[go: up one dir, main page]

JP5124297B2 - Thin film transistor array substrate and display device - Google Patents

Thin film transistor array substrate and display device Download PDF

Info

Publication number
JP5124297B2
JP5124297B2 JP2008019557A JP2008019557A JP5124297B2 JP 5124297 B2 JP5124297 B2 JP 5124297B2 JP 2008019557 A JP2008019557 A JP 2008019557A JP 2008019557 A JP2008019557 A JP 2008019557A JP 5124297 B2 JP5124297 B2 JP 5124297B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
display
scanning signal
signal line
wiring
area
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2008019557A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2009180916A (en
Inventor
学 棚原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2008019557A priority Critical patent/JP5124297B2/en
Publication of JP2009180916A publication Critical patent/JP2009180916A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5124297B2 publication Critical patent/JP5124297B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Description

本発明は、薄膜トランジスタアレイ基板、及びこれを搭載した表示装置に関する。   The present invention relates to a thin film transistor array substrate and a display device on which the thin film transistor array substrate is mounted.

液晶表示装置は、薄型パネルの一つであり低消費電力や小型軽量といったメリットを活かして、パーソナルコンピュータや携帯情報端末機器のモニタ等において広く用いられている。また、TV用途としても広く用いられ、従来のブラウン管に取って代わろうとしている。   A liquid crystal display device is one of thin panels, and is widely used in monitors of personal computers and portable information terminal devices, taking advantage of low power consumption and small size and light weight. It is also widely used for TV applications and is replacing the conventional cathode ray tube.

近年の液晶表示装置の主流は、複数の走査信号線と複数の表示信号線が格子状に配置され、表示信号線と走査信号線とで囲まれた画素領域内にスイッチング素子として薄膜トランジスタ(以下、「TFT」(Thin Film Transistor)とも云う)が形成されたアクティブマトリクス型のものである。アクティブマトリクス型は、一般にパッシブマトリクス型より画質が優れており、液晶表示装置のほか、有機EL表示装置等の表示装置においても主流となっている。   The mainstream of recent liquid crystal display devices is that a plurality of scanning signal lines and a plurality of display signal lines are arranged in a lattice pattern, and a thin film transistor (hereinafter referred to as a switching element) is provided as a switching element in a pixel region surrounded by the display signal lines and the scanning signal lines. An active matrix type in which “TFT” (also referred to as “Thin Film Transistor”) is formed. The active matrix type generally has higher image quality than the passive matrix type, and is the mainstream in display devices such as organic EL display devices in addition to liquid crystal display devices.

アクティブマトリクス型の液晶表示装置は、通常、TFT、配向膜などを積層したTFTアレイ基板と、カラーフィルタ、配向膜などを積層した対向基板とが面内スペーサを用いて所定の間隔を隔てて重ね合わされている。そして、一対の対向基板間の周縁部に形成されたシールパターン内に液晶が充填されている。TFTアレイ基板、対向基板の非対向面側には、それぞれ偏光板が配置され、片方の基板側にバックライトなどが配置されている。   In an active matrix type liquid crystal display device, a TFT array substrate on which TFTs, alignment films, etc. are laminated and a counter substrate on which color filters, alignment films, etc. are laminated are usually overlapped at a predetermined interval using in-plane spacers. Has been. Then, a liquid crystal is filled in a seal pattern formed at the peripheral edge between the pair of counter substrates. Polarizing plates are disposed on the non-facing surface side of the TFT array substrate and the facing substrate, respectively, and a backlight or the like is disposed on one substrate side.

TFTアレイ基板の表示領域には、走査信号線、表示信号線、画素電極等が配設されている。走査信号線を伝播する走査信号によってTFTのON/OFFが制御される。また、表示信号線を伝播する表示信号がTFTを介して画素電極に供給される。画素電極に表示信号が供給されると、対向電極と画素電極との間に表示信号に応じた表示電圧が印加され、液晶が駆動される。   In the display area of the TFT array substrate, scanning signal lines, display signal lines, pixel electrodes, and the like are arranged. The on / off state of the TFT is controlled by the scanning signal propagating through the scanning signal line. A display signal propagating through the display signal line is supplied to the pixel electrode via the TFT. When a display signal is supplied to the pixel electrode, a display voltage corresponding to the display signal is applied between the counter electrode and the pixel electrode, and the liquid crystal is driven.

走査信号線を伝播する走査信号、及び表示信号線を伝播する表示信号は、駆動回路から供給される。駆動回路は、TFTアレイ基板の表示領域の外側に区画される額縁領域に配設されており、表示領域に形成された走査信号線、及び表示信号線とは引回し配線を介して電気的に接続されている。引回し配線は、額縁領域のスペースを利用して配設される。   A scanning signal propagating through the scanning signal line and a display signal propagating through the display signal line are supplied from the driver circuit. The drive circuit is disposed in a frame area that is partitioned outside the display area of the TFT array substrate, and the scanning signal line formed in the display area and the display signal line are electrically connected via a lead wiring. It is connected. The routing wiring is arranged using the space in the frame area.

図17に、従来例1に係るTFTアレイ基板101の模式的平面図を示す。従来例1に係るTFTアレイ基板101には、矩形状の表示領域150、及びその外側に区画される額縁領域160がある。表示領域150は、図17中の上下矢印方向に境界線155を境に2分割されている。ここでは、図17中の下側に位置する表示領域150を第1表示領域151とし、上側を第2表示領域152とする。   FIG. 17 is a schematic plan view of the TFT array substrate 101 according to Conventional Example 1. FIG. The TFT array substrate 101 according to the conventional example 1 has a rectangular display area 150 and a frame area 160 partitioned outside thereof. The display area 150 is divided into two in the direction of the up and down arrows in FIG. 17 with the boundary line 155 as a boundary. Here, the display area 150 located on the lower side in FIG. 17 is referred to as a first display area 151, and the upper side is referred to as a second display area 152.

額縁領域160の図17中の下側に位置する一辺端部近傍には、駆動回路140が実装されている。駆動回路140から第1表示領域151に配設された走査信号線(不図示)に走査信号を供給するために、引回し配線が配設されている。図17中の左側の額縁領域160に配設された第1引回し配線エリア161には、第1表示領域151に配設された走査信号線に走査信号を供給するためのL−走査引回し配線111が、図17中の右側の額縁領域160に配設された第2引回し配線エリア162には、第2表示領域152に配設された走査信号線に走査信号を供給するためのR−走査引回し配線112が配設されている。   A drive circuit 140 is mounted in the vicinity of one end portion located on the lower side of the frame region 160 in FIG. In order to supply a scanning signal from the driving circuit 140 to a scanning signal line (not shown) provided in the first display area 151, a lead wiring is provided. In the first routing wiring area 161 disposed in the left frame region 160 in FIG. 17, an L-scan routing for supplying a scanning signal to the scanning signal line disposed in the first display region 151. An R for supplying a scanning signal to a scanning signal line disposed in the second display area 152 is provided in the second routing wiring area 162 disposed in the right frame area 160 in FIG. -A scanning lead-out wiring 112 is provided.

図18に、従来例2に係るTFTアレイ基板101aの模式的平面図を示す。従来例2に係る駆動回路140aは、TFTアレイ基板101aに配設された額縁領域160の図18中の下側の一辺端部近傍の左寄りの位置に配設されている。そして、前記従来例1と同様に、駆動回路140aから表示領域150に配設された走査信号線(不図示)に走査信号を供給するために、引回し配線が配設されている。   FIG. 18 is a schematic plan view of a TFT array substrate 101a according to Conventional Example 2. The drive circuit 140a according to Conventional Example 2 is disposed at a position on the left side of the frame region 160 disposed on the TFT array substrate 101a in the vicinity of the lower side edge in FIG. In the same manner as in the conventional example 1, in order to supply a scanning signal from the driving circuit 140a to a scanning signal line (not shown) arranged in the display area 150, a lead wiring is provided.

引回し配線は、複数の走査信号線(不図示)に対して、第1引回し配線エリア161aと第2引回し配線エリア162bから交互に接続されるように構成されている。例えば、駆動回路140a側からカウントした際に、偶数番目の走査信号線は、第1引回し配線エリア161aに配設されたL−走査引回し配線111と接続され、奇数番目の走査信号線(不図示)は、第2引回し配線エリア162に配設されたR−走査引回し配線112と接続されるように構成されている。   The routing wiring is configured to be alternately connected to a plurality of scanning signal lines (not shown) from the first routing wiring area 161a and the second routing wiring area 162b. For example, when counting from the drive circuit 140a side, the even-numbered scanning signal lines are connected to the L-scanning routing lines 111 disposed in the first routing wiring area 161a, and the odd-numbered scanning signal lines ( (Not shown) is configured to be connected to the R-scanning routing wiring 112 disposed in the second routing wiring area 162.

上記従来例1及び2に係る引回し配線の配線長は、駆動回路の実装位置や引回し配線の配設位置によって変化する。上記従来例1においては、図17中のL−走査引回し配線111より、R−走査引回し配線112の配線長の方が長いため、第1表示領域151と第2表示領域152とで、表示ムラが生じやすい。上記従来例2においては、駆動回路140aが左寄りにあるため、L−走査引回し配線111より、それと隣接するR−走査引回し配線112の配線長が長くなる。上述したように走査信号線には、L−走査引回し配線111と、R−走査引回し配線112から左右交互に入力されるので、細かな1ライン毎に配線長の差が生じることになる。その結果、横帯状ムラが視認されやすい。   The wiring length of the routing wiring according to the conventional examples 1 and 2 varies depending on the mounting position of the driving circuit and the layout position of the routing wiring. In the conventional example 1, since the wiring length of the R-scanning lead wiring 112 is longer than that of the L-scanning lead wiring 111 in FIG. 17, the first display area 151 and the second display area 152 are Display unevenness is likely to occur. In the above-described conventional example 2, the drive circuit 140a is located on the left side, so that the wiring length of the R-scanning routing wire 112 adjacent thereto is longer than that of the L-scanning routing wire 111. As described above, since the scanning signal lines are alternately input from the left and right sides from the L-scanning wiring 111 and the R-scanning wiring 112, there is a difference in wiring length for each fine line. . As a result, the horizontal band unevenness is easily visually recognized.

また、通常、額縁領域160に走査信号線の引回し配線と、表示信号線の引回し配線とが交差する交差部が存在する。この交差部の数や面積は、局所的に異なることがある。これらが走査信号線の引回し配線の配線負荷の差となり、走査信号の遅延量に差が生じ、表示ムラとなる場合がある。   Also, there is usually an intersection in the frame area 160 where the scanning signal line routing wiring and the display signal line routing wiring intersect. The number and area of these intersections may differ locally. These are differences in the wiring load of the scanning signal line routing lines, causing a difference in the delay amount of the scanning signal, which may cause display unevenness.

上記表示ムラを改善する方法として、特許文献1には、引回し配線の配線長を調整する方法が提案されている。図19に、特許文献1に記載のTFTアレイ基板の模式的平面図を示す。特許文献1に記載のTFTアレイ基板101bに配設された表示領域150は、上記従来例1と同様に、図19中の上下方向に第1表示領域151と第2表示領域152を備える。   As a method of improving the display unevenness, Patent Document 1 proposes a method of adjusting the wiring length of the lead wiring. FIG. 19 is a schematic plan view of the TFT array substrate described in Patent Document 1. The display area 150 disposed on the TFT array substrate 101b described in Patent Document 1 includes a first display area 151 and a second display area 152 in the vertical direction in FIG.

額縁領域160の図19中の下側に位置する一辺端部近傍には、駆動回路として、走査−駆動回路141、表示−駆動回路142を有する。走査−駆動回路141は、図19中の一辺端部近傍の右寄りに配置され、表示−駆動回路142は、図19中の一辺端部近傍の左寄りに配置されている。図19中の左側の額縁領域160の第1引回し配線エリア161には、第1表示領域151に配設された走査信号線110に走査信号を供給するL−走査引回し配線111が、図19中の右側の額縁領域160の第2引回し配線エリア162には、第2表示領域152に配設された走査信号線110に走査信号を供給するR−走査引回し配線112が配設されている。   A scanning-driving circuit 141 and a display-driving circuit 142 are provided as driving circuits in the vicinity of one side edge located on the lower side of the frame region 160 in FIG. The scanning-driving circuit 141 is disposed on the right side in the vicinity of one side end portion in FIG. 19, and the display-driving circuit 142 is disposed on the left side in the vicinity of one side end portion in FIG. In the first routing wiring area 161 of the left frame area 160 in FIG. 19, an L-scanning routing wiring 111 for supplying a scanning signal to the scanning signal line 110 disposed in the first display area 151 is illustrated. In the second routing wiring area 162 of the right frame area 160 in FIG. 19, an R-scanning routing wiring 112 that supplies a scanning signal to the scanning signal line 110 disposed in the second display area 152 is disposed. ing.

