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JP5126959B2 - Semiconductor device - Google Patents

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JP5126959B2
JP5126959B2 JP2007307115A JP2007307115A JP5126959B2 JP 5126959 B2 JP5126959 B2 JP 5126959B2 JP 2007307115 A JP2007307115 A JP 2007307115A JP 2007307115 A JP2007307115 A JP 2007307115A JP 5126959 B2 JP5126959 B2 JP 5126959B2
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秀昭 長澤
賢司 山角
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Renesas Electronics Corp
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Renesas Electronics Corp
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Description

本発明は、回路の制御データをレジスタに初期設定する技術に関し、例えば液晶ディスプレイの駆動に用いる階調電圧を生成して駆動信号を出力する液晶駆動用の半導体装置に適用して有効な技術に関する。   The present invention relates to a technique for initializing circuit control data in a register, for example, a technique effective when applied to a liquid crystal driving semiconductor device that generates a gradation voltage used for driving a liquid crystal display and outputs a driving signal. .

半導体装置の内部回路にはそれによる制御対象の種類若しくは特性に応じた制御データを初期設定することが必要な場合がある。そのために例えば制御データを格納したEEPROM等の不揮発性メモリをシステム上に用意し、電源投入時若しくはシステムリセット時にEEPROMから制御データを読出して前記半導体装置の内部回路に初期設定することが行われる。特許文献1には、電源投入時若しくはシステムリセット時にEEPROMから表示制御パラメータデータを読み出してレジスタに初期設定する技術が記載される。特許文献2には、液晶表示駆動用の半導体装置に、使用する液晶表示装置の仕様に応じた駆動条件等のパラメータデータを格納した不揮発性メモリ回路を設け、システムリセット時に当該メモリ回路からレジスタにパラメータデータを初期設定する技術が記載される。   In some cases, it is necessary to initially set control data corresponding to the type or characteristics of the controlled object in the internal circuit of the semiconductor device. For this purpose, for example, a nonvolatile memory such as an EEPROM storing control data is prepared on the system, and when the power is turned on or the system is reset, the control data is read from the EEPROM and initialized in the internal circuit of the semiconductor device. Patent Document 1 describes a technique for reading display control parameter data from an EEPROM at power-on or system reset, and initializing the data in a register. In Patent Document 2, a non-volatile memory circuit that stores parameter data such as driving conditions according to the specifications of a liquid crystal display device to be used is provided in a semiconductor device for driving a liquid crystal display. A technique for initializing parameter data is described.

特開2003−263134号公報JP 2003-263134 A 特開2006−330582号公報JP 2006-330582 A

初期設定すべき制御データの格納にEEPROM等の不揮発性メモリを用いる場合には、液晶駆動用の半導体装置とは別に制御データ用の外付けEEPROMが必ず必要になり、また、液晶駆動用の半導体装置がオンチップEEPROMを備える場合にも制御データの分だけ大きな記憶容量が必要になる。そこで本発明者は、制御データの格納にEEPROMのような書換え可能な不揮発性メモリを使用せず、アルミマスタスライス技術のように配線マスクパターンの変更によって制御データの初期値を決定することについて検討した。例えば、配線マスクパターンの変更によって論理値1又は論理値0を出力するアルミマスタセルを制御データの1ビット毎に用いる。但し、その場合にも、制御の多様性若しくは良好な使い勝手等の点で、制御データをプログラマブルに設定可能なレジスタは必要であるから、前記レジスタの出力と当該レジスタに対応する前記アルミマスタセル列の出力とを択一的に選択可能なセレクタも必要になり、結局、ゲート数が大幅に増大してしまう。   When a nonvolatile memory such as an EEPROM is used to store control data to be initialized, an external EEPROM for control data is always required separately from the semiconductor device for driving the liquid crystal, and the semiconductor for driving the liquid crystal is used. Even when the apparatus includes an on-chip EEPROM, a large storage capacity for the control data is required. Therefore, the present inventor considers determining the initial value of the control data by changing the wiring mask pattern as in the aluminum master slice technology without using a rewritable nonvolatile memory such as an EEPROM for storing the control data. did. For example, an aluminum master cell that outputs a logical value 1 or a logical value 0 by changing a wiring mask pattern is used for each bit of control data. However, even in that case, a register capable of setting control data in a programmable manner is required in terms of control diversity or good usability, so the output of the register and the aluminum master cell column corresponding to the register are necessary. In other words, a selector that can alternatively select one of the outputs is required, and the number of gates is greatly increased.

本発明の目的は、レジスタに対する制御データの初期設定に不揮発性メモリを要せず、しかも不揮発性メモリを代替するためにレジスタの出力を選択するセレクタやアルミマスタセルを必要としない半導体装置を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a semiconductor device that does not require a nonvolatile memory for initial setting of control data for a register and does not require a selector or an aluminum master cell for selecting the output of the register in order to replace the nonvolatile memory. There is to do.

本発明の前記並びにその他の目的と新規な特徴は本明細書の記述及び添付図面から明らかになるであろう。   The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記の通りである。   The following is a brief description of an outline of typical inventions disclosed in the present application.

すなわち、液晶駆動等に用いられる半導体装置は階調電圧生成回路等の回路の特性を調整するための制御データが記憶されるレジスタを、初期設定されるべき前記制御データに対応して、初期化制御信号の第1状態とラッチイネーブル制御信号の第1状態とに応答して論理値1をラッチする第1ラッチ回路と論理値0をラッチする第2ラッチ回路との配列によって構成する。これにより、前記レジスタに対する制御データの初期設定にEEPROMを要せず、前記レジスタの出力を受けるセレクタ及び当該セレクタで選択可能とするアルミマスタセルを一切必要としない。初期設定の後に前記第1ラッチ回路及び第2ラッチ回路を書換えれば制御データの変更も可能である。   That is, a semiconductor device used for liquid crystal driving or the like initializes a register storing control data for adjusting circuit characteristics such as a gradation voltage generation circuit in accordance with the control data to be initialized. It is constituted by an arrangement of a first latch circuit that latches a logical value 1 and a second latch circuit that latches a logical value 0 in response to the first state of the control signal and the first state of the latch enable control signal. As a result, an EEPROM is not required for initial setting of control data for the register, and a selector that receives the output of the register and an aluminum master cell that can be selected by the selector are not required. If the first latch circuit and the second latch circuit are rewritten after the initial setting, the control data can be changed.

本願において開示される発明のうち代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記のとおりである。   The effects obtained by the representative ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

すなわち、レジスタに対する制御データの初期設定に不揮発性メモリを要せず、しかも不揮発性メモリを代替するためにレジスタの出力を選択するセレクタやアルミマスタセルを必要としない。   That is, a nonvolatile memory is not required for initial setting of control data for the register, and a selector or an aluminum master cell for selecting the output of the register is not required to replace the nonvolatile memory.

1.実施の形態の概要
先ず、本願において開示される発明の代表的な実施の形態について概要を説明する。代表的な実施の形態についての概要説明で括弧を付して参照する図面中の参照符号はそれが付された構成要素の概念に含まれるものを例示するに過ぎない。
1. First, an outline of a typical embodiment of the invention disclosed in the present application will be described. Reference numerals in the drawings referred to in parentheses in the outline description of the representative embodiments merely exemplify what are included in the concept of the components to which the reference numerals are attached.

〔1〕本発明に係る半導体装置(30)は、回路(20)と、前記回路を調整するための制御データが記憶されるレジスタ(40)とを有する。前記レジスタは、初期設定されるべき前記制御データに対応して、初期化制御信号(sd)の第1状態とラッチイネーブル制御信号(e)の第1状態とに応答して論理値1をラッチする第1ラッチ回路(SL)と論理値0をラッチする第2ラッチ回路(RSL)との配列を有する。前記第1ラッチ回路及び第2ラッチ回路は、半導体基板上に形成された半導体領域とゲート配線のパターン(AR1,AR2)が同一であって前記半導体領域とゲート配線に接続された一層の配線層のパターン(AR3)が相違される。これにより、前記レジスタに対する制御データの初期設定にEEPROMを要せず、前記レジスタの出力を受けるセレクタ及び当該セレクタで選択可能とするアルミマスタセルを一切必要としない。初期設定の後に前記第1ラッチ回路及び第2ラッチ回路を書換えれば制御データの変更も可能である。前記一層の配線層のマスクパターンを変更するだけで簡単に制御データの初期値を決めることができる。   [1] A semiconductor device (30) according to the present invention includes a circuit (20) and a register (40) in which control data for adjusting the circuit is stored. The register latches a logical value 1 in response to the first state of the initialization control signal (sd) and the first state of the latch enable control signal (e) corresponding to the control data to be initialized. The first latch circuit (SL) and the second latch circuit (RSL) that latches the logical value 0 are arranged. In the first latch circuit and the second latch circuit, the semiconductor region formed on the semiconductor substrate and the gate wiring pattern (AR1, AR2) are the same, and one wiring layer connected to the semiconductor region and the gate wiring The pattern (AR3) is different. As a result, an EEPROM is not required for initial setting of control data for the register, and a selector that receives the output of the register and an aluminum master cell that can be selected by the selector are not required. If the first latch circuit and the second latch circuit are rewritten after the initial setting, the control data can be changed. The initial value of the control data can be easily determined simply by changing the mask pattern of the one wiring layer.

〔2〕項1の半導体装置において、前記初期化制御信号は半導体装置に対するリセット信号によるリセット指示レベルに応答して第1状態にされ、リセット信号によるリセット解除に応答して第2状態にされる。リセット信号によるリセット指示に応答してレジスタに制御データを初期設定することができる。   [2] In the semiconductor device of [1], the initialization control signal is set to a first state in response to a reset instruction level by a reset signal to the semiconductor device, and is set to a second state in response to reset release by the reset signal. . In response to a reset instruction by a reset signal, control data can be initialized in the register.

〔3〕項2の半導体装置において、前記第1ラッチ回路及び第2ラッチ回路は、前記初期化制御信号が第2状態にされ且つラッチイネーブル制御信号が第1状態にされるのに応答して、データ入力端子に供給される信号の論理値に応ずる値をラッチする。レジスタはリセット信号によるリセット解除後は、それとは別の信号であるラッチイネーブル制御信号に従って制御データの書き換えが可能にされる。   [3] In the semiconductor device of [2], the first latch circuit and the second latch circuit are responsive to the initialization control signal being set to the second state and the latch enable control signal being set to the first state. The value corresponding to the logical value of the signal supplied to the data input terminal is latched. After the reset release by the reset signal, the control data can be rewritten in accordance with a latch enable control signal which is a different signal.

