. Furthermore, in said Formula (1), n is an integer of 2-8. The number of n is a part that contributes to the mechanical properties, heat resistance, and adhesion between the cured product and the substrate of the cured product. When n is less than 2, the function as a curing agent is impaired, and sufficient machine Physical properties and heat resistance cannot be obtained. Moreover, when n is larger than 8, sufficient adhesion cannot be obtained between the obtained cured product and the base.
前記の式(1)においてR2は炭素数が1〜4のアルキレン基である。R2は硬化物のバリア性や液晶汚染性、耐薬品性に寄与する部位であり、R2の炭素数が4よりも多くなった場合は、硬化物の架橋点間距離が長くなることによって架橋密度が低下し、十分な性能が得られない。さらに前記式(1)においてmは1〜4の整数である。mの数は硬化物のバリア性、液晶汚染性、耐薬品性に寄与する部位であり、mの数が4よりも多くなった場合は、硬化物の架橋点間距離が長くなることによって架橋密度が低下し、十分な性能が得られない。
本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物における、ヘミアセタールエステル化合物(A)は、例えば下記式(3)で表される多価カルボン酸化合物(a1)と下記式(4)で表されるエチレン性不飽和基を含有するビニルエーテル化合物(a2)とを用いて反応させることによって得られる。
R 2 in the formula (1) of the is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. R 2 is a site that contributes to the barrier property, liquid crystal contamination, and chemical resistance of the cured product. When the carbon number of R 2 is more than 4, the distance between the crosslinking points of the cured product is increased. The crosslinking density is lowered and sufficient performance cannot be obtained. Furthermore, in said Formula (1), m is an integer of 1-4. The number of m is a part that contributes to the barrier property, liquid crystal contamination, and chemical resistance of the cured product. When the number of m is more than 4, the distance between the cross-linking points of the cured product becomes longer. The density decreases and sufficient performance cannot be obtained.
The hemiacetal ester compound (A) in the resin composition for a color filter protective film of the present invention is represented by, for example, a polyvalent carboxylic acid compound (a1) represented by the following formula (3) and the following formula (4). It can be obtained by reacting with a vinyl ether compound (a2) containing an ethylenically unsaturated group.
(R1とnはそれぞれ、式(1)におけるものと同じである。) (R 1 and n are the same as those in formula (1).)
(m、R2、およびR3はそれぞれ、式(1)におけるものと同じである。)
前記の多価カルボン酸化合物(a1)において、式(1)におけるR1が炭素数3〜30のアルキル基であるものとして、アジピン酸等の脂肪族多価カルボン酸が挙げられる。また、式(1)におけるR1が炭素数3〜30のシクロアルキル基であるものとして、例えば、シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環式ジカルボン酸;1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸(以下、CHTA)等の脂環式トリカルボン酸;シクロヘキサンテトラカルボン酸などの脂環式テトラカルボン酸が挙げられる。式(1)におけるR1が炭素数3〜30のアリール基であるものとして、フタル酸等の芳香族ジカルボン酸;1,2,4−ベンゼントリカルボン酸(以下、トリメリット酸)等の芳香族トリカルボン酸;1,2,4,5−ベンゼンテトラカルボン酸(ピロメリット酸)等の芳香族テトラカルボン酸が挙げられ、式(1)におけるR1が炭素数3〜30のイソシアヌルトリアルキル基であるものとして、トリス(2−カルボキシエチル)イソシアヌレート(CIC酸)などの複素環式トリカルボン酸が挙げられる。なお、以上のカルボン酸の中では、硬化性に優れ、かつカラーフィルターの保護膜として十分なガラス転移温度(Tg)をはじめとする機械物性、耐熱性が得られることから、ピロメリット酸、トリメリット酸またはCHTAのような炭素6員環構造を有する3または4価のカルボン酸化合物、もしくはCIC酸のような複素環式トリカルボン酸が好ましい。
R1の炭素数が3を下回る場合、硬化物の耐熱性が十分でなく、R1の炭素数が30を上回る場合、本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物を調製する際に十分な混和性が得られず本発明の目的を達することができない。
(M, R 2 and R 3 are the same as those in formula (1).)
Examples of the polyvalent carboxylic acid compound (a1) include an aliphatic polyvalent carboxylic acid such as adipic acid, in which R 1 in the formula (1) is an alkyl group having 3 to 30 carbon atoms. Further, as R 1 in Formula (1) is a cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, such as cyclohexane alicyclic dicarboxylic acids such as dicarboxylic acid; 1,2,4-cyclohexane tricarboxylic acid (hereinafter, CHTA And alicyclic tricarboxylic acids such as cyclohexanetetracarboxylic acid. As R 1 in formula (1) is an aryl group having 3 to 30 carbon atoms, aromatic dicarboxylic acid such as phthalic acid; aromatic such as 1,2,4-benzenetricarboxylic acid (hereinafter trimellitic acid) Tricarboxylic acid; aromatic tetracarboxylic acid such as 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic acid (pyromellitic acid) can be used, and R 1 in formula (1) is an isocyanuric trialkyl group having 3 to 30 carbon atoms. Some include heterocyclic tricarboxylic acids such as tris (2-carboxyethyl) isocyanurate (CIC acid). Among the above carboxylic acids, since they have excellent curability and mechanical properties and heat resistance including a glass transition temperature (Tg) sufficient as a color filter protective film, pyromellitic acid, A tri- or tetravalent carboxylic acid compound having a carbon 6-membered ring structure such as merit acid or CHTA, or a heterocyclic tricarboxylic acid such as CIC acid is preferred.
When the carbon number of R 1 is less than 3, the heat resistance of the cured product is not sufficient, and when the carbon number of R 1 is more than 30, it is sufficient when preparing the resin composition for a color filter protective film of the present invention. Miscibility cannot be obtained and the object of the present invention cannot be achieved.
一方、本発明で用いられるヘミアセタールエステル化合物(A)の原料である前記のエチレン性不飽和基を含有するビニルエーテル化合物(a2)において、mは1〜4の整数である。mの数は硬化物のバリア性、液晶汚染性、耐薬品性に寄与する部位であり、mの数が4よりも多くなった場合は、硬化物の架橋点間距離が長くなることによって架橋密度が低下し、十分な性能が得られない。また、R2は炭素数が1〜4のアルキレン基である。R2の炭素数が4よりも多い場合は、硬化物の架橋点間距離が長くなることによって架橋密度が低下し、十分なバリア性や、液晶汚染性、耐薬品性が得られない。 On the other hand, in the vinyl ether compound (a2) containing the ethylenically unsaturated group as a raw material of the hemiacetal ester compound (A) used in the present invention, m is an integer of 1 to 4. The number of m is a part that contributes to the barrier property, liquid crystal contamination, and chemical resistance of the cured product. When the number of m is more than 4, the distance between the cross-linking points of the cured product becomes longer. The density decreases and sufficient performance cannot be obtained. R 2 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. If the number of carbon atoms in R 2 is greater than 4, the crosslinking density decreases by the distance between crosslinking points of the cured product becomes longer, sufficient barrier properties and liquid crystal contamination property, no chemical resistance can be obtained.
前記のエチレン性不飽和基を含有するビニルエーテル化合物(a2)において、好適なものとしては、例えば2−ビニロキシエチル(メタ)アクリレートや、2−(2−ビニロキシエトキシ)エチル(メタ)アクリレートなどが挙げられ、1種単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。 In the vinyl ether compound (a2) containing the ethylenically unsaturated group, suitable examples include 2-vinyloxyethyl (meth) acrylate and 2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl (meth) acrylate. It can be used alone or in combination of two or more.
本発明で用いられるヘミアセタールエステル化合物(A)は、前記の多価カルボン酸(a1)と、前記のエチレン性不飽和基含有ビニルエーテル化合物(a2)とを室温ないし150℃の範囲の温度で反応(ブロック化反応)させることにより得ることができる。ブロック化反応は平衡反応であるため、多価カルボン酸(a1)に対しエチレン性不飽和基含有ビニルエーテル化合物(a2)を若干多く使用すると反応が促進され、収率を向上させることができる。具体的には、多価カルボン酸(a1)のカルボキシル基に対するエチレン性不飽和基含有ビニルエーテル化合物(a2)のビニル基のモル当量比[(ビニル基/カルボキシル基)のモル当量比]は、1/1〜2/1であることが望ましい。このモル当量比が2/1を越える場合、反応温度を上げることができず、反応速度が著しく低い場合がある。 The hemiacetal ester compound (A) used in the present invention reacts the polyvalent carboxylic acid (a1) with the ethylenically unsaturated group-containing vinyl ether compound (a2) at a temperature ranging from room temperature to 150 ° C. It can be obtained by (blocking reaction). Since the blocking reaction is an equilibrium reaction, if the ethylenically unsaturated group-containing vinyl ether compound (a2) is used slightly more than the polyvalent carboxylic acid (a1), the reaction is promoted and the yield can be improved. Specifically, the molar equivalent ratio [the molar equivalent ratio of (vinyl group / carboxyl group)] of the vinyl group of the ethylenically unsaturated group-containing vinyl ether compound (a2) to the carboxyl group of the polyvalent carboxylic acid (a1) is 1 / 1 to 2/1 is desirable. When this molar equivalent ratio exceeds 2/1, the reaction temperature cannot be increased, and the reaction rate may be extremely low.
ブロック化反応を行う際、反応を促進させる目的で酸触媒を使用することも出来る。そのような触媒としては例えば、下記式(5)で表される酸性リン酸エステル化合物が挙げられる。 When the blocking reaction is performed, an acid catalyst can be used for the purpose of accelerating the reaction. Examples of such a catalyst include an acidic phosphate compound represented by the following formula (5).
(式中のR4は炭素数3〜10のアルキル基、シクロアルキル基またはアリール基、kは1または2である。)
また、ブロック化反応を行う際、反応系を均一にし、反応を容易にする目的で有機溶剤も使用してもよい。この際に使用する有機溶剤としては、例えば、芳香族炭化水素、エーテル類、エステルおよびエーテルエステル類、ケトン類、リン酸エステル類、ニトリル類、非プロトン性極性溶媒、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類等が挙げられる。より好ましくは、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが挙げられる。当該有機溶剤としては、アルコールまたはイオン性溶剤を除く有機溶剤であることが好ましい。アルコールまたはイオン性溶剤に関しては脱ブロック反応を進行させる場合があることが知られており、カラーフィルター保護膜用樹脂組成物の保存安定性を著しく低下させ、本発明の効果を得ることが難しくなる場合があるからである。
さらに、本発明に用いるエチレン性不飽和基含有ビニルエーテル化合物(a2)を用いブロック化反応時におけるエチレン性不飽和基の重合を防ぐことを目的として、ラジカル重合禁止剤を添加することが出来る。ラジカル重合禁止剤としては、p−メトキシフェノール、ヒドロキノンなどの重合禁止剤が使用される。
(In the formula, R 4 is an alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group or an aryl group, and k is 1 or 2.)
