JP5326506B2 - 生産管理方法及び生産管理システム - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 67
- 238000007726 management method Methods 0.000 title claims description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 253
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 71
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 38
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 22
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 8
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 7
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 6
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 3
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000003203 everyday effect Effects 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000012858 packaging process Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 230000002463 transducing effect Effects 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/02—Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
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Description
このような生産ラインにおいて、多数のロットをできるだけ円滑に流動させるために、従来から様々な方法が採られている。例えば、特許文献1の従来技術に記載されているように、先入れ先出しに重点を置いた方法や、ネック工程に着目した方法がある。また、変化する受注情報や生産状況に応じて、ロットの優先度を都度変更、決定する方法もある。即ち、納期・数量を確保するため、長時間を要する生産ラインの生産結果を中間の特定生産ポイントでチェックし、その結果と目標との差異を算出して新たな生産スケジュールを作成し、生産を継続する方法である。
また、生産指示を計算、シミュレーションするには大きなコンピュータを用い、長時間の計算が必要であった。即ち、工場内の全てのロットに対し各工程毎にスケジューリングを行い、各ロット毎に優先順位を日々決定してゆくには膨大な量の計算が必要となる、という課題があった。
そこで、本発明のいくつかの態様は、このような課題に着目してなされたものであって、ロットの優先度を簡単に、且つ適切に決定できるようにした生産管理方法及び生産管理システムの提供を目的とする。
また、上記の生産管理方法において、前記生産ラインが有する複数の工程で所定の処理が順次施される第2のロットの完成計画日時と、前記第2のロットが前記第1のロットと同じ前記現在の工程に存在しているときの現工程日時と、前記第2のロットの残工程での処理時間の合計値とに基づいて、前記第2のロットの優先度を算出する工程と、前記第1のロットの優先度と第2のロットの優先度とを比較して、前記第1のロット又は前記第2のロットのうちの優先度が高い方を先に処理する工程と、をさらに含むことを特徴としても良い。
また、上記の生産管理方法において、前記現在の工程の次以降の工程の状況に応じて、前記現在の工程における前記優先度を調整することを特徴としても良い。
本発明の別の態様に係る生産管理システムは、生産ラインが有する複数の工程で所定の処理が順次施される第1のロットの完成計画日時と、前記第1のロットが現在の工程に存在しているときの現工程日時と、前記第1のロットの残工程での処理時間の合計値と、に関する情報を取得する取得手段と、前記取得手段によって取得された前記情報に基づいて、前記第1のロットの優先度を算出する算出手段と、前記算出手段によって算出された前記優先度を表示する表示手段と、を有することを特徴とするものである。
(1)第1実施形態
図1は、本発明の実施の形態に係る生産管理システム100の一例を示すブロック図である。図1に示す生産管理システム100は、生産ラインが有する各工程において、ロットの優先度を計算するシステムである。ここで、生産ラインとは、例えば半導体装置の生産ラインであり、前工程、後工程又は検査工程、或いは、これらの工程うちの少なくとも2つ以上を含むものである。前工程はウエーハプロセスとも呼ばれており、イオン注入工程、酸化拡散工程、成膜(CVD:Chemical Vapor Deposition)工程、フォトリソグラフィ工程、エッチング工程、などを有する。前工程では、上記の各工程が交互に繰り返し行われ、のべ工程数は例えば数十〜数百に上る。また、後工程は、ダイシング工程、ダイボンディング工程、ワイヤボンディング工程、パッケージング工程などを有する。
これらの中で、入力装置群1は、生産ラインを構成する各工程にそれぞれ配置された入力装置からなり、例えば、A工程入力装置1a、B工程入力装置1b、C工程入力装置1c、…を有する。この生産管理システム100が前工程に適用される場合は、A工程は例えばイオン注入工程であり、B工程は例えば酸化拡散工程、C工程は例えば成膜工程である。