〔4〕一つの具体的な観点による本発明の半導体装置は、階調電圧を生成し、生成した階調電圧の中から表示データに応ずる電圧を選択してディスプレイの表示駆動信号を出力する。個の半導体装置は前記ディスプレイの特性に合わせて前記階調電圧を生成するための制御データが記憶されるレジスタを有する。前記レジスタは、初期設定されるべき前記制御データに対応して、初期化制御信号の第1状態とラッチイネーブル制御信号に第1状態とに応答して論理値1をラッチする第1ラッチ回路と論理値0をラッチする第2ラッチ回路との配列を有する。前記第1ラッチ回路及び第2ラッチ回路は、半導体基板上に形成された半導体領域とゲート配線のパターンが同一であって前記半導体領域とゲート配線に接続された一層の配線層が相違される。これにより、前記レジスタに対する制御データの初期設定にEEPROMを要せず、前記レジスタの出力を受けるセレクタ及び当該セレクタで選択可能とするアルミマスタセルを一切必要としない。初期設定の後に前記第1ラッチ回路及び第2ラッチ回路を書換えれば制御データの変更も可能である。前記一層の配線層のマスクパターンを変更するだけで簡単に制御データの初期値を決めることができる。   [4] The semiconductor device of the present invention according to one specific aspect generates a gradation voltage, selects a voltage corresponding to display data from the generated gradation voltage, and outputs a display drive signal for the display. Each semiconductor device has a register in which control data for generating the gradation voltage in accordance with the characteristics of the display is stored. A first latch circuit for latching a logical value of 1 in response to a first state of an initialization control signal and a first state of a latch enable control signal corresponding to the control data to be initialized; It has an arrangement with a second latch circuit that latches a logical value 0. In the first latch circuit and the second latch circuit, the semiconductor region formed on the semiconductor substrate and the gate wiring pattern are the same, and one wiring layer connected to the semiconductor region and the gate wiring is different. As a result, an EEPROM is not required for initial setting of control data for the register, and a selector that receives the output of the register and an aluminum master cell that can be selected by the selector are not required. If the first latch circuit and the second latch circuit are rewritten after the initial setting, the control data can be changed. The initial value of the control data can be easily determined simply by changing the mask pattern of the one wiring layer.

〔5〕項4の半導体装置において、前記ラッチは前記一層の配線層の上層に形成された配線層の配線を介して前記レジスタの外部に接続される。前記レジスタの外部と接続される入力配線や出力配線は前記第1ラッチ回路及び第2ラッチ回路の配列状態に何ら影響を受けない。   [5] In the semiconductor device of [4], the latch is connected to the outside of the register through a wiring of a wiring layer formed in an upper layer of the one wiring layer. Input wiring and output wiring connected to the outside of the register are not affected at all by the arrangement state of the first latch circuit and the second latch circuit.

〔6〕項4の半導体装置において、前記初期化制御信号は半導体装置に対するリセット信号によるリセット指示レベルに応答して第1状態にされ、リセット信号によるリセット解除に応答して第2状態にされる。リセット信号によるリセット指示に応答してレジスタに制御データを初期設定することができる。   [6] In the semiconductor device of [4], the initialization control signal is set to a first state in response to a reset instruction level by a reset signal to the semiconductor device, and is set to a second state in response to reset release by the reset signal. . In response to a reset instruction by a reset signal, control data can be initialized in the register.

〔7〕項6の半導体装置において、前記第1ラッチ回路及び第2ラッチ回路は、前記初期化制御信号が第2状態にされ且つラッチイネーブル制御信号が第1状態にされるのに応答して、データ入力端子に供給される信号の論理値に応ずる値をラッチする。レジスタはリセット信号によるリセット解除後は、それとは別の信号であるラッチイネーブル制御信号に従って制御データの書き換えが可能にされる。   [7] In the semiconductor device of [6], the first latch circuit and the second latch circuit are responsive to the initialization control signal being set to the second state and the latch enable control signal being set to the first state. The value corresponding to the logical value of the signal supplied to the data input terminal is latched. After the reset release by the reset signal, the control data can be rewritten in accordance with a latch enable control signal which is a different signal.

〔8〕項7の半導体装置において、外部からコマンド及びデータを受取るシステムインタフェースを有し、前記システムインタフェースは前記レジスタに対する書込みコマンドに応答して前記ラッチイネーブル制御信号を所定期間第1状態に制御する。初期設定された制御データは所定のコマンドに応答して書換え可能になる。   [8] The semiconductor device according to [7], including a system interface that receives commands and data from the outside, and the system interface controls the latch enable control signal to a first state for a predetermined period in response to a write command to the register. . The initialized control data can be rewritten in response to a predetermined command.

〔9〕項7の半導体装置において、前記第1ラッチ回路と第2ラッチ回路の何れか一方のラッチ回路は、データ入力端子と前記初期化制御信号が入力される端子とを有し前記ラッチイネーブル制御信号の第1状態によって活性化され第2状態によって非活性化される2入力ノアゲート回路と、前記2入力ノアゲート回路の出力に接続され前記ラッチイネーブル制御信号の第1状態で前記2入力ノアゲート回路の出力信号を入力し、入力した信号を前記ラッチイネーブル制御信号の第2状態でラッチするスタティックラッチを有する。他方のラッチ回路は、データ入力端子と前記初期化制御信号の反転信号が入力される端子とを有し前記ラッチイネーブル制御信号の第1状態によって活性化され第2状態によって非活性化される2入力ナンドゲート回路と、前記2入力ナンドゲート回路の出力に接続され前記ラッチイネーブル制御信号の第1状態で前記2ナンドゲート回路の出力信号を入力し、入力した信号を前記ラッチイネーブル制御信号の第2状態でラッチするスタティックラッチを有する。これにより、前記第1ラッチ回路と第2ラッチ回路の書換え可能な構成を容易に実現することができる。   [9] In the semiconductor device of [7], either one of the first latch circuit and the second latch circuit has a data input terminal and a terminal to which the initialization control signal is input. A two-input NOR gate circuit activated by a first state of the control signal and inactivated by a second state; and the two-input NOR gate circuit connected to the output of the two-input NOR gate circuit and in the first state of the latch enable control signal And a static latch that latches the input signal in the second state of the latch enable control signal. The other latch circuit has a data input terminal and a terminal to which an inverted signal of the initialization control signal is input. The latch circuit is activated by the first state of the latch enable control signal and deactivated by the second state. An input NAND gate circuit is connected to the output of the two-input NAND gate circuit, and the output signal of the two-nand gate circuit is input in the first state of the latch enable control signal. The input signal is input in the second state of the latch enable control signal. It has a static latch to latch. Thereby, a rewritable configuration of the first latch circuit and the second latch circuit can be easily realized.

〔10〕項4の半導体装置において、前記補正データは前記ディスプレイのγ特性に合わせて駆動信号を生成するためのγ調整データである。これにより、適用されるディスプレイのγ特性を階調電圧に反映した半導体装置を得ることができる。   [10] In the semiconductor device of [4], the correction data is γ adjustment data for generating a drive signal in accordance with the γ characteristic of the display. As a result, a semiconductor device in which the γ characteristic of the applied display is reflected in the gradation voltage can be obtained.

〔11〕項10の半導体装置は、基準電圧を抵抗分圧する第1抵抗分圧回路と、前記第1抵抗分圧回路で分圧された複数の電圧の中から階調電圧の生成に利用する電圧を複数刻み単位で選択する選択回路と、選択回路で選択された複数の電圧に基づいて階調電圧を生成する第2抵抗分圧回路と、前記第1抵抗分圧回路と前記基準電圧との間に位置する第1可変抵抗と、前記第1抵抗分圧回路とグランドとの間に位置する第2可変抵抗とを備える。このとき、前記レジスタに初期設定される制御データは、前記第1可変抵抗及び第2可変抵抗の抵抗値を決定することによって階調電圧の振幅を調整する。γ特性を階調電圧の振幅に反映した半導体装置を得ることができる。   [11] The semiconductor device according to [10] is used to generate a gradation voltage from a first resistance voltage dividing circuit that resistance-divides a reference voltage and a plurality of voltages divided by the first resistance voltage dividing circuit. A selection circuit that selects a voltage in units of a plurality of steps, a second resistance voltage dividing circuit that generates a gradation voltage based on the plurality of voltages selected by the selection circuit, the first resistance voltage dividing circuit, and the reference voltage And a second variable resistor positioned between the first resistance voltage dividing circuit and the ground. At this time, the control data initially set in the register adjusts the amplitude of the gradation voltage by determining the resistance values of the first variable resistor and the second variable resistor. A semiconductor device in which the γ characteristic is reflected in the amplitude of the gradation voltage can be obtained.

〔12〕項11の半導体装置は更に、前記第1抵抗分圧回路の途中に配置された第3可変抵抗を備える。このとき、前記レジスタに初期設定される制御データは更に、前記可第3変抵抗の抵抗値を決定することによって階調番号−階調電圧特性の中央付近の傾きを調整する。γ特性を階調番号−階調電圧特性の中央付近の傾きに反映した半導体装置を得ることができる。   [12] The semiconductor device according to [11] further includes a third variable resistor disposed in the middle of the first resistance voltage dividing circuit. At this time, the control data initially set in the register further adjusts the slope of the gradation number-gradation voltage characteristic near the center by determining the resistance value of the third variable resistance. A semiconductor device can be obtained in which the γ characteristic is reflected in the gradient near the center of the gradation number-gradation voltage characteristic.

〔13〕項12の半導体装置において、前記レジスタに初期設定される制御データは更に、前記選択回路による選択電圧を決定することによって階調電圧を微調整する。階調電圧に対するγ特性の反映を微調整することができる。   [13] In the semiconductor device of item 12, the control data initially set in the register further finely adjusts the gradation voltage by determining the selection voltage by the selection circuit. The reflection of the γ characteristic with respect to the gradation voltage can be finely adjusted.

2.実施の形態の詳細
《液晶表示システム》
図2には液晶表示システムが例示される。同図に示される液晶ディスプレイパネル1はガラス製のパネル基板に液晶及びスイッチングトランジスタ等からなるアクティブマトリクス型の液晶ディスプレイ(DISP)2が形成される。液晶ディスプレイ2は多数の信号電極と走査電極が交差配置され、その交点位置には前記スイッチングトランジスタが形成されている。前記スイッチングトランジスタのゲート電極は対応する走査線に、ソース電極は対応する信号線に結合される。信号線および走査線等は前記パネル基板の縁辺部分に引き出されている。3は半導体集積回路化された液晶駆動制御装置(LCDDRV)であり、ホストインタフェース端子Tacc,Tprcを介してホスト装置(HST)4に接続されると共に、前記信号線に接続される信号端子(ソース端子)S1〜Sn及び前記走査線に接続される走査端子(ゲート端子)G1〜Gmを有する。ホスト装置4は装置全体の制御を行うプロセッサ(PRCS)5と、専ら液晶ディスプレイパネル1に対する表示制御を負担するアクセラレータ(ACCL)6を有する。RAM7はプロセッサ5のワーク領域等に利用される揮発性メモリ、IO9は外部入出力回路であり、それらはバス8を介してプロセッサ5及びアクセラレータ6に接続される。
2. Details of Embodiment << Liquid Crystal Display System >>
FIG. 2 illustrates a liquid crystal display system. In the liquid crystal display panel 1 shown in the figure, an active matrix type liquid crystal display (DISP) 2 including a liquid crystal and a switching transistor is formed on a glass panel substrate. In the liquid crystal display 2, a large number of signal electrodes and scanning electrodes are arranged so as to intersect with each other, and the switching transistor is formed at the intersection. The switching transistor has a gate electrode coupled to a corresponding scan line and a source electrode coupled to a corresponding signal line. Signal lines, scanning lines, and the like are drawn out to the edge portion of the panel substrate. Reference numeral 3 denotes a liquid crystal drive control device (LCDDRV) formed as a semiconductor integrated circuit, which is connected to the host device (HST) 4 through the host interface terminals Tacc and Tprc, and to the signal terminal (source) connected to the signal line. Terminals) S1 to Sn and scanning terminals (gate terminals) G1 to Gm connected to the scanning lines. The host device 4 includes a processor (PRCS) 5 that controls the entire device and an accelerator (ACCL) 6 that exclusively bears display control for the liquid crystal display panel 1. A RAM 7 is a volatile memory used for a work area or the like of the processor 5, and an IO 9 is an external input / output circuit, which are connected to the processor 5 and the accelerator 6 via the bus 8.

