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JP5302920B2 - Manufacturing method of multilayer wiring board - Google Patents

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JP5302920B2
JP5302920B2 JP2010056605A JP2010056605A JP5302920B2 JP 5302920 B2 JP5302920 B2 JP 5302920B2 JP 2010056605 A JP2010056605 A JP 2010056605A JP 2010056605 A JP2010056605 A JP 2010056605A JP 5302920 B2 JP5302920 B2 JP 5302920B2
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哲夫 鈴木
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a multilayer wiring board for forming a highly precise alignment mark while peeling at a lamination process is prevented. <P>SOLUTION: In the manufacturing method of the multilayer wiring board, a peeling sheet 14 including copper foil 14a (metal layer) and copper foil 14b (base layer) is disposed on a support substrate 11. A first sheet on an outer peripheral side of a prescribed valid region of the peeling sheet 14 and second sheets corresponding to a plurality of alignment marks AM positioned at inner peripheral sides are removed, and resin material layers 20 are laminated and formed on upper parts of them. An end face including a peeling interface of the peeling sheet 14 is exposed and peeled and separated on the peeling interface with respect to a laminate before separation 10a where a build-up layer is formed by a lamination process. The multilayer wiring board can finally be obtained while the alignment mark AM having high position precision is used for the laminate after separation. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、コア基板を有さず、樹脂絶縁層と導体層とを交互に積層形成した多層配線基板の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer wiring board that does not have a core substrate and is formed by alternately laminating resin insulating layers and conductor layers.

一般に、電子部品を搭載するパッケージとしては、コア基板の両側に樹脂絶縁層と導体層とを交互に積層してビルドアップ層を形成した多層配線基板が用いられている。多層配線基板において、コア基板は例えばガラス繊維を含んだ樹脂からなり、高い剛性によりビルドアップ層を補強する役割がある。しかし、コア基板は厚く形成されるため多層配線基板の小型化の妨げになるとともに、ビルドアップ層間を電気的に接続するスルーホール導体を設ける必要があるため配線長が長くなり、高周波信号の伝送性能の劣化を招く恐れがある。そのため、近年では上記のコア基板を設けることなく、小型化に適し、かつ高周波信号の伝送性能の向上が可能な構造を有するコアレス多層配線基板が提案されている(例えば、特許文献1、2参照)。このようなコアレス多層配線基板は、例えば、剥離可能に密着された2枚の金属箔を表面に設けた支持体に対しビルドアップ層を形成した後、2枚の金属箔を剥離界面で剥離させることによりビルドアップ層を支持体から分離し、配線基板を得る方法を用いて製造することができる。   In general, a multilayer wiring board in which a build-up layer is formed by alternately laminating resin insulating layers and conductor layers on both sides of a core board is used as a package for mounting electronic components. In the multilayer wiring board, the core board is made of a resin containing glass fiber, for example, and has a role of reinforcing the buildup layer with high rigidity. However, since the core substrate is formed thick, it hinders the miniaturization of the multilayer wiring substrate, and it is necessary to provide a through-hole conductor that electrically connects the build-up layers, so that the wiring length becomes long and high-frequency signal transmission is performed. There is a risk of performance degradation. Therefore, in recent years, a coreless multilayer wiring board having a structure suitable for miniaturization and capable of improving high-frequency signal transmission performance without providing the core board has been proposed (for example, see Patent Documents 1 and 2). ). Such a coreless multilayer wiring board is formed by, for example, forming a build-up layer on a support having two metal foils adhered in a peelable manner on the surface, and then peeling the two metal foils at the peeling interface. Thus, the buildup layer can be separated from the support and manufactured using a method for obtaining a wiring board.

特開2009−289848号公報JP 2009-289848 A 特開2007−214427号公報JP 2007-214427 A

ところで、多層配線基板を形成する場合、導体パターンやビア導体を形成するための位置基準となるアライメントマークを設ける必要がある。例えば、特許文献2には、製品エリアの外側4隅にドリル加工等により基準穴を形成し、それをアライメントマークとして用いる方法が開示されている。一般に、このような構造の多層配線基板においては、2枚の金属箔の剥離界面は、多層配線基板の外周部の側面と基準穴の側面とでそれぞれ露出した状態になる。この場合、露出した剥離界面は、製造プロセスで用いる薬品等が染み込むなど剥がれやすい状態となっており、多層配線基板の完成前に不良品となって歩留まりを低下させる恐れがある。そのための対策として、特許文献2には、多層配線基板の外周部の側面と基準穴の側面とに対し、剥離界面を樹脂層で被覆する手法が開示されている。しかしながら、上記の基準穴は多層配線基板を積層方向に貫通するものであり、その分だけ基板面積が制約されるので、多層配線基板の小型化が難しくなるという問題がある。また、基準穴に対し剥離界面の側面を覆う樹脂層を形成するために、多層配線基板の製造プロセスが複雑になるという問題がある。   By the way, when forming a multilayer wiring board, it is necessary to provide the alignment mark used as the position reference for forming a conductor pattern or a via conductor. For example, Patent Document 2 discloses a method in which reference holes are formed in the outer four corners of a product area by drilling or the like and used as alignment marks. In general, in the multilayer wiring board having such a structure, the peeling interface between the two metal foils is exposed on the side surface of the outer peripheral portion of the multilayer wiring board and the side surface of the reference hole. In this case, the exposed peeling interface is in a state where the chemicals used in the manufacturing process are soaked and so on, and may become a defective product before the completion of the multilayer wiring board, which may reduce the yield. As a countermeasure for this, Patent Document 2 discloses a technique of covering the peeling interface with a resin layer on the side surface of the outer peripheral portion of the multilayer wiring board and the side surface of the reference hole. However, since the reference hole penetrates the multilayer wiring board in the stacking direction, and the board area is limited by that amount, there is a problem that it is difficult to reduce the size of the multilayer wiring board. Further, since the resin layer that covers the side surface of the peeling interface with respect to the reference hole is formed, there is a problem that the manufacturing process of the multilayer wiring board becomes complicated.

