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JP5317491B2 - Method for manufacturing printed wiring board - Google Patents

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JP5317491B2
JP5317491B2 JP2008026047A JP2008026047A JP5317491B2 JP 5317491 B2 JP5317491 B2 JP 5317491B2 JP 2008026047 A JP2008026047 A JP 2008026047A JP 2008026047 A JP2008026047 A JP 2008026047A JP 5317491 B2 JP5317491 B2 JP 5317491B2
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戸田  光昭
大輔 柴田
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Meiko Co Ltd
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Meiko Co Ltd
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0011Working of insulating substrates or insulating layers
    • H05K3/0044Mechanical working of the substrate, e.g. drilling or punching
    • H05K3/0052Depaneling, i.e. dividing a panel into circuit boards; Working of the edges of circuit boards

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a printed circuit board and its production process that control deformation of an end surface through-hole and peeling of a metallic film at an edge portion and allows favorable productivity by, e.g., doing drilling with two or more boards superimposed. <P>SOLUTION: A printed circuit board 50 is so structured that it includes a board 1, end surface through-holes 40a and 40b prepared in a concave shape to the board end surface, and an insulating layer 17 prepared on one surface side of the board and covering this one surface side of the end surface through-hole. Further, the production process of the printed circuit board includes the steps of drilling a through-hole 4a on the board, forming a through-hole 7a whose through-hole inner surface is covered by metal films 6a and 6b, filling this with a filling material 15, forming insulating layers 17 and 18 on both surfaces of the board that cover the filling material, partially removing one 18 of the insulating layers to expose the filling material and then remove it, and cutting the board such that the through-hole is divided, thus obtaining a printed circuit board 50 having an end surface through-hole 40a. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、プリント配線板及びその製造方法に係り、特に端面スルーホールを有するプリント配線板及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a printed wiring board and a method for manufacturing the same, and more particularly to a printed wiring board having end face through holes and a method for manufacturing the same.

プリント配線板の一形態として、モジュール基板等の、端面スルーホール(キャスタレーションまたはサイド電極ともいう)を有するものがある(例えば特許文献1)。
端面スルーホールを有するプリント配線板は、一般的に、所定の工程を経た樹脂基板等の基板にドリル加工等により貫通孔を穿設し、この貫通孔の内面を覆うように基板表面に金属膜を成膜し、この金属膜をパターン化した後、貫通孔が略半円筒状になるように基板をルータ加工等により分断することによって得られる。略半円筒状になされた貫通孔は端面スルーホールとなる。
As one form of the printed wiring board, there is one having an end surface through hole (also referred to as a castellation or a side electrode) such as a module substrate (for example, Patent Document 1).
A printed wiring board having an end surface through hole is generally formed by drilling a through hole in a substrate such as a resin substrate that has undergone a predetermined process by drilling or the like, and covering the inner surface of the through hole with a metal film on the substrate surface After the metal film is patterned, it is obtained by dividing the substrate by router processing or the like so that the through hole has a substantially semicylindrical shape. The through hole formed in a substantially semi-cylindrical shape becomes an end face through hole.

しかしながら、基板を分断する際に、形成される端面スルーホールのエッジ部に物理的負荷がかかるため、端面スルーホールが変形したり、エッジ部の金属膜が剥がれたりする場合があり、その改善が望まれていた。   However, when the substrate is divided, a physical load is applied to the edge portion of the formed end surface through hole, so that the end surface through hole may be deformed or the metal film of the edge portion may be peeled off, which is improved. It was desired.

そこで、上記課題を解決する手段の一例が特許文献2に記載されている。
特許文献2の記載によれば、基板の一面側から他面側の銅箔近傍までの領域にドリル加工を行ってザグリ穴を穿設した後、さらにこのザグリ穴の底部の残存樹脂を上記他面側の銅箔が露出するまでレーザ加工により除去することによって、この露出された銅箔を底面とする非貫通孔を形成する。これにより、基板を分断する際に、非貫通孔が分断されることによって形成される端面スルーホールのエッジ部にかかる物理的負荷を、非貫通孔の銅箔によって低減することができるので、上述した端面スルーホールの変形やエッジ部の金属膜の剥がれを抑制することができるとしている。
特開平7−183658号公報 特開平10−65298号公報
An example of means for solving the above problem is described in Patent Document 2.
According to the description in Patent Document 2, after drilling a hole in a region from one surface side of the substrate to the vicinity of the copper foil on the other surface side, the remaining resin at the bottom of the counterbore hole is further removed. By removing by laser processing until the copper foil on the surface side is exposed, a non-through hole having the exposed copper foil as a bottom surface is formed. Thereby, when the substrate is divided, the physical load applied to the edge portion of the end surface through hole formed by dividing the non-through hole can be reduced by the copper foil of the non-through hole. The deformation of the end face through-hole and the peeling of the metal film at the edge portion can be suppressed.
JP-A-7-183658 JP-A-10-65298

ところで、特許文献1に記載されているようなプリント配線板及びその製造方法では、基板に貫通孔を穿設する際、生産性を向上させる目的で、通常、基板を複数枚重ね合わせた状態でドリル加工を行う。これにより、貫通孔を複数の樹脂基板に一度に穿設することができる。
しかしながら、特許文献2に記載されているようなプリント配線板では、端面スルーホールとなる孔が非貫通孔であるため、上述のように基板を複数枚重ね合わせた状態でドリル加工を行うことができない。そのため、基板1枚毎にドリル加工及びレーザ加工をそれぞれ行わなければならないので、生産性が悪く、その改善が望まれる。
By the way, in the printed wiring board as described in Patent Document 1 and the manufacturing method thereof, when a through hole is drilled in the substrate, usually, in a state where a plurality of substrates are overlapped for the purpose of improving productivity. Drill. Thereby, a through-hole can be drilled in a several resin substrate at once.
However, in the printed wiring board described in Patent Document 2, since the hole serving as the end face through hole is a non-through hole, drilling can be performed in a state where a plurality of substrates are overlapped as described above. Can not. Therefore, since drilling and laser processing must be performed for each substrate, productivity is poor and improvement is desired.

そこで、本発明が解決しようとする課題は、端面スルーホールの変形やエッジ部の金属膜の剥がれが抑制され、例えば基板を複数枚重ね合わせた状態でドリル加工が行えるといった生産性の良好な、プリント配線板及びその製造方法を提供することにある。   Therefore, the problem to be solved by the present invention is that the deformation of the end face through-hole and the peeling of the metal film of the edge portion are suppressed, for example, the productivity can be improved such that drilling can be performed in a state where a plurality of substrates are stacked, It is in providing a printed wiring board and its manufacturing method.