Moreover, when performing blocking reaction, you may use an organic solvent for the purpose of making a reaction system uniform and making reaction easy. Examples of organic solvents used here include aromatic hydrocarbons, ethers, esters and ether esters, ketones, phosphate esters, nitriles, aprotic polar solvents, propylene glycol alkyl ether acetates, and the like. Is mentioned. More preferred are cyclohexanone and propylene glycol monomethyl ether acetate. The organic solvent is preferably an organic solvent excluding alcohol or ionic solvent. It is known that the deblocking reaction may proceed with respect to the alcohol or the ionic solvent, and the storage stability of the color filter protective film resin composition is remarkably lowered, and it becomes difficult to obtain the effects of the present invention. Because there are cases.
Furthermore, a radical polymerization inhibitor can be added for the purpose of preventing polymerization of ethylenically unsaturated groups during the blocking reaction using the ethylenically unsaturated group-containing vinyl ether compound (a2) used in the present invention. As the radical polymerization inhibitor, polymerization inhibitors such as p-methoxyphenol and hydroquinone are used.
<1分子中にエポキシ基またはオキセタニル基を2個以上有する化合物(B)>
1分子中にエポキシ基またはオキセタニル基を2個以上有する化合物(B)としてより具体的には、多価エポキシ樹脂(B1)、多価オキセタニル化合物(B2)、もしくは、エポキシ基またはオキセタニル基含有(メタ)アクリル樹脂(B3)等の1分子中にエポキシ基またはオキセタニル基を2個以上有する化合物が挙げられる。
<多価エポキシ樹脂(B1)>
多価エポキシ樹脂(B1)としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェノール型またはビキシレノール型のエポキシ樹脂またはそれらの混合物、ナフタレン基含有エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂、DPP(ジ−n−ペンチルフタレート)型エポキシ樹脂、トリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン骨格含有エポキシ樹脂、臭素化エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、レゾルシノールジグリシジルエーテル等の芳香族ポリグリシジルエーテル;
フタル酸ジグリシジルエステル、イソフタル酸ジグリシジルエステル、アジピン酸ジグリシジルエステル、コハク酸ジグリシジルエステル、セバシン酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル等の脂肪族ポリジグリシジルエステル;
N,N−ジグリシジル−4−グリシジルオキシアニリン、テトラグリシジルジアミノフェニルメタン等の芳香族アミン系多価エポキシ樹脂;
<Compound (B) having two or more epoxy groups or oxetanyl groups in one molecule>
More specifically, as the compound (B) having two or more epoxy groups or oxetanyl groups in one molecule, a polyvalent epoxy resin (B1), a polyvalent oxetanyl compound (B2), or an epoxy group or oxetanyl group-containing ( Examples thereof include compounds having two or more epoxy groups or oxetanyl groups in one molecule such as (meth) acrylic resin (B3).
<Polyvalent epoxy resin (B1)>
Examples of the polyvalent epoxy resin (B1) include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol AD type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, and cresol. Novolac type epoxy resin, biphenol type or bixylenol type epoxy resin or a mixture thereof, naphthalene group-containing epoxy resin, stilbene type epoxy resin, hydroquinone type epoxy resin, epoxy resin having a fluorene skeleton, tetraphenylolethane type epoxy resin, DPP (di-n-pentylphthalate) type epoxy resin, trishydroxyphenylmethane type epoxy resin, dicyclopentadienephenol type epoxy resin, di Black pentadiene skeleton-containing epoxy resins, aromatic polyglycidyl ethers of brominated epoxy resin, trisphenolmethane type epoxy resin, resorcinol diglycidyl ether;
Aliphatic polydiglycidyl esters such as phthalic acid diglycidyl ester, isophthalic acid diglycidyl ester, adipic acid diglycidyl ester, succinic acid diglycidyl ester, sebacic acid diglycidyl ester, hexahydrophthalic acid diglycidyl ester;
Aromatic amine-based polyvalent epoxy resins such as N, N-diglycidyl-4-glycidyloxyaniline, tetraglycidyldiaminophenylmethane;
水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールF型エポキシ樹脂、各種芳香族グリシジルエーテル類の水添または半水添多価エポキシ樹脂;
エチレングリコールールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル等の脂肪族ポリグリジジルエーテル類;
1,2:8,9ジエポキシリモネン、3,4−エポキシシクロヘキセニルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、ε−カプロラクトン変成3,4−エポキシシクロヘキセニルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、3,1−ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、2−(7−オキサビシクロ[4.1.0]ヘプチル3−)−スピロ[1,3−ジオン−5,3’−[7]オキサビシクロ[4.1.0]ヘプタン、ジシクロペンタジエンジオキサイド等の脂環式多価エポキシ化合物;
N,N−ジグリシジル−4−グリシジルオキシアニリン、テトラグリシジルジアミノフェニルメタン、アニリンジグリシジルエーテル、N−(2−メチルフェニル)−N−(オキシラニルメチル)オキシランメタンアミン、N−グリシジルフタルイミド等のグリジジルアミン類、トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート等の多価複素環式エポキシ化合物などが挙げられる。
前記の多価エポキシ樹脂(B1)の中で、硬化物の機械物性、高い耐熱性、基材との良好な密着性を得るためには、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂が好ましく、さらにより高いイオンバリア性を有する硬化物が得られることから、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂がより好適なものとして挙げられる。
Hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol F type epoxy resin, hydrogenated or semi-hydrogenated polyvalent epoxy resin of various aromatic glycidyl ethers;
Aliphatic polyglycidyl ethers such as ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether;
1,2: 8,9 diepoxy limonene, 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexenecarboxylate, ε-caprolactone modified 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ′, 4′- Epoxycyclohexenecarboxylate, 3,1-bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, 2- (7-oxabicyclo [4.1.0] heptyl 3-)-spiro [1,3-dione-5, Alicyclic polyvalent epoxy compounds such as 3 ′-[7] oxabicyclo [4.1.0] heptane, dicyclopentadiene dioxide;
N, N-diglycidyl-4-glycidyloxyaniline, tetraglycidyldiaminophenylmethane, aniline diglycidyl ether, N- (2-methylphenyl) -N- (oxiranylmethyl) oxiranemethanamine, N-glycidylphthalimide, etc. Examples include glycidylamines and polyvalent heterocyclic epoxy compounds such as tris (2,3-epoxypropyl) isocyanurate.
Among the polyvalent epoxy resins (B1), in order to obtain the mechanical properties of the cured product, high heat resistance, and good adhesion to the substrate, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol AD type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, and cresol novolak type epoxy resin are preferable, and a cured product having higher ion barrier properties can be obtained. A novolac type epoxy resin and a phenol novolac type epoxy resin are more preferable.
<多価オキセタニル化合物(B2)>
多価オキセタニル化合物(B2)としては、3−メチル−3−メトキシメチルオキセタンや3−エチル−3−メトキシメチルオキセタン等の、炭素数1〜4の分岐を有していてもよい脂肪族アルキル基を有する3−アルキル−3−ヒドロキシメチルオキセタン類から誘導される、i)ヒドロキシル化合物と3−アルキル−3−ヒドロキシメチルオキセタン類とのエーテル化物;またはii)カルボキシル化合物と3−アルキル−3−ヒドロキシメチルオキセタン類とのエステル化物が挙げられる。
i)ヒドロキシル化合物と3−アルキル−3−ヒドロキシメチルオキセタン類とのエーテル化物として、例えば、炭素数2〜8のアルキレン基からなる脂肪族グリコール、炭素数2〜18の芳香族アルコール、フェノールノボラック樹脂、重合単位が第4級構造で重合度2〜8のポリシロキサン等のヒドロキシル化合物と、3−エチル−3−メトキシメチルオキセタン等のオキセタン類とをエーテル縮合した化合物等が挙げられる。より具体的には例えば、ビス((3−エチル−3−オキセタニル)メチル)エーテル、1,4−ビス(((3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ)メチル)ベンゼン、1,4−ビス(((3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ)メチル)ベンゼン、4,4’−ビス(((3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ)メチル)ビフェニル、3,3’,5,5’−メチル−4,4’−ビス(((3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ)メチル)ビフェニル、1,4−ビス((3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ)ベンゼン、4,4’−ビス((3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ)ビフェニル、3,3’,5,5’−メチル−4,4’−ビス((3−エチル−3−オキセタニル)メチル)ビフェニル等が挙げられる。
<Polyvalent Oxetanyl Compound (B2)>
Examples of the polyvalent oxetanyl compound (B2) include aliphatic alkyl groups which may have 1 to 4 carbon atoms such as 3-methyl-3-methoxymethyloxetane and 3-ethyl-3-methoxymethyloxetane. I) an etherified product of a hydroxyl compound and a 3-alkyl-3-hydroxymethyloxetane derived from 3-alkyl-3-hydroxymethyloxetanes having the following: or ii) a carboxyl compound and 3-alkyl-3-hydroxy Examples include esterified products with methyl oxetanes.
i) Etherified products of hydroxyl compounds and 3-alkyl-3-hydroxymethyloxetanes, for example, aliphatic glycols composed of alkylene groups having 2 to 8 carbon atoms, aromatic alcohols having 2 to 18 carbon atoms, phenol novolac resins And a compound obtained by ether condensation of a hydroxyl compound such as a polysiloxane having a quaternary structure with a polymerization degree of 2 to 8 and an oxetane such as 3-ethyl-3-methoxymethyloxetane. More specifically, for example, bis ((3-ethyl-3-oxetanyl) methyl) ether, 1,4-bis (((3-ethyl-3-oxetanyl) methoxy) methyl) benzene, 1,4-bis ( ((3-Ethyl-3-oxetanyl) methoxy) methyl) benzene, 4,4′-bis (((3-ethyl-3-oxetanyl) methoxy) methyl) biphenyl, 3,3 ′, 5,5′-methyl -4,4'-bis (((3-ethyl-3-oxetanyl) methoxy) methyl) biphenyl, 1,4-bis ((3-ethyl-3-oxetanyl) methoxy) benzene, 4,4'-bis ( (3-ethyl-3-oxetanyl) methoxy) biphenyl, 3,3 ′, 5,5′-methyl-4,4′-bis ((3-ethyl-3-oxetanyl) methyl) biphenyl and the like.
ii)カルボキシル化合物と3−アルキル−3−ヒドロキシメチルオキセタン類とのエステル化物として、例えば、アジピン酸、テレフタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸等のカルボキシル化合物と、3−エチル−3−メトキシメチルオキセタン等のオキセタン類をエステル化した化合物等が挙げられ、より具体的には例えば、ビス((3−エチル−3−オキセタニル)メチル)カーボネート、ビス((3−エチル−3−オキセタニル)メチル)アジペート、ビス((3−エチル−3−オキセタニル)メチル)ベンゼン−1,4−ジカルボキシレート、ビス((3−エチル−3−オキセタニル)メチル)シクロヘキサン−1,4−ジカルボキシレート等が挙げられる。 ii) As an esterified product of a carboxyl compound and 3-alkyl-3-hydroxymethyloxetane, for example, a carboxyl compound such as adipic acid, terephthalic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, and an oxetane such as 3-ethyl-3-methoxymethyloxetane More specifically, for example, bis ((3-ethyl-3-oxetanyl) methyl) carbonate, bis ((3-ethyl-3-oxetanyl) methyl) adipate, bis ( (3-ethyl-3-oxetanyl) methyl) benzene-1,4-dicarboxylate, bis ((3-ethyl-3-oxetanyl) methyl) cyclohexane-1,4-dicarboxylate and the like.