R−走査引回し配線112には、図19に示すように、折り返し構造を有する。境界線155に最も近い第1表示領域151の走査信号線110と、境界線155に最も近い第2表示領域152の走査信号線110の配線長が略同一となるように配設し、配線抵抗格差の低減を図っている。また、特許文献1には、額縁領域160において、引回し配線と、これと対向する導電膜との重なり面積を調整することにより表示ムラを低減する方法も提案されている。   The R-scanning routing wiring 112 has a folded structure as shown in FIG. The scanning signal lines 110 in the first display area 151 closest to the boundary line 155 and the scanning signal lines 110 in the second display area 152 closest to the boundary line 155 are arranged to have substantially the same wiring length, and the wiring resistance We are working to reduce disparities. Patent Document 1 also proposes a method of reducing display unevenness by adjusting the overlapping area between the lead wiring and the conductive film facing the lead wiring in the frame region 160.

なお、引回し配線の配線間の抵抗格差に起因する表示ムラを低減する方法ではないが、補助容量線と補助容量用半導体層との重なる部分の面積を調整することにより、カラーフィルタの色毎の透過率の差を無くして表示ムラを低減する方法が提案されている(特許文献2)。
特開2005−266394号公報 図14、 特開2007−47615号公報 図1、図4
Note that this is not a method for reducing display unevenness due to the resistance difference between the lead wires, but by adjusting the area of the overlapping portion between the auxiliary capacitance line and the auxiliary capacitance semiconductor layer, the color filter color There has been proposed a method of reducing display unevenness by eliminating the difference in transmittance (Patent Document 2).
JP, 2005-266394, A FIG. JP, 2007-47615, A FIG. 1, FIG.

近時において、表示パネルの高精細化に対する要望は極めて高い。そのため、上記表示ムラの問題を抑制して表示品位の高い表示装置を提供する技術の開発が強く求められている。   Recently, there is a very high demand for high definition display panels. For this reason, there is a strong demand for the development of a technique for providing a display device with high display quality while suppressing the problem of display unevenness.

引回し配線の配線負荷の差を低減する方法として、引回し配線の配線長に応じて配線幅を変える方法がある。また、上記特許文献1のように、配線長を調整するために折り返し部を設けたり、額縁領域において、引回し配線と導電膜の対向面積を調整したりする方法がある。   As a method for reducing the difference in the wiring load of the routing wiring, there is a method of changing the wiring width according to the wiring length of the routing wiring. Further, as described in Patent Document 1, there is a method in which a folded portion is provided to adjust the wiring length, or a facing area between the lead wiring and the conductive film is adjusted in the frame region.

しかしながら、昨今の表示パネルの外形の小型化に伴い、額縁に十分なスペースを確保することが益々難しくなってきている。このため、余剰スペースが少なくなり、配線長に応じて配線幅を変える手段により抵抗調整を行うことは困難である。同様の理由により、引回し配線に折り返し部を設ける手段により抵抗調整を行うことも難しい。また、引回し配線と導電膜の対向領域を額縁領域に形成する方法は、層間短絡による歩留まりの低下が懸念される。また、消費電力が増加するという問題もある。   However, with the recent downsizing of the outer shape of display panels, it has become increasingly difficult to ensure a sufficient space in the frame. For this reason, the surplus space is reduced, and it is difficult to adjust the resistance by means of changing the wiring width according to the wiring length. For the same reason, it is difficult to adjust the resistance by means of providing a folded portion in the lead wiring. Further, in the method of forming the facing region between the lead wiring and the conductive film in the frame region, there is a concern that the yield may be reduced due to an interlayer short circuit. There is also a problem that power consumption increases.

本発明は、上記背景に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、狭額縁化を達成しつつ、表示品位の高い表示装置を提供することである。   The present invention has been made in view of the above background, and an object of the present invention is to provide a display device with high display quality while achieving a narrow frame.

本発明に係る第1の態様の薄膜トランジスタアレイ基板は、表示領域と、前記表示領域の外側に区画される額縁領域と、前記表示領域内に設けられた複数の走査信号線と、前記表示領域内に設けられ、前記走査信号線と交差するように配設された複数の表示信号線と、前記額縁領域にて、前記走査信号線に対応して設けられ、駆動回路からの電圧を前記走査信号線に供給する複数の引回し配線と、前記走査信号線と、前記表示信号線に接続されたスイッチング半導体層と、前記スイッチング半導体層に接続された画素電極と、前記画素電極の一部と対向配置された補助容量電極と、を備え、前記複数の引回し配線間の抵抗差を低減するように、前記画素電極と前記補助容量電極との対向面積を調整したものである。   A thin film transistor array substrate according to a first aspect of the present invention includes a display region, a frame region partitioned outside the display region, a plurality of scanning signal lines provided in the display region, and the display region And a plurality of display signal lines arranged to intersect the scanning signal lines, and provided in the frame region corresponding to the scanning signal lines, and a voltage from a driving circuit is applied to the scanning signal. A plurality of lead wirings to be supplied to the line, the scanning signal line, a switching semiconductor layer connected to the display signal line, a pixel electrode connected to the switching semiconductor layer, and a part of the pixel electrode And an auxiliary capacitance electrode arranged, and the opposing area of the pixel electrode and the auxiliary capacitance electrode is adjusted so as to reduce a resistance difference between the plurality of lead wirings.

本発明に係る第2の態様の薄膜トランジスタアレイ基板は、表示領域と、前記表示領域の外側に区画される額縁領域と、前記表示領域内に設けられた複数の走査信号線と、前記表示領域内に設けられ、前記走査信号線と交差するように配設された複数の表示信号線と、前記額縁領域にて、前記走査信号線に対応して設けられ、駆動回路からの電圧を前記走査信号線に供給する複数の引回し配線と、前記走査信号線と、前記表示信号線に接続されたスイッチング半導体層と、前記スイッチング半導体層と対向配置されたゲート電極と、前記ゲート電極と対向配置されたドレイン電極と、を備え、前記複数の引回し配線間の抵抗差を低減するように、前記ゲート電極と前記ドレイン電極との対向面積を調整したものである。   A thin film transistor array substrate according to a second aspect of the present invention includes a display region, a frame region partitioned outside the display region, a plurality of scanning signal lines provided in the display region, and the display region And a plurality of display signal lines arranged to intersect the scanning signal lines, and provided in the frame region corresponding to the scanning signal lines, and a voltage from a driving circuit is applied to the scanning signal. A plurality of lead lines to be supplied to the line; the scanning signal line; a switching semiconductor layer connected to the display signal line; a gate electrode disposed opposite to the switching semiconductor layer; and disposed opposite to the gate electrode. A drain electrode, and an opposing area of the gate electrode and the drain electrode is adjusted so as to reduce a difference in resistance between the plurality of routing wires.

本発明によれば、狭額縁化を達成しつつ、表示品位の高い表示装置を提供することができるという優れた効果を有する。   According to the present invention, it is possible to provide a display device with high display quality while achieving a narrow frame.

以下、本発明を適用した実施形態の一例について説明する。なお、本発明の趣旨に合致する限り、他の実施形態も本発明の範疇に属し得ることは言うまでもない。また、以降の図において、各部材のサイズは説明の便宜上のものであり、実際のものとは異なる。   Hereinafter, an example of an embodiment to which the present invention is applied will be described. It goes without saying that other embodiments may also belong to the category of the present invention as long as they match the gist of the present invention. In the following drawings, the size of each member is for convenience of explanation and is different from the actual one.

[実施形態1]
本実施形態1に係る表示装置は、アクティブマトリクス型であり、スイッチング素子として逆スタガ型のMOS構造の薄膜トランジスタ(TFT)を有する。ここでは、表示装置の一例として透過型の液晶表示装置について説明する。図1は、本実施形態1に係る液晶表示装置100の構成を示す断面図であり、図2は、液晶表示装置100に備えられたTFTアレイ基板1の模式的平面図である。
[Embodiment 1]
The display device according to the first embodiment is an active matrix type, and includes an inverted staggered type thin film transistor (TFT) as a switching element. Here, a transmissive liquid crystal display device will be described as an example of the display device. FIG. 1 is a cross-sectional view showing the configuration of the liquid crystal display device 100 according to the first embodiment, and FIG. 2 is a schematic plan view of the TFT array substrate 1 provided in the liquid crystal display device 100.

液晶表示装置100は、図1に示すように、液晶表示パネル80とバックライト77を備えている。液晶表示パネル80は、入力される表示信号に基づいて画像表示を行うように構成されている。バックライト77は、液晶表示パネル80の反視認側に配置されており、液晶表示パネル80を介して視認側へ光を照射するように構成されている。バックライト77は、光源、導光板、反射シート、拡散シート、プリズムシート、反射偏光シートなどを備えた一般的な構成のものを用いることができる。   As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device 100 includes a liquid crystal display panel 80 and a backlight 77. The liquid crystal display panel 80 is configured to display an image based on an input display signal. The backlight 77 is disposed on the non-viewing side of the liquid crystal display panel 80 and is configured to irradiate light to the viewing side via the liquid crystal display panel 80. The backlight 77 may be of a general configuration including a light source, a light guide plate, a reflective sheet, a diffusion sheet, a prism sheet, a reflective polarizing sheet, and the like.

液晶表示装置100は、図1に示すように、薄膜トランジスタアレイ基板(以下、「TFTアレイ基板」という)1、対向基板9、偏光板71、対向電極73、配向膜74、液晶75、スペーサ76、シール材78等を有する。また、TFTアレイ基板1には、図2に示すように、走査信号線10、L−走査引回し配線11、R−走査引回し配線12、表示信号線20、表示引回し配線21、駆動回路40、外部端子45等を備えている。   As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device 100 includes a thin film transistor array substrate (hereinafter referred to as “TFT array substrate”) 1, a counter substrate 9, a polarizing plate 71, a counter electrode 73, an alignment film 74, a liquid crystal 75, a spacer 76, A sealing material 78 and the like are included. Further, as shown in FIG. 2, the TFT array substrate 1 includes a scanning signal line 10, an L-scanning routing line 11, an R-scanning routing line 12, a display signal line 20, a display routing line 21, and a driving circuit. 40, an external terminal 45, and the like.

TFTアレイ基板1には、図2に示すように、矩形状に形成された表示領域50と、この外側に区画される額縁領域60がある。表示領域50には、複数の走査信号線10と複数の表示信号線20が形成されている。走査信号線10は、図2中の横方向に延在し、縦方向に複数並設されている。表示信号線20は、走査信号線10と絶縁層(不図示)を介して交差するように、図2中の縦方向に延在し、横方向に複数並設されている。   As shown in FIG. 2, the TFT array substrate 1 has a display area 50 formed in a rectangular shape and a frame area 60 partitioned outside the display area 50. A plurality of scanning signal lines 10 and a plurality of display signal lines 20 are formed in the display area 50. The scanning signal lines 10 extend in the horizontal direction in FIG. 2 and are arranged in parallel in the vertical direction. The display signal lines 20 extend in the vertical direction in FIG. 2 and are arranged in parallel in the horizontal direction so as to intersect the scanning signal lines 10 via an insulating layer (not shown).

走査信号線10と表示信号線20の交差点付近には、マトリクス状にTFT31が設けられている。そして、隣接する走査信号線10と表示信号線20とで囲まれた領域に、画素電極6(不図示)が形成され、この領域が画素30として機能する。TFT31を構成するゲート、ソース、及びドレインは、それぞれ走査信号線10、表示信号線20及び画素電極6に接続されている。画素電極6は、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)などの透明導電性薄膜から形成されている。この複数の画素30が形成されている領域が、表示領域50である。   Near the intersection of the scanning signal line 10 and the display signal line 20, TFTs 31 are provided in a matrix. A pixel electrode 6 (not shown) is formed in a region surrounded by the adjacent scanning signal lines 10 and display signal lines 20, and this region functions as the pixel 30. The gate, source, and drain constituting the TFT 31 are connected to the scanning signal line 10, the display signal line 20, and the pixel electrode 6, respectively. The pixel electrode 6 is formed of a transparent conductive thin film such as ITO (Indium Tin Oxide). A region where the plurality of pixels 30 are formed is a display region 50.

