JP5148381B2

JP5148381B2 - 光測定装置

Info

Publication number: JP5148381B2
Application number: JP2008159349A
Authority: JP
Inventors: 友勇山下; 元規今村
Original assignee: Advantest Corp
Current assignee: Advantest Corp
Priority date: 2008-06-18
Filing date: 2008-06-18
Publication date: 2013-02-20
Anticipated expiration: 2028-06-18
Also published as: JP2010002218A; US8279438B2; US20100014079A1

Description

本発明は、光の測定に関する。

従来より、テラヘルツエミッターから被測定物に与えられたテラヘルツ光Ａ（パルスである）が被測定物を透過したものと、テラヘルツ光Ａのパルス周期とわずかに異なるパルス周期の光Ｂとをテラヘルツディテクターで受けて、被測定物を測定する方法が知られている（例えば、特許文献１の要約を参照）。

テラヘルツ光Ａの繰り返し周波数をf_Aとし、光Ｂの繰り返し周波数をf_Bとすると、被測定物を透過した光パルスの一周期分を測定するために必要な時間は、１／（f_A−f_B）[s]である。

また、信号をスペクトラムアナライザにより測定することは周知である。スペクトラムアナライザは、信号のパワーなどを周波数ごとに測定する。スペクトラムアナライザにより測定される周波数は時間と共に変化する。すなわち、スペクトラムアナライザは、測定する周波数を掃引する。

国際公開第２００６／０９２８７４号パンフレット

そこで、テラヘルツディテクターにより検出された信号を、スペクトラムアナライザにより測定することが考えられる。スペクトラムアナライザが掃引を開始する周波数をf_s[Hz]、スペクトラムアナライザにより測定される周波数が変化する速度をS[Hz/s]とすると、スペクトラムアナライザにより測定される周波数は、f_s＋n・S／（f_A−f_B）[Hz]となる（ただし、ｎは０または正の整数）。

しかしながら、測定したい周波数f₀が、f_s＋n0・S／（f_A−f_B）＜f₀＜f_s＋（1+n0）・S／（f_A−f_B）、（n0は０または正の整数のうちの一つ）であるような場合、スペクトラムアナライザによる測定ができない。

そこで、本発明は、光信号に基づく電気信号をスペクトラムアナライザにより測定する際に、測定する周波数を変えることができるようにすることを課題とする。

本発明にかかる光測定装置は、所定のパルス光を受け、前記所定のパルス光の繰り返し周波数と同じ繰り返し周波数を有する被検出光パルスを出力する被検出光パルス出力部と、前記被検出光パルスとサンプリング光パルスとを受け、前記サンプリング光パルスを受けた時点で、前記被検出光パルスのパワーに応じた信号を出力する信号出力器と、前記信号の大きさを、時間と共に変化する測定周波数ごとに測定する周波数スペクトル測定器と、前記所定のパルス光と、前記サンプリング光パルスとが同時に入力されたときに、同時光パルスを出力する同時光パルス出力部と、前記同時光パルスを電気信号に変換して、前記トリガ信号とするトリガ信号生成部と、前記トリガ信号を遅延させるトリガ信号遅延部と、を備え、前記被検出光パルスの繰り返し周波数と前記サンプリング光パルスの繰り返し周波数とが異なり、前記トリガ信号が前記周波数スペクトル測定器に与えられた時点から、前記測定周波数が変化を始めるように構成される。

上記のように構成された光測定装置によれば、被検出光パルス出力部が、所定のパルス光を受け、前記所定のパルス光の繰り返し周波数と同じ繰り返し周波数を有する被検出光パルスを出力する。信号出力器が、前記被検出光パルスとサンプリング光パルスとを受け、前記サンプリング光パルスを受けた時点で、前記被検出光パルスのパワーに応じた信号を出力する。周波数スペクトル測定器が、前記信号の大きさを、時間と共に変化する測定周波数ごとに測定する。同時光パルス出力部が、前記所定のパルス光と、前記サンプリング光パルスとが同時に入力されたときに、同時光パルスを出力する。トリガ信号生成部が、前記同時光パルスを電気信号に変換して、前記トリガ信号とする。トリガ信号遅延部が、前記トリガ信号を遅延させる。

