JP5233264B2 - Transcript - Google Patents
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Description
本発明は、物品を真製品と非真製品との間で判別に用いる転写箔、その転写方法および転写物に関する。 The present invention relates to a transfer foil that uses an article for discrimination between a genuine product and a non-genuine product, a transfer method thereof, and a transfer product.
キャッシュカード、クレジットカードおよびパスポートなどの認証媒体並びに商品券及び株券などの有価証券媒体などには、偽造が困難であることが望まれる。そのため、従来から、そのような媒体には、その偽造を抑止すべく、偽造が困難なラベルが貼り付けられている。 It is desired that counterfeiting is difficult for authentication media such as cash cards, credit cards and passports, and securities media such as gift certificates and stock certificates. Therefore, conventionally, a label that is difficult to forge is attached to such a medium in order to prevent the forgery.
また、近年では、認証媒体及び有価証券媒体以外の物品についても、偽造品の流通が問題視されている。そのため、このような物品に、認証媒体及び有価証券媒体に関して上述した偽造防止技術を適用する機会が増えている。 In recent years, the distribution of counterfeit products has been regarded as a problem for articles other than authentication media and securities media. Therefore, the opportunity to apply the above-described anti-counterfeiting technology for authentication media and securities media to such articles is increasing.
偽造防止技術は、オバート技術とコバート技術とに分類することができる。オバート技術は、一般のユーザが物品への適用を容易に認めることができ且つ容易に真偽判定をすることができる偽造防止技術である。代表的なオバート技術では、ホログラムなどの回折構造または、Optically Variable Ink(OVI)などの多層干渉膜を利用する。 The forgery prevention technology can be classified into an overt technology and a covert technology. The overt technique is an anti-counterfeiting technique that allows a general user to easily recognize application to an article and easily determine whether it is authentic. A typical overt technique utilizes a diffraction structure such as a hologram or a multilayer interference film such as Optically Variable Ink (OVI).
コバート技術は、物品への適用が一般のユーザに分かりにくく、物品へのコバート技術の適用を知っている特定のユーザのみが真偽判定できることを狙った偽造防止技術である。代表的なコバート技術では、蛍光印刷又は万線モアレを利用する。 The covert technique is an anti-counterfeiting technique aimed at making it possible for only a specific user who knows the application of the covert technique to an article to make a true / false judgment because it is difficult for general users to understand the application to the article. Typical covert techniques use fluorescent printing or line moire.
特許文献1には、他のコバート技術が記載されている。このコバート技術では、反射層と光配向膜と光硬化型液晶層の組合せにより、潜像を出現させる技術が紹介されている。 Patent Document 1 describes another covert technique. In this covert technique, a technique for introducing a latent image by combining a reflective layer, a photo-alignment film, and a photo-curable liquid crystal layer is introduced.
この技術を転写箔として用いる場合には、基材の上に剥離保護層、分子配向層、接着層の順に形成する。セキュリティ印刷分野で転写箔は、薄膜として被転写体に転写されるため、再剥離しようとすると崩れるため貼替えができない。そのため、一般的にはセキュリティ性が高いと考えられており、頻繁に利用される。 When this technique is used as a transfer foil, a release protective layer, a molecular orientation layer, and an adhesive layer are formed on a substrate in this order. In the security printing field, the transfer foil is transferred as a thin film to the transfer target, and therefore, when it is re-peeled, it is broken and cannot be replaced. Therefore, it is generally considered that the security is high, and it is frequently used.
また、転写箔は、ストライプ状にロール転写する他に、スポット状にホットスタンピングするのが一般的である。スポットで転写される場合には、剥離時にスタンパーの輪郭形状に剥離保護層から接着層までが破断するが、剥がし始めでは、剥離抵抗と破断抵抗が同時にかかり、接着層の接着力が及ばず転写欠けを起こすことがある。剥がし終わりでは、破断抵抗が剥離抵抗を上回った場合には、バリが発生することがある。また、転写機内で、剥離時に大きな抵抗がかかると、被転写体の破れ、箔の蛇行などが問題になることがある。 The transfer foil is generally hot stamped in a spot shape in addition to the roll transfer in a stripe shape. In the case of transfer with a spot, the peeling from the peeling protective layer to the adhesive layer breaks in the contour shape of the stamper at the time of peeling, but at the beginning of peeling, peeling resistance and breaking resistance are applied at the same time, and the adhesive layer does not reach the adhesive force and transfer. May cause chipping. At the end of peeling, burrs may occur if the breaking resistance exceeds the peeling resistance. In addition, if a large resistance is applied at the time of peeling in the transfer machine, the material to be transferred may be broken, the foil may meander or the like.
特に、液晶のような配向性樹脂を用いた場合には、破断抵抗に異方性が発生するため、その配向方向に注意が必要となる。 In particular, when an alignment resin such as liquid crystal is used, anisotropy is generated in the fracture resistance, so attention must be paid to the alignment direction.