額縁領域60には、図2に示すように、駆動回路40、外部端子45、引回し配線等が配設されている。駆動回路40は、COG(Chip On Glass)技術により実装されている。駆動回路40と外部端子45は、不図示の配線を介して接続されている。外部端子45には、フレキシブルプリント回路基板(「FPC」(Flexible Printed Circuit))等から外部信号が供給される。そして、外部端子45を介して駆動回路40に外部からの各種信号が供給される。   In the frame area 60, as shown in FIG. 2, a drive circuit 40, an external terminal 45, a lead wiring, and the like are arranged. The drive circuit 40 is mounted by COG (Chip On Glass) technology. The drive circuit 40 and the external terminal 45 are connected via a wiring (not shown). External signals are supplied to the external terminals 45 from a flexible printed circuit board (“FPC”). Various external signals are supplied to the drive circuit 40 via the external terminal 45.

L−走査引回し配線11は、駆動回路40から図2中の額縁領域60の左側部に設けられた第1引回し配線エリア61に配設されている。同様に、R−走査引回し配線12は、駆動回路40から図2中の額縁領域60の右側部に設けられた第2引回し配線エリア62に配設されている。表示引回し配線21は、額縁領域60の下側領域にて、駆動回路40から表示領域150までの領域に配設されている。額縁領域60の両側部に走査引回し配線(L−走査引回し配線11、R−走査引回し配線12)を約半分ずつ分けて配設することにより、狭額縁化を図ることができる。   The L-scanning lead wiring 11 is arranged in a first lead wiring area 61 provided on the left side of the frame area 60 in FIG. Similarly, the R-scanning lead wiring 12 is disposed in a second lead wiring area 62 provided on the right side of the frame region 60 in FIG. The display routing wiring 21 is disposed in the area from the drive circuit 40 to the display area 150 in the lower area of the frame area 60. By arranging the scanning routing wiring (L-scanning routing wiring 11 and R-scanning routing wiring 12) on both sides of the frame area 60 in about half each, the frame can be narrowed.

L−走査引回し配線11は、表示領域50を図2中の上下方向に境界線55を介して2つに分割した場合の下側に位置する第1表示領域51に配設された走査信号線10に信号を供給する。同様にして、R−走査引回し配線12は、第2表示領域52に配設された走査信号線10に信号を供給する。   The L-scanning lead wiring 11 is a scanning signal disposed in the first display area 51 located on the lower side when the display area 50 is divided into two in the vertical direction in FIG. A signal is supplied to the line 10. Similarly, the R-scanning lead wiring 12 supplies a signal to the scanning signal line 10 disposed in the second display area 52.

本実施形態1に係る引回し配線は、製造限界ぎりぎりの配線幅とし、全ての引回し配線の配線幅を同一とした。L−走査引回し配線11と表示引回し配線21、及びR−走査引回し配線12と表示引回し配線21とは、それぞれ、絶縁層(不図示)を介して対向配置(オーバーラップ)するように配設されている。無論、L−走査引回し配線11と表示引回し配線21、及びR−走査引回し配線12と表示引回し配線21とが対向配置されていない態様であってもよい。   The routing wiring according to the first embodiment has a wiring width that is just below the manufacturing limit, and the wiring width of all the routing wirings is the same. The L-scanning routing wiring 11 and the display routing wiring 21, and the R-scanning routing wiring 12 and the display routing wiring 21 are arranged so as to face each other via an insulating layer (not shown). It is arranged. Of course, the L-scanning lead wire 11 and the display lead wire 21 and the R-scan lead wire 12 and the display lead wire 21 may not be arranged to face each other.

駆動回路40は、外部からの制御信号に基づいて走査引回し配線を介して走査信号を走査信号線10に供給する。この走査信号によって、走査信号線10が順次選択されることになる。また、駆動回路40は、外部からの制御信号や表示データに基づいて、表示引回し配線を介して表示信号を表示信号線20に供給する。これにより、表示データに応じた表示電圧を各画素電極6に供給することができる。   The drive circuit 40 supplies a scanning signal to the scanning signal line 10 through a scanning routing wiring based on a control signal from the outside. The scanning signal lines 10 are sequentially selected by this scanning signal. Further, the drive circuit 40 supplies a display signal to the display signal line 20 through the display routing wiring based on the control signal and display data from the outside. As a result, a display voltage corresponding to the display data can be supplied to each pixel electrode 6.

なお、ここでは、駆動回路40は、COG技術を用いてTFTアレイ基板1上に直接実装したが、この構成に限られるものではない。例えば、TCP(Tape Carrier Package)により駆動回路をTFTアレイ基板1に接続してもよい。   Here, the drive circuit 40 is directly mounted on the TFT array substrate 1 by using the COG technique, but is not limited to this configuration. For example, the drive circuit may be connected to the TFT array substrate 1 by TCP (Tape Carrier Package).

液晶表示パネル80は、図1に示すように、互いに対向配置されるTFTアレイ基板1及び対向基板9と、両基板を接着するシール材78とで囲まれる空間に、液晶75が封入されている。両基板の間は、スペーサ76によって、所定の間隔となるように維持されている。   As shown in FIG. 1, in the liquid crystal display panel 80, a liquid crystal 75 is sealed in a space surrounded by a TFT array substrate 1 and a counter substrate 9 that are arranged to face each other and a sealing material 78 that bonds the two substrates together. . A distance between the two substrates is maintained by a spacer 76 so as to have a predetermined distance.

TFTアレイ基板1において、上述した各電極及び配線等の上には配向膜74が形成されている。一方、対向基板9のTFTアレイ基板1に対向する面には、カラーフィルタ(不図示)、BM(Black Matrix)(不図示)、対向電極73、配向膜74等が形成されている。また、TFTアレイ基板1及び対向基板9の外側の面にはそれぞれ、偏光板71が貼着されている。   In the TFT array substrate 1, an alignment film 74 is formed on each of the electrodes and wirings described above. On the other hand, a color filter (not shown), a BM (Black Matrix) (not shown), a counter electrode 73, an alignment film 74, and the like are formed on the surface of the counter substrate 9 facing the TFT array substrate 1. A polarizing plate 71 is attached to each of the outer surfaces of the TFT array substrate 1 and the counter substrate 9.

上記構成の液晶表示装置100は、例えば以下のように駆動する。走査信号が、駆動回路40から各走査信号線10に供給される。各走査信号によって、1つの走査信号線10に接続されているすべてのTFT31が同時にオンとなる。一方、表示信号は、駆動回路40から各表示信号線20に供給され、画素電極6に表示信号に応じた電荷が蓄積される。表示信号が書き込まれた画素電極6と対向電極73との電位差に応じて、画素電極6と対向電極73間の液晶の配列が変化する。これにより、液晶表示パネル80を透過する光の透過量が変化する。このように、画素30毎に表示電圧を変えることによって、所望の画像を表示することができる。   The liquid crystal display device 100 having the above configuration is driven as follows, for example. A scanning signal is supplied from the driving circuit 40 to each scanning signal line 10. Each scanning signal turns on all the TFTs 31 connected to one scanning signal line 10 simultaneously. On the other hand, the display signal is supplied from the drive circuit 40 to each display signal line 20, and charges corresponding to the display signal are accumulated in the pixel electrode 6. The arrangement of liquid crystals between the pixel electrode 6 and the counter electrode 73 changes in accordance with the potential difference between the pixel electrode 6 and the counter electrode 73 to which the display signal is written. As a result, the amount of light transmitted through the liquid crystal display panel 80 changes. In this manner, a desired image can be displayed by changing the display voltage for each pixel 30.

次に、TFTアレイ基板1の詳細な構成について詳細に説明する。図3は、TFTアレイ基板1上に形成された一画素分の主要部の構成を示す平面図である。なお、説明の便宜上、同図において後述するゲート絶縁膜や保護膜の図示は省略する。TFTアレイ基板1は、図3に示すように、走査信号線10、表示信号線20、画素電極6、ソース電極22、ドレイン電極23、コンタクトホール7、半導体層3、補助容量電極14等を備える。   Next, the detailed configuration of the TFT array substrate 1 will be described in detail. FIG. 3 is a plan view showing a configuration of a main part for one pixel formed on the TFT array substrate 1. For convenience of explanation, illustration of a gate insulating film and a protective film, which will be described later, is omitted in FIG. As shown in FIG. 3, the TFT array substrate 1 includes a scanning signal line 10, a display signal line 20, a pixel electrode 6, a source electrode 22, a drain electrode 23, a contact hole 7, a semiconductor layer 3, an auxiliary capacitance electrode 14, and the like. .

キャパシタ形成のための補助容量電極14は、図3に示すように、画素電極6の一部と対向配置するように配置されている。これにより、補助容量Csを形成している。補助容量電極14は、補助容量電極線15から延在されている。補助容量電極線15は、走査信号線10と並行して配設され、額縁領域51において共通配線(不図示)に接続されている。   As shown in FIG. 3, the auxiliary capacitance electrode 14 for forming the capacitor is disposed so as to face a part of the pixel electrode 6. Thereby, the auxiliary capacitor Cs is formed. The auxiliary capacitance electrode 14 extends from the auxiliary capacitance electrode line 15. The auxiliary capacitance electrode line 15 is arranged in parallel with the scanning signal line 10 and is connected to a common wiring (not shown) in the frame region 51.

走査信号線10に信号が与えられると、表示信号線20から伝わった信号電荷が画素内に書き込まれ、補助容量Csに電荷が蓄えられる。このとき、画素電極6は、書き込まれた信号に対応した電位を液晶に印加して所望の画像を表示させる。各画素の信号電荷を蓄える電極の一方に画素電極6を用い、対向電極として補助容量電極14を用いる。補助容量電極14は、走査信号線10と同じレイヤ(第1導電膜)で形成され、全ての画素に接続するべく、表示信号線20とゲート絶縁層を介して交差するように配設されている。   When a signal is applied to the scanning signal line 10, the signal charge transmitted from the display signal line 20 is written into the pixel, and the charge is stored in the auxiliary capacitor Cs. At this time, the pixel electrode 6 applies a potential corresponding to the written signal to the liquid crystal to display a desired image. The pixel electrode 6 is used as one of the electrodes that store the signal charge of each pixel, and the auxiliary capacitance electrode 14 is used as the counter electrode. The auxiliary capacitance electrode 14 is formed of the same layer (first conductive film) as the scanning signal line 10 and is arranged so as to intersect the display signal line 20 via the gate insulating layer so as to be connected to all the pixels. Yes.

図4に、図3のIV−IV切断部断面図を示す。本実施形態1に係るTFT31は、逆スタガ型のものであり、チャネルエッチ(CE)により製造する。TFT31は、図4に示すように、絶縁性基板70、ゲート電極13、ゲート絶縁膜2、スイッチング半導体層(以下、単に「半導体層」と云う)たる第1半導体層3と第2半導体層4、ソース電極22、ドレイン電極23、保護膜5、画素電極6等を有する。   FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line IV-IV in FIG. The TFT 31 according to the first embodiment is of an inverted stagger type and is manufactured by channel etching (CE). As shown in FIG. 4, the TFT 31 includes an insulating substrate 70, a gate electrode 13, a gate insulating film 2, a first semiconductor layer 3 and a second semiconductor layer 4 which are switching semiconductor layers (hereinafter simply referred to as “semiconductor layers”). , Source electrode 22, drain electrode 23, protective film 5, pixel electrode 6 and the like.

