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JP5183320B2 - Manufacturing method of glass substrate of cover glass for portable device - Google Patents

Manufacturing method of glass substrate of cover glass for portable device Download PDF

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JP5183320B2 JP2008168213A JP2008168213A JP5183320B2 JP 5183320 B2 JP5183320 B2 JP 5183320B2 JP 2008168213 A JP2008168213 A JP 2008168213A JP 2008168213 A JP2008168213 A JP 2008168213A JP 5183320 B2 JP5183320 B2 JP 5183320B2
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  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Description

本発明は、例えば携帯電話、PDA(Personal Digital Assistant)などの携帯端末装置やディジタルスチルカメラ(DSC)の保護に用いられるカバーガラスや、携帯機器の本体に用いられるガラス基材の製造方法に関する。   The present invention relates to a cover glass used for protection of portable terminal devices such as a mobile phone and PDA (Personal Digital Assistant) and a digital still camera (DSC), and a method for producing a glass substrate used for a main body of a portable device.

携帯電話、PDAなどの携帯端末装置やDSCの薄型化、高品質化を背景に、ディスプレイカバー及びボディのカバーとしてガラスが使用されている。従来のプラスチック(ポリカーボネートやアクリル樹脂)に比較して硬度に優れるガラスは、傷が付き難くいといった利点がある。近年、携帯端末装置や携帯機器の薄型化に伴い、撓みを抑えつつ、しかも薄板であっても強度のある化学強化ガラスを使った保護板が提案されている(例えば、特許文献1)。
特開2007−99557号公報
Glass is used as a display cover and body cover against the backdrop of thinning and high quality of portable terminal devices such as mobile phones and PDAs and DSCs. Glass superior in hardness compared to conventional plastics (polycarbonate and acrylic resin) has the advantage that it is not easily scratched. 2. Description of the Related Art In recent years, a protective plate using chemically strengthened glass that is strong even if it is a thin plate has been proposed with a reduction in thickness of portable terminal devices and portable devices (for example, Patent Document 1).
JP 2007-99557 A

特許文献1に記載された従来の加工方法では、ガラス端面の表面粗さが粗く、ガラス端面の面取り加工した面に数十μm〜数百μm程度のマイクロクラックが存在することによって、ガラス基材に求められる機械的強度が得られないという問題がある。   In the conventional processing method described in Patent Document 1, the glass end surface is rough, and the glass end surface is chamfered so that micro cracks of about several tens to several hundreds of μm exist on the glass substrate. However, there is a problem that the mechanical strength required for the above cannot be obtained.

この問題を解決するために、本出願人は、先行出願(特願2007−325542号)において、ガラス基板上に所望形状のレジストパターンを形成し、そのレジストパターンをマスクにしてガラス基板をエッチングすることにより、所望形状のガラス基板を得ることを提供している。   In order to solve this problem, in the prior application (Japanese Patent Application No. 2007-325542), the present applicant forms a resist pattern of a desired shape on a glass substrate, and etches the glass substrate using the resist pattern as a mask. Thus, it is provided to obtain a glass substrate having a desired shape.

しかしながら、一般的なフォトリソグラフィを応用したプロセスでは、寸法精度や機械的強度に優れた基板が得られる半面、製造工程は複雑であり、その条件設定など多様な制約を受ける。また、感光性樹脂など高価な薬品も使用することから高コストなプロセスになってしまう。   However, in a process using general photolithography, a substrate excellent in dimensional accuracy and mechanical strength can be obtained. On the other hand, the manufacturing process is complicated and is subject to various restrictions such as setting conditions. Further, since expensive chemicals such as photosensitive resin are used, the process becomes expensive.

本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、製造工程が簡単であり、寸法精度や機械的強度に優れたガラス基材を得ることができる携帯機器用カバーガラスのガラス基材の製造方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above points, and has a simple manufacturing process, and a method for manufacturing a glass substrate of a cover glass for portable equipment capable of obtaining a glass substrate excellent in dimensional accuracy and mechanical strength. The purpose is to provide.