<エポキシ基またはオキセタニル基含有(メタ)アクリル樹脂(B3)>
エポキシ基またはオキセタニル基含有(メタ)アクリル樹脂(B3)は、エポキシ基またはオキセタニル基を有する構成単位を分子骨格中に有する。エポキシ基を有する構成単位は、具体的には下記式(6)〜(8)のいずれかで表され、オキセタニル基を有する構成単位としては、具体的には下記式(9)で表される。
<Epoxy group or oxetanyl group-containing (meth) acrylic resin (B3)>
The epoxy group or oxetanyl group-containing (meth) acrylic resin (B3) has a structural unit having an epoxy group or oxetanyl group in the molecular skeleton. The structural unit having an epoxy group is specifically represented by any of the following formulas (6) to (8), and the structural unit having an oxetanyl group is specifically represented by the following formula (9). .
(式中、R5は水素原子または炭素数1〜5のアルキル基、pは1〜5の整数を示す。R6は水素原子またはメチル基である。) (In the formula, R 5 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, p is an integer of 1 to 5. R 6 is a hydrogen atom or a methyl group.)
(式中、R7は水素原子または炭素数1〜5のアルキル基、R8は−CH2O−基または−CH2−基、R9は水素原子または炭素数1〜2のアルキル基、qは0〜7の整数を示す。) (Wherein R 7 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, R 8 is a —CH 2 O— group or —CH 2 — group, R 9 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, q represents an integer of 0 to 7.)
(式中、R10は水素原子または炭素数1〜5のアルキル基、rは1〜8の整数を示す。) (In the formula, R 10 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and r represents an integer of 1 to 8)
(式中、R11、R12、およびR13は水素原子または炭素数1〜5のアルキル基、sは1〜5の整数を示す。)
前記式(6)〜(9)で表される構成単位はそれぞれ、下記式(10)〜(13)で表されるエポキシ基またはオキセタニル基含有単量体から誘導される。
(Wherein, R 11, R 12, and R 13 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, s is an integer of 1-5.)
The structural units represented by the formulas (6) to (9) are each derived from an epoxy group or oxetanyl group-containing monomer represented by the following formulas (10) to (13).
(式中、R5およびpはそれぞれ、式(6)におけるものと同じである。) (In the formula, R 5 and p are the same as those in formula (6).)
(式中、R7〜R9およびqはそれぞれ、式(7)におけるものと同じである。) (Wherein R 7 to R 9 and q are the same as those in formula (7).)
(式中、R10およびrはそれぞれ、式(8)におけるものと同じである。) (Wherein R 10 and r are the same as those in formula (8).)
(式中、R11〜R13およびsはそれぞれ、式(9)におけるものと同じである。)
前記の式(6)および式(10)において、R5は水素原子または炭素数1〜5のアルキル基、好ましくはメチル基である。炭素数が5を超えると重合性の点で不都合となる。また、pは1〜5の整数であり、p=1がより好ましい。pが5を超えると、硬化後に硬化物のTgをはじめ十分な機械物性を得ることができない。
前記の式(7)および式(11)において、R7は水素原子または炭素数1〜5のアルキル基、好ましくはメチル基である。炭素数が5を超えると重合性の点で不都合となる。また、R8は−CH2O−基または−CH2−基、R9は水素原子または炭素数1〜2のアルキル基、好ましくは−CH2−基である。また、qは1〜7の整数であり、好ましくはq=1である。qが7を超えると、硬化後に硬化物のTgをはじめ十分な機械物性を得ることができない。
(Wherein R 11 to R 13 and s are the same as those in formula (9).)
In the above formulas (6) and (10), R 5 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, preferably a methyl group. If the number of carbon atoms exceeds 5, it becomes inconvenient in terms of polymerizability. Moreover, p is an integer of 1-5, and p = 1 is more preferable. If p exceeds 5, sufficient mechanical properties such as Tg of the cured product cannot be obtained after curing.
In the above formulas (7) and (11), R 7 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, preferably a methyl group. If the number of carbon atoms exceeds 5, it becomes inconvenient in terms of polymerizability. R 8 is a —CH 2 O— group or a —CH 2 — group, and R 9 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, preferably a —CH 2 — group. Q is an integer of 1 to 7, preferably q = 1. If q exceeds 7, sufficient mechanical properties such as Tg of the cured product cannot be obtained after curing.
前記の式(8)および式(12)において、R10は水素原子または炭素数1〜5のアルキル基、好ましくはメチル基である。炭素数が5を超えると重合性の点で不都合となる。また、rは1〜8の整数であり、好ましくはr=1である。rが8を超えると、硬化後に硬化物のTgをはじめ十分な機械物性を得ることができない。
前記の式(9)および式(13)において、R11およびR12は水素原子または炭素数1〜5のアルキル基、好ましくはメチル基である。炭素数が5を超えると重合性や反応性の点で不都合となる。また、R13は水素原子または炭素数1〜5のアルキル基、好ましくは水素原子である。炭素数が5を超えると重合性の点で不都合となる。また、sは1〜5の整数であり、好ましくはs=1である。sが5を超えると、硬化後に硬化物のTgをはじめ十分な機械物性を得ることができない。
これらのエポキシ基またはオキセタニル基含有単量体のうち、入手性等の点から、グシシジルメタクリレートが好ましく挙げられる。
In the above formulas (8) and (12), R 10 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, preferably a methyl group. If the number of carbon atoms exceeds 5, it becomes inconvenient in terms of polymerizability. R is an integer of 1 to 8, preferably r = 1. If r exceeds 8, sufficient mechanical properties such as Tg of the cured product cannot be obtained after curing.
In the above formulas (9) and (13), R 11 and R 12 are a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, preferably a methyl group. If the number of carbon atoms exceeds 5, it becomes inconvenient in terms of polymerizability and reactivity. R 13 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, preferably a hydrogen atom. If the number of carbon atoms exceeds 5, it becomes inconvenient in terms of polymerizability. Further, s is an integer of 1 to 5, preferably s = 1. When s exceeds 5, sufficient mechanical properties such as Tg of the cured product cannot be obtained after curing.
Of these epoxy group or oxetanyl group-containing monomers, glycidyl methacrylate is preferred from the standpoint of availability.
エポキシ基またはオキセタニル基を有する化合物(B)としてグリシジル(メタ)アクリレート、オキセタン(メタ)アクリレート、脂環式エポキシ(メタ)アクリレート等を分子骨格中に含むアクリル系共重合体を用いる場合、これらの重合体は常法の重合法により重合することができる。すなわち、重合方法は特に限定されず、ラジカル重合、イオン重合等の重合法を採ることができ、より具体的には重合開始剤の存在下、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、乳化重合法等の重合法を採ることができる。 When using an acrylic copolymer containing glycidyl (meth) acrylate, oxetane (meth) acrylate, alicyclic epoxy (meth) acrylate, etc. in the molecular skeleton as the compound (B) having an epoxy group or an oxetanyl group, The polymer can be polymerized by a conventional polymerization method. That is, the polymerization method is not particularly limited, and a polymerization method such as radical polymerization or ionic polymerization can be employed. More specifically, in the presence of a polymerization initiator, a bulk polymerization method, a solution polymerization method, a suspension polymerization method, A polymerization method such as an emulsion polymerization method can be employed.
本発明において、1分子中にエポキシ基またはオキセタニル基を2個以上有する化合物(B)として、エポキシ基またはオキセタニル基含有(メタ)アクリル樹脂(B3)を用いた場合、ガラス転移温度(Tg)や硬度等の機械物性や耐熱透明性の向上を達することができる。
エポキシ基またはオキセタニル基含有(メタ)アクリル樹脂(B3)の分子量は、通常3,000以上、好ましくは5,000以上であり、分子量が低すぎると(メタ)アクリル骨格を導入する意義が薄れ、保護膜の硬度が低下し、塗布・硬化後の平坦性が低下する場合がある。
In the present invention, when the epoxy group or oxetanyl group-containing (meth) acrylic resin (B3) is used as the compound (B) having two or more epoxy groups or oxetanyl groups in one molecule, the glass transition temperature (Tg) Improvements in mechanical properties such as hardness and heat-resistant transparency can be achieved.
The molecular weight of the epoxy group or oxetanyl group-containing (meth) acrylic resin (B3) is usually 3,000 or more, preferably 5,000 or more, and if the molecular weight is too low, the significance of introducing the (meth) acryl skeleton is reduced, In some cases, the hardness of the protective film decreases and the flatness after coating and curing decreases.
本発明において、1分子中にエポキシ基またはオキセタニル基を2個以上有する化合物(B)の分子量は、通常180〜300,000、好ましくは185〜100,000、より好ましくは250〜20,000である。1分子中にエポキシ基またはオキセタニル基を2個以上有する化合物(B)の分子量が180未満であると、硬化物の架橋密度が低下するために保護膜の機械物性、バリア性、液晶汚染性、耐薬品性が低下する可能性があり、300,000を上回ると他の配合成分との相溶性が低下する可能性がある。
また、1分子中にエポキシ基またはオキセタニル基を2個以上有する化合物(B)のエポキシ当量としては60〜4,000g/eqであることが好ましく、より好ましくは、90〜3,500g/eqである。1分子中にエポキシ基またはオキセタニル基を2個以上有する化合物(B)のエポキシ当量が60g/eq未満であると、架橋密度が高くなりすぎるために、硬化時における収縮が大きくなり、結果として保護膜にひび割れなどの欠陥が生じてしまう可能性があり、4,000g/eqを上回ると保護膜の架橋密度が低くなり保護膜のバリア性や液晶汚染性、耐薬品性が著しく低下する可能性がある。
In the present invention, the molecular weight of the compound (B) having two or more epoxy groups or oxetanyl groups in one molecule is usually 180 to 300,000, preferably 185 to 100,000, more preferably 250 to 20,000. is there. When the molecular weight of the compound (B) having two or more epoxy groups or oxetanyl groups in one molecule is less than 180, the crosslink density of the cured product is lowered, so that the mechanical properties of the protective film, the barrier properties, the liquid crystal contamination properties, Chemical resistance may be reduced, and if it exceeds 300,000, compatibility with other compounding components may be reduced.