下記に公知文献を記す。
本発明は、上記の問題点を解決するためになされたものであって、分子配向を起因とする破断抵抗異方性を示す材料を含む転写箔において、分子配向方向を工夫することにより、剥離時にかかる抵抗を分散し、転写欠けやバリを軽減し、作業性が安定した転写箔、その転写方法および転写物を提供することを課題とする。 The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and in a transfer foil containing a material exhibiting fracture resistance anisotropy caused by molecular orientation, delamination by devising the molecular orientation direction. It is an object of the present invention to provide a transfer foil, a transfer method thereof, and a transfer product in which resistance is sometimes dispersed, transfer defects and burrs are reduced, and workability is stable.
上記課題の解決手段として、まず、請求項1に係る発明は、基材上に、少なくとも、分子配向層と接着層を順次積層してなり、該分子配向層と接着層が該基材から剥離可能であり、前記分子配向層と接着層との間に回折構造形成層を形成してなり、前記回折構造形成層と接着層との間に全面もしくはパターン状の反射層を形成してなる転写箔を転写した転写物であって、前記分子配向層は硬化していることを特徴とする転写物である。 As a means for solving the above problems, first, the invention according to claim 1 is formed by sequentially laminating at least a molecular orientation layer and an adhesive layer on a base material, and the molecular orientation layer and the adhesive layer are peeled from the base material. The transfer is possible by forming a diffractive structure forming layer between the molecular orientation layer and the adhesive layer, and forming an entire surface or a patterned reflective layer between the diffractive structure forming layer and the adhesive layer. A transfer product obtained by transferring a foil, wherein the molecular alignment layer is cured.
また、請求項2に係る発明は、転写形状の輪郭部分の少なくとも一部において、前記分子配向層の分子配向方向と、剥離方向θが平行とならないように転写箔を剥離し、転写したことを特徴とする請求項1に記載の転写物である。 The invention according to claim 2 is that the transfer foil is peeled off and transferred so that the molecular orientation direction of the molecular orientation layer and the peeling direction θ are not parallel to at least a part of the contour portion of the transfer shape. The transfer product according to claim 1.
本発明によると、破断抵抗に異方性を生じる分子配向層の配向方向をコントロールすることにより、剥離時にかかる抵抗を分散し、転写欠けやバリを軽減し、作業性が安定した転写箔、その転写方法および転写物を提供することが可能となる。 According to the present invention, by controlling the orientation direction of the molecular orientation layer that causes anisotropy in breaking resistance, the resistance applied at the time of peeling is dispersed, transfer defects and burrs are reduced, and the transfer foil has stable workability, It becomes possible to provide a transfer method and a transcript.
以下、本発明の一実施形態について図面を参照しながら説明する。図1は、本発明の転写箔の転写を説明する概要断面図である。図2は、転写箔の転写における欠け・バリの発生を説明する概要平面図である。図3は、本発明の転写箔の一例を示す平面図である。図4は、図3のIII−III’における断面図である。図5は、本発明の転写箔を被転写用紙に転写した転写物の概要平面図である。図6は、本発明の転写物に偏光子を重ねて潜像が可視化された状態を示す平面図である。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating transfer of the transfer foil of the present invention. FIG. 2 is a schematic plan view for explaining the occurrence of chipping and burrs in the transfer of the transfer foil. FIG. 3 is a plan view showing an example of the transfer foil of the present invention. 4 is a cross-sectional view taken along the line III-III 'of FIG. FIG. 5 is a schematic plan view of a transfer product obtained by transferring the transfer foil of the present invention to a transfer sheet. FIG. 6 is a plan view showing a state in which a latent image is visualized by superimposing a polarizer on the transfer material of the present invention.
本発明の転写箔は、基材上に、少なくとも、分子配向層と接着層を順次積層してなり、
該分子配向層と接着層が該基材から剥離可能であることを特徴とする。
The transfer foil of the present invention is formed by sequentially laminating at least a molecular orientation layer and an adhesive layer on a substrate,
The molecular orientation layer and the adhesive layer are detachable from the substrate.
図4で示すように、本発明の一実施例としての転写箔40は、基材41上に、少なくとも、分子(液晶)配向層43と接着層47を順次積層してなり、さらに、前記分子配向層43と接着層47との間に回折構造形成層44をまた前記回折構造形成層44と接着層47との間に全面もしくはパターン状の反射層45を形成することもできる。ここで、本発明では、剥離保護層42を設けることが好ましい。 As shown in FIG. 4, a transfer foil 40 as an embodiment of the present invention is formed by sequentially laminating at least a molecular (liquid crystal) alignment layer 43 and an adhesive layer 47 on a base material 41, and further, the molecules A diffractive structure forming layer 44 may be formed between the alignment layer 43 and the adhesive layer 47, and an entire or patterned reflective layer 45 may be formed between the diffractive structure forming layer 44 and the adhesive layer 47. Here, in the present invention, it is preferable to provide the peeling protective layer 42.