絶縁性基板70としては、ガラス基板や石英基板などの透過性を有する基板を用いる。ゲート電極13は、走査信号線10から延在されている。ゲート電極13、補助容量電極14、及び補助容量電極線15は、絶縁性基板70上に形成され、走査信号線10、L−走査引回し配線11、R−走査引回し配線12と同一のレイヤである第1導電膜により形成されている。   As the insulating substrate 70, a transparent substrate such as a glass substrate or a quartz substrate is used. The gate electrode 13 extends from the scanning signal line 10. The gate electrode 13, the auxiliary capacitance electrode 14, and the auxiliary capacitance electrode line 15 are formed on the insulating substrate 70, and are in the same layer as the scanning signal line 10, the L-scanning routing wiring 11, and the R-scanning routing wiring 12. The first conductive film is formed.

ゲート絶縁膜2は、走査信号線10、L−走査引回し配線11、R−走査引回し配線12、ゲート電極13、補助容量電極14、及び補助容量電極線15を覆うように、その上層に形成されている。ゲート絶縁膜2には、酸化シリコンや窒化シリコンなどを用いることができる。第1半導体層3は、ゲート絶縁膜2の上に形成され、ゲート絶縁膜2を介してゲート電極13と少なくとも一部が対向配置されている。第2半導体層4は、第1半導体層3の上層に形成されている。半導体層としては、a−Si膜やp−Si膜を用いることができる。   The gate insulating film 2 is formed in an upper layer so as to cover the scanning signal line 10, the L-scanning wiring 11, the R-scanning wiring 12, the gate electrode 13, the auxiliary capacitance electrode 14, and the auxiliary capacitance electrode line 15. Is formed. For the gate insulating film 2, silicon oxide, silicon nitride, or the like can be used. The first semiconductor layer 3 is formed on the gate insulating film 2, and at least a part of the first semiconductor layer 3 is disposed to face the gate electrode 13 with the gate insulating film 2 interposed therebetween. The second semiconductor layer 4 is formed in the upper layer of the first semiconductor layer 3. As the semiconductor layer, an a-Si film or a p-Si film can be used.

半導体層の上層には、表示信号線20から延在されたソース電極22が形成されている。これにより、半導体層のソース領域にソース電圧を供給することができる。さらには、半導体層のドレイン領域の上にドレイン電極が形成されている。ソース電極、及びドレイン電極は、表示信号線と同じ工程で形成することができる。走査信号線と表示信号線には、例えば、AlやCrなどの低抵抗の金属材料を用いることができる。このように、走査信号線10と表示信号線20とは異なる配線層で形成されている。   A source electrode 22 extending from the display signal line 20 is formed on the upper layer of the semiconductor layer. Thereby, a source voltage can be supplied to the source region of the semiconductor layer. Furthermore, a drain electrode is formed on the drain region of the semiconductor layer. The source electrode and the drain electrode can be formed in the same process as the display signal line. For the scanning signal line and the display signal line, for example, a low-resistance metal material such as Al or Cr can be used. Thus, the scanning signal line 10 and the display signal line 20 are formed of different wiring layers.

ソース電極22及びドレイン電極23は、ゲート絶縁膜2、第1半導体層3、第2半導体層4を介して、少なくともゲート電極13の一部と対向配置されている。すなわち、TFTとして動作するために、薄膜トランジスタ領域が、ゲート電極13上に存在して、ゲート電極に電圧を印加した時の電界の影響を受けやすい状態とする。   The source electrode 22 and the drain electrode 23 are arranged to face at least a part of the gate electrode 13 with the gate insulating film 2, the first semiconductor layer 3, and the second semiconductor layer 4 interposed therebetween. That is, in order to operate as a TFT, the thin film transistor region exists on the gate electrode 13 and is easily affected by an electric field when a voltage is applied to the gate electrode.

保護膜5は、半導体層のチャネル領域、ソース電極22、ドレイン電極23を覆うように形成されている(図3参照)。そして、保護膜5上に、画素電極6が形成されている。保護膜5に形成されたコンタクトホール7を介して、ドレイン電極23と画素電極6が電気的に接続されている。従って、走査信号線に走査信号が供給されると、所定のゲート電極にゲート電圧が印加され、TFTがONとなり、ソース電極からドレイン電極を介して画素電極に画像表示信号電圧が供給される。   The protective film 5 is formed so as to cover the channel region of the semiconductor layer, the source electrode 22 and the drain electrode 23 (see FIG. 3). A pixel electrode 6 is formed on the protective film 5. The drain electrode 23 and the pixel electrode 6 are electrically connected through a contact hole 7 formed in the protective film 5. Therefore, when a scanning signal is supplied to the scanning signal line, a gate voltage is applied to a predetermined gate electrode, the TFT is turned on, and an image display signal voltage is supplied from the source electrode to the pixel electrode via the drain electrode.

画素電極6は、前述したように補助容量電極14と一部の領域が対向配置されるように構成され、補助容量Csを形成している。また、ドレイン電極23は、上述したようにゲート電極13と一部の領域が対向配置されるように構成され、ゲート−ドレイン間容量Cgdを形成している。なお、第1表示領域51、第2表示領域52は、略同一面積とし、同一本数の走査信号線10が配設されているものとする。無論、これは一例であり、これに限定されるものではないことは言うまでもない。   As described above, the pixel electrode 6 is configured such that a part of the auxiliary capacitor electrode 14 is disposed opposite to the pixel electrode 6 and forms the auxiliary capacitor Cs. Further, as described above, the drain electrode 23 is configured such that a part of the region is opposed to the gate electrode 13 and forms a gate-drain capacitance Cgd. The first display area 51 and the second display area 52 have substantially the same area, and the same number of scanning signal lines 10 are provided. Of course, this is an example, and it goes without saying that the present invention is not limited thereto.

本発明の目的を達成するべく本発明者が鋭意検討を重ねたところ、補助容量Csの大きさを調整することにより、走査引回し配線間の抵抗格差を低減しつつ、狭額縁化を達成することができることを突き止めた。すなわち、走査引回し配線の配線負荷の差を、補助容量Csの値を調整することにより相殺可能であることを突き止めた。   As a result of extensive studies by the inventor in order to achieve the object of the present invention, the size of the auxiliary capacitor Cs is adjusted, thereby reducing the resistance difference between the scanning lead wires and achieving a narrow frame. I found out that I could do it. That is, it has been found that the difference in the wiring load of the scanning routing wiring can be canceled by adjusting the value of the auxiliary capacitance Cs.

図5に、本実施形態1に係る表示信号線アドレスに対して、対応する画素電極6と、補助容量電極線15から延在された補助容量電極14とにより構成される補助容量Csの値をプロットした図を示す。ここで、X軸の表示信号線アドレスは、額縁領域60の図2中の左側と隣接する表示領域50側からカウントした場合の表示信号線の配置を示す。   FIG. 5 shows the value of the auxiliary capacitance Cs constituted by the corresponding pixel electrode 6 and the auxiliary capacitance electrode 14 extended from the auxiliary capacitance electrode line 15 with respect to the display signal line address according to the first embodiment. The plotted figure is shown. Here, the display signal line address of the X axis indicates the arrangement of the display signal line when counted from the display area 50 side adjacent to the left side of the frame area 60 in FIG.

本実施形態1に係るTFTアレイ基板においては、図5に示すように、第1表示領域51に配設されている補助容量電極14と画素電極6により形成される補助容量Csが、第2表示領域52に配設されている補助容量電極14と画素電極6により形成される補助容量Csよりも大きくなるように設定する。また、第1表示領域51内の補助容量Csは略一定とし、第2表示領域52の補助容量Csも同領域内で略一定とする。換言すると、L−走査引回し配線11の側から入力される第1表示領域51内の補助容量Csの値を、R−走査引回し配線12側から入力される第2表示領域52内の補助容量Csの値よりも大きく設定する。   In the TFT array substrate according to the first embodiment, as shown in FIG. 5, the auxiliary capacitance Cs formed by the auxiliary capacitance electrode 14 and the pixel electrode 6 disposed in the first display region 51 is the second display. The auxiliary capacitance is set to be larger than the auxiliary capacitance Cs formed by the auxiliary capacitance electrode 14 and the pixel electrode 6 disposed in the region 52. The auxiliary capacity Cs in the first display area 51 is substantially constant, and the auxiliary capacity Cs in the second display area 52 is also substantially constant in the same area. In other words, the value of the auxiliary capacitance Cs in the first display area 51 input from the L-scanning routing line 11 side is used as the auxiliary capacity in the second display area 52 input from the R-scanning routing line 12 side. It is set larger than the value of the capacity Cs.

図6に、本実施形態1に係る表示信号線アドレスに対して画素電極電位をプロットしたものを示す。また、図6において、第1表示領域51の補助容量Csと第2表示領域52の補助容量Csを略同一とした場合の画素電極電位をプロットしたものも併せて示す。図6中の(a)は、第2表示領域52の表示信号線アドレスに対して、対応する画素電極電位をプロットしたものであり、(b)は、第1表示領域51の表示信号線アドレスに対して、対応する画素電極電位をプロットしたものである。一方、(c)は、第1表示領域51の補助容量Csを、第2表示領域52の補助容量Csと略同一とした場合の第1表示領域51の表示信号線アドレスに対して、対応する画素電極電位をプロットしたものである。   FIG. 6 shows a plot of the pixel electrode potential with respect to the display signal line address according to the first embodiment. FIG. 6 also shows a plot of pixel electrode potentials when the auxiliary capacitance Cs of the first display area 51 and the auxiliary capacitance Cs of the second display area 52 are substantially the same. 6A is a plot of the corresponding pixel electrode potential with respect to the display signal line address of the second display area 52, and FIG. 6B is a display signal line address of the first display area 51. Is a plot of the corresponding pixel electrode potential. On the other hand, (c) corresponds to the display signal line address of the first display area 51 when the auxiliary capacity Cs of the first display area 51 is substantially the same as the auxiliary capacity Cs of the second display area 52. The pixel electrode potential is plotted.

まず、第1表示領域51の補助容量Csと第2表示領域52の補助容量Csを略同一とした場合について説明する。この場合、(a)及び(c)に示すように、第1表示領域51と第2表示領域52の画素電極電位差が、特に表示信号線アドレスが小さい領域において大きくなる。   First, the case where the auxiliary capacity Cs of the first display area 51 and the auxiliary capacity Cs of the second display area 52 are made substantially the same will be described. In this case, as shown in (a) and (c), the pixel electrode potential difference between the first display area 51 and the second display area 52 is particularly large in the area where the display signal line address is small.

図6に示すように、走査信号線10に対して左側から入力する場合には、表示信号アドレスが大きくなるにつれて画素電極電位が大きくなる。一方、走査信号線10に対して右側から入力する場合には、表示信号アドレスが小さくなるにつれて画素電極電位が大きくなる。すなわち、配線負荷が小さいものほど、画素電極電位が小さくなる傾向にあることがわかる。第1表示領域51には、配線負荷の小さいL−走査引回し配線11から走査信号が供給される。従って、配線負荷が相対的に大きいR−走査引回し配線12から供給されるものに比して、画素電極電位が相対的に小さくなる(図6中の(a)及び(c)参照)。   As shown in FIG. 6, when the scanning signal line 10 is input from the left side, the pixel electrode potential increases as the display signal address increases. On the other hand, when the scanning signal line 10 is input from the right side, the pixel electrode potential increases as the display signal address decreases. That is, it can be seen that the smaller the wiring load, the smaller the pixel electrode potential. A scanning signal is supplied to the first display area 51 from the L-scanning lead wiring 11 having a small wiring load. Therefore, the pixel electrode potential is relatively smaller than that supplied from the R-scanning lead wiring 12 having a relatively large wiring load (see (a) and (c) in FIG. 6).

そこで、本実施形態1においては、走査信号線10に対して左側から入力するL−走査引回し配線11の領域である第1表示領域51の補助容量Csを、第2表示領域52の補助容量Csに比して図5に示すように一律に大きくなるように設定した。これにより、第1表示領域51の画素電極電位と、第2表示領域52の画素電極電位の差が、前記(a)及び(c)の場合に比して小さくなる。補助容量Csにより走査引回し配線の配線負荷の遅延量を調整し、これにより画素電極電位の差を小さくして表示ムラを低減することができる。   Therefore, in the first embodiment, the auxiliary capacitance Cs of the first display area 51 which is the area of the L-scanning lead wiring 11 input from the left side with respect to the scanning signal line 10 is used as the auxiliary capacity of the second display area 52. As shown in FIG. 5, it was set to be uniformly larger than Cs. As a result, the difference between the pixel electrode potential in the first display area 51 and the pixel electrode potential in the second display area 52 becomes smaller than in the cases (a) and (c). By adjusting the delay amount of the wiring load of the scanning lead wiring by the auxiliary capacitor Cs, it is possible to reduce the difference in pixel electrode potential and reduce display unevenness.