The epoxy equivalent of the compound (B) having two or more epoxy groups or oxetanyl groups in one molecule is preferably 60 to 4,000 g / eq, more preferably 90 to 3,500 g / eq. is there. When the epoxy equivalent of the compound (B) having two or more epoxy groups or oxetanyl groups in one molecule is less than 60 g / eq, the crosslinking density becomes too high, resulting in a large shrinkage at the time of curing, resulting in protection. Defects such as cracks may occur in the film, and if it exceeds 4,000 g / eq, the crosslink density of the protective film will decrease, and the protective film's barrier properties, liquid crystal contamination, and chemical resistance may be significantly reduced. There is.
なお、本発明において、エポキシ当量とは1グラム当量のエポキシ基を含有する化合物のグラム数(g/eq;理論値)であり、エポキシ基の式量には直接に関係しない活性酸素のモル当量を基準としているので、オキセタニル基を含有する化合物についても、エポキシ当量を持って準用することができる。1分子中にエポキシ基またはオキセタニル基を2個以上有する化合物(B)の構造と分子量が既知の場合、計算によって得られ、構造が不明の場合、JIS K7236:2001「エポキシ樹脂のエポキシ当量の求め方」において規定される塩酸−ジオキサン滴定から得られる。 In the present invention, the epoxy equivalent is the number of grams (g / eq; theoretical value) of a compound containing 1 gram equivalent of an epoxy group, and the molar equivalent of active oxygen not directly related to the formula weight of the epoxy group. Therefore, a compound containing an oxetanyl group can be applied mutatis mutandis with an epoxy equivalent. When the structure and molecular weight of the compound (B) having two or more epoxy groups or oxetanyl groups in one molecule are known, it is obtained by calculation. When the structure is unknown, JIS K7236: 2001 “Determining the epoxy equivalent of epoxy resin It is obtained from the hydrochloric acid-dioxane titration defined in “Method”.
本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物において、エポキシ基またはオキセタニル基を有する化合物(B)は、得られる硬化物のバリア性や液晶汚染性、耐薬品性のみならず、硬化物の耐熱性や透明性、機械物性および下地との密着性といった性能に寄与する重要な成分である。
このようにして得られる本発明の樹脂硬化物の層は、多価カルボン酸化合物とエポキシ基を含有する化合物による架橋構造体であるため、透明性や耐薬品性、耐熱性(加熱による膜減りや変色の程度など)に優れている。さらに、多価カルボン酸とエポキシとの反応によって生成された架橋構造体と、(メタ)アクリロイルオキシ基の重合体とが共存した高架橋密度構造を形成し、さらには多価カルボン酸とエポキシとの反応によって生成した水酸基と(メタ)アクリロイルオキシ基重合体とが結合した構造を形成することによって、高架橋密度かつ極性官能基が少なく、バリア性、液晶汚染性、耐薬品性に優れた保護膜が得られるため、信頼性に優れたカラーフィルターが得られる。
In the resin composition for a color filter protective film of the present invention, the compound (B) having an epoxy group or an oxetanyl group is not only a barrier property, liquid crystal contamination property and chemical resistance of the resulting cured product, but also the heat resistance of the cured product. It is an important component that contributes to performance such as transparency, mechanical properties, and adhesion to the substrate.
The layer of the resin cured product of the present invention thus obtained is a cross-linked structure made of a compound containing a polyvalent carboxylic acid compound and an epoxy group, so that it has transparency, chemical resistance, and heat resistance (film reduction by heating). And the degree of discoloration). Furthermore, a crosslinked structure formed by the reaction of polyvalent carboxylic acid and epoxy and a polymer of (meth) acryloyloxy group coexist to form a highly crosslinked density structure. By forming a structure in which the hydroxyl group produced by the reaction and the (meth) acryloyloxy group polymer are combined, a protective film with high crosslink density, few polar functional groups, and excellent barrier properties, liquid crystal contamination, and chemical resistance can be obtained. Therefore, a color filter having excellent reliability can be obtained.
<熱または光によりラジカルを生じる化合物(C)>
本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物において、熱または光によりラジカルを生じる化合物(C)は、ヘミアセタールエステル化合物(A)の有しているラジカル重合性基である(メタ)アクリロイルオキシ基の重合反応を促進させることを目的として加えられ、(メタ)アクリロイルオキシ基の重合反応を促進し、架橋密度をさらに高める機能を有する。
本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物に用いる、熱によりラジカルを生じる化合物(C)としては、一般的にラジカル重合開始剤として知られているものを使用することができる。その具体例としては、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス−(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス−(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)等のニトリル系アゾ化合物(ニトリル系アゾ系重合開始剤);ジメチル2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)、2,2’−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)等の非ニトリル系アゾ化合物(非ニトリル系アゾ系重合開始剤);t−ヘキシルペルオキシピバレート、tert−ブチルペルオキシピバレート、3,5,5−トリメチルヘキサノイルペルオキシド、オクタノイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ステアロイルペルオキシド、1,1,3,3−テトラメチルブチルペルオキシ2−エチルヘキサノエート、サクシニックペルオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルペルオキシ)ヘキサン、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルペルオキシ2−エチルヘキサノエート、t−ヘキシルペルオキシ2−エチルヘキサノエート、4−メチルベンゾイルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、1,1’−ビス−(tert−ブチルペルオキシ)シクロヘキサン等の有機過酸化物(パーオキサイド系重合開始剤)などが挙げられる。
<Compound that generates radicals by heat or light (C)>
In the resin composition for a color filter protective film of the present invention, the compound (C) that generates a radical by heat or light is a (meth) acryloyloxy group that is a radical polymerizable group of the hemiacetal ester compound (A). It is added for the purpose of accelerating the polymerization reaction of (meth) acryloyloxy groups, and has a function of further increasing the crosslinking density.
As the compound (C) for generating radicals by heat used in the resin composition for a color filter protective film of the present invention, those generally known as radical polymerization initiators can be used. Specific examples thereof include 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis- (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis- (4-methoxy-2,4). Nitrile azo compounds (nitrile azo polymerization initiators) such as -dimethylvaleronitrile); dimethyl 2,2'-azobis (2-methylpropionate), 2,2'-azobis (2,4,4- Non-nitrile azo compounds (non-nitrile azo polymerization initiators) such as trimethylpentane); t-hexyl peroxypivalate, tert-butyl peroxypivalate, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, octanoyl peroxide, Lauroyl peroxide, stearoyl peroxide, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy 2-ethylhexanoate, Xenic peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxy 2-ethylhexanoate, t-hexylperoxy 2-ethylhexanoate And organic peroxides (peroxide polymerization initiators) such as 4-methylbenzoyl peroxide, benzoyl peroxide, and 1,1′-bis- (tert-butylperoxy) cyclohexane.
また、光によりラジカルを発生する化合物としては、紫外線、電離放射線、可視光、或いは、その他の各波長、特に365nm以下のエネルギー線で活性化し得るラジカル重合開始剤を好ましく用いることができる。ラジカル重合開始剤は、例えば紫外線のエネルギーによりフリーラジカルを発生する化合物であって、ベンゾイン、ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン誘導体またはそれらのエステルなどの誘導体;キサントン並びにチオキサントン誘導体;クロロスルフォニル、クロロメチル多核芳香族化合物、クロロメチル複素環式化合物、クロロメチルベンゾフェノン類などの含ハロゲン化合物;トリアジン類;フルオレノン類;ハロアルカン類;光還元性色素と還元剤とのレドックスカップル類;有機硫黄化合物;過酸化物などがある。好ましくは、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、2−メチル−1[4−メチルチオ]フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタノン−1、2−ヒドロキシー2−メチルー1−フェニル−プロパン−1、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾールなどのケトン系およびビイミダゾール系化合物等を挙げることができる。これらの開始剤を1種のみまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。2種以上を併用する場合には、吸収分光特性を阻害しないようにするのがよい。 Moreover, as a compound which generates radicals by light, radical polymerization initiators that can be activated by ultraviolet rays, ionizing radiation, visible light, or other wavelengths, particularly energy rays of 365 nm or less, can be preferably used. Radical polymerization initiators are compounds that generate free radicals by, for example, the energy of ultraviolet light, and are derivatives such as benzophenone derivatives such as benzoin and benzophenone or their esters; xanthone and thioxanthone derivatives; chlorosulfonyl, chloromethyl polynuclear aromatic compounds , Chloromethyl heterocyclic compounds, halogen-containing compounds such as chloromethylbenzophenones; triazines; fluorenones; haloalkanes; redox couples of photoreducing dyes and reducing agents; organic sulfur compounds; peroxides . Preferably, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl ketone, 2-methyl-1 [4-methylthio] phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1- ON, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone-1,2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane-1,2,2′-bis (o-chlorophenyl)- Examples thereof include ketone-based and biimidazole-based compounds such as 4,5,4′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole. These initiators can be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds are used in combination, it is preferable not to inhibit the absorption spectral characteristics.
熱または光によりラジカルを生じる化合物(C)を用いた場合には、硬化物の焼成時にかかる熱によって、または必要に応じて紫外線、電離放射線、可視光、或いは、その他の各波長、特に365nm以下のエネルギー線を照射することによって、多価カルボン酸誘導体の有する(メタ)アクリロイルオキシ基の熱による重合反応を促進することにより、硬化物中に存在する未反応官能基を低減することができ、より高架橋密度、すなわちより高いバリア性を有する硬化物を得ることが出来る。 When the compound (C) that generates radicals by heat or light is used, ultraviolet rays, ionizing radiation, visible light, or other wavelengths, particularly 365 nm or less, depending on the heat applied when the cured product is fired or as necessary. By irradiating the energy beam of the above, by promoting the polymerization reaction by heat of the (meth) acryloyloxy group of the polyvalent carboxylic acid derivative, it is possible to reduce unreacted functional groups present in the cured product, A cured product having a higher crosslink density, that is, a higher barrier property can be obtained.