本発明の携帯機器用カバーガラスのガラス基材の製造方法は、板状のガラス基板の一方及び他方の主表面上に、メッシュスクリーン印刷法又はメタルスクリーン印刷法により、前記ガラス基板のエッチャントに対してエッチング耐性を有する樹脂パターンを形成する工程と、前記樹脂パターンをマスクとして、前記ガラス基板のエッチングが可能なエッチャントで前記ガラス基板を前記一方及び他方の主表面のそれぞれからエッチングすることにより所望の形状に切り抜く工程と、前記ガラス基板上に形成された前記樹脂パターンを除去する工程と、前記ガラス基板上に形成された前記樹脂パターンを除去した後、該ガラス基板をイオン交換処理により化学強化処理する工程と、を有し、前記樹脂パターンは、フッ酸を含む溶媒に対して耐性を有し、かつ、アルカリ性溶媒に対して溶解可能なフェノール系樹脂、不飽和ポリエステル樹脂及びジアリルフタレート樹脂からなる群より選ばれた材料で構成されたことを特徴とする。 The manufacturing method of the glass substrate of the cover glass for portable devices of the present invention is applied to the etchant of the glass substrate by mesh screen printing method or metal screen printing method on one and other main surfaces of the plate-like glass substrate. Forming a resin pattern having etching resistance, and etching the glass substrate from each of the one and the other main surfaces with an etchant capable of etching the glass substrate using the resin pattern as a mask. A step of cutting into a shape; a step of removing the resin pattern formed on the glass substrate; and a step of removing the resin pattern formed on the glass substrate, and then chemically strengthening the glass substrate by ion exchange treatment. It includes a step of, wherein the resin pattern is resistant to solvents containing hydrofluoric acid A, and, characterized in that it consists of a material selected from the group consisting of soluble phenolic resin, unsaturated polyester resin and diallyl phthalate resin in an alkaline solvent.

この方法によれば、マスク形成にフォトリソグラフィを用いずに印刷法を用いているので、製造工程が簡単であり、寸法精度や機械的強度に優れたガラス基材を得ることができる。また、ガラス基材の主表面や端面に圧縮応力層が形成されるので、さらに機械的強度を高めることができる。 According to this method, since the printing method is used for forming the mask without using photolithography, the manufacturing process is simple, and a glass substrate excellent in dimensional accuracy and mechanical strength can be obtained. Moreover, since the compressive stress layer is formed on the main surface and end face of the glass substrate, the mechanical strength can be further increased.

本発明の携帯機器用カバーガラスのガラス基材の製造方法においては、前記ガラス基板は、SiO、Al、LiO及びNaOからなる群から選ばれた少なくとも一つを含有したアルミノシリケートガラスであることが好ましい。この方法によれば、板状のガラス基板をダウンドロー法(フュージョン法)により成形することが可能となるので、ガラス基板の主表面をキズがなく、ナノメートルオーダーの極めて高い平滑性を有する熔解ガラス面とすることができる。したがって、ガラス基材の作製時に主表面の鏡面研磨加工が不要となり、主表面においてもマイクロクラックのないガラス基材が得られ、機械的強度が優れたガラス基材となる。
In the manufacturing method of the glass substrate of the cover glass for portable devices of the present invention, the glass substrate contains at least one selected from the group consisting of SiO 2 , Al 2 O 3 , Li 2 O and Na 2 O. Aluminosilicate glass is preferred. According to this method , a plate-like glass substrate can be formed by the downdraw method (fusion method), so that the main surface of the glass substrate is not scratched and has a very high smoothness on the nanometer order. It can be a glass surface. Therefore, the mirror surface polishing process of the main surface is not required at the time of producing the glass substrate, and a glass substrate free from microcracks is obtained even on the main surface, resulting in a glass substrate having excellent mechanical strength.

本発明の携帯機器用カバーガラスのガラス基材の製造方法によれば、製造工程が簡単であり、寸法精度や機械的強度に優れた携帯機器用カバーガラスのガラス基材を得ることができる。 According to the manufacturing method of a glass substrate of a cover glass for portable devices of the present invention, the manufacturing process is simple, it is possible to obtain a glass substrate of a cover glass for portable devices with excellent dimensional accuracy and mechanical strength.

以下、本発明の実施の形態について添付図面を参照して詳細に説明する。
本発明の実施の形態に係るガラス基材は、板状のガラス基板の主表面上に、印刷法により、前記ガラス基板のエッチャントに対してエッチング耐性を有する樹脂パターンを形成し、前記樹脂パターンをマスクとして、前記ガラス基板のエッチングが可能なエッチャントで前記ガラス基板をエッチングにより所望の形状に切り抜き、前記ガラス基板上に形成された前記樹脂パターンを除去することにより得られる。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
A glass substrate according to an embodiment of the present invention forms a resin pattern having etching resistance against an etchant of the glass substrate on a main surface of a plate-like glass substrate by a printing method, and the resin pattern The mask is obtained by etching the glass substrate into a desired shape by etching with an etchant capable of etching the glass substrate and removing the resin pattern formed on the glass substrate.