残加工倍率=(完成計画日時−現工程日時)/残工程での処理時間の合計値…(1)
なお、残工程での処理時間の合計値は、例えば、残工程での「実」処理時間の合計値(即ち、該ロットに対して、現時点以降に処理が施される工程での実処理時間の合計値)であり、工程間の搬送時間や、停滞時間は含まない。実処理時間とは、ロットに対する処理が実際に行われる間の時間のことであり、例えば、イオン注入装置や、拡散炉、ドライエッチング装置などの処理装置に対して、ロットの搬入を開始してから、ロットの搬出を終了するまでの時間のことである。
図2は、本発明の実施の形態に係る生産管理方法の一例を示すフローチャートである。
図2のステップ(S)1では、残加工倍率を算出するための情報の取り込みを行う。例えば、あるロット(以下、第1のロットともいう。)がA工程に到達すると、この第1のロットのID(即ち、ロットID)と、第1のロットに含まれるウエーハの枚数と、第1のロットがA工程に到達したときの日時(以下、到達日時という。)と、ステータス(例えば、待機)などに関する情報がA工程入力装置に入力される。A工程に入力された情報は、ホストCPU2に送信され、データベース3に追記される。なお、このデータベース3には、第1のロットについて処理が行われる数十〜数百の工程名や、これら各工程での処理条件、使用可能な処理装置(例えば、号機)、第1のロットの完成計画日時、及び、最終的な客先納期などが記録されている。
例えば、第1のロットについての到達日時を現工程日時とし、第1のロットについての現工程日時と、完成計画日時と、残工程での処理時間の合計値とを上記の(1)式にそれぞれ代入して、残加工倍率を算出する。一例を挙げると、A工程に到達した第1のロットについて、現工程日時(この例では、到達日時と同じ)が1月15日の午後12:00であり、完成計画日時が1月30日の午後12:00であり、残工程での処理時間の合計値が168時間の場合を想定する。この場合、完成計画日時−現工程日時は、(30−15)×24=360時間となるため、上記の(1)式より、第1のロットの残加工倍率は、360/168≒2.1と算出される。
次に、図2のステップ(S)3では、計算用PC4が算出した残加工倍率の表示を行う。例えば、第1のロットの残加工倍率に関する情報と、第2のロットの残加工倍率に関する情報とが、計算用PC4からA工程表示装置5aに送信される。また、これら各ロットに関する他の情報が、ホストCPU2から計算用PC4を介して(或いは、ホストCPU2から直接)A工程表示装置5aに送信される。
この実施の形態では、計算用PC4が本発明の「取得手段」に対応し、計算用PC4の演算部4が本発明の「算出手段」に対応している。また、出力装置群5が本発明の「表示手段」に対応している。
上記の第1実施形態では、式(1)において、「残工程での処理時間の合計値」を、残工程での実処理時間の合計値とする場合について説明した。しかしながら、本発明はこれに限られることはない。例えば、「残工程での処理時間の合計値」は、残工程での実処理時間の合計値の他に、ロス時間(例えば、工程間の搬送時間や、残工程で発生する停滞時間)を含んでいても良い。搬送時間や停滞時間は、必ずしも一定の値ではなく、また、改善活動等によってその短縮が可能な時間であるが、ロス時間をある程度正確に予想することができるのであれば(例えば、過去の経験や統計から、各ロットについて残工程でのロス時間を予想することができるのであれば)、予想されるロス時間を実処理時間の合計値に加えることにより、残加工倍率の値を生産ラインの実体に近づけることができる。
上記の第1実施形態では、式(1)において、「現工程日時」をロットの到達日時とする場合について説明した。しかしながら、本発明はこれに限られることはない。現工程日時は、下記のように設定しても良い。
図4(a)及び図4(b)は現工程日時として設定することが可能なタイミングの例を示す図である。図4(a)はステータスが待機(即ち、未処理)のロットについて示し、図4(b)はステータスが処理中のロットについて示している。
図4(a)に示すように、ステータスが待機のロットについては、「現工程日時」は、残加工倍率の計算を実行するときの日時(即ち、リアルタイム)であっても良い。「現工程日時」をロットの到達日時、又は、リアルタイムとする場合は、現在の工程の実処理時間を全て、残工程の処理時間に含めることができる(時間軸に沿って記された実線矢印を参照。)。
上記の第1実施形態では、「完成計画日時」を前工程での完成計画日時とする場合について例示した。ここで、前工程での完成計画日時とは、即ち、ウエーハプロセス工程の最後の処理が終了し後工程へ移動できる状態となる日時のことを意味している。
しかしながら、本発明において、完成計画日時は上記の例示に限定されることはない。本発明の完成計画日時は、後工程の完成計画日時でも良いし、客先出荷計画日でも良いし、客先納期日でも良い。また、ゲートアレイデバイスの様に、配線工程前まで製造しておき、受注仕様により配線をカスタマイズする製品においては、ウエーハプロセス工程の配線工程前に到達する計画日時を暫定的に、完成計画日時としても良い。
このように、本発明の完成計画日時は、例えば、製品の性質、顧客の注文形態、生産ラインの状況から任意に決めることができる。
上記の第1実施形態では、式(1)により残加工倍率を算出することについて説明した。しかしながら、本発明では、現在の工程の次以降の工程における在庫状況、処理装置の稼動状況等に応じて、現在の工程での残加工倍率を微調整しても良い。
即ち、第1のロットについて、現在の工程がA工程であり、A工程の次に処理される工程(即ち、次工程)がB工程である場合を想定する。仮に、第1のロットをA工程で優先的に処理してB工程へ進めたとしても、第1のロットよりも残加工倍率の小さなロットがB工程に多数存在していたり、B工程の処理装置がメンテナンス等で休止している場合は、第1のロットはB工程で暫くの間停滞することになる。この場合、A工程で優先的に処理したことが、結果的に無駄となる可能性がある。
