JP5304518B2 - Liquid crystal display panel and manufacturing method thereof - Google Patents
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Description
本発明は、液晶表示パネル及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a liquid crystal display panel and a method for manufacturing the same.
従来、液晶表示装置の液晶表示パネルを製造する方式として、例えばODF(One Drop Fill)方式が知られている。ODF方式においては、各種配線及び薄膜トランジスタが形成されたTFT基板をCF基板と貼り合わせる際に、予めTFT基板に光硬化型のシール剤により形成した液晶封止領域中に液晶を滴下してから真空中で貼り合わせる。貼り合わせ後に大気圧に戻し、シール剤に囲まれた内側の領域と外側の領域との間の気圧差を利用してTFT基板とCF基板とによってシール剤を押し広げてから、シール剤に対して紫外線を照射することにシール剤を硬化させている。
ここで、CF基板の周縁部に遮光膜としてのブラックマトリクスが形成されていて、TFT基板においてブラックマトリクスに対向する部分に配線が形成されている場合がある。この場合、CF基板にはブラックマトリクスが形成されているためTFT基板側から紫外線を照射する必要があるが、シール剤のうち、紫外線の光源とシール剤との間にTFT基板の配線が介在する領域ではシール剤を硬化できない。
Conventionally, for example, an ODF (One Drop Fill) method is known as a method for manufacturing a liquid crystal display panel of a liquid crystal display device. In the ODF method, when a TFT substrate on which various wirings and thin film transistors are formed is bonded to a CF substrate, a liquid crystal is dropped into a liquid crystal sealing region that is previously formed on the TFT substrate with a photo-curing sealant, and then vacuum is applied. Paste inside. After bonding, the pressure is returned to atmospheric pressure, the pressure difference between the inner region and the outer region surrounded by the sealing agent is used to spread the sealing agent between the TFT substrate and the CF substrate, and then the sealing agent is applied. The sealant is cured by irradiating with ultraviolet rays.
Here, there is a case where a black matrix as a light shielding film is formed on the peripheral portion of the CF substrate, and wiring is formed on a portion of the TFT substrate facing the black matrix. In this case, since a black matrix is formed on the CF substrate, it is necessary to irradiate ultraviolet rays from the TFT substrate side, but among the sealing agents, the wiring of the TFT substrate is interposed between the ultraviolet light source and the sealing agent. The sealant cannot be cured in the region.
これを防止すべく、近年においては、貼り合わせた基板の表面に対して紫外線を斜め方向から入射させることで、基板間で多重反射を生じさせて、シール剤のうち、紫外線の光源とシール剤との間にTFT基板の配線やブラックマトリクスが介在する領域においても、シール剤を硬化させる液晶表示パネルの製造方法が考えられている(例えば特許文献1参照)。 In order to prevent this, in recent years, ultraviolet rays are incident on the surfaces of the bonded substrates from an oblique direction to cause multiple reflections between the substrates, and among the sealing agents, an ultraviolet light source and a sealing agent. A method of manufacturing a liquid crystal display panel in which a sealing agent is cured also in a region where a wiring of a TFT substrate and a black matrix are interposed between the two is considered (for example, see Patent Document 1).
特許文献1に記載される製造方法では、貼り合わせ基板の表面に対して斜め方向に入射させた紫外線を表面が平坦な遮光膜や金属配線で何度か反射させてシール剤に紫外線を照射している。シール剤のうち特に液晶に隣接する領域に対しては可能な限り紫外線の強度を減衰させてから紫外線を照射することにより、液晶側に紫外線が漏れて液晶の汚染が発生しないようにしている。特許文献1に記載の発明では、上述のように多重反射され強度が減衰した紫外線を利用しているため、光源から出射されるときの紫外線の強度は必然的に高く設定されることになる。このように紫外線の強度が高く設定されていると、液晶封止領域内に直接入射した紫外線が直接または各基板の表面で反射して高強度のまま液晶に達してしまい、液晶を汚染してしまう可能性が高くなってしまう。
本発明の課題は、紫外線を大きくすることなくシール剤を硬化することができ、ひいてはシール剤を硬化する時に紫外線が直接または反射して高強度のまま液晶に到達し、液晶を汚染する可能性を高めることなく、シール剤を硬化することのできる液晶表示パネル及びその製造方法を提供することである。
In the manufacturing method described in
The problem of the present invention is that the sealing agent can be cured without increasing the ultraviolet ray, and as a result, when the sealing agent is cured, there is a possibility that the ultraviolet ray directly or reflects and reaches the liquid crystal with high intensity and contaminates the liquid crystal. It is providing the liquid crystal display panel which can harden | cure a sealing agent, and its manufacturing method, without raising.
以上の課題を解決するため、本発明の一の態様によれば、
第一の透明基板と、
前記第一の透明基板との間に液晶層と該液晶層を取り囲むシール剤とが介在された状態で前記第一の透明基板に重ね合わされた第二の透明基板と、
前記第一の透明基板と前記シール剤との間に介在された配線と、
前記第二の透明基板と前記シール剤との間に前記配線と重なった状態で介在され、前記第一の透明基板に対して前記第二の透明基板が配置された側とは反対側から入射される光を乱反射する乱反射層、
前記第二の透明基板と前記乱反射層との間に前記シール剤と重なった状態で介在された光を遮断する遮光膜と、を備え、
前記乱反射層のうち該乱反射層に対して前記液晶層が配置された側の端部は、前記遮光膜のうち該遮光膜に対して前記液晶層が配置された側の端部よりも、前記液晶表示パネルの表示領域からの距離が離れていることを特徴とする液晶表示パネルが提供される。
In order to solve the above problems, according to one aspect of the present invention,
A first transparent substrate;
A second transparent substrate superimposed on the first transparent substrate with a liquid crystal layer and a sealing agent surrounding the liquid crystal layer interposed between the first transparent substrate,
Wiring interposed between the first transparent substrate and the sealant;
It is interposed between the second transparent substrate and the sealing agent so as to overlap the wiring, and is incident on the first transparent substrate from the side opposite to the side on which the second transparent substrate is disposed. Diffuse reflection layer that diffuses reflected light ,
A light shielding film that blocks light interposed between the second transparent substrate and the irregular reflection layer in a state of overlapping with the sealant ,
The end of the irregular reflection layer on the side where the liquid crystal layer is disposed with respect to the irregular reflection layer is more than the end of the light shielding film on the side where the liquid crystal layer is disposed with respect to the light shielding film. There is provided a liquid crystal display panel characterized in that the distance from the display area of the liquid crystal display panel is increased.