図6の(a)及び(b)に示すように第1表示領域51と第2表示領域52の画素電極電位の差を軽減させることにより、色ムラ、輝度ムラ等の表示ムラを軽減することができる。すなわち、補助容量Csを走査引回し配線の配線負荷の差に応じて調整することにより、画素電極電位の差を低減し、液晶表示装置の表示ムラを軽減することができる。   As shown in FIGS. 6A and 6B, display unevenness such as color unevenness and brightness unevenness is reduced by reducing the difference in pixel electrode potential between the first display area 51 and the second display area 52. Can do. That is, by adjusting the auxiliary capacitor Cs according to the difference in the wiring load of the scanning lead wiring, the difference in pixel electrode potential can be reduced and display unevenness of the liquid crystal display device can be reduced.

ここで、補助容量Csの値を調整することにより液晶表示装置の表示ムラを軽減することができる理由について説明する。一般に、TFTを用いたアクティブマトリクス型の表示装置においては、TFTのゲート−ドレイン間寄生容量Cgdのために、走査信号の立下り時に、図7に示すように、画素電極の電位が変動する。この変動量は、フィールドスルー電圧Vfdと呼ばれ、一般に下記の式<1>により表すことができる。
<式1> Vfd=Cgd・ΔVg/(Clc+Cs+Cgd)
なお、ΔVgは走査信号振幅、Csは保持容量、Clcは液晶容量である。
Here, the reason why the display unevenness of the liquid crystal display device can be reduced by adjusting the value of the auxiliary capacitor Cs will be described. In general, in an active matrix display device using a TFT, the potential of the pixel electrode varies as shown in FIG. 7 at the fall of the scanning signal due to the parasitic gate-drain capacitance Cgd of the TFT. This fluctuation amount is called a field through voltage Vfd and can be generally expressed by the following formula <1>.
<Formula 1> Vfd = Cgd · ΔVg / (Clc + Cs + Cgd)
ΔVg is a scanning signal amplitude, Cs is a holding capacitor, and Clc is a liquid crystal capacitor.

但し、上記式<1>は、走査信号が理想的なパルスの場合の式であって、実際には、方形波で入力された走査信号は、走査配線の時定数(抵抗×容量)によってなまりが生じる。そして、このなまりによって、走査信号の立下りはじめからトランジスタがオフになるまでに遅延が生じ、フィールドスルーで変動しようとしている画素電位がある程度回復される。   However, the above expression <1> is an expression when the scanning signal is an ideal pulse, and actually, the scanning signal input as a square wave is rounded by the time constant (resistance × capacitance) of the scanning wiring. Occurs. This rounding causes a delay from the beginning of the fall of the scanning signal until the transistor is turned off, and the pixel potential that is going to fluctuate due to field through is recovered to some extent.

図8(a)及び(b)に、実際の走査信号の立下りイメージの一例を示す。走査信号に遅延がある場合、図8に示すように、トランジスタがオフするまでに画素電位が表示信号の電位にある程度回復する。従って、走査信号の遅延が大きい場合には、回復する量が大きくなり、画素電位が高くなる。   FIGS. 8A and 8B show an example of an actual falling image of the scanning signal. In the case where there is a delay in the scanning signal, as shown in FIG. 8, the pixel potential is restored to some extent to the potential of the display signal before the transistor is turned off. Therefore, when the delay of the scanning signal is large, the amount of recovery is large and the pixel potential is high.

この回復量が、走査配線の時定数によって変わることにより、画素電位の差が生じることになる。従って、上記式<1>中の補助容量Csを走査信号線の時定数(配線負荷)に応じて調整することによりVfdを調整することができる。具体的には、補助容量Csを大きくすることによりVfdを小さくすることができる。そして、画素電位の差を低減することにより、表示ムラを低減することができる。   This recovery amount varies depending on the time constant of the scanning wiring, resulting in a difference in pixel potential. Therefore, Vfd can be adjusted by adjusting the auxiliary capacitance Cs in the above formula <1> according to the time constant (wiring load) of the scanning signal line. Specifically, Vfd can be reduced by increasing the auxiliary capacitance Cs. Further, display unevenness can be reduced by reducing the difference in pixel potential.

また、本実施形態1に係る引回し配線は、全ての引回し配線を製造限界の配線幅とし、かつ特許文献1のように折り返し部等を設けていないので、狭額縁化を実現することができる。本発明によれば、狭額縁化を達成しつつ、表示品位の高い表示装置を提供することができる。しかも、走査引回し配線間の抵抗格差を低減するための特別の構成を付加することなく表示ムラを低減できるので、歩留まりの低下を招かず、信頼性の高い表示装置を提供することができる。   In addition, since the routing wiring according to the first embodiment has all the routing wiring as the manufacturing limit wiring width and does not have a folded portion or the like as in Patent Document 1, it is possible to realize a narrow frame. it can. According to the present invention, it is possible to provide a display device with high display quality while achieving a narrow frame. In addition, since display unevenness can be reduced without adding a special configuration for reducing the resistance difference between the scanning lead wirings, a display device with high reliability can be provided without causing a decrease in yield.

なお、本実施形態1においては引回し配線の配線幅がすべて同一である例について説明したが、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において変更することが可能であることは言うまでもない。また、本実施形態1においては、第1表示領域51、第2表示領域52のそれぞれにおいて、一律に一定の補助容量Csとなるように設定したが、実際には第1表示領域51内、及び第2表示領域52内において個々の走査引回し配線によって配線距離が異なるため、引回し配線間の抵抗差が生じている。従って、これを考慮して、第1表示領域51内、及び第2表示領域52内の補助容量Csを個々に調整すれば、より効果的に表示ムラを抑制することが可能となり、より品質の高い表示装置を提供することができる。   In the first embodiment, the example in which all the wiring widths of the routing wirings are the same has been described. However, it goes without saying that the wiring width can be changed without departing from the gist of the present invention. In the first embodiment, each of the first display area 51 and the second display area 52 is set to have a uniform auxiliary capacity Cs. In the second display area 52, the wiring distance varies depending on the individual scanning routing lines, so that a resistance difference occurs between the routing lines. Therefore, if this is taken into consideration and the auxiliary capacitances Cs in the first display area 51 and the second display area 52 are individually adjusted, it becomes possible to more effectively suppress display unevenness and improve quality. A high display device can be provided.

[実施形態2]
次に、上記実施形態1とは異なる液晶表示装置の一例について説明する。なお、以降の説明において、上記実施形態1と同一の要素部材は同一の符号を付し、適宜その説明を省略する。
[Embodiment 2]
Next, an example of a liquid crystal display device different from the first embodiment will be described. In the following description, the same elements as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted as appropriate.

本実施形態2に係る液晶表示装置は、下記の点を除いて上記実施形態1に係る液晶表示装置と構成及び動作が同じである。すなわち、上記実施形態1においては、第1表示領域51と第2表示領域52の補助容量Csの値を図5に示すように異なる値に設定しているのに対し、本実施形態2においては、第1表示領域51と第2表示領域52の補助容量Csの値を同一としている点において相違する。また、上記実施形態1においては、第1表示領域51と第2表示領域52のゲート−ドレイン間容量Cgdの値が同一となるように設計しているのに対し、本実施形態2においては、第1表示領域51と第2表示領域52のゲート−ドレイン間容量Cgdの値が異なるように設定している点において相違する。   The liquid crystal display device according to the second embodiment has the same configuration and operation as the liquid crystal display device according to the first embodiment except for the following points. That is, in the first embodiment, the value of the auxiliary capacitance Cs in the first display area 51 and the second display area 52 is set to different values as shown in FIG. The first display area 51 and the second display area 52 are different in that the auxiliary capacitance Cs is the same. In the first embodiment, the first display area 51 and the second display area 52 are designed to have the same gate-drain capacitance Cgd, whereas in the second embodiment, The difference is that the values of the gate-drain capacitance Cgd of the first display area 51 and the second display area 52 are set to be different.

図9に、本実施形態2に係る表示信号線アドレスに対して、対応するゲート−ドレイン間容量Cgdの値をプロットした図を示す。図9に示すように、本実施形態2に係るTFTアレイ基板においては、第1表示領域51に配設されているゲート電極13とドレイン電極23により形成されるゲート−ドレイン間容量Cgdが、第2表示領域52に配設されているゲート電極13とドレイン電極23により形成されるゲート−ドレイン間容量Cgdよりも小さくなるように設定する。   FIG. 9 is a diagram in which the value of the corresponding gate-drain capacitance Cgd is plotted against the display signal line address according to the second embodiment. As shown in FIG. 9, in the TFT array substrate according to the second embodiment, the gate-drain capacitance Cgd formed by the gate electrode 13 and the drain electrode 23 disposed in the first display region 51 is 2 It is set to be smaller than the gate-drain capacitance Cgd formed by the gate electrode 13 and the drain electrode 23 arranged in the display area 52.

本実施形態2においては、第1表示領域51内のゲート−ドレイン間容量Cgdは略一定とし、第2表示領域52のゲート−ドレイン間容量Cgdも同領域内で略一定とする。また、前述したように補助容量Csは、一律に略一定とする。換言すると、L−走査引回し配線11の側から入力される第1表示領域51内のゲート−ドレイン間容量Cgdの値を、R−走査引回し配線12側から入力される第2表示領域52内のゲート−ドレイン間容量Cgdの値よりも小さく設定する。   In the second embodiment, the gate-drain capacitance Cgd in the first display region 51 is substantially constant, and the gate-drain capacitance Cgd in the second display region 52 is also substantially constant in the same region. Further, as described above, the auxiliary capacitance Cs is set to be substantially constant. In other words, the value of the gate-drain capacitance Cgd in the first display area 51 input from the L-scanning routing line 11 side is set to the second display area 52 input from the R-scanning routing line 12 side. It is set smaller than the value of the gate-drain capacitance Cgd.

図10に、本実施形態2に係る表示信号線アドレスに対して、対応する画素電極電位をプロットしたものを示す。また、図9において、第1表示領域51のゲート−ドレイン間容量Cgdと第2表示領域52のゲート−ドレイン間容量Cgdを略同一とした場合の画素電極電位をプロットしたものも併せて示す。図10中の(a)は、第2表示領域52の表示信号線アドレスに対して、対応する画素電極電位をプロットしたものであり、(b)は、第1表示領域51の表示信号線アドレスに対して、対応する画素電極電位をプロットしたものである。一方、(c)は、第1表示領域51の補助容量Csと第2表示領域52のゲート−ドレイン間容量Cgdを略同一とした場合の第1表示領域51の表示信号線アドレスに対して、対応する画素電極電位をプロットしたものである。   FIG. 10 shows a plot of the corresponding pixel electrode potential with respect to the display signal line address according to the second embodiment. FIG. 9 also shows a plot of the pixel electrode potential when the gate-drain capacitance Cgd of the first display region 51 and the gate-drain capacitance Cgd of the second display region 52 are substantially the same. 10A is a plot of the corresponding pixel electrode potential with respect to the display signal line address of the second display area 52, and FIG. 10B is the display signal line address of the first display area 51. FIG. Is a plot of the corresponding pixel electrode potential. On the other hand, (c) shows the display signal line address of the first display area 51 when the auxiliary capacity Cs of the first display area 51 and the gate-drain capacity Cgd of the second display area 52 are substantially the same. The corresponding pixel electrode potential is plotted.

まず、第1表示領域51のゲート−ドレイン間容量Cgdと第2表示領域52のゲート−ドレイン間容量Cgdを略同一とした場合について説明する。この場合、(a)及び(c)に示すように、第1表示領域51と第2表示領域52の画素電極電位差が、特に表示信号線アドレスが小さい領域において大きくなる。   First, a case where the gate-drain capacitance Cgd of the first display region 51 and the gate-drain capacitance Cgd of the second display region 52 are substantially the same will be described. In this case, as shown in (a) and (c), the pixel electrode potential difference between the first display area 51 and the second display area 52 is particularly large in the area where the display signal line address is small.