Claims (5)
- 生産ラインが有する複数の工程で所定の処理が順次施される第1のロットの完成計画日時と、前記第1のロットが現在の工程に存在しているときの現工程日時と、前記第1のロットの残工程での処理時間の合計値とに基づいて、前記第1のロットの優先度を算出する工程、を有し、
前記優先度を算出する工程では、前記現在の工程の次以降の工程の状況から、前記第1のロットを前記現在の工程で処理して前記次以降の工程へ進めても該第1のロットが該次以降の工程で停滞することが予想される場合は、前記第1のロットの前記優先度を下げる方向に調整することを特徴とする生産管理方法。 - 前記優先度の算出と調整は、前記第1のロットを前記現在の工程で処理する前に行うことを特徴とする請求項1に記載の生産管理方法。
- 前記生産ラインが有する複数の工程で所定の処理が順次施される第2のロットの完成計画日時と、前記第2のロットが前記第1のロットと同じ前記現在の工程に存在しているときの現工程日時と、前記第2のロットの残工程での処理時間の合計値とに基づいて、前記第2のロットの優先度を算出する工程と、
前記第1のロットの優先度と第2のロットの優先度とを比較して、前記第1のロット又は前記第2のロットのうちの優先度が高い方を先に処理する工程と、をさらに含むことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の生産管理方法。 - 前記優先度は、前記完成計画日時から前記現工程日時を減算した値を、前記残工程での処理時間の合計値で除算することにより算出されることを特徴とする請求項1から請求項3の何れか一項に記載の生産管理方法。
- 生産ラインが有する複数の工程で所定の処理が順次施される第1のロットの完成計画日時と、前記第1のロットが現在の工程に存在しているときの現工程日時と、前記第1のロットの残工程での処理時間の合計値と、に関する情報を取得する取得手段と、
前記取得手段によって取得された前記情報に基づいて、前記第1のロットの優先度を算出する算出手段と、
前記算出手段によって算出された前記優先度を表示する表示手段と、を有し、
前記現在の工程の次以降の工程の状況から、前記第1のロットを前記現在の工程で処理して前記次以降の工程へ進めても該第1のロットが該次以降の工程で停滞することが予想される場合は、前記第1のロットの前記優先度を下げる方向に調整することを特徴とする生産管理システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008285538A JP5326506B2 (ja) | 2008-11-06 | 2008-11-06 | 生産管理方法及び生産管理システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008285538A JP5326506B2 (ja) | 2008-11-06 | 2008-11-06 | 生産管理方法及び生産管理システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010113515A JP2010113515A (ja) | 2010-05-20 |
| JP5326506B2 true JP5326506B2 (ja) | 2013-10-30 |
Family
ID=42302031
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008285538A Expired - Fee Related JP5326506B2 (ja) | 2008-11-06 | 2008-11-06 | 生産管理方法及び生産管理システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5326506B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117391348A (zh) * | 2023-10-12 | 2024-01-12 | 浪潮通用软件有限公司 | 一种机械零部件加工处理方法、设备及介质 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0966442A (ja) * | 1995-08-30 | 1997-03-11 | Nec Yamagata Ltd | 工程管理装置 |
| JP2800795B2 (ja) * | 1996-08-05 | 1998-09-21 | 日本電気株式会社 | 生産制御方法及び生産制御装置 |
-
2008
- 2008-11-06 JP JP2008285538A patent/JP5326506B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2010113515A (ja) | 2010-05-20 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20110630 |
|
| A621 | Written request for application examination |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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|
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|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
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