本発明はこれらの問題を解決するためになされたものであり、剥離シートのパターニングによって積層工程時の剥離を防止しつつ高精度なアライメントマークを形成することが可能な多層配線基板の製造方法を実現することを目的とする。   The present invention has been made to solve these problems, and provides a method for manufacturing a multilayer wiring board capable of forming a high-precision alignment mark while preventing peeling during the lamination process by patterning a release sheet. It aims to be realized.

上記課題を解決するために本発明は、樹脂絶縁層と導体層とを交互に積層形成した多層配線基板の製造方法において、板状の支持基材の少なくとも一方の主面側に下地層と金属層とを剥離可能な状態で配置するシート配置工程と、下地層と金属層とからなる剥離シートにパターニングを行うことにより、前記剥離シートのうち、所定の有効領域の外周側の第1のシート部分と、前記所定の有効領域の内周側に位置する複数のアライメントマークに対応する第2のシート部分とをそれぞれ除去する剥離シート加工工程と、前記剥離シートの上部を覆う樹脂材料を積層形成し、前記第1のシート部分及び前記第2のシート部分が除去された領域に前記樹脂材料を前記支持基材の表面と接した状態で充填する樹脂材料形成工程と、前記樹脂材料の上部に前記導体層と前記樹脂絶縁層を交互に積層してビルドアップ層を形成する積層工程と、前記支持基材、前記樹脂材料、前記ビルドアップ層からなる分離前積層体に対し、前記複数のアライメントマークの外周側における前記剥離シートの剥離界面を含む端面を露出させる露出工程と、前記露出工程後、前記剥離シートを前記剥離界面で剥離させることにより、前記分離前積層体から前記支持基材を分離する分離工程とを有し、前記分離工程により分離された分離後積層体を用いて一又は複数の多層配線基板を形成することを特徴としている。   In order to solve the above problems, the present invention provides a method for producing a multilayer wiring board in which a resin insulating layer and a conductor layer are alternately laminated, and an underlayer and a metal are formed on at least one main surface side of a plate-like support substrate. A first sheet on the outer peripheral side of a predetermined effective area of the release sheet by patterning the release sheet composed of a base layer and a metal layer, and a sheet placement step of placing the layer in a peelable state A release sheet processing step for removing each portion and second sheet portions corresponding to a plurality of alignment marks located on the inner peripheral side of the predetermined effective area, and a resin material covering the upper portion of the release sheet are laminated A resin material forming step of filling the resin material in a state where the first sheet portion and the second sheet portion are removed in contact with the surface of the support base; A stacking step in which the conductor layer and the resin insulating layer are alternately stacked to form a buildup layer; and the pre-separation laminate including the support base material, the resin material, and the buildup layer. An exposure step that exposes an end face including the release interface of the release sheet on the outer peripheral side of the alignment mark; and after the exposure step, the release sheet is peeled off at the release interface, thereby removing the support base material from the laminate before separation. A separation step of separating the first and second multilayer wiring boards using the post-separation laminated body separated by the separation step.

本発明の多層配線基板の製造方法によれば、剥離可能な下地層と金属層とからなる剥離シートを支持基材に配置し、剥離シートにパターニングを行って第1及び第2のシート部分を除去して樹脂材料を充填した状態でビルドアップ層を形成し、剥離シートの剥離界面を含む端面を露出させた状態で支持基材から分離された積層体が得られ、一又は複数の多層配線基板が形成される。この場合、第1のシート部分により有効領域の外周側の金属層が除去され、第2のシート部分に対応する複数のアライメントマークが形成される。よって、剥離シートの剥離界面が樹脂材料で覆われた状態でビルドアップ層が形成されるので、積層工程で用いる薬品等の影響により剥離界面が剥がれる事態を防止できる。これに加えて、初期段階で形成されるアライメントマークは、分離工程後に剥離シートの表面に露出し、それ以降の工程で利用可能となる。すなわち、積層工程の影響による位置ずれがない高精度のアライメントマークを形成し、例えば、分離工程後の剥離シートのエッチング等に利用することができる。   According to the method for manufacturing a multilayer wiring board of the present invention, a release sheet comprising a base layer and a metal layer that can be peeled is placed on a support base, and the first and second sheet portions are patterned by patterning the release sheet. A build-up layer is formed in a state where it is removed and filled with a resin material, and a laminated body separated from the support substrate in a state where the end surface including the release interface of the release sheet is exposed is obtained. A substrate is formed. In this case, the metal layer on the outer peripheral side of the effective area is removed by the first sheet portion, and a plurality of alignment marks corresponding to the second sheet portion are formed. Therefore, since the buildup layer is formed in a state where the release interface of the release sheet is covered with the resin material, it is possible to prevent the release interface from being peeled off due to the influence of chemicals used in the lamination process. In addition, the alignment mark formed in the initial stage is exposed on the surface of the release sheet after the separation process, and can be used in the subsequent processes. That is, it is possible to form a high-precision alignment mark that is not misaligned due to the influence of the laminating process, and can be used, for example, for etching a release sheet after the separating process.

前記分離前積層体から2つの前記分離後積層体を得るようにしてもよい。この場合、前記剥離シート、前記樹脂材料、前記ビルドアップ層を、それぞれ前記支持基材の両面側に形成すれば、前記分離工程において前記支持基材を分離した2つの前記分離後積層体を得ることができる。   Two post-separation laminates may be obtained from the pre-separation laminate. In this case, if the release sheet, the resin material, and the build-up layer are respectively formed on both sides of the support base material, two post-separation laminates obtained by separating the support base material in the separation step are obtained. be able to.