しかも、前記被検出光パルスの繰り返し周波数と前記サンプリング光パルスの繰り返し周波数とが異なり、前記トリガ信号が前記周波数スペクトル測定器に与えられた時点から、前記測定周波数が変化を始める。

なお、本発明にかかる光測定装置は、前記トリガ信号遅延部は、前記同時光パルスを遅延させて、前記トリガ信号生成部に与えるようにしてもよい。

なお、本発明にかかる光測定装置は、前記トリガ信号遅延部は、前記周波数スペクトル測定器の内部に配置されているようにしてもよい。

なお、本発明にかかる光測定装置は、前記トリガ信号遅延部は、前記サンプリング光パルスを遅延させて、前記同時光パルス出力部に与えるようにしてもよい。

なお、本発明にかかる光測定装置は、前記測定周波数の、前記トリガ信号が前記周波数スペクトル測定器に与えられた時点からの変化量は、前記時点から経過した時間に比例するようにしてもよい。

なお、本発明にかかる光測定装置は、前記被検出光パルス出力部および前記信号出力器が光伝導スイッチであるようにしてもよい。

なお、本発明にかかる光測定装置は、前記被検出光パルスがテラヘルツ光であるようにしてもよい。

なお、本発明にかかる光測定装置は、前記信号が電流であるようにしてもよい。

なお、本発明にかかる光測定装置は、前記被検出光パルス出力部が非線形光学結晶であり、前記信号出力器が電気光学結晶であるようにしてもよい。

以下、本発明の実施形態を図面を参照しながら説明する。

図１は、本発明の実施形態にかかる光測定装置１の構成を示すブロック図である。光測定装置１は、光出力装置１０、受光装置２０、トリガ信号付与装置３０を備える。

光出力装置１０は、第一レーザ光源１１、第二レーザ光源１２、バイアス電圧源１６、光伝導スイッチ（被検出光パルス出力部）１８、ハーフミラーＭ１１、Ｍ１２を有する。

第一レーザ光源１１は、数十フェムト秒のパルス幅を有する近赤外領域波長のレーザーパルス光（所定のパルス光）を出力する。レーザーパルス光は、ハーフミラーＭ１１により、トリガ信号付与装置３０へ与えられるものと、光伝導スイッチ１８に与えられる光に分けられる。なお、レーザーパルス光の繰り返し周波数はf_rep1である。

第二レーザ光源１２は、サンプリング光パルスＬ２を出力するレーザ光源である。サンプリング光パルスＬ２の繰り返し周波数はf_rep2(=f_rep1−Δf)である。なお、Δf＞０である。サンプリング光パルスＬ２は、ハーフミラーＭ１２により、受光装置２０へ与えられるものと、トリガ信号付与装置３０に与えられる光に分けられる。

バイアス電圧源１６は、光伝導スイッチ１８に直流電圧を与える。

光伝導スイッチ（被検出光パルス出力部）１８は、レーザ光源１１からレーザーパルス光（所定のパルス光）を受けると、テラヘルツ光Ｌ１を出力する。なお、光伝導スイッチ１８の構成は、周知であり、説明を省略する。光伝導スイッチ１８の出力するテラヘルツ光（被検出光パルス）Ｌ１は、光パルスであり、その繰り返し周波数は、レーザーパルス光の繰り返し周波数と同じf_rep1である。