本実施形態2においては、走査信号線10に対して左側から入力するL−走査引回し配線11の領域である第1表示領域51のゲート−ドレイン間容量Cgdを、第2表示領域52のゲート−ドレイン間容量Cgdに比して図5に示すように一律に小さくなるように設定した。これにより、第1表示領域51の画素電極電位と、第2表示領域52の画素電極電位の差が、前記(a)及び(c)の場合に比して小さくなる。ゲート−ドレイン間容量Cgdにより走査引回し配線の配線負荷の遅延量を調整し、これにより画素電極電位の差を小さくして表示ムラを低減することができる。   In the second embodiment, the gate-drain capacitance Cgd of the first display region 51 which is the region of the L-scanning lead wiring 11 inputted from the left side with respect to the scanning signal line 10 is used as the gate of the second display region 52. -It was set so as to be uniformly smaller than the drain-drain capacitance Cgd as shown in FIG. As a result, the difference between the pixel electrode potential in the first display area 51 and the pixel electrode potential in the second display area 52 becomes smaller than in the cases (a) and (c). By adjusting the gate-drain capacitance Cgd, the delay amount of the scanning load wiring can be adjusted, thereby reducing the difference in pixel electrode potential and reducing display unevenness.

図10の(a)及び(b)に示すように第1表示領域51と第2表示領域52の画素電極電位の差を軽減しているので、表示ムラを軽減することができる。すなわち、上記式<1>中のゲート−ドレイン間容量Cgdを、引回し配線の配線負荷の差に応じて調整することにより、画素電極電位の差を低減して液晶表示装置の表示ムラを軽減することができる。   Since the difference in pixel electrode potential between the first display area 51 and the second display area 52 is reduced as shown in FIGS. 10A and 10B, display unevenness can be reduced. That is, by adjusting the gate-drain capacitance Cgd in the above formula <1> according to the wiring load difference of the lead wiring, the difference in pixel electrode potential is reduced and display unevenness of the liquid crystal display device is reduced. can do.

また、本実施形態2に係る引回し配線は、全ての引回し配線を製造限界の配線幅とし、かつ特許文献1のように折り返し部等を設けていないので、狭額縁化を実現することができる。本発明によれば、狭額縁化を達成しつつ、表示品位の高い表示装置を提供することができる。しかも、走査引回し配線間の抵抗格差を低減するための特別の構成を付加することなく表示ムラを低減できるので、歩留まりの低下を招かず、信頼性の高い表示装置を提供することができる。なお、上記実施形態1と2を組み合わせることにより、表示ムラをより効果的に軽減するようにしてもよい。   In addition, since the routing wiring according to the second embodiment has all the routing wirings as the manufacturing limit wiring width and is not provided with a folded portion or the like as in Patent Document 1, a narrow frame can be realized. it can. According to the present invention, it is possible to provide a display device with high display quality while achieving a narrow frame. In addition, since display unevenness can be reduced without adding a special configuration for reducing the resistance difference between the scanning lead wirings, a display device with high reliability can be provided without causing a decrease in yield. Note that display unevenness may be more effectively reduced by combining the first and second embodiments.

[実施形態3]
本実施形態3に係る液晶表示装置は、下記の点を除いて上記実施形態1に係る液晶表示装置と構成及び動作が同じである。すなわち、上記実施形態1においては、第1表示領域51における補助容量Csの値を略一定とし、かつ第2表示領域52における補助容量Csの値を略一定としていたのに対し、本実施形態3においては、第1表示領域51と第2表示領域52それぞれにおいて、表示信号線アドレスの位置に応じて、補助容量Csの値を調整している点において相違する。換言すると、走査引回し配線と接続される走査信号線の入力端から、その反対側の端部である走査信号線の終端までの間に配設された補助容量Csの値を、最適となるように調整している。
[Embodiment 3]
The liquid crystal display device according to the third embodiment has the same configuration and operation as the liquid crystal display device according to the first embodiment except for the following points. That is, in the first embodiment, the value of the auxiliary capacitance Cs in the first display area 51 is substantially constant and the value of the auxiliary capacity Cs in the second display area 52 is substantially constant. Is different in that the value of the auxiliary capacitance Cs is adjusted in accordance with the position of the display signal line address in each of the first display area 51 and the second display area 52. In other words, the value of the auxiliary capacitor Cs disposed between the input end of the scan signal line connected to the scan lead wiring and the end of the scan signal line which is the opposite end is optimized. It is adjusted so that.

図11に、本実施形態3に係る表示信号線アドレスに対して、対応する補助容量Csの値をプロットした図を示す。同図において、上記実施形態1における第1表示領域51の補助容量Cs,及び第2表示領域52の補助容量Csの相対位置も併せて図示する(図5参照)。また、図12に、本実施形態3に係る表示信号線アドレスに対して、対応する画素電極電位をプロットしたものを示す。   FIG. 11 is a diagram in which the value of the corresponding auxiliary capacitor Cs is plotted against the display signal line address according to the third embodiment. In the same figure, the relative position of the auxiliary capacity Cs of the first display area 51 and the auxiliary capacity Cs of the second display area 52 in the first embodiment is also shown (see FIG. 5). FIG. 12 shows a plot of the corresponding pixel electrode potential with respect to the display signal line address according to the third embodiment.

表示信号線アドレスに応じて補助容量Csを最適化することにより、図12に示すように画素電極電位の差を小さくすることができる。具体的には、走査信号線10の入力側から終端に向かうにつれて、画素電極6と補助容量電極14との対向面積が小さくなるように設定する。これにより、同一の走査信号線間の位置による画素電極電位の差を低減することができる。従って、より高品位の液晶表示装置を提供することができる。表示領域が大画面の場合に特に有効である。   By optimizing the auxiliary capacitance Cs in accordance with the display signal line address, the difference in pixel electrode potential can be reduced as shown in FIG. Specifically, the facing area between the pixel electrode 6 and the auxiliary capacitance electrode 14 is set so as to decrease from the input side to the end of the scanning signal line 10. Thereby, the difference in pixel electrode potential due to the position between the same scanning signal lines can be reduced. Therefore, a higher quality liquid crystal display device can be provided. This is particularly effective when the display area is a large screen.

さらに、第1表示領域51の補助容量Csは、駆動回路40から離間する位置にある走査信号線ほど小さくなるように、第2表示領域52の補助容量Csは、駆動回路40から離間する位置にある走査信号線ほど小さくなるように設定することにより、画素電極電位の差をより効果的に小さくすることができる。   Further, the auxiliary capacity Cs of the second display area 52 is located at a position away from the drive circuit 40 so that the auxiliary capacity Cs of the first display area 51 becomes smaller as the scanning signal line is located away from the drive circuit 40. By setting the scanning signal line to be smaller, the difference in pixel electrode potential can be more effectively reduced.

走査信号線の引き回し距離は、上記特許文献1のように折り返し部を設けない場合、走査信号線の配置により個々に異なり、個々に配線負荷が異なる。それぞれの引回し配線の配線距離に応じて、対応する走査信号線に設けられた補助容量Csの値を設定する。これにより、引回し配線の配線距離による画素電極電位の差を低減することができる。   When the folding portion is not provided as in Patent Document 1 described above, the scanning signal line routing distance differs individually depending on the arrangement of the scanning signal lines, and the wiring load differs individually. The value of the auxiliary capacitance Cs provided in the corresponding scanning signal line is set according to the wiring distance of each routing wiring. Thereby, the difference in pixel electrode potential due to the wiring distance of the lead wiring can be reduced.

補助容量Csの調整量は、駆動回路の実装位置、走査引回し配線の配線長、配線幅、表示引回し配線との交差面積等により変動するものであり、最適となるように表示装置の態様に合わせて適宜調整する。一の走査信号線内に配設されたTFTの位置に応じて、若しくは走査引回し配線の配線間の抵抗差に応じて補助容量Csを調整することにより、より表示品位の高い液晶表示装置を提供することができる。   The amount of adjustment of the auxiliary capacitor Cs varies depending on the mounting position of the driving circuit, the wiring length of the scanning routing wiring, the wiring width, the crossing area with the display routing wiring, and the like. Adjust accordingly. A liquid crystal display device with higher display quality can be obtained by adjusting the auxiliary capacitance Cs according to the position of the TFT disposed in one scanning signal line or according to the resistance difference between the wirings of the scanning lead wiring. Can be provided.

[実施形態4]
本実施形態4に係る液晶表示装置は、下記の点を除いて上記実施形態2に係る液晶表示装置と構成及び動作が同じである。すなわち、上記実施形態2においては、第1表示領域51におけるゲート−ドレイン間容量Cgdの値を略一定とし、かつ第2表示領域52におけるゲート−ドレイン間容量Cgdの値を略一定としていたのに対し、本実施形態3においては、第1表示領域51と第2表示領域52それぞれにおいて、表示信号線アドレスの位置に応じて、ゲート−ドレイン間容量Cgdの値を調整している点において相違する。
[Embodiment 4]
The liquid crystal display device according to the fourth embodiment has the same configuration and operation as the liquid crystal display device according to the second embodiment except for the following points. That is, in the second embodiment, the value of the gate-drain capacitance Cgd in the first display region 51 is substantially constant, and the value of the gate-drain capacitance Cgd in the second display region 52 is substantially constant. On the other hand, the third embodiment is different in that the value of the gate-drain capacitance Cgd is adjusted according to the position of the display signal line address in each of the first display area 51 and the second display area 52. .

図13に、本実施形態4に係る表示信号線アドレスに対して、対応するゲート−ドレイン間容量Cgdの値をプロットした図を示す。同図において、上記実施形態1における第1表示領域51のゲート−ドレイン間容量Cgd,及び第2表示領域52のゲート−ドレイン間容量Cgdの相対位置も併せて図示する(図11参照)。また、図14に、本実施形態4に係る表示信号線アドレスに対して、対応する画素電極電位をプロットしたものを示す。   FIG. 13 is a diagram in which the value of the corresponding gate-drain capacitance Cgd is plotted with respect to the display signal line address according to the fourth embodiment. In the same figure, the relative positions of the gate-drain capacitance Cgd of the first display region 51 and the gate-drain capacitance Cgd of the second display region 52 in the first embodiment are also shown (see FIG. 11). FIG. 14 shows a plot of the corresponding pixel electrode potential with respect to the display signal line address according to the fourth embodiment.

表示信号線アドレスに応じてゲート−ドレイン間容量Cgdを最適化することにより、図14に示すように画素電極電位の差を小さくすることができる。換言すると、走査信号線10の入力側から終端に向かうにつれて、ゲート電極13とドレイン電極23との対向面積が大きくなるように設定することにより、同一の走査信号線間の画素電極電位の差を低減することができ、高品位の液晶表示装置を提供することができる。表示領域が大画面の場合に特に有効である。   By optimizing the gate-drain capacitance Cgd in accordance with the display signal line address, the difference in pixel electrode potential can be reduced as shown in FIG. In other words, by setting the facing area between the gate electrode 13 and the drain electrode 23 to increase from the input side to the end of the scanning signal line 10, the difference in pixel electrode potential between the same scanning signal lines can be reduced. Thus, a high-quality liquid crystal display device can be provided. This is particularly effective when the display area is a large screen.

さらに、第1表示領域51のゲート−ドレイン間容量Cgdは、駆動回路40から離間する位置にある走査信号線ほど大きくなるように、第2表示領域52のゲート−ドレイン間容量Cgdは、駆動回路40から離間する位置にある走査信号線ほど大きくなるように設定することにより、画素電極電位の差を小さくすることができる。   Further, the gate-drain capacitance Cgd of the second display region 52 is increased so that the gate-drain capacitance Cgd of the first display region 51 increases as the scanning signal line is located farther from the drive circuit 40. By setting the scanning signal line so as to be farther away from the scanning signal line 40, the difference in pixel electrode potential can be reduced.

走査信号線の引き回し距離は、上記特許文献1のように折り返し部を設けない場合、走査信号線の配置により個々に異なり、個々に配線負荷が異なる。それぞれの引回し配線の配線距離に応じて、対応する画素毎に設けられたゲート−ドレイン間容量Cgdの値を設定する。これにより、引回し配線の配線距離による画素電極電位の差を低減することができる。   When the folding portion is not provided as in Patent Document 1 described above, the scanning signal line routing distance differs individually depending on the arrangement of the scanning signal lines, and the wiring load differs individually. The value of the gate-drain capacitance Cgd provided for each corresponding pixel is set according to the wiring distance of each routing wiring. Thereby, the difference in pixel electrode potential due to the wiring distance of the lead wiring can be reduced.