上記液晶表示パネルにおいて、好ましくは、前記乱反射層は前記シール剤の全体と重なっている。
上記液晶表示パネルにおいて、好ましくは、前記液晶層と重なる領域から前記シール剤と重なる領域にかけて、前記乱反射層が連続的に形成されている。
上記液晶表示パネルにおいて、好ましくは、前記遮光膜は前記シール剤の全体と重なっている。
上記液晶表示パネルにおいて、好ましくは、前記液晶層と重なる領域から前記シール剤と重なる領域にかけて、前記遮光膜が連続的に形成されている。
上記液晶表示パネルにおいて、好ましくは、前記液晶層と重なる領域から前記第二の透明基板の端部にかけて、前記遮光膜が形成されている。
上記液晶表示パネルにおいて、好ましくは、前記乱反射層のうち前記第一の透明基板と対向する対向面に金属膜が成膜されている。
上記液晶表示パネルにおいて、好ましくは、前記第一の透明基板と前記液晶層との間に介在した状態で前記液晶表示パネルの表示領域内に形成された画素電極をさらに有し、
前記画素電極に接続された薄膜トランジスタを駆動する駆動回路が搭載される駆動回路搭載領域が、前記第一の透明基板のうち前記第二の透明基板から突出した突出部に形成され、
前記配線は、前記薄膜トランジスタに接続された走査線または信号線と、前記駆動回路搭載領域に形成されたゲート端子またはデータ端子とを接続する引き回し配線である。
In the liquid crystal display panel, preferably, the irregular reflection layer overlaps the entire sealing agent.
In the liquid crystal display panel, preferably, the irregular reflection layer is continuously formed from a region overlapping with the liquid crystal layer to a region overlapping with the sealant .
In the liquid crystal display panel, preferably, the light shielding film overlaps the entire sealing agent.
In the liquid crystal display panel, preferably, the light shielding film is continuously formed from a region overlapping with the liquid crystal layer to a region overlapping with the sealant.
In the liquid crystal display panel, preferably, the light shielding film is formed from a region overlapping with the liquid crystal layer to an end of the second transparent substrate.
In the liquid crystal display panel, preferably, a metal film is formed on a surface of the irregular reflection layer facing the first transparent substrate.
Preferably, the liquid crystal display panel further includes a pixel electrode formed in a display region of the liquid crystal display panel in a state of being interposed between the first transparent substrate and the liquid crystal layer,
A drive circuit mounting region in which a drive circuit for driving a thin film transistor connected to the pixel electrode is mounted is formed in a protruding portion protruding from the second transparent substrate of the first transparent substrate,
The wiring is a lead wiring that connects a scanning line or a signal line connected to the thin film transistor to a gate terminal or a data terminal formed in the driving circuit mounting region.
また、本発明の他の態様によれば、
完成された複数の液晶表示パネルを形成することができる面積を有し、一の面上における前記複数の液晶表示パネルの各表示領域内に画素電極が形成され、前記各表示領域の外側に配線が形成された第一の基板を準備する第1基板準備工程と、
完成された複数の液晶表示パネルを形成することができる面積を有し、一の面上における前記複数の液晶表示パネルの各表示領域内にカラーフィルタ層が形成され、光を遮断する遮光膜と該遮光膜上に配置され光を乱反射する乱反射層が前記各表示領域の外側に形成された第二の基板を準備する第2基板準備工程と、
前記第一の基板上及び該第一の基板の前記各配線上、または、前記第二の基板上及び該第二の基板の前記各乱反射層上のいずれか一方に、前記各表示領域を取り囲んで光硬化型のシール剤を形成するシール剤形成工程と、
前記第一の基板または前記第二の基板における前記各シール剤に囲まれた領域に液晶を配置する液晶配置工程と、
前記各シール剤を前記第一の基板の前記各配線および前記第二の基板の前記各乱反射層と重ねた状態で、前記第一の基板と前記第二の基板とを貼り合わせる貼り合わせ工程と、
前記第一の基板に対して前記第二の基板が配置された側とは反対側から前記各シール剤に向けて光を照射する光照射工程とを含み、
前記第二基板準備工程は、前記各遮光膜のうち該各遮光膜に対して該各遮光膜に対応する表示領域が配置された側の端部よりも、前記各遮光膜上に配置された前記乱反射層のうち該各乱反射層に対して前記各遮光膜に対応する表示領域が配置された側の端部の方が、前記各遮光膜に対応する表示領域から離れた状態となるように、前記各乱反射層を形成する乱反射層形成工程をさらに含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法が提供される。
According to another aspect of the invention,
A pixel electrode is formed in each display region of the plurality of liquid crystal display panels on one surface and has an area where a plurality of completed liquid crystal display panels can be formed, and wiring is provided outside the display regions. A first substrate preparation step of preparing a first substrate on which is formed;
A light-shielding film having an area capable of forming a plurality of completed liquid crystal display panels, a color filter layer being formed in each display region of the plurality of liquid crystal display panels on one surface, and blocking light; A second substrate preparing step of preparing a second substrate in which an irregular reflection layer disposed on the light-shielding film and irregularly reflecting light is formed outside each display region;
The display areas are surrounded on either the first substrate and the wirings of the first substrate, or on the second substrate and the irregular reflection layers of the second substrate. A sealing agent forming step of forming a photo-curable sealing agent with,
A liquid crystal disposing step of disposing liquid crystal in a region surrounded by each sealing agent in the first substrate or the second substrate;
A bonding step of bonding the first substrate and the second substrate in a state in which the respective sealing agents are overlapped with the respective wirings of the first substrate and the respective irregular reflection layers of the second substrate; ,
The saw including a light irradiating step of irradiating light toward the opposite side to the respective sealant from the first side to the second substrate is disposed against the substrate,
The second substrate preparation step is arranged on each light shielding film with respect to each light shielding film from the end on the side where the display region corresponding to each light shielding film is arranged. The end of the irregular reflection layer on the side where the display region corresponding to each light shielding film is arranged with respect to each irregular reflection layer is in a state of being separated from the display region corresponding to each light shielding film. There is provided a method for manufacturing a liquid crystal display panel, further comprising an irregular reflection layer forming step of forming the irregular reflection layers .