本発明において、ガラス基板のエッチャントに対してエッチング耐性を有する樹脂パターンをガラス基板の主表面上に形成する際に印刷法を用いる。この樹脂パターンの膜厚は、ガラス基板のエッチャントに対して十分なエッチャント耐性を有する膜厚であれば任意に設定が可能であるが、一般にガラス基板のエッチャントに含まれるフッ酸などの酸溶液に対する耐性並びに樹脂パターンの無孔化、膜厚バラツキを考慮すると、厚膜にした方が好ましい。具体的な印刷法としては、印刷膜厚が20μm以上のパターンを形成することができる方法であれば良い。例えば、メッシュスクリーン印刷法、メタルスクリーン印刷法などのスクリーン印刷法を挙げることができる。   In the present invention, a printing method is used when a resin pattern having etching resistance to an etchant of a glass substrate is formed on the main surface of the glass substrate. The film thickness of this resin pattern can be arbitrarily set as long as it has a sufficient etchant resistance to the etchant of the glass substrate. Considering resistance, non-porous resin pattern, and film thickness variation, a thick film is preferable. As a specific printing method, any method capable of forming a pattern having a printed film thickness of 20 μm or more may be used. For example, screen printing methods, such as a mesh screen printing method and a metal screen printing method, can be mentioned.

樹脂パターンの材料は、ガラス基材をエッチングする際に使用するエッチャントに対して十分な耐性を有するものであれば適宜使用することが可能だが、一般にガラス基材のエッチャントに含まれるフッ酸などの酸溶液に対する耐性を考慮すると、熱硬化性樹脂であることが好ましい。熱硬化性樹脂を用いる場合、印刷法により、前記ガラス基材のエッチャントに対して耐性を有する熱硬化性樹脂パターンを形成する工程の後、前記熱硬化性樹脂パターンを熱処理する工程が加わる。   The material of the resin pattern can be appropriately used as long as it has sufficient resistance to the etchant used when etching the glass substrate, but in general, such as hydrofluoric acid contained in the etchant of the glass substrate. In view of resistance to the acid solution, a thermosetting resin is preferable. When using a thermosetting resin, the process of heat-processing the said thermosetting resin pattern is added after the process of forming the thermosetting resin pattern which has tolerance with respect to the etchant of the said glass base material by the printing method.

この熱硬化性樹脂は、フッ酸を含む溶媒に対して耐性を有し、かつ、アルカリ性溶媒に対して溶解可能な材料であることが好ましい。このような材料としては、フェノール樹脂系、メラミン樹脂系、アルキッド樹脂系、エポキシ樹脂系、レゾルシンーホルマリン樹脂系、ユリア樹脂系、不飽和ポリエステル樹脂系、又はジアリルフタレート樹脂系などを挙げることができる。この中で、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、又はジアリルフタレート樹脂が特に好ましい。   The thermosetting resin is preferably a material that is resistant to a solvent containing hydrofluoric acid and is soluble in an alkaline solvent. Examples of such materials include phenol resin, melamine resin, alkyd resin, epoxy resin, resorcin-formalin resin, urea resin, unsaturated polyester resin, or diallyl phthalate resin. . Of these, phenol resins, unsaturated polyester resins, or diallyl phthalate resins are particularly preferred.

これらの熱硬化性樹脂パターンは、印刷後に熱処理を施すことにより熱硬化する。この熱処理の条件としては、熱硬化性樹脂の種類により異なるが、100℃〜250℃で1分〜60分である。   These thermosetting resin patterns are thermoset by performing a heat treatment after printing. The heat treatment conditions vary depending on the type of thermosetting resin, but are 100 ° C. to 250 ° C. for 1 minute to 60 minutes.