前記各工程に加えて、前記剥離シートを粗化するシート粗化工程を前記樹脂材料形成工程に行うことが好ましい。これにより、剥離シートと樹脂材料との密着性がアンカー効果により向上する。   In addition to the above steps, it is preferable to perform a sheet roughening step for roughening the release sheet in the resin material forming step. Thereby, the adhesiveness of a peeling sheet and resin material improves by an anchor effect.

前記複数のアライメントマークを形成する際は、多様な構造及び形成方法を適用することができる。例えば、前記所定の有効領域の四隅に配置される前記複数のアライメントマークを形成してもよい。あるいは、前記下地層を金属箔とし、前記剥離シート加工工程で前記剥離シートをフォトレジストで覆った後、前記第1のシート部分及び前記第2のシート部分をエッチングにより除去してもよい。   When forming the plurality of alignment marks, various structures and forming methods can be applied. For example, the plurality of alignment marks arranged at the four corners of the predetermined effective area may be formed. Alternatively, the base layer may be a metal foil, and after the release sheet is covered with a photoresist in the release sheet processing step, the first sheet portion and the second sheet portion may be removed by etching.

前記露出工程では、前記複数のアライメントマークが配置された領域の外周側に設定された切断線に沿って前記積層体を積層方向に切断することが好ましい。この場合、前記分離前積層体の側面には前記剥離シートの前記剥離界面が露出した状態になる。   In the exposing step, it is preferable that the stacked body is cut in a stacking direction along a cutting line set on an outer peripheral side of an area where the plurality of alignment marks are arranged. In this case, the release interface of the release sheet is exposed on the side surface of the laminate before separation.

以上説明したように、本発明によれば、いわゆるコアレス多層配線基板を製造する際、剥離シートをパターニングして樹脂材料で覆うことにより、複数の露出した剥離界面が積層工程時に剥がれることを有効に防止しつつ、初期段階で剥離界面の表面に形成した複数のアライメントマークを形成し、分離工程後にアライメントマークを用いて高い精度で位置決めを行うことができる。また、このアライメントマークは貫通孔を用いた構造ではないため、多層配線基板の小型化に適し、かつ製造プロセスも簡単になる。さらに、アライメントマークの部分で樹脂材料が剥離シートに接着されるので、樹脂材料と剥離シートは適度に密着した状態を保ち、例えば、分離前積層体の切断時に剥離界面が勝手に剥がれることを防止できる。   As described above, according to the present invention, when a so-called coreless multilayer wiring board is manufactured, it is effective that a plurality of exposed peeling interfaces are peeled off during the lamination process by patterning the peeling sheet and covering with a resin material. While preventing, it is possible to form a plurality of alignment marks formed on the surface of the peeling interface at the initial stage and perform positioning with high accuracy using the alignment marks after the separation step. Further, since this alignment mark does not have a structure using a through hole, it is suitable for downsizing of the multilayer wiring board and the manufacturing process is simplified. Furthermore, since the resin material is adhered to the release sheet at the alignment mark, the resin material and the release sheet remain in a moderately close contact state, for example, preventing the release interface from being peeled off at the time of cutting the laminate before separation. it can.

本実施形態の多層配線基板の製造方法を説明する第1の断面構造図である。It is the 1st section view explaining the manufacturing method of the multilayer wiring board of this embodiment. 本実施形態の多層配線基板の製造方法を説明する第2の断面構造図である。It is a 2nd cross-section figure explaining the manufacturing method of the multilayer wiring board of this embodiment. 本実施形態の多層配線基板の製造方法を説明する第3の断面構造図及びそれに対応する平面構造図である。It is the 3rd sectional structure figure explaining the manufacturing method of the multilayer wiring board of this embodiment, and the plane structure figure corresponding to it. 本実施形態の多層配線基板の製造方法を説明する第4の断面構造図である。It is a 4th cross-section figure explaining the manufacturing method of the multilayer wiring board of this embodiment. 本実施形態の多層配線基板の製造方法を説明する第5の断面構造図である。It is a 5th cross-section figure explaining the manufacturing method of the multilayer wiring board of this embodiment. 本実施形態の多層配線基板の製造方法を説明する第6の断面構造図である。It is a 6th cross-section figure explaining the manufacturing method of the multilayer wiring board of this embodiment. 本実施形態の多層配線基板の製造方法を説明する第7の断面構造図である。It is a 7th cross-section figure explaining the manufacturing method of the multilayer wiring board of this embodiment. 本実施形態の多層配線基板の製造方法を説明する第8の断面構造図である。It is an 8th sectional view explaining the manufacturing method of the multilayer wiring board of this embodiment. 本実施形態の多層配線基板の製造方法を説明する第9の断面構造図である。It is a 9th sectional view explaining the manufacturing method of the multilayer wiring board of this embodiment. 本実施形態の多層配線基板の製造方法を説明する第10の断面構造図である。It is a 10th cross-section figure explaining the manufacturing method of the multilayer wiring board of this embodiment. 本実施形態の多層配線基板の製造方法の変形例を説明する第1の断面構造図である。It is the 1st section view explaining the modification of the manufacturing method of the multilayer wiring board of this embodiment. 本実施形態の多層配線基板の製造方法の変形例を説明する第2の断面構造図である。It is a 2nd sectional structure figure explaining the modification of the manufacturing method of the multilayer wiring board of this embodiment. 本実施形態の多層配線基板の製造方法の変形例を説明する第3の断面構造図である。It is a 3rd sectional view explaining the modification of the manufacturing method of the multilayer wiring board of this embodiment. 本実施形態の多層配線基板の製造方法の変形例を説明する第4の断面構造図である。It is a 4th sectional view showing the modification of the manufacturing method of the multilayer wiring board of this embodiment. 本実施形態の多層配線基板の製造方法の変形例を説明する第5の断面構造図である。FIG. 10 is a fifth sectional view illustrating a modification of the method for manufacturing a multilayer wiring board according to the present embodiment. 本実施形態の多層配線基板の製造方法の変形例を説明する第6の断面構造図である。It is a 6th cross-section figure explaining the modification of the manufacturing method of the multilayer wiring board of this embodiment.