上記液晶表示パネルの製造方法において、好ましくは、前記第二基板準備工程は、前記各遮光膜のうち該各遮光膜に対して該各遮光膜に対応する表示領域が配置された側の端部よりも、前記各遮光膜上に配置された前記乱反射層のうち該各乱反射層に対して前記各遮光膜に対応する表示領域が配置された側の端部の方が、前記各遮光膜に対応する表示領域から離れた状態となるように、前記各乱反射層を形成する乱反射層形成工程をさらに含む。
上記液晶表示パネルの製造方法において、好ましくは、前記各遮光膜は前記第二の基板の平坦な面上に形成されていて、
前記乱反射層形成工程は、前記各遮光膜上に感光性樹脂を塗布し、次いで、露光および現像処理により前記各遮光膜上に多数の微小な凹凸を形成し、次いで、前記多数の微小な凹凸上に金属膜を成膜することを含む。
上記液晶表示パネルの製造方法において、好ましくは、前記各遮光膜は前記第二の基板の凹凸を有する面上に形成されていて、
前記乱反射層形成工程は、前記各遮光膜上に金属膜を成膜することを含む。
上記液晶表示パネルの製造方法において、好ましくは、前記第二の基板の表面に対してフッ酸溶液を用いてフロスト加工することにより、前記第二の基板の前記凹凸を有する面を形成することを含む。
上記液晶表示パネルの製造方法において、好ましくは、前記金属膜を成膜後、露光および現像処理により前記金属膜の一部を除去して前記各乱反射層を形成することを含む。
上記液晶表示パネルの製造方法において、好ましくは、前記貼り合わせ工程は、前記各シール剤の全体を前記第二の基板の前記各乱反射膜と重ねた状態で、前記第二の基板と前記第一の基板とを貼り合わせることを含み、
前記光照射工程は、前記第一の基板に対して前記第二の基板が配置された側とは反対側に配置された光源から前記シール剤に向けて照射された光を前記乱反射層で乱反射させて、前記各シール剤のうち前記光源との間に前記各配線が介在された部分に照射させることを含む。
上記液晶表示パネルの製造方法において、好ましくは、前記光照射工程は、前記各シール剤に向けて光を照射する前に、前記第一の基板に対して前記第二の基板が配置された側とは反対側に、前記第一の基板のうち前記各表示領域をなす領域を覆い、前記光源からの光を遮断するマスクを配置することを含む。
上記液晶表示パネルの製造方法において、好ましくは、前記光照射工程の後に、前記第一の基板と前記第二の基板とを貼り合わせた液晶表示パネル形成用構成体を切断して個片化する個片化工程をさらに含む。
In the method for manufacturing a liquid crystal display panel, preferably, the second substrate preparation step includes an end portion on a side where a display region corresponding to each light shielding film is disposed with respect to each light shielding film among the light shielding films. Rather than the diffuse reflection layer disposed on each light shielding film, the end on the side where the display region corresponding to each light shielding film is disposed with respect to each diffuse reflection layer is located on each light shielding film. It further includes a diffused reflection layer forming step of forming each diffused reflection layer so as to be separated from the corresponding display area.
In the liquid crystal display panel manufacturing method, preferably, each light shielding film is formed on a flat surface of the second substrate,
In the irregular reflection layer forming step, a photosensitive resin is applied on each of the light shielding films, and then a number of minute irregularities are formed on each of the light shielding films by exposure and development, and then the number of minute irregularities is formed. Forming a metal film thereon.
In the liquid crystal display panel manufacturing method, preferably, each light shielding film is formed on a surface having irregularities of the second substrate,
The irregular reflection layer forming step includes forming a metal film on each light shielding film.
In the manufacturing method of the liquid crystal display panel, preferably, the surface of the second substrate having the unevenness is formed by frosting the surface of the second substrate using a hydrofluoric acid solution. Including.
Preferably, the method for manufacturing a liquid crystal display panel includes forming each of the irregular reflection layers by removing a part of the metal film by exposure and development after forming the metal film.
In the method for manufacturing a liquid crystal display panel, preferably, the bonding step includes the second substrate and the first substrate in a state where the entire sealing agent is overlapped with the irregular reflection films on the second substrate. Including bonding to the substrate of
In the light irradiation step, the light irradiated toward the sealant from the light source disposed on the side opposite to the side on which the second substrate is disposed with respect to the first substrate is irregularly reflected by the irregular reflection layer. And irradiating a portion of each of the sealing agents where the wirings are interposed between the light sources.
In the method for manufacturing a liquid crystal display panel, preferably, the light irradiation step is a side where the second substrate is disposed with respect to the first substrate before irradiating the light toward the respective sealing agents. And a mask for covering the areas forming the respective display areas of the first substrate and blocking light from the light source.
In the liquid crystal display panel manufacturing method, preferably, after the light irradiation step, the liquid crystal display panel forming structure in which the first substrate and the second substrate are bonded together is cut into individual pieces. It further includes an individualization step.
また、本発明の他の態様によれば、
完成された少なくとも1つの液晶表示パネルを形成することができる面積を有し、一の面上における前記少なくとも1つの液晶表示パネルの表示領域内に画素電極が形成され、前記表示領域の外側に配線が形成された第一の基板を準備する第1基板準備工程と、
完成された少なくとも1つの液晶表示パネルを形成することができる面積を有し、一の面上における前記少なくとも1つの液晶表示パネルの表示領域内にカラーフィルタ層が形成され、光を遮断する遮光膜と該遮光膜上に配置され光を乱反射する乱反射層が前記表示領域の外側に形成された第二の基板を準備する第2基板準備工程と、
前記第一の基板上及び該第一の基板の前記配線上、または、前記第二の基板上及び該第二の基板の前記乱反射層上のいずれか一方に、前記表示領域を取り囲んで光硬化型のシール剤を形成するシール剤形成工程と、
前記第一の基板または前記第二の基板における前記シール剤に囲まれた領域に液晶を配置する液晶配置工程と、
前記シール剤を前記第一の基板の前記配線および前記第二の基板の前記乱反射層と重ねた状態で、前記第一の基板と前記第二の基板とを貼り合わせる貼り合わせ工程と、
前記第一の基板に対して前記第二の基板が配置された側とは反対側から前記シール剤に向けて光を照射する光照射工程とを含み、
前記第二基板準備工程は、前記各遮光膜のうち該各遮光膜に対して該各遮光膜に対応する表示領域が配置された側の端部よりも、前記各遮光膜上に配置された前記乱反射層のうち該各乱反射層に対して前記各遮光膜に対応する表示領域が配置された側の端部の方が、前記各遮光膜に対応する表示領域から離れた状態となるように、前記各乱反射層を形成する乱反射層形成工程をさらに含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法が提供される。
According to another aspect of the invention,
A pixel electrode is formed in a display area of the at least one liquid crystal display panel on one surface and has an area where a completed at least one liquid crystal display panel can be formed, and wiring is provided outside the display area. A first substrate preparation step of preparing a first substrate on which is formed;
A light-shielding film having an area capable of forming a completed at least one liquid crystal display panel, and having a color filter layer formed in a display area of the at least one liquid crystal display panel on one surface to block light A second substrate preparing step of preparing a second substrate disposed on the light-shielding film and having a diffused reflection layer for irregularly reflecting light formed outside the display region;
Photocuring surrounding the display area on either the first substrate and the wiring of the first substrate, or on the second substrate and on the irregular reflection layer of the second substrate. A sealing agent forming step for forming a mold sealing agent;
A liquid crystal disposing step of disposing a liquid crystal in a region surrounded by the sealant in the first substrate or the second substrate;
A bonding step of bonding the first substrate and the second substrate in a state where the sealing agent is overlapped with the wiring of the first substrate and the irregular reflection layer of the second substrate;
The saw including a light irradiating step of irradiating light toward the opposite side to the sealant from the first side to the second substrate is disposed against the substrate,
The second substrate preparation step is arranged on each light shielding film with respect to each light shielding film from the end on the side where the display region corresponding to each light shielding film is arranged. The end of the irregular reflection layer on the side where the display region corresponding to each light shielding film is arranged with respect to each irregular reflection layer is in a state of being separated from the display region corresponding to each light shielding film. There is provided a method for manufacturing a liquid crystal display panel, further comprising an irregular reflection layer forming step of forming the irregular reflection layers .