上記の課題を解決するために、本願各発明は次の手段を有する。
1)基板(1)と、前記基板の第1面に形成された第1配線層と、前記基板の前記第1面とは反対側の第2面に形成された第2配線層と、前記基板の端面に対して凹状に設けられた端面スルーホール(40a,40b)であって、前記第1面と前記第2面との間に延びる端面スルーホールと、前記端面スルーホールの内面を覆い、且つ、前記第1配線層と前記第2配線層とを電気的に接続する金属膜と、前記端面スルーホール内の前記金属膜の全体を覆う金めっき膜と、前記第1面を覆い前記第1配線層を埋設する第1絶縁層と、前記第2面を覆い前記第2配線層を埋設する第2絶縁層とを備え、前記第1絶縁層は、前記端面スルーホールにおける前記第1面側の開口を覆うように前記開口内に張り出し、前記第2絶縁層は、前記端面スルーホールにおける前記第2面側の開口の部分を除いて配設されていることを特徴とするプリント配線板(50)の製造方法であって、基板(1)に貫通孔(4a,4b)を穿設する穿設工程と、前記穿設工程後に、前記基板の第1面、第2面及び前記貫通孔の内面を覆う金属膜(6a,6b)を形成して、前記貫通孔をその内面が前記金属膜で覆われたスルーホール(7a,7b)にする金属膜形成工程と、前記第1面を覆う金属膜を第1配線層に形成するとともに、前記第2面を覆う金属膜を第2配線層に形成する配線層形成工程と、前記配線層形成工程後に、前記スルーホール内の金属膜を覆う金めっき膜を形成する金めっき膜形成工程と、前記金めっき膜形成工程後に、前記スルーホールに充填材(15)を充填する充填工程と、前記充填工程後に、前記基板の第1面及び第2面に、前記第1配線層及び第2配線層を埋設するとともに前記充填材の両端を覆う第1絶縁層(17)及び第2絶縁層(18)をそれぞれ形成する絶縁層形成工程と、前記絶縁層形成工程後に、前記第2絶縁層を部分的に除去して、前記充填材を露出させる充填材露出工程と、前記充填材露出工程後に、前記露出された充填材を除去する充填材除去工程と、前記充填材除去工程後に、前記スルーホールが分断されるように前記基板を分断して、前記スルーホールが分断されてなる端面スルーホール(40a,40b)を有するプリント配線板(50)を得る分断工程と、を有するプリント配線板の製造方法である。
2)基板(61)と、前記基板の第1面に形成された第1配線層と、前記基板の前記第1面とは反対側の第2面に形成された第2配線層と、前記基板の端面に対して凹状に設けられた端面スルーホール(93a,93b)であって、前記第1面と前記第2面との間に延びる端面スルーホールと、前記端面スルーホールの内面を覆い、且つ、前記第1配線層と前記第2配線層とを電気的に接続する金属膜と、前記端面スルーホール内の前記金属膜の全体を覆う金めっき膜と、前記第1面を覆い前記第1配線層を埋設する第1絶縁層と、前記第2面を覆い前記第2配線層を埋設する第2絶縁層とを備え、前記第1絶縁層は、前記端面スルーホールにおける前記第1面側の開口を覆うように前記開口内に張り出し、前記第2絶縁層は、前記端面スルーホールにおける前記第2面側の開口の部分を除いて配設されていることを特徴とするプリント配線板(100)の製造方法であって、基板(61)に貫通孔(64a,64b)を穿設する穿設工程と、前記穿設工程後に、前記基板の第1面、第2面及び前記貫通孔の内面を覆う金属膜(66a,66b)を形成して、前記貫通孔をその内面が前記金属膜で覆われたスルーホール(67a,67b)にする金属膜形成工程と、前記第1面を覆う金属膜を第1配線層に形成するとともに、前記第2面を覆う金属膜を第2配線層に形成する配線層形成工程と、前記配線層形成工程後に、前記スルーホール内の金属膜を覆う金めっき膜を形成する金めっき膜形成工程と、前記金めっき膜形成工程後に、前記スルーホールにおける前記第1面側の第1面側端及び前記第2面側の第2面側端をそれぞれ覆う第1テンティング膜(91a)及び第2テンティング膜(91b)を形成するテンティング膜形成工程と、前記テンティング膜形成工程後に、前記基板の第1面及び第2面に、前記第1配線層及び第2配線層を埋設するとともに前記第1テンティング膜及び第2テンティング膜を覆う第1絶縁層(77)及び第2絶縁層(78)をそれぞれ形成する絶縁層形成工程と、前記絶縁層形成工程後に、前記第2絶縁層を部分的に除去するとともに前記第2テンティング膜を除去して、前記スルーホールを開口するスルーホール開口工程と、前記スルーホール開口工程後に、前記スルーホールが分断されるように前記基板を分断して、前記スルーホールが分断されてなる端面スルーホール(93a,93b)を有するプリント配線板(100)を得る分断工程と、を有するプリント配線板の製造方法である。
In order to solve the above problems, each invention of the present application has the following means.
1) a substrate (1); a first wiring layer formed on a first surface of the substrate; a second wiring layer formed on a second surface opposite to the first surface of the substrate; End face through-holes (40a, 40b) provided in a concave shape with respect to the end face of the substrate, the end face through hole extending between the first face and the second face, and covering the inner face of the end face through hole And a metal film that electrically connects the first wiring layer and the second wiring layer, a gold plating film that covers the entire metal film in the end face through-hole, and a cover that covers the first surface. A first insulating layer that embeds the first wiring layer; and a second insulating layer that covers the second surface and embeds the second wiring layer, wherein the first insulating layer includes the first insulating layer in the end surface through-hole. The second insulating layer extends over the opening so as to cover the opening on the surface side. A method of manufacturing a printed wiring board (50) , which is disposed excluding an opening portion on the second surface side in a tool, wherein a through hole (4a, 4b) is formed in a substrate (1). Forming a metal film (6a, 6b) covering the first surface, the second surface, and the inner surface of the through hole after the drilling step, and forming the through hole in the through hole A metal film forming step for forming through holes (7a, 7b) whose inner surfaces are covered with the metal film, a metal film that covers the first surface, and a metal film that covers the second surface while forming a metal film that covers the first surface A wiring layer forming step of forming a metal layer on the second wiring layer, a gold plating film forming step of forming a gold plating film covering the metal film in the through hole after the wiring layer forming step, and after the gold plating film forming step A filling step of filling the through hole with a filler (15) and the filling After that, the first insulating layer (17) and the second insulating layer (18) are embedded in the first surface and the second surface of the substrate, and the first wiring layer and the second wiring layer are embedded and the both ends of the filler are covered. ) Respectively, and after the insulating layer forming step, the second insulating layer is partially removed to expose the filler, and after the filler exposing step, A filler removing step for removing the exposed filler, and an end face through hole (the through hole is divided by dividing the substrate so that the through hole is divided after the filler removing step). A printed wiring board (50) having a dividing step (40a, 40b).
2) a substrate (61); a first wiring layer formed on a first surface of the substrate; a second wiring layer formed on a second surface opposite to the first surface of the substrate; End face through holes (93a, 93b) provided in a concave shape with respect to the end face of the substrate, covering the end face through hole extending between the first face and the second face and the inner face of the end face through hole. And a metal film that electrically connects the first wiring layer and the second wiring layer, a gold plating film that covers the entire metal film in the end face through-hole, and a cover that covers the first surface. A first insulating layer that embeds the first wiring layer; and a second insulating layer that covers the second surface and embeds the second wiring layer, wherein the first insulating layer includes the first insulating layer in the end surface through-hole. The second insulating layer extends through the end surface so as to cover the opening on the surface side. A method of manufacturing a printed wiring board (100) , wherein a hole is disposed excluding an opening portion on the second surface side of a hole, wherein through holes (64a, 64b) are formed in a substrate (61). A drilling step for drilling, and after the drilling step, a metal film (66a, 66b) is formed to cover the first surface, the second surface, and the inner surface of the through hole of the substrate, and the through hole is formed on the inner surface thereof. Forming a through hole (67a, 67b) covered with the metal film, forming a metal film covering the first surface on the first wiring layer, and forming a metal film covering the second surface A wiring layer forming step to be formed on the second wiring layer, a gold plating film forming step for forming a gold plating film covering the metal film in the through hole after the wiring layer forming step, and after the gold plating film forming step, The first surface of the through hole on the first surface side A tenting film forming step of forming a first tenting film (91a) and a second tenting film (91b) covering the end and the second surface side end of the second surface side, respectively, and after the tenting film forming step The first insulating layer (77) and the second insulating layer are embedded in the first surface and the second surface of the substrate, and the first and second wiring layers are buried in the first surface and the second surface. Two insulating layers (78) are formed, and after the insulating layer forming step, the second insulating layer is partially removed and the second tenting film is removed to form the through holes. An opening through hole opening step; and after the through hole opening step, the substrate is divided so that the through hole is divided, and an end face through hole (93a, 93a, A dividing step of obtaining a printed wiring board (100) having 3b), a method for manufacturing a printed wiring board having a.