以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照しながら説明する。ただし、以下に述べる実施形態は本発明の技術思想を適用した形態の一例であって、本発明が本実施形態の内容により限定されることはない。   Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. However, the embodiment described below is an example of a form to which the technical idea of the present invention is applied, and the present invention is not limited by the content of the present embodiment.

本実施形態の多層配線基板の製造方法について、図1〜図10を参照して説明する。まず、図1に示すように、両面に銅箔12が貼り付けられた板状の支持基材11を用意する。この支持基材11は、例えばガラス繊維を含んだ樹脂からなり、高い剛性を有している。支持基材11のそれぞれの銅箔12の表面に、例えば熱硬化性樹脂からなるプリプレグ13を挟んで剥離シート14をそれぞれ配置した状態で、例えば、真空熱プレスにより圧着する(本発明のシート配置工程)。圧着後は外縁部を切断して所定サイズに整形し、表面の剥離シート14と一体化された支持基材11を得る。支持基材11は、例えば、縦300mm、横300mmの矩形形状に形成される。一方、剥離シート14は、厚さの異なる2つの銅箔14a、14bを剥離可能に密着した構造を有している。支持基材11に対し、外側に位置する銅箔14a(本発明の金属層)の厚さは内側に位置する銅箔14b(本発明の下地層)の厚さに比べて大きくなっている。   The manufacturing method of the multilayer wiring board of this embodiment is demonstrated with reference to FIGS. First, as shown in FIG. 1, a plate-like support base material 11 having a copper foil 12 attached on both sides is prepared. The support base 11 is made of, for example, a resin containing glass fiber and has high rigidity. In a state where the release sheet 14 is disposed on the surface of each copper foil 12 of the support base 11 with a prepreg 13 made of, for example, a thermosetting resin, for example, pressure bonding is performed by, for example, vacuum hot pressing (sheet arrangement of the present invention) Process). After the pressure bonding, the outer edge portion is cut and shaped into a predetermined size to obtain the support substrate 11 integrated with the release sheet 14 on the surface. The support base 11 is formed in a rectangular shape having a length of 300 mm and a width of 300 mm, for example. On the other hand, the release sheet 14 has a structure in which two copper foils 14a and 14b having different thicknesses are adhered in a peelable manner. The thickness of the copper foil 14a (the metal layer of the present invention) located outside the support base 11 is larger than the thickness of the copper foil 14b (the base layer of the present invention) located inside.

次に図2に示すように、両側の剥離シート14のそれぞれの表面に感光性のドライフィルムをラミネートして露光・現像することにより、レジストパターン15をそれぞれ形成する。このレジストパターン15においては、アライメントマーク形成部Paと、外周部Poがそれぞれ除去されている。続いて、レジストパターン15が形成された状態で剥離シート14に対するエッチングを行った後、レジストパターン15を除去する。その結果、図3(A)に示すように、剥離シート14のうちアライメントマーク形成部Paの直下の領域と、外周部Poの直下の領域で、部分的に銅箔14a、14bが除去され(本発明の剥離シート加工工程)、その部分のプリプレグ13の表面が露出した状態になる。なお、エッチングされた状態の剥離シート14の表面を粗化しておくことが望ましい(本発明のシート粗化工程)。これにより、剥離シート14と後述の樹脂材料との密着性を高めることができる。   Next, as shown in FIG. 2, resist patterns 15 are formed by laminating a photosensitive dry film on each surface of the release sheets 14 on both sides, and exposing and developing. In this resist pattern 15, the alignment mark forming portion Pa and the outer peripheral portion Po are respectively removed. Subsequently, after the etching is performed on the release sheet 14 in a state where the resist pattern 15 is formed, the resist pattern 15 is removed. As a result, as shown in FIG. 3A, the copper foils 14a and 14b are partially removed from the release sheet 14 in the region immediately below the alignment mark forming portion Pa and the region immediately below the outer peripheral portion Po. The release sheet processing step of the present invention), and the surface of the prepreg 13 at that portion is exposed. In addition, it is desirable to roughen the surface of the release sheet 14 in the etched state (sheet roughening step of the present invention). Thereby, the adhesiveness of the peeling sheet 14 and the below-mentioned resin material can be improved.

ここで、図3(B)を参照して、図3(A)の状態の積層体を上方から見たときの平面構造を説明する。図3(B)に示すように、支持基材11の全体平面の範囲内において、所定の幅だけ銅箔14a、14bが除去された外周部Poが形成され、その内側の領域は矩形状の有効領域A1となっている。有効領域A1の外側の外周部Poは、後述の積層工程には用いられるが、後述の露出工程に伴う切断により除去される。一方、有効領域A1には銅箔14a、14bが残存しているが、四隅のアライメントマーク形成部Paの部分は銅箔14a、14bが除去されている。アライメントマーク形成部Paは、後述の分離工程以降の各工程の位置決めに用いるアライメントマークAMを形成するための構造である。なお、分離工程以前の各工程における位置決めに際しては、有効領域A1の外部に別途設けたアライメントパターン(不図示)が用いられる。   Here, with reference to FIG. 3B, a planar structure when the stacked body in the state of FIG. 3A is viewed from above will be described. As shown in FIG. 3B, the outer peripheral portion Po from which the copper foils 14a and 14b are removed by a predetermined width is formed within the entire plane of the support base 11, and the inner region is rectangular. It is an effective area A1. The outer peripheral portion Po outside the effective area A1 is used in a laminating process described later, but is removed by cutting associated with an exposing process described later. On the other hand, the copper foils 14a and 14b remain in the effective area A1, but the copper foils 14a and 14b are removed from the alignment mark forming portions Pa at the four corners. The alignment mark forming portion Pa is a structure for forming an alignment mark AM used for positioning in each step after the separation step described later. For positioning in each step before the separation step, an alignment pattern (not shown) separately provided outside the effective area A1 is used.

