JP5279197B2 - 硬化性有機ケイ素組成物およびその硬化物 - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 47
- -1 polycyclic hydrocarbon compound Chemical class 0.000 claims description 20
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 19
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 claims description 16
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 14
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 claims description 13
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 claims description 11
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 11
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 10
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 claims description 9
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 claims description 8
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 claims description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 25
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 description 17
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 15
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 14
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 11
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 10
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 9
- INYHZQLKOKTDAI-UHFFFAOYSA-N 5-ethenylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1C2C(C=C)CC1C=C2 INYHZQLKOKTDAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 8
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 7
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 5
- QYLFHLNFIHBCPR-UHFFFAOYSA-N 1-ethynylcyclohexan-1-ol Chemical compound C#CC1(O)CCCCC1 QYLFHLNFIHBCPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- UHXCHUWSQRLZJS-UHFFFAOYSA-N (4-dimethylsilylidenecyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)C1=CC=C([Si](C)C)C=C1 UHXCHUWSQRLZJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYXVDGZUXHFXTO-UHFFFAOYSA-L 3-oxobutanoate;platinum(2+) Chemical compound [Pt+2].CC(=O)CC([O-])=O.CC(=O)CC([O-])=O QYXVDGZUXHFXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229920005645 diorganopolysiloxane polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- OTTZHAVKAVGASB-UHFFFAOYSA-N hept-2-ene Chemical compound CCCCC=CC OTTZHAVKAVGASB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 2
- CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L platinum dichloride Chemical group Cl[Pt]Cl CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- OQJPAHYVGNJBJK-UHFFFAOYSA-N (3-dimethylsilylphenyl)-dimethylsilane Chemical compound C[SiH](C)C1=CC=CC([SiH](C)C)=C1 OQJPAHYVGNJBJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZNRFEXEPBITDS-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(2-methylbutan-2-yl)benzene-1,4-diol Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC(O)=C(C(C)(C)CC)C=C1O CZNRFEXEPBITDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZODKRWQWUWGCD-UHFFFAOYSA-N 2,5-di-tert-butylbenzene-1,4-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1O JZODKRWQWUWGCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-[1-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)butyl]-5-methylphenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)C)=C(O)C=C(C)C=1C(CCC)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPNYZBKIGXGYNU-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-6-[(3-tert-butyl-5-ethyl-2-hydroxyphenyl)methyl]-4-ethylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CC)=CC(CC=2C(=C(C=C(CC)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O GPNYZBKIGXGYNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NECRQCBKTGZNMH-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethylhex-1-yn-3-ol Chemical compound CC(C)CC(C)(O)C#C NECRQCBKTGZNMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006201 3-phenylpropyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004800 4-bromophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Br 0.000 description 1
- 125000001255 4-fluorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1F 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229910018540 Si C Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUUJJNZNKAEPLW-UHFFFAOYSA-N [NH-][NH+](C1C(C2)C=CC2C1)N Chemical compound [NH-][NH+](C1C(C2)C=CC2C1)N NUUJJNZNKAEPLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- XITRBUPOXXBIJN-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 XITRBUPOXXBIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000001444 catalytic combustion detection Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- ZISUALSZTAEPJH-UHFFFAOYSA-N dimethyl(phenyl)silane Chemical compound C[SiH](C)C1=CC=CC=C1 ZISUALSZTAEPJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 239000012769 display material Substances 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 125000000040 m-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N n-[4-(1,3-benzoxazol-2-yl)phenyl]-4-nitrobenzenesulfonamide Chemical class C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1S(=O)(=O)NC1=CC=C(C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C=C1 SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003261 o-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 238000010525 oxidative degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 description 1
- ZPNJBTBYIHBSIG-UHFFFAOYSA-N phenyl-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)methanone Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZPNJBTBYIHBSIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N phthalic acid di-n-butyl ester Natural products CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