<(A)、(B)、(C)各成分の配合割合>
本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物において、(A)成分の有する潜在化多価カルボン酸基と(B)成分の有するエポキシ基又はオキセタニル基のモル当量比[(A)/(B)]は、2/10〜50/10である。
(A)成分の有する潜在化多価カルボン酸基と(B)成分の有するエポキシ基又はオキセタニル基のモル当量比[(A)/(B)]は、好ましくは4/10〜30/10であり、より好ましくは5/10〜20/10である。(A)成分の有する潜在化多価カルボン酸基と(B)成分の有するエポキシ基又はオキセタニル基のモル当量比[(A)/(B)]が2/10よりも小さい場合は、得られる硬化物の架橋密度が低くなるために、本願が目的としている十分なバリア性、液晶汚染性、耐薬品性が得られない。(A)成分の有する潜在化多価カルボン酸基と(B)成分の有するエポキシ基又はオキセタニル基のモル当量比[(A)/(B)]が50/10よりも大きい場合、極性の高いカルボキシル基が過剰に残存することになるため、硬化物の耐薬品性が低下してしまう。
本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物において、(A)成分と(B)成分の合計量は、好ましくは70重量%以上、より好ましくは80重量%以上、さらに好ましくは90重量%以上である。合計量が少なすぎると本願の優れた効果を発揮できない場合がある。
<(A), (B), (C) Mixing ratio of each component>
In the resin composition for a color filter protective film of the present invention, the molar equivalent ratio of the latent polyvalent carboxylic acid group (A) component and the epoxy group or oxetanyl group (B) component [(A) / (B) ] Is 2/10 to 50/10.
The molar equivalent ratio [(A) / (B)] of the latent polyvalent carboxylic acid group of component (A) and the epoxy group or oxetanyl group of component (B) is preferably 4/10 to 30/10. Yes, more preferably 5/10 to 20/10. When the molar equivalent ratio [(A) / (B)] of the latent polyvalent carboxylic acid group of the component (A) and the epoxy group or oxetanyl group of the component (B) is less than 2/10, it is obtained. Since the crosslink density of the cured product is low, sufficient barrier properties, liquid crystal contamination properties, and chemical resistance, which are intended by the present application, cannot be obtained. When the molar equivalent ratio [(A) / (B)] of the latent polyvalent carboxylic acid group of the component (A) and the epoxy group or oxetanyl group of the component (B) is greater than 50/10, the polarity is high. Since excessive carboxyl groups remain, the chemical resistance of the cured product decreases.
In the resin composition for a color filter protective film of the present invention, the total amount of the component (A) and the component (B) is preferably 70% by weight or more, more preferably 80% by weight or more, and further preferably 90% by weight or more. is there. If the total amount is too small, the excellent effects of the present application may not be exhibited.
さらに、本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物において、熱または光によりラジカルを生じる化合物(C)を配合する場合、(C)成分の配合割合は、(A)および(B)成分の合計100重量部に対して0.1〜10重量部であり、さらに好ましくは1.0〜6.0重量部である。(C)成分の配合割合が0.1重量部よりも少ない場合には、十分な触媒効果が得られず、配合割合が10重量部よりも多い場合には、未反応の低分子が硬化物中に残存することになり、硬化物の耐熱黄変性や耐薬品性が低下することとなる。 Furthermore, in the resin composition for a color filter protective film of the present invention, when the compound (C) that generates radicals by heat or light is blended, the blending ratio of the component (C) is the sum of the components (A) and (B). It is 0.1-10 weight part with respect to 100 weight part, More preferably, it is 1.0-6.0 weight part. When the blending ratio of the component (C) is less than 0.1 parts by weight, a sufficient catalytic effect cannot be obtained, and when the blending ratio is more than 10 parts by weight, unreacted low molecules are cured. It will remain in, and the heat-resistant yellowing and chemical resistance of the cured product will decrease.
<その他の成分>
本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物には、粘度等を調整する目的で有機溶剤を添加して使用しても良い。この際に使用する有機溶剤としては、芳香族炭化水素、エーテル類、エステルおよびエーテルエステル類、ケトン類、リン酸エステル類、ニトリル類、非プロトン性極性溶媒、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類等が挙げられる。
これらの有機溶剤は1種単独または2種以上を適宜組み合わせて使用できる。
また、これら有機溶剤の添加量については特に制限はされず、所定膜厚、表明の平滑性、および成膜方法等に応じ、任意の量添加し、塗布適性を付与することができる。通常は、本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物100重量部に対して、5〜2000重量部を添加して使用される。
<Other ingredients>
The resin composition for a color filter protective film of the present invention may be used with an organic solvent added for the purpose of adjusting viscosity and the like. Examples of organic solvents used here include aromatic hydrocarbons, ethers, esters and ether esters, ketones, phosphate esters, nitriles, aprotic polar solvents, propylene glycol alkyl ether acetates, and the like. It is done.
These organic solvents can be used alone or in combination of two or more.
Moreover, there is no restriction | limiting in particular about the addition amount of these organic solvents, According to the predetermined film thickness, the smoothness of expression, a film-forming method, etc., arbitrary amounts can be added and the applicability | paintability can be provided. Usually, 5 to 2000 parts by weight is added to 100 parts by weight of the resin composition for a color filter protective film of the present invention.
本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物には、得られる保護膜と基材との密着性を向上させるための助剤として、シラン系カップリング剤を添加することもできる。添加し得るシラン系カップリング剤としては、例えば、エポキシ基を有するシラン系カップリング剤、アミノ基を有するシラン系カップリング剤、(メタ)アクリロイル基を有するシラン系カップリング剤またはその重合物等を挙げることができる。これらのシラン系カップリング剤は1種単独でまたは2種以上を適宜組み合わせて添加することができる。
前記のシラン系カップリング剤を用いる場合は、本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物100重量部に対して、通常1〜30重量%、好ましくは2〜25重量%、より好ましくは3〜20重量%である。シラン系のカップリング剤の配合量が1重量%未満であると、得られる保護膜の基材への密着性の向上効果が不充分である。また、シラン系カップリング剤が30重量%を越えると保護膜の硬度等の性能が低下する。
A silane coupling agent can also be added to the resin composition for a color filter protective film of the present invention as an auxiliary agent for improving the adhesion between the obtained protective film and the substrate. Examples of the silane coupling agent that can be added include a silane coupling agent having an epoxy group, a silane coupling agent having an amino group, a silane coupling agent having a (meth) acryloyl group, or a polymer thereof. Can be mentioned. These silane coupling agents can be added singly or in appropriate combination of two or more.
When using the said silane coupling agent, it is 1-30 weight% normally with respect to 100 weight part of resin compositions for color filter protective films of this invention, Preferably it is 2-25 weight%, More preferably, it is 3-3 weight%. 20% by weight. If the amount of the silane coupling agent is less than 1% by weight, the effect of improving the adhesion of the resulting protective film to the substrate is insufficient. On the other hand, when the silane coupling agent exceeds 30% by weight, the performance such as the hardness of the protective film is lowered.
本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物には、得られる保護膜の外観を向上させる目的で、表面調整剤を添加することもできる。表面調整剤は1種単独でまたは2種以上を適宜組み合わせて使用することができる。また、表面調整剤は本発明の(A)〜(C)の必須成分をはじめとする各成分の相溶性を向上させる目的で添加される場合もある。
前記の表面調整剤を用いる場合は、本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物100重量部に対して、通常0.001〜3重量%添加するのが好ましい。
本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物には、さらに、粘度調整の目的で、増粘剤、チキソ剤等の粘度調整剤を添加しても良い。また、赤外線や紫外線吸収剤を添加しても良い。
また、線膨張係数の調整、平坦性向上、表面硬度の向上、粘度調整、屈折率の調整、所定波長の光線吸収、密着性の向上等の目的で、本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物に任意量フィラーを添加することができる。この際用いられるフィラーとしては、透明性を妨げるものでなければ特に限定されないが、シリカゾル、シリカゲル、酸化チタン、酸化アルミ、酸化セリウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等が例として挙げられる。これらのフィラーは1種単独でまたは2種以上を適宜組み合わせて使用することができる。
また、本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物には、本発明の効果が損なわれない範囲で、必要に応じて、炭酸ガス発生防止剤、可撓性付与剤、酸化防止剤、可塑剤、滑剤、表面処理剤、難燃剤、帯電防止剤、着色剤、レベリング剤、イオントラップ剤、摺動性改良剤、各種ゴム、有機ポリマービーズ、硝子ビーズ、揺変性付与剤、表面張力低下剤、消泡剤、光拡散剤、抗酸化剤、蛍光剤等の添加剤を配合することができる。
A surface conditioner may be added to the resin composition for a color filter protective film of the present invention for the purpose of improving the appearance of the protective film obtained. A surface conditioning agent can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types as appropriate. Further, the surface conditioner may be added for the purpose of improving the compatibility of each component including the essential components (A) to (C) of the present invention.
When using the above surface conditioner, it is usually preferable to add 0.001 to 3% by weight with respect to 100 parts by weight of the resin composition for a color filter protective film of the present invention.
To the resin composition for a color filter protective film of the present invention, a viscosity adjusting agent such as a thickener or a thixotropic agent may be further added for the purpose of adjusting the viscosity. Further, infrared rays or ultraviolet absorbers may be added.
In addition, for the purposes of adjusting the linear expansion coefficient, improving flatness, improving surface hardness, adjusting viscosity, adjusting refractive index, absorbing light of a predetermined wavelength, improving adhesiveness, etc., the resin composition for color filter protective film of the present invention An arbitrary amount of filler can be added to the product. The filler used in this case is not particularly limited as long as it does not hinder transparency, and examples thereof include silica sol, silica gel, titanium oxide, aluminum oxide, cerium oxide, tin oxide, zinc oxide, and zirconium oxide. These fillers can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types as appropriate.
In addition, the resin composition for a color filter protective film of the present invention includes a carbon dioxide gas generation inhibitor, a flexibility-imparting agent, an antioxidant, and a plasticizer, as necessary, within a range that does not impair the effects of the present invention. , Lubricants, surface treatment agents, flame retardants, antistatic agents, coloring agents, leveling agents, ion trapping agents, slidability improving agents, various rubbers, organic polymer beads, glass beads, thixotropic agents, surface tension reducing agents, Additives such as an antifoaming agent, a light diffusing agent, an antioxidant, and a fluorescent agent can be blended.
<カラーフィルター保護膜用樹脂組成物の製造方法>
以下に本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物の配合、攪拌、分散手法に関して説明する。
本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物において、上記(A)〜(C)の必須成分をはじめとする各成分を一括配合しても良いし、各成分を溶剤に溶解した後に逐次配合しても良い。また、配合する際の投入順序や作業条件は特に制約を受けない。例えば、全成分を同時に溶剤に溶解して調製してもよいし、必要に応じては各成分を適宜2つ以上の溶液としておいて、使用時(塗布時)にこれらの溶液を混合して調製してもよい。
本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物において、上記(A)〜(C)の必須成分をはじめとする各成分混合後の攪拌に関しては、羽根形撹拌機、デソルバー、ニーダー、ボールミル混和機、ロール分散機等を用いて撹拌をおこなってもよいし、各成分をガロン瓶等の容器に配合してから容器ごとミックスローターで回転させて攪拌してもよい。混合および攪拌の温度は、配合成分にもよるが、通常、結露や溶剤の揮散を避けるために、10〜60℃が好ましい。
<Method for producing resin composition for color filter protective film>
Hereinafter, the blending, stirring and dispersing methods of the resin composition for a color filter protective film of the present invention will be described.