樹脂パターンをマスクとしてガラス基板をエッチングするエッチング方法は、湿式エッチング(ウェットエッチング)、乾式エッチング(ドライエッチング)どちらでも構わない。加工コストを低くする点からは、ウェットエッチングが好ましい。ウェットエッチングに使用するエッチャントは、ガラス基材を食刻できるものであれば、何でも良い。好ましくは、フッ酸を主成分とする酸性溶液や、フッ酸に、硫酸、硝酸、塩酸、ケイフッ酸のうち少なくとも一つの酸を含む混酸などを用いることができる。また、ドライエッチングに使用するエッチャントは、ガラス基材を食刻できるものであれば何でも良いが、例えばフッ素系ガスを使用することができる。   The etching method for etching the glass substrate using the resin pattern as a mask may be either wet etching (wet etching) or dry etching (dry etching). Wet etching is preferable from the viewpoint of reducing the processing cost. The etchant used for wet etching may be anything as long as it can etch a glass substrate. Preferably, an acidic solution mainly containing hydrofluoric acid or a mixed acid containing at least one acid among sulfuric acid, nitric acid, hydrochloric acid, and silicic hydrofluoric acid can be used. The etchant used for dry etching is not particularly limited as long as it can etch a glass substrate. For example, a fluorine-based gas can be used.

ガラス基板上に残存する樹脂パターンを除去する薬剤としては、NaOH(水酸化ナトリウム)、KOH(水酸化カリウム)、TMAH(水酸化テトラメチルアンモニウム)などの有機アルカリなどを用いることができる。   As a chemical | medical agent which removes the resin pattern which remain | survives on a glass substrate, organic alkalis, such as NaOH (sodium hydroxide), KOH (potassium hydroxide), TMAH (tetramethylammonium hydroxide), etc. can be used.

ガラス基板としては、溶融ガラスから直接シート状に成形したもの、あるいは、ある厚さに成形されたガラス体を所定の厚さに切り出し、主表面を研磨して所定の厚さに仕上げたものなどを使用することができる。好ましくは、溶融ガラスから直接シート状に成形したものを使用することが好ましい。なぜなら、溶融ガラスから直接シート状に成形したガラス基板の主表面は、熱間成形された表面であり、極めて高い平滑性を有し、マイクロクラックのない表面状態を有するからである。溶融ガラスから直接シート状に成形する方法としては、ダウンドロー法、フロート法などが挙げられる。中でも、ダウンドロー法が好ましい。上述の高平滑性等の効果に加え、エッチング工程による外形加工を行う場合、ガラス基板の両主表面に形成されたレジストパターンをマスクにして、ガラス基材を両主表面からエッチングする際に、両主表面から均等にエッチングすることができるので、寸法精度もよく、ガラス基材の端面の断面形状も良好となるからである。ガラス基板の厚さは、0.3mm以上1.3mm以下であることが好ましい。   As a glass substrate, one formed directly from molten glass into a sheet, or one obtained by cutting a glass body molded to a certain thickness into a predetermined thickness and polishing the main surface to a predetermined thickness, etc. Can be used. It is preferable to use what was directly molded into a sheet form from molten glass. This is because the main surface of the glass substrate molded directly from molten glass into a sheet is a hot-molded surface, and has a very high smoothness and a surface state without microcracks. Examples of a method for directly forming a sheet from molten glass include a downdraw method and a float method. Of these, the downdraw method is preferred. In addition to the effects such as high smoothness described above, when performing external processing by an etching process, using the resist pattern formed on both main surfaces of the glass substrate as a mask, when etching the glass substrate from both main surfaces, This is because etching can be performed uniformly from both main surfaces, so that the dimensional accuracy is good and the cross-sectional shape of the end face of the glass substrate is also good. The thickness of the glass substrate is preferably from 0.3 mm to 1.3 mm.

ダウンドロー法によるガラス板成形が可能なガラスとしては、SiO、Al、LiO及び/又はNaOを含有したアルミノシリケートガラスが挙げられる。特に、アルミノシリケートガラスは、62重量%〜75重量%のSiO、5重量%〜15重量%のAl、4重量%〜10重量%のLiO、4重量%〜12重量%のNaO、及び5.5重量%〜15重量%のZrOを含有することが好ましく、さらに、NaO/ZrOの重量比が0.5〜2.0であり、さらにAl/ZrOの重量比が0.4〜2.5である組成とすることが好ましい。 Examples of the glass that can be formed into a glass plate by the downdraw method include aluminosilicate glass containing SiO 2 , Al 2 O 3 , Li 2 O and / or Na 2 O. In particular, the aluminosilicate glass is composed of 62 wt% to 75 wt% SiO 2 , 5 wt% to 15 wt% Al 2 O 3 , 4 wt% to 10 wt% Li 2 O, 4 wt% to 12 wt%. of Na 2 O, and 5.5 wt% preferably contains ZrO 2 of 15 wt%, further, the weight ratio of Na 2 O / ZrO 2 is 0.5 to 2.0, further Al 2 O 3 / weight ratio of ZrO 2 it is preferred that the composition is 0.4 to 2.5.

