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JP5206377B2 - Electronic component module - Google Patents

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JP5206377B2 JP2008310554A JP2008310554A JP5206377B2 JP 5206377 B2 JP5206377 B2 JP 5206377B2 JP 2008310554 A JP2008310554 A JP 2008310554A JP 2008310554 A JP2008310554 A JP 2008310554A JP 5206377 B2 JP5206377 B2 JP 5206377B2
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Description

本発明は電子部品モジュールに関し、詳しくは、弾性表面波デバイスや弾性境界波デバイスなどの弾性波デバイスを含む弾性波モジュールと他の電子部品とが共通基板に搭載され、トランスファーモールド樹脂で覆われた電子部品モジュールに関する。   The present invention relates to an electronic component module, and more specifically, an acoustic wave module including an acoustic wave device such as a surface acoustic wave device or a boundary acoustic wave device and another electronic component are mounted on a common substrate and covered with a transfer mold resin. The present invention relates to an electronic component module.

近年、モバイル機器向けの電子部品モジュールでは、小型・低背化が進んでいる。その中で、分波器(デュプレクサ)など電子部品モジュールに搭載されている弾性波デバイスは、弾性表面波や弾性境界波などの弾性波が伝搬する領域に隣接して振動空間を確保することが必要なため、電子部品モジュールの低背化のネックになってきた。   In recent years, electronic component modules for mobile devices have been reduced in size and height. Among them, an elastic wave device mounted on an electronic component module such as a duplexer can secure a vibration space adjacent to a region where an elastic wave such as a surface acoustic wave or a boundary acoustic wave propagates. Since it is necessary, it has become a bottleneck in reducing the height of electronic component modules.

例えば、図10の断面図に示す電子部品モジュールは、モジュール基板130の接続電極134上に、IC135、抵抗器136、インダクタ137、コンデンサ138、SAW(弾性表面波)デバイス139が実装され、樹脂層140で覆われ、封止されている。SAWデバイス139は、圧電基板131に形成されたIDT電極132の周囲の振動空間133を局所的に封止する構造体を有している。(例えば、特許文献1参照)。   For example, in the electronic component module shown in the sectional view of FIG. 10, an IC 135, a resistor 136, an inductor 137, a capacitor 138, and a SAW (surface acoustic wave) device 139 are mounted on the connection electrode 134 of the module substrate 130, and a resin layer 140 is covered and sealed. The SAW device 139 has a structure that locally seals the vibration space 133 around the IDT electrode 132 formed on the piezoelectric substrate 131. (For example, refer to Patent Document 1).

また、特許文献2には、送信フィルタと受信フィルタとを接続するセラミック基板内にインダクタ成分が形成された分波器が提案されている。
特開2002−217673号公報 特開平11−26623号公報
Patent Document 2 proposes a duplexer in which an inductor component is formed in a ceramic substrate that connects a transmission filter and a reception filter.
JP 2002-217673 A JP 11-26623 A

図10の構成において、SAWデバイス139の振動空間133を封止する構造体に樹脂を用い、樹脂層140をトランスファーモールド工程で一括形成する場合、振動空間133が潰れてしまわないように、構造体について、IDT電極132に対向する天板部分を厚くする、あるいは天板部分の周囲の支持層を高くするなどの対応が必要である。天板部分にセラミックなど無機材料を用いれば樹脂材料より薄くできるが、衝撃で割れやすいため、薄くするにしても限界がある。   In the configuration of FIG. 10, when resin is used for the structure that seals the vibration space 133 of the SAW device 139 and the resin layer 140 is collectively formed in the transfer molding process, the structure is arranged so that the vibration space 133 is not crushed. Therefore, it is necessary to take measures such as increasing the thickness of the top plate portion facing the IDT electrode 132 or increasing the support layer around the top plate portion. If an inorganic material such as ceramic is used for the top plate portion, it can be made thinner than a resin material, but it is easily broken by impact, so there is a limit even if it is made thin.

また、樹脂層140をトランスファーモールドするときの高圧力が、振動空開133を封止する構造体の天板部分に直接作用しないようにするため、構造体とモジュール基板との間の隙間にアンダーフィル樹脂を予め充填しておくことが有効である。しかし、これはコストアップ要因であるとともに、ボイドが発生しやすいため、信頼性面でも好ましくない。   Further, in order to prevent the high pressure when the resin layer 140 is transfer-molded from directly acting on the top plate portion of the structure that seals the vibration air opening 133, the gap between the structure and the module substrate may be It is effective to prefill with a fill resin. However, this is a cost increase factor, and voids are easily generated, which is not preferable in terms of reliability.

また、図10の構成では、モジュール基板上に弾性波デバイス139と平行にインダクタ137を配置しているため、小型化にも不利な構造である。   Further, in the configuration of FIG. 10, the inductor 137 is disposed on the module substrate in parallel with the acoustic wave device 139, which is disadvantageous for downsizing.

特許文献2に開示されたように、送信フィルタと受信フィルタを接続する基板内にインダクタ成分を取り込むと小型化には有利である。しかしながら、セラミック基板を用いているので、薄くすると割れが問題となるため、低背化には限界がある。   As disclosed in Patent Document 2, it is advantageous for downsizing to incorporate an inductor component into a substrate connecting a transmission filter and a reception filter. However, since a ceramic substrate is used, cracking becomes a problem when it is thinned, so there is a limit to reducing the height.

本発明は、かかる実情に鑑み、弾性波デバイスと他の電子部品とが同時にトランスファーモールドされた電子部品モジュールについて、小型化、低背化、高信頼性化が可能な電子部品モジュールを提供しようとするものである。   In view of such circumstances, the present invention intends to provide an electronic component module that can be reduced in size, reduced in height, and increased in reliability with respect to an electronic component module in which an elastic wave device and other electronic components are simultaneously transfer molded. To do.

本発明は、上記課題を解決するために、以下のように構成した電子部品モジュールを提供する。   In order to solve the above-described problems, the present invention provides an electronic component module configured as follows.

電子部品モジュールは、弾性波モジュールと、電子部品と、モジュール基板とを備える。前記弾性波モジュールは、(a)弾性波を励振する電極を含む弾性波素子が形成された圧電基板の主面に、前記弾性波素子の周囲を覆い振動空間を形成する構造体が配置された複数の弾性波デバイスと、(b)前記構造体が対向するように複数の前記弾性波デバイスが搭載された共通基板と、(c)前記共通基板上に配置され前記弾性波デバイスを覆う被覆樹脂とを有する。前記電子部品は、半導体デバイス、キャバシタンスデバイス、インダクタンスデバイスのうち少なくとも1つを含む。前記モジュール基板は、前記弾性波モジュール及び前記電子部品が搭載される。前記トランスファーモールド樹脂は、前記モジュール基板上に配置され前記弾性波モジュール及び前記電子部品を覆う。前記弾性波モジュールの前記被覆樹脂は、前記共通基板と前記弾性波デバイスの前記構造体との間に配置される。前記被覆樹脂のガラス転移温度は、前記トランスファーモールド樹脂のガラス転移温度より高い。   The electronic component module includes an elastic wave module, an electronic component, and a module substrate. In the acoustic wave module, (a) a structure that covers the periphery of the acoustic wave element and forms a vibration space is disposed on the main surface of the piezoelectric substrate on which the acoustic wave element including an electrode for exciting the acoustic wave is formed. A plurality of acoustic wave devices; (b) a common substrate on which the plurality of acoustic wave devices are mounted so that the structures face each other; and (c) a coating resin disposed on the common substrate and covering the acoustic wave devices. And have. The electronic component includes at least one of a semiconductor device, a capacitance device, and an inductance device. The module substrate is mounted with the elastic wave module and the electronic component. The transfer mold resin is disposed on the module substrate and covers the acoustic wave module and the electronic component. The coating resin of the acoustic wave module is disposed between the common substrate and the structure of the acoustic wave device. The glass transition temperature of the coating resin is higher than the glass transition temperature of the transfer mold resin.

樹脂の温度がガラス転移温度を超えると、樹脂は急激に軟化する。上記構成において、弾性波デバイスの構造体と共通基板との間に配置された被覆樹脂のガラス転移温度は、トランスファーモールド樹脂のガラス転移温度よりも高いため、トランスファーモールド樹脂を形成する際に、トランスファーモールド樹脂の温度が被覆樹脂のガラス転移温度を超えないようにして、被覆樹脂によって強度を確保することができる。   When the temperature of the resin exceeds the glass transition temperature, the resin softens rapidly. In the above configuration, since the glass transition temperature of the coating resin disposed between the structure of the acoustic wave device and the common substrate is higher than the glass transition temperature of the transfer mold resin, the transfer resin is formed when the transfer mold resin is formed. Strength can be ensured by the coating resin so that the temperature of the mold resin does not exceed the glass transition temperature of the coating resin.

そのため、弾性波デバイスの振動空間を形成する構造体について弾性波素子に対向する天板部分の厚みを薄くしても、また、弾性波デバイスが搭載された共通基板を薄くしても、トランスファーモールド樹脂を形成することができ、電子部品モジュールの低背化が可能である。   Therefore, even if the thickness of the top plate portion facing the acoustic wave element is reduced in the structure forming the vibration space of the acoustic wave device, or the common substrate on which the acoustic wave device is mounted is thinned, the transfer mold Resin can be formed, and the height of the electronic component module can be reduced.

また、被覆樹脂によってトランスファーモールド樹脂を形成する際の強度を確保することができるので、共通基板がインダクタを含む樹脂基板の場合、共通基板について、トランスファーモールド樹脂のガラス転移温度の制約に関係なく、低誘電率等のインダクタ形成に有利な物性の樹脂を選択できるので、インダクタの小型化が可能であり、ひいては電子部品モジュールの小型化が可能である。   In addition, since the strength when forming the transfer mold resin with the coating resin can be ensured, when the common substrate is a resin substrate including an inductor, the common substrate, regardless of the restriction of the glass transition temperature of the transfer mold resin, Since a resin having a physical property that is advantageous for forming an inductor such as a low dielectric constant can be selected, the inductor can be reduced in size, and the electronic component module can be reduced in size.