In the resin composition for a color filter protective film of the present invention, the respective components including the essential components (A) to (C) may be blended at once, or may be blended sequentially after each component is dissolved in a solvent. May be. In addition, there are no particular restrictions on the charging order and working conditions when blending. For example, all the components may be prepared by dissolving in a solvent at the same time. If necessary, each component may be appropriately made into two or more solutions, and these solutions may be mixed at the time of use (at the time of application). It may be prepared.
In the resin composition for a color filter protective film of the present invention, for stirring after mixing each component including the essential components (A) to (C), a blade-type stirrer, a desolver, a kneader, a ball mill blender, Stirring may be performed using a roll disperser or the like, and each component may be blended in a container such as a gallon bottle and then the container may be rotated by a mix rotor and stirred. Although the temperature of mixing and stirring is based also on a mixing | blending component, in order to avoid condensation and volatilization of a solvent, 10-60 degreeC is preferable normally.
本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物に粘度調整剤やフィラーを添加する場合には、モーターミル、シェイカー等の高シェア分散機を用いた分散を行っても良い。この際には、本発明における上記(A)〜(C)の必須成分をはじめとする各成分をバインダーとしたマスターバッチを予め作製しておき、使用時に配合するなどといった手法も取ることができる。ただし、本発明のヘミアセタールエステル化合物(A)は熱により脱ブロック反応が進行するため、ヘミアセタールエステル化合物(A)を含む組成物を分散する際には、80℃以上に加熱しないよう配慮が必要となる。 When a viscosity modifier or filler is added to the resin composition for a color filter protective film of the present invention, dispersion using a high shear disperser such as a motor mill or a shaker may be performed. In this case, it is also possible to prepare a master batch in which each component including the essential components (A) to (C) in the present invention is used as a binder and mix it at the time of use. . However, since the deblocking reaction proceeds with heat in the hemiacetal ester compound (A) of the present invention, when dispersing the composition containing the hemiacetal ester compound (A), care should be taken not to heat to 80 ° C. or higher. Necessary.
2.カラーフィルター
本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物は、硬化させて硬化物の層を形成し、保護膜として利用することができる。この方法としては、本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物に溶剤を添加し適宜粘度調整して塗布液とし、まず、それを例えばカラーフィルターの着色層を形成した側の表面に塗布する。塗布の方法に関しては、特に限定されるものではなく、通常用いられる塗布手法として、例えば、スピンコーター塗布法、浸漬塗布法、スプレーコーター塗布法、ロールコーター塗布法、スクリーン印刷塗布法、オフセット印刷塗布法、スリットコーター塗布法、ダイコーター塗布法等の単独または組み合わせにより、基材に塗布することができる。
次に、得られた塗膜を乾燥し、さらに必要に応じて予備加熱(以下、プリベーク)を行った後、本硬化加熱(以下、ポストベーク)を経て樹脂硬化物の層を形成する。この際には、プリベーク条件として40〜140℃、0〜1時間、ポストベーク条件として150〜280℃、0.2〜2時間が好ましい条件として挙げられる。また、この際の加熱手法としては、特に限定されるものではなく、例えば、密閉式硬化炉や連続硬化が可能なトンネル炉等の硬化装置を採用することができる。加熱源は特に制約されることなく、熱風循環、赤外線加熱、高周波加熱等の方法で行うことができる。
2. Color Filter The resin composition for a color filter protective film of the present invention can be cured to form a cured product layer and used as a protective film. In this method, a solvent is added to the resin composition for a color filter protective film of the present invention to appropriately adjust the viscosity to obtain a coating solution, which is first applied to, for example, the surface of the color filter on which the colored layer is formed. The coating method is not particularly limited. Examples of commonly used coating methods include spin coater coating method, dip coating method, spray coater coating method, roll coater coating method, screen printing coating method, and offset printing coating. It can be applied to the substrate by a single method or a combination of a coating method, a slit coater coating method, a die coater coating method and the like.
Next, after drying the obtained coating film and performing preheating (hereinafter referred to as pre-baking) as necessary, a cured resin layer is formed through main curing heating (hereinafter referred to as post-baking). In this case, 40 to 140 ° C. and 0 to 1 hour are preferable as prebaking conditions, and 150 to 280 ° C. and 0.2 to 2 hours are preferable as post baking conditions. In addition, the heating method in this case is not particularly limited, and for example, a curing apparatus such as a closed curing furnace or a tunnel furnace capable of continuous curing can be employed. The heating source is not particularly limited, and can be performed by a method such as hot air circulation, infrared heating, high frequency heating or the like.
なお、本発明の樹脂硬化物の層は、塗布後の膜厚として通常5〜20μm、好ましくは0.2〜5μm、より好ましくは0.5〜4μmである。塗布後の膜厚が小さすぎる場合には、バリア性、平坦性等の保護膜に要求される性能を得ることが難しく、大きすぎると透明性、耐ITO形成プロセス性等の性能が低下する。 In addition, the layer of the resin cured material of this invention is 5-20 micrometers normally as a film thickness after application | coating, Preferably it is 0.2-5 micrometers, More preferably, it is 0.5-4 micrometers. When the film thickness after coating is too small, it is difficult to obtain performances required for a protective film such as barrier properties and flatness, and when it is too large, performance such as transparency and ITO forming processability is deteriorated.
次に実施例および比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。
以下に本実施例および比較例で用いた測定方法、評価方法を示す。
<全酸当量>
全酸当量は、JIS K 0070:1992「化学製品の酸価、けん化価、エステル価、よう素価、水酸基価及び不けん化物の試験方法」の加水分解酸価測定によって測定した。
<平均分子量>
重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mn)及び多分散度(Mw/Mn)は、東ソー(株)製ゲルパーミエーションクロマトグラフィー装置HLC−8220GPCを用い、カラムとして昭和電工(株)製SHODEX K−801を用い、THFを溶離液とし、RI検出器により測定してポリスチレン換算により求めた。
<エポキシ当量>
エポキシ当量は、JIS K 7236:2001「エポキシ樹脂のエポキシ当量の求め方」によって規定される方法によって測定した。
Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples.
The measurement methods and evaluation methods used in the examples and comparative examples are shown below.
<Total acid equivalent>
The total acid equivalent was measured by hydrolysis acid value measurement according to JIS K 0070: 1992 “Testing method for acid value, saponification value, ester value, iodine value, hydroxyl value and unsaponified product of chemical products”.
<Average molecular weight>
The weight average molecular weight (Mw), number average molecular weight (Mn), and polydispersity (Mw / Mn) were measured by using a gel permeation chromatography device HLC-8220GPC manufactured by Tosoh Corporation and using SHODEX manufactured by Showa Denko KK as a column. Using K-801, THF was used as an eluent, measured by an RI detector, and determined in terms of polystyrene.
<Epoxy equivalent>
The epoxy equivalent was measured by a method defined by JIS K 7236: 2001 “How to Determine Epoxy Equivalent of Epoxy Resin”.
<バリア性>
バリア性の評価は、水蒸気透過度の測定を用いて行った。
硬化物をJIS K7129:1992「プラスチック及びシートの水蒸気透過度試験方法(機器測定法)」のB法に準じて、水蒸気透過度測定装置MOCON社製PERMATRANを用いて、90%R.H.で行った。
判定基準は次のとおりである。
水蒸気透過度測定によって得られた結果X(g/m2/day)が、
◎:X≦4.0
○:4.0<X≦5.0
△:5.0<X≦7.0
×:X>7.0
実用に供するには△以上が必要であり、近年要求される高い信頼性を得るためには○以上が必要である。
<Barrier properties>
The barrier property was evaluated using measurement of water vapor permeability.
In accordance with method B of JIS K7129: 1992 “Water vapor permeability test method for plastics and sheets (instrument measurement method)”, the cured product was subjected to 90% R.D. using PERMATRAN manufactured by MOCON. H. I went there.
Judgment criteria are as follows.
The result X (g / m2 / day) obtained by measuring the water vapor transmission rate is
A: X ≦ 4.0
○: 4.0 <X ≦ 5.0
Δ: 5.0 <X ≦ 7.0
X: X> 7.0
For practical use, Δ or more is necessary, and in order to obtain high reliability required in recent years, ○ or more is necessary.
<液晶汚染性>
液晶汚染性の評価サンプルは、次のようにして作製した。
ガラス基板上に作製した硬化物を剥離、粉砕することで各硬化物の粉末を得た。次に得られた粉末0.1gを、1.0gのMerk社製液晶材料ZLI−4792と試験管中で混合し、密閉したものに対して150℃、60分の促進試験を施した。
促進試験後の液晶材料の上澄みを、実際の液晶パネルを模した小型の評価用セルに注入し、測定サンプルとした。
液晶汚染性の測定は、電圧保持率の測定を用いて行った。
電圧保持率の測定は、(株)東陽テクニカ製液晶物性測定システム6254型を用いて、80℃、フレーム周期166.7ミリ秒にて行った。
判定基準は以下のとおりである。
電圧保持率測定によって得られた結果Y(%)が、
◎:Y≧95
○:95>Y≧90
△:90>Y≧85
×:Y<85
実用に供するには○以上が必要であり、近年要求される高い信頼性を得るためには◎以上が必要である
<Liquid crystal contamination>
An evaluation sample of liquid crystal contamination was produced as follows.
The cured product produced on the glass substrate was peeled off and pulverized to obtain a powder of each cured product. Next, 0.1 g of the obtained powder was mixed with 1.0 g of a liquid crystal material ZLI-4792 manufactured by Merk in a test tube, and the sealed one was subjected to an acceleration test at 150 ° C. for 60 minutes.
The supernatant of the liquid crystal material after the acceleration test was injected into a small evaluation cell imitating an actual liquid crystal panel, and used as a measurement sample.
The liquid crystal contamination property was measured by measuring the voltage holding ratio.
The voltage holding ratio was measured at 80 ° C. and a frame period of 166.7 milliseconds using a liquid crystal property measuring system 6254 type manufactured by Toyo Corporation.
The judgment criteria are as follows.
The result Y (%) obtained by the voltage holding ratio measurement is
A: Y ≧ 95
○: 95> Y ≧ 90
Δ: 90> Y ≧ 85
X: Y <85
○ or more is necessary for practical use, and ◎ or more is necessary to obtain the high reliability required in recent years.
<耐薬品性>
耐薬品性の評価は、硬化物の酸・アルカリ溶液への浸漬試験前後の膜厚測定によって行った。
硬化物を作製したガラス基板を、酸処理(H2O/HCl/HNO3=1/1/0.04〈重量比〉、50℃×8分間)、およびアルカリ処理(5%NaOHaq、60℃×5分間または10分間)した際のサンプル膜厚の変化率を測定した。
膜厚変化率は次の式によって算出した
[膜厚変化率(%)]={[浸漬後の膜厚(μm)−浸漬前の膜厚(μm)]/[浸漬前の膜厚(μm)]}×100
判定基準は次のとおりである。
膜厚変化率の算出結果Zの絶対値|Z|が
◎:|Z|≦1.0
○:1.0<|Z|≦2.0
△:2.0<|Z|≦3.0
×:|Z|>3.0
実用に供するには○以上が必要である。
<Chemical resistance>
The chemical resistance was evaluated by measuring the film thickness before and after the immersion test of the cured product in an acid / alkali solution.
The glass substrate on which the cured product was produced was subjected to acid treatment (H 2 O / HCl / HNO 3 = 1/1 / 0.04 <weight ratio>, 50 ° C. × 8 minutes), and alkali treatment (5% NaOHaq, 60 ° C. The change rate of the sample film thickness when measured for 5 minutes or 10 minutes) was measured.
The film thickness change rate was calculated by the following equation: [film thickness change rate (%)] = {[film thickness after immersion (μm) −film thickness before immersion (μm)] / [film thickness before immersion (μm )]} × 100
Judgment criteria are as follows.
The absolute value | Z | of the calculation result Z of the film thickness change rate is ◎: | Z | ≦ 1.0
○: 1.0 <| Z | ≦ 2.0
Δ: 2.0 <| Z | ≦ 3.0
×: | Z |> 3.0
For practical use, ○ or more is required.
合成例1
<ヘミアセタールエステル化合物A−1の合成>
温度計、還流冷却器、攪拌機、滴下ロートを備えた4つ口フラスコに、PMA31.8g、三菱瓦斯化学(株)製トリメリット酸(以下、TMA)13.7g、2−(2−ビニロキシエトキシ)エチル(メタ)アクリレート (以下、VEEA)54.5g、p−メトキシフェノール0.05gを仕込み、攪拌しながら加熱し70℃に昇温した。次いで、温度を保ちながら攪拌し続け、混合物の酸価が2.0mgKOH/g以下になったところで反応を終了し、溶液の酸価0.64mgKOH/gのブロック化されたカルボキシル基を2個以上有するヘミアセタールエステル化合物(A−1)の溶液を得た。
Synthesis example 1
<Synthesis of hemiacetal ester compound A-1>
In a four-necked flask equipped with a thermometer, reflux condenser, stirrer, and dropping funnel, 31.8 g of PMA, 13.7 g of trimellitic acid (hereinafter, TMA) manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., 2- (2-vinyloxy) Ethoxy) ethyl (meth) acrylate (hereinafter referred to as VEEA) 54.5 g and p-methoxyphenol 0.05 g were charged and heated with stirring to 70 ° C. Next, stirring was continued while maintaining the temperature, and the reaction was terminated when the acid value of the mixture became 2.0 mgKOH / g or less, and two or more blocked carboxyl groups having an acid value of 0.64 mgKOH / g in the solution were obtained. A solution of the hemiacetal ester compound (A-1) was obtained.
合成例2〜5
<ヘミアセタールエステル化合物A−2〜5の合成>
合成例1と同様にヘミアセタールエステル化合物(A−2〜5)を得た。各原料の仕込み比、反応温度、酸価および全酸当量を表1に示す。
Synthesis Examples 2-5
<Synthesis of hemiacetal ester compound A-2 to 5>
In the same manner as in Synthesis Example 1, hemiacetal ester compounds (A-2 to 5) were obtained. Table 1 shows the charging ratio, reaction temperature, acid value, and total acid equivalent of each raw material.
表中に用いた略号の意味は次の通りである。
TMA:無水トリメリット酸
ADA:アジピン酸
CHTA:1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸
CIC:トリス(2−カルボキシエチル)イソシアヌレート
VEEA:2−(2−ビニロキシエトキシ)エチルアクリレート
VEEM:2−(2−ビニロキシエトキシ)エチルメタアクリレート
pMP:p−メトキシフェノール
PMA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
The meanings of the abbreviations used in the table are as follows.
TMA: trimellitic anhydride ADA: adipic acid CHTA: 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid CIC: tris (2-carboxyethyl) isocyanurate VEEA: 2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl acrylate
VEEM: 2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl methacrylate pMP: p-methoxyphenol PMA: propylene glycol monomethyl ether acetate
重合例1
<重合体(B−1)の重合>
温度計、還流冷却器、攪拌機、滴下ロートを備えた容量500mLの4つ口フラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下、PMA)を152g仕込み、攪拌しながら加熱して80℃に昇温した。次いで、80℃の温度で日本油脂(株)製「ブレンマー GH」(;商品名)メタクリル酸グリシジル(以下、GMA)113.7g、メタクリル酸シクロヘキシル(以下、CHMA)86.3g、日本油脂(株)製の過酸化物系重合開始剤「パーヘキシルO(以下、PHO)(;商品名、純度93%)」16g、およびPMA32gを予め均一混合したもの(滴下成分)を、2時間かけて滴下ロートより等速滴下した。滴下終了後、80℃の温度を7時間維持した後、反応を終了した。重量平均分子量(Mw)14,000、数平均分子量(Mn)6,700および多分散度(Mw/Mn)2.1、溶液のエポキシ当量1.000g/eqの重合体溶液(重合体のエポキシ当量500g/eq)を得た。
Polymerization example 1
<Polymerization of polymer (B-1)>
152 g of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter referred to as PMA) was charged into a 500 mL four-necked flask equipped with a thermometer, a reflux condenser, a stirrer, and a dropping funnel, and heated to 80 ° C. while stirring. Next, “Blemmer GH” (; trade name) 113.7 g of glycidyl methacrylate (hereinafter referred to as GMA), 86.3 g of cyclohexyl methacrylate (hereinafter referred to as CHMA), Nippon Oil & Fats Co., Ltd. at a temperature of 80 ° C. ) Peroxide polymerization initiator “Perhexyl O (hereinafter PHO) (; trade name, purity 93%)” 16 g and PMA 32 g previously mixed uniformly (dropping component) was added to the dropping funnel over 2 hours. It was dripped more uniformly. After completion of dropping, the temperature was maintained at 80 ° C. for 7 hours, and then the reaction was terminated. Polymer solution (polymer epoxy with weight average molecular weight (Mw) 14,000, number average molecular weight (Mn) 6,700 and polydispersity (Mw / Mn) 2.1, epoxy equivalent of solution 1.000 g / eq Equivalent 500 g / eq) was obtained.
重合例2
<重合体(B−2の重合)>
重合例1と同様に操作を行い、重合体(B−2)を得た。各原料の仕込み比、重量平均分子量、数平均分子量、多分散度およびエポキシ当量を表2に示す。
Polymerization example 2
<Polymer (polymerization of B-2)>
The same operation as in Polymerization Example 1 was performed to obtain a polymer (B-2). Table 2 shows the charging ratio, weight average molecular weight, number average molecular weight, polydispersity, and epoxy equivalent of each raw material.
表中に用いた略号の意味は次の通りである。
GMA:メタクリル酸グリシジル
OXMA:メタクリル酸3−メチル−3−オキセタン−イルメチルエステル
PHO:過酸化物系重合開始剤「パーヘキシルO」
PMA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
The meanings of the abbreviations used in the table are as follows.
GMA: glycidyl methacrylate OXMA: 3-methyl-3-oxetane-ylmethyl ester methacrylate PHO: peroxide-based polymerization initiator “Perhexyl O”
PMA: Propylene glycol monomethyl ether acetate
比較合成例1
<ヘミアセタールエステル化合物(a−1)の合成>
温度計、還流冷却器、攪拌機、滴下ロートを備えた4つ口フラスコに、PMA36g、三菱瓦斯化学(株)製トリメリット酸(以下、TMA)22.5g、n−プロピルビニルエーテル(以下、nPr−VE)41.5gを仕込み、攪拌しながら加熱し70℃に昇温した。次いで、温度を保ちながら攪拌し続け、混合物の酸価が2.0mgKOH/g以下になったところで反応を終了し、溶液の酸価0.64mgKOH/gのブロック化されたカルボキシル基を2個以上有するヘミアセタールエステル化合物(a−1)の溶液を得た。
Comparative Synthesis Example 1
<Synthesis of hemiacetal ester compound (a-1)>
In a four-necked flask equipped with a thermometer, reflux condenser, stirrer, and dropping funnel, 36 g of PMA, 22.5 g of trimellitic acid (hereinafter, TMA) manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., n-propyl vinyl ether (hereinafter, nPr- VE) 41.5 g was charged, heated with stirring, and heated to 70 ° C. Next, stirring was continued while maintaining the temperature, and the reaction was terminated when the acid value of the mixture became 2.0 mgKOH / g or less, and two or more blocked carboxyl groups having an acid value of 0.64 mgKOH / g in the solution were obtained. A solution of the hemiacetal ester compound (a-1) was obtained.
比較合成例2〜4
合成例1と同様にヘミアセタールエステル化合物(a−2〜4)を得た。各原料の仕込み比、反応温度、酸価および全酸当量を表3に示す。
Comparative Synthesis Examples 2-4
In the same manner as in Synthesis Example 1, hemiacetal ester compounds (a-2 to 4) were obtained. Table 3 shows the charging ratio, reaction temperature, acid value, and total acid equivalent of each raw material.
表中に用いた略号の意味は次の通りである。
TMA:無水トリメリット酸
ADA:アジピン酸
CHTA:1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸
nPr−VE:n−プロピルビニルエーテル
PMA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
The meanings of the abbreviations used in the table are as follows.
TMA: trimellitic anhydride ADA: adipic acid CHTA: 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid nPr-VE: n-propyl vinyl ether PMA: propylene glycol monomethyl ether acetate
<実施例1〜10>
表4に示す配合割合で溶解混合した実施例1〜10のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物を、孔径0.2μmのメンブレンフィルターで濾過した後、10cm角のガラス基板上にスピンコーター(型式1H−DX−2、ミカサ(株)製)により、塗布した。この塗布膜をホットプレート上で90℃、2分間乾燥を行った後に、クリーンオーブンにより220℃で30分間加熱することにより膜厚1.5μmの硬化物を得た。
得られた硬化物について、バリア性、液晶汚染性、耐薬品性の評価を行った。結果を配合割合とともに表4に示す。
<Examples 1 to 10>
The color filter protective film resin compositions of Examples 1 to 10 dissolved and mixed at the blending ratios shown in Table 4 were filtered through a membrane filter having a pore size of 0.2 μm, and then spin coater (model 1H) on a 10 cm square glass substrate. -DX-2, manufactured by Mikasa Co., Ltd.). The coating film was dried at 90 ° C. for 2 minutes on a hot plate, and then heated at 220 ° C. for 30 minutes in a clean oven to obtain a cured product having a thickness of 1.5 μm.