本発明によれば、紫外線の強度を大きくすることなくシール剤を硬化することができ、ひいてはシール剤を硬化する時に紫外線が直接または反射して高強度のまま液晶に到達し、液晶を汚染する可能性を高めることなく、シール剤を硬化することができる。 According to the present invention, the sealing agent can be cured without increasing the intensity of the ultraviolet rays. As a result, when the sealing agent is cured, the ultraviolet rays are directly or reflected to reach the liquid crystal with high intensity and contaminate the liquid crystal. The sealant can be cured without increasing the possibility.
以下に、本発明を実施するための最良の形態について図面を用いて説明する。ただし、以下に述べる実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい種々の限定が付されているが、発明の範囲を以下の実施形態及び図示例に限定するものではない。 The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings. However, although various technically preferable limitations for implementing the present invention are given to the embodiments described below, the scope of the invention is not limited to the following embodiments and illustrated examples.
まず、本実施形態の液晶表示パネルの製造方法により形成された液晶表示パネルについて説明する。図1は、液晶表示パネル1の概略構成を示す斜視図である。図2は、図1におけるII−II切断線から見た断面図である。図3はTFT基板10上に形成された回路の一部を示す平面図である。図1〜図3に示すように、液晶表示パネル1は、第一の透明基板としてのガラス基板11を有するTFT基板10、第二の透明基板としてのガラス基板21を有するCF基板20、そしてTFT基板10とCF基板20との間に介在されたシール剤30を有する。TFT基板10は、4辺のうち少なくとも一辺においてCF基板20から突出した突出部10aを有する形状をなしており、この突出部10aに駆動回路60が搭載されている。シール剤30は、CF基板20の外周縁に沿って枠状に形成され、シール剤30、TFT基板10及びCF基板20により形成された空間内に液晶層40が封入されている。
First, the liquid crystal display panel formed by the liquid crystal display panel manufacturing method of the present embodiment will be described. FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of the liquid
この液晶表示パネル1は、薄膜トランジスタ(TFT)をアクティブ素子としたアクティブマトリックス液晶素子である。ガラス基板11におけるCF基板20との対向面(TFT基板10の内面)12における液晶表示パネル1の表示領域G内には、行及び列方向にマトリクス状に配列させて形成されて画素を形成する複数の画素電極33と、複数の画素電極33にそれぞれ対応させて配置され、対応する画素電極33に接続された複数の薄膜トランジスタ34と、各行の複数の薄膜トランジスタ34にそれぞれゲート信号を供給する複数の走査線35と、各列の複数の薄膜トランジスタ34にそれぞれデータ信号を供給する複数の信号線36とが設けられている。また、ガラス基板11におけるCF基板20との対向面(TFT基板10の内面)12における液晶表示パネル1の表示領域Gの外側には、複数の走査線35または複数の信号線36のうちいずれか1つにそれぞれ接続された複数の引き回し配線13が形成されている。複数の引き回し配線13のうち複数の走査線35に接続された一部の引き回し配線13の各端部が、突出部10aのうち駆動回路60が搭載される駆動回路搭載領域39に配置されてゲート端子37を形成し、複数の引き回し配線13のうち信号線36に接続された他の一部の引き回し配線13の各端部が、突出部10aの駆動回路搭載領域39に配置されてデータ端子38を形成している。そして、複数の引き回し配線13はそれぞれ、その全体または一部がシール剤30と重ねて形成されている。尚、図2において、複数の引き回し配線13上に形成された保護膜は図示を省略している。
The liquid
一方、ガラス基板21におけるTFT基板10との対向面(CF基板20の内面)22には、複数の画素電極33の配列領域全体に対向させて形成された対向電極(不図示)と、複数の画素電極33と対向電極とが互いに対向する領域からなる複数の画素にそれぞれ対応させて形成された赤、緑、青の3色のカラーフィルタ層(不図示)とが設けられている。そして、ガラス基板21の対向面22の外周縁部には、TFT基板10に対してCF基板20が配置された側とは反対側に配置されるバックライトから液晶表示パネル1に向けて照射される光を遮断する枠状の遮光膜23が、表示領域Gを取り囲んで形成されている。この遮光膜23はガラス基板21の対向面22上にシール剤30と重ねて、液晶層40と重なる領域からCF基板20の外側の端部24にかけて連続的に形成されている。
On the other hand, the opposing surface (inner surface of the CF substrate 20) 22 of the
また、TFT基板10およびCF基板20の内面にはそれぞれ、電極を覆う配向膜(不図示)が形成されており、この配向膜により液晶40の液晶分子は初期配向状態に保持され配向されている。そして、突出部10aの駆動回路搭載領域39に搭載された駆動回路60は、ゲート端子37を介して複数の走査線35に順次ゲート信号を印加し、データ端子38を介して複数の信号線36にデータ信号を印加するものである。さらに、突出部10aの端部には、図示しない外部回路からのドライバ制御信号を駆動回路60に供給する配線フィルム(不図示)が接続されている。
ここで、液晶表示パネル1において、液晶層40が配置されて、複数の薄膜トランジスタ34が形成され且つ遮光膜23によって取り囲まれた領域のうち、当該領域の外周縁部を除く領域が液晶表示パネル1の表示領域Gとされる。
In addition, an alignment film (not shown) that covers the electrodes is formed on the inner surfaces of the
Here, in the liquid
遮光膜23におけるTFT基板10に対向する対向面のうち、遮光膜23に対して表示領域Gが配置された側の縁部を除く領域、即ち枠状の遮光膜23の内周縁部に、入射した光を乱反射する乱反射層50が形成されている。即ち、遮光膜23のうち該遮光膜23に対して液晶層40および表示領域Gが配置された側の端部よりも、遮光膜23上に配置された乱反射層50のうち該乱反射層50に対して液晶層40および表示領域Gが配置された側の端部の方が、表示領域Gから離れた状態となっている。また、この乱反射層50は、遮光膜23の対向面上にシール剤30の全体と重ねて液晶層40と重なる領域からCF基板20の外側の端部24にかけて連続的に形成されている。
Of the light-shielding
乱反射層50は、例えばアルミニウムや白金等の金属からなる金属膜であり、そのTFT基板10に対向する表面51に微小な凹凸51が多数形成されている。この乱反射層50によって、TFT基板10側から遮光膜23に向けて照射される光が乱反射される。乱反射層50は少なくとも複数の引き回し配線13の全てに重ねて設けられている。
The
次に、液晶表示パネルの製造方法について、図4に示す液晶表示パネル1の製造工程図を参照して説明する。また、図5〜図12は、液晶表示パネルの製造方法の各工程を模式的に示す説明図である。なお、図5〜図12において、TFT基板10の画素電極33、薄膜トランジスタ34及び配向膜と、CF基板20のカラーフィルタ層及び配向膜との図示を省略している。
Next, a manufacturing method of the liquid crystal display panel will be described with reference to a manufacturing process diagram of the liquid
まず、図5に示すように、完成された複数の液晶表示パネル1を形成することができる面積を有するTFT基板10Aを準備する(第1基板準備工程S1)。TFT基板10Aには、完成された複数の液晶表示パネル1を形成することができる面積を有するガラス基板11Aの対向面12A上における、複数の液晶表示パネル1の各表示領域G内に複数の画素電極33、複数の薄膜トランジスタ34及び配向膜が形成され、複数の液晶表示パネル1の各表示領域Gの外側に複数の引き回し配線13が形成されている。
First, as shown in FIG. 5, a
その後、図6に示すように、TFT基板10Aの複数の引き回し配線13上及びガラス基板11Aの対向面12A上に、複数の液晶表示パネル1の各表示領域Gを取り囲んで、閉じた枠状の光硬化型の複数のシール剤30と、全てのシール剤30を取り囲む閉じた枠状の光硬化型の外周シール剤31とを形成する(シール剤形成工程S2)。なお、シール剤30としては紫外線硬化型のシール剤が用いられている。
次いで、図7に示すように、ガラス基板11Aの対向面12A上における複数のシール剤30に囲まれた各領域に液晶41を滴下して配置する(液晶配置工程S3)。
Thereafter, as shown in FIG. 6, a closed frame-like shape surrounding each display region G of the plurality of liquid
Next, as shown in FIG. 7, the
そして、図8に示すように、完成された複数の液晶表示パネル1を形成することができる面積を有するCF基板20Aを準備する(第2基板準備工程S4)。CF基板20Aには、完成された複数の液晶表示パネル1を形成することができる面積を有するガラス基板21Aの対向面22A上における、複数の液晶表示パネル1の各表示領域G内にカラーフィルタ層と配向膜とが形成され、複数の液晶表示パネル1の各表示領域Gの外側に複数の遮光膜23が形成されている。尚、CF基板20Aのガラス基板21A上には各色のカラーフィルタ層の間に配置するように遮光膜が形成されており、この遮光膜と複数の液晶表示パネル1の各表示領域G外に形成された複数の遮光膜23とが同時に形成される。
Then, as shown in FIG. 8, a
その後、図9に示すように、CF基板20Aの複数の遮光膜23上に、内周縁部が各遮光膜23の内周縁部よりも外側に配置された閉じた枠状の乱反射層50を形成する(乱反射層形成工程S5)。この際、CF基板20Aの平坦な面上に形成された平坦な遮光膜23上に感光性樹脂を塗布後、露光および現像処理により遮光膜23上に多数の微小な凹凸51を形成する。その後、これらの微小な凹凸51上にアルミニウムや白金等の金属からなる金属膜をメッキ処理により成膜する。その後、露光および現像処理により金属膜の一部を除去して、遮光膜23におけるTFT基板10に対向する対向面のうち、遮光膜23に対して表示領域Gが配置された側の縁部を除く領域に、閉じた枠状となるように乱反射層50を形成する。即ち、各遮光膜23のうち該各遮光膜23に対して該各遮光膜23に対応する表示領域Gが配置された側の端部よりも、各遮光膜23上に配置された乱反射層50のうち該各乱反射層50に対して各遮光膜23に対応する表示領域Gが配置された側の端部の方が、各遮光膜23に対応する表示領域Gから離れた状態となるように、各乱反射層50を形成する。
After that, as shown in FIG. 9, a closed frame-shaped
その後、図10に示すように、TFT基板10AとCF基板20Aとを、TFT基板10Aの対向面12AとCF基板20Aの対向面22Aとを対向させた状態で配置後、位置合わせして、図11に示すように、CF基板20AをTFT基板10Aに貼り合わせて液晶表示パネル形成用構成体70Aを形成する(貼り合わせ工程S6)。この際、TFT基板10Aの全ての複数の引き回し配線13および複数のシール剤30の全体が、CF基板20Aの乱反射層50と重なるように、両ガラス基板11A,21Aを位置合わせする。
Thereafter, as shown in FIG. 10, the
貼り合わせ後には、図12に示すように、TFT基板10Aのガラス基板11Aのうち各表示領域Gをなす領域を少なくとも覆うように、ガラス基板11Aの裏面14Aに、光を遮断するマスク110を貼付する。その後、紫外線を照射する光源100を、TFT基板10Aのガラス基板11Aに対して、CF基板20Aのガラス基板21Aが配置された側とは反対側に配置し、液晶表示パネル形成用構成体70Aに紫外線を照射することにより、光源100から出射した紫外線がTFT基板10のガラス基板11を通過してシール剤30及び外周シール剤31に到達し、シール剤30及び外周シール剤31が硬化される(光照射工程S7)。この際、TFT基板10Aのガラス基板11Aのうち各表示領域Gをなす領域と、光源100との間にマスク110が配置されるので、光源100からの紫外線が直接各液晶層40に入射することを防止できる。これにより各液晶層40の汚染が発生しない。また、マスク110は、光源100からの出射光を遮断する光遮断部を複数有し、各光遮断部は少なくとも各表示領域Gの全体と重なり、各光遮断部の外周縁部が各表示領域Gに重なる領域から各遮光膜23に重なる領域にかけて連続的に形成されているので、各液晶層40のうち各表示領域Gと重ねて配置された部分に紫外線が斜め方向から直接各液晶層40に入射してしまうことも防止される。
After the bonding, as shown in FIG. 12, a
ここで、シール剤30のうち複数の引き回し配線13と重ねて配置され、且つ光源100との間に複数の引き回し配線13が介在された部分では、光源100から出射した紫外線が各引き回し配線13により遮断されてしまうため、光源100から照射された紫外線が直接到達しない。従って、例えば図14に示す比較例のように、乱反射層50のない液晶表示パネル200においては、光源100からの出射光は反射されないか、またはわずかに反射されたとしてもに遮光膜23に対して実質的に直角の方向に反射されてしまうため、シール剤30が複数の引き回し配線13と重ならずに硬化する部分(図14におけるP1部分)と、シール剤30が複数の引き回し配線13と重なるため硬化しない部分(図14におけるP2部分)とが混在することになる。
Here, in the portion of the
一方、本実施形態の液晶表示パネル1のように、遮光膜23に乱反射層50が積層された液晶表示パネル1においては、図13に示すように、複数の引き回し配線13の間隙から遮光膜23に向けて入射した紫外線が乱反射層50によって乱反射されて、シール剤30のうち光源100との間に複数の引き回し配線13が介在された部分にも紫外線を到達させることができる。これにより、シール剤30のうち光源100との間に複数の引き回し配線13が介在された部分も硬化させることができる。
On the other hand, in the liquid
この場合、光源100から出射した紫外線を、乱反射層50や複数の引き回し配線13において複数回反射させることなく、乱反射層50で1回だけ反射させることで、シール剤30のうち光源100との間に複数の引き回し配線13が介在された部分に紫外線を到達させることができるので、紫外線の強度を大きくすることなくシール剤30を硬化することができ、ひいてはシール剤30を硬化する時に紫外線が直接または反射して高強度のまま液晶層40に到達し、液晶層40を汚染する可能性を高めることなく、シール剤30を硬化することができる。
In this case, the ultraviolet ray emitted from the
その後、液晶表示パネル形成用構成体70AのTFT基板10AおよびCF基板20Aをガラスカッターなどの切断手段によって切断して個片化することにより、図1に示す液晶表示パネル1が複数個同時に完成される(個片化工程S8)。この個片化工程において、TFT基板10が、4辺のうち少なくとも一辺においてCF基板20から突出した突出部10aを有する形状となるように切断を行う。その後、この突出部10aに駆動回路60が搭載される。