また、被覆樹脂によってトランスファーモールド樹脂を形成する際の強度を確保することができるので、弾性波デバイスの構造体が樹脂の場合、構造体について、トランスファーモールド樹脂のガラス転移温度の制約を受けずに、振動空間の封止に有利な低透湿性や低アウトガスといった物性をもった樹脂材料が選択できる。そのため、信頼性の良好な弾性波デバイスの形成が可能であり、ひいては電子部品モジュールの高信頼性化が可能である。   In addition, since the strength at the time of forming the transfer mold resin with the coating resin can be ensured, when the structure of the elastic wave device is a resin, the structure is not limited by the glass transition temperature of the transfer mold resin. A resin material having physical properties such as low moisture permeability and low outgas which is advantageous for sealing the vibration space can be selected. Therefore, it is possible to form an elastic wave device with good reliability, and as a result, it is possible to increase the reliability of the electronic component module.

さらに、弾性波モジュールは、半導体やキャパシタなどの空洞が不要な他の電子部品と同時にトランスファーモールドできるので、電子部品モジュールのモールドコストを低く抑えることができる。また、弾性波デバイスとモジュール基板との間にアンダーフィルを入れる場合と比較して、ボイドが発生しにくいため、電子部品モジュールの低コスト化と、高信頼性確保が可能である。   Furthermore, since the elastic wave module can be transfer-molded simultaneously with other electronic components that do not require cavities such as semiconductors and capacitors, the molding cost of the electronic component module can be kept low. In addition, since voids are less likely to occur compared to the case where an underfill is provided between the acoustic wave device and the module substrate, the cost of the electronic component module can be reduced and high reliability can be ensured.

本発明によれば、弾性波デバイスと他の電子部品とが同時にトランスファーモールドされた電子部品モジュールについて、小型化、低背化、高信頼性化が可能である。   According to the present invention, an electronic component module in which an acoustic wave device and other electronic components are simultaneously transfer molded can be reduced in size, reduced in height, and improved in reliability.

以下、本発明の実施の形態について、図1〜図7を参照しながら説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS.

<実施例1> 本発明の実施例1の電子部品モジュール50について、図1〜図7を参照しながら説明する。   <Example 1> The electronic component module 50 of Example 1 of this invention is demonstrated referring FIGS.

図1は、弾性波デバイス10の断面図である。図2〜図7は、電子部品モジュール50の作製工程を示す断面図である。   FIG. 1 is a cross-sectional view of the acoustic wave device 10. 2 to 7 are cross-sectional views showing a manufacturing process of the electronic component module 50.

図7に示すように、実施例1の電子部品モジュール50は、モジュール基板52上に、半導体デバイスである半導体デバイス42と、インダクタンスデバイスであるチップコイル44と、不図示のキャパシタンスデバイスと、弾性波モジュール40とが搭載され、トランスファーモールド樹脂46で全体が覆われ、封止されている。   As illustrated in FIG. 7, the electronic component module 50 according to the first embodiment includes a semiconductor device 42 that is a semiconductor device, a chip coil 44 that is an inductance device, a capacitance device (not illustrated), and an acoustic wave on a module substrate 52. The module 40 is mounted and is entirely covered and sealed with a transfer mold resin 46.

弾性波モジュール40は、図4に示すように、共通基板30に、送信用の弾性波デバイス10と受信用の弾性波デバイス10kとが搭載され、被覆樹脂32で覆われ、封止されている。   As shown in FIG. 4, the acoustic wave module 40 includes the transmission acoustic wave device 10 and the reception acoustic wave device 10 k mounted on the common substrate 30, covered with a coating resin 32, and sealed. .

弾性波デバイス10,10kは基本的な構成は同じである。すなわち、図1に示すように、圧電基板12の一方主面12bに、弾性波を励振するための櫛歯状電極であるIDT(Inter Digital Transducer)電極14とパッド電極15とを含む導電パターンが形成されている。IDT電極14は保護膜16で覆われている。IDT電極14を含む弾性波素子の周囲には、支持層20が形成されている。支持層20には、カバー層22が、支持層20により圧電基板12との間に間隔を設けて配置され、カバー層22は圧電基板12に沿って延在する。支持層20及びカバー層22は、IDT電極14を含む弾性波素子の周囲を覆い振動空間13を形成する構造体である。圧電基板12の一方主面12bのうち、振動空間13に隣接する部分において、弾性波が自由に伝搬するようになっている。   The basic configurations of the acoustic wave devices 10 and 10k are the same. That is, as shown in FIG. 1, a conductive pattern including an IDT (Inter Digital Transducer) electrode 14 and a pad electrode 15 that are comb-like electrodes for exciting an elastic wave is formed on one main surface 12 b of the piezoelectric substrate 12. Is formed. The IDT electrode 14 is covered with a protective film 16. A support layer 20 is formed around the acoustic wave element including the IDT electrode 14. A cover layer 22 is disposed on the support layer 20 with a space between the support layer 20 and the piezoelectric substrate 12, and the cover layer 22 extends along the piezoelectric substrate 12. The support layer 20 and the cover layer 22 are structures that cover the periphery of the acoustic wave element including the IDT electrode 14 and form the vibration space 13. An elastic wave freely propagates in a portion adjacent to the vibration space 13 on the one main surface 12b of the piezoelectric substrate 12.

支持層20及びカバー層22には、支持層20及びカバー層22を貫通するビアホール導体18が形成されている。ビアホール導体18の一端はパッド電極15に接続され、他端にはアンダーバンプメタル23が形成されている。アンダーバンプメタル23上には、弾性波デバイス10を搭載するためのはんだバンプ24が形成されている。   The support layer 20 and the cover layer 22 are formed with via-hole conductors 18 that penetrate the support layer 20 and the cover layer 22. One end of the via-hole conductor 18 is connected to the pad electrode 15, and an under bump metal 23 is formed at the other end. On the under bump metal 23, solder bumps 24 for mounting the acoustic wave device 10 are formed.

図4に示すように、弾性波デバイス10,10kは、振動空間13,13kが圧電基板12,12kと共通基板30との間に配置されるように、共通基板30に搭載され、被覆樹脂32により全体が覆われ、封止される。これによって、弾性波モジュール40が形成される。被覆樹脂32は、弾性波デバイス10,10kの構造体のカバー層22,22kと共通基板30との間にも配置されている。   As shown in FIG. 4, the acoustic wave devices 10 and 10 k are mounted on the common substrate 30 so that the vibration spaces 13 and 13 k are disposed between the piezoelectric substrates 12 and 12 k and the common substrate 30. The whole is covered and sealed. Thereby, the elastic wave module 40 is formed. The coating resin 32 is also disposed between the cover layers 22 and 22k of the structure of the acoustic wave devices 10 and 10k and the common substrate 30.

図7に示すように、弾性波モジュール40は、他の電子部品42,44とともにモジュール基板52に搭載され、全体がトランスファーモールド樹脂46で覆われ、封止される。   As shown in FIG. 7, the acoustic wave module 40 is mounted on a module substrate 52 together with other electronic components 42 and 44, and is entirely covered and sealed with a transfer mold resin 46.

次に、電子部品モジュール50の製造方法について、図1〜図7を参照しながら説明する。   Next, a method for manufacturing the electronic component module 50 will be described with reference to FIGS.

(1)まず、弾性波デバイス10,10kを作製する。   (1) First, the acoustic wave devices 10 and 10k are manufactured.

図1に示す送信用の弾性波デバイス10は、次のように作製する。すなわち、圧電基板12の一方主面12b上に、IDT電極14を含む弾性波素子のパターンと、パッド電極15と、IDT電極14とパッド電極15との間を接続する2層配線パターン(図示せず)とを形成する。圧電基板12には、タンタル酸リチウム(LiTaO)、ニオブ酸リチウム(LiNbO)、四ほう酸リチウム(Li)、水晶などを用いる。IDT電極14やパッド電極15の材料には、Al、Cu、Pt、Au、Ta、W、Ni、Tiのなどの金属や、それらの合金を用いる。2層配線パターンの材料には、Cu/Tiを用いる。 The transmitting acoustic wave device 10 shown in FIG. 1 is manufactured as follows. That is, on the one main surface 12 b of the piezoelectric substrate 12, a pattern of an acoustic wave element including the IDT electrode 14, a pad electrode 15, and a two-layer wiring pattern (not shown) connecting the IDT electrode 14 and the pad electrode 15. Z). For the piezoelectric substrate 12, lithium tantalate (LiTaO 3 ), lithium niobate (LiNbO 3 ), lithium tetraborate (Li 2 B 4 O 7 ), crystal, or the like is used. As materials for the IDT electrode 14 and the pad electrode 15, metals such as Al, Cu, Pt, Au, Ta, W, Ni, Ti, and alloys thereof are used. Cu / Ti is used as the material of the two-layer wiring pattern.

次いで、IDT電極14の保護膜16として、SiO膜(厚さ25nm)を形成する。SiO膜はパッド電極15上には形成しない。 Next, a SiO 2 film (thickness 25 nm) is formed as the protective film 16 of the IDT electrode 14. The SiO 2 film is not formed on the pad electrode 15.

次いで、IDT電極14の周囲の振動空間13を局所的に封止する構造体となる支持層20とカバー層22を形成する。支持層20は、感光性ポリイミド(厚さ10μm)を塗布し、パターニングする。このとき、パッド電極15が露出するようにパターニングし、支持層20にビアホール(貫通孔)を形成する。カバー層22は、ポリイミドの支持層20上に、シリカフィラー入りのエポキシ系樹脂フィルム(厚さ10μm)を貼り付けたる。   Next, a support layer 20 and a cover layer 22 that form a structure for locally sealing the vibration space 13 around the IDT electrode 14 are formed. The support layer 20 is coated with photosensitive polyimide (thickness 10 μm) and patterned. At this time, patterning is performed so that the pad electrode 15 is exposed, and a via hole (through hole) is formed in the support layer 20. The cover layer 22 is formed by attaching an epoxy resin film (thickness 10 μm) containing a silica filler on the polyimide support layer 20.

次いで、カバー層22のフィルムについて支持層20のビアホールに対応する箇所にレーザでビアホール(貫通孔)を形成し、支持層20及びカバー層22のビアホール内に電界メッキでCuを充填してビアホール導体18を形成する。   Next, a via hole (through hole) is formed with a laser at a position corresponding to the via hole of the support layer 20 in the cover layer 22 film, and Cu is filled in the via hole of the support layer 20 and the cover layer 22 by electroplating to form a via hole conductor. 18 is formed.

次いで、ビアホール導体18上に、アンダーバンプメタル23となるNiをメッキした後、Ni膜(厚さ0.3μm)上にはんだ濡れ確保膜であるAu(厚さ0.1μm)をメッキする。   Next, after plating Ni serving as the under bump metal 23 on the via-hole conductor 18, Au (thickness 0.1 μm) as a solder wetting ensuring film is plated on the Ni film (thickness 0.3 μm).

次いで、圧電基板12の他方主面12aを研削して、圧電基板12を厚さ90μmまで薄化する。   Next, the other main surface 12a of the piezoelectric substrate 12 is ground to reduce the thickness of the piezoelectric substrate 12 to 90 μm.

次いで、はんだペースト印刷を行い、リフローし、フラックス洗浄することで、はんだバンプ24を形成する。   Next, solder paste printing is performed, reflowed, and flux cleaning is performed to form solder bumps 24.

次いで、圧電基板12、支持層20、カバー層22をダイシングし、個片化することで、送信用の弾性波デバイス10を得る。   Next, the piezoelectric substrate 12, the support layer 20, and the cover layer 22 are diced into individual pieces, whereby the acoustic wave device 10 for transmission is obtained.

同様にして、受信用の弾性波デバイス10kを作製する。   Similarly, the acoustic wave device 10k for reception is manufactured.

(2)次に、弾性波デバイス10,10kを共通基板30に実装して、弾性波モジュール40を作製する。   (2) Next, the acoustic wave devices 10 and 10 k are mounted on the common substrate 30 to produce the acoustic wave module 40.

すなわち、図2に示すように、送信用の弾性波デバイス10と受信用の弾性波デバイス10kとを、それぞれはんだバンプ24,24kにフラックスを転写して、共通基板30にマウントし、リフローすることにより、実装する。実装後のはんだバンプ24,24kの高さは、20μmである。   That is, as shown in FIG. 2, the transmitting acoustic wave device 10 and the receiving acoustic wave device 10k are transferred to the solder bumps 24 and 24k, mounted on the common substrate 30, and reflowed. Implement by. The height of the solder bumps 24 and 24k after mounting is 20 μm.

共通基板30は、インダクタンス31を内蔵する樹脂基板である。共通基板30の樹脂材料としては、例えばポリフェニレンエーテル樹脂(PPE樹脂)や低誘電率BTレジンを用いるとよい。また、共通基板30は3層配線構造であり、インダクタンス31は樹脂のA層30aと樹脂のB層30bとの間に形成し、共通基板30の全体の厚さは60μmである。   The common substrate 30 is a resin substrate in which an inductance 31 is built. As a resin material of the common substrate 30, for example, polyphenylene ether resin (PPE resin) or low dielectric constant BT resin may be used. The common substrate 30 has a three-layer wiring structure, and the inductance 31 is formed between the resin A layer 30a and the resin B layer 30b, and the entire thickness of the common substrate 30 is 60 μm.

次いで、図4に示すように、共通基板30に搭載された弾性波デバイス10,10kを覆うように、被覆樹脂32を形成する。被覆樹脂32は、弾性波デバイス10,10kの振動空間13,13kを封止するカバー層22,22kと共通基板30との間にも形成する。   Next, as illustrated in FIG. 4, a coating resin 32 is formed so as to cover the acoustic wave devices 10 and 10 k mounted on the common substrate 30. The coating resin 32 is also formed between the cover layers 22 and 22k that seal the vibration spaces 13 and 13k of the acoustic wave devices 10 and 10k and the common substrate 30.

被覆樹脂32には、ガラス転移温度が、後述するトランスファーモールド樹脂46のガラス転移温度よりも高い樹脂、例えばガラス転移温度(Tg点)が395℃のポリイミド樹脂を用いる。被覆樹脂32は、高Tg−PPE樹脂(Tg点230℃)などでもよい。このとき、弾性波デバイス10,10kの裏面10s,10tを覆う被覆樹脂32は、厚さが1μm以下となるよう制御し、350℃に加熱して被覆樹脂32を硬化させる。   As the coating resin 32, a resin having a glass transition temperature higher than that of a transfer mold resin 46 described later, for example, a polyimide resin having a glass transition temperature (Tg point) of 395 ° C. is used. The coating resin 32 may be a high Tg-PPE resin (Tg point 230 ° C.) or the like. At this time, the coating resin 32 covering the back surfaces 10s and 10t of the acoustic wave devices 10 and 10k is controlled to have a thickness of 1 μm or less, and is heated to 350 ° C. to cure the coating resin 32.

弾性波デバイス10,10kの外側を取り囲む被覆樹脂32は、トランスファーモールド樹脂46の形成時の温度では軟化が起こらないため、弾性波デバイス10,10kの支持層20,20k、カバー層22,22k、共通基板30の樹脂層30a,30bのそれぞれを薄くすることが可能である。   Since the coating resin 32 surrounding the outside of the acoustic wave devices 10 and 10k does not soften at the temperature at which the transfer mold resin 46 is formed, the support layers 20 and 20k, the cover layers 22 and 22k of the acoustic wave devices 10 and 10k, Each of the resin layers 30a and 30b of the common substrate 30 can be thinned.

次いで、共通基板30と被覆樹脂32とをダイシングすることにより、図4に示す弾性波モジュール40を得る。   Subsequently, the elastic substrate 40 shown in FIG. 4 is obtained by dicing the common substrate 30 and the coating resin 32.

弾性波モジュール40の厚さは、インダクタンスを内蔵した状態で1+90+10+10+20+60=191μmと低背にできる。   The thickness of the elastic wave module 40 can be as low as 1 + 90 + 10 + 10 + 20 + 60 = 191 μm in a state where the inductance is incorporated.

(3)次に、弾性波モジュール40を含む電子部品モジュール50を作製する。   (3) Next, the electronic component module 50 including the elastic wave module 40 is manufactured.

すなわち、図5に示すように、モジュール基板52にはんだバンプ43,45,41を形成し、半導体デバイス42、キャパシタンスデバイス(図示せず)、インダクタデバイス44とともに弾性波モジュール40をマウントし、それらを一括でリフロー、フラックス洗浄することにより、モジュール基板52と各電子部品42,44,40との電気的接続を得る。   That is, as shown in FIG. 5, solder bumps 43, 45, 41 are formed on the module substrate 52, and the elastic wave module 40 is mounted together with the semiconductor device 42, the capacitance device (not shown), and the inductor device 44. The electrical connection between the module substrate 52 and each of the electronic components 42, 44, 40 is obtained by performing reflow and flux cleaning at once.

次いで、図6に示すように、各電子部品42,44,40を覆うトランスファーモールド樹脂46を形成する。このとき、トランスファーモールド樹脂46には、Tg点が180℃のエポキシ系樹脂を用い、トランスファーモールド樹脂46のTg点より若干高い190℃の温度条件でトランスファーモールドを行う。樹脂はTg点を境に大幅に軟化するため、トランスファーモールドの温度条件は、一般的にトランスファーモールドに用いる樹脂のTg点よりも若干高い温度に設定する。   Next, as shown in FIG. 6, a transfer mold resin 46 that covers the electronic components 42, 44, 40 is formed. At this time, an epoxy resin having a Tg point of 180 ° C. is used as the transfer mold resin 46, and transfer molding is performed under a temperature condition of 190 ° C. slightly higher than the Tg point of the transfer mold resin 46. Since the resin is significantly softened at the boundary of the Tg point, the temperature condition of the transfer mold is generally set to a temperature slightly higher than the Tg point of the resin used for the transfer mold.

次いで、モジュール基板52及びトランスファーモールド樹脂46をブレード60を用いてダイシングし、分割することで、図7に示す電子部品モジュール50を得る。   Next, the module substrate 52 and the transfer mold resin 46 are diced using a blade 60 and divided to obtain the electronic component module 50 shown in FIG.

以上の工程で作製される電子部品モジュール50は、低背化が可能である。   The electronic component module 50 manufactured through the above steps can be reduced in height.

すなわち、トランスファーモールド樹脂46と被覆樹脂32は、トランスファーモールド樹脂46のガラス転移温度が弾性波モジュール40の被覆樹脂32のガラス転移温度より低くなるように、材料が選択される。そして、トランスファーモールド樹脂46を形成する際に、トランスファーモールド樹脂46の温度が被覆樹脂32のガラス転移温度を超えないようにする。被覆樹脂32の温度がガラス転移温度を超えると、被覆樹脂32は急激に軟化して強度、剛性が低下するが、トランスファーモールド樹脂46を形成する際に被覆樹脂32はガラス転移温度を超えないため、被覆樹脂32は軟化せず、被覆樹脂32によって強度、剛性を確保することができる。そのため、弾性波デバイス10の構造体であるカバー層22を薄くしたり、支持層20を薄くしたり、共通基板30を薄くしたりしても、トランスファーモールド樹脂46を形成することができる。よって、電子部品モジュール50の低背化が可能である。   That is, the materials of the transfer mold resin 46 and the coating resin 32 are selected so that the glass transition temperature of the transfer mold resin 46 is lower than the glass transition temperature of the coating resin 32 of the acoustic wave module 40. Then, when forming the transfer mold resin 46, the temperature of the transfer mold resin 46 does not exceed the glass transition temperature of the coating resin 32. When the temperature of the coating resin 32 exceeds the glass transition temperature, the coating resin 32 rapidly softens and the strength and rigidity decrease, but the coating resin 32 does not exceed the glass transition temperature when the transfer mold resin 46 is formed. The coating resin 32 does not soften, and the coating resin 32 can ensure strength and rigidity. Therefore, the transfer mold resin 46 can be formed even if the cover layer 22 that is the structure of the acoustic wave device 10 is thinned, the support layer 20 is thinned, or the common substrate 30 is thinned. Therefore, the electronic component module 50 can be reduced in height.