About the obtained hardened | cured material, barrier property, liquid-crystal stain | contamination property, and chemical resistance were evaluated. The results are shown in Table 4 together with the blending ratio.
<実施例11、12>
表4に示す配合割合で溶解混合した実施例11および12のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物を、孔径0.2μmのメンブレンフィルターで濾過した後、10cm角のガラス基板上にスピンコーター(型式1H−DX−2、ミカサ(株)製)により、塗布した。この塗布膜をホットプレート上で90℃、2分間乾燥を行った後に、2.0kWの超高圧水銀ランプを装着したUVアライナー(型式MA1200、大日本スクリーン(株)製)を用いて、100mJ/cm2の強度(405nm照度換算)で紫外線を照射した。
紫外線照射後、クリーンオーブンにより220℃で30分間加熱することにより膜厚1.5μmの硬化物を得た。
得られた硬化物について、バリア性、液晶汚染性、耐薬品性の評価を行った。結果を配合割合とともに表4に示す。
<Examples 11 and 12>
The resin compositions for color filter protective films of Examples 11 and 12 dissolved and mixed at the blending ratios shown in Table 4 were filtered through a membrane filter having a pore size of 0.2 μm, and then spin coater (model 1H on a 10 cm square glass substrate). -DX-2, manufactured by Mikasa Co., Ltd.). This coating film was dried at 90 ° C. for 2 minutes on a hot plate, and then 100 mJ / mm using a UV aligner (model MA1200, manufactured by Dainippon Screen Co., Ltd.) equipped with a 2.0 kW super high pressure mercury lamp. Ultraviolet rays were irradiated at an intensity of cm 2 (converted to 405 nm illuminance).
After ultraviolet irradiation, a cured product having a thickness of 1.5 μm was obtained by heating at 220 ° C. for 30 minutes in a clean oven.
About the obtained hardened | cured material, barrier property, liquid-crystal stain | contamination property, and chemical resistance were evaluated. The results are shown in Table 4 together with the blending ratio.
<比較例1〜9>
表5に示す配合割合で溶解混合した比較例1〜9のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物に対し、実施例1〜10と同様の手順を行うことにより膜厚1.5μmの硬化物を得た。
得られた硬化物について、バリア性、液晶汚染性、耐薬品性の評価を行った。結果を配合割合とともに表5に示す。
<Comparative Examples 1-9>
A cured product having a film thickness of 1.5 μm is obtained by performing the same procedure as in Examples 1 to 10 for the resin compositions for color filter protective films of Comparative Examples 1 to 9 which are dissolved and mixed at the blending ratio shown in Table 5. It was.
About the obtained hardened | cured material, barrier property, liquid-crystal stain | contamination property, and chemical resistance were evaluated. The results are shown in Table 5 together with the blending ratio.
<比較例10>
表5に示す配合割合で溶解混合した比較例10のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物を、実施例11、12と同様の手順を行うことにより膜厚1.5μmの硬化物を得た。
なお、実施例および比較例の全ての場合において、得られた塗膜の表面は極めて平滑であり、ピンホール等は全く見られなかった。
<Comparative Example 10>
The resin composition for color filter protective film of Comparative Example 10 dissolved and mixed at the blending ratio shown in Table 5 was subjected to the same procedures as in Examples 11 and 12 to obtain a cured product having a film thickness of 1.5 μm.
In all cases of Examples and Comparative Examples, the surface of the obtained coating film was extremely smooth, and no pinholes were observed.
表中に用いた略号の意味は次の通りである。
Ep−157:ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、ジャパンエポキシレジン(株)製商品名「エピコート 157」、エポキシ当量210g/eq。
PBP:過酸化物系重合開始剤、ジ(2−t−ブチルペルオキシイソプロピル)ベンゼン、日本油脂(株)製、商品名「パーブチルP」
PHI:過酸化物系重合開始剤、t−ヘキシルペルオキシイソプロピルモノカーボネート、日本油脂(株)製、商品名「パーヘキシルI」
Irg184:感光性重合開始剤、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商品名「イルガキュア184」
Irg907:2−メチル−1[4−メチルチオ]フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、感光性重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商品名「イルガキュア907」
LCAT−1:オクチル酸亜鉛とN−メチルモルホリンの反応物(特開2001−350010号公報記載)
BYK−355:レベリング剤(ビッグケミー・ジャパン(株)製)
GPS:3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業(株)製、商品名「KBM−403」
The meanings of the abbreviations used in the table are as follows.
Ep-157: Bisphenol A novolac type epoxy resin, trade name “Epicoat 157” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., epoxy equivalent 210 g / eq.
PBP: peroxide-based polymerization initiator, di (2-t-butylperoxyisopropyl) benzene, manufactured by NOF Corporation, trade name “Perbutyl P”
PHI: peroxide-based polymerization initiator, t-hexyl peroxyisopropyl monocarbonate, manufactured by NOF Corporation, trade name “Perhexyl I”
Irg184: photosensitive polymerization initiator, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenylketone, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., trade name “Irgacure 184”
Irg907: 2-methyl-1 [4-methylthio] phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, photosensitive polymerization initiator, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., trade name “Irgacure 907”
LCAT-1: Reaction product of zinc octylate and N-methylmorpholine (described in JP-A-2001-350010)
BYK-355: Leveling agent (manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.)
GPS: 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name “KBM-403”
表の結果より、実施例1〜12は、本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物を用いることにより、バリア性、液晶汚染性、耐薬品性に優れており、本発明の目的の効果が申し分なく得られていることがわかる。
一方、比較例1および2においては、本発明に用いるヘミアセタールエステル化合物を用いていないので、充分なイオンバリア性、液晶汚染性、耐薬品性が得られていないことがわかる。
また、比較例3〜6においては、従来のヘミアセタールエステル化合物を用いていることにより比較例1および2と比較して良好な性能が得られているが、本発明に用いるヘミアセタールエステル化合物を含有していないために、本願が目的としている十分な性能を得ることができていない。
さらに、比較例7および8においては、(A)成分の有する潜在化カルボキシル基と(B)成分の有するエポキシ基又はオキセタニル基のモル当量比[(A)/(B)]が、本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物における範囲から外れるために本発明の効果が得られなかった。
また、比較例9および10においては、(C)成分の含有量が本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物における範囲から外れるために液晶汚染性に劣っていた。
以上の結果から、本発明のカラーフィルター保護膜用樹脂組成物を用いたときにのみ、本願の目的を達することができることが明らかである。
From the results of the table, Examples 1 to 12 are excellent in barrier property, liquid crystal contamination property, and chemical resistance by using the resin composition for a color filter protective film of the present invention. It turns out that it is obtained perfectly.
On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2, since the hemiacetal ester compound used in the present invention is not used, it is understood that sufficient ion barrier property, liquid crystal contamination property, and chemical resistance are not obtained.
Moreover, in Comparative Examples 3-6, although the favorable performance was acquired compared with Comparative Example 1 and 2 by using the conventional hemiacetal ester compound, the hemiacetal ester compound used for this invention is obtained. Since it does not contain, sufficient performance which this application aimed at cannot be obtained.
Furthermore, in Comparative Examples 7 and 8, the molar equivalent ratio [(A) / (B)] of the latent carboxyl group of the component (A) and the epoxy group or oxetanyl group of the component (B) is Since it deviated from the range in the resin composition for a color filter protective film, the effect of the present invention was not obtained.
In Comparative Examples 9 and 10, the content of the component (C) was out of the range in the resin composition for a color filter protective film of the present invention, so that the liquid crystal contamination was poor.
From the above results, it is apparent that the object of the present application can be achieved only when the color filter protective film resin composition of the present invention is used.
Claims (3)
(A)下記式(1)で表されるヘミアセタールエステル化合物。
(B)1分子中にエポキシ基またはオキセタニル基を2個以上有する化合物。 The following (A) and (B) components are contained, and the molar equivalent ratio [(A) / (B)] of the hemiacetal ester group that (A) component has and the epoxy group or oxetanyl group that (B) component has: A resin composition for a color filter protective film, wherein the resin composition is 2/10 to 50/10.
(A) A hemiacetal ester compound represented by the following formula (1).
(B) A compound having two or more epoxy groups or oxetanyl groups in one molecule.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007201375A JP5358907B2 (en) | 2007-08-01 | 2007-08-01 | Resin composition for color filter protective film and color filter |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007201375A JP5358907B2 (en) | 2007-08-01 | 2007-08-01 | Resin composition for color filter protective film and color filter |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009037008A JP2009037008A (en) | 2009-02-19 |
JP5358907B2 true JP5358907B2 (en) | 2013-12-04 |
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ID=40438976
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007201375A Active JP5358907B2 (en) | 2007-08-01 | 2007-08-01 | Resin composition for color filter protective film and color filter |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5358907B2 (en) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5493635B2 (en) * | 2009-09-18 | 2014-05-14 | 日油株式会社 | Resin composition for color filter protective film and color filter |
JP6318581B2 (en) * | 2013-11-27 | 2018-05-09 | 日油株式会社 | Thermosetting resin composition for color filter protective film, and color filter provided with protective film obtained by curing the same |
JP6405620B2 (en) * | 2013-11-29 | 2018-10-17 | 凸版印刷株式会社 | Color filter evaluation method |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4398075B2 (en) * | 1999-07-22 | 2010-01-13 | 新日鐵化学株式会社 | Composition for color filter protective film |
JP4403763B2 (en) * | 2003-09-25 | 2010-01-27 | 日油株式会社 | Thermosetting resin composition for flattening film of color filter and use thereof |
JP2005202134A (en) * | 2004-01-15 | 2005-07-28 | Nippon Shokubai Co Ltd | Photosensitive resin composition for color filter and color filter |
JP2005292483A (en) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Nof Corp | Thermosetting resin composition and use thereof |
JP2006243153A (en) * | 2005-03-01 | 2006-09-14 | Nof Corp | UV-absorbing protective film resin composition |
JP4816372B2 (en) * | 2006-09-27 | 2011-11-16 | 日油株式会社 | Thermosetting resin composition for color filter protective film |
-
2007
- 2007-08-01 JP JP2007201375A patent/JP5358907B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009037008A (en) | 2009-02-19 |
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