Classifications
-
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Description
(A)(a)ケイ素原子に結合した水素原子を1分子中に2個有する有機ケイ素化合物と、
(b)ヒドロシリル化反応性炭素−炭素二重結合を1分子中に2個有する多環式炭化水素化合物と
の付加反応生成物であって、かつ、ケイ素原子に結合した水素原子を1分子中に2個有する多環式炭化水素基含有有機ケイ素化合物、
(B) ケイ素原子に結合したアルケニル基を1分子中に2個以上有するシロキサン系化合物、および
(C) ヒドロシリル化反応触媒
を含んでなる硬化性有機ケイ素組成物を提供するものである。
本発明の(A)成分であるケイ素原子に結合した水素原子(以下、「SiH」ということがある)を1分子中に2個有する多環式炭化水素基含有有機ケイ素化合物は、下記(a)成分であるケイ素原子に結合した水素原子を1分子中に2個有する有機ケイ素化合物と、下記(b)成分であるヒドロシリル化反応性炭素−炭素二重結合を1分子中に2個有する多環式炭化水素化合物との付加反応生成物である。
(a)成分は、ケイ素原子に結合した水素原子を1分子中に2個有する有機ケイ素化合物である。(a)成分は、(b)成分との付加反応により(A)成分を生成するものであれば特に限定されないが、本発明組成物から得られる硬化物の硬度、透明性、耐クラック性、および/または耐熱性が向上しやすいことから、フェニレン基を有することが好ましく、シルフェニレン基(Si−C6H4−Si)を有することがより好ましい。(a)成分は、1種単独でも2種以上を組み合わせても使用することができる。
(b)成分は、ヒドロシリル化反応性炭素−炭素二重結合を1分子中に2個有する多環式炭化水素化合物である。該(b)成分は、(i)多環式炭化水素の骨格を形成している炭素原子のうち、隣接する2つの炭素原子間にヒドロシリル化反応性炭素−炭素二重結合が形成されているもの、(ii)多環式炭化水素の骨格を形成している炭素原子に結合した水素原子が、ヒドロシリル化反応性炭素−炭素二重結合含有基によって置換されているもの、または、(iii)多環式炭化水素の骨格を形成している炭素原子のうち、隣接する2つの炭素原子間にヒドロシリル化反応性炭素−炭素二重結合が形成されており、かつ、多環式炭化水素の骨格を形成している炭素原子に結合した水素原子がヒドロシリル化反応性炭素−炭素二重結合含有基によって置換されているもの、のいずれであっても差し支えない。(b)成分は、1種単独でも2種以上を組み合わせても使用することができる。
(A)成分の好適な具体例を以下に示すが、これに限定されるものではない。
(式中、Rは前記のとおりであり、nは1〜50、好ましくは1〜30、より好ましくは1〜20の整数である。)
この化合物は、多環式炭化水素基およびフェニレン基を含有しているため、この化合物から得られる硬化物は、特に、高硬度であり、透明性、耐クラック性、耐熱性に優れる。
(A)成分のSiHを有する多環式炭化水素基含有有機ケイ素化合物は、上記(b)成分1モルに対して、上記(a)成分を、1モルを越え10モル以下、好ましくは1モルを越え5モル以下の過剰量で、ヒドロシリル化反応触媒の存在下で付加反応させることにより得ることができる。このように、(A)成分のSiHを有する多環式炭化水素基含有有機ケイ素化合物は、その調製に際し、上記(b)成分に対して過剰モル量の上記(a)成分を反応させることから、上記(a)成分の構造に由来するSiHを1分子中に2個有するものである。
(B)成分は、ケイ素原子に結合したアルケニル基を1分子中に2個以上有するシロキサン系化合物であり、上記(A)成分とヒドロシリル化反応により付加して、硬化物を与えるものである。(B)成分の分子構造は特に限定されず、直鎖状、分岐鎖状、三次元網状、環状等のいずれであってもよい。(B)成分が分子鎖末端を有する場合、ケイ素原子に結合したアルケニル基は、分子鎖末端および分子鎖非末端のケイ素原子のどちらか一方に結合していても、それらの両方に結合していてもよい。(B)成分は、1種単独でも2種以上を組み合わせても使用することができる。
(式中、R1は、独立に、非置換または置換の炭素原子数1〜12、好ましくは1〜6の一価炭化水素基であり、ただし、全R1のうち少なくとも2個はアルケニル基であり、rは3〜20、好ましくは3〜8の整数である。)
R3 3SiO-(R2 2SiO)s-SiR3 3 (4)
(式中、R2およびR3は、独立に、非置換または置換の炭素原子数1〜12、好ましくは1〜6の一価炭化水素基であり、ただし、全R2および全R3の合計のうち少なくとも2個はアルケニル基であり、
全R3のうち少なくとも2個がアルケニル基である場合、sは0〜100、好ましくは1〜20の整数であり、全R3のうち1個のみがアルケニル基である場合または全R3がアルケニル基以外の一価炭化水素基である場合、sは2〜100、好ましくは2〜20の整数である。)
(ViMeSiO)3
(ViMeSiO)4
(ViMeSiO)3(Me2SiO)
(ViMeSiO)4(Me2SiO)
Me3SiO-(ViMeSiO)5(Me2SiO)5-SiMe3
ViMe2SiO-(Me2SiO)5-SiMe2Vi
ViMe2SiO-(Ph2SiO)5(Me2SiO)5-SiMe2Vi
ViMe2SiO-(ViMeSiO)5(Me2SiO)5-SiMe2Vi
(C)成分であるヒドロシリル化反応触媒は、(A)成分中のSiHと(B)成分中のケイ素原子に結合したアルケニル基とのヒドロシリル化反応を促進するものである。(C)成分のヒドロシリル化反応触媒としては、特に限定されず、従来公知のものを全て使用することができる。(C)成分としては、例えば、白金黒、塩化第2白金、塩化白金酸、塩化白金酸と一価アルコールとの反応生成物、塩化白金酸とオレフィン類との錯体、白金ビスアセトアセテート等の白金系触媒;パラジウム系触媒、ロジウム系触媒等の、白金系触媒以外の白金族金属系触媒が挙げられる。(C)成分は、1種単独でも2種以上を組み合わせても使用することができる。