本発明における基材41としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリプロピレン(PP)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリイミドなどからなるフィルムを用いることができる。剥離抵抗を調節するため、転写後、基材側に残る離型層を設けても良い。離型層に用いる材料は、メラミンやイソシアネートを硬化剤に用いた熱硬化性樹脂、アクリルレートやエポキシ樹脂を用いたUV・EB硬化性樹脂が一般的であり、離型剤としてフッ素系、シリコン系のモノマー、ポリマーが添加される。 As the base material 41 in the present invention, a film made of polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polypropylene (PP), polyethersulfone (PES), polyimide, or the like can be used. In order to adjust the peeling resistance, a release layer remaining on the substrate side after transfer may be provided. The material used for the release layer is generally a thermosetting resin using melamine or isocyanate as a curing agent, or a UV / EB curable resin using acrylate or epoxy resin, and fluorine or silicon as a release agent. System monomers and polymers are added.
本発明における剥離保護層42としては、上記基材もしくは離型層から安定に剥がれるとともに、転写後、最表面に位置する層となるため、使用目的に応じた表面保護性能が必要となる。剥離層に用いる材料は、アクリル、スチレン、硝化綿、酢酸セルロースなどの熱可塑性樹脂の他、UV硬化型アクリル、焼き付け型メラミン樹脂などの硬化系樹脂を用いることができる。これら性能を満たす樹脂をグラビアコータ、マイクログラビアコータ、ロールコータなどを用いて基材に設ける。上記樹脂にポリエチレンワックスやステアリン酸亜鉛などの滑剤を添加することにより、耐摩耗性が向上するため、添加してもよい。 The peeling protective layer 42 in the present invention is stably peeled off from the base material or the release layer and becomes a layer located on the outermost surface after transfer, and therefore requires surface protection performance according to the purpose of use. As the material used for the release layer, curable resins such as UV curable acrylic and baking melamine resin can be used in addition to thermoplastic resins such as acrylic, styrene, nitrified cotton, and cellulose acetate. A resin satisfying these performances is provided on the substrate using a gravure coater, a micro gravure coater, a roll coater or the like. Since the wear resistance is improved by adding a lubricant such as polyethylene wax or zinc stearate to the resin, it may be added.
本発明における分子配向層43は、全面を1方向に、もしくは領域毎に2方向以上に配向させた複屈折性層であり、偏光子を通さずに見た場合には透明な層にしか見えないが、偏光子を通して観察した場合、潜像を出現させる層である。 The molecular alignment layer 43 in the present invention is a birefringent layer in which the entire surface is aligned in one direction or in two or more directions for each region. When viewed without passing through a polarizer, it appears only as a transparent layer. It is a layer that causes a latent image to appear when observed through a polarizer.
上記の分子配向層を形成する材料としては、メソゲン基の両端にアクリレートを設けた光硬化型液晶モノマーを塗布する。電子線(EB)もしくは紫外線(UV)で硬化させた高分子液晶や、ポリマー主鎖にメソゲン基を提げた高分子液晶、分子主鎖自体が配向する液晶性高分子を用いることができる。これら液晶は、塗布後、NI点の少し下の温度で熱処理し、配向を促進することができる。 As a material for forming the molecular alignment layer, a photocurable liquid crystal monomer having acrylates at both ends of a mesogenic group is applied. A polymer liquid crystal cured by electron beam (EB) or ultraviolet light (UV), a polymer liquid crystal in which a mesogenic group is provided in the polymer main chain, or a liquid crystal polymer in which the molecular main chain itself is aligned can be used. These liquid crystals can be heat-treated at a temperature slightly below the NI point after coating to promote alignment.
液晶を1方向に配向させる方法としては、延伸フィルムの分子配向に沿わせる方法、光配向法、ラビング配向法などを用いることができる。 As a method for aligning the liquid crystal in one direction, a method for aligning the molecular alignment of the stretched film, a photo alignment method, a rubbing alignment method, or the like can be used.
光配向法とは、基板上の膜に偏光などの異方性を有する光を照射もしくは非偏光光を斜めから照射し、膜内の分子の再配列や異方的な化学反応を誘起する方法で、膜に異方性を与え、これによって液晶分子が配向することを利用したものである。光配向のメカニズムとしては、アゾベンゼン誘導体の光異性化、桂皮酸エステル、クマリン、カルコンやベンゾフェノンなどの誘導体の光二量化や架橋、ポリイミドなどの光分解などがある。 The photo alignment method is a method of inducing rearrangement of molecules in the film and anisotropic chemical reaction by irradiating the film on the substrate with anisotropic light such as polarized light or non-polarized light from an oblique direction. Thus, anisotropy is imparted to the film, thereby utilizing the orientation of liquid crystal molecules. Photoalignment mechanisms include photoisomerization of azobenzene derivatives, photodimerization and crosslinking of derivatives such as cinnamic acid ester, coumarin, chalcone and benzophenone, and photolysis of polyimide and the like.
また、ラビング法は、基板上にポリマー溶液を塗布して作製した配向膜を布で擦る方法で、擦った方向に配向膜表面の性質が変化し、この方向に液晶分子が並ぶという性質を利用したものである。配向膜には、ポリイミド、ポリビニルアルコール(PVA)などが用いられる。 The rubbing method is a method of rubbing an alignment film produced by applying a polymer solution on a substrate with a cloth. The property of the alignment film surface changes in the rubbing direction and liquid crystal molecules are aligned in this direction. It is a thing. For the alignment film, polyimide, polyvinyl alcohol (PVA), or the like is used.
液晶を領域毎に2方向以上に配向させた分子配向層は、2方向に液晶が配向するように形成した配向膜の上に、液晶をコーティングすることにより、作製可能である。2方向に
液晶が配向するように配向膜を形成するには、光配向法もしくはラビング配向法を用いることができる。
A molecular alignment layer in which liquid crystal is aligned in two or more directions for each region can be produced by coating liquid crystal on an alignment film formed so that the liquid crystal is aligned in two directions. In order to form the alignment film so that the liquid crystal is aligned in two directions, a photo alignment method or a rubbing alignment method can be used.
光配向法を用いる場合は、適当な波長帯域の偏光光もしくは斜めからの非偏光光によるフォトマスクを通したパターン露光の後、未露光部を処理するため方向を変えて露光することにより、2方向に液晶を配向させる配向膜を形成することができる。 When using the photo-alignment method, pattern exposure through a photomask with polarized light in an appropriate wavelength band or non-polarized light from an oblique direction, and exposure by changing the direction to process the unexposed area An alignment film that aligns the liquid crystal in the direction can be formed.
また、基材上に塗布した配向剤の全面を布でラビングし、部分的にマスクを掛け、再び方向を変えて布で擦った後、マスクを除去することにより、2方向に液晶を配向させる配向膜を形成することができる。 Also, the entire surface of the alignment agent applied on the substrate is rubbed with a cloth, partially masked, and the direction is changed again and rubbed with the cloth, and then the mask is removed to align the liquid crystal in two directions. An alignment film can be formed.
これら配向膜を形成する方法としては、グラビアコーティング法、マイクログラビアコーティング法など公知の手法を用いることができる。 As a method for forming these alignment films, a known method such as a gravure coating method or a micro gravure coating method can be used.
また、1方向もしくは2方向に配向した分子配向層は、光配向法やラビング法により、配向膜自身が配向性を持つものなども利用でき、作製方法は問わない。また、配向膜や分子配向層から剥離する場合には、剥離保護層を省略する。 As the molecular alignment layer aligned in one or two directions, an alignment film itself having an alignment property can be used by a photo-alignment method or a rubbing method, and a manufacturing method is not limited. Further, when peeling from the alignment film or the molecular alignment layer, the peeling protective layer is omitted.
複屈折性物質とは、透明な複屈折性を有する材質である。複屈折とは、物質の屈折率が光軸方向によってことなることで、複屈折を持つ物質に光を入射した時、異常光線e(屈折率:ne)と常光線o(屈折率:no)の間で位相差を生じる現象である。これら光軸の違いは、偏光フィルムを通さない目視で判別できない。 The birefringent material is a material having a transparent birefringence. Birefringence means that the refractive index of a substance varies depending on the optical axis direction. When light is incident on a substance having birefringence, extraordinary ray e (refractive index: ne) and ordinary ray o (refractive index: no). Is a phenomenon that causes a phase difference between the two. These optical axis differences cannot be discerned visually without passing through a polarizing film.
この異常光線と常光線の屈折率の差は、複屈折率Δnと呼ばれ、次の式で表される。 This difference in refractive index between extraordinary rays and ordinary rays is called birefringence Δn and is expressed by the following equation.
Δn=ne−no
また、位相差値δは、複屈折性物質を通過する層厚dに比例し、次の式で表される。
Δn = ne-no
Further, the phase difference value δ is proportional to the layer thickness d passing through the birefringent material and is expressed by the following equation.
δ=Δn・d
即ち、位相差値は、膜厚比例する。更に反射層を用いる場合は、反射前後で2回複屈折性物質を通るため、位相差値が2倍となる。
δ = Δn · d
That is, the phase difference value is proportional to the film thickness. Further, when a reflective layer is used, the phase difference value is doubled because the birefringent material passes twice before and after reflection.
位相差値が透過光の波長λの半分(λ/2)のとき、複屈折性物質の異常光軸と偏光光の偏光面がなす角度がθの時、偏光面を2θ回す性質を持つ。よって、θ=45°の時、偏光面が90°回転する。 When the phase difference value is half the wavelength λ of transmitted light (λ / 2), when the angle between the extraordinary optical axis of the birefringent material and the polarization plane of the polarized light is θ, the polarization plane has the property of rotating 2θ. Therefore, when θ = 45 °, the polarization plane rotates 90 °.
反射層の上にλ/4の位相差値を持つ位相差子を形成し、偏光フィルムを重ねた場合、偏光フィルムの透過光軸と位相差子の異常光軸がなす角度が45°の時、偏光フィルムを透過した光が、90°回転して偏光フィルムに戻ってくるとき、透過できないため、暗部となる。また、偏光フィルムの透過光軸と位相差子の異常光軸がなす角度が0°の時、偏光フィルムを透過した光が、そのまま戻ってくるため、偏光フィルムが透過できるため、明部となる。即ち、偏光フィルムを通した時、潜像が現れる。 When a retardation film having a retardation value of λ / 4 is formed on the reflective layer and a polarizing film is overlaid, when the angle formed between the transmission optical axis of the polarizing film and the abnormal optical axis of the retardation film is 45 ° When the light transmitted through the polarizing film rotates by 90 ° and returns to the polarizing film, it cannot be transmitted, and thus becomes a dark part. In addition, when the angle formed by the transmission optical axis of the polarizing film and the abnormal optical axis of the phase retarder is 0 °, the light transmitted through the polarizing film returns as it is, so that the polarizing film can be transmitted, so that a bright portion is obtained. . That is, a latent image appears when passing through a polarizing film.
回折構造形成層44を設ける場合は、分子配向層の上下どちらに設けても良い。回折構造形成層は、加熱した回折構造版を押し付けたとき、型取りしやすい材料であり、さらに、反射層加工時の熱や、転写時の熱圧で回折構造が崩れにくい材料で設ける。 When the diffractive structure forming layer 44 is provided, it may be provided either above or below the molecular alignment layer. The diffractive structure forming layer is a material that is easy to mold when a heated diffractive structure plate is pressed, and is further provided with a material that does not easily collapse the diffractive structure due to heat during processing of the reflective layer and heat pressure during transfer.
回折構造としては、ホログラムおよび回折格子を用いることができる。ホログラムは、光学的な撮影方法により微細な凹凸パターンからなるレリーフ型のマスター版を作製し、次に、このマスター版から電気メッキ法により凹凸パターンを複製したニッケル製のプレ
ス版を作製し、そして、このプレス版によりホログラムを形成する層上に加熱押圧するという方法により大量複製が行わる。
As the diffractive structure, a hologram and a diffraction grating can be used. The hologram is a relief type master plate made of a fine uneven pattern by an optical photographing method, and then a nickel press plate is produced by duplicating the uneven pattern from the master plate by an electroplating method, and Mass replication is performed by a method in which the press plate is heated and pressed onto a layer on which a hologram is formed.
このタイプのホログラムはレリーフ型ホログラムと称されている。また、回折格子を用いたものは、このような実際のものを撮影するホログラムとは異なり、微少なエリアに複数種類の単純な回折格子を配置して画素とし、グレーティングイメージ、ドットマトリックス(ピクセルグラム等)と呼ばれる画像を表現するものである。このような回折格子を用いた画像は、レリーフ型ホログラムと同様な方法で大量複製が行われる。 This type of hologram is called a relief hologram. In contrast to holograms that capture such actual objects, diffraction gratings are used by arranging multiple types of simple diffraction gratings in a small area as pixels, grating images, dot matrices (pixelgrams). Or the like). An image using such a diffraction grating is mass-replicated in the same manner as a relief hologram.
本発明の転写箔に、反射層を設けても良い。反射層は、潜像の反射層と、回折構造画像の反射層を兼ねてもよい。また、別々に設けてもよい。 A reflective layer may be provided on the transfer foil of the present invention. The reflection layer may also serve as a reflection layer for the latent image and a reflection layer for the diffraction structure image. Moreover, you may provide separately.
本発明における反射層45は、金属もしくは高屈折率セラミックスを用いることができる。金属としては、Al、Sn、Ag、Cr、Ni、Auなどの金属のほかにインコネル、青銅、アルミ青銅などの合金を用いることができる。また、セラミックスとしては、TiO2、ZnS、Fe2O3などの高屈折率材料をもちいることができる。これら材料を蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングなどを用いて10nmから100nm程度でコーティングする。これら反射層を形成する加工は、加工面に対して熱的な負荷をかける。よって、加工を施す表面は、耐熱性が求められるため、不適当な材料が最表面に来ているときには、マイクログラビアやダイレクトグラビア法などのウェットコーティングを用いて、表面を改質した後、前記反射層を設けることが望ましい。 The reflective layer 45 in the present invention can be made of metal or high refractive index ceramics. As the metal, in addition to metals such as Al, Sn, Ag, Cr, Ni, and Au, alloys such as Inconel, bronze, and aluminum bronze can be used. As the ceramic, it can be TiO 2, ZnS, a high refractive index material such as Fe 2 O 3 is used. These materials are coated with a thickness of about 10 nm to 100 nm using vapor deposition, sputtering, ion plating, or the like. In the processing for forming these reflective layers, a thermal load is applied to the processed surface. Therefore, since the surface to be processed is required to have heat resistance, when an inappropriate material is on the outermost surface, the surface is modified using a wet coating such as microgravure or direct gravure method, It is desirable to provide a reflective layer.
反射層をパターンで設ける場合、即ち、反射層のない部分(12)と反射層のある部分(13)により絵柄を形成するには、水洗シーライト加工、エッチング加工、レーザ加工などを用いることができる。 When the reflective layer is provided in a pattern, that is, in order to form a pattern by a portion (12) having no reflective layer and a portion (13) having a reflective layer, it is possible to use washing sea light processing, etching processing, laser processing, or the like. it can.
水洗シーライト加工は、基材上に水洗インキをあらかじめネガパターンで印刷しておき、反射層を全面に形成し、水洗インキを水で洗い流すと同時に反射層を取り除くことによりパターン状の金属薄膜を形成する方法である。 Washed sea light processing is a pre-printed negative ink pattern on the base material, forming a reflective layer on the entire surface, washing the washed ink with water and removing the reflective layer to remove the patterned metal thin film. It is a method of forming.
また、エッチング加工は、反射層を形成し、マスキング剤をポジパターンで印刷し、マスキングされていない部分を腐食液を用いて腐食することにより取り除くことによりパターン状の金属薄膜を形成する方法である。このエッチング法は、反射層を腐食するのに適当な腐食液がない場合には、用いることができない。 Etching is a method of forming a patterned metal thin film by forming a reflective layer, printing a masking agent in a positive pattern, and removing the unmasked portion by corroding with a corrosive liquid. . This etching method cannot be used when there is no appropriate corrosive solution for corroding the reflective layer.
また、レーザ加工は、基材上に反射層を形成し、部分的に強いレーザを当てて除去することによりパターン状の金属薄膜を形成する方法である。用いるレーザとしては、Nd:YAG、CO2ガスレーザが一般的である。 Laser processing is a method of forming a patterned metal thin film by forming a reflective layer on a substrate and partially removing it by applying a strong laser. As a laser to be used, a Nd: YAG, CO 2 gas laser is generally used.
また、本発明の転写箔には、偏光層をいずれかの層間に設けることができる。ここで記述する偏光層は、自然光から特定の偏光成分を分離する能力を持つ層であり、2色性染料を配向させた吸収軸方向の光を吸収し、透過軸方向の光を透過して偏光を分離する層、コレステリック液晶を配向させ、片側の円偏光を反射させ、もう一方を透過させることにより、偏光を分離する層である。 The transfer foil of the present invention can be provided with a polarizing layer between any of the layers. The polarizing layer described here is a layer having the ability to separate a specific polarization component from natural light, absorbs light in the absorption axis direction in which the dichroic dye is oriented, and transmits light in the transmission axis direction. A layer that separates polarized light, a layer that separates polarized light by aligning cholesteric liquid crystal, reflecting circularly polarized light on one side, and transmitting the other.
本発明における接着層47は、熱をかけたとき粘着性が現れる感熱接着剤を用いる。接着層は、これら性能を満たす樹脂をグラビアコータ、マイクログラビアコータ、ロールコータなどを用いて基材に設ける。用いることができる材質としては、アクリル、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、エポキシ、EVAなどの熱可塑性樹脂を用いることができる。また、接着層に着色することにより、セラミックスの反射層やパターンの反射層を用いた場合には、潜像および回折構造による画像による絵柄の視認性が向上することがある。 The adhesive layer 47 in the present invention uses a heat-sensitive adhesive that exhibits tackiness when heated. For the adhesive layer, a resin satisfying these performances is provided on the substrate using a gravure coater, a micro gravure coater, a roll coater or the like. As a material that can be used, thermoplastic resins such as acrylic, vinyl chloride vinyl acetate copolymer, epoxy, and EVA can be used. In addition, when the ceramic reflective layer or the patterned reflective layer is used by coloring the adhesive layer, the visibility of the pattern by the latent image and the image by the diffraction structure may be improved.
次に、本発明の転写箔の転写方法について説明する。転写方法は、アップダウン方式によるスポット転写もしくはロール転写方式によるストライプ転写方式により転写用紙に転写箔を転写する。転写用紙は、紙のほか、樹脂フィルム、金属板、ガラス板などシート状のものであれば特に問わず、用いることができる。なお、転写箔に反射層もしくは偏光層を設けない場合、被転写用紙側に反射層もしくは偏光層を設けることができる。 Next, the transfer method for the transfer foil of the present invention will be described. As a transfer method, the transfer foil is transferred onto a transfer sheet by spot transfer using an up-down method or stripe transfer using a roll transfer method. The transfer paper is not particularly limited as long as it is a sheet, such as a resin film, a metal plate, or a glass plate, in addition to paper. In addition, when a reflective layer or a polarizing layer is not provided on the transfer foil, a reflective layer or a polarizing layer can be provided on the transfer paper side.
本発明の転写箔を転写するには、アップダウン方式の転写機を用いる。アップダウン方式の転写機は、図1に示すように台座(12)の上に設置した被転写用紙(14)に、転写箔(13)を接着層側から重ね、加熱したホットスタンプ(11)により加圧することによりホットスタンプの形状に、接着層を軟化させ、被転写用紙(21)に接着させた後、被転写用紙に剥離、転写する。 In order to transfer the transfer foil of the present invention, an up-down type transfer machine is used. As shown in FIG. 1, the up-down type transfer machine has a hot stamp (11) in which a transfer foil (13) is superimposed on the transfer sheet (14) placed on a pedestal (12) from the adhesive layer side and heated. The adhesive layer is softened in the shape of a hot stamp by pressurizing with, and adhered to the transfer paper (21), and then peeled off and transferred to the transfer paper.