ゲート−ドレイン間容量Cgdの調整量は、駆動回路の実装位置、走査引回し配線の配線長、配線幅、表示引回し配線との交差面積等により変動するものであり、最適となるように表示装置の態様に合わせて適宜調整する。一の走査信号線内に配設されたTFTの位置に応じて、若しくは走査引回し配線の配線間の抵抗差に応じて、ゲート−ドレイン間容量Cgdを調整することにより、より表示品位の高い液晶表示装置を提供することができる。   The amount of adjustment of the gate-drain capacitance Cgd varies depending on the mounting position of the drive circuit, the wiring length of the scanning routing wiring, the wiring width, the crossing area with the display routing wiring, and the like. It adjusts suitably according to the aspect of an apparatus. Higher display quality can be achieved by adjusting the gate-drain capacitance Cgd in accordance with the position of the TFT arranged in one scanning signal line or in accordance with the resistance difference between the scanning lead wirings. A liquid crystal display device can be provided.

本実施形態4に係る液晶表示装置によれば、図13に示すように、ゲート−ドレイン間容量Cgdを調整することにより、図14に示すように、画素電極電位の差を、上記実施形態2に比してさらに小さくすることができる。その結果、より高品位の液晶表示装置を提供することができる。   According to the liquid crystal display device according to the fourth embodiment, by adjusting the gate-drain capacitance Cgd as shown in FIG. 13, the difference between the pixel electrode potentials as shown in FIG. It can be made smaller than that. As a result, a higher quality liquid crystal display device can be provided.

[実施形態5]
本実施形態5に係る液晶表示装置は、下記の点を除いて上記実施形態1に係る液晶表示装置と構成及び動作が同じである。すなわち、上記実施形態1においては、駆動回路が一つ配設されていたのに対し、本実施形態5においては、走査信号線10を駆動する走査−駆動回路と、表示信号20を駆動する表示−駆動回路をそれぞれ別個に配設している点において相違する。また、上記実施形態1においては、第1表示領域51と第2表示領域52のそれぞれにおいて、略一定の補助容量Csを設定していたのに対し、本実施形態5においては、上記実施形態3のように、表示信号線アドレスの位置によらずに画素電極電位の差が小さくなるように、表示信号線アドレスのTFT31の位置に応じて補助容量Csの値を適宜設定している点において相違する。
[Embodiment 5]
The liquid crystal display device according to the fifth embodiment has the same configuration and operation as the liquid crystal display device according to the first embodiment except for the following points. That is, in the first embodiment, one drive circuit is provided, but in the fifth embodiment, a scan-drive circuit that drives the scan signal line 10 and a display that drives the display signal 20. The difference is that the drive circuits are arranged separately; In the first embodiment, a substantially constant auxiliary capacitance Cs is set in each of the first display area 51 and the second display area 52, whereas in the fifth embodiment, the third embodiment is described. As described above, the difference is that the value of the auxiliary capacitor Cs is appropriately set according to the position of the TFT 31 of the display signal line address so that the difference in pixel electrode potential is small regardless of the position of the display signal line address. To do.

図15に、本実施形態5に係るTFTアレイ基板1aの模式的平面図を示す。TFTアレイ基板1aには、図15に示すように、駆動回路40に代えて、走査−駆動回路41、表示−駆動回路42が配設されている。走査−駆動回路41は、額縁領域60の下側の右寄りの位置に、表示−駆動回路42は、同じく額縁領域60の下側の左寄りの位置に配設されている。   FIG. 15 is a schematic plan view of the TFT array substrate 1a according to the fifth embodiment. As shown in FIG. 15, a scanning-driving circuit 41 and a display-driving circuit 42 are disposed on the TFT array substrate 1a in place of the driving circuit 40. The scanning-driving circuit 41 is disposed at the lower right position below the frame area 60, and the display-driving circuit 42 is also disposed at the lower left position below the frame area 60.

本実施形態5においては、L−走査引回し配線11、R−走査引回し配線12の配線負荷に応じて、上記実施形態3のように、画素電極電位の電位差が小さくなるように補助容量Csの値を調整している。これにより、上記実施形態と同様の効果を得ることができる。本発明によれば、走査引回し配線間の抵抗差を補助容量Cs、又は/及びゲート−ドレイン間容量Cgdの大きさを変更することにより調整しているので、駆動回路の個数や配置位置を求められる用途等に応じてフレキシブルに変更しつつ、表示品位の高い表示装置を提供することができる。   In the fifth embodiment, according to the wiring load of the L-scanning routing wiring 11 and the R-scanning routing wiring 12, as in the third embodiment, the auxiliary capacitance Cs is set so that the potential difference of the pixel electrode potential is reduced. The value of is adjusted. Thereby, the effect similar to the said embodiment can be acquired. According to the present invention, the resistance difference between the scanning lead lines is adjusted by changing the size of the auxiliary capacitor Cs or / and the gate-drain capacitor Cgd. A display device with high display quality can be provided while being flexibly changed in accordance with the required use.

[実施形態6]
本実施形態6に係る液晶表示装置は、下記の点を除いて上記実施形態5に係る液晶表示装置と構成及び動作が同じである。すなわち、上記実施形態5においては、L−走査引回し配線11から第1表示領域51に、R−走査引回し配線12から第2表示領域52に走査信号を供給していたのに対し、本実施形態6においては、表示領域50を分割せずに、左右両側から、交互に走査信号線10に信号を供給している点において相違する。
[Embodiment 6]
The liquid crystal display device according to the sixth embodiment has the same configuration and operation as the liquid crystal display device according to the fifth embodiment except for the following points. That is, in the fifth embodiment, a scanning signal is supplied from the L-scanning lead wiring 11 to the first display area 51 and from the R-scanning lead wiring 12 to the second display area 52. The sixth embodiment is different in that a signal is alternately supplied to the scanning signal lines 10 from both the left and right sides without dividing the display region 50.

図16に、本実施形態6に係るTFTアレイ基板1bの模式的平面図を示す。第1引回し配線エリア61bにL−走査引回し配線11bが、第2引回し配線エリア62bにR−走査引回し配線12bが配設されている。本実施形態6においては、L−走査引回し配線11b、R−走査引回し配線12bの配線負荷に応じて、上記実施形態5のように、画素電極電位の電位差が小さくなるように補助容量Csの値を調整している。これにより、細かな1ライン毎の横帯状ムラを抑制して、表示品位の高い表示装置を提供することができる。   FIG. 16 is a schematic plan view of the TFT array substrate 1b according to the sixth embodiment. The L-scanning routing wiring 11b is disposed in the first routing wiring area 61b, and the R-scanning routing wiring 12b is disposed in the second routing wiring area 62b. In the sixth embodiment, according to the wiring load of the L-scanning lead wiring 11b and the R-scanning lead wiring 12b, as in the fifth embodiment, the auxiliary capacitance Cs is set so that the potential difference between the pixel electrode potentials becomes small. The value of is adjusted. As a result, it is possible to provide a display device with high display quality by suppressing fine horizontal band unevenness for each line.

本発明によれば、上記実施形態1〜6に示すように、走査引回し配線間の抵抗差を低減するように、補助容量Cs,又は/及びゲート−ドレイン間容量Cgdの値を調整することにより、表示ムラを抑制して表示品位の高い表示装置を提供することができる。また、画素毎に配設された複数のTFTの配置位置(走査信号線の相対位置)に応じて、補助容量Cs,又は/及びゲート−ドレイン間容量Cgdの値を調整することにより、より効果的に表示ムラを抑制して表示品位の高い表示装置を提供することができる。   According to the present invention, as shown in the first to sixth embodiments, the value of the auxiliary capacitance Cs or / and the gate-drain capacitance Cgd is adjusted so as to reduce the resistance difference between the scanning routing lines. Accordingly, it is possible to provide a display device with high display quality by suppressing display unevenness. Further, by adjusting the value of the auxiliary capacitance Cs or / and the gate-drain capacitance Cgd according to the arrangement position (relative position of the scanning signal line) of the plurality of TFTs arranged for each pixel, it is more effective. Accordingly, display unevenness can be suppressed and a display device with high display quality can be provided.

本発明によれば、走査引回し配線間の抵抗差等を配線自体により調整する方法に代えて、画素内に配置される補助容量、ゲート−ドレイン間容量を調整しているので、狭額縁化を達成することができる。従って、額縁領域に余剰スペースがない場合において、特に有効である。また、額縁領域に余剰スペースがある場合であっても、本件発明を適用することにより、そのスペースを他の用途に有効利用することが可能となる。   According to the present invention, the auxiliary capacitance and the gate-drain capacitance arranged in the pixel are adjusted instead of the method of adjusting the resistance difference between the scanning lead wirings by the wiring itself. Can be achieved. Therefore, it is particularly effective when there is no surplus space in the frame area. Moreover, even if there is a surplus space in the frame area, by applying the present invention, the space can be effectively used for other purposes.

上記実施形態1〜6は、相互に組み合わせた態様であってもよい。また、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々に変形が可能である。上記実施形態においては、駆動回路を額縁領域の一辺端部に配設する例について述べたが、これに限定されるものではなく、複数の辺の端部近傍に配設するようにしてもよい。また、走査信号線に対して額縁領域の右側及び左側の双方から信号を入力する例について説明したが、これに限定されるものではなく、一辺近傍から走査信号を入力する場合においても本件発明を適用可能である。   Embodiments 1 to 6 may be combined with each other. Various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. In the above embodiment, the example in which the drive circuit is disposed at one end of the frame region has been described. However, the present invention is not limited to this, and the drive circuit may be disposed near the end of a plurality of sides. . Further, although an example in which signals are input from both the right side and the left side of the frame area with respect to the scanning signal line has been described, the present invention is not limited to this, and the present invention can be applied even when a scanning signal is input from the vicinity of one side. Applicable.

また、上記実施形態においては、表示装置として液晶表示装置の例について説明したが、これに限定されるものではなく、有機EL表示装置等の各種アクティブマトリクス型の表示装置全般において本件発明を適用可能である。また、スイッチング素子として、逆スタガ型のTFTを例にとり説明したが、特に限定されるものではなく、スタガ型構造等のTFTにおいて適用可能である。   In the above embodiment, an example of a liquid crystal display device has been described as a display device. However, the present invention is not limited to this, and the present invention can be applied to various active matrix display devices such as an organic EL display device in general. It is. Further, although an example of an inverted stagger type TFT has been described as an example of the switching element, the switching element is not particularly limited and can be applied to a TFT having a stagger type structure.