SiOは、ガラス骨格を形成する主要成分である。携帯端末、特に携帯電話用カバーガラスは、人肌に触れたり、水や雨水などが接触したりするなど非常に厳しい環境下で使用されるが、このような環境化においても十分な化学的耐久性を要する必要がある。SiOの割合は、前記化学的耐久性や、溶融温度を考慮すると、62重量%〜75重量%であることが好ましい。 SiO 2 is a main component that forms a glass skeleton. Mobile devices, especially cover glasses for mobile phones, are used in extremely harsh environments such as touching human skin and contact with water and rainwater. It is necessary to have sex. The ratio of SiO 2 is preferably 62% by weight to 75% by weight in consideration of the chemical durability and the melting temperature.

Alは、ガラス表面のイオン交換性能を向上させるため含有される。Alの割合は、化学的耐久性や、耐失透性を考慮して、5重量%〜15重量%であることが好ましい。 Al 2 O 3 is contained in order to improve the ion exchange performance on the glass surface. The proportion of Al 2 O 3 is preferably 5% by weight to 15% by weight in view of chemical durability and devitrification resistance.

LiOは、ガラス表層部でイオン交換処理浴中の主としてNaイオンとイオン交換されることにより、ガラスを化学強化する際の必須成分である。LiOの割合は、イオン交換性能や、耐失透性と化学的耐久性を考慮して、4重量%〜10重量%であることが好ましい。 Li 2 O is an essential component for chemically strengthening glass by being ion-exchanged mainly with Na ions in the ion-exchange treatment bath at the glass surface layer. The ratio of Li 2 O is preferably 4% by weight to 10% by weight in consideration of ion exchange performance, devitrification resistance and chemical durability.

NaOは、ガラス表層部でイオン交換処理浴中のKイオンとイオン交換されることにより、ガラスを化学強化する際の必須成分である。NaOの割合は、前記機械的強度や、耐失透性、化学的耐久性を考慮して、4重量%〜12重量%であることが好ましい。 Na 2 O is an essential component when the glass is chemically strengthened by ion exchange with K ions in the ion exchange treatment bath at the glass surface layer. The ratio of Na 2 O is preferably 4% by weight to 12% by weight in consideration of the mechanical strength, devitrification resistance, and chemical durability.

ZrOは、機械的強度を高める効果がある。ZrOの割合は、化学的耐久性や、均質なガラスを安定して製造することを考慮して、5.5重量%〜15重量%であることが好ましい。 ZrO 2 has the effect of increasing the mechanical strength. The ratio of ZrO 2 is preferably 5.5% by weight to 15% by weight in consideration of chemical durability and stable production of homogeneous glass.

また、上述のアルミノシリケートガラスは、イオン交換処理により化学強化してガラス表面に圧縮応力層を形成することで機械的強度をさらに高めることが可能である。化学強化されたガラスとは、ガラスを構成するアルカリ金属イオンを、それよりもサイズが大きいアルカリ金属イオンで、イオン交換により置換することで強化されたガラスをいう。なお、アルミノシリケートガラスの代わりに、他の多成分系ガラスを用いても良い。また、ガラス基材として必要な透明性が確保されるのであれば、結晶化ガラスを用いても良い。   Further, the above-described aluminosilicate glass can be further enhanced in mechanical strength by chemical strengthening by ion exchange treatment to form a compressive stress layer on the glass surface. Chemically strengthened glass refers to glass strengthened by replacing alkali metal ions constituting the glass with alkali metal ions having a size larger than that by ion exchange. Note that other multicomponent glass may be used instead of aluminosilicate glass. Further, crystallized glass may be used as long as the transparency necessary for the glass substrate is ensured.

また、イオン交換処理条件としては、硝酸カリウム(KNO)の単塩、硝酸ナトリウム(NaNO)の単塩、及び硝酸カリウムと硝酸ナトリウムを任意の重量比で混合した混合塩を使用しても良く、温度は350℃〜450℃、時間は1時間〜20時間の範囲で選択すれば良い。 In addition, as ion exchange treatment conditions, a single salt of potassium nitrate (KNO 3 ), a single salt of sodium nitrate (NaNO 3 ), and a mixed salt obtained by mixing potassium nitrate and sodium nitrate at an arbitrary weight ratio may be used. The temperature may be selected in the range of 350 ° C. to 450 ° C. and the time in the range of 1 hour to 20 hours.