プロセッサ5は液晶駆動制御装置3及びアクセラレータ6に対する初期化動作を行う。液晶ディスプレイ2の特性に応じたγ(ガンマ)調整データに代表されるパラメータデータ等の制御データの初期設定に関しては詳細を後述するが、それが初期設定されるレジスタに、配線マスクパターンに応じて初期値が決定される回路構成を採用した。前記アクセラレータ6はプロセッサ5から与えられるコマンドに従って必要な表示データを例えば高速シリアルインタフェースプロトコルに従って液晶駆動制御装置3に供給したりする制御を行う。   The processor 5 performs an initialization operation for the liquid crystal drive control device 3 and the accelerator 6. The initial setting of control data such as parameter data represented by γ (gamma) adjustment data corresponding to the characteristics of the liquid crystal display 2 will be described later in detail, but the register in which it is initialized is set in accordance with the wiring mask pattern. A circuit configuration in which the initial value is determined is adopted. The accelerator 6 performs control to supply necessary display data to the liquid crystal drive control device 3 according to, for example, a high-speed serial interface protocol in accordance with a command given from the processor 5.

《液晶駆動制御装置》
図1には液晶駆動制御装置3の一例が示される。液晶駆動制御装置3は、例えば相補型MOS集積回路製造技術によって1個の半導体基板に形成され、前記アクセラレータ6に接続されるホストインタフェース端子Tacc、前記プロセッサ5に接続されるホストインタフェース端子Tprcを有する。ホストインタフェース端子Tacc,Tprcに接続されるホストインタフェース回路(HIF)11は、特に制限されないが、ホストインタフェース端子Taccを介して所定のパケットフォーマットに従って表示データ及びコマンドを入力する表示用インタフェース回路と、ホストインタフェース端子Tprcを介してコマンド及びデータを入力したり、内部データを出力したりするシステム制御用インタフェース回路とを有する。例えば、表示用インタフェース回路として高速シリアルインタフェースを採用している場合、コマンド及び表示データを差動で受取る。システム制御用インタフェースとしてパラレルインタフェースを採用している場合にはチップセレクト信号、ライト信号、リード信号等の入力ストローブ信号に従って入出力動作を行う。ホストインタフェース回路11はホストインタフェース端子Tacc,Tprcからコマンドを受取ると、そのコマンドをプリデコードし、コントロールレジスタ回路(CREG)12のレジスタに対する書込み操作を行うのか、読出し操作を行うかを判定すると共に、そのコマンドをインデックス回路(IDX)13にラッチさせる。インデックス回路13はラッチしたコマンドを解読し、解読結果に従ってコントロールレジスタ回路12のレジスタを選択する。
<Liquid crystal drive control device>
FIG. 1 shows an example of the liquid crystal drive control device 3. The liquid crystal drive control device 3 is formed on one semiconductor substrate by a complementary MOS integrated circuit manufacturing technique, for example, and has a host interface terminal Tacc connected to the accelerator 6 and a host interface terminal Tprc connected to the processor 5. . The host interface circuit (HIF) 11 connected to the host interface terminals Tacc and Tprc is not particularly limited, and a display interface circuit that inputs display data and commands according to a predetermined packet format via the host interface terminal Tacc, and a host A system control interface circuit for inputting commands and data and outputting internal data via the interface terminal Tprc. For example, when a high-speed serial interface is employed as the display interface circuit, commands and display data are received differentially. When a parallel interface is employed as the system control interface, input / output operations are performed in accordance with input strobe signals such as a chip select signal, a write signal, and a read signal. When the host interface circuit 11 receives a command from the host interface terminals Tacc and Tprc, the host interface circuit 11 predecodes the command and determines whether to perform a write operation or a read operation on the register of the control register circuit (CREG) 12. The command is latched by the index circuit (IDX) 13. The index circuit 13 decodes the latched command and selects the register of the control register circuit 12 according to the decoding result.

ホストインタフェース回路11は、プリデコード結果に従って読み出し操作を行うときは、選択されたコントロールレジスタ回路12のレジスタから値を出力させ、その出力を制御信号として表示動作や読出し動作などの内部動作が制御される。表示動作では、表示データの先頭アドレスがアドレスカウンタ(ACUNT)15にプリセットされ、表示データがライトデータレジスタ(WDR)16にセットされ、セットされた表示データはアドレスカウンタ15で生成されるメモリアドレスに従って表示メモリ(GRAM)17に書き込まれる。表示メモリ17に書込まれた表示データはタイミング制御回路(TGNR)18により表示タイミングに同期してソースドライバ(SOCDRV)19に読み出される。ソースドライバ19には階調電圧生成回路(TWVG)20で生成された複数階調分(例えば64階調分)の階調電圧26が供給される。前記表示データと階調電圧を受けるソースドライバ19は表示データで指定される階調の階調電圧によってソース線を駆動するための駆動信号を信号端子S1〜Snから外部に出力する。要するに、表示データを複数の階調電圧のレンジでDA変換して信号端子S1〜Snを駆動する。タイミング制御回路18は、信号端子S1〜Snによるソース線の駆動に並行してゲート信号線の走査タイミングをゲートドライバ(GTDRV)22に与え、ゲートドライバ22は走査タイミングに同期して走査端子G1〜Gmからゲート電極の駆動信号を出力する。走査端子G1〜Gmの駆動にはチャージポンプ回路を備えた液晶駆動レベル発生回路(DRLG)23で生成される駆動電圧27が用いられる。液晶駆動レベル発生回路23に接続する複数の外部端子Tcはチャージポンプ回路を構成するための容量素子等の外付け端子である。前記読出し動作では、アドレスカウンタ(ACUNT)15にプリセットされたメモリアドレスを基点に表示メモリ17からリードデータレジスタ(RDR)24に表示データが読み出され、読み出された表示データはホストインタフェース回路11からホスト装置4に出力される。   When the host interface circuit 11 performs a read operation in accordance with the predecode result, the host interface circuit 11 outputs a value from the register of the selected control register circuit 12, and the internal operation such as a display operation and a read operation is controlled using the output as a control signal. The In the display operation, the start address of the display data is preset in the address counter (ACUNT) 15, the display data is set in the write data register (WDR) 16, and the set display data is in accordance with the memory address generated by the address counter 15. It is written in the display memory (GRAM) 17. Display data written in the display memory 17 is read out to a source driver (SOCDRV) 19 by a timing control circuit (TGNR) 18 in synchronization with the display timing. The source driver 19 is supplied with gradation voltages 26 for a plurality of gradations (for example, 64 gradations) generated by a gradation voltage generation circuit (TWVG) 20. The source driver 19 that receives the display data and the gradation voltage outputs a drive signal for driving the source line from the signal terminals S1 to Sn to the outside by the gradation voltage of the gradation specified by the display data. In short, the display data is DA-converted in a range of a plurality of gradation voltages to drive the signal terminals S1 to Sn. The timing control circuit 18 applies the gate signal line scanning timing to the gate driver (GTDRV) 22 in parallel with the driving of the source lines by the signal terminals S1 to Sn, and the gate driver 22 synchronizes with the scanning timing. A drive signal for the gate electrode is output from Gm. For driving the scanning terminals G1 to Gm, a driving voltage 27 generated by a liquid crystal driving level generating circuit (DRLG) 23 having a charge pump circuit is used. A plurality of external terminals Tc connected to the liquid crystal drive level generation circuit 23 are external terminals such as a capacitor for constituting a charge pump circuit. In the read operation, display data is read from the display memory 17 to the read data register (RDR) 24 based on the memory address preset in the address counter (ACUNT) 15, and the read display data is stored in the host interface circuit 11. To the host device 4.

ホストインタフェース回路11は、前記プリデコード結果に従って前記書込み操作を行うときは、インデックスレジスタ13によって選択されたコントロールレジスタ回路12のレジスタに信号経路25を通してデータを書き込む制御を行う。   When the host interface circuit 11 performs the write operation according to the predecode result, the host interface circuit 11 performs control to write data to the register of the control register circuit 12 selected by the index register 13 through the signal path 25.

クロックパルスジェネレータ(CPG)30は端子OSC1,OSC2からの原発振クロックを入力して内部クロックCLKを生成し、タイミングジェネレータ50等に動作基準クロックとして供給する。電源回路(VSPL)31は基準電圧VREFと外部電源電圧VCCに基づいて内部電源VDDなどを生成する。   The clock pulse generator (CPG) 30 receives the original oscillation clock from the terminals OSC1 and OSC2, generates an internal clock CLK, and supplies it to the timing generator 50 and the like as an operation reference clock. The power supply circuit (VSPL) 31 generates an internal power supply VDD and the like based on the reference voltage VREF and the external power supply voltage VCC.

前記コントロールレジスタ回路12は多数のコントロールレジスタ40を有し、前述のようにインデック回路13からの指定によって読み出されたデータは液晶駆動制御装置3における内部回路のための動作制御用の信号として機能される。その信号は内部動作手順を規定するためのシーケンス制御信号として機能されるもの、更には内部回路の特性を調整するためのパラメータデータとして機能されるものがある。前者としてはパワーオンシーケンス制御用、表示動作のシーケンス制御用、読出し動作のシーケンス制御用などである。後者としては、前記ディスプレイのγ特性に合わせて駆動信号を生成するためのγ調整データ、ディスプレイの表示色に応じたシステム定義データ、ディスプレインサイズに応じた表示メモリのスタートアドレス定義データ等とされる。これらのコントロールレジスタ40にはパワーオンリセット又はシステムリセットに際して初期値が設定される。   The control register circuit 12 has a large number of control registers 40, and the data read by the designation from the index circuit 13 as described above functions as an operation control signal for the internal circuit in the liquid crystal drive control device 3. Is done. The signal functions as a sequence control signal for defining an internal operation procedure, and further functions as parameter data for adjusting the characteristics of the internal circuit. The former is for power-on sequence control, display operation sequence control, readout operation sequence control, and the like. The latter includes gamma adjustment data for generating a drive signal in accordance with the gamma characteristics of the display, system definition data according to the display color of the display, start address definition data of the display memory according to the display size, etc. The Initial values are set in these control registers 40 at the time of power-on reset or system reset.