剥離は、箔の巻取り側である剥離開始側(24)から剥離し始めるが、この部分では、接着層により被転写用紙(14)に接着した部分を基点に、剥離層から接着層までを破断させる破断抵抗RS(15)と剥離層が基材から剥がれる際の剥離抵抗RR(16)の和が、同時にかかる。これが接着力FA(24)を上回ると欠けの原因となる。即ち、下記式[1]であれば、欠けなく転写できる。 Peeling begins to peel from the peeling start side (24), which is the winding side of the foil. In this part, the part from the peeling layer to the adhesive layer starts from the part adhered to the transfer paper (14) by the adhesive layer. The sum of the breaking resistance RS (15) to be broken and the peeling resistance RR (16) when the peeling layer is peeled off from the substrate is simultaneously applied. If this exceeds the adhesive force FA (24), it will cause chipping. That is, if it is the following formula [1], it can be transferred without any chipping.
RS<FA−RR・・・・・・[1]
また、剥離中央(25)では、接着力FAが剥離抵抗RRを上回れば安定に転写できる。即ち、下記式[2]であればよい。
RS <FA-RR ・ ・ ・ [1]
In the peeling center (25), the transfer can be stably performed if the adhesive force FA exceeds the peeling resistance RR. That is, the following formula [2] may be used.
FA>RR・・・・・・[2]
さらに、箔の巻き出し側である剥離終了側(25)では、破断抵抗RS(18)が剥離抵抗RR(19)より大きい場合には、ホットスタンプによる転写形状通りに箔が切れず、バリが発生する。即ち、下記式[3]であれば、バリ無く転写ができる。
FA> RR ... [2]
Further, on the peeling end side (25), which is the unwinding side of the foil, when the breaking resistance RS (18) is larger than the peeling resistance RR (19), the foil does not break according to the transfer shape by the hot stamp, and burrs are generated. Occur. That is, if the following formula [3] is used, transfer can be performed without burrs.
RS<RR・・・・・・[3]
分子配向性を持つ材料では、一般に配向方向の破断抵抗RPは、分子配向に直行する破断抵抗RCと比べると大きい。これは、配向方向は共有結合により強く結合しているのに対し、分子配向に直行する方向は、ファンデルワールス力により弱く結合しているためである。即ち、下記式[4]で表される。
RS <RR ・ ・ ・ [3]
In a material having molecular orientation, the breaking resistance RP in the orientation direction is generally larger than the breaking resistance RC perpendicular to the molecular orientation. This is because the orientation direction is strongly bonded by a covalent bond, whereas the direction perpendicular to the molecular orientation is weakly bonded by van der Waals force. That is, it is represented by the following formula [4].
RP>RC・・・・・・[4]
よって、剥離開始側(24)と剥離終了側(26)の破断抵抗RSは、剥離方向と分子配向方向が成す角度をθとした時、下記式[5]で表される。
RP> RC ... [4]
Therefore, the rupture resistance RS on the peeling start side (24) and the peeling end side (26) is expressed by the following formula [5], where θ is an angle formed between the peeling direction and the molecular orientation direction.
RS=RPSinθ+RCCosθ・・・・・・[5]
これら式[4]、式[5]から、θ=90°の時、欠けやバリが起こりにくく、剥離時にかかる抵抗も少なく、転写機内での被転写用紙の搬送不良、破れを防ぎ、転写箔の蛇行による位置暴れが改善される。θは、0に近づくほど前記の不具合を起こしやすくなる。よって、θは0°以外、45以上90°以下の範囲がより好ましく、90°が更に好ましい。
RS = RPSinθ + RCCosθ .. [5]
From these formulas [4] and [5], when θ = 90 °, chipping and burrs are unlikely to occur, resistance to peeling is small, transfer failure and tear of the transfer paper in the transfer machine are prevented, and transfer foil Improves position violence due to meandering. The closer to 0, the more likely the problem described above occurs. Therefore, θ is more preferably in the range of 45 to 90 ° other than 0 °, and more preferably 90 °.
転写方法が、ロール転写の場合でも同様に、転写箔の転写し始め、転写し終わりの部分で、それぞれ、欠け、バリが軽減でき、作業性を向上できる。 Similarly, when the transfer method is roll transfer, chipping and burrs can be reduced at the beginning and end of transfer of the transfer foil, respectively, and workability can be improved.