なお、得られたガラス基材の機械的強度は、3点抗折強度(3点曲げ強さ)で5000kgf/cm以上が好ましく、さらに好ましくは、7000kgf/cm以上、最も好ましくは、10000kgf/cm以上であることが望ましい。 The mechanical strength of the obtained glass substrate is preferably 5000 kgf / cm 2 or more, more preferably 7000 kgf / cm 2 or more, most preferably 10000 kgf in terms of the three-point bending strength (three-point bending strength). / Cm 2 or more is desirable.

次に、本発明の効果を明確にするために行った実施例について説明する。以下に示す実施例では、ガラス基材として携帯端末用カバーガラスを例に挙げて説明する。   Next, examples performed for clarifying the effects of the present invention will be described. In the examples shown below, a cover glass for a portable terminal will be described as an example of the glass substrate.

(実施例1)
まず、SiOを63.5重量%、Alを8.2重量%、LiOを8.0重量%、NaOを10.4重量%、ZrOを11.9重量%含むアルミノシリケートガラスをダウンドロー法により、板厚0.5mmの板状のガラス基板(シート状ガラス)に成形した。このダウンドロー法により形成されたシート状ガラスの主表面の表面粗さ(算術平均粗さRa)を、原子間力顕微鏡により調べたところ0.2nmであった。
Example 1
First, SiO 2 is 63.5% by weight, Al 2 O 3 is 8.2% by weight, Li 2 O is 8.0% by weight, Na 2 O is 10.4% by weight, and ZrO 2 is 11.9% by weight. The aluminosilicate glass contained was formed into a plate-like glass substrate (sheet-like glass) having a plate thickness of 0.5 mm by the downdraw method. The surface roughness (arithmetic mean roughness Ra) of the main surface of the sheet-like glass formed by this downdraw method was 0.2 nm when examined by an atomic force microscope.

次いで、シート状ガラスの両主表面上に、メッシュスクリーン印刷法により携帯端末用カバーガラス形状のフェノール系熱硬化性樹脂パターンを厚さ20μmで形成し、このフェノール系熱硬化性樹脂パターンに対して200℃で15分のベーキング処理を施した。   Next, a phenolic thermosetting resin pattern in the form of a cover glass for mobile terminals is formed on both main surfaces of the sheet-like glass by a mesh screen printing method with a thickness of 20 μm. With respect to this phenolic thermosetting resin pattern, The baking process for 15 minutes was performed at 200 degreeC.

次いで、フェノール系熱硬化性樹脂パターンをマスクにして、エッチャントとしてフッ酸(15%)と硫酸(24%)の混酸水溶液(40℃)を用いて、シート状ガラスを両主表面側から被エッチング領域をエッチングして所定の形状に切り抜いた。その後、NaOH溶液を用いてガラス上に残存したフェノール系熱硬化性樹脂を溶解させてガラスから剥離し、リンス処理を行った。このようにして実施例1の携帯端末用カバーガラス(以下、単にカバーガラスと称す。)を得た。また、このカバーガラスに対して、硝酸ナトリウム(NaNO)と硝酸カリウム(KNO)の比率(NaNO:KNO)を、重量比4:6で混合した熔融塩中で、380℃、2時間浸漬して、イオン交換処理して化学強化を行った。得られたカバーガラスについて、化学強化前後の抗折強度測定を行った。その結果を下記表1に示す。 Next, using the phenolic thermosetting resin pattern as a mask, using a mixed acid aqueous solution (40 ° C) of hydrofluoric acid (15%) and sulfuric acid (24%) as an etchant, the sheet glass is etched from both main surface sides. The region was etched and cut into a predetermined shape. Thereafter, the phenol-based thermosetting resin remaining on the glass was dissolved using an NaOH solution, peeled off from the glass, and rinsed. Thus, the cover glass for portable terminals of Example 1 (hereinafter simply referred to as cover glass) was obtained. Further, with respect to the cover glass, the proportion of sodium nitrate (NaNO 3) and potassium nitrate (KNO 3): the (NaNO 3 KNO 3), weight ratio of 4: mixed in molten salt 6, 380 ° C., 2 hours Immersion and chemical exchange strengthened by ion exchange treatment. About the obtained cover glass, the bending strength measurement before and behind chemical strengthening was performed. The results are shown in Table 1 below.