実施形態1に係る液晶表示装置の模式的な切断部断面図。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the liquid crystal display device according to the first embodiment. 実施形態1に係るTFTアレイ基板の模式的な平面図。1 is a schematic plan view of a TFT array substrate according to Embodiment 1. FIG. 実施形態1に係るTFTアレイ基板の一画素分の模式的平面図。FIG. 3 is a schematic plan view for one pixel of the TFT array substrate according to the first embodiment. 図3のIV−IV切断部断面図。FIG. 4 is a sectional view taken along the line IV-IV in FIG. 3. 実施形態1に係る液晶表示装置の表示信号線アドレスに対する補助容量Cs値を示す図。FIG. 3 is a diagram illustrating an auxiliary capacitance Cs value with respect to a display signal line address of the liquid crystal display device according to the first embodiment. 実施形態1に係る液晶表示装置の表示信号線アドレスに対する画素電極電位を示す図。FIG. 3 is a diagram illustrating pixel electrode potentials with respect to display signal line addresses of the liquid crystal display device according to the first embodiment. 理想的なパルスの場合の走査信号、表示信号、画素電極電位の説明図。Explanatory drawing of the scanning signal, display signal, and pixel electrode potential in the case of an ideal pulse. (a)及び(b)は、実際の走査信号、表示信号、画素電極電位の一例を示す説明図。(A) And (b) is explanatory drawing which shows an example of an actual scanning signal, a display signal, and a pixel electrode potential. 実施形態2に係る液晶表示装置の表示信号線アドレスに対するゲート−ドレイン間容量Cgd値を示す図。FIG. 6 is a diagram illustrating a gate-drain capacitance Cgd value with respect to a display signal line address of the liquid crystal display device according to the second embodiment. 実施形態2に係る液晶表示装置の表示信号線アドレスに対する画素電極電位を示す図。FIG. 6 is a diagram illustrating pixel electrode potentials with respect to display signal line addresses of the liquid crystal display device according to the second embodiment. 実施形態3に係る液晶表示装置の表示信号線アドレスに対する補助容量Cs値を示す図。FIG. 10 is a diagram illustrating an auxiliary capacitance Cs value with respect to a display signal line address of the liquid crystal display device according to the third embodiment. 実施形態3に係る液晶表示装置の表示信号線アドレスに対する画素電極電位を示す図。FIG. 6 is a diagram illustrating pixel electrode potentials with respect to display signal line addresses of a liquid crystal display device according to a third embodiment. 実施形態4に係る液晶表示装置の表示信号線アドレスに対するゲート−ドレイン間容量Cgd値を示す図。FIG. 10 is a diagram illustrating a gate-drain capacitance Cgd value with respect to a display signal line address of the liquid crystal display device according to the fourth embodiment. 実施形態4に係る液晶表示装置の表示信号線アドレスに対する画素電極電位を示す図。FIG. 6 is a diagram illustrating pixel electrode potentials with respect to display signal line addresses of a liquid crystal display device according to a fourth embodiment. 実施形態5に係る液晶表示装置のTFTアレイ基板の模式的な平面図。6 is a schematic plan view of a TFT array substrate of a liquid crystal display device according to Embodiment 5. FIG. 実施形態6に係る液晶表示装置のTFTアレイ基板の模式的な平面図。7 is a schematic plan view of a TFT array substrate of a liquid crystal display device according to Embodiment 6. FIG. 従来例1に係る液晶表示装置のTFTアレイ基板の模式的な平面図。FIG. 7 is a schematic plan view of a TFT array substrate of a liquid crystal display device according to Conventional Example 1. 従来例2に係る液晶表示装置のTFTアレイ基板の模式的な平面図。FIG. 9 is a schematic plan view of a TFT array substrate of a liquid crystal display device according to Conventional Example 2. 特許文献1に係る液晶表示装置のTFTアレイ基板の模式的な平面図。FIG. 6 is a schematic plan view of a TFT array substrate of a liquid crystal display device according to Patent Document 1.

符号の説明Explanation of symbols

1 TFTアレイ基板
2 ゲート絶縁膜
3 第1半導体層
4 第2半導体層
5 保護膜
6 画素電極
7 コンタクトホール
9 対向基板
10 走査信号線
11 L−走査引回し配線
12 R−走査引回し配線
13 ゲート電極
14 補助容量電極
15 補助容量電極線
20 表示信号線
21 表示引回し配線
22 ソース電極
23 ドレイン電極
30 画素領域
31 TFT
40 駆動回路
41 外部端子
50 表示領域
51 第1表示領域
52 第2表示領域
55 境界線
60 額縁領域
61 第1引回し配線エリア
62 第2引回し配線エリア
70 絶縁性基板
71 偏光板
73 対向電極
74 配向膜
75 液晶
76 スペーサ
77 バックライト
78 シール材
100 液晶表示装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 TFT array substrate 2 Gate insulating film 3 1st semiconductor layer 4 2nd semiconductor layer 5 Protective film 6 Pixel electrode 7 Contact hole 9 Opposite substrate 10 Scan signal line 11 L-scanning lead wiring 12 R-scanning lead wiring 13 Gate Electrode 14 Auxiliary capacitance electrode 15 Auxiliary capacitance electrode line 20 Display signal line 21 Display routing wiring 22 Source electrode 23 Drain electrode 30 Pixel region 31 TFT
40 drive circuit 41 external terminal 50 display area 51 first display area 52 second display area 55 border line 60 frame area 61 first lead wiring area 62 second lead wiring area 70 insulating substrate 71 polarizing plate 73 counter electrode 74 Alignment film 75 Liquid crystal 76 Spacer 77 Backlight 78 Sealing material 100 Liquid crystal display device

Claims (7)

表示領域と、
前記表示領域の外側に区画される額縁領域と、
前記表示領域内に設けられた複数の走査信号線と、
前記表示領域内に設けられ、前記走査信号線と交差するように配設された複数の表示信号線と、
前記額縁領域にて、前記走査信号線に対応して設けられ、駆動回路からの電圧を前記走査信号線に供給する複数の引回し配線と、
前記走査信号線と、前記表示信号線に接続されたスイッチング半導体層と、
前記スイッチング半導体層に接続された画素電極と、
前記画素電極の一部と対向配置された補助容量電極と、を備え、
前記複数の引回し配線間の抵抗差を低減するように、前記画素電極と前記補助容量電極との対向面積を調整した薄膜トランジスタアレイ基板。
A display area;
A frame area partitioned outside the display area;
A plurality of scanning signal lines provided in the display area;
A plurality of display signal lines provided in the display area and arranged to intersect the scanning signal lines;
A plurality of lead wirings provided in the frame region corresponding to the scanning signal lines and supplying a voltage from a driving circuit to the scanning signal lines;
The scanning signal line; and a switching semiconductor layer connected to the display signal line;
A pixel electrode connected to the switching semiconductor layer;
An auxiliary capacitance electrode disposed opposite to a part of the pixel electrode,
A thin film transistor array substrate in which a facing area between the pixel electrode and the auxiliary capacitance electrode is adjusted so as to reduce a resistance difference between the plurality of routing wires.
前記引回し配線の配線負荷が大きいものを小さいものに比して、前記画素電極と前記補助容量電極との対向面積が小さくなるようにしたことを特徴とする請求項1に記載の薄膜トランジスタアレイ基板。   2. The thin film transistor array substrate according to claim 1, wherein a facing area between the pixel electrode and the auxiliary capacitance electrode is reduced as compared to a case where a wiring load of the routing wiring is large compared to a case where the wiring load is small. . 前記走査信号線の入力側近傍を終端側近傍に比して、前記画素電極と前記補助容量電極との対向面積が大きくなるようにしたことを特徴とする請求項1又は2に記載の薄膜トランジスタアレイ基板。   3. The thin film transistor array according to claim 1, wherein a facing area between the pixel electrode and the auxiliary capacitance electrode is made larger in the vicinity of the input side of the scanning signal line than in the vicinity of the termination side. substrate. 表示領域と、
前記表示領域の外側に区画される額縁領域と、
前記表示領域内に設けられた複数の走査信号線と、
前記表示領域内に設けられ、前記走査信号線と交差するように配設された複数の表示信号線と、
前記額縁領域にて、前記走査信号線に対応して設けられ、駆動回路からの電圧を前記走査信号線に供給する複数の引回し配線と、
前記走査信号線と、前記表示信号線に接続されたスイッチング半導体層と、
前記スイッチング半導体層と対向配置されたゲート電極と、
前記ゲート電極と対向配置されたドレイン電極と、を備え、
前記複数の引回し配線間の抵抗差を低減するように、前記ゲート電極と前記ドレイン電極との対向面積を調整した薄膜トランジスタアレイ基板。
A display area;
A frame area partitioned outside the display area;
A plurality of scanning signal lines provided in the display area;
A plurality of display signal lines provided in the display area and arranged to intersect the scanning signal lines;
A plurality of lead wirings provided in the frame region corresponding to the scanning signal lines and supplying a voltage from a driving circuit to the scanning signal lines;
The scanning signal line; and a switching semiconductor layer connected to the display signal line;
A gate electrode disposed opposite to the switching semiconductor layer;
A drain electrode disposed opposite to the gate electrode,
A thin film transistor array substrate in which a facing area between the gate electrode and the drain electrode is adjusted so as to reduce a resistance difference between the plurality of routing wires.
前記引回し配線の配線負荷が大きいものを小さいものに比して、前記ゲート電極と前記ドレイン電極との対向面積が大きくなるようにしたことを特徴とする請求項4に記載の薄膜トランジスタアレイ基板。   5. The thin film transistor array substrate according to claim 4, wherein a facing area between the gate electrode and the drain electrode is increased as compared to a case where a wiring load of the routing wiring is large compared to a case where the wiring load is small. 前記走査信号線の入力側近傍を終端側近傍に比して、前記ゲート電極と前記ソース電極との対向面積が小さくなるようにしたことを特徴とする請求項4又は5に記載の薄膜トランジスタアレイ基板。   6. The thin film transistor array substrate according to claim 4, wherein a facing area between the gate electrode and the source electrode is made smaller in the vicinity of the input side of the scanning signal line than in the vicinity of the termination side. . 請求項1〜6のいずれか1項に記載の薄膜トランジスタアレイ基板を搭載した表示装置。   A display device on which the thin film transistor array substrate according to claim 1 is mounted.
JP2008019557A 2008-01-30 2008-01-30 Thin film transistor array substrate and display device Expired - Fee Related JP5124297B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008019557A JP5124297B2 (en) 2008-01-30 2008-01-30 Thin film transistor array substrate and display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008019557A JP5124297B2 (en) 2008-01-30 2008-01-30 Thin film transistor array substrate and display device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009180916A JP2009180916A (en) 2009-08-13
JP5124297B2 true JP5124297B2 (en) 2013-01-23

Family

ID=41034944

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008019557A Expired - Fee Related JP5124297B2 (en) 2008-01-30 2008-01-30 Thin film transistor array substrate and display device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5124297B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012083391A (en) * 2010-10-07 2012-04-26 Casio Comput Co Ltd Liquid crystal display device
JP6138480B2 (en) * 2012-12-20 2017-05-31 株式会社ジャパンディスプレイ Display device

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3062090B2 (en) * 1996-07-19 2000-07-10 日本電気株式会社 Liquid crystal display
JP2985838B2 (en) * 1997-07-18 1999-12-06 日本電気株式会社 Method of manufacturing thin film transistor array substrate
JP2000338523A (en) * 1999-05-25 2000-12-08 Nec Corp Liquid crystal display device
JP2001075127A (en) * 1999-09-03 2001-03-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd Active matrix type liquid crystal display element and its manufacturing method
JP3723747B2 (en) * 2000-06-16 2005-12-07 松下電器産業株式会社 Display device and driving method thereof
JP3909572B2 (en) * 2001-09-28 2007-04-25 株式会社日立製作所 Display device
TWI287132B (en) * 2001-11-23 2007-09-21 Chi Mei Optoelectronics Corp A liquid crystal display having reduced flicker
JP2005164677A (en) * 2003-11-28 2005-06-23 Chi Mei Electronics Corp Image display apparatus
JP4860233B2 (en) * 2005-10-26 2012-01-25 エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド Flicker prevention adjustment method for liquid crystal display device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2009180916A (en) 2009-08-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10185195B2 (en) Horizontal stripe liquid crystal display device
KR102009388B1 (en) Liquid crystal display device
US11003013B2 (en) Display device
JP5770796B2 (en) Liquid crystal display device
KR101746862B1 (en) Liquid Crystal Display
JP6104548B2 (en) Liquid crystal display
JP5912668B2 (en) Liquid crystal display
US20160363825A1 (en) Liquid crystal display
JP4987987B2 (en) Liquid crystal display
WO2010103676A1 (en) Active matrix substrate, display panel, display device, and electronic device
JP4542202B2 (en) Display device
JP2001281696A (en) Active matrix type liquid crystal display device
JP5124297B2 (en) Thin film transistor array substrate and display device
KR102758173B1 (en) Display apparatus
KR102004844B1 (en) Liquid crystal display having high aperture ratio
JP4617861B2 (en) Liquid crystal display device
JP5041448B2 (en) Liquid crystal display
KR101232149B1 (en) Liquid Crystal Display Device And Method For Fabricating The Same
JP2011128335A (en) Liquid crystal device and electronic equipment
JP2011128334A (en) Liquid crystal device and electronic equipment
WO2012046632A1 (en) Array substrate and display device using said array substrate
JP2008123005A5 (en)
JP2008123005A (en) Active matrix liquid crystal display device
KR20080082394A (en) LCD Display
KR20080054479A (en) Array substrate and display panel having same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20101207

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120508

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120515

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20121009

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20121029

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151102

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151102

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees