JP5218066B2 - フルオロエーテル系界面活性剤を用いた電極塗工用組成物 - Google Patents
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Description
Rf−(R)n−X
(式中、Rfはフルオロエーテル基、Rは2価の有機基、nは0または1、Xは官能基である)
で示されるフルオロエーテル化合物を含むことが好ましい。
Rf1−Rf2−Y-・Z+ (2)
(式中、Rf1はRf3−(d)−;Rf2は含フッ素アルキレン基;Y-・Z+はカルボン酸塩基、スルホン酸塩基、燐酸塩基またはカルボン酸のアンモニウム塩基であって、Rf3は含フッ素アルキル基であり、−(d)−はフルオロエーテル単位である)
で示されるフルオロエーテル化合物を含む界面活性剤、または
式(3):
[Rf4−Rf5−C(=O)]2−R1 (3)
(式中、Rf4はRf6−(d)−;Rf5は含フッ素アルキレン基;R1はオキシアルキレン基、Rf6は含フッ素アルキル基であり、−(d)−はフルオロエーテル単位である)
で示されるフルオロエーテル化合物を含む界面活性剤にも関する。
本発明の活物質層用塗工組成物は、電極活物質、結着剤およびフルオロエーテル単位を有する界面活性剤を含有する。
(d1):−(CF2CF2CF2O)−、
(d2−1):−(CF2CF2O)−、
(d2−2):−(CF(CF3)CF2O)−、
(d2−3):−(CF2CF(CF3)O)−、
(d3−1):−(CF2O)−、
(d3−2):−(CF(CF3)O)−、
(d4−1):−(CH2CF2CF2O)−、
(d4−2):−(CF2CF2CH2O)−
などがあげられる。
Rf−(R)n−X
(式中、Rfはフルオロエーテル基、Rは2価の有機基、nは0または1、Xは官能基である)
で示されるものが好ましい。
Rf1−Rf2−Y-・Z+ (2)
(式中、Rf1はRf3−(d)−;Rf2は含フッ素アルキレン基;Y-・Z+はカルボン酸塩基、スルホン酸塩基、燐酸塩基またはカルボン酸のアンモニウム塩基であって、Rf3は含フッ素アルキル基であり、−(d)−はフルオロエーテル単位である)
で示されるフルオロエーテル化合物を含む界面活性剤、または
式(3):
[Rf4−Rf5−C(=O)]2−R1 (3)
(式中、Rf4はRf6−(d)−;Rf5は含フッ素アルキレン基;R1はオキシアルキレン基、Rf6は含フッ素アルキル基であり、−(d)−はフルオロエーテル単位である)
で示されるフルオロエーテル化合物を含む界面活性剤は、活物質層用塗工組成物、特に非水電解液二次電池用の活物質層用塗工組成物に用いる界面活性剤としては、新規な界面活性剤である。
(d1):−(CF2CF2CF2O)−、
(d2−1):−(CF2CF2O)−、
(d2−2):−(CF(CF3)CF2O)−、
(d2−3):−(CF2CF(CF3)O)−、
(d3−1):−(CF2O)−、
(d3−2):−(CF(CF3)O)−、
(d4−1):−(CH2CF2CF2O)−または
(d4−2):−(CF2CF2CH2O)−
の少なくとも1種のみからなるフルオロエーテル単位であるフルオロエーテル化合物を含むことが、界面活性能が良好な点から好ましい。
Rf1a−(CF(CF3)C(=O))−O-・NH4+ (2A)
(式中、Rf1aはCF3−(CF2CF2O)−またはCF3−(CF2CF2O)−(CF(CF3)C(=O))m−;mは1または2)
で示される化合物が好ましい。
[Rf4a−(CF(CF3)C(=O))]2−R1a (3A)
(式中、Rf4aはCF3−(CF2CF2O)−またはCF3−(CF2CF2O)−(CF(CF3)C(=O))m−、mは1または2;R1aは−(CH2CH2O)p−、pは7または11)
で示される化合物が好ましい。
本発明の電極板は、電極活物質、結着剤およびフルオロエーテル単位を有する界面活性剤を含有する活物質層を備える。
以上のようにして本発明の電極板が得られ、この電極板を用いて非水電解液二次電池を作製することができる。
(1)NMR:BRUKER社製のAC−300を使用。
19F−NMR:
測定条件:282MHz(トリクロロフルオロメタン=0ppm)
1H−NMR:
測定条件:300MHz(テトラメチルシラン=0ppm)
(2)IR分析:Perkin Elmer社製フーリエ変換赤外分光光度計1760Xで室温にて測定する。
(3)フッ素含有率
酸素フラスコ燃焼法により試料10mgを燃焼し、分解ガスを脱イオン水20mlに吸収させ、吸収液中のフッ素イオン濃度をフッ素選択電極法(フッ素イオンメーター、オリオン社製 901型)で測定することにより求める(質量%)。
界面活性剤(1):
C3F7OCF(CF3)COO-・NH4 +
をつぎの方法で合成した。
C3F7OCF(CF3)COF
を100g(0.30mol)入れ、氷浴下にて10%KOH水溶液(1.1equiv、0.33mol)を滴下ロートを用いて少しずつ加えていった。滴下終了後、室温で1時間反応させた。その後、飽和食塩水、1N HCl水溶液で分液し、下層より、
C3F7OCF(CF3)COOH
を99g(0.29mol)得た(収率99%)。
IR:(KBr):1673cm-1
界面活性剤(2):
C3F7OCF(CF3)CF2OCF(CF3)COO-・NH4 +
をつぎの方法で合成した。
C3F7OCF(CF3)CF2OCF(CF3)COF
を100g(0.20mol)入れ、氷浴下にて10%KOH水溶液(1.1equiv、0.22mol)を滴下ロートを用いて少しずつ加えていった。滴下終了後、室温で1時間反応させた。飽和食塩水、1N HCl水溶液で分液し、下層より、
C3F7OCF(CF3)CF2OCF(CF3)COOH
を98g(0.198mol)得た(収率99%)。
IR:(KBr):1675cm-1
界面活性剤(3):
C3F7OCF(CF3)CF2OCF(CF3)CF2OCF(CF3)COO-・NH4 +
をつぎの方法で合成した。
C3F7OCF(CF3)CF2OCF(CF3)CF2OCF(CF3)COF
を100g(0.15mol)入れ、氷浴下にて10%KOH水溶液(1.1equiv、0.17mol)を滴下ロートを用いて少しずつ加えていった。滴下終了後、室温で1時間反応させた。飽和食塩水、1N HCl水溶液で分液し、下層より、
C3F7OCF(CF3)CF2OCF(CF3)CF2OCF(CF3)COOH
を99g(0.146mol)得た(収率99%)。
IR:(KBr):1674cm-1
C3F7OCF(CF3)COF
62gと、
HO(CH2CH2O)6CH2CH2OH
30gと、テトラヒドロフラン(THF)170mlを入れ攪拌した。その後反応溶液を氷浴下で冷却し、トリエチルアミン(Et3N)21gを滴下ロートを用いて発熱に注意しながら滴下を行った。滴下を行っていくと反応溶液が白濁していくことが確認できた。滴下後1時間撹拌を行った。反応後、反応溶液を純水により再沈を行い、有機相を採取し120℃で12時間真空乾燥を行った。得られた化合物を19F−NMR、1H−NMR分析により確認した。
1H−NMR:(neat): 1.65〜4.10ppm(5H)、4.10〜4.62ppm(2H)
IR:(KBr):1775cm-1
C3F7OCF(CF3)COF
33gと、
HO(CH2CH2O)10CH2CH2OH
30gと、THF110mlを入れ攪拌した。その後反応溶液を氷浴下で冷却し、Et3N11gを滴下ロートを用いて発熱に注意しながら滴下を行った。滴下を行っていくと反応溶液が白濁していくことが確認できた。滴下後1時間撹拌を行った。反応後、反応溶液を純水により再沈を行い、有機相を採取し120℃で12時間真空乾燥を行った。得られた化合物を19F−NMR、1H−NMR分析により確認した。
1H−NMR:(neat): 1.65〜4.10ppm(5H)、4.10〜4.62ppm(2H)
IR:(KBr):1775cm-1
C3F7O(CF(CF3)CF2O)2CF(CF3)COF
124gと、
HO(CH2CH2O)6CH2CH2OH
30gと、THF260mlを入れ攪拌した。その後反応溶液を氷浴下で冷却し、Et3N21gを滴下ロートを用いて発熱に注意しながら滴下を行った。滴下を行っていくと反応溶液が白濁していくことが確認できた。滴下後1時間撹拌を行った。反応後、反応溶液を純水により再沈を行い、有機相を採取し120℃で12時間真空乾燥を行った。得られた化合物を19F−NMR、1H−NMR分析により確認した。
1H−NMR:(neat): 1.65〜4.10ppm(5H)、4.10〜4.62ppm(2H)
IR:(KBr):1775cm-1
C3F7O(CF(CF3)CF2O)2CF(CF3)COF
125gと、
HO(CH2CH2O)10CH2CH2OH
9.3gと、THF60mlを入れ攪拌した。その後反応溶液を氷浴下で冷却し、Et3N21gを滴下ロートを用いて発熱に注意しながら滴下を行った。滴下を行っていくと反応溶液が白濁していくことが確認できた。滴下後1時間撹拌を行った。反応後、反応溶液を純水により再沈を行い、有機相を採取し120℃で12時間真空乾燥を行った。得られた化合物を19F−NMR、1H−NMR分析により確認した。
1H−NMR:(neat): 1.65〜4.10ppm(5H)、4.10〜4.62ppm(2H)
IR:(KBr):1775cm-1
界面活性剤(8):
CHF2(CF2)3COO-・NH4 +
をつぎの方法で合成した。
CHF2(CF2)3COF
を100g(0.40mol)入れ、氷浴下にて10%KOH水溶液(1.1equiv、0.44mol)を滴下ロートを用いて少しずつ加えていった。滴下終了後、室温で1時間反応させた。飽和食塩水、1N HCl水溶液で分液し、下層より、
CHF2(CF2)3COOH
を97g(0.392mol)得た(収率98%)。
IR:(KBr):1662cm-1
界面活性剤(9):
CF3(CF2)4COO-・NH4 +
をつぎの方法で合成した。
CF3(CF2)4COOH
を100g入れ、滴下ロートから28%アンモニア水23g(0.31mol、1.0equiv)を室温で滴下した。滴下終了後、1時間撹拌し、減圧乾燥させ、界面活性剤(9)を101g(0.306mol)得た(収率99%)。
IR:(KBr):1666cm-1
N−メチル−2−ピロリドン(NMP)に合成例1〜3、比較合成例1〜2の界面活性剤(界面活性剤(1)〜(3)、(8)〜(9))を添加し、その表面張力(mN/m)を測定した。表面張力は、NMPに合成例1〜3、比較合成例1〜2の界面活性剤を添加し、その表面張力を、以下の条件で、ウィルヘルミー法により測定した。結果を表1に示す。
液量:10ml
測定温度:25℃
測定回数:3回(採用した値は3回の平均値)
装置名:協和界面科学(株)製の「CBVP−A3」
酢酸エチルに合成例1〜3、比較合成例1〜2の界面活性剤(界面活性剤(1)〜(3)、(8)〜(9))を添加し、その表面張力(mN/m)を測定した。表面張力は、実施例1と同様に測定した。結果を表2に示す。
メチルイソブチルケトン(MIBK)に合成例1〜3、比較合成例1〜2の界面活性剤(界面活性剤(1)〜(3)、(8)〜(9))を添加し、その表面張力(mN/m)を測定した。表面張力は、実施例1と同様に測定した。結果を表3に示す。
NMPに合成例4〜7の界面活性剤(界面活性剤(4)〜(7))を添加し、その表面張力(mN/m)を測定した。表面張力は、実施例1と同様に測定した。結果を表4に示す。
コバルト酸リチウム250g、ポリフッ化ビニリデン66g、アセチレンブラック66g、NMP84gを追加したのち、不等速二軸攪拌機で混合した。さらに、界面活性剤として、合成例1、3、5、7、比較合成例1〜2の界面活性剤(界面活性剤(1)、(3)、(5)、(7)〜(9))を0.8g添加し、さらに攪拌を行うことによって、活物質層塗工組成物の調製を行った。バーコートにて、アルミニウム箔上に塗布し、塗布膜厚みの極大点と、厚みが安定した部分の塗布厚みをマイクロゲージで測定し、その差を塗布盛り上がり量と規定した。結果を表5に示す。