厚さが16μmのPETフィルム基材(41)上に、光配向剤IA−01(大日本インキ化学工業株式会社製)を0.1μmの厚さでマイクログラビアコーティング法を用いて、コーティングし剥離保護層兼光配向膜(42)として形成した。波長が365nmの直線偏光を用いて、偏光光の方向が剥離方向に垂直および垂直になるように、1J/cm2の照度で全面を露光した後、それぞれを偏光の方向を45°回してフォトマスクを通して1J/cm2パターン露光した。このフィルムにUVキュアラブル液晶UCL−008(大日本インキ化学工業株式会社製)を0.8μmの厚さでマイクログラビアコーティング法を用いて塗布し、熱風で1分間液晶を配向させ、窒素ガス雰囲気下で0.5mJの照度で硬化し、液晶配向層(43)を得た。 A PET film substrate (41) having a thickness of 16 μm is coated with a photo-alignment agent IA-01 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) at a thickness of 0.1 μm using a microgravure coating method and then peeled off. It formed as a protective layer and photo-alignment film (42). Using linearly polarized light having a wavelength of 365 nm, the entire surface is exposed with an illuminance of 1 J / cm 2 so that the direction of polarized light is perpendicular to and perpendicular to the peeling direction, and then the direction of polarized light is rotated by 45 ° for each photomask 1 J / cm 2 pattern was exposed. A UV curable liquid crystal UCL-008 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) was applied to this film with a thickness of 0.8 μm using a micro gravure coating method, and the liquid crystal was aligned with hot air for 1 minute, and in a nitrogen gas atmosphere Was cured at an illuminance of 0.5 mJ to obtain a liquid crystal alignment layer (43).
さらに、アクリルポリオールとイソシアネートからなる回折構造形成層(44)をマイクログラビアコーティング法で塗布し、回折構造を形成した版で加熱エンボスをかけて、回折構造画像(33)を形成した後、アルミニウムを50nmの厚さで蒸着し、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体からなるマスク層(46)をグラビア印刷で1μmの厚さで設けた。 Further, a diffraction structure forming layer (44) composed of acrylic polyol and isocyanate is applied by a microgravure coating method, and heated to emboss with a plate having a diffraction structure to form a diffraction structure image (33). Vapor deposition was performed with a thickness of 50 nm, and a mask layer (46) made of a vinyl chloride vinyl acetate copolymer was provided with a thickness of 1 μm by gravure printing.
続いて、50℃1.5重量%の苛性ソーダ水溶液中で、10秒間エッチングを行い、パターンの反射層(32、45)を形成し、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体よりなる接着層(47)を2μmの厚さでコーティングし、転写箔(30、40)を得た。 Subsequently, etching was performed in a caustic soda aqueous solution at 50 ° C. for 1.5 seconds to form a reflective layer (32, 45) of a pattern, and an adhesive layer (47) made of a vinyl chloride vinyl acetate copolymer was formed. Coating was performed with a thickness of 2 μm to obtain transfer foils (30, 40).
得られた転写箔をそれぞれ被転写用紙に転写機(ギーツ製)を用いて転写形状(31)のホットスタンプを用いて転写部分(51)を転写し、転写物(50)を得た。剥離方向に対して、垂直に配向させた転写箔は、欠け、バリなく転写できた。剥離方向に対して、平行に配向させた転写箔では、バリが発生した。また、剥離が重く、箔が蛇行し、転写位置が暴れた。転写物の転写部分に偏光子(63)を重ねると、液晶の配向に従った潜像がそれぞれ現れ、偏光子を回転させると45°毎に潜像のポジとネガが反転した。 The transfer portion (51) was transferred to the transfer paper obtained using a transfer stamp (manufactured by Gietz) using a transfer shape (31) hot stamp to obtain a transfer product (50). The transfer foil oriented perpendicular to the peeling direction could be transferred without chipping or burrs. In the transfer foil oriented parallel to the peeling direction, burrs occurred. Also, the peeling was heavy, the foil meandered, and the transfer position was out of order. When the polarizer (63) was placed on the transfer portion of the transferred material, latent images according to the orientation of the liquid crystal appeared, and when the polarizer was rotated, the positive and negative of the latent image were reversed every 45 °.
11 ホットスタンプ
12 台座
13、22、30 転写箔
14、21 被転写用紙
15、18 せん断抵抗
16、19 剥離抵抗
17 接着力
23、31 転写形状
24 剥離開始側
25 剥離中央
26 剥離終了側
32、45 反射層
33 回折構造画像
34 偏光潜像画像
41 基材
42 剥離保護層(光配向膜)
43 液晶配向層
44 回折構造形成層
46 マスク層
47 接着層
50、60 転写物
51 転写部分
52、62 被転写用紙
61 潜像画像
63 偏光子
RP 液晶配向方向の破断抵抗
RC 液晶配向と直行方向の破断抵抗
θ 液晶配向方向と剥離方向の成す角度
11 Hot stamp 12 Pedestal 13, 22, 30 Transfer foil 14, 21 Transfer paper 15, 18 Shear resistance 16, 19 Peel resistance 17 Adhesive force 23, 31 Transfer shape 24 Peel start side 25 Peel center 26 Peel end side 32, 45 Reflective layer 33 Diffraction structure image 34 Polarized latent image 41 Base material 42 Peeling protective layer (photo-alignment film)
43 Liquid crystal alignment layer 44 Diffraction structure forming layer 46 Mask layer 47 Adhesive layer 50, 60 Transfer product 51 Transfer part 52, 62 Transfer sheet 61 Latent image 63 Polarizer RP Breaking resistance RC of liquid crystal alignment direction RC Liquid crystal alignment and orthogonal direction Breaking resistance θ Angle formed by liquid crystal alignment direction and peeling direction
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