Thereafter, the
以上のように、本実施形態によれば、紫外線の強度を抑制したとしても、均一にシール剤30を硬化させることができる。
また、光源から出射される際の紫外線の強度を大きくすることなくシール剤30を硬化することができ、ひいてはシール剤を硬化する時に紫外線が直接または反射して高強度のまま液晶に到達し、液晶を汚染する可能性を高めることなく、シール剤30を硬化することができる。
さらに、遮光膜23の対向面のうち、遮光膜23に対して表示領域Gが配置された側の縁部を除く領域に乱反射層50が設けられているので、乱反射層50が遮光膜23の対向面のうち、遮光膜23に対して表示領域Gが配置された側の縁部にまで形成されている場合と比べて、乱反射層50で反射した紫外線が表示領域G内の液晶層に到達する可能性を低減することができる。
As described above, according to the present embodiment, the sealing
Further, the sealing
Furthermore, since the
また、CF基板20のガラス基板21における液晶層40と重なる領域から、シール剤30と重なる領域にかけて遮光膜23及び乱反射層50が形成されているので、液晶層40側から入射した紫外線を乱反射させて、シール剤30に到達させることも可能である。
Further, since the
そして、CF基板20のガラス基板21における液晶層40と重なる領域から、ガラス基板21の外側の端部24にかけて遮光膜23が形成されているので、TFT基板10に対してCF基板20が配置された側とは反対側に配置されるバックライトから液晶表示パネル1に向けて照射される光を遮断して、バックライトからの光漏れを防止することができる。
And since the
なお、本発明は上記実施形態に限らず適宜変更可能である。
例えば、上述の実施形態ではシール剤形成工程S2において、複数のシール剤30をTFT基板10Aのガラス基板11Aに形成し、液晶配置工程S3において、ガラス基板11Aの対向面12A上における複数のシール剤30に囲まれた各領域に液晶41を滴下して配置したが、複数のシール剤をCF基板20Aのガラス基板21Aに形成し、ガラス基板21Aの対向面22A上における複数のシール剤に囲まれた各領域に液晶41を滴下して配置してもよい。この場合、CF基板20Aの複数の乱反射層50上及びガラス基板21Aの対向面22A上に、複数の液晶表示パネル1の各表示領域Gを取り囲んで、閉じた枠状の光硬化型の複数のシール剤30と、全てのシール剤30を取り囲む閉じた枠状の光硬化型の外周シール剤31とを形成することとなる。
また、以下の方法により乱反射層50を形成してもよい。即ち、第2基板準備工程の前に、まず、乱反射層50を形成するCF基板20Aの対向面22Aのうち少なくとも乱反射層50を形成する領域に対して、フッ酸溶液を用いたフロスト加工を行い、対向面22Aに多数の微小な凹凸が形成されたCF基板20Aを準備する。そのCF基板20Aの各表示領域G内にカラーフィルタ層と配向膜とを形成し、更に遮光膜23を形成する。多数の微小な凹凸に対応する領域では、遮光膜23の表面が微小な凹凸を有する形状に形成される。その後、遮光膜23の微小な凹凸上にアルミニウムや白金等の金属からなる金属膜をメッキ処理により成膜する。その後、露光および現像処理により金属膜の一部を除去して、内周縁部が各遮光膜23の内周縁部よりも外側に配置された閉じた枠状となるように乱反射層50を形成するようにしてもよい。
Note that the present invention is not limited to the above embodiment, and can be modified as appropriate.
For example, in the above-described embodiment, the plurality of sealing
Further, the
1 液晶表示パネル
10,10A TFT基板(第一の基板)
10a 突出部
11,11A ガラス基板(第一の透明基板)
12,12A 対向面(一の面)
13 引き回し配線(配線)
20,20A CF基板(第二の基板)
21,21A ガラス基板(第二の透明基板)
22,22A 対向面(一の面)
23 遮光膜
24 端部
30 シール剤
33 画素電極
40 液晶層
41 液晶
50 乱反射層
51 表面
100 光源
110 マスク
G 表示領域
1 Liquid
12, 12A Opposite surface (one surface)
13 Lead wiring (wiring)
20, 20A CF substrate (second substrate)
21,21A glass substrate (second transparent substrate)
22,22A Opposite surface (one surface)
23
Claims (17)
前記第一の透明基板との間に液晶層と該液晶層を取り囲むシール剤とが介在された状態で前記第一の透明基板に重ね合わされた第二の透明基板と、
前記第一の透明基板と前記シール剤との間に介在された配線と、
前記第二の透明基板と前記シール剤との間に前記配線と重なった状態で介在され、前記第一の透明基板に対して前記第二の透明基板が配置された側とは反対側から入射される光を乱反射する乱反射層と、
前記第二の透明基板と前記乱反射層との間に前記シール剤と重なった状態で介在された光を遮断する遮光膜と、を備え、
前記乱反射層のうち該乱反射層に対して前記液晶層が配置された側の端部は、前記遮光膜のうち該遮光膜に対して前記液晶層が配置された側の端部よりも、前記液晶表示パネルの表示領域からの距離が離れていることを特徴とする液晶表示パネル。 A first transparent substrate;
A second transparent substrate superimposed on the first transparent substrate with a liquid crystal layer and a sealing agent surrounding the liquid crystal layer interposed between the first transparent substrate,
Wiring interposed between the first transparent substrate and the sealant;
It is interposed between the second transparent substrate and the sealing agent so as to overlap the wiring, and is incident on the first transparent substrate from the side opposite to the side on which the second transparent substrate is disposed. A diffuse reflection layer that diffuses reflected light ,
A light shielding film that blocks light interposed between the second transparent substrate and the irregular reflection layer in a state of overlapping with the sealant ,
The end of the irregular reflection layer on the side where the liquid crystal layer is disposed with respect to the irregular reflection layer is more than the end of the light shielding film on the side where the liquid crystal layer is disposed with respect to the light shielding film. A liquid crystal display panel characterized in that the distance from the display area of the liquid crystal display panel is long.
前記乱反射層は前記シール剤の全体と重なっていることを特徴とする液晶表示パネル。 The liquid crystal display panel according to claim 1,
The liquid crystal display panel, wherein the irregular reflection layer overlaps with the whole of the sealing agent.
前記液晶層と重なる領域から前記シール剤と重なる領域にかけて、前記乱反射層が連続的に形成されていることを特徴とする液晶表示パネル。 The liquid crystal display panel according to claim 1 or 2,
The liquid crystal display panel, wherein the irregular reflection layer is continuously formed from a region overlapping with the liquid crystal layer to a region overlapping with the sealant.
前記遮光膜は前記シール剤の全体と重なっていることを特徴とする液晶表示パネル。 In the liquid crystal display panel as described in any one of Claims 1-3 ,
The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the light shielding film overlaps the entire sealing agent.
前記液晶層と重なる領域から前記シール剤と重なる領域にかけて、前記遮光膜が連続的に形成されていることを特徴とする液晶表示パネル。 In the liquid crystal display panel as described in any one of Claims 1-4 ,
The liquid crystal display panel, wherein the light shielding film is continuously formed from a region overlapping with the liquid crystal layer to a region overlapping with the sealant.
前記液晶層と重なる領域から前記第二の透明基板の端部にかけて、前記遮光膜が形成されていることを特徴とする液晶表示パネル。 In the liquid crystal display panel as described in any one of Claims 1-5 ,
The liquid crystal display panel, wherein the light shielding film is formed from a region overlapping with the liquid crystal layer to an end of the second transparent substrate.
前記乱反射層のうち前記第一の透明基板と対向する対向面に金属膜が成膜されていることを特徴とする液晶表示パネル。 In the liquid crystal display panel as described in any one of Claims 1-6 ,
A liquid crystal display panel, wherein a metal film is formed on a surface of the irregular reflection layer facing the first transparent substrate.
前記第一の透明基板と前記液晶層との間に介在した状態で前記液晶表示パネルの表示領域内に形成された画素電極をさらに有し、
前記画素電極に接続された薄膜トランジスタを駆動する駆動回路が搭載される駆動回路搭載領域が、前記第一の透明基板のうち前記第二の透明基板から突出した突出部に形成され、
前記配線は、前記薄膜トランジスタに接続された走査線または信号線と、前記駆動回路搭載領域に形成されたゲート端子またはデータ端子とを接続する引き回し配線であることを特徴とする液晶表示パネル。 In the liquid crystal display panel as described in any one of Claims 1-7,
A pixel electrode formed in a display region of the liquid crystal display panel in a state of being interposed between the first transparent substrate and the liquid crystal layer;
A drive circuit mounting region in which a drive circuit for driving a thin film transistor connected to the pixel electrode is mounted is formed in a protruding portion protruding from the second transparent substrate of the first transparent substrate,
The liquid crystal display panel, wherein the wiring is a lead wiring that connects a scanning line or a signal line connected to the thin film transistor and a gate terminal or a data terminal formed in the driving circuit mounting region.
完成された複数の液晶表示パネルを形成することができる面積を有し、一の面上における前記複数の液晶表示パネルの各表示領域内にカラーフィルタ層が形成され、光を遮断する遮光膜と該遮光膜上に配置され光を乱反射する乱反射層が前記各表示領域の外側に形成された第二の基板を準備する第2基板準備工程と、
前記第一の基板上及び該第一の基板の前記各配線上、または、前記第二の基板上及び該第二の基板の前記各乱反射層上のいずれか一方に、前記各表示領域を取り囲んで光硬化型のシール剤を形成するシール剤形成工程と、
前記第一の基板または前記第二の基板における前記各シール剤に囲まれた領域に液晶を配置する液晶配置工程と、
前記各シール剤を前記第一の基板の前記各配線および前記第二の基板の前記各乱反射層と重ねた状態で、前記第一の基板と前記第二の基板とを貼り合わせる貼り合わせ工程と、
前記第一の基板に対して前記第二の基板が配置された側とは反対側から前記各シール剤に向けて光を照射する光照射工程とを含み、
前記第二基板準備工程は、前記各遮光膜のうち該各遮光膜に対して該各遮光膜に対応する表示領域が配置された側の端部よりも、前記各遮光膜上に配置された前記乱反射層のうち該各乱反射層に対して前記各遮光膜に対応する表示領域が配置された側の端部の方が、前記各遮光膜に対応する表示領域から離れた状態となるように、前記各乱反射層を形成する乱反射層形成工程をさらに含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。 A pixel electrode is formed in each display region of the plurality of liquid crystal display panels on one surface and has an area where a plurality of completed liquid crystal display panels can be formed, and wiring is provided outside the display regions. A first substrate preparation step of preparing a first substrate on which is formed;
A light-shielding film having an area capable of forming a plurality of completed liquid crystal display panels, a color filter layer being formed in each display region of the plurality of liquid crystal display panels on one surface, and blocking light; A second substrate preparing step of preparing a second substrate in which an irregular reflection layer disposed on the light-shielding film and irregularly reflecting light is formed outside each display region;
The display areas are surrounded on either the first substrate and the wirings of the first substrate, or on the second substrate and the irregular reflection layers of the second substrate. A sealing agent forming step of forming a photo-curable sealing agent with,
A liquid crystal disposing step of disposing liquid crystal in a region surrounded by each sealing agent in the first substrate or the second substrate;
A bonding step of bonding the first substrate and the second substrate in a state in which the respective sealing agents are overlapped with the respective wirings of the first substrate and the respective irregular reflection layers of the second substrate; ,
The saw including a light irradiating step of irradiating light toward the opposite side to the respective sealant from the first side to the second substrate is disposed against the substrate,
The second substrate preparation step is arranged on each light shielding film with respect to each light shielding film from the end on the side where the display region corresponding to each light shielding film is arranged. The end of the irregular reflection layer on the side where the display region corresponding to each light shielding film is arranged with respect to each irregular reflection layer is in a state of being separated from the display region corresponding to each light shielding film. The method for producing a liquid crystal display panel further comprising a step of forming an irregular reflection layer for forming each of the irregular reflection layers .