本発明によれば、端面スルーホールの変形やエッジ部の金属膜の剥がれが抑制され、例えば基板を複数枚重ね合わせた状態でドリル加工が行えるといった良好な生産性が得られるという効果を奏する。   According to the present invention, deformation of the end face through hole and peeling of the metal film at the edge portion are suppressed, and for example, it is possible to obtain good productivity that drilling can be performed in a state where a plurality of substrates are stacked.

本発明の実施の形態を、好ましい実施例である第1実施例及び第2実施例により図1〜図14を用いて説明する。   DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 14 according to first and second embodiments which are preferred embodiments.

<第1実施例>
本発明に係るプリント配線板及びその製造方法の第1実施例を、図1〜図9を用いて説明する。
図1〜図9は、本発明に係るプリント配線板及びその製造方法の第1実施例を説明するための模式的断面図である。
図9において、(b)は(a)における矢視S50から特に端面スルーホール40bを見たときの模式的斜視図である。
また、以下に説明するA1工程〜A9工程は、第1実施例のプリント配線板を製造する過程をそれぞれ示すものである。
<First embodiment>
1st Example of the printed wiring board which concerns on this invention, and its manufacturing method is described using FIGS.
FIGS. 1-9 is typical sectional drawing for demonstrating the 1st Example of the printed wiring board which concerns on this invention, and its manufacturing method.
In FIG. 9, (b) is a schematic perspective view when the end face through hole 40b is particularly viewed from the arrow S50 in (a).
Moreover, A1 process-A9 process demonstrated below each show the process of manufacturing the printed wiring board of 1st Example.

[A1工程](図1参照)
コア材2及びこのコア材2の両面に設けられた銅箔3a,3bを有する両面銅張板1に、後述する端面スルーホール40a,40bとなる貫通孔4a,4bを、例えばドリル加工やレーザ加工により穿設する。
コア材2は、例えばエポキシ樹脂等の絶縁性樹脂を主成分とするものやガラスクロス等のシート状補強材に絶縁性樹脂を含浸させて硬化したものである。
第1実施例では、両面銅張板1を複数枚重ね合わせた状態でドリル加工を行い、貫通孔4a,4bをこれら複数の両面銅張板1に一度に形成した。
[Step A1] (see FIG. 1)
In the double-sided copper-clad plate 1 having the core material 2 and the copper foils 3a and 3b provided on both surfaces of the core material 2, through holes 4a and 4b to be end face through-holes 40a and 40b described later are formed by, for example, drilling or laser Drill by machining.
The core material 2 is, for example, a material mainly composed of an insulating resin such as an epoxy resin or a sheet-shaped reinforcing material such as glass cloth that is cured by impregnating the insulating resin.
In the first embodiment, drilling was performed in a state where a plurality of double-sided copper-clad plates 1 were overlapped, and through holes 4a and 4b were formed in the plurality of double-sided copper-clad plates 1 at a time.

[A2工程](図2参照)
A1工程を経た両面銅張板1に銅めっきを行い、銅箔3a,3bの各表面及び貫通孔4a,4bの各内面を覆う第1銅めっき層6a,6bを形成する。
第1銅めっき層6a,6bは、例えば無電解銅めっきを行って無電解銅めっき層を形成し、この無電解銅めっき層をめっき導通層として電気銅めっきを行うことにより形成することができる。
ここで、内面が第1銅めっき層6a,6bで覆われた貫通孔4a,4bをスルーホール7a,7bと称す。
[Step A2] (see FIG. 2)
Copper plating is performed on the double-sided copper-clad plate 1 that has undergone the A1 process to form first copper plating layers 6a and 6b that cover the surfaces of the copper foils 3a and 3b and the inner surfaces of the through holes 4a and 4b.
The first copper plating layers 6a and 6b can be formed, for example, by performing electroless copper plating to form an electroless copper plating layer, and performing electro copper plating using the electroless copper plating layer as a plating conductive layer. .
Here, the through holes 4a and 4b whose inner surfaces are covered with the first copper plating layers 6a and 6b are referred to as through holes 7a and 7b.

[A3工程](図3参照)
フォトリソグラフィ法を用いて、第1銅めっき層6a,6b及び銅箔3a,3bを部分的にエッチングすることにより、コア材2の一面側に第1銅めっき層6a及び銅箔3aからなるパターン化された第1配線層9を形成し、コア材2の他面側に第1銅めっき層6b及び銅箔3bからなるパターン化された第2配線層10を形成する。
第1配線層9と第2配線層10とは、スルーホール7a,7bを介して電気的に接続されている。
[Step A3] (See FIG. 3)
The pattern which consists of the 1st copper plating layer 6a and the copper foil 3a in the one surface side of the core material 2 by partially etching the 1st copper plating layers 6a and 6b and the copper foils 3a and 3b using the photolithographic method The patterned first wiring layer 9 is formed, and the patterned second wiring layer 10 including the first copper plating layer 6b and the copper foil 3b is formed on the other surface side of the core material 2.
The first wiring layer 9 and the second wiring layer 10 are electrically connected through the through holes 7a and 7b.

[A4工程](図4参照)
A3工程を経た両面銅張板1に、少なくともスルーホール7a,7bの内面を残して第1配線層9及び第2配線層10を覆う金めっきレジスト12a,12bを形成する。
金めっきレジスト12a,12bは、金めっき液に対して耐食性を有するレジストであり、液状タイプまたはドライフィルムタイプ等の市販のものを用いることができる。
図4では、金めっきレジスト12aを第1配線層9及びその近傍の領域のみに形成し、また、金めっきレジスト12bを第2配線層10及びその近傍の領域のみに形成しているが、これに限定されるものではなく、例えば、これら金めっきレジスト12a,12bを、少なくともスルーホール7a,7bの内面を残して両面銅張板1の両面全面を覆うように形成するようにしてもよい。
[Step A4] (see FIG. 4)
Gold plating resists 12a and 12b covering the first wiring layer 9 and the second wiring layer 10 are formed on the double-sided copper-clad plate 1 that has undergone the A3 process, leaving at least the inner surfaces of the through holes 7a and 7b.
The gold plating resists 12a and 12b are resists having corrosion resistance against a gold plating solution, and commercially available products such as a liquid type or a dry film type can be used.
In FIG. 4, the gold plating resist 12a is formed only in the first wiring layer 9 and the vicinity thereof, and the gold plating resist 12b is formed only in the second wiring layer 10 and the vicinity thereof. For example, the gold plating resists 12a and 12b may be formed so as to cover the entire surfaces of both sides of the double-sided copper-clad plate 1 with at least the inner surfaces of the through holes 7a and 7b being left.