なお、図3(B)に示すアライメントマークAM(アライメントマーク形成部Pa)の構造は一例であり、その個数、配置、形状を適宜に定めることができる。ただし、アライメントマークAMを用いた位置決めの精度の要請から、比較的小さいサイズで少なくとも2個以上配置することが望ましい。   Note that the structure of the alignment mark AM (alignment mark formation portion Pa) illustrated in FIG. 3B is an example, and the number, arrangement, and shape of the alignment mark AM can be determined as appropriate. However, it is desirable to arrange at least two with a relatively small size because of the requirement of positioning accuracy using the alignment mark AM.

次に図4に示すように、表面が粗化された剥離シート14の上部からフィルム状の樹脂材料をラミネートし、真空下にて加圧加熱することにより硬化させて樹脂材料層20を形成する(本発明の樹脂材料形成工程)。その結果、剥離シート14の表面が樹脂材料層20で覆われるともに、上述のアライメントマーク形成部Pa及び外周部Poにおける剥離シート14の除去部分には樹脂材料層20が充填された状態になる。これにより、アライメントマーク形成部Paの部分にアライメントマークAMの構造が形成される。また、外周部Paの部分が樹脂材料層20で覆われると、図4に示すように銅箔14aと銅箔14bの間の剥離界面が露出しない状態になるため後述の積層工程で剥がれにくくなる効果がある。   Next, as shown in FIG. 4, a resin material in the form of a film is laminated from the upper part of the release sheet 14 whose surface is roughened, and is cured by applying pressure under vacuum to form a resin material layer 20. (Resin material forming step of the present invention). As a result, the surface of the release sheet 14 is covered with the resin material layer 20, and the resin material layer 20 is filled in the removed portions of the release sheet 14 in the alignment mark forming portion Pa and the outer peripheral portion Po. Thereby, the structure of the alignment mark AM is formed in the alignment mark forming portion Pa. Further, when the outer peripheral portion Pa is covered with the resin material layer 20, the peeling interface between the copper foil 14a and the copper foil 14b is not exposed as shown in FIG. effective.

次に図5に示すように、両側の樹脂材料層20の所定位置にレーザー加工を施して複数のビアホールを形成し、ビアホールの中のスミアを除去するデスミア処理を施した後、各ビアホール内にビア導体40を形成する。続いて、両側の樹脂材料層20の表面にパターニングを施し、それぞれ導体層30を形成する。さらに、両側の導体層30を覆うようにフィルム状の樹脂材料を積層し、真空下にて加圧加熱することにより樹脂材料を硬化させて樹脂絶縁層21を形成する。   Next, as shown in FIG. 5, a plurality of via holes are formed by laser processing at predetermined positions of the resin material layers 20 on both sides, and after a desmear process for removing smears in the via holes, A via conductor 40 is formed. Subsequently, the surfaces of the resin material layers 20 on both sides are patterned to form the conductor layers 30 respectively. Furthermore, a film-like resin material is laminated so as to cover the conductor layers 30 on both sides, and the resin material is cured by pressurizing and heating under vacuum to form the resin insulating layer 21.

次に図6に示すように、両側の樹脂絶縁層21の所定位置にレーザー加工を施して複数のビアホールを形成し、ビアホールの中のスミアを除去するデスミア処理を施した後、無電解銅めっきにより薄い銅膜を形成し、その銅膜の表面にドライフィルムを貼って露光・現像する。次いで、電解銅めっきを施すことによりドライフィルムが除去された部分に銅が析出し、ビア導体41及び導体層31が同時に形成される(セミアディティブ法)。さらに、両側の導体層31を覆うようにフィルム状の樹脂材料を積層し、真空下にて加圧加熱することにより樹脂材料を硬化させて樹脂絶縁層22を形成する。なお、樹脂絶縁層22のうち導体層31のパターン部分にレーザー加工を施して開口部42を形成する。以上のように、樹脂絶縁層21、22と導体層30、31が交互に積層形成されたビルドアップ層が形成され(本発明の積層工程)、積層体10a(本発明の分離前積層体)が得られる。   Next, as shown in FIG. 6, a plurality of via holes are formed by laser processing at predetermined positions of the resin insulating layers 21 on both sides, and after desmearing treatment for removing smears in the via holes, electroless copper plating is performed. Then, a thin copper film is formed, and a dry film is pasted on the surface of the copper film and exposed and developed. Subsequently, copper is deposited on the portion where the dry film is removed by performing electrolytic copper plating, and the via conductor 41 and the conductor layer 31 are formed simultaneously (semi-additive method). Further, a film-like resin material is laminated so as to cover the conductor layers 31 on both sides, and the resin material is cured by pressurizing and heating under vacuum to form the resin insulating layer 22. The opening 42 is formed by applying laser processing to the pattern portion of the conductor layer 31 in the resin insulating layer 22. As described above, a buildup layer in which the resin insulating layers 21 and 22 and the conductor layers 30 and 31 are alternately formed is formed (a stacking process of the present invention), and a stacked body 10a (a stacked body before separation of the present invention). Is obtained.

次に図7に示すように、上記積層工程において得られた積層体10aを、有効領域A1(図3(B))より僅かに内周側に設定された切断線(図中、破線で示す)に沿って切断する。その結果、積層体10aから不要な外周の領域が除去され、その側面に剥離シート14の剥離界面を含む端面が露出した状態になる(本発明の露出工程)。この状態で、上下の各剥離シート14において密着していた銅箔14aと銅箔14bとを剥離界面に沿って剥離する。その結果、図8に示すように、積層体10aから支持基材11が分離され(本発明の分離工程)、2つの同一構造の積層体10b(本発明の分離後積層体)を得ることができる。このとき、それぞれの積層体10bにおいて、上述のアライメントマークAMの構造が形成された銅箔14aの表面が現れる。   Next, as shown in FIG. 7, the laminated body 10a obtained in the above-described lamination step is shown by a cutting line (indicated by a broken line in the figure) set slightly on the inner peripheral side from the effective area A1 (FIG. 3B). ) Cut along. As a result, an unnecessary outer peripheral region is removed from the laminated body 10a, and an end surface including the release interface of the release sheet 14 is exposed on the side surface (exposing process of the present invention). In this state, the copper foil 14a and the copper foil 14b that are in close contact with each of the upper and lower release sheets 14 are peeled along the peeling interface. As a result, as shown in FIG. 8, the support base material 11 is separated from the laminate 10a (the separation step of the present invention), and two laminates 10b having the same structure (the separated laminate of the present invention) can be obtained. it can. At this time, in each laminated body 10b, the surface of the copper foil 14a on which the structure of the alignment mark AM is formed appears.

以上のように、本実施形態の図1〜図8の各工程によれば、剥離シート14のエッチングにより除去したアライメントマーク形成部Pa及び外周部Poの上部から樹脂材料層20で覆う構造としたので、上記積層工程において外周部Poの部分の樹脂材料層20により剥離シート14の剥離端面が保護され、薬品等の染み込みによる剥離端面の剥がれを確実に防止できる。一方、上記露出工程においては、アライメントマークAMの部分において銅箔14aと樹脂材料層20とが接着されることで両者の密着性が向上し、積層体10aを切断するときの作用では剥離シート14が剥離界面で勝手に剥がれにくくなる。しかし、その後の分離工程では所定の外力を加えることにより剥離シート14を剥離界面で容易に剥がすことができる。これは、アライメントマークAMの銅箔14aと樹脂材料層20との密着部分の面積が比較的小さいため、分離工程における剥離を妨げる程度の密着性にはならないためである。   As described above, according to each step of FIGS. 1 to 8 of the present embodiment, the resin material layer 20 covers the alignment mark forming portion Pa and the outer peripheral portion Po removed by etching the release sheet 14. Therefore, the peeling end surface of the peeling sheet 14 is protected by the resin material layer 20 at the outer peripheral portion Po in the above-described laminating step, and peeling of the peeling end surface due to penetration of chemicals or the like can be reliably prevented. On the other hand, in the exposure step, the copper foil 14a and the resin material layer 20 are adhered to each other at the alignment mark AM, thereby improving the adhesion between the two, and the release sheet 14 is effective when cutting the laminate 10a. However, it becomes difficult to peel off at the peeling interface. However, in the subsequent separation step, the release sheet 14 can be easily peeled off at the release interface by applying a predetermined external force. This is because the area of the close contact portion between the copper foil 14a of the alignment mark AM and the resin material layer 20 is relatively small, so that the adhesiveness does not prevent the separation in the separation step.

次に、分離工程で得られた積層体10bに対し、感光性のドライフィルムをラミネートして露光・現像することによりレジストパターンを形成し、銅箔14aに対するエッチングを行った後、レジストパターンを除去する。この場合、レジストパターン形成の位置基準としてアライメントマークAMが用いられる。その結果、図9に示すように、銅箔14aの所定部分が除去されたパターニングが施され、ビア導体40に直接接続されるパッド50が形成される。この時点で、導体層31、ビア導体41、導体層30、ビア導体40、パッド50を経由する電気的接続が可能になる。   Next, a resist pattern is formed by laminating a photosensitive dry film on the laminated body 10b obtained in the separation step, and exposing and developing, and after etching the copper foil 14a, the resist pattern is removed. To do. In this case, the alignment mark AM is used as a position reference for resist pattern formation. As a result, as shown in FIG. 9, patterning is performed in which a predetermined portion of the copper foil 14 a is removed, and a pad 50 directly connected to the via conductor 40 is formed. At this point, electrical connection via the conductor layer 31, the via conductor 41, the conductor layer 30, the via conductor 40, and the pad 50 becomes possible.

次に図10に示すように、樹脂材料層20の下面側に感光性エポキシ樹脂を塗布して硬化させることによりソルダーレジスト層51を形成した後、パッド50の部分に開口部を形成する。なお、分離工程後の工程としては図9及び図10のみを示したが、最終的な多層配線基板の用途及び機能に応じて、図10で得られた積層体10bに対し多様な加工を施すことができる。   Next, as shown in FIG. 10, after forming a solder resist layer 51 by applying and curing a photosensitive epoxy resin on the lower surface side of the resin material layer 20, an opening is formed in the pad 50. Although only FIGS. 9 and 10 are shown as the steps after the separation step, various processes are performed on the stacked body 10b obtained in FIG. 10 according to the use and function of the final multilayer wiring board. be able to.

例えば、パッド50にはBGAパッケージに用いる半田ボールを接続してもよい。また例えば、上部の開口部42には半導体チップの端子に接続するための半田バンプを接続してもよい。また例えば、積層体10bを貫く貫通孔を形成し、その貫通孔を経由して電気的接続が可能なスルーホール導体を形成してもよい。これらの各工程をアライメントマークAMが残存している時点で行う場合、その位置基準としてアライメントマークAMを用いることができる。なお、多数個取りの基板形態を前提とするときは、最終的に得られた積層体10bを切断して複数の多層配線基板を得ることができる。   For example, a solder ball used for a BGA package may be connected to the pad 50. Further, for example, solder bumps for connecting to the terminals of the semiconductor chip may be connected to the upper opening 42. Further, for example, a through hole penetrating the multilayer body 10b may be formed, and a through hole conductor that can be electrically connected via the through hole may be formed. When these steps are performed when the alignment mark AM remains, the alignment mark AM can be used as a position reference. Note that when a multi-cavity substrate form is assumed, the finally obtained laminate 10b can be cut to obtain a plurality of multilayer wiring boards.

以上のように、本実施形態の分離工程後の各工程(図9及び図10)によれば、アライメントマークAMを用いた位置決めにより各種構造を形成することができる。図2に示すように、初期段階でアライメントマークAMの位置精度が確定することから、例えば積層工程後にアライメントマークを形成する場合に比べ格段に位置精度を高めることが可能となる。例えば、初期時点でアライメントマークAMを設けない場合、積層体10bにおいて下層側の銅箔14aではなく、上層側にアライメントマークを形成する必要があるが、この場合は積層を繰り返すことにより位置ずれが蓄積していくため位置精度の劣化は避けられない。本実施形態では、積層を繰り返すことによる位置ずれの影響がないアライメントマークAMを予め形成しておくので、高い位置精度を実現可能となる。   As described above, according to each process (FIGS. 9 and 10) after the separation process of the present embodiment, various structures can be formed by positioning using the alignment mark AM. As shown in FIG. 2, since the positional accuracy of the alignment mark AM is determined at the initial stage, the positional accuracy can be significantly improved as compared with the case where the alignment mark is formed after the stacking process, for example. For example, when the alignment mark AM is not provided at the initial time, it is necessary to form the alignment mark on the upper layer side instead of the lower layer copper foil 14a in the laminated body 10b. Deterioration of position accuracy is unavoidable due to accumulation. In the present embodiment, since the alignment mark AM that is not affected by misalignment due to repeated lamination is formed in advance, high positional accuracy can be realized.

本発明の多層配線基板に関しては、図1〜図10を用いて説明した製造方法は一例であって、多様な変形例がある。以下、図11〜図16を参照して、一部の工程にセミアディティブ法を適用した変形例を説明する。本変形例では、図1〜図10の製造方法と共通の工程は説明を省略するものとし、主に異なる工程について説明する。   Regarding the multilayer wiring board of the present invention, the manufacturing method described with reference to FIGS. 1 to 10 is an example, and there are various modifications. Hereinafter, a modification in which the semi-additive method is applied to some processes will be described with reference to FIGS. In this modification, the description of the steps common to the manufacturing method of FIGS. 1 to 10 is omitted, and different steps are mainly described.

本変形例では、図11に示すように、図3(A)に示す状態から、両側の剥離シート14のそれぞれの表面にドライフィルムをラミネートして露光・現像することにより、レジストパターン60をそれぞれ形成する。続いて、図12に示すように、それぞれの剥離シート14の表面に無電解銅めっき及び電解銅めっきを施して、導体層61を形成する。その後、図13に示すように、導体層61の上部からフィルム状の樹脂材料をラミネートし、真空下にて加圧加熱することにより硬化させて樹脂材料層62を形成し、その表面を研磨する。これにより、図4と同様、銅箔14aの除去部分には樹脂材料層62が充填されて、アライメントマークAMの構造が形成される。   In this modified example, as shown in FIG. 11, from the state shown in FIG. 3A, a dry film is laminated on each surface of the release sheets 14 on both sides and exposed and developed, whereby the resist pattern 60 is formed. Form. Subsequently, as shown in FIG. 12, electroless copper plating and electrolytic copper plating are applied to the surface of each release sheet 14 to form a conductor layer 61. Thereafter, as shown in FIG. 13, a film-like resin material is laminated from the top of the conductor layer 61, and cured by pressurizing and heating under vacuum to form a resin material layer 62, and the surface thereof is polished. . As a result, as in FIG. 4, the resin material layer 62 is filled in the removed portion of the copper foil 14a, and the structure of the alignment mark AM is formed.

次いで、図14に示すように、それぞれの導体層61の表面側に、セミアディティブ法を用いて導体層63を形成する。これ以降、図4〜図7の各工程については、上記実施形態と共通に行われる。その後、図15に示すように、分離工程において、2つの同一構造の積層体10c(本発明の分離後積層体)を得ることができる。この積層体10cに対し、図16に示すように、周知の手法で銅箔14aの全体と導体層61をエッチングして除去すると、部分的に導体層63が外側に露出した状態になる。これ以降は、最終的な多層配線基板の用途及び機能に応じて、図16の積層体10cに対し多様な加工を施すことができる。なお、本変形例では、比較的早い段階でアライメントマークAMが除去されるが(図16)、工程に状況に応じてアライメントマークAMを用いることは可能である。   Next, as shown in FIG. 14, a conductor layer 63 is formed on the surface side of each conductor layer 61 using a semi-additive method. Thereafter, each step in FIGS. 4 to 7 is performed in common with the above embodiment. Thereafter, as shown in FIG. 15, in the separation step, two laminated bodies 10c having the same structure (the separated laminated body of the present invention) can be obtained. As shown in FIG. 16, when the entire copper foil 14 a and the conductor layer 61 are etched and removed from the laminated body 10 c by a known method, the conductor layer 63 is partially exposed to the outside. Thereafter, various processes can be performed on the stacked body 10c of FIG. 16 according to the use and function of the final multilayer wiring board. In this modification, the alignment mark AM is removed at a relatively early stage (FIG. 16), but it is possible to use the alignment mark AM according to the situation in the process.

以上、本実施形態に基づき本発明の内容を具体的に説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で多様な変更を施すことができる。例えば、本実施形態では銅箔14a、14bを剥離可能に密着した剥離シート14を説明したが、銅に限られることなく剥離可能に密着した各種金属材料を用いて剥離シート14を形成してもよく、その厚さも変更可能である。また、樹脂材料層20、樹脂絶縁層30、31、ビア導体40、41、開口部42、パッド50、ソルダーレジスト層51、その他の構成部材についても、本発明の作用効果を得られる限り、それらの構造、形状、形成方法は本実施形態に開示した内容には限定されることなく変更可能である。   The contents of the present invention have been specifically described above based on the present embodiment, but the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention. For example, in the present embodiment, the release sheet 14 in which the copper foils 14a and 14b are adhered in a peelable manner has been described, but the release sheet 14 may be formed using various metal materials that are in close contact with each other without being limited to copper. Well, its thickness can also be changed. Further, the resin material layer 20, the resin insulating layers 30 and 31, the via conductors 40 and 41, the opening 42, the pad 50, the solder resist layer 51, and other constituent members may be used as long as the effects of the present invention can be obtained. The structure, shape, and formation method of the above can be changed without being limited to the contents disclosed in the present embodiment.

10a、10b、10c…積層体
11…支持基材
12…銅箔
13…プリプレグ
14…剥離シート
14a、14b…銅箔
15…レジストパターン
20、62…樹脂材料層
21、22…樹脂絶縁層
30、31、61、63…導体層
40、41…ビア導体
42…開口部
50…パッド
51…ソルダーレジスト層
60…レジストパターン
10a, 10b, 10c ... laminate 11 ... support substrate 12 ... copper foil 13 ... prepreg 14 ... release sheet 14a, 14b ... copper foil 15 ... resist pattern 20, 62 ... resin material layers 21, 22 ... resin insulation layer 30, 31, 61, 63 ... conductor layers 40, 41 ... via conductor 42 ... opening 50 ... pad 51 ... solder resist layer 60 ... resist pattern

Claims (6)

樹脂絶縁層と導体層とを交互に積層形成した多層配線基板の製造方法において、
板状の支持基材の少なくとも一方の主面側に下地層と金属層とを剥離可能な状態で配置するシート配置工程と、
前記下地層と前記金属層とからなる剥離シートにパターニングを行うことにより、前記剥離シートのうち、所定の有効領域の外周側の第1のシート部分と、前記所定の有効領域の内周側に位置する複数のアライメントマークに対応する第2のシート部分とをそれぞれ除去する剥離シート加工工程と、
前記剥離シートの上部を覆う樹脂材料を積層形成し、前記第1のシート部分及び前記第2のシート部分が除去された領域に前記樹脂材料を前記支持基材の表面と接した状態で充填する樹脂材料形成工程と、
前記樹脂材料の上部に前記導体層と前記樹脂絶縁層を交互に積層してビルドアップ層を形成する積層工程と、
前記支持基材、前記樹脂材料、前記ビルドアップ層からなる分離前積層体に対し、前記複数のアライメントマークの外周側における前記剥離シートの剥離界面を含む端面を露出させる露出工程と、
前記露出工程後、前記剥離シートを前記剥離界面で剥離させることにより、前記分離前積層体から前記支持基材を分離する分離工程と、
を有し、前記分離工程により分離された分離後積層体を用いて一又は複数の多層配線基板を形成することを特徴とする多層配線基板の製造方法。
In the method of manufacturing a multilayer wiring board in which resin insulation layers and conductor layers are alternately laminated,
A sheet disposing step of disposing the base layer and the metal layer in a peelable state on at least one main surface side of the plate-shaped support base;
By patterning the release sheet composed of the base layer and the metal layer, the first sheet portion on the outer periphery side of the predetermined effective area and the inner periphery side of the predetermined effective area of the release sheet. A release sheet processing step for removing each of the second sheet portions corresponding to the plurality of alignment marks positioned;
A resin material that covers the upper part of the release sheet is laminated, and the resin material is filled in a state where the first sheet portion and the second sheet portion are removed in contact with the surface of the support substrate. A resin material forming step;
A laminating step of alternately laminating the conductor layer and the resin insulating layer on the resin material to form a build-up layer;
An exposure step of exposing an end surface including a release interface of the release sheet on the outer peripheral side of the plurality of alignment marks, with respect to the pre-separation laminate including the support base material, the resin material, and the buildup layer;
A separation step of separating the support substrate from the pre-separation laminate by separating the release sheet at the release interface after the exposing step;
And forming one or a plurality of multilayer wiring boards using the post-separation laminate separated in the separation step.
前記剥離シート、前記樹脂材料、前記ビルドアップ層は、それぞれ前記支持基材の両面側に形成され、前記分離工程において前記支持基材を分離した2つの前記分離後積層体が得られることを特徴とする請求項1に記載の多層配線基板の製造方法。   The release sheet, the resin material, and the build-up layer are respectively formed on both sides of the support base material, and two post-separation laminates obtained by separating the support base material in the separation step are obtained. The method for manufacturing a multilayer wiring board according to claim 1. 前記樹脂材料形成工程よりも前に、前記剥離シートを粗化するシート粗化工程を有することを特徴とする請求項1に記載の多層配線基板の製造方法。   The method for producing a multilayer wiring board according to claim 1, further comprising a sheet roughening step of roughening the release sheet prior to the resin material forming step. 前記複数のアライメントマークは、前記所定の有効領域の四隅に配置されることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の多層配線基板の製造方法。   4. The method of manufacturing a multilayer wiring board according to claim 1, wherein the plurality of alignment marks are arranged at four corners of the predetermined effective area. 前記下地層は金属箔であり、前記剥離シート加工工程では、前記剥離シートをフォトレジストで覆った後、前記第1のシート部分及び前記第2のシート部分をエッチングにより除去することを特徴とする請求項1に記載の多層配線基板の製造方法。   The underlayer is a metal foil, and in the release sheet processing step, after the release sheet is covered with a photoresist, the first sheet portion and the second sheet portion are removed by etching. The manufacturing method of the multilayer wiring board of Claim 1. 前記露出工程では、前記複数のアライメントマークが配置された領域の外周側に設定された切断線に沿って前記分離前積層体を積層方向に切断し、当該分離前積層体の側面に前記剥離シートの前記剥離界面が露出することを特徴とする請求項1に記載の多層配線基板の製造方法。
In the exposing step, the pre-separation laminate is cut in the laminating direction along a cutting line set on the outer peripheral side of the region where the plurality of alignment marks are arranged, and the release sheet is formed on a side surface of the pre-separation laminate. The method according to claim 1, wherein the peeling interface is exposed.
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