受光装置２０は、光伝導スイッチ（信号出力器）２１、電流アンプ２２、ＲＦスペクトラムアナライザ（周波数スペクトル測定器）２６、ミラーＭ２１、Ｍ２２を有する。

光伝導スイッチ（信号出力器）２１は、テラヘルツ光Ｌ１を受ける。なお、光伝導スイッチ２１が、テラヘルツ光Ｌ１を、何らかの被測定物を介して受けることも考えられる。しかも、サンプリング光パルスＬ２が、ミラーＭ２１、Ｍ２２により、光伝導スイッチ２１に導かれる。よって、光伝導スイッチ２１はサンプリング光パルスＬ２を受ける。光伝導スイッチ２１は、サンプリング光パルスＬ２を受けた時点で、テラヘルツ光Ｌ１のパワーに応じた信号を出力する。なお、光伝導スイッチ２１が出力する信号は、電流である。また、光伝導スイッチ１８の構成は、周知であり、説明を省略する。

電流アンプ２２は、光伝導スイッチ２１に発生した電流を増幅する。

ＲＦスペクトラムアナライザ（周波数スペクトル測定器）２６は、信号の大きさを、時間と共に変化する測定周波数ごとに測定する。測定周波数が時間と共に変化するということは、掃引を意味する。掃引は、トリガ信号ＥＸＴがＲＦスペクトラムアナライザ２６に与えられた時点から開始する。

図２は、ＲＦスペクトラムアナライザ２６の構成を示すブロック図である。ＲＦスペクトラムアナライザ２６は、ローカル信号源２６ａ、ミキサ２６ｂ、バンドパスフィルタ２６ｃ、信号測定部２６ｄを有する。なお、図２においては、ＲＦスペクトラムアナライザ２６がミキサを一個だけ備えているが、ＲＦスペクトラムアナライザ２６が複数個のミキサを備えていてもよいことは周知である。

ローカル信号源２６ａは、ローカル信号（周波数f_LO）を出力する。f_LOは、時間と共に変化する。すなわち、f_LO = f_LOS+S・t_pである（ただし、f_LOSは、ローカル周波数f_LOの初期値[Hz]、Sは掃引の速度[Hz/秒]、t_pはトリガ信号ＥＸＴをローカル信号源２６ａが受けてから経過した時間[秒]である。

ミキサ２６ｂは、電流アンプ２２の出力する電流と、ローカル信号とを乗算する。

バンドパスフィルタ２６ｃは、ミキサ２６ｂの出力から所定の周波数f_IFの信号を取り出す。

信号測定部２６ｄは、バンドパスフィルタ２６ｃの出力の大きさ（位相も測定するようにしてよい）を測定する。信号測定部２６ｄが測定する信号は、電流アンプ２２の出力する電流の周波数f_RFの成分である。ただし、f_RF
= f_IF+f_LO = f_IF+f_LOS+S・t_pである。ここで、f_IF+f_LOSをf_sとすれば、f_RF
= f_S+S・t_pである。周波数f_RFは、先に述べた測定周波数である。トリガ信号ＥＸＴがＲＦスペクトラムアナライザ２６（のローカル信号源２６ａ）に与えられた時点から周波数f_RFが変化した量S・t_pは、トリガ信号ＥＸＴがＲＦスペクトラムアナライザ２６（のローカル信号源２６ａ）に与えられた時点から経過した時間t_pに比例する。

トリガ信号付与装置３０は、光カプラ（同時光パルス出力部）３２、光遅延回路（トリガ信号遅延部）３４、フォトディテクタ（トリガ信号生成部）３６を有する。

光カプラ（同時光パルス出力部）３２は、レーザーパルス光と、サンプリング光パルスＬ２とが同時に入力されたときに、同時光パルスを出力する。

光遅延回路（トリガ信号遅延部）３４は、同時光パルスを遅延させて、フォトディテクタ３６に与える。これにより、トリガ信号ＥＸＴを、光遅延回路３４が無い場合よりも遅延させることになる。なお、光遅延回路３４がトリガ信号ＥＸＴを遅延させる時間をt_dとする。

フォトディテクタ（トリガ信号生成部）３６は、同時光パルスを光遅延回路３４を介して受け、電気信号に変換して、トリガ信号ＥＸＴとして、ＲＦスペクトラムアナライザ２６に与える。

次に、本発明の実施形態の動作を説明する。

光出力装置１０のレーザ光源１１がレーザーパルス光を出力する。レーザーパルス光は、ハーフミラーＭ１１を透過して、光伝導スイッチ１８に与えられる。光伝導スイッチ１８には、バイアス電圧源１６により直流電圧が与えられている。この状態で、光伝導スイッチ１８にレーザーパルス光が与えられると、光伝導スイッチ１８からテラヘルツ光Ｌ１が出力される。テラヘルツ光Ｌ１は、受光装置２０の光伝導スイッチ２１に与えられる。

第二レーザ光源１２は、サンプリング光パルスＬ２を出力する。サンプリング光パルスＬ２は、ハーフミラーＭ１２を透過し、さらにミラーＭ２１、Ｍ２２により反射され、光伝導スイッチ２１に与えられる。

光伝導スイッチ２１は、サンプリング光パルスＬ２を受けた時点で、テラヘルツ光Ｌ１のパワーに応じた電流を出力する。この電流は、電流アンプ２２により増幅され、ＲＦスペクトラムアナライザ２６により測定される。

また、レーザーパルス光は、ハーフミラーＭ１１により反射されて、トリガ信号付与装置３０の光カプラ３２に与えられる。サンプリング光パルスＬ２は、ハーフミラーＭ１２により反射されて、光カプラ３２に与えられる。光カプラ３２は、レーザーパルス光と、サンプリング光パルスＬ２とが同時に入力されたときに、同時光パルスを出力する。

同時光パルスは、光遅延回路３４により時間t_dだけ遅延されて、フォトディテクタ３６に与えられる。フォトディテクタ３６は、同時光パルスを電気信号に変換して、トリガ信号ＥＸＴとして、ＲＦスペクトラムアナライザ２６に与える。トリガ信号ＥＸＴがＲＦスペクトラムアナライザ２６（のローカル信号源２６ａ）に与えられると、掃引が開始される。

図３は、テラヘルツ光Ｌ１（図３（ａ））、サンプリング光パルスＬ２（図３（ｂ））、トリガ信号ＥＸＴ（t_d=0と仮定）（図３（ｃ））、トリガ信号ＥＸＴ（図３（ｄ））のタイムチャートである。ただし、図示の便宜上、レーザーパルス光とテラヘルツ光Ｌ１との時間差は無いものとしている。

光伝導スイッチ２１は、サンプリング光パルスＬ２のパルスの光パワーが最大になった時点におけるテラヘルツ光Ｌ１のパワーに応じた電流を出力する。例えば、時間t = 0, 1/f_rep2, 2/f_rep2, …におけるテラヘルツ光Ｌ１のパワーに応じた電流を出力する。すなわち、光伝導スイッチ２１は、テラヘルツ光Ｌ１のパワーが最大になった時点からΔt₁( = 1/f_rep2−1/f_rep1)づつずれた時点（0, Δt₁,
2Δt₁,…）のテラヘルツ光Ｌ１のパワーに応じた電流を出力することになる。光伝導スイッチ２１は、やがて、テラヘルツ光Ｌ１のパワーが最大になった時点からのずれが1/f_rep1になったときのテラヘルツ光Ｌ１のパワーに応じた電流を出力する（図３（ａ）の右端のパルスを参照）。この時点で、テラヘルツ光Ｌ１のパルスの一周期分の測定が完了する。テラヘルツ光Ｌ１のパルスの一周期分の測定が完了するのにかかる時間Δtは、Δt = 1/Δf = 1/(f_rep1−f_rep2)となる。

ここで、t_d=0と仮定すると（光遅延回路３４が無い場合に相当）、トリガ信号ＥＸＴはt = 0およびt = Δtに出力される（図３（ｃ）参照）。しかし、実際には、t_d>0なので、トリガ信号ＥＸＴはt = t_dおよびt = Δt+ t_dに出力される（図３（ｄ）参照）。

図４は、t_d=0と仮定したとき（光遅延回路３４が無い場合に相当）の測定周波数f_RFおよび実際の（t_d>0）測定周波数f_RFを示す図である。電流アンプ２２の出力する電流は、t = 0, Δt, 2Δt, 3Δt,…の時点で測定されるので、t_d=0と仮定したときの測定周波数f_RFは、f_RF = f_S+S・t_pのt_pに0, Δt, 2Δt, 3Δt,…を代入して、f_S, f_S+ SΔt, f_S+2SΔt, f_S+3SΔt,…ということになる。

実際には、t_d>0である。すると、トリガ信号ＥＸＴをローカル信号源２６ａが受けてから経過した時間は、t−t_dということになる。よって、測定周波数f_RFは、f_RF
= f_S+S・t_pのt_pに0, Δt−t_d, 2Δt−t_d, 3Δt−t_d,…を代入して、f_S, f_S+ S(Δt−t_d), f_S+
S(2Δt−t_d), f_S+ S(3Δt−t_d),…ということになる。

光遅延回路３４が無ければ、測定周波数f_RFは、f_S, f_S+ SΔt, f_S+2SΔt, f_S+3SΔt,…ということになるので、測定したい周波数f₀が、例えば、f_S+2SΔt<f₀<f_S+3SΔtであれば、測定できない。

しかし、本発明の実施形態によれば、t_dを適宜調整して、f₀ = f_S+ S(3Δt−t_d)とすることができる。すなわち、f_S+2SΔtとf_S+3SΔtとの間に測定周波数f_RFを設定できる。これにより、光信号に基づく電気信号をＲＦスペクトラムアナライザ２６により測定する際に、測定する周波数f_RFを適宜変えることができる。

なお、光遅延回路（トリガ信号遅延部）３４は、光カプラ３２とフォトディテクタ３６との間に配置した例を説明したが、トリガ信号遅延部を他の部位に配置してもよい。

図５は、遅延部（トリガ信号遅延部）２６ｅを、ＲＦスペクトラムアナライザ２６内部に配置したときのＲＦスペクトラムアナライザ２６の構成を示すブロック図である。遅延部２６ｅは、トリガ信号ＥＸＴを時間t_dだけ遅延させてから、ローカル信号源２６ａに与える。

図６は、光遅延回路（トリガ信号遅延部）３４を、光カプラ３２とハーフミラーＭ１２との間に配置したときの光測定装置１の構成を示すブロック図である。光遅延回路３４は、サンプリング光パルスＬ２を時間t_dだけ遅延させてから、光カプラ３２に与える。

なお、これまで、被検出光パルス出力部および信号出力器として光伝導スイッチ１８、２１を用いた例を説明してきた。しかし、被検出光パルス出力部として非線形光学結晶を用い、信号出力器として電気光学結晶を用いることも可能である。

図７は、本発明の実施形態にかかる光測定装置１において非線形光学結晶を用いた場合の構成を示すブロック図である。光測定装置１は、光出力装置１０、受光装置２０、トリガ信号付与装置３０を備える。

光出力装置１０は、第一レーザ光源１１、第二レーザ光源１２、非線形光学結晶１３、ハーフミラーＭ１１、Ｍ１２を有する。第一レーザ光源１１、第二レーザ光源１２およびハーフミラーＭ１１、Ｍ１２は、図１を参照して説明した光測定装置１と同様であり、説明を省略する。

非線形光学結晶（被検出光パルス出力部）１３は、レーザ光源１１からレーザーパルス光（所定のパルス光）を受けると、テラヘルツ光Ｌ１を出力する。非線形光学結晶１３は、例えば、DASTまたはZnTeなどである。非線形光学結晶１３の出力するテラヘルツ光（被検出光パルス）Ｌ１は、光パルスであり、その繰返し周波数は、レーザーパルス光の繰返し周波数と同じf_rep1である。

受光装置２０は、電流アンプ２２、電気光学結晶（信号出力器）２３、四分の一波長板２４、偏光ビームスプリッタ２５、ＲＦスペクトラムアナライザ（周波数スペクトル測定器）２６、フォトディテクタ２７ａ、２７ｂ、減算器２７ｃ、ミラーＭ２１、Ｍ２２を有する。

電気光学結晶（信号出力器）２３は、テラヘルツ光Ｌ１を受ける。電気光学結晶２３は、例えば、DAST、ZnTeまたはGaAsなどである。なお、電気光学結晶２３が、テラヘルツ光Ｌ１を、何らかの被測定物を介して受けることも考えられる。しかも、サンプリング光パルスＬ２が、ミラーＭ２１、Ｍ２２により、電気光学結晶２３に導かれる。よって、電気光学結晶２３はサンプリング光パルスＬ２を受ける。電気光学結晶２３がサンプリング光パルスＬ２を受けた時点で、テラヘルツ光Ｌ１のパワーに応じて、電気光学結晶２３の複屈折変化が発生する。電気光学結晶２３において発生した複屈折変化の影響により、電気光学結晶２３を通過するサンプリング光パルスＬ２の偏波状態が変化する。

すなわち、電気光学結晶（信号出力器）２３は、サンプリング光パルスＬ２を受けた時点で、テラヘルツ光Ｌ１のパワーに応じて偏波状態が変化した信号（サンプリング光パルスＬ２）を出力する。

電気光学結晶２３から出力された信号（サンプリング光パルスＬ２）は、四分の一波長板２４（周知の四分の一波長板であり、説明を省略する）を介して、偏光ビームスプリッタ２５に与えられる。信号は、偏光ビームスプリッタ２５により二つに分岐され、フォトディテクタ２７ａ、２７ｂにより電気信号に変換される。フォトディテクタ２７ａ、２７ｂから出力された二つの電気信号は減算器２７ｃに与えられ、両者の差分が得られる。減算器２７ｃの出力が電流アンプ２２に与えられる。

電流アンプ２２およびＲＦスペクトラムアナライザ２６は、図１を参照して説明した光測定装置１と同様であり、説明を省略する。

なお、本発明の実施形態にかかる光測定装置１において非線形光学結晶を用いた場合の動作は、図１を参照して説明した光測定装置１と同様の動作をとるので、説明を省略する。

また、図７においては、光遅延回路（トリガ信号遅延部）３４を、光カプラ３２とフォトディテクタ３６との間に配置した例を説明したが、トリガ信号遅延部を他の部位に配置してもよいことは、上記と同様である。

例えば、図５を参照して、遅延部（トリガ信号遅延部）２６ｅを、ＲＦスペクトラムアナライザ２６内部に配置してもよい。この場合、遅延部２６ｅが、トリガ信号ＥＸＴを時間t_dだけ遅延させてから、ローカル信号源２６ａに与える。

図８は、非線形光学結晶を用いた場合における、光遅延回路（トリガ信号遅延部）３４を、光カプラ３２とハーフミラーＭ１２との間に配置したときの光測定装置１の構成を示すブロック図である。

例えば、図８を参照して、光遅延回路（トリガ信号遅延部）３４を、光カプラ３２とハーフミラーＭ１２との間に配置してもよい。光遅延回路３４は、サンプリング光パルスＬ２を時間t_dだけ遅延させてから、光カプラ３２に与える。

本発明の実施形態にかかる光測定装置１の構成を示すブロック図である。ＲＦスペクトラムアナライザ２６の構成を示すブロック図である。テラヘルツ光Ｌ１（図３（ａ））、サンプリング光パルスＬ２（図３（ｂ））、トリガ信号ＥＸＴ（t_d=0と仮定）（図３（ｃ））、トリガ信号ＥＸＴ（図３（ｄ））のタイムチャートである。 t_d=0と仮定したとき（光遅延回路３４が無い場合に相当）の測定周波数f_RFおよび実際の（t_d>0）測定周波数f_RFを示す図である。遅延部（トリガ信号遅延部）２６ｅを、ＲＦスペクトラムアナライザ２６内部に配置したときのＲＦスペクトラムアナライザ２６の構成を示すブロック図である。光遅延回路（トリガ信号遅延部）３４を、光カプラ３２とハーフミラーＭ１２との間に配置したときの光測定装置１の構成を示すブロック図である。本発明の実施形態にかかる光測定装置１において非線形光学結晶を用いた場合の構成を示すブロック図である。非線形光学結晶を用いた場合における、光遅延回路（トリガ信号遅延部）３４を、光カプラ３２とハーフミラーＭ１２との間に配置したときの光測定装置１の構成を示すブロック図である。

符号の説明

１光測定装置
１０光出力装置
１１第一レーザ光源
１２第二レーザ光源
１６バイアス電圧源
１８光伝導スイッチ（被検出光パルス出力部）
Ｍ１１、Ｍ１２ハーフミラー
２０受光装置
２１光伝導スイッチ（信号出力器）
２２電流アンプ
２６ＲＦスペクトラムアナライザ（周波数スペクトル測定器）
Ｍ２１、Ｍ２２ミラー
３０トリガ信号付与装置
３２光カプラ（同時光パルス出力部）
３４光遅延回路（トリガ信号遅延部）
３６フォトディテクタ（トリガ信号生成部）
t_d 遅延させる時間
Ｌ１テラヘルツ光（被検出光パルス）
Ｌ２サンプリング光パルス
f_rep1、f_rep2 繰り返し周波数
ＥＸＴトリガ信号
１３非線形光学結晶（被検出光パルス出力部）
２３電気光学結晶（信号出力器）

Claims

所定のパルス光を受け、前記所定のパルス光の繰り返し周波数と同じ繰り返し周波数を有する被検出光パルスを出力する被検出光パルス出力部と、
前記被検出光パルスとサンプリング光パルスとを受け、前記サンプリング光パルスを受けた時点で、前記被検出光パルスのパワーに応じた信号を出力する信号出力器と、
前記信号の大きさを、時間と共に変化する測定周波数ごとに測定する周波数スペクトル測定器と、
前記所定のパルス光と、前記サンプリング光パルスとが同時に入力されたときに、同時光パルスを出力する同時光パルス出力部と、
前記同時光パルスを電気信号に変換して、前記トリガ信号とするトリガ信号生成部と、
前記トリガ信号を遅延させるトリガ信号遅延部と、
を備え、
前記被検出光パルスの繰り返し周波数と前記サンプリング光パルスの繰り返し周波数とが異なり、
前記トリガ信号が前記周波数スペクトル測定器に与えられた時点から、前記測定周波数が変化を始める、
光測定装置。
請求項１に記載の光測定装置であって、
前記トリガ信号遅延部は、前記同時光パルスを遅延させて、前記トリガ信号生成部に与える、
光測定装置。
請求項１に記載の光測定装置であって、
前記トリガ信号遅延部は、前記周波数スペクトル測定器の内部に配置されている、
光測定装置。
請求項１に記載の光測定装置であって、
前記トリガ信号遅延部は、前記サンプリング光パルスを遅延させて、前記同時光パルス出力部に与える、
光測定装置。
請求項１ないし４のいずれか一項に記載の光測定装置であって、
前記測定周波数の、前記トリガ信号が前記周波数スペクトル測定器に与えられた時点からの変化量は、前記時点から経過した時間に比例する、
光測定装置。
請求項１ないし４のいずれか一項に記載の光測定装置であって、
前記被検出光パルス出力部および前記信号出力器が光伝導スイッチである、
光測定装置。
請求項１ないし４のいずれか一項に記載の光測定装置であって、
前記被検出光パルスがテラヘルツ光である、
光測定装置。
請求項１ないし４のいずれか一項に記載の光測定装置であって、
前記信号が電流である、
光測定装置。
請求項１ないし４のいずれか一項に記載の光測定装置であって、
前記被検出光パルス出力部が非線形光学結晶であり、
前記信号出力器が電気光学結晶である、
光測定装置。