また、図8に示す比較例1の電子部品モジュール50sのように、弾性波モジュール40sの共通基板30sにセラミックを用いる場合には、セラミックを薄くすると割れが問題となるため、電子部品モジュール50sの低背化には限界がある。これに対して、実施例1の電子部品モジュール50においては、弾性波モジュール40の共通基板30を薄くすることができ、比較例1よりも低背化が可能である。   Further, when ceramic is used for the common substrate 30s of the acoustic wave module 40s as in the electronic component module 50s of the comparative example 1 shown in FIG. 8, if the ceramic is thinned, cracking becomes a problem. There is a limit to low profile. On the other hand, in the electronic component module 50 of the first embodiment, the common substrate 30 of the elastic wave module 40 can be made thinner, and the height can be reduced as compared with the first comparative example.

また、トランスファーモールド樹脂46を形成する際に被覆樹脂32によって強度、剛性を確保することができるので、共通基板30について、トランスファーモールド樹脂46のガラス転移温度の制約に関係なく、インダクタンス31の形成に有利な低誘電率等の物性の樹脂を選択できるので、インダクタンス31の小型化が可能であり、ひいては電子部品モジュール50の小型化が可能である。   In addition, since the strength and rigidity can be ensured by the coating resin 32 when forming the transfer mold resin 46, the inductance 31 can be formed on the common substrate 30 regardless of restrictions on the glass transition temperature of the transfer mold resin 46. Since an advantageous resin having a low dielectric constant or the like can be selected, the inductance 31 can be reduced in size, and the electronic component module 50 can be reduced in size.

また、トランスファーモールド樹脂46を形成する際に、弾性波デバイス10,10kは被覆樹脂32によって強度、剛性を確保することができるので、弾性波デバイス10,10kの構造体を形成する支持層20,20kやカバー層22,22kには、トランスファーモールド樹脂のガラス転移温度の制約を受けずに、振動空間13,13kの封止に有利な低透湿性や低アウトガスといった物性をもった樹脂材料を選択できる。そのため、信頼性の良好な弾性波デバイス10,10kの形成が可能であり、ひいては電子部品モジュール50の高信頼性化が可能である。   Further, since the elastic wave devices 10 and 10k can ensure strength and rigidity by the coating resin 32 when forming the transfer mold resin 46, the support layer 20 that forms the structure of the elastic wave devices 10 and 10k, For 20k and cover layers 22 and 22k, resin materials with low physical properties such as low moisture permeability and low outgas, which are advantageous for sealing the vibration spaces 13 and 13k, are selected without being restricted by the glass transition temperature of the transfer mold resin. it can. Therefore, it is possible to form the acoustic wave devices 10 and 10k having good reliability, and as a result, the electronic component module 50 can be highly reliable.

さらに、弾性波モジュール40は、半導体デバイス42やチップコイル44などの空洞が不要な他の電子部品と同時にトランスファーモールドできるので、電子部品モジュール50のモールドコストを低く抑えることができる。   Furthermore, since the elastic wave module 40 can be transfer-molded simultaneously with other electronic components that do not require a cavity such as the semiconductor device 42 and the chip coil 44, the molding cost of the electronic component module 50 can be kept low.

また、電子部品モジュール50は、図8の断面図に示す比較例2の電子部品モジュール50tのように弾性波モジュール40tとモジュール基板52tとの間にアンダーフィル樹脂48を配置する場合と比べると、ボイドが発生しにくいため、電子部品モジュール50の低コスト化と、高信頼性確保が可能である。   Further, the electronic component module 50 is compared with the case where the underfill resin 48 is disposed between the elastic wave module 40t and the module substrate 52t as in the electronic component module 50t of the comparative example 2 shown in the cross-sectional view of FIG. Since voids are unlikely to occur, the cost of the electronic component module 50 and high reliability can be ensured.

<まとめ> 弾性波が伝搬する領域に隣接する振動空間を局所的に封止する樹脂系の構造体を持った弾性波デバイスを、インダクタ成分を内蔵する樹脂系基板の共通基板に実装し、振動空間を封止する構造体とインダクタ成分を内蔵する共通基板との間に、トランスファーモールド樹脂よりもTg点(ガラス転移点)の高い材料を配置することによって、小型・低背・高信頼性で、かつ半導体部品など空洞が不要な他の電子部品と同時にトランスファーモールドできる弾性波デバイスを内蔵した電子部品モジュールを作製できる。   <Summary> An acoustic wave device with a resin-based structure that locally seals the vibration space adjacent to the region where the acoustic wave propagates is mounted on a common substrate of the resin-based substrate that contains the inductor component, and vibration is generated. By placing a material with a Tg point (glass transition point) higher than that of transfer mold resin between the structure that seals the space and the common substrate that contains the inductor component, it is small, low-profile, and highly reliable. In addition, an electronic component module incorporating an acoustic wave device that can be transfer-molded simultaneously with other electronic components that do not require cavities such as semiconductor components can be manufactured.

なお、本発明は、上記実施の形態に限定されるものではなく、種々変更を加えて実施することが可能である。   The present invention is not limited to the above embodiment, and can be implemented with various modifications.

弾性波デバイスの断面図である。(実施例1)It is sectional drawing of an elastic wave device. Example 1 電子部品の製造工程を示す断面図である。(実施例1)It is sectional drawing which shows the manufacturing process of an electronic component. Example 1 電子部品の製造工程を示す断面図である。(実施例1)It is sectional drawing which shows the manufacturing process of an electronic component. Example 1 電子部品の製造工程を示す断面図である。(実施例1)It is sectional drawing which shows the manufacturing process of an electronic component. Example 1 電子部品の製造工程を示す断面図である。(実施例1)It is sectional drawing which shows the manufacturing process of an electronic component. Example 1 電子部品の製造工程を示す断面図である。(実施例1)It is sectional drawing which shows the manufacturing process of an electronic component. Example 1 電子部品の製造工程を示す断面図である。(実施例1)It is sectional drawing which shows the manufacturing process of an electronic component. Example 1 電子部品の断面図である。(比較例1)It is sectional drawing of an electronic component. (Comparative Example 1) 電子部品の断面図である。(比較例2)It is sectional drawing of an electronic component. (Comparative Example 2) 電子部品の断面図である。(従来例)It is sectional drawing of an electronic component. (Conventional example)

符号の説明Explanation of symbols

10,10k 弾性波デバイス
12,12k 圧電基板
13,13k 振動空間
14 弾性波励振電極(IDT電極)
18 ビアホール導体
20,20k 支持層(構造体)
22,22k カバー層(構造体)
30 共通基板
32 被覆樹脂
40 弾性波モジュール
42 半導体デバイス(半導体デバイス)
44 チップコイル(インダクタンスデバイス)
46 トランスファーモールド樹脂
50 電子部品モジュール
52 モジュール基板
10, 10k elastic wave device 12, 12k piezoelectric substrate 13, 13k vibration space 14 elastic wave excitation electrode (IDT electrode)
18 Via-hole conductor 20, 20k Support layer (structure)
22,22k Cover layer (structure)
30 Common substrate 32 Coating resin 40 Elastic wave module 42 Semiconductor device (semiconductor device)
44 Chip coil (inductance device)
46 Transfer mold resin 50 Electronic component module 52 Module substrate

Claims (1)

弾性波を励振する電極を含む弾性波素子が形成された圧電基板の主面に、前記弾性波素子の周囲を覆い振動空間を形成する構造体が配置された複数の弾性波デバイスと、前記構造体が対向するように複数の前記弾性波デバイスが搭載された共通基板と、前記共通基板上に配置され前記弾性波デバイスを覆う被覆樹脂とを有する弾性波モジュールと、
半導体デバイス、キャバシタンスデバイス、インダクタンスデバイスのうち少なくとも1つを含む電子部品と、
前記弾性波モジュール及び前記電子部品が搭載されたモジュール基板と、
前記モジュール基板上に配置され前記弾性波モジュール及び前記電子部品を覆うトランスファーモールド樹脂と、
を備え、
前記弾性波モジュールの前記被覆樹脂は、前記共通基板と前記弾性波デバイスの前記構造体との間に配置され、
前記被覆樹脂のガラス転移温度は、前記トランスファーモールド樹脂のガラス転移温度より高いことを特徴とする電子部品モジュール。
A plurality of acoustic wave devices in which a structure that covers a periphery of the acoustic wave element and forms a vibration space is disposed on a principal surface of a piezoelectric substrate on which an acoustic wave element including an electrode for exciting an acoustic wave is formed, and the structure An acoustic wave module having a common substrate on which a plurality of the acoustic wave devices are mounted so that their bodies face each other, and a coating resin disposed on the common substrate and covering the acoustic wave device;
An electronic component including at least one of a semiconductor device, a capacitance device, and an inductance device;
A module substrate on which the acoustic wave module and the electronic component are mounted;
A transfer mold resin disposed on the module substrate and covering the acoustic wave module and the electronic component;
With
The coating resin of the acoustic wave module is disposed between the common substrate and the structure of the acoustic wave device,
The electronic component module, wherein the glass transition temperature of the coating resin is higher than the glass transition temperature of the transfer mold resin.
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