《コントロールレジスタのセットラッチとリセットラッチ》
図3にはコントロールレジスタ回路12に備えられた一つのコントロールレジスタ40が例示される。同図に代表的に示された一つのコントロールレジスタ40は例えばD0〜Dkの複数ビットのラッチ回路の配列を有する。D0〜Dkの各ビットのラッチ回路は、初期設定されるべき制御データに対応して、初期化制御信号sdの初期化指示レベル(例えばハイレベル:H)に応答して論理値1をラッチするセットラッチ回路(SL:Set Latch)及び論理値0をラッチするリセットラッチ回路の組合せによいって構成される。例えば初期化制御信号sdの初期化指示レベルに応答してDk〜D0に値“101…110”をラッチさせるには、ビットDkをセットラッチ回路SL、Djをリセットラッチ回路RSL、Diをセットラッチ回路SL、…、D2をセットラッチ回路SL、D1をセットラッチ回路SL、及びD1をリセットラッチ回路RSLで構成すればよい。
<Control register set latch and reset latch>
FIG. 3 illustrates one control register 40 provided in the control register circuit 12. One control register 40 representatively shown in the figure has an arrangement of latch circuits of a plurality of bits D0 to Dk, for example. The latch circuit for each bit of D0 to Dk latches the logical value 1 in response to the initialization instruction level (for example, high level: H) of the initialization control signal sd corresponding to the control data to be initialized. It is suitable for a combination of a set latch circuit (SL: Set Latch) and a reset latch circuit that latches a logical value 0. For example, in order to latch the values “101... 110” in Dk to D0 in response to the initialization instruction level of the initialization control signal sd, the bit Dk is set latch circuit SL, Dj is reset latch circuit RSL, Di is set latched The circuits SL,..., D2 may be configured by a set latch circuit SL, D1 may be configured by a set latch circuit SL, and D1 may be configured by a reset latch circuit RSL.

前記初期化制御信号sdは液晶駆動制御装置3に対するリセット信号RES(図1参照)によるリセット指示レベルであるローレベルに応答してハイレベルにされ、リセット信号によるリセット解除に応答してローレベルにされる。リセット信号RESによるリセット指示に応答してコントロールレジスタに制御データを初期設定することができる。尚、リセット信号RESはシステムインタフェース端子Tprcの中の一つの端子と考えてもよい。   The initialization control signal sd is set to a high level in response to a low level which is a reset instruction level by a reset signal RES (see FIG. 1) for the liquid crystal drive control device 3, and is set to a low level in response to a reset release by the reset signal. Is done. Control data can be initialized in the control register in response to a reset instruction by the reset signal RES. The reset signal RES may be considered as one terminal in the system interface terminal Tprc.

前記夫々のラッチ回路SL,RSLは、前記初期化制御信号sdがローレベルにされたときは、ラッチイネーブル制御信号eがハイレベルにされるのに応答してデータ入力端子に供給される信号を取り込み、ラッチイネーブル制御信号eがローレベルにされるのに応答して前記取り込んだ信号をラッチする。したがって、コントロールレジスタ40はリセット信号RESによるリセット解除後は、それとは別の信号であるラッチイネーブル制御信号eに従って制御データの書き換えが可能にされる。尚、初期化制御信号sd、ラッチイネーブル制御信号e、入力データdは図1のホストインタフェース回路11から信号線25を介して供給される。   Each of the latch circuits SL and RSL receives a signal supplied to the data input terminal in response to the latch enable control signal e being set to high level when the initialization control signal sd is set to low level. The latched signal is latched in response to the latching and latch enable control signal e being set to the low level. Therefore, after the reset is released by the reset signal RES, the control register 40 can rewrite the control data according to the latch enable control signal e which is a different signal. The initialization control signal sd, the latch enable control signal e, and the input data d are supplied from the host interface circuit 11 shown in FIG.

図4にはリセットラッチ回路SLの論理回路図が例示される。リセットラッチ回路SLは2入力ナンドゲート回路NAND、スタティックラッチを構成するためにナンドゲート回路NANDに逆並列接続されたインバータINV4、出力用のインバータINV6、及び論理整合用のインバータINV5A〜INV5Dから成る。インバータINV5Dは前記ラッチイネーブル制御信号eのハイレベルによって活性化され、ローレベルによって非活性化され、それが活性化されたとき、ナンドゲート回路NANDは初期化制御信号sdとデータdとの排他的論理積信号を形成して出力する。ナンドゲート回路NANDとインバータINV4から成るスタティックラッチは、ラッチイネーブル制御信号eのハイレベルで前記インバータINV5Dの出力信号を入力し、入力した信号を前記ラッチイネーブル制御信号eのローレベルでラッチする。したがって、リセット指示に応答して初期化制御信号sd=H、ラッチイネーブル制御信号e=Hにされることによってスタティックラッチに論理値0が初期設定される。リセット指示が解除された後は、初期化制御信号sd=Lに固定されるので、コントロールレジスタ40に対する書込みコマンドに応答して書込みラッチイネーブル制御信号e=Hにされることを条件に、スタティックラッチはデータdの論理値に応ずる値に書換え可能にされる。   FIG. 4 illustrates a logic circuit diagram of the reset latch circuit SL. The reset latch circuit SL includes a two-input NAND gate NAND, an inverter INV4 connected in antiparallel to the NAND gate NAND to form a static latch, an output inverter INV6, and logic matching inverters INV5A to INV5D. The inverter INV5D is activated by the high level of the latch enable control signal e and deactivated by the low level. When the inverter INV5D is activated, the NAND gate circuit NAND performs exclusive logic between the initialization control signal sd and the data d. Form product signal and output. The static latch composed of the NAND gate circuit NAND and the inverter INV4 inputs the output signal of the inverter INV5D at the high level of the latch enable control signal e, and latches the input signal at the low level of the latch enable control signal e. Therefore, in response to the reset instruction, the initialization control signal sd = H and the latch enable control signal e = H are set to initialize the logical value 0 in the static latch. Since the initialization control signal sd = L is fixed after the reset instruction is released, the static latch is set on condition that the write latch enable control signal e = H is set in response to the write command to the control register 40. Can be rewritten to a value corresponding to the logical value of the data d.

図5にはセットラッチ回路SLの論理回路図が例示される。セットラッチ回路SLは2入力ノアゲート回路NOR、スタティックラッチを構成するために前記ノアゲート回路NORに逆並列接続されたインバータINV1、出力用のインバータINV3、および論理整合用のインバータINV2A〜INV2Eから成る。インバータINV2Eは前記ラッチイネーブル制御信号eのハイレベルによって活性化され(出力動作可能状態)、ローレベルによって非活性化され(出力高インピーダンス状態)、それが活性化されたとき、ノアゲート回路NORは初期化制御信号sdとデータdとの排他的論理和信号を形成して出力する。ノアゲート回路NORとインバータINV1から成るスタティックラッチは、ラッチイネーブル制御信号eのハイレベルで前記インバータINV2Eの出力を入力し、入力した信号を前記ラッチイネーブル制御信号eのローレベルでラッチする。したがって、リセット指示に応答して初期化制御信号sd=H、ラッチイネーブル制御信号e=Hにされることによってスタティックラッチに論理値1が初期設定される。リセット指示が解除された後は、初期化制御信号sd=Lに固定されるので、コントロールレジスタ40に対する書込みコマンドに応答して書込みラッチイネーブル制御信号e=Hにされることを条件に、スタティックラッチはデータdの論理値に応ずる値に書換え可能にされる。   FIG. 5 illustrates a logic circuit diagram of the set latch circuit SL. The set latch circuit SL includes a two-input NOR gate circuit NOR, an inverter INV1 connected in antiparallel to the NOR gate circuit NOR to form a static latch, an output inverter INV3, and logic matching inverters INV2A to INV2E. The inverter INV2E is activated by the high level of the latch enable control signal e (output operable state) and deactivated by the low level (output high impedance state), and when it is activated, the NOR gate circuit NOR is initialized. An exclusive OR signal of the control signal sd and the data d is formed and output. The static latch composed of the NOR gate circuit NOR and the inverter INV1 inputs the output of the inverter INV2E at the high level of the latch enable control signal e, and latches the input signal at the low level of the latch enable control signal e. Therefore, in response to the reset instruction, the initialization control signal sd = H and the latch enable control signal e = H are set to initialize the logical value 1 to the static latch. Since the initialization control signal sd = L is fixed after the reset instruction is released, the static latch is set on condition that the write latch enable control signal e = H is set in response to the write command to the control register 40. Can be rewritten to a value corresponding to the logical value of the data d.

図6にはリセットラッチRSLの図4の論理を実現する回路が例示される。リセットラッチRSLはnチャンネル型MOSトランジスタMN1〜MN9,MN11と、pチャンネル型MOSトランジスタMP1〜MP9,MP11とから成る。   FIG. 6 illustrates a circuit for realizing the logic of FIG. 4 of the reset latch RSL. The reset latch RSL includes n-channel MOS transistors MN1 to MN9 and MN11 and p-channel MOS transistors MP1 to MP9 and MP11.

図7にはセットラッチSLの図5の論理を実現する回路が例示される。セットラッチSLはnチャンネル型MOSトランジスタMN1〜MN11と、pチャンネル型MOSトランジスタMP1〜MP11とから成る。図7でインバータINV2Aを構成するのに用いたnチャンネル型MOSトランジスタMN10はゲート、ソース及びドレインが回路のグランド端子GNDに共通接続されて不使用にされる。同じく図7でインバータINV2Aを構成するのに用いたpチャンネル型MOSトランジスタMP10はゲート、ソース及びドレインが電源端子VDDに共通接続されて不使用にされる。   FIG. 7 illustrates a circuit for realizing the logic of FIG. 5 of the set latch SL. The set latch SL includes n-channel MOS transistors MN1 to MN11 and p-channel MOS transistors MP1 to MP11. The n-channel MOS transistor MN10 used to configure the inverter INV2A in FIG. 7 is not used because its gate, source, and drain are commonly connected to the circuit ground terminal GND. Similarly, the p-channel MOS transistor MP10 used to configure the inverter INV2A in FIG. 7 is not used because its gate, source, and drain are commonly connected to the power supply terminal VDD.

《セットラッチとリセットラッチのレイアウトパターン》
図8には図6のリセットラッチRSLのレイアウトパターンが例示される。特に制限されないが、nチャンネル型MOSトランジスタはp型半導体基板に形成され、pチャンネル型MOSトランジスタはp型半導体基板内のn型のウェル領域NWELLに形成される。図8において、AR1で代表される太い破線で囲んだ領域(パターン)はMOSトランジスタのソース・ドレイン等を構成するための拡散領域のような半導体領域である。AR2で代表される2種類のハッチングが施された領域(パターン)はゲート配線である。AR3で代表されるハッチングが施された領域(パターン)は第1層目の金属配線である。第1層目の金属配線の上に形成される第2層目の金属配線、更にその上に形成される第3層目金属配線は図示を省略している。リセットラッチ回路RSL内のセル内配線は第1層目の金属配線を用いて行われている。リセットラッチ回路RSLを外部に接続するセル間配線は第2層目の金属配線及び第3層目金属配線を用いて行われる。AR4で代表される四角形の領域は上下の導電層を接続するためのスルーホール若しくはビア(via)を意味する。
《Set latch and reset latch layout pattern》
FIG. 8 illustrates a layout pattern of the reset latch RSL of FIG. Although not particularly limited, the n-channel MOS transistor is formed on a p-type semiconductor substrate, and the p-channel MOS transistor is formed in an n-type well region NWELL in the p-type semiconductor substrate. In FIG. 8, a region (pattern) surrounded by a thick broken line represented by AR1 is a semiconductor region such as a diffusion region for constituting a source / drain of a MOS transistor. A region (pattern) subjected to two types of hatching represented by AR2 is a gate wiring. A hatched region (pattern) represented by AR3 is a first-layer metal wiring. The second-layer metal wiring formed on the first-layer metal wiring and the third-layer metal wiring formed thereon are not shown. The intra-cell wiring in the reset latch circuit RSL is performed using the first layer metal wiring. The inter-cell wiring that connects the reset latch circuit RSL to the outside is performed using the second-layer metal wiring and the third-layer metal wiring. A rectangular region represented by AR4 means a through hole or a via for connecting the upper and lower conductive layers.

図9には図7のセットラッチSLのレイアウトパターンが例示される。図8との相違点はAR3で代表される右上から左下に向かうハッチングが施された第1層目の金属配線のパターンだけであり、AR1で代表される太い破線で囲んだ半導体領域、及びAR2で代表されるハッチングが施されたゲート配線のパターンは図8と同じである。即ち、セットラッチSLとリセットラッチRSLラッチは半導体基板上に形成された半導体領域とゲート配線のパターン(AR1,AR2)が同一であって前記半導体領域とゲート配線に接続された一層の配線層のパターン(AR3)が相違される関係を有している。図10にはセットラッチSLとリセットラッチRSLに共通のAR1で代表される半導体領域とAR2で代表されるゲート配線との共通のパターンが示される。図11にはリセットラッチRSLのためのAR3で代表される第1層目の金属配線のパターンが示される。図12にはセットラッチSLのためのAR3で代表される第1層目の金属配線のパターンが示される。これにより、液晶駆動制御装置を製造するときに使用するAR1で代表される半導体領域を規定するフォトマスクのパターンと、AR2で代表されるゲート配線を規定するフォトマスクのパターンは、コントロールレジスタ40に設定すべき初期値に拘わらず同じでよい。要するに、コントロールレジスタ40の初期値を決めるために当該レジスタにおけるセットラッチSLとリセットラッチRSLの配列を決めるには、第1層目の金属配線層のパターンAR3を製造するためのフォトマスクのパターンだけを変更すれば足りる。   FIG. 9 illustrates a layout pattern of the set latch SL of FIG. The only difference from FIG. 8 is the pattern of the metal wiring in the first layer that is hatched from the upper right to the lower left, represented by AR3, the semiconductor region surrounded by the thick broken line represented by AR1, and AR2 The hatched gate wiring pattern represented by (2) is the same as FIG. That is, the set latch SL and the reset latch RSL latch have the same wiring pattern (AR1, AR2) of the semiconductor region formed on the semiconductor substrate and one wiring layer connected to the semiconductor region and the gate wiring. The pattern (AR3) has a different relationship. FIG. 10 shows a common pattern of a semiconductor region represented by AR1 common to the set latch SL and the reset latch RSL and a gate wiring represented by AR2. FIG. 11 shows a first-layer metal wiring pattern represented by AR3 for the reset latch RSL. FIG. 12 shows a first-layer metal wiring pattern represented by AR3 for the set latch SL. As a result, the photomask pattern that defines the semiconductor region represented by AR1 and the photomask pattern that defines the gate wiring represented by AR2 used when manufacturing the liquid crystal drive control device are stored in the control register 40. It may be the same regardless of the initial value to be set. In short, in order to determine the arrangement of the set latch SL and the reset latch RSL in the register to determine the initial value of the control register 40, only the pattern of the photomask for manufacturing the pattern AR3 of the first metal wiring layer is required. It is enough to change.

上記セットラッチSL及びリセットラッチRSLを採用することにより、前記コントロールレジスタ40に対する制御データの初期設定にEEPROMを要せず、また、前記レジスタ40の出力を受けるセレクタ及び当該セレクタで選択可能とするアルミマスタセルを一切必要としない。特に図示はしないが、仮に、複数のコントロールレジスタ40の初期設定データをEEPROMに格納しておく場合、図1の液晶駆動制御装置3におけるホストインタフェース回路11はEEPROMに接続するインタフェース回路を持たなければならない。そのような初期設定を液晶駆動制御装置3自らで行わなければならない仕様に対しては、ホストインタフェース回路11それ自体がEEPROMに対するメモリ制御機能を備えなければならない。EEPROMがシリアルメモリであってもそのための制御ロジックと外部端子が必要になり、液晶パネルに初期設定用のEEPROMを搭載しなければならないだけでなく、液晶駆動制御装置自らEEPROMに対するメモリ制御機能を備えなければならない。レジスタに上記セットラッチSL及びリセットラッチRSLを採用しない場合には、図13に例示されるように、レジスタIREGの出力にセレクタSLCTのアレイとアルミマスタセルAMCLのアレイを配置しなければならない。アルミマスタセルAMCLは一層のアルミニウム配線によってセレクタSLCTの一方の入力を論理値0のグランド電圧GND又は論理値1の電源電圧VDDに固定する。セレクタSLCTは固定選択信号FSELのイネーブルに応答してアルミマスタセルAMCLの出力を選択する。セレクタSLCTは2.5ゲート、アルミマスタセルAMCLは0.5ゲートを要し、レジスタ40に相当するレジスタIREGの数が数千個に及ぶことを考慮すると、セレクタSLCTとアルミマスタセルAMCLによるチップ占有面積の増大を無視することはできない。1ゲートとは例えばCMOS基本ゲートを意味する。初期設定を要する大規模なレジスタ回路12に前記セットラッチSL及びリセットラッチRSLを採用することによりチップ占有面積の増大を大幅に抑えることができる。   By adopting the set latch SL and the reset latch RSL, an EEPROM is not required for the initial setting of the control data for the control register 40, and a selector that receives the output of the register 40 and an aluminum that can be selected by the selector. No master cell is required. Although not specifically illustrated, if initial setting data of a plurality of control registers 40 are stored in the EEPROM, the host interface circuit 11 in the liquid crystal drive control device 3 of FIG. 1 must have an interface circuit connected to the EEPROM. Don't be. For specifications in which such initial setting must be performed by the liquid crystal drive control device 3 itself, the host interface circuit 11 itself must have a memory control function for the EEPROM. Even if the EEPROM is a serial memory, control logic and external terminals are required for this purpose, and not only the initial setting EEPROM must be mounted on the liquid crystal panel, but also the liquid crystal drive controller itself has a memory control function for the EEPROM. There must be. When the set latch SL and the reset latch RSL are not employed for the registers, as illustrated in FIG. 13, an array of selectors SLCT and an array of aluminum master cells AMCL must be arranged at the output of the register IREG. Aluminum master cell AMCL fixes one input of selector SLCT to ground voltage GND of logical value 0 or power supply voltage VDD of logical value 1 by a single layer of aluminum wiring. The selector SLCT selects the output of the aluminum master cell AMCL in response to the enable of the fixed selection signal FSEL. The selector SLCT requires 2.5 gates, the aluminum master cell AMCL requires 0.5 gates, and considering that the number of registers IREG corresponding to the register 40 reaches several thousand, a chip composed of the selector SLCT and the aluminum master cell AMCL. The increase in occupied area cannot be ignored. One gate means, for example, a CMOS basic gate. By adopting the set latch SL and the reset latch RSL in the large-scale register circuit 12 that requires initial setting, an increase in the chip occupation area can be significantly suppressed.

しかも、上記セットラッチSL及びリセットラッチRSLを採用することにより、パターンAR3を形成する前記一層の配線層のマスクパターンを変更するだけで簡単に制御データの初期値を決めることができる。例えば、図14に例示されるように、液晶駆動制御装置3のサンプルLSIを試作して液晶パネルの製造メーカーに提出したとき(S1)、液晶パネルの製造メーカーはそのサンプルLSIを液晶パネルに組み込んでパネルの調整を行い(S2)、また、その液晶パネルのγ調整データを生成する(S3)。この間に、当該サンプルLSIを提供したLSIの製造メーカーは半導体駆動制御装置を実現するLSIのためのベースウェーハを製造し、前記パターンAR3を形成する前記一層の配線層としての最下層の金属配線層M1よりも上層の配線層のフォトマスクを予め製造しておく(S7)。レジスタ40の各ビットを上記セットラッチSLとするかリセットラッチRSLとするかを決定するのは最下層の金属配線層M1のパターンだけだからである。LSIの製造メーカーはγ調整データを受取ると、それに従って最下層の金属配線層M1の配線パターンのためのフォトマスクを改訂し(S5)、予め製造したベースウェーハに、改訂したフォトマスクと、予め用意してあるフォトマスクを利用して、LSIの量産を行い(S5)、製造されたLSIを出荷する(S6)。   In addition, by employing the set latch SL and the reset latch RSL, the initial value of the control data can be easily determined simply by changing the mask pattern of the one wiring layer forming the pattern AR3. For example, as illustrated in FIG. 14, when a sample LSI of the liquid crystal drive control device 3 is prototyped and submitted to a liquid crystal panel manufacturer (S1), the liquid crystal panel manufacturer incorporates the sample LSI into the liquid crystal panel. The panel is adjusted (S2), and γ adjustment data for the liquid crystal panel is generated (S3). During this period, the LSI manufacturer that provided the sample LSI manufactures a base wafer for the LSI that realizes the semiconductor drive control device, and forms the lowermost metal wiring layer as the one-layer wiring layer that forms the pattern AR3. A photomask for the wiring layer above M1 is manufactured in advance (S7). This is because it is only the pattern of the lowermost metal wiring layer M1 that determines whether each bit of the register 40 is the set latch SL or the reset latch RSL. When the LSI manufacturer receives the γ adjustment data, the photomask for the wiring pattern of the lowermost metal wiring layer M1 is revised accordingly (S5), and the revised photomask, Using the prepared photomask, LSI is mass-produced (S5), and the manufactured LSI is shipped (S6).

したがって、初期設定のための不揮発性メモリを必要とせず、液晶駆動制御装置3のチップ面積を大幅に増大させることなく、しかも、γ調整データを受取ってから液晶駆動制御装置を出荷するまでの時間を短く抑えることができる。多数のコントロールレジスタ40の初期設定の後にセットラッチSL及びリセットラッチRSLは任意に書換え可能であり、初期設定後の制御データの変更も可能である。   Therefore, a nonvolatile memory for initial setting is not required, the chip area of the liquid crystal drive control device 3 is not significantly increased, and the time from the receipt of the γ adjustment data to the shipment of the liquid crystal drive control device. Can be kept short. The set latch SL and the reset latch RSL can be arbitrarily rewritten after the initial setting of a large number of control registers 40, and the control data can be changed after the initial setting.

《階調電圧生成回路とγ調整》
ここで、コントロールレジスタ40に設定された制御データの使用例としてγ調整データを用いた階調電圧生成回路20による階調電圧生成機能について説明する。
《Gradation voltage generation circuit and γ adjustment》
Here, the gradation voltage generation function by the gradation voltage generation circuit 20 using γ adjustment data will be described as an example of use of the control data set in the control register 40.

先ず、一般的なガンマ特性について、図15を用いて説明する。図15において(a)は、液晶パネルのモードがノーマリーブラックモードである場合の印加電圧−輝度特性を示したものであり、低い印加電圧では低輝度、高い印加電圧では高輝度となる。特徴としては、低い印加電圧領域と高い印加電圧領域では印加電圧に対する輝度変化が鈍い(飽和)状態となることが挙げられる。また、上記ノーマリーブラックモードの液晶パネルの他にもノーマリーホワイトモードの液晶パネルがあるが、以下ノーマリーブラックモードの液晶パネルを対象とし、説明を行う。尚、本発明は上記液晶パネルのモードに関係なく適用可能である。   First, general gamma characteristics will be described with reference to FIG. FIG. 15A shows the applied voltage-luminance characteristics when the mode of the liquid crystal panel is a normally black mode. The luminance is low at a low applied voltage and high at a high applied voltage. A feature is that the luminance change with respect to the applied voltage becomes dull (saturated) in the low applied voltage region and the high applied voltage region. In addition to the normally black mode liquid crystal panel, there is a normally white mode liquid crystal panel. Hereinafter, a description will be given of a normally black mode liquid crystal panel. The present invention can be applied regardless of the mode of the liquid crystal panel.

図15(b)は階調番号−輝度特性を示したものである。通常、この特性をガンマ特性と称されている。ここで、図15(b)の101は階調番号の増加に対し、輝度がリニアに上昇する特性を示しており、この特性をγ=1.0の特性と呼ぶ。ここでこのγ値は、下記(1)式
(階調番号)γ=輝度[cd/m]・・・(1)
の関係式により成り立つ。階調番号とは複数の階調電圧に割り当てられる識別番号を単に意味する。
FIG. 15B shows gradation number-luminance characteristics. Usually, this characteristic is called a gamma characteristic. Here, reference numeral 101 in FIG. 15B indicates a characteristic in which the luminance increases linearly as the gradation number increases, and this characteristic is referred to as a characteristic of γ = 1.0. Here, this γ value is expressed by the following equation (1) (tone number) γ = luminance [cd / m 2 ] (1)
The following relational expression holds. The gradation number simply means an identification number assigned to a plurality of gradation voltages.

上記(1)式より、図15(b)の102、103はそれぞれγ=2.2、γ=3.0の特性を示したものである。ここで従来、液晶パネルに表示データを表示させた場合、その表示画像が人の目で最も高画質であると感じる特性は、一般に上記102のγ=2.2の時である。   From the above equation (1), 102 and 103 in FIG. 15B show the characteristics of γ = 2.2 and γ = 3.0, respectively. Here, conventionally, when display data is displayed on the liquid crystal panel, the characteristic that the displayed image feels the highest image quality to the human eye is generally when γ = 2.2 in 102 above.

液晶駆動制御装置では、階調番号毎に印加電圧を調整することで、上記ガンマ特性の調整を行っている。図15(c)は上記した階調番号−印加電圧の関係図であり、階調数を64階調とした場合である。図15で示した印加電圧−輝度特性は液晶パネル個々において異なり、例とし、上記γ=2.2に印加電圧を合わせた場合、液晶パネル個々でその印加電圧の調整値は異なってくる。図15(c)の104は上記γ=2.2とした場合の階調番号−印加電圧の関係図である。105、106はそれぞれ104と異なった液晶パネルにおいて、γ=2.2とした場合の階調番号−印加電圧の関係図である。階調電圧生成回路20は階調電圧を液晶パネル個々の特性に合わせて所望のガンマ特性に調整できるようになっている。   In the liquid crystal drive control device, the gamma characteristic is adjusted by adjusting the applied voltage for each gradation number. FIG. 15C is a relationship diagram of the gradation number-applied voltage described above, in which the number of gradations is 64 gradations. The applied voltage-luminance characteristics shown in FIG. 15 are different for each liquid crystal panel. For example, when the applied voltage is adjusted to γ = 2.2, the adjustment value of the applied voltage differs for each liquid crystal panel. Reference numeral 104 in FIG. 15C is a relationship diagram of gradation number-applied voltage when γ = 2.2. Reference numerals 105 and 106 are gradation number-applied voltage relationship diagrams when γ = 2.2 in a liquid crystal panel different from 104. The gradation voltage generation circuit 20 can adjust the gradation voltage to a desired gamma characteristic according to the characteristics of each liquid crystal panel.

図16にはコントロールレジスタに設定された制御データの使用例としてγ調整データを受ける階調電圧生成回路20の具体例が示される。   FIG. 16 shows a specific example of the gradation voltage generation circuit 20 that receives the γ adjustment data as an example of use of the control data set in the control register.

図16ではコントロールレジスタ回路12のコントロールレジスタ40としてディスプレイのガンマ特性を調整するためのγ調整データを保持する3個のレジスタ(REG_1〜REG_3)40_1〜40_3が代表的に示される。レジスタ40_1は振幅調整レジスタ(AMPLTD)、レジスタ40_2は傾き調整レジスタ(GRDENT)、レジスタ40_3は微調整レジスタ(FINTUN)とされる。   FIG. 16 representatively shows three registers (REG_1 to REG_3) 40_1 to 40_3 that hold γ adjustment data for adjusting the gamma characteristic of the display as the control register 40 of the control register circuit 12. The register 40_1 is an amplitude adjustment register (AMPLTD), the register 40_2 is a slope adjustment register (GRDENT), and the register 40_3 is a fine adjustment register (FINTUN).

階調電圧生成回路20は、外部から供給される基準電圧VREFとグランド電圧GNDとの間から各階調電圧を生成するラダー抵抗回路50を有する。このラダー抵抗回路50は可変抵抗51〜54、及びその可変抵抗にて抵抗分割された電圧をさらに抵抗分割するための抵抗分圧回路56〜61を有する。抵抗分圧回路56〜61で夫々生成された複数の分圧電圧は対応するセレクタ回路66〜71で選択される。各セレクタ回路で選択された出力電圧と、可変抵抗51と抵抗分圧回路56との結合ノードの電圧と、可変抵抗54と抵抗分圧回路61との結合ノードの電圧とはバッファアンプ75〜82に入力される。バッファアンプ75〜82の電圧出力端子には出力ラダー抵抗回路90が配置される。出力ラダー抵抗回路90は、抵抗91,92と抵抗分圧回路93〜97の直列回路によって例えば64階調分の階調電圧を形成する。生成された階調電圧はソースドライバ19に供給される。ソースドライバ19は表示メモリ17から供給される表示データDAT_DISPに対応する階電圧を前記複数の階調電圧から選んで走査線上の画素単位で駆動信号S1〜Snを出力する。   The gradation voltage generation circuit 20 includes a ladder resistor circuit 50 that generates each gradation voltage from between the reference voltage VREF supplied from the outside and the ground voltage GND. The ladder resistor circuit 50 includes variable resistors 51 to 54 and resistor voltage dividing circuits 56 to 61 for further dividing the voltage divided by the variable resistors. A plurality of divided voltages generated by the resistor voltage dividing circuits 56 to 61 are selected by the corresponding selector circuits 66 to 71, respectively. The output voltage selected by each selector circuit, the voltage at the coupling node between the variable resistor 51 and the resistance voltage dividing circuit 56, and the voltage at the coupling node between the variable resistor 54 and the resistance voltage dividing circuit 61 are buffer amplifiers 75 to 82. Is input. An output ladder resistor circuit 90 is disposed at the voltage output terminals of the buffer amplifiers 75 to 82. The output ladder resistor circuit 90 forms, for example, gradation voltages for 64 gradations by a series circuit of resistors 91 and 92 and resistance voltage dividing circuits 93 to 97. The generated gradation voltage is supplied to the source driver 19. The source driver 19 selects a step voltage corresponding to the display data DAT_DISP supplied from the display memory 17 from the plurality of gradation voltages, and outputs drive signals S1 to Sn in units of pixels on the scanning line.

ここでラダー抵抗50の下側に設置されている下側可変抵抗54は、振幅調整レジスタ40_1の下側可変抵抗設定値110により、その抵抗値を設定できる構成にされる。ラダー抵抗50の上側に設置されている上側可変抵抗51は、振幅調整レジスタ40_1の上側可変抵抗設定値111により、その抵抗値を設定できる構成にされる。この両可変抵抗54,51により抵抗分割された電圧を階調番号の両端の階調電圧とし、その階調電圧の振幅調整を振幅調整レジスタ40_1の値に従って行うことができる。図17(a)は、振幅調整レジスタ40_1により、ラダー抵抗50の両端部の可変抵抗値を設定した各場合の階調番号−階調電圧特性について示している。ここで201は、階調電圧の低い側の電圧値は変化させずに、高い側の電圧値を変化させ、階調電圧の振幅電圧を調整した場合であり、202は階調電圧の高い側の電圧値は変化させずに、低い側の電圧値を変化させ、階調電圧の振幅電圧を調整した場合の特性図である。201、202は上記ラダー抵抗の両端部の可変抵抗値を振幅調整レジスタで片側(基準電圧側又はGND側)だけを設定した場合である。また203は上記ラダー抵抗の両端部の可変抵抗値を振幅調整レジスタで同時に設定した場合の特性図である。この場合、従来技術においてアンプ回路で行っていたオフセット調整と同様の作用が得られる。   Here, the lower variable resistor 54 installed on the lower side of the ladder resistor 50 is configured such that its resistance value can be set by the lower variable resistor setting value 110 of the amplitude adjustment register 40_1. The upper variable resistor 51 installed on the upper side of the ladder resistor 50 is configured such that its resistance value can be set by the upper variable resistor setting value 111 of the amplitude adjustment register 40_1. The voltage divided by the variable resistors 54 and 51 is used as the gradation voltage at both ends of the gradation number, and the amplitude of the gradation voltage can be adjusted according to the value of the amplitude adjustment register 40_1. FIG. 17A shows the gradation number-gradation voltage characteristics in each case where the variable resistance values at both ends of the ladder resistor 50 are set by the amplitude adjustment register 40_1. Here, 201 is a case where the voltage value on the lower side of the gradation voltage is not changed but the voltage value on the higher side is changed to adjust the amplitude voltage of the gradation voltage, and 202 is the higher side of the gradation voltage. FIG. 6 is a characteristic diagram when the amplitude value of the gradation voltage is adjusted by changing the voltage value on the lower side without changing the voltage value of. Reference numerals 201 and 202 denote cases where the variable resistance values at both ends of the ladder resistor are set only on one side (reference voltage side or GND side) by the amplitude adjustment register. Reference numeral 203 is a characteristic diagram when variable resistance values at both ends of the ladder resistor are simultaneously set by the amplitude adjustment register. In this case, the same effect as the offset adjustment performed in the amplifier circuit in the prior art can be obtained.

またラダー抵抗50の中間部下段に設置されている中間部下側可変抵抗53は、傾き調整レジスタ40_2の中間部下側可変抵抗設定値120により、その抵抗値を設定できる構成とされる。ラダー抵抗50中間部上側に設置されている中間部上側可変抵抗52は、傾き調整レジスタ40−2の中間部上側可変抵抗設定値121により、その抵抗値を設定できる構成とされる。この両可変抵抗53,52により抵抗分割された電圧を中間調部の傾き特性を決めている階調番号の電圧とし、その電圧の傾き特性を傾き調整レジスタ40_2の値に従って設定することができる。図17(b)の204は、階調番号−階調電圧特性の階調番号の中間(中間調)部の傾き特性を調整した場合の特性図である。図において205,206は傾きが変更された部分の電圧を意味する。   The intermediate lower variable resistor 53 installed at the lower stage of the ladder resistor 50 is configured such that its resistance value can be set by the intermediate lower variable resistance setting value 120 of the inclination adjustment register 40_2. The middle part upper variable resistor 52 installed on the middle part upper side of the ladder resistor 50 is configured such that its resistance value can be set by the middle part upper variable resistance setting value 121 of the inclination adjustment register 40-2. The voltage divided by the two variable resistors 53 and 52 is used as the voltage of the gradation number that determines the gradient characteristic of the halftone portion, and the gradient characteristic of the voltage can be set according to the value of the gradient adjustment register 40_2. Reference numeral 204 in FIG. 17B is a characteristic diagram when the slope characteristic of the intermediate (halftone) portion of the gradation number of the gradation number-gradation voltage characteristic is adjusted. In the figure, reference numerals 205 and 206 denote voltages at portions where the slope is changed.