次に、金めっきレジスト12a,12bが形成された両面銅張板1に、金めっき処理を施すことにより、スルーホール7a,7bの内面に金めっき膜13を形成する。
金めっき膜13は、他のプリント配線板やコネクタ等の電子部品と接続する際の電気抵抗を小さくするため、また、半田接続する際の半田の濡れ性の向上のため、また、後述する端面スルーホール40a,40bの表面の酸化を防止するために形成するものである。
Next, a gold plating film 13 is formed on the inner surfaces of the through holes 7a and 7b by performing gold plating on the double-sided copper-clad plate 1 on which the gold plating resists 12a and 12b are formed.
The gold plating film 13 is used to reduce electrical resistance when connecting to other printed wiring boards and electronic components such as connectors, to improve the wettability of solder when soldered, and to be described later. It is formed to prevent oxidation of the surface of the through holes 40a, 40b.

[A5工程](図5参照)
金めっきレジスト12a,12bを除去した後、アルカリ液に可溶な液状またはインク状の充填材15を、例えばスクリーン印刷法を用いてスルーホール7a,7bに充填した後、硬化させる。
次に、スルーホール7a,7bから突出した余分な充填材15を、例えばバフ研磨により除去する。
[Step A5] (See FIG. 5)
After removing the gold plating resists 12a and 12b, a liquid or ink-like filler 15 that is soluble in an alkaline solution is filled into the through holes 7a and 7b by using, for example, a screen printing method and then cured.
Next, the excess filler 15 protruding from the through holes 7a and 7b is removed by buffing, for example.

[A6工程](図6参照)
A5工程を経た両面銅張板1の一面側に、充填材15の一側及び第1配線層9を覆う第1絶縁層17を形成し、他面側に、充填材15の他側及び第2配線層10を覆う第2絶縁層18を形成する。
第1絶縁層17及び第2絶縁層18は、液状またはインク状のエポキシ樹脂等の絶縁性樹脂を、ロールコート法,スクリーン印刷法,またはカーテンコート法等を用いて塗布した後、硬化することによって得られる。
また、第1絶縁層17及び第2絶縁層18を形成するための他の方法として、ガラスクロス等のシート状補強材に絶縁性樹脂が含浸された半硬化状態の、所謂、プリプレグを、ラミネート法や積層プレス法を用いて熱圧着する方法を用いることもできる。
[Step A6] (see FIG. 6)
A first insulating layer 17 that covers one side of the filler 15 and the first wiring layer 9 is formed on one side of the double-sided copper-clad board 1 that has undergone the A5 process, and the other side of the filler 15 and the first side are formed on the other side. A second insulating layer 18 covering the two wiring layers 10 is formed.
The first insulating layer 17 and the second insulating layer 18 are cured after applying an insulating resin such as a liquid or ink-like epoxy resin using a roll coating method, a screen printing method, a curtain coating method, or the like. Obtained by.
As another method for forming the first insulating layer 17 and the second insulating layer 18, a so-called prepreg in a semi-cured state in which an insulating resin is impregnated with a sheet-like reinforcing material such as a glass cloth is laminated. It is also possible to use a method of thermocompression bonding using a method or a lamination press method.

次に、レーザ加工により、第1絶縁層17に非貫通孔19を穿設し、第2絶縁層18に非貫通孔20を穿設する。   Next, non-through holes 19 are formed in the first insulating layer 17 and non-through holes 20 are formed in the second insulating layer 18 by laser processing.

その後、上記工程を経た両面銅張板1に銅めっきを行い、第1絶縁層17の表面及び非貫通孔19の内面を覆う第2銅めっき層21aを形成し、第2絶縁層18の表面及び非貫通孔20の内面を覆う第2銅めっき層21bを形成する。
第2銅めっき層21a,21bは、上述した第1銅めっき層6a,6bと同様の方法を用いて形成することができる。
ここで、内面が第2銅めっき層21aで覆われた非貫通孔19をビア22と称し、内面が第2銅めっき層21bで覆われた非貫通孔20をビア23と称す。
Thereafter, copper plating is performed on the double-sided copper-clad plate 1 that has undergone the above steps to form a second copper plating layer 21a that covers the surface of the first insulating layer 17 and the inner surface of the non-through hole 19, and the surface of the second insulating layer 18 And the 2nd copper plating layer 21b which covers the inner surface of the non-through-hole 20 is formed.
The second copper plating layers 21a and 21b can be formed using the same method as the first copper plating layers 6a and 6b described above.
Here, the non-through hole 19 whose inner surface is covered with the second copper plating layer 21 a is referred to as a via 22, and the non-through hole 20 whose inner surface is covered with the second copper plating layer 21 b is referred to as a via 23.

さらに、フォトリソグラフィ法を用いて、第2銅めっき層21a,21bをそれぞれ部分的にエッチングすることにより、第2銅めっき層21aからなるパターン化された第3配線層24を得ると共に、第2銅めっき層21bからなり、充填材15が充填されている領域における第2絶縁層18が露出するようにパターン化された第4配線層25を得る。
第3配線層24は、ビア22を介して第1配線層9に電気的に接続されている。
第4配線層25は、ビア23を介して第2配線層10に電気的に接続されている。
スルーホール7a,7bは充填材15で充填されているため、スルーホール7a,7bが形成されている領域上にも特に第1絶縁層17及び第3配線層24を形成することができる。
Further, by partially etching the second copper plating layers 21a and 21b using a photolithography method, a patterned third wiring layer 24 made of the second copper plating layer 21a is obtained, and the second A fourth wiring layer 25 which is made of the copper plating layer 21b and patterned so as to expose the second insulating layer 18 in the region filled with the filler 15 is obtained.
The third wiring layer 24 is electrically connected to the first wiring layer 9 through the via 22.
The fourth wiring layer 25 is electrically connected to the second wiring layer 10 through the via 23.
Since the through holes 7a and 7b are filled with the filler 15, the first insulating layer 17 and the third wiring layer 24 can be formed especially on the region where the through holes 7a and 7b are formed.

[A7工程](図7参照)
充填材15が充填されている領域における第2絶縁層18を、レーザ加工等により除去することによって、充填材15を露出させる。
[Step A7] (See FIG. 7)
The filler 15 is exposed by removing the second insulating layer 18 in the region filled with the filler 15 by laser processing or the like.

[A8工程](図8参照)
A7工程により露出した充填材15をアルカリ液で溶解させて除去する。
[Step A8] (See FIG. 8)
The filler 15 exposed in step A7 is removed by dissolving with an alkaline solution.