なお、抗折強度測定は、図1(a)に示すように、ガラス基材1であるカバーガラスを一定距離に配置された2支持体(支点)2,3上に置き、支持体2,3間の中央の1点に荷重体4を介して荷重Pを加えて、破壊したときの最大曲げ応力を測定することにより行った。この3点曲げ強さは、支点間距離、基板幅、基板厚さに依存するため、次式により規格化を行った。
σ=(3PL)/(2wt
ここで、σは3点曲げ強さ(kgf/cm)を示し、Pはガラス基材(カバーガラス)が破壊したときの最大荷重(kgf)を示し、Lは支持体2,3間距離(cm)を示し、wは図1(b)に示すようにガラス基材(カバーガラス)幅(cm)を示し、tは図1(b)に示すようにガラス基材(カバーガラス)の厚さ(cm)を示す。
In addition, as shown in FIG. 1A, the bending strength measurement is performed by placing a cover glass, which is a glass substrate 1, on two supports (fulcrum points) 2 and 3 arranged at a fixed distance. The test was carried out by applying a load P to the central point between the three through the load body 4 and measuring the maximum bending stress when it was broken. Since the three-point bending strength depends on the distance between the fulcrums, the substrate width, and the substrate thickness, normalization was performed using the following equation.
σ = (3PL) / (2 wt 2 )
Here, σ indicates the three-point bending strength (kgf / cm 2 ), P indicates the maximum load (kgf) when the glass substrate (cover glass) breaks, and L indicates the distance between the supports 2 and 3. (Cm), w indicates the glass substrate (cover glass) width (cm) as shown in FIG. 1 (b), and t indicates the glass substrate (cover glass) as shown in FIG. 1 (b). Thickness (cm) is shown.

(実施例2)
実施例1と同じシート状ガラスの両主表面上にメッシュスクリーン印刷法により、携帯端末用カバーガラス形状の不飽和ポリエステル樹脂パターンを厚さ30μmで形成した以外は実施例1と同様にして携帯端末用カバーガラスを作製した。得られたカバーガラスについて、化学強化前後の抗折強度測定を行った。その結果を下記表1に併記する。
(Example 2)
A portable terminal in the same manner as in Example 1 except that an unsaturated polyester resin pattern in the form of a cover glass for a portable terminal was formed on both main surfaces of the same sheet-like glass as in Example 1 by a mesh screen printing method with a thickness of 30 μm. A cover glass was prepared. About the obtained cover glass, the bending strength measurement before and behind chemical strengthening was performed. The results are also shown in Table 1 below.

(実施例3)
実施例1と同じシート状ガラスの両主表面上にメッシュスクリーン印刷法により、携帯端末用カバーガラス形状のジアリルフタレート樹脂パターンを厚さ25μmで形成した以外は実施例1と同様にして携帯端末用カバーガラスを作製した。得られたカバーガラスについて、化学強化前後の抗折強度測定を行った。その結果を下記表1に併記する。
(Example 3)
A portable terminal cover glass-like diallyl phthalate resin pattern having a thickness of 25 μm was formed on both main surfaces of the same sheet-like glass as in Example 1 by a mesh screen printing method. A cover glass was produced. About the obtained cover glass, the bending strength measurement before and behind chemical strengthening was performed. The results are also shown in Table 1 below.

(実施例4)
実施例1と同じシート状ガラスの両主表面上にメタルスクリーン印刷法により、携帯端末用カバーガラス形状のフェルール系樹脂パターンを厚さ40μmで形成した以外は実施例1と同様にして携帯端末用カバーガラスを作製した。得られたカバーガラスについて、化学強化前後の抗折強度測定を行った。その結果を下記表1に併記する。
Example 4
For portable terminals in the same manner as in Example 1, except that a cover glass-shaped ferrule resin pattern with a thickness of 40 μm was formed on both main surfaces of the same sheet-like glass as in Example 1 by metal screen printing. A cover glass was produced. About the obtained cover glass, the bending strength measurement before and behind chemical strengthening was performed. The results are also shown in Table 1 below.

(比較例1)
実施例1と同じシート状ガラスを携帯端末用カバーガラス形状に機械加工により切り抜き、その後実施例1と同様にして化学強化を行って携帯端末用カバーガラスを作製した。得られたカバーガラスについて、化学強化前後の抗折強度測定を行った。その結果を下記表1に併記する。

Figure 0005183320
(Comparative Example 1)
The same sheet glass as in Example 1 was cut out into a cover glass shape for a portable terminal by machining, and then chemically strengthened in the same manner as in Example 1 to produce a cover glass for a portable terminal. About the obtained cover glass, the bending strength measurement before and behind chemical strengthening was performed. The results are also shown in Table 1 below.
Figure 0005183320