実施例5と同様に、合成例1、3、5、7のスラリーを調製し、粒ゲージで50μm以上の粒子が存在するかどうかを目視で確認した。なお、比較のために、界面活性剤を使用せずにスラリーを調製したものも評価した。結果を表5に示す。
(負極の作製)
人造黒鉛粉末(ティムカル社製、商品名KS−44)に、蒸留水で分散させたスチレン−ブタジエンゴムを固形分で6質量%となるように加え、ディスパーザーで混合してスラリー状としたものを負極集電体(厚さ18μmのアルミニウム箔)上に均一に塗布し、乾燥した。
実施例5と同様にして作製した。
エチレンカーボネート/ジエチルカーボネートを50/50体積%比で混合して、電解質塩溶解用溶媒を調製し、この電解質塩溶解用溶媒にLiPF6を1.0モル/リットルの濃度となるように加え、25℃にて充分に撹拌し、電解液を調製した。
正極および負極をそれぞれ50mm×100mmの長方形に切り取り、これらでポリエチレン製のセパレータ(セルガード(株)製、商品名セルガード3501、厚み25μm)を挟んで積層体とした。正極および負極に幅5mm、長さ150mmのアルミニウム箔をリード線として溶接したのち、この積層体を上記の電解液に浸漬し、ついで0.2MPaでプレスしたのち、ラミネータで密封してラミネートセルを作製した。
実施例7と同様に作製したラミネートセルについて、つぎの充放電測定条件で50サイクル後の放電容量を測定した。それぞれ10個のセルを作製し、その容量のばらつきで評価した。結果を表5に示す。
充放電電圧:2.5〜4.2V
充電:0.5C、4.2Vにて充電電流が1/10になるまで一定電圧を保持
放電:1C
実施例5で作製した正極板を圧縮線圧2t/cmの定圧圧縮装置で200m連続圧縮した際の箔切れ発生数を測定した。結果を表5に示す。
実施例7と同様にして負極スラリーを調製する際、界面活性剤として合成例1、3および5で合成したフルオロエーテル化合物を含む界面活性剤を黒鉛に対して0.5質量%加えてスラリーを調製し、実施例9と同様に箔切れ回数を調べたところ、合成例1、3および5で合成したフルオロエーテル化合物を含む界面活性剤のすべてにおいて、箔切れ回数はゼロであった。
Claims (5)
- 電極活物質、結着剤およびフルオロエーテル単位を有する界面活性剤を含有し、
前記界面活性剤が、式(2A):
Rf 1a −(CF(CF 3 )C(=O))−O − ・NH 4+ (2A)
(式中、Rf 1a はCF 3 −(CF 2 CF 2 O)−またはCF 3 −(CF 2 CF 2 O)−(CF(CF 3 )C(=O)) m −;mは1または2)
で示されるフルオロエーテル化合物を含む界面活性剤である活物質層用塗工組成物。 - 請求の範囲第1項記載の活物質層用塗工組成物から形成される活物質層を集電体上に備える電極板。
- 集電体上に、電極活物質、結着剤およびフルオロエーテル単位を有する界面活性剤を含有する活物質層を備え、
前記界面活性剤が、式(2A):
Rf 1a −(CF(CF 3 )C(=O))−O − ・NH 4+ (2A)
(式中、Rf 1a はCF 3 −(CF 2 CF 2 O)−またはCF 3 −(CF 2 CF 2 O)−(CF(CF 3 )C(=O)) m −;mは1または2)
で示されるフルオロエーテル化合物を含む界面活性剤である電極板。 - 請求の範囲第2項または第項3記載の電極板を備える非水電解液二次電池。
- 式(2A):
Rf 1a −(CF(CF 3 )C(=O))−O − ・NH 4+ (2A)
(式中、Rf 1a はCF 3 −(CF 2 CF 2 O)−またはCF 3 −(CF 2 CF 2 O)−(CF(CF 3 )C(=O)) m −;mは1または2)
で示されるフルオロエーテル化合物を含む界面活性剤。
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