[A9工程](図9参照)
A8工程を経た両面銅張板1に、所定の電子部品30,31を実装した後、この両面銅張板1を、スルーホール7a,7bが略半円筒状になるように、例えば金型を用いた打ち抜きやルータ加工等の外形加工により分断することにより、プリント配線板の一形態であるモジュール基板50を得る。
略半円筒状になされたスルーホール7a,7bは、端面スルーホール(キャスタレーションまたはサイド電極ともいう)40a,40bとなる。
[Step A9] (See FIG. 9)
After mounting the predetermined electronic components 30 and 31 on the double-sided copper-clad plate 1 that has undergone the A8 process, the double-sided copper-clad plate 1 is, for example, a mold so that the through holes 7a and 7b are substantially semi-cylindrical. The module substrate 50 which is one form of a printed wiring board is obtained by dividing | segmenting by the outer shape processes, such as used punching and a router process.
The through holes 7a and 7b having a substantially semicylindrical shape become end face through holes (also referred to as castellation or side electrodes) 40a and 40b.

図9では、一例として、電子部品30をICチップとして、電子部品31をチップ抵抗やチップコンデンサ等のチップ部品としてそれぞれ示している。
電子部品30(ICチップ)は、第3配線層23に金ワイヤ32を介して電気的に接続されており、封止樹脂33によってモールドされている。
電子部品31は、第3配線層23に半田35を介して電気的に接続されている。
これら電子部品30,31はICチップやチップ部品に限定されるものではなく、また、これら電子部品の実装方法についても限定されるものではない。
In FIG. 9, as an example, the electronic component 30 is shown as an IC chip, and the electronic component 31 is shown as a chip component such as a chip resistor or a chip capacitor.
The electronic component 30 (IC chip) is electrically connected to the third wiring layer 23 via a gold wire 32 and is molded with a sealing resin 33.
The electronic component 31 is electrically connected to the third wiring layer 23 via the solder 35.
These electronic components 30 and 31 are not limited to IC chips and chip components, and the mounting method of these electronic components is not limited.

上述したプリント配線板及びその製造方法によれば、両面銅張板1を分断する際に、この分断によって形成される端面スルーホール40a,40bのエッジ部にかかる物理的負荷を、スルーホール7a,7bを覆う第1絶縁層17によって低減できるので、端面スルーホール40a,40bの変形やエッジ部の第1銅めっき層6a,6b及び金めっき膜13の剥がれを抑制することができる。   According to the printed wiring board and the manufacturing method thereof described above, when the double-sided copper-clad board 1 is divided, the physical load applied to the edge portions of the end face through-holes 40a and 40b formed by the division is determined as through holes 7a, Since it can be reduced by the first insulating layer 17 covering 7b, deformation of the end surface through holes 40a and 40b and peeling of the first copper plating layers 6a and 6b and the gold plating film 13 at the edge portion can be suppressed.

また、上述したプリント配線板及びその製造方法によれば、端面スルーホール40a,40bとなる貫通孔4a,4bを、複数の両面銅張板1に一度に形成することができるので、高い生産性が得られる。   Moreover, according to the printed wiring board and the manufacturing method thereof described above, the through holes 4a and 4b to be the end face through holes 40a and 40b can be formed in the plurality of double-sided copper-clad boards 1 at a time, so that high productivity is achieved. Is obtained.

<第2実施例>
次に、本発明に係るプリント配線板及びその製造方法の第2実施例を、図10〜図14を用いて説明する。
図10〜図14は、本発明に係るプリント配線板及びその製造方法の第2実施例を説明するための模式的断面図である。
図14において、(b)は(a)における矢視S100から特に端面スルーホール93bを見たときの模式的斜視図である。

また、以下に説明するB1工程〜B5工程は、第2実施例のプリント配線板を製造する過程をそれぞれ示すものである。
<Second embodiment>
Next, a second embodiment of the printed wiring board and the manufacturing method thereof according to the present invention will be described with reference to FIGS.
FIGS. 10-14 is typical sectional drawing for demonstrating the 2nd Example of the printed wiring board which concerns on this invention, and its manufacturing method.
14B is a schematic perspective view when the end face through hole 93b is particularly viewed from the arrow S100 in FIG.

Further, processes B1 to B5 described below show processes for manufacturing the printed wiring board of the second embodiment.

[B1工程](図10参照)
コア材62及びこのコア材62の両面に設けられた銅箔63a,63bを有する両面銅張板61について、第1実施例のA1工程〜A4工程と同様の工程を行って、コア材62の一面側に第1銅めっき層66a及び銅箔63aからなるパターン化された第1配線層69を形成し、他面側に第1銅めっき層66b及び銅箔63bからなるパターン化された第2配線層70を形成し、貫通孔64a,64bの内面が第1銅めっき層66a,66b及び金めっき膜73で覆われたスルーホール67a,67bを形成する。
第1配線層69と第2配線層70とは、スルーホール67a,67bを介して電気的に接続されている。
その後、金めっき膜73を形成する際に用いた金めっきレジスト(図示せず)を除去する。
[Step B1] (see FIG. 10)
About the double-sided copper-clad board 61 which has the copper foil 63a, 63b provided in both surfaces of the core material 62 and this core material 62, the process similar to the A1 process-A4 process of 1st Example is performed, and the core material 62 of A patterned first wiring layer 69 composed of a first copper plating layer 66a and a copper foil 63a is formed on one surface side, and a patterned second wiring composed of a first copper plating layer 66b and a copper foil 63b is formed on the other surface side. The wiring layer 70 is formed, and through holes 67a and 67b in which inner surfaces of the through holes 64a and 64b are covered with the first copper plating layers 66a and 66b and the gold plating film 73 are formed.
The first wiring layer 69 and the second wiring layer 70 are electrically connected via through holes 67a and 67b.
Then, the gold plating resist (not shown) used when forming the gold plating film 73 is removed.

コア材62は、例えばエポキシ樹脂等の絶縁性樹脂を主成分とするものやガラスクロス等のシート状補強材に絶縁性樹脂を含浸させて硬化したものである。
貫通孔64a,64bは、例えばドリル加工やレーザ加工により穿設される。
第2実施例では、第1実施例と同様に、両面銅張板61を複数枚重ね合わせた状態でドリル加工を行うことにより、貫通孔64a,64bをこれら複数の両面銅張板61に一度に形成した。
第1銅めっき層66a,66bは、例えば無電解銅めっきを行って無電解銅めっき層を形成し、この無電解銅めっき層をめっき導通層として電気銅めっきを行うことにより形成することができる。
The core material 62 is made of, for example, an insulating resin such as an epoxy resin as a main component, or a sheet-like reinforcing material such as a glass cloth impregnated with an insulating resin and cured.
The through holes 64a and 64b are formed by, for example, drilling or laser processing.
In the second embodiment, as in the first embodiment, drilling is performed in a state where a plurality of double-sided copper-clad plates 61 are overlapped, so that the through holes 64a and 64b are once formed in the plurality of double-sided copper-clad plates 61. Formed.
The first copper plating layers 66a and 66b can be formed, for example, by performing electroless copper plating to form an electroless copper plating layer, and performing electro copper plating using the electroless copper plating layer as a plating conductive layer. .