本発明組成物に、上記(A)〜(C)成分に加えて、本発明の効果を損なわない範囲で、他の成分を配合することは任意である。
本発明の硬化性有機ケイ素組成物は、(A)〜(C)成分および、必要に応じて、その他の成分を混合することによって調製することができる。
本発明の硬化性有機ケイ素組成物を硬化させることにより、高硬度で、透明性、耐クラック性、耐熱性に優れた硬化物を得ることができる。硬化条件は、該組成物の量により異なり、特に制限されないが、硬化温度を60〜180℃とすることが好ましく、硬化時間は1〜10時間でよい。
本発明の硬化性有機ケイ素組成物は、硬化性シリコーン材料、光学素子等の光学デバイス用封止材料、その他の半導体素子等の電子デバイス用封止材料、電気絶縁性コーティング材料として有用である。該光学デバイスとしては、LED、半導体レーザー、フォトダイオード、フォトトランジスタ、太陽電池、CCD等の光学素子;レンズ等の光学部品等が挙げられる。該電子デバイスとしては、ダイオード、トランジスタ、IC、CPU、メモリー等の半導体素子等が挙げられる。
<(A)成分の調製>
攪拌装置、冷却管、滴下ロートおよび温度計を備えた 500mLの4つ口フラスコに、1,4-ビス(ジメチルシリル)ベンゼン 194g(1mol)および溶媒としてトルエン100gを加え、オイルバスを用いて 85℃に加熱した。これに、5質量%の白金金属を担持したカーボン粉末 0.1gを添加し、攪拌しながら ビニルノルボルネン(商品名:V0062、東京化成工業(株)製;5-ビニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エンと 6-ビニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エンとの略等モル量の異性体混合物)60g(0.5モル)を 60分間かけて滴下した。滴下終了後、更に 120℃で加熱攪拌を 24時間行った後、室温まで冷却した。その後、白金金属を担持したカーボン粉末をろ過により除去し、トルエン及び未反応の原料を減圧留去して、無色透明なオイル状の反応生成物(25℃における粘度:300Pa・s)206gを得た。
反応生成物を、FT-IR、NMR、GPC等により分析した結果、このものは、下記式の構造で表される混合物(n=1:38モル%、n=2:20モル%、n=3:16モル%、n=4〜10:合計で26モル%)であることが判明した。また、この反応生成物の屈折率は1.545であった。
(A)合成例1で得られた反応生成物:77質量部、
(B) (ViMeSiO)4:15質量部、
(C) 硬化触媒として白金-ビニルシロキサン錯体:組成物全体に対して白金金属原子として質量換算で 20 ppmとなる量、
(D) 1-エチニルシクロヘキサノール:0.03質量部
(その他の成分)1-(2-トリメトキシシリルエチル)-3-(3-グリシドキシプロピル)-1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシロキサン:8質量部
を均一に混合して組成物を得た。この組成物を、ガラス板で組んだ型の中に2mm厚になるように流し込み、150℃で5時間加熱して硬化物を得た。
(A)合成例1で得られた反応生成物:75質量部、
(B) (ViMeSiO)4:17質量部、
(C) 硬化触媒として白金-ビニルシロキサン錯体:組成物全体に対して白金金属原子として質量換算で 20 ppmとなる量、
(D) 1-エチニルシクロヘキサノール:0.03質量部
(その他の成分)1-(2-トリメトキシシリルエチル)-3-(3-グリシドキシプロピル)-1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシロキサン:8質量部
を均一に混合して組成物を得た。この組成物を、ガラス板で組んだ型の中に2mm厚になるように流し込み、150℃で5時間加熱して硬化物を得た。
(A)合成例1で得られた反応生成物:73質量部、
(B) (ViMeSiO)4:19質量部、
(C) 硬化触媒として白金-ビニルシロキサン錯体:組成物全体に対して白金金属原子として質量換算で 20 ppmとなる量、
(D) 1-エチニルシクロヘキサノール:0.03質量部
(その他の成分)1-(2-トリメトキシシリルエチル)-3-(3-グリシドキシプロピル)-1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシロキサン:8質量部
を均一に混合して組成物を得た。この組成物を、ガラス板で組んだ型の中に2mm厚になるように流し込み、150℃で5時間加熱して硬化物を得た。
実施例1において、(A)成分77質量部に代えて(MeHSiO)4 60質量部を用いたこと、(B)成分の(ViMeSiO)4の使用量を17質量部から 40質量部に変更したこと、および(その他の成分)を使用しなかったこと以外は、実施例1と同様にして組成物および硬化物を得た。
実施例1で得られた組成物の代わりにフェニルシリコーンレジン系硬化性組成物(商品名:X-34-1195、信越化学工業(株)製、フェニル基含有量:約50モル%)を使用した以外は、実施例1と同様にして硬化物を得た。
上記各実施例および比較例で得られた硬化物について、下記手法に従い、性能を評価した。
<外観>
各硬化物の外観を目視により観察した。観察結果を表1に示す。
<硬度>
ASTM D 2240 に準じて、各硬化物の硬度(Shore D)を測定した。測定結果を表1に示す。
<耐クラック性>
各実施例および比較例で得られた樹脂組成物を、LEDチップを金線でワイヤーボンディングしたPPAカップに収め100℃で1時間、150℃で5時間加熱して硬化させた。冷熱衝撃試験機を用いて、-40℃/30分の放置と100℃/30分の放置とからなるサイクルを100サイクル繰り返した後でのクラックの様子を観察した。観察結果を下記の評価基準にしたがって表1に示す。
◎:異常なし
○:ワイヤー部にミクロクラック有り
△:ワイヤー部、チップ部にクラック有り
×:封止樹脂全体にクラック、または剥離有り
<耐熱性>
各実施例及び比較例において作製した2mm厚の硬化物を150℃、240時間放置する前後で、400nmにおける透過率を測定した。測定結果を表1に示す。
実施例の硬化物は、無色透明であり、高硬度でありながら耐クラック性に優れ、光透過性にも優れている。また、耐熱変色性にも従来のシリコーン材料と同等に優れており、各種の光学材料や封止材料に適している。
Claims (3)
- 前記nが1〜10の整数である請求項1に係る硬化性有機ケイ素組成物。
- 請求項1または2に係る硬化性有機ケイ素組成物を硬化させることにより得られる硬化物。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007122487A JP5279197B2 (ja) | 2007-05-07 | 2007-05-07 | 硬化性有機ケイ素組成物およびその硬化物 |
EP08251619A EP1990367B1 (en) | 2007-05-07 | 2008-05-06 | Curable organosilicon composition and cured product thereof |
US12/115,821 US7700697B2 (en) | 2007-05-07 | 2008-05-06 | Curable organosilicon composition and cured product thereof |
KR1020080041863A KR101466398B1 (ko) | 2007-05-07 | 2008-05-06 | 경화성 유기 규소 조성물 및 그의 경화물 |
TW097116656A TWI452090B (zh) | 2007-05-07 | 2008-05-06 | Hardened organic silicon compositions and their hardened products |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007122487A JP5279197B2 (ja) | 2007-05-07 | 2007-05-07 | 硬化性有機ケイ素組成物およびその硬化物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008274185A JP2008274185A (ja) | 2008-11-13 |
JP5279197B2 true JP5279197B2 (ja) | 2013-09-04 |
Family
ID=39739479
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007122487A Active JP5279197B2 (ja) | 2007-05-07 | 2007-05-07 | 硬化性有機ケイ素組成物およびその硬化物 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7700697B2 (ja) |
EP (1) | EP1990367B1 (ja) |
JP (1) | JP5279197B2 (ja) |
KR (1) | KR101466398B1 (ja) |
TW (1) | TWI452090B (ja) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008069210A (ja) * | 2006-09-12 | 2008-03-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 多環式炭化水素基含有シリコーン系硬化性組成物 |
JP2008274184A (ja) * | 2007-05-07 | 2008-11-13 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ケイ素原子に結合した水素原子を有する多環式炭化水素基含有有機ケイ素化合物およびその製造方法 |
CN102639643B (zh) * | 2010-03-31 | 2013-06-12 | 积水化学工业株式会社 | 光半导体装置用密封剂及光半导体装置 |
KR101277722B1 (ko) * | 2010-07-14 | 2013-06-24 | 제일모직주식회사 | 하이브리드 실록산 중합체, 상기 하이브리드 실록산 중합체로부터 형성된 봉지재 및 상기 봉지재를 포함하는 전자 소자 |
JP2012046604A (ja) * | 2010-08-26 | 2012-03-08 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 多環式炭化水素骨格含有成分を含む硬化性シリコーン系組成物 |
JP5539252B2 (ja) * | 2011-03-24 | 2014-07-02 | 信越化学工業株式会社 | 硬化性組成物 |
WO2012133432A1 (ja) | 2011-03-30 | 2012-10-04 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | オルガノポリシロキサン、その製造方法、及びオルガノポリシロキサンを含有する硬化性樹脂組成物 |
WO2012157644A1 (ja) | 2011-05-16 | 2012-11-22 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置及びその製造方法 |
JP5556794B2 (ja) * | 2011-11-21 | 2014-07-23 | 信越化学工業株式会社 | Ledリフレクターとして有用な白色熱硬化性シリコーン樹脂組成物及び該組成物を用いた光半導体装置 |
JP5640957B2 (ja) * | 2011-11-21 | 2014-12-17 | 信越化学工業株式会社 | Ledリフレクターとして有用な白色熱硬化性シリコーン樹脂組成物及び該組成物を用いた光半導体装置 |
JP5931503B2 (ja) * | 2012-02-27 | 2016-06-08 | 信越化学工業株式会社 | 白色熱硬化性シリコーン組成物及び該組成物の硬化物からなる白色発光ダイオード用光反射材料 |
JP6258048B2 (ja) * | 2014-01-28 | 2018-01-10 | 信越化学工業株式会社 | 有機変性シリコーン樹脂組成物 |
JP6148204B2 (ja) * | 2014-06-03 | 2017-06-14 | 信越化学工業株式会社 | 硬化性組成物及び半導体装置 |
JP6347237B2 (ja) * | 2015-08-21 | 2018-06-27 | 信越化学工業株式会社 | 付加硬化型オルガノポリシロキサン組成物及び半導体装置 |
JP6428595B2 (ja) * | 2015-12-22 | 2018-11-28 | 信越化学工業株式会社 | 付加硬化性樹脂組成物及び半導体装置 |
US10287400B2 (en) | 2016-04-14 | 2019-05-14 | Momentive Performance Materials Inc. | Curable silicone composition and applications and uses thereof |
US10385210B2 (en) | 2017-06-20 | 2019-08-20 | Momentive Performance Materials Inc. | Curable silicone composition and applications and uses thereof |
JP6908546B2 (ja) * | 2018-03-05 | 2021-07-28 | 信越化学工業株式会社 | 光反射材料用硬化性シリコーン組成物、シリコーン樹脂硬化物、リフレクター、及びled装置 |
JP7088879B2 (ja) | 2019-05-24 | 2022-06-21 | 信越化学工業株式会社 | 付加硬化型シリコーン組成物、硬化物および光半導体素子 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62207333A (ja) * | 1986-03-08 | 1987-09-11 | Nippon Petrochem Co Ltd | シリコ−ン共重合体 |
JP2002241501A (ja) * | 2001-02-15 | 2002-08-28 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 硬化剤、硬化性組成物および硬化物 |
US7019100B2 (en) | 2003-04-23 | 2006-03-28 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Curable silicone resin composition |
JP4112443B2 (ja) | 2003-06-27 | 2008-07-02 | 信越化学工業株式会社 | 硬化性シリコーン樹脂組成物 |
DE102004039111A1 (de) | 2003-08-14 | 2005-04-14 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Härtbare Silikonharzzusammensetzung |
JP2005089671A (ja) * | 2003-09-19 | 2005-04-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 硬化性シリコーン樹脂組成物 |
JP4520251B2 (ja) * | 2003-10-10 | 2010-08-04 | 信越化学工業株式会社 | 硬化性組成物 |
TW200513483A (en) * | 2003-10-10 | 2005-04-16 | Shinetsu Chemical Co | Curable composition |
JP2005272697A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 硬化性シリコーン樹脂組成物、光半導体用封止材および光半導体装置 |
JP2008069210A (ja) | 2006-09-12 | 2008-03-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 多環式炭化水素基含有シリコーン系硬化性組成物 |
-
2007
- 2007-05-07 JP JP2007122487A patent/JP5279197B2/ja active Active
-
2008
- 2008-05-06 EP EP08251619A patent/EP1990367B1/en active Active
- 2008-05-06 TW TW097116656A patent/TWI452090B/zh active
- 2008-05-06 US US12/115,821 patent/US7700697B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2008-05-06 KR KR1020080041863A patent/KR101466398B1/ko active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20080099162A (ko) | 2008-11-12 |
EP1990367A2 (en) | 2008-11-12 |
TWI452090B (zh) | 2014-09-11 |
US7700697B2 (en) | 2010-04-20 |
TW200911927A (en) | 2009-03-16 |
US20080281056A1 (en) | 2008-11-13 |
JP2008274185A (ja) | 2008-11-13 |
KR101466398B1 (ko) | 2014-11-27 |
EP1990367B1 (en) | 2012-07-11 |
EP1990367A3 (en) | 2011-03-09 |
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