上述のようなラダー抵抗50の構成を採用し、振幅調整レジスタ40_1と傾き調整レジスタ40_2により、ラダー抵抗50に配置された可変抵抗の値を設定することで抵抗分割比を変化させ、その電圧の振幅電圧、及び中間調部の傾き特性を調整可能することが可能になる。これにより、各液晶パネルの特性に応じた所望のガンマ特性の調整が容易にでき、調整時間を短縮できる。   The configuration of the ladder resistor 50 as described above is adopted, and the resistance division ratio is changed by setting the value of the variable resistor arranged in the ladder resistor 50 by the amplitude adjustment register 40_1 and the inclination adjustment register 40_2, and the voltage It becomes possible to adjust the amplitude voltage and the slope characteristic of the halftone portion. Thereby, it is possible to easily adjust a desired gamma characteristic in accordance with the characteristics of each liquid crystal panel, and to shorten the adjustment time.

また、振幅調整レジスタ40_1、傾き調整レジスタ40_2でそれぞれ設定された可変抵抗値により生成された電圧間を、抵抗分割回路56〜61によりさらに細かく抵抗分割することにより、その電圧を微調整するための微調整用電圧が生成される。この微調整用電圧は各セレクタ回路66〜71で、微調整レジスタ40_3の設定値130により、所望の電圧を選択する。図17(c)の207は、各電圧を微調整した場合の階調番号−階調電圧特性図である。この構成により、1つの可変抵抗値を変化させた場合においても、この可変抵抗により抵抗分割された各電圧間をさらに細かく抵抗分割し、その中から所望の電圧値を選択することで、他の電圧をあまり変化させず、所望の電圧のみ調整可能となる。また上記のように各電圧の微調整を可能とすることで、ガンマ特性の調整精度を高め、調整の自由度も向上することが可能になり、高画質化が望める。   Further, the resistance dividing circuits 56 to 61 further finely divide the voltages generated by the variable resistance values respectively set by the amplitude adjustment register 40_1 and the inclination adjustment register 40_2, thereby finely adjusting the voltage. A fine adjustment voltage is generated. The fine adjustment voltage is selected by the selector circuits 66 to 71 according to the set value 130 of the fine adjustment register 40_3. Reference numeral 207 in FIG. 17C is a gradation number-gradation voltage characteristic diagram when each voltage is finely adjusted. With this configuration, even when one variable resistance value is changed, each voltage divided by this variable resistor is further divided into resistors, and a desired voltage value is selected from among them. Only a desired voltage can be adjusted without changing the voltage so much. In addition, by enabling fine adjustment of each voltage as described above, it is possible to improve the adjustment accuracy of the gamma characteristic and improve the degree of freedom of adjustment, and high image quality can be expected.

上述より生成される各電圧は後段のバッファアンプ75〜82でバッファリングされ、所望の64階調の電圧を生成するため、出力部ラダー抵抗90で、その各電圧間を電圧関係がリニアとなるよう抵抗分割し、64階調分の階調電圧を生成する。階調電圧生成回路20で生成された64階調の階調電圧は、ドライバ19に供給され、表示データに合わせた階調電圧が端子S1〜Snから液晶パネルへの印加電圧として出力される。   Each voltage generated from the above is buffered by the buffer amplifiers 75 to 82 in the subsequent stage, and in order to generate a desired 64 gradation voltage, the output ladder resistor 90 makes the voltage relationship linear between the voltages. The resistance is divided so that gradation voltages for 64 gradations are generated. The gradation voltage of 64 gradations generated by the gradation voltage generation circuit 20 is supplied to the driver 19, and the gradation voltage according to the display data is output as an applied voltage from the terminals S1 to Sn to the liquid crystal panel.

以上のような回路構成により、ガンマ特性の調整において、振幅レジスタ40_1、傾きレジスタ40_2の設定で、階調電圧の振幅電圧、及び中間調部の傾き特性といった大まかな階調電圧を調整可能なラダー抵抗50を含み、そのラダー抵抗にて生成された電圧間から微調整レジスタ40_3の設定でさらに各電圧の微調整を行える構成とすることで、ガンマ特性の調整を容易可でき、調整時間を短縮でき、調整の精度及び自由度を向上させることができる。これにより、画像表示の高画質化を容易に行うことができ、汎用性が望める階調電圧生成回路の回路規模を小さくでき、半導体集積回路化された液晶駆動制御装置のコスト低減を実現することができる。   With the circuit configuration as described above, in the adjustment of the gamma characteristic, a ladder that can adjust rough gradation voltages such as the amplitude voltage of the gradation voltage and the inclination characteristic of the halftone part by setting the amplitude register 40_1 and the inclination register 40_2. Gamma characteristics can be easily adjusted and the adjustment time can be shortened by including a resistor 50 and making it possible to finely adjust each voltage from the voltage generated by the ladder resistor by setting the fine adjustment register 40_3. The accuracy and freedom of adjustment can be improved. As a result, it is possible to easily improve the image quality of the image display, to reduce the circuit scale of the gradation voltage generation circuit that can be expected to be versatile, and to realize the cost reduction of the liquid crystal drive control device formed as a semiconductor integrated circuit. Can do.

以上本発明者によってなされた発明を実施形態に基づいて具体的に説明したが、本発明はそれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であることは言うまでもない。   Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, it is needless to say that the present invention is not limited thereto and can be variously modified without departing from the gist thereof.

例えば、コントロールレジスタ回路12のコントロールレジスタ40の全てをセットラッチSLとリセットラッチRSLで形成してもよういが、初期設定値がシステム構成だけで一意に決まらない性質のデータが初期設定される一部のコントロールレジスタについてはデータ転送にて初期値を決定する単なるスタティックラッチ形態の回路構成を採用してもよい。その場合であても、全体的な初期設定動作時間を短縮でき、初期設定データの肘と転送制御をホストシステムに負担させることも可能になる。コントロールレジスタに設定された制御データの使用例はγ調整データを用いた階調電圧の生成に限定されない。セットラッチとリセットラッチはパネルサイズに応ずる初期設定データ等の、種々の初期設定データの格納に利用することができる。半導体装置は液晶駆動制御装置に限定されず、A/D変換回路、D/A変換回路、アンプ、フィルタ等のアナログ特性を問題とする回路を搭載する半導体装置、搭載されるシステムや別の回路との関係に従って初期設定データが決定されるような半導体装置等に広く適用することができる。   For example, although all of the control registers 40 of the control register circuit 12 may be formed by the set latch SL and the reset latch RSL, data having a property that the initial setting value is not uniquely determined only by the system configuration is initialized. For the control register of this section, a simple static latch type circuit configuration in which an initial value is determined by data transfer may be employed. Even in such a case, the overall initial setting operation time can be shortened, and the host system can be burdened with the elbow and transfer control of the initial setting data. The use example of the control data set in the control register is not limited to the generation of the gradation voltage using the γ adjustment data. The set latch and the reset latch can be used for storing various initial setting data such as initial setting data corresponding to the panel size. The semiconductor device is not limited to the liquid crystal drive control device, but includes a semiconductor device including a circuit having an analog characteristic problem such as an A / D conversion circuit, a D / A conversion circuit, an amplifier, a filter, a mounted system, and another circuit. The present invention can be widely applied to semiconductor devices and the like in which initial setting data is determined according to the relationship.

図1は液晶駆動制御装置の一例を示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram showing an example of a liquid crystal drive control device. 図2は液晶表示システムの一例を示すブロック図である。FIG. 2 is a block diagram illustrating an example of a liquid crystal display system. 図3はコントロールレジスタ回路に備えられたコントロールレジスタの一例を示すブロック図である。FIG. 3 is a block diagram showing an example of a control register provided in the control register circuit. 図4はリセットラッチ回路SLの一例を示す論理回路図である。FIG. 4 is a logic circuit diagram showing an example of the reset latch circuit SL. 図5はセットラッチ回路SLの一例を示す論理回路図である。FIG. 5 is a logic circuit diagram showing an example of the set latch circuit SL. 図6はリセットラッチRSLの図4の論理を実現する一例回路図である。FIG. 6 is an example circuit diagram for realizing the logic of FIG. 4 of the reset latch RSL. 図7はセットラッチSLの図5の論理を実現する一例回路図である。FIG. 7 is an example circuit diagram for realizing the logic of FIG. 5 of the set latch SL. 図8は図6のリセットラッチRSLのレイアウトパターンを例示する平面図である。FIG. 8 is a plan view illustrating a layout pattern of the reset latch RSL of FIG. 図9は図7のセットラッチSLのレイアウトパターンを例示する平面図である。FIG. 9 is a plan view illustrating a layout pattern of the set latch SL of FIG. 図10はセットラッチSLとリセットラッチRSLに共通のAR1で代表される半導体領域とAR2で代表されるゲート配線との共通のパターンを例示する平面図である。FIG. 10 is a plan view illustrating a common pattern of a semiconductor region represented by AR1 common to the set latch SL and the reset latch RSL and a gate wiring represented by AR2. 図11はリセットラッチRSLのためのAR3で代表される第1層目の金属配線のパターンR3を例示する平面図である。FIG. 11 is a plan view illustrating a first-layer metal wiring pattern R3 represented by AR3 for the reset latch RSL. 図12はセットラッチSLのためのAR3で代表される第1層目の金属配線のパターンを例示する平面図である。FIG. 12 is a plan view illustrating a first-layer metal wiring pattern represented by AR3 for the set latch SL. 図13はレジスタの出力を受けるセレクタ及び当該セレクタで選択可能とするアルミマスタセルを採用する比較例を示す論理回路図である。FIG. 13 is a logic circuit diagram showing a comparative example employing a selector that receives the output of a register and an aluminum master cell that can be selected by the selector. 図14はコントロールレジスタにセットラッチSL及びリセットラッチRSLを採用したときの液晶駆動制御装置の概略的の製造工程を示したフローチャートである。FIG. 14 is a flowchart showing a schematic manufacturing process of the liquid crystal drive control device when the set latch SL and the reset latch RSL are employed in the control register. 図15は一般的なγ特性についての説明図である。FIG. 15 is an explanatory diagram of a general γ characteristic. 図16はコントロールレジスタに設定された制御データの使用例としてγ調整データを受ける階調電圧生成回路の具体例を示すブロック図である。FIG. 16 is a block diagram showing a specific example of a gradation voltage generation circuit that receives γ adjustment data as an example of use of control data set in the control register. 図17はγ調整データによる階調電圧の特性調整の意義を例示する説明図である。FIG. 17 is an explanatory diagram illustrating the significance of the gradation voltage characteristic adjustment by the γ adjustment data.

符号の説明Explanation of symbols

3 液晶駆動制御装置
6 アクセラレータ
Tacc ホストインタフェース端子
5 プロセッサ
Tprc ホストインタフェース端子
11 ホストインタフェース回路(HIF)
12 コントロールレジスタ回路(CREG)
13 インデックス回路(IDX)
15 アドレスカウンタ(ACUNT)
17 表示メモリ(GRAM)
18 タイミング制御回路(TGNR)
19 ソースドライバ(SOCDRV)
20 階調電圧生成回路(TWVG)
26 階調電圧
S1〜Sn 信号端子
22 ゲートドライバ(GTDRV)
G1〜Gm 走査端子
40 コントロールレジスタ
sd 初期化制御信号
RES リセット信号RES
e ラッチイネーブル制御信号
d 入力データ
AR1 拡散領域のような半導体領域のパターン
AR2 ゲート配線のパターン
AR3 第1層目の金属配線パターン
40_1 振幅調整レジスタ(AMPLTD)
40_2 傾き調整レジスタ(GRDENT)
40_3 微調整レジスタ(FINTUN)
50 ラダー抵抗回路
51〜54 可変抵抗
56〜61 抵抗分圧回路
66〜71 セレクタ回路
75〜82 バッファアンプ
90 出力ラダー抵抗回路
91,92 抵抗
93〜97 抵抗分圧回路
3 Liquid Crystal Drive Control Device 6 Accelerator Tacc Host Interface Terminal 5 Processor Tprc Host Interface Terminal 11 Host Interface Circuit (HIF)
12 Control register circuit (CREG)
13 Index circuit (IDX)
15 Address counter (ACUNT)
17 Display memory (GRAM)
18 Timing control circuit (TGNR)
19 Source driver (SOCDRV)
20 Gradation voltage generator (TWVG)
26 gradation voltage S1 to Sn signal terminal 22 gate driver (GTDRV)
G1 to Gm Scan terminal 40 Control register sd Initialization control signal RES Reset signal RES
e Latch enable control signal d Input data AR1 Pattern of semiconductor region such as diffusion region AR2 Gate wiring pattern AR3 First layer metal wiring pattern 40_1 Amplitude adjustment register (AMPLTD)
40_2 Inclination adjustment register (GRDENT)
40_3 Fine adjustment register (FINTUN)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 50 Ladder resistance circuit 51-54 Variable resistance 56-61 Resistance voltage dividing circuit 66-71 Selector circuit 75-82 Buffer amplifier 90 Output ladder resistance circuit 91, 92 Resistance 93-97 Resistance voltage dividing circuit

Claims (13)

回路と、前記回路を調整するための制御データが記憶されるレジスタとを有する半導体装置であって、
前記レジスタは、初期設定されるべき前記制御データに対応して、初期化制御信号の第1状態とラッチイネーブル制御信号の第1状態とに応答して論理値1をラッチする第1ラッチ回路と論理値0をラッチする第2ラッチ回路との配列を有し、
前記第1ラッチ回路及び第2ラッチ回路は、半導体基板上に形成された半導体領域とゲート配線のパターンが同一であって前記半導体領域とゲート配線に接続された一層の配線層のパターンが相違される、半導体装置。
A semiconductor device having a circuit and a register in which control data for adjusting the circuit is stored,
A first latch circuit for latching a logical value of 1 in response to a first state of an initialization control signal and a first state of a latch enable control signal corresponding to the control data to be initialized; An array with a second latch circuit that latches a logical value of 0;
The first latch circuit and the second latch circuit have the same pattern of a semiconductor layer and a gate wiring formed on a semiconductor substrate, and different patterns of one wiring layer connected to the semiconductor region and the gate wiring. A semiconductor device.
前記初期化制御信号は半導体装置に対するリセット信号によるリセット指示レベルに応答して第1状態にされ、リセット信号によるリセット解除に応答して第2状態にされる、請求項1記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 1, wherein the initialization control signal is set to a first state in response to a reset instruction level by a reset signal to the semiconductor device, and is set to a second state in response to reset release by the reset signal. 前記第1ラッチ回路及び第2ラッチ回路は、前記初期化制御信号が第2状態にされ且つラッチイネーブル制御信号が第1状態にされるのに応答して、データ入力端子に供給される信号の論理値に応ずる値をラッチする、請求項2記載の半導体装置。   The first latch circuit and the second latch circuit are configured to detect a signal supplied to the data input terminal in response to the initialization control signal being set to the second state and the latch enable control signal being set to the first state. The semiconductor device according to claim 2, wherein a value corresponding to a logical value is latched. 階調電圧を生成し、生成した階調電圧の中から表示データに応ずる電圧を選択してディスプレイの表示駆動信号を出力する半導体装置であって、
前記ディスプレイの特性に合わせて前記階調電圧を生成するための制御データが記憶されるレジスタを有し、
前記レジスタは、初期設定されるべき前記制御データに対応して、初期化制御信号の第1状態とラッチイネーブル制御信号の第1状態とに応答して論理値1をラッチする第1ラッチ回路と論理値0をラッチする第2ラッチ回路との配列を有し、
前記第1ラッチ回路及び第2ラッチ回路は、半導体基板上に形成された半導体領域とゲート配線のパターンが同一であって前記半導体領域とゲート配線に接続された一層の配線層のパターンが相違される、半導体装置。
A semiconductor device that generates a gradation voltage, selects a voltage corresponding to display data from the generated gradation voltage, and outputs a display drive signal of the display,
A register for storing control data for generating the gradation voltage in accordance with the characteristics of the display;
A first latch circuit for latching a logical value of 1 in response to a first state of an initialization control signal and a first state of a latch enable control signal corresponding to the control data to be initialized; An array with a second latch circuit that latches a logical value of 0;
The first latch circuit and the second latch circuit have the same pattern of a semiconductor layer and a gate wiring formed on a semiconductor substrate, and different patterns of one wiring layer connected to the semiconductor region and the gate wiring. A semiconductor device.
前記ラッチは前記一層の配線層の上層に形成された配線層の配線を介して前記レジスタの外部に接続される、請求項4記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 4, wherein the latch is connected to the outside of the register through a wiring of a wiring layer formed in an upper layer of the one wiring layer. 前記初期化制御信号は半導体装置に対するリセット信号によるリセット指示レベルに応答して第1状態にされ、リセット信号によるリセット解除に応答して第2状態にされる、請求項4記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 4, wherein the initialization control signal is set to a first state in response to a reset instruction level by a reset signal to the semiconductor device, and is set to a second state in response to reset release by the reset signal. 前記第1ラッチ回路及び第2ラッチ回路は、前記初期化制御信号が第2状態にされ且つラッチイネーブル制御信号が第1状態にされるのに応答して、データ入力端子に供給される信号の論理値に応ずる値をラッチする、請求項6記載の半導体装置。   The first latch circuit and the second latch circuit are configured to detect a signal supplied to the data input terminal in response to the initialization control signal being set to the second state and the latch enable control signal being set to the first state. The semiconductor device according to claim 6, wherein a value corresponding to a logical value is latched. 外部からコマンド及びデータを受取るシステムインタフェースを有し、前記システムインタフェースは前記レジスタに対する書込みコマンドに応答して前記ラッチイネーブル制御信号を所定期間第1状態に制御する、請求項7記載の半導体装置。   8. The semiconductor device according to claim 7, further comprising a system interface for receiving a command and data from outside, wherein the system interface controls the latch enable control signal to a first state for a predetermined period in response to a write command to the register. 前記第1ラッチ回路と第2ラッチ回路の何れか一方のラッチ回路は、データ入力端子と前記初期化制御信号が入力される端子とを有し前記ラッチイネーブル制御信号の第1状態によって活性化され第2状態によって非活性化される2入力ノアゲート回路と、前記2入力ノアゲート回路の出力に接続され前記ラッチイネーブル制御信号の第1状態で前記2入力ノアゲート回路の出力信号を入力し、入力した信号を前記ラッチイネーブル制御信号の第2状態でラッチするスタティックラッチを有し、他方のラッチ回路は、データ入力端子と前記初期化制御信号の反転信号が入力される端子とを有し前記ラッチイネーブル制御信号の第1状態によって活性化され第2状態によって非活性化される2入力ナンドゲート回路と、前記2入力ナンドゲート回路の出力に接続され前記ラッチイネーブル制御信号の第1状態で前記2入力ナンドゲート回路の出力信号を入力し、入力した信号を前記ラッチイネーブル制御信号の第2状態でラッチするスタティックラッチを有する、請求項7記載の半導体装置。 One of the first latch circuit and the second latch circuit has a data input terminal and a terminal to which the initialization control signal is input, and is activated by the first state of the latch enable control signal. A two-input NOR gate circuit deactivated by the second state, and an input signal connected to the output of the two-input NOR gate circuit and receiving the output signal of the two-input NOR gate circuit in the first state of the latch enable control signal In the second state of the latch enable control signal, and the other latch circuit has a data input terminal and a terminal to which an inverted signal of the initialization control signal is input. A two-input NAND gate circuit activated by a first state of a signal and inactivated by a second state; and the two-input NAND gate Is connected to the output of road inputs an output signal of the two-input NAND gate circuit in a first state of the latch enable control signal, having a static latch for latching the input signal in a second state of the latch enable control signal, wherein Item 8. A semiconductor device according to Item 7. 前記制御データは前記ディスプレイのγ特性に合わせて駆動信号を生成するためのγ調整データである、請求項4記載の半導体装置。 The semiconductor device according to claim 4, wherein the control data is γ adjustment data for generating a drive signal in accordance with a γ characteristic of the display. 基準電圧を抵抗分圧する第1抵抗分圧回路と、
前記第1抵抗分圧回路で分圧された複数の電圧の中から階調電圧の生成に利用する電圧を複数刻み単位で選択する選択回路と、
選択回路で選択された複数の電圧に基づいて階調電圧を生成する第2抵抗分圧回路と、
前記第1抵抗分圧回路と前記基準電圧との間に位置する第1可変抵抗と、
前記第1抵抗分圧回路とグランドとの間に位置する第2可変抵抗とを備え、
前記レジスタに初期設定される制御データは、前記第1可変抵抗及び第2可変抵抗の抵抗値を決定することによって階調電圧の振幅を調整する、請求項10記載の半導体装置。
A first resistance voltage dividing circuit for resistance-dividing the reference voltage;
A selection circuit that selects a voltage to be used for generating a gradation voltage from a plurality of voltages divided by the first resistance voltage dividing circuit in units of a plurality of increments;
A second resistance voltage dividing circuit for generating a gradation voltage based on a plurality of voltages selected by the selection circuit;
A first variable resistor located between the first resistor voltage divider circuit and the reference voltage;
A second variable resistor positioned between the first resistor voltage divider circuit and the ground;
11. The semiconductor device according to claim 10, wherein the control data initially set in the register adjusts the amplitude of the gradation voltage by determining resistance values of the first variable resistor and the second variable resistor.
前記第1抵抗分圧回路の途中に配置された第3可変抵抗を備え、
前記レジスタに初期設定される制御データは更に、前記第変抵抗の抵抗値を決定することによって階調番号−階調電圧特性の中央付近の傾きを調整する、請求項11記載の半導体装置。
A third variable resistor disposed in the middle of the first resistance voltage dividing circuit;
Said register initially set the control data further, before Symbol gradation number by determining the resistance value of the third variable - resistance - adjusting the inclination of the central area of the gradation voltage characteristic, a semiconductor according to claim 11 apparatus.
前記レジスタに初期設定される制御データは更に、前記選択回路による選択電圧を決定することによって階調電圧を微調整する、請求項12記載の半導体装置。   13. The semiconductor device according to claim 12, wherein the control data initialized in the register further finely adjusts the gradation voltage by determining a selection voltage by the selection circuit.
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