[B2工程](図11参照)
B1工程を経た両面銅張板61の両面に、感光性のドライフィルム90a,90bをそれぞれ貼り付ける(ラミネート)。
次に、ドライフィルム90a,90bを、フォトリソグラフィ法を用いて、スルーホール67a,67b及びその近傍の領域を残して除去することにより、スルーホール67a,67bの両側を覆うテンティング膜91a,91bを形成する。
[Step B2] (see FIG. 11)
Photosensitive dry films 90a and 90b are respectively bonded to both surfaces of the double-sided copper-clad plate 61 that has undergone the B1 process (laminate).
Next, the dry films 90a and 90b are removed using the photolithography method, leaving the through holes 67a and 67b and the region in the vicinity thereof, thereby tenting films 91a and 91b covering both sides of the through holes 67a and 67b. Form.

[B3工程](図12参照)
第1実施例のA6工程と同様の工程を行って、B2工程を経た両面銅張板61の一面側に、第1絶縁層77,ビア82,及び第3配線層84を順次形成し、他面側に、第2絶縁層78,ビア83,及び第4配線層85を順次形成する。
第3配線層84は、ビア82を介して第1配線層69に電気的に接続されている。
第4配線層85は、ビア83を介して第2配線層70に電気的に接続されている。また、第4配線層85は、テンティング膜91bが形成されている領域における第2絶縁層78が露出するように形成されている。
スルーホール67a,67bは、特にテンティング膜91aで覆われているので、スルーホール67a,67bが形成されている領域上に、第1絶縁層77及び第3配線層84を形成することができる。
[Step B3] (see FIG. 12)
The same process as the A6 process of the first embodiment is performed, and the first insulating layer 77, the via 82, and the third wiring layer 84 are sequentially formed on one surface side of the double-sided copper-clad plate 61 that has undergone the B2 process. A second insulating layer 78, a via 83, and a fourth wiring layer 85 are sequentially formed on the surface side.
The third wiring layer 84 is electrically connected to the first wiring layer 69 through the via 82.
The fourth wiring layer 85 is electrically connected to the second wiring layer 70 through the via 83. The fourth wiring layer 85 is formed so that the second insulating layer 78 in the region where the tenting film 91b is formed is exposed.
Since the through holes 67a and 67b are particularly covered with the tenting film 91a, the first insulating layer 77 and the third wiring layer 84 can be formed on the region where the through holes 67a and 67b are formed. .

第1絶縁層77及び第2絶縁層78は、液状またはインク状のエポキシ樹脂等の絶縁性樹脂を、ロールコート法,スクリーン印刷法,またはカーテンコート法等を用いて塗布した後、硬化することによって得られる。
また、第1絶縁層77及び第2絶縁層78を形成するための他の方法として、ガラスクロス等のシート状補強材に絶縁性樹脂が含浸された半硬化状態の所謂プリプレグを、ラミネート法や積層プレス法を用いて熱圧着する方法を用いることもできる。
The first insulating layer 77 and the second insulating layer 78 are coated with an insulating resin such as a liquid or ink-like epoxy resin using a roll coating method, a screen printing method, a curtain coating method, or the like, and then cured. Obtained by.
As another method for forming the first insulating layer 77 and the second insulating layer 78, a so-called prepreg in a semi-cured state in which an insulating resin is impregnated into a sheet-like reinforcing material such as a glass cloth is used. A method of thermocompression bonding using a lamination press method can also be used.

[B4工程](図13参照)
テンティング膜91b及びこのテンティング膜91bが形成されている領域における第2絶縁層78を、レーザ加工等により除去することによって、スルーホール67a,67bの一端側(図13における下側)を開口する。
[Step B4] (see FIG. 13)
By removing the tenting film 91b and the second insulating layer 78 in the region where the tenting film 91b is formed by laser processing or the like, one end side (the lower side in FIG. 13) of the through holes 67a and 67b is opened. To do.

[B5工程](図14参照)
B4工程を経た両面銅張板61に、所定の電子部品80,81を実装した後、この両面銅張板61を、スルーホール67a,67bが略半円筒状になるように、例えば金型を用いた打ち抜きやルータ加工等の外形加工により分断することによって、プリント配線板の一形態であるモジュール基板100を得る。
略半円筒状になされたスルーホール67a,67bは、端面スルーホール(キャスタレーションまたはサイド電極ともいう)93a,93bとなる。
[Step B5] (see FIG. 14)
After mounting predetermined electronic components 80 and 81 on the double-sided copper-clad plate 61 that has undergone the B4 step, the double-sided copper-clad plate 61 is, for example, a mold so that the through holes 67a and 67b are substantially semi-cylindrical. The module substrate 100 which is one form of a printed wiring board is obtained by dividing | segmenting by outer shape processing, such as used punching and router processing.
The through holes 67a and 67b having a substantially semicylindrical shape become end surface through holes (also referred to as castellation or side electrodes) 93a and 93b.

図14では、一例として、電子部品80をICチップとして、電子部品81をチップ抵抗やチップコンデンサ等のチップ部品としてそれぞれ示している。
電子部品80(ICチップ)は、第3配線層84に金ワイヤ94を介して電気的に接続されており、封止樹脂95によってモールドされている。
電子部品81は、第3配線層84に半田96を介して電気的に接続されている。
これら電子部品80,81はICチップやチップ部品に限定されるものではなく、また、これら電子部品の実装方法についても限定されるものではない。
In FIG. 14, as an example, the electronic component 80 is shown as an IC chip, and the electronic component 81 is shown as a chip component such as a chip resistor or a chip capacitor.
The electronic component 80 (IC chip) is electrically connected to the third wiring layer 84 via a gold wire 94 and is molded with a sealing resin 95.
The electronic component 81 is electrically connected to the third wiring layer 84 via the solder 96.
These electronic components 80 and 81 are not limited to IC chips and chip components, and the mounting method of these electronic components is not limited.

上述したプリント配線板及びその製造方法によれば、両面銅張板61を分断する際に、この分断によって形成される端面スルーホール93a,93bのエッジ部にかかる物理的負荷を、スルーホール67a,67bを覆う第1絶縁層77及びテンティング膜91aによって低減できるので、端面スルーホール93a,93bの変形やエッジ部の第1銅めっき層66a,66b及び金めっき膜73の剥がれを抑制することができる。   According to the printed wiring board and the manufacturing method thereof described above, when the double-sided copper-clad plate 61 is divided, the physical load applied to the edge portions of the end surface through-holes 93a and 93b formed by the division is changed to the through-holes 67a, Since it can be reduced by the first insulating layer 77 and the tenting film 91a covering 67b, it is possible to suppress the deformation of the end surface through holes 93a and 93b and the peeling of the first copper plating layers 66a and 66b and the gold plating film 73 at the edge portions. it can.

また、上述したプリント配線板及びその製造方法によれば、端面スルーホール93a,93bとなる貫通孔64a,64bを、複数の両面銅張板61に一度に形成することができるので、高い生産性が得られる。   Moreover, according to the printed wiring board and the manufacturing method thereof described above, the through holes 64a and 64b to be the end face through holes 93a and 93b can be formed in the plurality of double-sided copper-clad boards 61 at a time, so that high productivity is achieved. Is obtained.

本発明の実施例は、上述した構成及び手順に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において変形例としてもよいのは言うまでもない。   The embodiment of the present invention is not limited to the configuration and procedure described above, and it goes without saying that modifications may be made without departing from the scope of the present invention.

例えば、第1実施例及び第2実施例では、端面スルーホール40a,40b,93a,93bとなる貫通孔4a,4b,64a,64bの各内面を覆う金属膜として、銅めっき層6a,6b,66a,66bを形成したが、これに限定されるものではない。   For example, in the first and second embodiments, the copper plating layers 6a, 6b, and 6b are used as metal films covering the inner surfaces of the through holes 4a, 4b, 64a, and 64b to be the end surface through holes 40a, 40b, 93a, and 93b. Although 66a and 66b were formed, it is not limited to this.

また、第1実施例及び第2実施例では、所定の工程を経た両面銅張板に電子部品を実装した後、この両面銅張板を切断する手順としたが、これに限定されるものではなく、両面銅張板を切断した後に電子部品を実装する手順としてもよい。   In the first embodiment and the second embodiment, the electronic component is mounted on the double-sided copper clad plate that has undergone a predetermined process, and then the double-sided copper clad plate is cut. However, the present invention is not limited to this. Alternatively, the electronic component may be mounted after cutting the double-sided copper-clad plate.

また、第1実施例及び第2実施例では、両面銅張板を用いたが、これに限定されるものではなく、両面銅張板に替えて、例えば絶縁層と配線層とが交互に積層され、その両面に銅箔がそれぞれ貼り付けられた、所謂、シールド板を用いてもよい。   In the first and second embodiments, the double-sided copper-clad plate is used. However, the present invention is not limited to this, and instead of the double-sided copper-clad plate, for example, insulating layers and wiring layers are alternately laminated. In addition, so-called shield plates in which copper foils are bonded to both surfaces may be used.

本発明に係るプリント配線板及びその製造方法の第1実施例を説明するための模式的断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the 1st Example of the printed wiring board which concerns on this invention, and its manufacturing method. 本発明に係るプリント配線板及びその製造方法の第1実施例を説明するための模式的断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the 1st Example of the printed wiring board which concerns on this invention, and its manufacturing method. 本発明に係るプリント配線板及びその製造方法の第1実施例を説明するための模式的断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the 1st Example of the printed wiring board which concerns on this invention, and its manufacturing method. 本発明に係るプリント配線板及びその製造方法の第1実施例を説明するための模式的断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the 1st Example of the printed wiring board which concerns on this invention, and its manufacturing method. 本発明に係るプリント配線板及びその製造方法の第1実施例を説明するための模式的断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the 1st Example of the printed wiring board which concerns on this invention, and its manufacturing method. 本発明に係るプリント配線板及びその製造方法の第1実施例を説明するための模式的断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the 1st Example of the printed wiring board which concerns on this invention, and its manufacturing method. 本発明に係るプリント配線板及びその製造方法の第1実施例を説明するための模式的断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the 1st Example of the printed wiring board which concerns on this invention, and its manufacturing method. 本発明に係るプリント配線板及びその製造方法の第1実施例を説明するための模式的断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the 1st Example of the printed wiring board which concerns on this invention, and its manufacturing method. 本発明に係るプリント配線板及びその製造方法の第1実施例を説明するための模式的断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the 1st Example of the printed wiring board which concerns on this invention, and its manufacturing method. 本発明に係るプリント配線板及びその製造方法の第2実施例を説明するための模式的断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the 2nd Example of the printed wiring board which concerns on this invention, and its manufacturing method. 本発明に係るプリント配線板及びその製造方法の第2実施例を説明するための模式的断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the 2nd Example of the printed wiring board which concerns on this invention, and its manufacturing method. 本発明に係るプリント配線板及びその製造方法の第2実施例を説明するための模式的断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the 2nd Example of the printed wiring board which concerns on this invention, and its manufacturing method. 本発明に係るプリント配線板及びその製造方法の第2実施例を説明するための模式的断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the 2nd Example of the printed wiring board which concerns on this invention, and its manufacturing method. 本発明に係るプリント配線板及びその製造方法の第2実施例を説明するための模式的断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the 2nd Example of the printed wiring board which concerns on this invention, and its manufacturing method.

符号の説明Explanation of symbols

1_両面銅張板、 2,62_コア材、 3a,3b,63a,63b_銅箔、 4a,4b,64a,64b_貫通孔、 6a,6b,21a,21b,66a,66b_銅めっき層、 7a,7b,67a,67b_スルーホール、 9,10,24,25,69,70,84,85_配線層、 12_金めっきレジスト、 13,73_金めっき膜、 15_充填材、 17,18,77,78_絶縁層、 19,20_非貫通孔、 22,23,82,83_ビア、 30,31,80,81_電子部品、 32,94_金ワイヤ、 33,95_封止樹脂、 35,96_半田、 40a,40b,93a,93b_端面スルーホール、 50,100_モジュール基板、 90a,90b_ドライフィルム、 91a,91b_テンティング膜 1_double-sided copper-clad plate, 2,62_core material, 3a, 3b, 63a, 63b_copper foil, 4a, 4b, 64a, 64b_through hole, 6a, 6b, 21a, 21b, 66a, 66b_copper plating layer, 7a, 7b 67a, 67b_through hole, 9, 10, 24, 25, 69, 70, 84, 85_ wiring layer, 12_ gold plating resist, 13, 73_ gold plating film, 15_ filler, 17, 18, 77, 78_ insulating layer 19, 20_ non-through hole, 22, 23, 82, 83_ via, 30, 31, 80, 81_ electronic component, 32, 94_ gold wire, 33, 95_ sealing resin, 35, 96_ solder, 40a, 40b, 93a 93b_end face through hole, 50,100_module substrate, 90a, 90b_dry film, 91a, 91b_tenting film

Claims (2)

基板と、
前記基板の第1面に形成された第1配線層と、
前記基板の前記第1面とは反対側の第2面に形成された第2配線層と、
前記基板の端面に対して凹状に設けられた端面スルーホールであって、前記第1面と前記第2面との間に延びる端面スルーホールと、
前記端面スルーホールの内面を覆い、且つ、前記第1配線層と前記第2配線層とを電気的に接続する金属膜と、
前記端面スルーホール内の前記金属膜の全体を覆う金めっき膜と、
前記第1面を覆い前記第1配線層を埋設する第1絶縁層と、
前記第2面を覆い前記第2配線層を埋設する第2絶縁層と
を備え、
前記第1絶縁層は、前記端面スルーホールにおける前記第1面側の開口を覆うように前記開口内に張り出し、前記第2絶縁層は、前記端面スルーホールにおける前記第2面側の開口の部分を除いて配設されていることを特徴とするプリント配線板の製造方法であって、
基板に貫通孔を穿設する穿設工程と、
前記穿設工程後に、前記基板の第1面、第2面及び前記貫通孔の内面を覆う金属膜を形成して、前記貫通孔をその内面が前記金属膜で覆われたスルーホールにする金属膜形成工程と、
前記第1面を覆う金属膜を第1配線層に形成するとともに、前記第2面を覆う金属膜を第2配線層に形成する配線層形成工程と、
前記配線層形成工程後に、前記スルーホール内の金属膜を覆う金めっき膜を形成する金めっき膜形成工程と、
前記金めっき膜形成工程後に、前記スルーホールに充填材を充填する充填工程と、
前記充填工程後に、前記基板の第1面及び第2面に、前記第1配線層及び第2配線層を埋設するとともに前記充填材の両端を覆う第1絶縁層及び第2絶縁層をそれぞれ形成する絶縁層形成工程と、
前記絶縁層形成工程後に、前記第2絶縁層を部分的に除去して、前記充填材を露出させる充填材露出工程と、
前記充填材露出工程後に、前記露出された充填材を除去する充填材除去工程と、
前記充填材除去工程後に、前記スルーホールが分断されるように前記基板を分断して、前記スルーホールが分断されてなる端面スルーホールを有するプリント配線板を得る分断工程と、
を有するプリント配線板の製造方法。
A substrate,
A first wiring layer formed on the first surface of the substrate;
A second wiring layer formed on a second surface opposite to the first surface of the substrate;
An end surface through hole provided in a concave shape with respect to the end surface of the substrate, the end surface through hole extending between the first surface and the second surface;
A metal film that covers an inner surface of the end surface through-hole and electrically connects the first wiring layer and the second wiring layer;
A gold plating film covering the entire metal film in the end face through hole;
A first insulating layer covering the first surface and embedding the first wiring layer;
A second insulating layer covering the second surface and burying the second wiring layer;
With
The first insulating layer projects into the opening so as to cover the opening on the first surface side in the end surface through hole, and the second insulating layer is a portion of the opening on the second surface side in the end surface through hole. A method for manufacturing a printed wiring board, characterized by being arranged except for,
A drilling step of drilling a through hole in the substrate;
After the drilling step, a metal film is formed to cover the first surface, the second surface and the inner surface of the through hole of the substrate, and the through hole is a through hole whose inner surface is covered with the metal film A film forming step;
Forming a metal film covering the first surface on the first wiring layer, and forming a metal film covering the second surface on the second wiring layer;
A gold plating film forming step of forming a gold plating film covering the metal film in the through hole after the wiring layer forming step;
After the gold plating film forming step, a filling step for filling the through hole with a filler,
After the filling step, a first insulating layer and a second insulating layer are formed on the first surface and the second surface of the substrate, respectively, so as to embed the first wiring layer and the second wiring layer and cover both ends of the filler. An insulating layer forming step,
After the insulating layer forming step, a filler exposing step of partially removing the second insulating layer to expose the filler;
After the filler exposure step, a filler removal step of removing the exposed filler,
After the filler removing step, the substrate is divided so that the through hole is divided, and a dividing step of obtaining a printed wiring board having an end surface through hole formed by dividing the through hole;
The manufacturing method of the printed wiring board which has this.
基板と、
前記基板の第1面に形成された第1配線層と、
前記基板の前記第1面とは反対側の第2面に形成された第2配線層と、
前記基板の端面に対して凹状に設けられた端面スルーホールであって、前記第1面と前記第2面との間に延びる端面スルーホールと、
前記端面スルーホールの内面を覆い、且つ、前記第1配線層と前記第2配線層とを電気的に接続する金属膜と、
前記端面スルーホール内の前記金属膜の全体を覆う金めっき膜と、
前記第1面を覆い前記第1配線層を埋設する第1絶縁層と、
前記第2面を覆い前記第2配線層を埋設する第2絶縁層と
を備え、
前記第1絶縁層は、前記端面スルーホールにおける前記第1面側の開口を覆うように前記開口内に張り出し、前記第2絶縁層は、前記端面スルーホールにおける前記第2面側の開口の部分を除いて配設されていることを特徴とするプリント配線板の製造方法であって、
基板に貫通孔を穿設する穿設工程と、
前記穿設工程後に、前記基板の第1面、第2面及び前記貫通孔の内面を覆う金属膜を形成して、前記貫通孔をその内面が前記金属膜で覆われたスルーホールにする金属膜形成工程と、
前記第1面を覆う金属膜を第1配線層に形成するとともに、前記第2面を覆う金属膜を第2配線層に形成する配線層形成工程と、
前記配線層形成工程後に、前記スルーホール内の金属膜を覆う金めっき膜を形成する金めっき膜形成工程と、
前記金めっき膜形成工程後に、前記スルーホールにおける前記第1面側の第1面側端及び前記第2面側の第2面側端をそれぞれ覆う第1テンティング膜及び第2テンティング膜を形成するテンティング膜形成工程と、
前記テンティング膜形成工程後に、前記基板の第1面及び第2面に、前記第1配線層及び第2配線層を埋設するとともに前記第1テンティング膜及び第2テンティング膜を覆う第1絶縁層及び第2絶縁層をそれぞれ形成する絶縁層形成工程と、
前記絶縁層形成工程後に、前記第2絶縁層を部分的に除去するとともに前記第2テンティング膜を除去して、前記スルーホールを開口するスルーホール開口工程と、
前記スルーホール開口工程後に、前記スルーホールが分断されるように前記基板を分断して、前記スルーホールが分断されてなる端面スルーホールを有するプリント配線板を得る分断工程と、
を有するプリント配線板の製造方法。
A substrate,
A first wiring layer formed on the first surface of the substrate;
A second wiring layer formed on a second surface opposite to the first surface of the substrate;
An end surface through hole provided in a concave shape with respect to the end surface of the substrate, the end surface through hole extending between the first surface and the second surface;
A metal film that covers an inner surface of the end surface through-hole and electrically connects the first wiring layer and the second wiring layer;
A gold plating film covering the entire metal film in the end face through hole;
A first insulating layer covering the first surface and embedding the first wiring layer;
A second insulating layer covering the second surface and burying the second wiring layer;
With
The first insulating layer projects into the opening so as to cover the opening on the first surface side in the end surface through hole, and the second insulating layer is a portion of the opening on the second surface side in the end surface through hole. A method for manufacturing a printed wiring board, characterized by being arranged except for,
A drilling step of drilling a through hole in the substrate;
After the drilling step, a metal film is formed to cover the first surface, the second surface and the inner surface of the through hole of the substrate, and the through hole is a through hole whose inner surface is covered with the metal film A film forming step;
Forming a metal film covering the first surface on the first wiring layer, and forming a metal film covering the second surface on the second wiring layer;
A gold plating film forming step of forming a gold plating film covering the metal film in the through hole after the wiring layer forming step;
After the gold plating film forming step, a first tenting film and a second tenting film that respectively cover the first surface side end and the second surface side end of the second surface side in the through hole, respectively. A tenting film forming step to be formed;
After the tenting film forming step, the first wiring layer and the second wiring layer are embedded in the first surface and the second surface of the substrate, and the first tenting film and the second tenting film are covered. An insulating layer forming step of forming the insulating layer and the second insulating layer,
After the insulating layer forming step, the second insulating layer is partially removed and the second tenting film is removed to open the through hole; and
After the through hole opening step, the substrate is divided so that the through hole is divided, and a dividing step of obtaining a printed wiring board having an end surface through hole formed by dividing the through hole;
The manufacturing method of the printed wiring board which has this.
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