前記各遮光膜は前記第二の基板の平坦な面上に形成されていて、
前記乱反射層形成工程は、前記各遮光膜上に感光性樹脂を塗布し、次いで、露光および現像処理により前記各遮光膜上に多数の微小な凹凸を形成し、次いで、前記多数の微小な凹凸上に金属膜を成膜することを含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。 In the manufacturing method of the liquid crystal display panel of Claim 9 ,
Each of the light shielding films is formed on a flat surface of the second substrate,
In the irregular reflection layer forming step, a photosensitive resin is applied on each of the light shielding films, and then a number of minute irregularities are formed on each of the light shielding films by exposure and development, and then the number of minute irregularities is formed. A method for producing a liquid crystal display panel, comprising: forming a metal film thereon.
前記各遮光膜は前記第二の基板の凹凸を有する面上に形成されていて、
前記乱反射層形成工程は、前記各遮光膜上に金属膜を成膜することを含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。 In the manufacturing method of the liquid crystal display panel of Claim 9 ,
Each of the light shielding films is formed on a surface having irregularities of the second substrate,
The method of manufacturing a liquid crystal display panel, wherein the irregular reflection layer forming step includes forming a metal film on each of the light shielding films.
前記第二の基板の表面に対してフッ酸溶液を用いてフロスト加工することにより、前記第二の基板の前記凹凸を有する面を形成することを含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。 In the manufacturing method of the liquid crystal display panel of Claim 11 ,
A method of manufacturing a liquid crystal display panel, comprising: forming a surface having the irregularities of the second substrate by frosting the surface of the second substrate using a hydrofluoric acid solution. .
前記金属膜を成膜後、露光および現像処理により前記金属膜の一部を除去して前記各乱反射層を形成することを含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。 In the manufacturing method of the liquid crystal display panel as described in any one of Claims 10-12 ,
A method of manufacturing a liquid crystal display panel, comprising: forming the metal film by removing a part of the metal film by exposure and development after forming the metal film;
前記貼り合わせ工程は、前記各シール剤の全体を前記第二の基板の前記各乱反射膜と重ねた状態で、前記第二の基板と前記第一の基板とを貼り合わせることを含み、
前記光照射工程は、前記第一の基板に対して前記第二の基板が配置された側とは反対側に配置された光源から前記シール剤に向けて照射された光を前記乱反射層で乱反射させて、前記各シール剤のうち前記光源との間に前記各配線が介在された部分に照射させることを含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。 In the manufacturing method of the liquid crystal display panel as described in any one of Claims 9-13 ,
The laminating step includes laminating the second substrate and the first substrate in a state where the whole of each sealing agent is overlapped with the respective irregular reflection films of the second substrate,
In the light irradiation step, the light irradiated toward the sealant from the light source disposed on the side opposite to the side on which the second substrate is disposed with respect to the first substrate is irregularly reflected by the irregular reflection layer. And a method of manufacturing a liquid crystal display panel, comprising: irradiating a portion of each of the sealing agents where the wirings are interposed between the light sources.
前記光照射工程は、前記各シール剤に向けて光を照射する前に、前記第一の基板に対して前記第二の基板が配置された側とは反対側に、前記第一の基板のうち前記各表示領域をなす領域を覆い、前記光源からの光を遮断するマスクを配置することを含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。 In the manufacturing method of the liquid crystal display panel as described in any one of Claims 9-14 ,
In the light irradiation step, before irradiating light toward each of the sealing agents, the first substrate is placed on the side opposite to the side where the second substrate is disposed. A method of manufacturing a liquid crystal display panel, comprising: disposing a mask that covers a region forming each display region and blocks light from the light source.
前記光照射工程の後に、前記第一の基板と前記第二の基板とを貼り合わせた液晶表示パネル形成用構成体を切断して個片化する個片化工程をさらに含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。 In the manufacturing method of the liquid crystal display panel as described in any one of Claims 9-15 ,
After the light irradiation step, the method further includes an individualization step of cutting and dividing the liquid crystal display panel forming structure in which the first substrate and the second substrate are bonded together. A method for manufacturing a liquid crystal display panel.
完成された少なくとも1つの液晶表示パネルを形成することができる面積を有し、一の面上における前記少なくとも1つの液晶表示パネルの表示領域内にカラーフィルタ層が形成され、光を遮断する遮光膜と該遮光膜上に配置され光を乱反射する乱反射層が前記表示領域の外側に形成された第二の基板を準備する第2基板準備工程と、
前記第一の基板上及び該第一の基板の前記配線上、または、前記第二の基板上及び該第二の基板の前記乱反射層上のいずれか一方に、前記表示領域を取り囲んで光硬化型のシール剤を形成するシール剤形成工程と、
前記第一の基板または前記第二の基板における前記シール剤に囲まれた領域に液晶を配置する液晶配置工程と、
前記シール剤を前記第一の基板の前記配線および前記第二の基板の前記乱反射層と重ねた状態で、前記第一の基板と前記第二の基板とを貼り合わせる貼り合わせ工程と、
前記第一の基板に対して前記第二の基板が配置された側とは反対側から前記シール剤に向けて光を照射する光照射工程とを含み、
前記第二基板準備工程は、前記各遮光膜のうち該各遮光膜に対して該各遮光膜に対応する表示領域が配置された側の端部よりも、前記各遮光膜上に配置された前記乱反射層のうち該各乱反射層に対して前記各遮光膜に対応する表示領域が配置された側の端部の方が、前記各遮光膜に対応する表示領域から離れた状態となるように、前記各乱反射層を形成する乱反射層形成工程をさらに含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。 A pixel electrode is formed in a display area of the at least one liquid crystal display panel on one surface and has an area where a completed at least one liquid crystal display panel can be formed, and wiring is provided outside the display area. A first substrate preparation step of preparing a first substrate on which is formed;
A light-shielding film having an area capable of forming a completed at least one liquid crystal display panel, and having a color filter layer formed in a display area of the at least one liquid crystal display panel on one surface to block light A second substrate preparing step of preparing a second substrate disposed on the light-shielding film and having a diffused reflection layer for irregularly reflecting light formed outside the display region;
Photocuring surrounding the display area on either the first substrate and the wiring of the first substrate, or on the second substrate and on the irregular reflection layer of the second substrate. A sealing agent forming step for forming a mold sealing agent;
A liquid crystal disposing step of disposing a liquid crystal in a region surrounded by the sealant in the first substrate or the second substrate;
A bonding step of bonding the first substrate and the second substrate in a state where the sealing agent is overlapped with the wiring of the first substrate and the irregular reflection layer of the second substrate;
The saw including a light irradiating step of irradiating light toward the opposite side to the sealant from the first side to the second substrate is disposed against the substrate,
The second substrate preparation step is arranged on each light shielding film with respect to each light shielding film from the end on the side where the display region corresponding to each light shielding film is arranged. The end of the irregular reflection layer on the side where the display region corresponding to each light shielding film is arranged with respect to each irregular reflection layer is in a state of being separated from the display region corresponding to each light shielding film. The method for producing a liquid crystal display panel further comprising a step of forming an irregular reflection layer for forming each of the irregular reflection layers .
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