表1から分かるように、実施例1〜実施例4のガラス基材は、3点抗折強度(3点曲げ強さ)が5000kgf/cm以上で機械的強度が高いものであった。これは、ガラス端面がエッチング面であるので、その表面粗さが小さく、切り抜き面に数十μm〜数百μm程度のマイクロクラックが存在していないからであると考えられる。一方、比較例1のガラス基材は、ガラス端面が機械加工面であるので、切り抜き面に数十μm〜数百μm程度のマイクロクラックが存在しているからであると考えられる。 As can be seen from Table 1, the glass substrates of Examples 1 to 4 had a three-point bending strength (three-point bending strength) of 5000 kgf / cm 2 or more and a high mechanical strength. This is presumably because the glass end surface is an etched surface, so that the surface roughness is small and microcracks of about several tens to several hundreds of μm are not present on the cut surface. On the other hand, the glass base material of Comparative Example 1 is considered to have microcracks of about several tens of μm to several hundreds of μm on the cut surface because the glass end surface is a machined surface.

本発明は上記実施の形態に限定されず、適宜変更して実施することができる。例えば、上記実施の形態における材料や処理手順などは一例であり、本発明の効果を発揮する範囲内において種々変更して実施することが可能である。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施することが可能である。   The present invention is not limited to the above embodiment, and can be implemented with appropriate modifications. For example, the materials, processing procedures, and the like in the above-described embodiment are merely examples, and various modifications can be made within the scope of the effects of the present invention. In addition, various modifications can be made without departing from the scope of the object of the present invention.

本発明の方法により得られたガラス基材は、携帯電話、PDAなどの携帯端末装置やディジタルスチルカメラの保護に用いられるカバーガラスや、携帯機器の本体に用いることができる。   The glass substrate obtained by the method of the present invention can be used for a cover glass used for protecting a portable terminal device such as a mobile phone or a PDA, a digital still camera, or a main body of a portable device.

抗折強度測定装置を説明するための図である。It is a figure for demonstrating a bending strength measuring apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

1 ガラス基材
2,3 支持体
4 荷重体
1 Glass substrate 2, 3 Support body 4 Load body

Claims (2)

板状のガラス基板の一方及び他方の主表面上に、メッシュスクリーン印刷法又はメタルスクリーン印刷法により、前記ガラス基板のエッチャントに対してエッチング耐性を有する樹脂パターンを形成する工程と、前記樹脂パターンをマスクとして、前記ガラス基板のエッチングが可能なエッチャントで前記ガラス基板を前記一方及び他方の主表面のそれぞれからエッチングすることにより所望の形状に切り抜く工程と、前記ガラス基板上に形成された前記樹脂パターンを除去する工程と、前記ガラス基板上に形成された前記樹脂パターンを除去した後、該ガラス基板をイオン交換処理により化学強化処理する工程と、を有し、
前記樹脂パターンは、フッ酸を含む溶媒に対して耐性を有し、かつ、アルカリ性溶媒に対して溶解可能なフェノール系樹脂、不飽和ポリエステル樹脂及びジアリルフタレート樹脂からなる群より選ばれた材料で構成されたことを特徴とする携帯機器用カバーガラスのガラス基材の製造方法。
Forming a resin pattern having resistance to etching on the etchant of the glass substrate on one and the other main surfaces of the plate-like glass substrate by a mesh screen printing method or a metal screen printing method; and Etching the glass substrate from each of the one and the other main surfaces with an etchant capable of etching the glass substrate as a mask, and cutting the resin pattern into a desired shape, and the resin pattern formed on the glass substrate And removing the resin pattern formed on the glass substrate and then chemically strengthening the glass substrate by ion exchange treatment ,
The resin pattern is made of a material selected from the group consisting of a phenolic resin, an unsaturated polyester resin, and a diallyl phthalate resin that is resistant to a solvent containing hydrofluoric acid and is soluble in an alkaline solvent. A method for producing a glass substrate of a cover glass for a portable device, which is characterized by the above.
前記ガラス基板は、SiO、Al、LiO及びNaOからなる群から選ばれた少なくとも一つを含有したアルミノシリケートガラスであることを特徴とする請求項1に記載の携帯機器用カバーガラスのガラス基材の製造方法。 The glass substrate is mobile according to claim 1, characterized in that the aluminosilicate glass containing at least one selected from SiO 2, Al 2 O 3, Li 2 O and the group consisting of Na 2 O The manufacturing method of the glass base material of the cover glass for apparatuses.
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